JPH10209420A - 固体撮像素子の製造方法 - Google Patents
固体撮像素子の製造方法Info
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- JPH10209420A JPH10209420A JP9020092A JP2009297A JPH10209420A JP H10209420 A JPH10209420 A JP H10209420A JP 9020092 A JP9020092 A JP 9020092A JP 2009297 A JP2009297 A JP 2009297A JP H10209420 A JPH10209420 A JP H10209420A
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- JP
- Japan
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- chip
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- color filter
- imaging device
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- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 オンチップカラーフィルタの厚さが均一でな
いためにオンチップレンズの材料層の下地が平坦でなく
ても、色調等が優れた固体撮像素子を製造する。 【解決手段】 画素毎のオンチップカラーフィルタ３３
ａ〜３３ｃの厚さに対応して大きさが異なっているパタ
ーン部３６ａ、３６ｂを有するマスク３６を用いて、オ
ンチップレンズ３７ａ、３７ｂの材料層であるフォトレ
ジスト３５に対するリソグラフィを行う。フォトレジス
ト３５の下地が平坦でなくても、ハレーション効果等を
補正することができ、オンチップレンズ３７ａ、３７ｂ
の形状を均一にすることができて、色調等が優れた固体
撮像素子を製造することができる。
いためにオンチップレンズの材料層の下地が平坦でなく
ても、色調等が優れた固体撮像素子を製造する。 【解決手段】 画素毎のオンチップカラーフィルタ３３
ａ〜３３ｃの厚さに対応して大きさが異なっているパタ
ーン部３６ａ、３６ｂを有するマスク３６を用いて、オ
ンチップレンズ３７ａ、３７ｂの材料層であるフォトレ
ジスト３５に対するリソグラフィを行う。フォトレジス
ト３５の下地が平坦でなくても、ハレーション効果等を
補正することができ、オンチップレンズ３７ａ、３７ｂ
の形状を均一にすることができて、色調等が優れた固体
撮像素子を製造することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本願の発明は、オンチップカ
ラーフィルタとその上層のオンチップレンズとを各画素
に有する固体撮像素子の製造方法に関するものである。
ラーフィルタとその上層のオンチップレンズとを各画素
に有する固体撮像素子の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図５〜７は、補色系のオンチップカラー
フィルタを有するＣＣＤ型固体撮像素子を製造するため
の本願の発明の一従来例を示している。この一従来例で
は、図５に示す様に、Ｓｉ基板１１中にｐウェル１２を
形成し、ｐウェル１２よりもＳｉ基板１１の表面に部分
に近い正孔蓄積領域としてのｐ領域１３とｎ領域１４と
を形成してセンサ１５を構成する。
フィルタを有するＣＣＤ型固体撮像素子を製造するため
の本願の発明の一従来例を示している。この一従来例で
は、図５に示す様に、Ｓｉ基板１１中にｐウェル１２を
形成し、ｐウェル１２よりもＳｉ基板１１の表面に部分
に近い正孔蓄積領域としてのｐ領域１３とｎ領域１４と
を形成してセンサ１５を構成する。
【０００３】センサ１５の側方に読出部としてのｐ領域
１６を形成し、ｐ領域１６の側方に垂直転送部としての
ｎ領域１７を形成する。また、ｎ領域１７の下部にｐウ
ェル２１を形成し、ｎ領域１７の側方に画素分離部とし
てのｐ領域２２を形成する。そして、Ｓｉ基板１１の表
面にゲート絶縁膜としてのＳｉＯ2 膜２３を形成し、Ｓ
ｉ基板１１上の多結晶Ｓｉ膜２４で転送電極を形成す
る。
１６を形成し、ｐ領域１６の側方に垂直転送部としての
ｎ領域１７を形成する。また、ｎ領域１７の下部にｐウ
ェル２１を形成し、ｎ領域１７の側方に画素分離部とし
てのｐ領域２２を形成する。そして、Ｓｉ基板１１の表
面にゲート絶縁膜としてのＳｉＯ2 膜２３を形成し、Ｓ
ｉ基板１１上の多結晶Ｓｉ膜２４で転送電極を形成す
る。
【０００４】その後、絶縁膜としてのＳｉＯ2 膜２５等
で多結晶Ｓｉ膜２４を覆い、パッシベーション膜である
ＳｉＯ2 膜２６でＳｉ基板１１及びＳｉＯ2 膜２５を覆
う。そして、Ａｌ膜やＷ膜等である遮光膜２７をＳｉＯ
2 膜２６上に形成し、センサ１５に対応する開口２７ａ
を遮光膜２７に設ける。
で多結晶Ｓｉ膜２４を覆い、パッシベーション膜である
ＳｉＯ2 膜２６でＳｉ基板１１及びＳｉＯ2 膜２５を覆
う。そして、Ａｌ膜やＷ膜等である遮光膜２７をＳｉＯ
2 膜２６上に形成し、センサ１５に対応する開口２７ａ
を遮光膜２７に設ける。
【０００５】その後、パッシベーション膜であるＳｉＮ
膜３１で遮光膜２７等を覆い、ＳｉＮ膜３１上に平坦化
膜３２を形成する。そして、図４（ａ）〜（ｃ）にも示
す様に、赤フィルタ３３ａ、青フィルタ３３ｂ及び黄フ
ィルタ３３ｃを平坦化膜３２上で順次にパターニングし
て、図４（ｄ）にも示す様に、各画素に対応する市松模
様のオンチップカラーフィルタ３３を形成する。
膜３１で遮光膜２７等を覆い、ＳｉＮ膜３１上に平坦化
膜３２を形成する。そして、図４（ａ）〜（ｃ）にも示
す様に、赤フィルタ３３ａ、青フィルタ３３ｂ及び黄フ
ィルタ３３ｃを平坦化膜３２上で順次にパターニングし
て、図４（ｄ）にも示す様に、各画素に対応する市松模
様のオンチップカラーフィルタ３３を形成する。
【０００６】オンチップカラーフィルタ３３は補色系で
あるので、青フィルタ３３ｂと黄フィルタ３３ｃとが積
層されて緑フィルタが形成されている。その後、オンチ
ップカラーフィルタ３３上に平坦化膜３４を形成し、オ
ンチップレンズの材料層としてのポジ型のフォトレジス
ト３５を平坦化膜３４上に塗布する。
あるので、青フィルタ３３ｂと黄フィルタ３３ｃとが積
層されて緑フィルタが形成されている。その後、オンチ
ップカラーフィルタ３３上に平坦化膜３４を形成し、オ
ンチップレンズの材料層としてのポジ型のフォトレジス
ト３５を平坦化膜３４上に塗布する。
【０００７】そして、形成すべきオンチップレンズに対
応するパターン部３６ａ、３６ｂを有するマスク３６を
用いて、フォトレジスト３５を露光させる。次に、図６
に示す様に、フォトレジスト３５を現像して各画素上に
パターン部３５ａ、３５ｂを形成し、図７に示す様に、
パターン部３５ａ、３５ｂをリフローさせてオンチップ
レンズ３７ａ、３７ｂを形成する。
応するパターン部３６ａ、３６ｂを有するマスク３６を
用いて、フォトレジスト３５を露光させる。次に、図６
に示す様に、フォトレジスト３５を現像して各画素上に
パターン部３５ａ、３５ｂを形成し、図７に示す様に、
パターン部３５ａ、３５ｂをリフローさせてオンチップ
レンズ３７ａ、３７ｂを形成する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところで、図５からも
明らかな様に、オンチップカラーフィルタ３３のうちで
赤フィルタ３３ａ、青フィルタ３３ｂまたは黄フィルタ
３３ｃの何れかのみを形成した部分よりも、青フィルタ
３３ｂ上に黄フィルタ３３ｃを積層させて緑フィルタを
形成した部分の方が厚くて、オンチップカラーフィルタ
３３の厚さが均一ではない。
明らかな様に、オンチップカラーフィルタ３３のうちで
赤フィルタ３３ａ、青フィルタ３３ｂまたは黄フィルタ
３３ｃの何れかのみを形成した部分よりも、青フィルタ
３３ｂ上に黄フィルタ３３ｃを積層させて緑フィルタを
形成した部分の方が厚くて、オンチップカラーフィルタ
３３の厚さが均一ではない。
【０００９】一方、Ｓｉ基板１１の表面からオンチップ
レンズ３７ａ、３７ｂまでの高さが高いと、オンチップ
レンズ３７ａ、３７ｂの焦点をセンサ１５の近傍に制御
すること等が容易でなくて、感度が低下する。
レンズ３７ａ、３７ｂまでの高さが高いと、オンチップ
レンズ３７ａ、３７ｂの焦点をセンサ１５の近傍に制御
すること等が容易でなくて、感度が低下する。
【００１０】このため、図５に示した様に、オンチップ
カラーフィルタ３３上の平坦化膜３４を十分には厚くす
ることができなくて、平坦化膜３４の表面を十分には平
坦にすることができない。このため、フォトレジスト３
５の露光時に平坦化膜３４の段差部で光が反射すること
によるハレーション等が生じる。
カラーフィルタ３３上の平坦化膜３４を十分には厚くす
ることができなくて、平坦化膜３４の表面を十分には平
坦にすることができない。このため、フォトレジスト３
５の露光時に平坦化膜３４の段差部で光が反射すること
によるハレーション等が生じる。
【００１１】そして、それにも拘らず、上述の一従来例
では、マスク３６が何れの画素上でも同じ大きさｄ1 の
パターン部３６ａ、３６ｂを有しているので、図６に示
した様に、フォトレジスト３５の現像後には、赤フィル
タ３３ａ、青フィルタ３３ｂまたは黄フィルタ３３ｃの
何れかのみを形成した画素上のパターン部３５ａの大き
さｄ2 が、青フィルタ３３ｂ上に黄フィルタ３３ｃを積
層させて緑フィルタを形成した画素上のパターン部３５
ｂの大きさｄ3 よりも小さくなる。
では、マスク３６が何れの画素上でも同じ大きさｄ1 の
パターン部３６ａ、３６ｂを有しているので、図６に示
した様に、フォトレジスト３５の現像後には、赤フィル
タ３３ａ、青フィルタ３３ｂまたは黄フィルタ３３ｃの
何れかのみを形成した画素上のパターン部３５ａの大き
さｄ2 が、青フィルタ３３ｂ上に黄フィルタ３３ｃを積
層させて緑フィルタを形成した画素上のパターン部３５
ｂの大きさｄ3 よりも小さくなる。
【００１２】このため、図７に示した様に、赤フィルタ
３３ａ、青フィルタ３３ｂまたは黄フィルタ３３ｃの何
れかのみを形成した画素上のオンチップレンズ３７ａの
大きさｄ4 が、緑フィルタを形成した画素上のオンチッ
プレンズ３７ｂの大きさｄ5よりも小さかった。従っ
て、このＣＣＤ型固体撮像素子では緑色の感度が他の色
の感度よりも高くなっており、図５〜７に示した一従来
例では色感度比や色調等の撮像特性が優れた固体撮像素
子を製造することが困難であった。
３３ａ、青フィルタ３３ｂまたは黄フィルタ３３ｃの何
れかのみを形成した画素上のオンチップレンズ３７ａの
大きさｄ4 が、緑フィルタを形成した画素上のオンチッ
プレンズ３７ｂの大きさｄ5よりも小さかった。従っ
て、このＣＣＤ型固体撮像素子では緑色の感度が他の色
の感度よりも高くなっており、図５〜７に示した一従来
例では色感度比や色調等の撮像特性が優れた固体撮像素
子を製造することが困難であった。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本願の発明による固体撮
像素子の製造方法は、オンチップカラーフィルタとその
上層のオンチップレンズとを各画素に有する固体撮像素
子の製造方法において、前記画素毎の前記オンチップカ
ラーフィルタの厚さに対応して大きさが異なっているパ
ターン部を有するマスクを用いて、前記オンチップレン
ズの材料層に対するリソグラフィを行うことを特徴とし
ている。
像素子の製造方法は、オンチップカラーフィルタとその
上層のオンチップレンズとを各画素に有する固体撮像素
子の製造方法において、前記画素毎の前記オンチップカ
ラーフィルタの厚さに対応して大きさが異なっているパ
ターン部を有するマスクを用いて、前記オンチップレン
ズの材料層に対するリソグラフィを行うことを特徴とし
ている。
【００１４】本願の発明による固体撮像素子の製造方法
は、前記材料層としてポジ型のフォトレジストを用い、
前記厚さが相対的に厚い前記オンチップカラーフィルタ
に前記大きさが相対的に小さい前記パターン部を対応さ
せることができる。
は、前記材料層としてポジ型のフォトレジストを用い、
前記厚さが相対的に厚い前記オンチップカラーフィルタ
に前記大きさが相対的に小さい前記パターン部を対応さ
せることができる。
【００１５】本願の発明による固体撮像素子の製造方法
は、積層構造の前記オンチップカラーフィルタを形成し
てもよい。
は、積層構造の前記オンチップカラーフィルタを形成し
てもよい。
【００１６】本願の発明による固体撮像素子の製造方法
は、単層構造の前記オンチップカラーフィルタを形成し
てもよい。
は、単層構造の前記オンチップカラーフィルタを形成し
てもよい。
【００１７】本願の発明による固体撮像素子の製造方法
では、画素毎のオンチップカラーフィルタの厚さに対応
して大きさが異なっているパターン部を有するマスクを
用いて、オンチップレンズの材料層に対するリソグラフ
ィを行っているので、オンチップカラーフィルタの厚さ
が均一でないためにオンチップレンズの材料層の下地が
平坦でなくても、この材料層におけるハレーション効果
等を補正することができて、何れの画素のオンチップレ
ンズの形状も均一にすることができる。
では、画素毎のオンチップカラーフィルタの厚さに対応
して大きさが異なっているパターン部を有するマスクを
用いて、オンチップレンズの材料層に対するリソグラフ
ィを行っているので、オンチップカラーフィルタの厚さ
が均一でないためにオンチップレンズの材料層の下地が
平坦でなくても、この材料層におけるハレーション効果
等を補正することができて、何れの画素のオンチップレ
ンズの形状も均一にすることができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下、補色系のオンチップカラー
フィルタを有するＣＣＤ型固体撮像素子の製造に適用し
た本願の発明の一実施形態を、図１〜３を参照しながら
説明する。本実施形態でも、図１に示す様に、オンチッ
プレンズの材料層としてのポジ型のフォトレジスト３５
を平坦化膜３４上に塗布するまでは、既述の一従来例と
実質的に同様の工程を実行する。
フィルタを有するＣＣＤ型固体撮像素子の製造に適用し
た本願の発明の一実施形態を、図１〜３を参照しながら
説明する。本実施形態でも、図１に示す様に、オンチッ
プレンズの材料層としてのポジ型のフォトレジスト３５
を平坦化膜３４上に塗布するまでは、既述の一従来例と
実質的に同様の工程を実行する。
【００１９】しかし、本実施形態では、その後、赤フィ
ルタ３３ａ、青フィルタ３３ｂまたは黄フィルタ３３ｃ
の何れかのみを形成した画素上のパターン部３６ａは一
従来例と同じ大きさｄ1 を有しているが、青フィルタ３
３ｂ上に黄フィルタ３３ｃを積層させて緑フィルタを形
成した画素上のパターン部３６ｂは一従来例よりも小さ
い大きさｄ6 を有しているマスク３６を用いて、フォト
レジスト３５を露光させる。
ルタ３３ａ、青フィルタ３３ｂまたは黄フィルタ３３ｃ
の何れかのみを形成した画素上のパターン部３６ａは一
従来例と同じ大きさｄ1 を有しているが、青フィルタ３
３ｂ上に黄フィルタ３３ｃを積層させて緑フィルタを形
成した画素上のパターン部３６ｂは一従来例よりも小さ
い大きさｄ6 を有しているマスク３６を用いて、フォト
レジスト３５を露光させる。
【００２０】具体的には、１／４インチの光学系を用い
て画素数が３８万であるＣＣＤ型固体撮像素子であれ
ば、単位画素の大きさが４．８×５．５μｍ程度であ
り、赤フィルタ３３ａ、青フィルタ３３ｂまたは黄フィ
ルタ３３ｃの何れかのみを形成した画素上のパターン部
３６ａの大きさが４．２×４．９μｍ程度であるので、
緑フィルタを形成した画素上のパターン部３６ｂの大き
さは４．１×４．８μｍ程度にする。
て画素数が３８万であるＣＣＤ型固体撮像素子であれ
ば、単位画素の大きさが４．８×５．５μｍ程度であ
り、赤フィルタ３３ａ、青フィルタ３３ｂまたは黄フィ
ルタ３３ｃの何れかのみを形成した画素上のパターン部
３６ａの大きさが４．２×４．９μｍ程度であるので、
緑フィルタを形成した画素上のパターン部３６ｂの大き
さは４．１×４．８μｍ程度にする。
【００２１】また、１／６インチの光学系を用いて画素
数が３８万であるＣＣＤ型固体撮像素子であれば、単位
画素の大きさが３．２０×３．７５μｍ程度であり、赤
フィルタ３３ａ、青フィルタ３３ｂまたは黄フィルタ３
３ｃの何れかのみを形成した画素上のパターン部３６ａ
の大きさが２．８０×３．３５μｍ程度であるので、緑
フィルタを形成した画素上のパターン部３６ｂの大きさ
は２．７０×３．２５μｍ程度にする。
数が３８万であるＣＣＤ型固体撮像素子であれば、単位
画素の大きさが３．２０×３．７５μｍ程度であり、赤
フィルタ３３ａ、青フィルタ３３ｂまたは黄フィルタ３
３ｃの何れかのみを形成した画素上のパターン部３６ａ
の大きさが２．８０×３．３５μｍ程度であるので、緑
フィルタを形成した画素上のパターン部３６ｂの大きさ
は２．７０×３．２５μｍ程度にする。
【００２２】次に、図２に示す様に、フォトレジスト３
５を現像するが、マスク３６のパターン部３６ａ、３６
ｂが互いに異なる大きさｄ1 、ｄ6 を有しているので、
フォトレジスト３５におけるハレーション効果等が補正
されていて、赤フィルタ３３ａ、青フィルタ３３ｂまた
は黄フィルタ３３ｃの何れかのみを形成した画素上のパ
ターン部３５ａも、青フィルタ３３ｂ上に黄フィルタ３
３ｃを積層させて緑フィルタを形成した画素上のパター
ン部３５ｂも、同じ大きさｄ2 を有する。１
５を現像するが、マスク３６のパターン部３６ａ、３６
ｂが互いに異なる大きさｄ1 、ｄ6 を有しているので、
フォトレジスト３５におけるハレーション効果等が補正
されていて、赤フィルタ３３ａ、青フィルタ３３ｂまた
は黄フィルタ３３ｃの何れかのみを形成した画素上のパ
ターン部３５ａも、青フィルタ３３ｂ上に黄フィルタ３
３ｃを積層させて緑フィルタを形成した画素上のパター
ン部３５ｂも、同じ大きさｄ2 を有する。１
【００２３】次に、図３に示す様に、フォトレジスト３
５のパターン部３５ａ、３５ｂをリフローさせてオンチ
ップレンズ３７ａ、３７ｂを形成するが、何れの画素上
のパターン部３５ａ、３５ｂも同じ大きさｄ2 を有して
いるので、何れの画素上のオンチップレンズ３７ａ、３
７ｂも同じ大きさｄ4 を有する。
５のパターン部３５ａ、３５ｂをリフローさせてオンチ
ップレンズ３７ａ、３７ｂを形成するが、何れの画素上
のパターン部３５ａ、３５ｂも同じ大きさｄ2 を有して
いるので、何れの画素上のオンチップレンズ３７ａ、３
７ｂも同じ大きさｄ4 を有する。
【００２４】なお、以上の実施形態ではオンチップレン
ズの材料層としてポジ型のフォトレジスト３５を用いて
いるが、ネガ型のフォトレジストを用いることもでき
る。また、オンチップカラーフィルタ３３の材料も自由
に選択することができる。
ズの材料層としてポジ型のフォトレジスト３５を用いて
いるが、ネガ型のフォトレジストを用いることもでき
る。また、オンチップカラーフィルタ３３の材料も自由
に選択することができる。
【００２５】また、上述の実施形態ではフォトレジスト
３５のパターン部３５ａ、３５ｂをリフローさせてオン
チップレンズ３７ａ、３７ｂを形成しているが、フォト
レジストをリフローさせた後に全面をエッチバックして
フォトレジストの形状をオンチップレンズの材料層に転
写することによってオンチップレンズを形成してもよ
い。
３５のパターン部３５ａ、３５ｂをリフローさせてオン
チップレンズ３７ａ、３７ｂを形成しているが、フォト
レジストをリフローさせた後に全面をエッチバックして
フォトレジストの形状をオンチップレンズの材料層に転
写することによってオンチップレンズを形成してもよ
い。
【００２６】また、上述の実施形態ではオンチップカラ
ーフィルタ３３が補色系であるが、原色系で単層構造の
オンチップカラーフィルタでも一般に色毎に厚さが異な
っているので、この様なオンチップカラーフィルタを有
する固体撮像素子の製造にも本願の発明を適用すること
ができる。
ーフィルタ３３が補色系であるが、原色系で単層構造の
オンチップカラーフィルタでも一般に色毎に厚さが異な
っているので、この様なオンチップカラーフィルタを有
する固体撮像素子の製造にも本願の発明を適用すること
ができる。
【００２７】更に、上述の実施形態はＣＣＤ型固体撮像
素子の製造に本願の発明を適用したものであるが、ＣＣ
Ｄ型以外の固体撮像素子の製造にも本願の発明を適用す
ることができる。
素子の製造に本願の発明を適用したものであるが、ＣＣ
Ｄ型以外の固体撮像素子の製造にも本願の発明を適用す
ることができる。
【００２８】
【発明の効果】本願の発明による固体撮像素子の製造方
法では、オンチップカラーフィルタの厚さが均一でない
ためにオンチップレンズの材料層の下地が平坦でなくて
も、この材料層におけるハレーション効果等を補正する
ことができて、何れの画素のオンチップレンズの形状も
均一にすることができるので、色感度比や色調等の撮像
特性が優れた固体撮像素子を製造することができる。
法では、オンチップカラーフィルタの厚さが均一でない
ためにオンチップレンズの材料層の下地が平坦でなくて
も、この材料層におけるハレーション効果等を補正する
ことができて、何れの画素のオンチップレンズの形状も
均一にすることができるので、色感度比や色調等の撮像
特性が優れた固体撮像素子を製造することができる。
【図１】本願の発明の一実施形態の初期の工程を示す側
断面図である。
断面図である。
【図２】一実施形態の中期の工程を示す側断面図であ
る。
る。
【図３】一実施形態の終期の工程を示す側断面図であ
る。
る。
【図４】本願の発明の一実施形態及び一従来例における
オンチップカラーフィルタを示しており、（ａ）〜
（ｃ）は製造工程を順次に示す平面図、（ｄ）は完成状
態の平面図である。
オンチップカラーフィルタを示しており、（ａ）〜
（ｃ）は製造工程を順次に示す平面図、（ｄ）は完成状
態の平面図である。
【図５】本願の発明の一従来例の初期の工程を示す側断
面図である。
面図である。
【図６】一従来例の中期の工程を示す側断面図である。
【図７】一従来例の終期の工程を示す側断面図である。
３３ａ 赤フィルタ（オンチップカラーフィルタ） ３３ｂ 青フィルタ（オンチップカラーフィルタ） ３３ｃ 黄フィルタ（オンチップカラーフィルタ） ３５ フォトレジスト（材料層） ３６ マスク ３６ａ、３６ｂ パターン部 ３７ａ、３７ｂ
オンチップレンズ
オンチップレンズ
Claims (4)
- 【請求項１】 オンチップカラーフィルタとその上層の
オンチップレンズとを各画素に有する固体撮像素子の製
造方法において、 前記画素毎の前記オンチップカラーフィルタの厚さに対
応して大きさが異なっているパターン部を有するマスク
を用いて、前記オンチップレンズの材料層に対するリソ
グラフィを行うことを特徴とする固体撮像素子の製造方
法。 - 【請求項２】 前記材料層としてポジ型のフォトレジス
トを用い、 前記厚さが相対的に厚い前記オンチップカラーフィルタ
に前記大きさが相対的に小さい前記パターン部を対応さ
せることを特徴とする請求項１記載の固体撮像素子の製
造方法。 - 【請求項３】 積層構造の前記オンチップカラーフィル
タを形成することを特徴とする請求項１記載の固体撮像
素子の製造方法。 - 【請求項４】 単層構造の前記オンチップカラーフィル
タを形成することを特徴とする請求項１記載の固体撮像
素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9020092A JPH10209420A (ja) | 1997-01-17 | 1997-01-17 | 固体撮像素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9020092A JPH10209420A (ja) | 1997-01-17 | 1997-01-17 | 固体撮像素子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10209420A true JPH10209420A (ja) | 1998-08-07 |
Family
ID=12017479
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9020092A Pending JPH10209420A (ja) | 1997-01-17 | 1997-01-17 | 固体撮像素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10209420A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008153331A (ja) * | 2006-12-15 | 2008-07-03 | Toppan Printing Co Ltd | カラー固体撮像素子及びその製造方法 |
| CN104637960A (zh) * | 2013-11-13 | 2015-05-20 | 恒景科技股份有限公司 | 影像感测装置 |
| CN111192218A (zh) * | 2019-12-31 | 2020-05-22 | 深圳市商汤科技有限公司 | 图像处理方法及装置、电子设备和存储介质 |
-
1997
- 1997-01-17 JP JP9020092A patent/JPH10209420A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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