JPH10214882A - レーザマーキング可能なシリコンウェーハーキャリア - Google Patents
レーザマーキング可能なシリコンウェーハーキャリアInfo
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- JPH10214882A JPH10214882A JP1516597A JP1516597A JPH10214882A JP H10214882 A JPH10214882 A JP H10214882A JP 1516597 A JP1516597 A JP 1516597A JP 1516597 A JP1516597 A JP 1516597A JP H10214882 A JPH10214882 A JP H10214882A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高鮮明度のレーザマーキングを備えるシリコ
ンウェーハーキャリアを提供すること。 【解決手段】 （Ａ）熱可塑性ポリエステル１００重量
部に対して（Ｂ）釉薬０．００１〜１０重量部からなる
ポリエステル樹脂組成物からなり、０．１ｍｍ幅の線状
レーザマーキングにおいて長さ４ｍｍ当たりに長さ０．
２ｍｍ以上のマーキング欠如部分が現れることのないレ
ーザマーキングの可能なシリコンウェーハーキャリア。
ンウェーハーキャリアを提供すること。 【解決手段】 （Ａ）熱可塑性ポリエステル１００重量
部に対して（Ｂ）釉薬０．００１〜１０重量部からなる
ポリエステル樹脂組成物からなり、０．１ｍｍ幅の線状
レーザマーキングにおいて長さ４ｍｍ当たりに長さ０．
２ｍｍ以上のマーキング欠如部分が現れることのないレ
ーザマーキングの可能なシリコンウェーハーキャリア。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はレーザ光照射により
黒発色の良好なマーキングが可能なシリコンウェーハー
キャリアに関する。
黒発色の良好なマーキングが可能なシリコンウェーハー
キャリアに関する。
【０００２】
【従来の技術】樹脂成形品表面へのマーキングはインキ
を用いた印刷により従来から行われている。通常、イン
キの付着性を向上させるためにはフロン洗浄により樹脂
成形品表面を洗浄する必要がある。しかし、オゾン層破
壊防止のためにはフロン洗浄工程を省くことが望まし
い。
を用いた印刷により従来から行われている。通常、イン
キの付着性を向上させるためにはフロン洗浄により樹脂
成形品表面を洗浄する必要がある。しかし、オゾン層破
壊防止のためにはフロン洗浄工程を省くことが望まし
い。
【０００３】フロン洗浄の不要な印刷技術として、最近
ではレーザ光線により樹脂成形品に直接マーキングする
技術がその簡便性、効率性から注目を浴びている。この
技術は樹脂成形品を構成する組成物中に光や熱を吸収す
る充填剤をあらかじめ配合しておき、レーザ照射によ
り、被照射領域の添加剤、樹脂を分解、発泡せしめ、又
は、被照射領域の顔料、染料等を脱色、変色せしめ、そ
の結果として樹脂成形品表面の状態を変化させてマーキ
ングを付与する技術である。
ではレーザ光線により樹脂成形品に直接マーキングする
技術がその簡便性、効率性から注目を浴びている。この
技術は樹脂成形品を構成する組成物中に光や熱を吸収す
る充填剤をあらかじめ配合しておき、レーザ照射によ
り、被照射領域の添加剤、樹脂を分解、発泡せしめ、又
は、被照射領域の顔料、染料等を脱色、変色せしめ、そ
の結果として樹脂成形品表面の状態を変化させてマーキ
ングを付与する技術である。
【０００４】例えば、特公平２−４７３１４号公報には
レーザ光線によって樹脂中に含まれる未重合モノマーや
分解生成物等の揮発分を発泡させ、表面を凸状に変化さ
せマーキングを付与する技術が開示されている。
レーザ光線によって樹脂中に含まれる未重合モノマーや
分解生成物等の揮発分を発泡させ、表面を凸状に変化さ
せマーキングを付与する技術が開示されている。
【０００５】しかし、従来の技術ではレーザ照射時の樹
脂の発泡によりマーキング部分の黒色度が低下すること
から、鮮明なマーキングを得ることが困難である。特に
配合剤としてカーボンブラックを用いた場合には発泡が
著しく、鮮明度の低下が著しい。
脂の発泡によりマーキング部分の黒色度が低下すること
から、鮮明なマーキングを得ることが困難である。特に
配合剤としてカーボンブラックを用いた場合には発泡が
著しく、鮮明度の低下が著しい。
【０００６】シリコンウェーハーキャリアはシリコンウ
ェーハー加工工程でシリコンウェーハーの搬送、保管用
途に用いられる容器である。
ェーハー加工工程でシリコンウェーハーの搬送、保管用
途に用いられる容器である。
【０００７】シリコンウェーハーキャリアを構成する樹
脂組成物にカーボンブラック又はカーボン繊維を配合し
た場合、これらのカーボンブラック又はカーボン繊維が
シリコンウェーハーキャリア表面から剥がれてシリコン
ウェーハーに付着し、シリコンウェーハーに微細な回路
を構成すべき加工を施したときに、回路の短絡が生じる
原因となる。
脂組成物にカーボンブラック又はカーボン繊維を配合し
た場合、これらのカーボンブラック又はカーボン繊維が
シリコンウェーハーキャリア表面から剥がれてシリコン
ウェーハーに付着し、シリコンウェーハーに微細な回路
を構成すべき加工を施したときに、回路の短絡が生じる
原因となる。
【０００８】また、カーボンブラックを使用した合成樹
脂成形品は、必然的に黒く着色し、黒色のシリコンウェ
ーハーキャリアしか製造できない。
脂成形品は、必然的に黒く着色し、黒色のシリコンウェ
ーハーキャリアしか製造できない。
【０００９】シリコンウェーハーキャリアは帯電防止性
を備えることが望ましい。帯電防止性を付与する技術と
しては、アルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスル
ホン酸塩等のイオン性界面活性剤を配合する技術が知ら
れている。しかし、これらの成分をシリコンウェーハー
キャリアに配合すると溶出金属イオンが多量に発生し、
シリコンウェーハー汚染の原因となる。
を備えることが望ましい。帯電防止性を付与する技術と
しては、アルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスル
ホン酸塩等のイオン性界面活性剤を配合する技術が知ら
れている。しかし、これらの成分をシリコンウェーハー
キャリアに配合すると溶出金属イオンが多量に発生し、
シリコンウェーハー汚染の原因となる。
【００１０】
【発明の解決するべき課題】本発明は高鮮明度のレーザ
マーキング性を備えるシリコンウェーハーキャリアを提
供することを課題とする。
マーキング性を備えるシリコンウェーハーキャリアを提
供することを課題とする。
【００１１】
【課題を解決するべき手段】本発明は（Ａ）熱可塑性ポ
リエステル１００重量部に対して（Ｂ）釉薬０．００１
〜１０重量部からなるポリエステル樹脂組成物からな
り、０．１ｍｍ幅の線状レーザマーキングにおいて長さ
４ｍｍ当たりに長さ０．２ｍｍ以上のマーキング欠如部
分が現れることのないレーザマーキングの可能なシリコ
ンウェーハーキャリアである。
リエステル１００重量部に対して（Ｂ）釉薬０．００１
〜１０重量部からなるポリエステル樹脂組成物からな
り、０．１ｍｍ幅の線状レーザマーキングにおいて長さ
４ｍｍ当たりに長さ０．２ｍｍ以上のマーキング欠如部
分が現れることのないレーザマーキングの可能なシリコ
ンウェーハーキャリアである。
【００１２】以下、本発明を詳細に説明する。
【００１３】［熱可塑性ポリエステル］本発明で用いら
れる（Ａ）成分の熱可塑性ポリエステルは、主たる酸成
分がテレフタル酸、または2,6−ナフタリンジカルボン
酸あるいはこれらのエステル形成性誘導体を用い、ジオ
ール成分がエチレングリコール、トリメチレングリコー
ル、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコ
ール、ネオペンチルグリコール等の脂肪族ジオールを少
なくとも一種よりなる芳香族ポリエステルを主成分とす
る。これらの中で結晶化速度の速いポリブチレンテレフ
タレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリブチレン−2,6−ナフタレート
等が好ましく、特にポリブチレンナフタレートが好まし
い。また熱可塑性芳香族ポリエステルとしては上述のポ
リエステルの一部を共重合成分が置換したものでもよ
く、かかる共重合成分としては、イソフタル酸、フタル
酸；メチルテレフタル酸、メチルイソフタル酸等のアル
キル置換フタル酸類；2,6−ナフタリンジカルボン酸、
2,7−ナフタリンジカルボン酸、1,5−ナフタリンジカル
ボン酸等のナフタリンジカルボン酸類；4,4−ジフェニ
ルジカルボン酸、3,4−ジフェニルジカルボン酸等のジ
フェニルジカルボン酸類、4,4−ジフェノキシエタンジ
カルボン酸等のジフェノキシエタンジカルボン酸類等の
芳香族ジカルボン酸、コハク酸、アジピン酸、セバチン
酸、アゼライン酸、デカンジカルボン酸、シクロヘキサ
ンジカルボン酸類などの脂肪族または脂環族ジカルボン
酸；1,4−シクロヘキサンジメタノールなどの脂環族ジ
オール；ハイドロキノン、レゾルシン等のジヒドロキシ
ベンゼン類；2,2−ビス（4−ヒドロキシフェニル）−プ
ロパン、ビス（4−ヒドロキシフェニル）−スルホン等
のビスフェノール類、ビスフェノール類とエチレングリ
コールのごときグリコールとから得られるエーテルジオ
ールなどの芳香族ジオール；ε−オキシカプロオン酸、
ヒドロキシ安息香酸、ヒドロキシエトキシ安息香酸等の
オキシカルボン酸等が挙げられる。
れる（Ａ）成分の熱可塑性ポリエステルは、主たる酸成
分がテレフタル酸、または2,6−ナフタリンジカルボン
酸あるいはこれらのエステル形成性誘導体を用い、ジオ
ール成分がエチレングリコール、トリメチレングリコー
ル、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコ
ール、ネオペンチルグリコール等の脂肪族ジオールを少
なくとも一種よりなる芳香族ポリエステルを主成分とす
る。これらの中で結晶化速度の速いポリブチレンテレフ
タレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリブチレン−2,6−ナフタレート
等が好ましく、特にポリブチレンナフタレートが好まし
い。また熱可塑性芳香族ポリエステルとしては上述のポ
リエステルの一部を共重合成分が置換したものでもよ
く、かかる共重合成分としては、イソフタル酸、フタル
酸；メチルテレフタル酸、メチルイソフタル酸等のアル
キル置換フタル酸類；2,6−ナフタリンジカルボン酸、
2,7−ナフタリンジカルボン酸、1,5−ナフタリンジカル
ボン酸等のナフタリンジカルボン酸類；4,4−ジフェニ
ルジカルボン酸、3,4−ジフェニルジカルボン酸等のジ
フェニルジカルボン酸類、4,4−ジフェノキシエタンジ
カルボン酸等のジフェノキシエタンジカルボン酸類等の
芳香族ジカルボン酸、コハク酸、アジピン酸、セバチン
酸、アゼライン酸、デカンジカルボン酸、シクロヘキサ
ンジカルボン酸類などの脂肪族または脂環族ジカルボン
酸；1,4−シクロヘキサンジメタノールなどの脂環族ジ
オール；ハイドロキノン、レゾルシン等のジヒドロキシ
ベンゼン類；2,2−ビス（4−ヒドロキシフェニル）−プ
ロパン、ビス（4−ヒドロキシフェニル）−スルホン等
のビスフェノール類、ビスフェノール類とエチレングリ
コールのごときグリコールとから得られるエーテルジオ
ールなどの芳香族ジオール；ε−オキシカプロオン酸、
ヒドロキシ安息香酸、ヒドロキシエトキシ安息香酸等の
オキシカルボン酸等が挙げられる。
【００１４】さらに上述の芳香族ポリエステルに分岐成
分として、トリメシン酸、トリメリット酸のごとき多官
能のエステル形成能を有する酸またはグリセリン、トリ
メチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の多官能
のエステル形成能を有するアルコールを１．０モル％以
下、好ましくは０．５モル％以下、更に好ましくは０．
３モル％以下を共重合せしめてもよい。
分として、トリメシン酸、トリメリット酸のごとき多官
能のエステル形成能を有する酸またはグリセリン、トリ
メチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の多官能
のエステル形成能を有するアルコールを１．０モル％以
下、好ましくは０．５モル％以下、更に好ましくは０．
３モル％以下を共重合せしめてもよい。
【００１５】［釉薬］本発明に用いられる（Ｂ）成分の
釉薬は長石釉、石灰釉、鉛釉、アルカリ釉、アルカリ−
石灰釉、硼酸釉よりなる群より選ばれる１種又は２種以
上を組み合わせてなる釉薬である。長石釉とは、長石ま
たは長石類似鉱物で主として硬質磁器と衛生陶器に用い
られ、普通は１２５０℃あるいはそれより高温度でガラ
ス化するものである。石灰釉とは、主成分が石灰化合物
で主として陶器に用いられるものである。鉛釉とは，Ｐ
ｂＯ・ｎＳｉＯ2（ｎは１から２．５の範囲）がほとん
どの成分、あるいは、長石釉と同様の組成の釉と珪酸鉛
との混合物である。アルカリ釉とは、アルカリ珪酸塩を
主成分とし、可溶性アルカリまたはアルカリ化合物とシ
リカまたは粘度との混合物を溶融してつくられるもので
ある。アルカリ−石灰釉とは普通ガラスに極めて類似す
るが失透をおこさぬ程度にアルミナが多く入っているも
のである。硼酸釉とは、珪酸塩と硼酸塩からなるもので
ある。
釉薬は長石釉、石灰釉、鉛釉、アルカリ釉、アルカリ−
石灰釉、硼酸釉よりなる群より選ばれる１種又は２種以
上を組み合わせてなる釉薬である。長石釉とは、長石ま
たは長石類似鉱物で主として硬質磁器と衛生陶器に用い
られ、普通は１２５０℃あるいはそれより高温度でガラ
ス化するものである。石灰釉とは、主成分が石灰化合物
で主として陶器に用いられるものである。鉛釉とは，Ｐ
ｂＯ・ｎＳｉＯ2（ｎは１から２．５の範囲）がほとん
どの成分、あるいは、長石釉と同様の組成の釉と珪酸鉛
との混合物である。アルカリ釉とは、アルカリ珪酸塩を
主成分とし、可溶性アルカリまたはアルカリ化合物とシ
リカまたは粘度との混合物を溶融してつくられるもので
ある。アルカリ−石灰釉とは普通ガラスに極めて類似す
るが失透をおこさぬ程度にアルミナが多く入っているも
のである。硼酸釉とは、珪酸塩と硼酸塩からなるもので
ある。
【００１６】さらに、本発明に用いる釉薬は焼成して釉
となった場合の主成分が次式Ｒ1Ｏ・ＸＲ2 2Ｏ3・ＹＲ3
Ｏ2（１）（Ｒ1≠Ｒ2、Ｒ2≠Ｒ3、Ｒ3≠Ｒ1）で表され
る組成の原料より構成され、釉はガラスと同じく一定の
化学組成は持たない。
となった場合の主成分が次式Ｒ1Ｏ・ＸＲ2 2Ｏ3・ＹＲ3
Ｏ2（１）（Ｒ1≠Ｒ2、Ｒ2≠Ｒ3、Ｒ3≠Ｒ1）で表され
る組成の原料より構成され、釉はガラスと同じく一定の
化学組成は持たない。
【００１７】Ｒ1Ｏは金属酸化物を表し、例えば、Ｋ
2Ｏ、Ｎａ2Ｏ、Ｌｉ2Ｏ、Ｃｕ2Ｏ、ＣａＯ、ＭｇＯ、Ｃ
ｏＯ、ＰｂＯ、ＺｎＯ、ＢａＯ、ＦｅＯ、ＭｎＯ、Ｃｄ
Ｏ、ＣｕＯ、ＮｉＯ、ＳｒＯなどが挙げられ、発色成分
として働く。 Ｒ2 2Ｏ3成分としては普通Ａｌ2Ｏ3あるい
はＡｌ2Ｏ3とＢ2Ｏ3もしくはＦｅ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、Ｃｒ
2Ｏ3、Ｍｎ2Ｏ3等との併用が挙げられる。 Ｒ3Ｏ2はＳ
ｉＯ2、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、ＺｒＯ2、ＣｅＯ2、Ｂ
2Ｏ3、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ5、Ｖ2Ｏ5，Ｐ2Ｏ5、ＵＯ3、
ＭｏＯ3等が挙げられる。またＲＯを１としてＸ＝０．
１〜１．２、Ｙ＝１〜１２含有されたものが好ましく、
Ｘ：Ｙは通常１／１０内外が好ましい。
2Ｏ、Ｎａ2Ｏ、Ｌｉ2Ｏ、Ｃｕ2Ｏ、ＣａＯ、ＭｇＯ、Ｃ
ｏＯ、ＰｂＯ、ＺｎＯ、ＢａＯ、ＦｅＯ、ＭｎＯ、Ｃｄ
Ｏ、ＣｕＯ、ＮｉＯ、ＳｒＯなどが挙げられ、発色成分
として働く。 Ｒ2 2Ｏ3成分としては普通Ａｌ2Ｏ3あるい
はＡｌ2Ｏ3とＢ2Ｏ3もしくはＦｅ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、Ｃｒ
2Ｏ3、Ｍｎ2Ｏ3等との併用が挙げられる。 Ｒ3Ｏ2はＳ
ｉＯ2、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、ＺｒＯ2、ＣｅＯ2、Ｂ
2Ｏ3、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ5、Ｖ2Ｏ5，Ｐ2Ｏ5、ＵＯ3、
ＭｏＯ3等が挙げられる。またＲＯを１としてＸ＝０．
１〜１．２、Ｙ＝１〜１２含有されたものが好ましく、
Ｘ：Ｙは通常１／１０内外が好ましい。
【００１８】釉薬を加熱して釉となるまでの反応は水分
の脱出、融点または分解温度以下での固相間の化学反
応、炭酸塩や硫酸塩等の分解、原料の一部の熔解や共融
混合物の生成、熔解塩の相互熔解、原料成分の一部の揮
発などが複合的に関わってくる。従ってガラス化し、発
色性を高めることが可能で、更に釉自体が樹脂の熱分解
を促して発色させることも可能である。
の脱出、融点または分解温度以下での固相間の化学反
応、炭酸塩や硫酸塩等の分解、原料の一部の熔解や共融
混合物の生成、熔解塩の相互熔解、原料成分の一部の揮
発などが複合的に関わってくる。従ってガラス化し、発
色性を高めることが可能で、更に釉自体が樹脂の熱分解
を促して発色させることも可能である。
【００１９】釉薬（Ｂ）の配合量は、熱可塑性ポリエス
テル樹脂１００重量部に対して０．００１〜１０重量部
である。０．００１重量部以下では無添加のものと大差
なく、鮮明な発色が得にくい。１０重量部以上では押出
時の樹脂分解が釉薬によって促進され、ウェーハーキャ
リアの色相が悪くなり、成形品表面と発色部分のコント
ラストの差がつきにくいため好ましくない。さらに、１
０重量部を超えるとシリコンウェーハー汚染の原因とな
る溶出金属の増加が問題となる。
テル樹脂１００重量部に対して０．００１〜１０重量部
である。０．００１重量部以下では無添加のものと大差
なく、鮮明な発色が得にくい。１０重量部以上では押出
時の樹脂分解が釉薬によって促進され、ウェーハーキャ
リアの色相が悪くなり、成形品表面と発色部分のコント
ラストの差がつきにくいため好ましくない。さらに、１
０重量部を超えるとシリコンウェーハー汚染の原因とな
る溶出金属の増加が問題となる。
【００２０】［制電ポリマー］本発明に用いられる
（Ｃ）成分の制電ポリマーは例えば、ポリエチレングリ
コール系ポリアミド共重合体、ポリエチレングリコール
系ポリエステル共重合体、ポリエチレングリコールメタ
クリレート共重合体、ポリ（エチレンオキシド/プロピ
レンオキシド）共重合体、ポリエチレングリコール系ポ
リエステルアミド、ポリ（エピクロルヒドリン/エチレ
ンオキシド）共重合体などポリエチレングリコール成分
を有するポリマーである。
（Ｃ）成分の制電ポリマーは例えば、ポリエチレングリ
コール系ポリアミド共重合体、ポリエチレングリコール
系ポリエステル共重合体、ポリエチレングリコールメタ
クリレート共重合体、ポリ（エチレンオキシド/プロピ
レンオキシド）共重合体、ポリエチレングリコール系ポ
リエステルアミド、ポリ（エピクロルヒドリン/エチレ
ンオキシド）共重合体などポリエチレングリコール成分
を有するポリマーである。
【００２１】本発明の制電ポリマーの配合量は、ポリエ
ステル樹脂１００重量部に対して、０〜１００重量部で
ある。制電ポリマーが１００重量部を超えると機械的強
度、色調及び生産性が低下し好ましくない。ただし、十
分な帯電防止性を付与するためには、１０〜１００重量
部が好ましい。さらに好ましくは１０〜５０重量部がよ
い。
ステル樹脂１００重量部に対して、０〜１００重量部で
ある。制電ポリマーが１００重量部を超えると機械的強
度、色調及び生産性が低下し好ましくない。ただし、十
分な帯電防止性を付与するためには、１０〜１００重量
部が好ましい。さらに好ましくは１０〜５０重量部がよ
い。
【００２２】［レーザマーキング］本願発明のシリコン
ウェーハーキャリアはレーザによるマーキング性を備え
る。本願発明のシリコンウェーハーキャリアは好ましく
は表面にレーザ光照射による鮮明なマーキング（単に
「レーザマーキング」ということがある）を備える。
ウェーハーキャリアはレーザによるマーキング性を備え
る。本願発明のシリコンウェーハーキャリアは好ましく
は表面にレーザ光照射による鮮明なマーキング（単に
「レーザマーキング」ということがある）を備える。
【００２３】レーザマーキングはレーザ光線被照射部分
とレーザ光線非被照射部分の化学的、物理的な状態の相
違より生じるマーキングである。レーザマーキングは例
えば、文字、図形、記号、バーコード、絵を構成するこ
とができる。
とレーザ光線非被照射部分の化学的、物理的な状態の相
違より生じるマーキングである。レーザマーキングは例
えば、文字、図形、記号、バーコード、絵を構成するこ
とができる。
【００２４】本願発明のシリコンウェーハーキャリア
は、好ましくはレーザマーキングから構成された光学的
に読み取り可能なバーコードをその表面に備える。この
バーコードは好ましくは生産工程管理用に用いられる。
は、好ましくはレーザマーキングから構成された光学的
に読み取り可能なバーコードをその表面に備える。この
バーコードは好ましくは生産工程管理用に用いられる。
【００２５】本発明のシリコンウェーハーキャリアはレ
ーザ光線によるマーキング性を備えたものである。本発
明のシリコンウェーハーキャリアは好ましくはその表面
にレーザマーキングが付与されたものである。
ーザ光線によるマーキング性を備えたものである。本発
明のシリコンウェーハーキャリアは好ましくはその表面
にレーザマーキングが付与されたものである。
【００２６】本発明においてレーザマーキングは、幅
０．１ｍｍ、長さ４ｍｍの線を１回レーザマーキングし
た時のレーザマーキングの欠如部分の有無で評価され
る。レーザマーキングの鮮明度はレーザマーキングの様
子を、例えば三次元測定機（例えば、モータト゛ライフ゛形三次
元測定機/三豊製作所製）を用いて観察することにより
評価することができる。
０．１ｍｍ、長さ４ｍｍの線を１回レーザマーキングし
た時のレーザマーキングの欠如部分の有無で評価され
る。レーザマーキングの鮮明度はレーザマーキングの様
子を、例えば三次元測定機（例えば、モータト゛ライフ゛形三次
元測定機/三豊製作所製）を用いて観察することにより
評価することができる。
【００２７】本発明のシリコンウェーハーキャリアは、
幅０．１ｍｍ、長さ４ｍｍの線状のレーザマーキングに
おいて長さ０．２ｍｍ以上のマーキング欠如部分が観察
されることのないレーザマーキングが可能である。この
ようなレーザマーキングが可能であれば、生産工程管理
用のバーコードをレーザマーキングにより作成したとき
に、読み取り誤動作を生じることのない良好なバーコー
ドを備えるシリコンウェーハーキャリアを得ることがで
きる。
幅０．１ｍｍ、長さ４ｍｍの線状のレーザマーキングに
おいて長さ０．２ｍｍ以上のマーキング欠如部分が観察
されることのないレーザマーキングが可能である。この
ようなレーザマーキングが可能であれば、生産工程管理
用のバーコードをレーザマーキングにより作成したとき
に、読み取り誤動作を生じることのない良好なバーコー
ドを備えるシリコンウェーハーキャリアを得ることがで
きる。
【００２８】本発明のシリコンウェーハーキャリアは好
ましくは幅０．１ｍｍ、長さ４ｍｍの線状のレーザマー
キングにおいて長さ０．２ｍｍ以上のマーキング欠如部
分が観察されることのないレーザマーキングを備え、更
に好ましくは、そのレーザマーキングは光学的に読み取
り可能な生産工程管理用のバーコードを構成する。
ましくは幅０．１ｍｍ、長さ４ｍｍの線状のレーザマー
キングにおいて長さ０．２ｍｍ以上のマーキング欠如部
分が観察されることのないレーザマーキングを備え、更
に好ましくは、そのレーザマーキングは光学的に読み取
り可能な生産工程管理用のバーコードを構成する。
【００２９】一本のマーキング線上に長さ０．２ｍｍ以
上の欠如部分があるとバーコードの読みとり不良が起こ
る場合がある。したがって、本発明に於いては一本のマ
ーキング線上存在する長さ０．２ｍｍ以上の欠如部分の
個数が鮮明度の主たる基準である。
上の欠如部分があるとバーコードの読みとり不良が起こ
る場合がある。したがって、本発明に於いては一本のマ
ーキング線上存在する長さ０．２ｍｍ以上の欠如部分の
個数が鮮明度の主たる基準である。
【００３０】［溶出金属量］本発明のシリコンウェーハ
ーキャリアは、８０℃の超純水中で２時間処理した後、
溶出するアルカリ金属量が好ましくは１０ｐｐｍ以下、更に
好ましくは１ｐｐｍ以下である。溶出金属の量がこの範
囲であれば金属不純物のシリコンウェーハーキャリア表
面への滲出が極めて少なく、シリコンウェーハーに転写
による表面汚れを生じさせることがない。
ーキャリアは、８０℃の超純水中で２時間処理した後、
溶出するアルカリ金属量が好ましくは１０ｐｐｍ以下、更に
好ましくは１ｐｐｍ以下である。溶出金属の量がこの範
囲であれば金属不純物のシリコンウェーハーキャリア表
面への滲出が極めて少なく、シリコンウェーハーに転写
による表面汚れを生じさせることがない。
【００３１】［表面固有抵抗］本願発明のシリコンウェ
ーハーキャリアは、表面固有抵抗が好ましくは１０13〜
１０10Ω、更に好ましくは１０12〜１０10Ωの範囲であ
る。この範囲であれば良好な帯電防止性を備えることが
できる。
ーハーキャリアは、表面固有抵抗が好ましくは１０13〜
１０10Ω、更に好ましくは１０12〜１０10Ωの範囲であ
る。この範囲であれば良好な帯電防止性を備えることが
できる。
【００３２】［添加剤］本発明では用途に応じて顔料及
び染料を添加することが可能である。
び染料を添加することが可能である。
【００３３】無機顔料としては公知のものであるが、例
として二酸化チタン、酸化亜鉛、三酸化アンチモン、硫化亜
鉛、塩基性炭素鉛、塩基性硫酸鉛、塩基性珪酸鉛、リト
ボン、金属酸化物、金属硫化物、カーボンブラック及び
グラファイトがある。
として二酸化チタン、酸化亜鉛、三酸化アンチモン、硫化亜
鉛、塩基性炭素鉛、塩基性硫酸鉛、塩基性珪酸鉛、リト
ボン、金属酸化物、金属硫化物、カーボンブラック及び
グラファイトがある。
【００３４】有機顔料は、例としてアゾ−、アゾメチル
−、メチン−、インダンスロン−、アントラキノン−、
ピランスロン−、フラバンスロン−、ベンザンスロン
−、フタロシアニン−、ペリノン−、ペリレン−、ジオ
キサジン−、チオインジゴ−、イソインドリン−、イソ
インドリノン−、キナクリドン−、ピルールピロール−
及びキノフタロンがある。
−、メチン−、インダンスロン−、アントラキノン−、
ピランスロン−、フラバンスロン−、ベンザンスロン
−、フタロシアニン−、ペリノン−、ペリレン−、ジオ
キサジン−、チオインジゴ−、イソインドリン−、イソ
インドリノン−、キナクリドン−、ピルールピロール−
及びキノフタロンがある。
【００３５】有機染料は、例としてアンスラキノン系の
分散染料、アゾ染料の金属錯化合物及び蛍光染料があ
る。
分散染料、アゾ染料の金属錯化合物及び蛍光染料があ
る。
【００３６】本発明に用いる熱可塑性樹脂組成物には、
本発明の目的を損なわない範囲で、ガラス状強化剤、粉
粒状、板状充填剤、難燃剤、離型剤、潤滑剤、滑剤、核
剤、着色剤、酸化防止剤、熱安定剤、耐光（候）安定
剤、その他成分以外の熱可塑性樹脂、衝撃改良剤等の改
質剤など、添加剤を含有することが出来る。
本発明の目的を損なわない範囲で、ガラス状強化剤、粉
粒状、板状充填剤、難燃剤、離型剤、潤滑剤、滑剤、核
剤、着色剤、酸化防止剤、熱安定剤、耐光（候）安定
剤、その他成分以外の熱可塑性樹脂、衝撃改良剤等の改
質剤など、添加剤を含有することが出来る。
【００３７】［製造方法］本発明に用いられる熱可塑性
樹脂組成物は、熱可塑性ポリエステル（Ａ）、釉薬
（Ｂ）、及び制電ポリマー（Ｃ）を任意の配合方法によ
り配合して得られる。通常これらの配合成分はより均一
に分散させることが好ましく、その全部もしくは一部を
同時にあるいは均一に分散させることが好ましく、その
全部もしくは一部を同時にあるいは別々に例えばブレン
ダー、ニーダー、バンバリーミキサー、ロール、押出機
等の混合機で混合し均質化させる方法を用いることが出
来る。更に予めドライブレンドされた組成物を加熱した
押出機で溶融混練して均質化した後針金状に押出し、次
いで所望の長さに切断して粒状化する方法などがある。
樹脂組成物は、熱可塑性ポリエステル（Ａ）、釉薬
（Ｂ）、及び制電ポリマー（Ｃ）を任意の配合方法によ
り配合して得られる。通常これらの配合成分はより均一
に分散させることが好ましく、その全部もしくは一部を
同時にあるいは均一に分散させることが好ましく、その
全部もしくは一部を同時にあるいは別々に例えばブレン
ダー、ニーダー、バンバリーミキサー、ロール、押出機
等の混合機で混合し均質化させる方法を用いることが出
来る。更に予めドライブレンドされた組成物を加熱した
押出機で溶融混練して均質化した後針金状に押出し、次
いで所望の長さに切断して粒状化する方法などがある。
【００３８】シリコンウェーハーキャリアは制電ポリマ
ーを含有する場合、帯電防止性を発現させるために、成
形品表層部でポリエーテルエステルアミドを厚さ０．５
ミクロン以下のスジ状に分散させるような成形条件をとるこ
とが好ましい。つまり、通常のポリエステル成形時の条
件より高速、高圧で成形することが好ましい。例えば、
三菱８０ＭＳＰ射出成形機を用いた場合、シリンダー２
５０℃、金型温度６０℃射出速度/射出圧力４０〜６０
％で成形することが望ましい。このようにして得られた
シリコンウェーハーキャリアは優れた永久帯電防止性を
備える。
ーを含有する場合、帯電防止性を発現させるために、成
形品表層部でポリエーテルエステルアミドを厚さ０．５
ミクロン以下のスジ状に分散させるような成形条件をとるこ
とが好ましい。つまり、通常のポリエステル成形時の条
件より高速、高圧で成形することが好ましい。例えば、
三菱８０ＭＳＰ射出成形機を用いた場合、シリンダー２
５０℃、金型温度６０℃射出速度/射出圧力４０〜６０
％で成形することが望ましい。このようにして得られた
シリコンウェーハーキャリアは優れた永久帯電防止性を
備える。
【００３９】本発明シリコンウェーハーキャリアは、一
般の熱可塑性樹脂の成形機によって成形することが可能
である。
般の熱可塑性樹脂の成形機によって成形することが可能
である。
【００４０】以下、実施例により本発明を説明する。
【００４１】
【実施例】表１に記載の各種原料として以下のものを使
用した。
用した。
【００４２】・ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ） 帝人（株）製 ＴＲＢ−ＱＫ ・ポリエーテルエステルアミド（ＰＥＥＡ） 三洋化成（株）製 ペレスタット６３２１ ・均窯釉 新日本造形（株）製 焼成適正温度１２３０〜１２５０
℃ 表１に記載の各種原料を表１に記載の量割合で予め均一
にドライブレンドした後、スクリュー径４４mmのベント
付き２軸押出機を用いてシリンダー温度１８０〜３１０
℃、スクリュー回転数１６０rpm、吐出量４０kg／ｈに
て溶融混練し、ダイスから吐出するスレッドを冷却後、
切断して成形用ペレットを得た。
℃ 表１に記載の各種原料を表１に記載の量割合で予め均一
にドライブレンドした後、スクリュー径４４mmのベント
付き２軸押出機を用いてシリンダー温度１８０〜３１０
℃、スクリュー回転数１６０rpm、吐出量４０kg／ｈに
て溶融混練し、ダイスから吐出するスレッドを冷却後、
切断して成形用ペレットを得た。
【００４３】次いでこのペレットを用いて射出圧力７５
０ｋｇ／ｃｍ2、射出速度７０ｃｍ3／ｓｅｃ、冷却時間
１５秒、及び全成形サイクル２５秒の条件で射出成形に
よりシリコンウェーハーキャリアを作成した。さらに、
このキャリアの側面部を必要な大きさに切断して試験片
とした。この試験片について以下の評価を行った。
０ｋｇ／ｃｍ2、射出速度７０ｃｍ3／ｓｅｃ、冷却時間
１５秒、及び全成形サイクル２５秒の条件で射出成形に
よりシリコンウェーハーキャリアを作成した。さらに、
このキャリアの側面部を必要な大きさに切断して試験片
とした。この試験片について以下の評価を行った。
【００４４】［レーザーマーキング性の評価］ＹＡＧレ
ーザ（ＮＥＣ製レーザマーカSL475E2）により出力電流
１８．５（Ａ）、印字スピード５（ｍｍ／ｓｅｃ）、バ
イトサイズ１０（μｍ）の条件で、試験片に０．１ｍｍ
幅の直線状レーザマーキングを１回行った。
ーザ（ＮＥＣ製レーザマーカSL475E2）により出力電流
１８．５（Ａ）、印字スピード５（ｍｍ／ｓｅｃ）、バ
イトサイズ１０（μｍ）の条件で、試験片に０．１ｍｍ
幅の直線状レーザマーキングを１回行った。
【００４５】このマーキングを長さ０．２ｍｍ以上のマ
ーキング欠如部分の数、発色度合い、コントラストによ
り総合的に評価した。マーキング欠如部分の数は、マー
キングの様子を三次元測定機（モータト゛ライフ゛形三次元測定
機/三豊製作所製）で測定して評価した。
ーキング欠如部分の数、発色度合い、コントラストによ
り総合的に評価した。マーキング欠如部分の数は、マー
キングの様子を三次元測定機（モータト゛ライフ゛形三次元測定
機/三豊製作所製）で測定して評価した。
【００４６】バーコードをマーキングする場合、一本の
マーキング直線上に長さ０．２ｍｍ以上の欠如があると
バーコードの読みとり不良が起こる場合があり望ましく
ないことから、一本のマーキング直線上存在する長さ
０．２ｍｍ以上の欠如部分の個数を主たる基準として評
価を行った。
マーキング直線上に長さ０．２ｍｍ以上の欠如があると
バーコードの読みとり不良が起こる場合があり望ましく
ないことから、一本のマーキング直線上存在する長さ
０．２ｍｍ以上の欠如部分の個数を主たる基準として評
価を行った。
【００４７】［表面固有抵抗］表面固有抵抗は超絶縁計
（東亜電波工業（株）製ＳＭ−１０Ｅ）を用いて測定し
た。
（東亜電波工業（株）製ＳＭ−１０Ｅ）を用いて測定し
た。
【００４８】［アルカリ金属溶出量］アルカリ金属溶出
量の評価は、試料（シリコンウェーハーキャリアの５ｍ
ｍ角フレークス状粉砕物）１０ｇを８０℃の超純水８０
ｍｌ中に１２０分間浸漬処理した後、原子吸光光度計
（日立製作所製 Ｚ８１００）を用いて、浸漬処理後の
超純水中の溶出アルカリ金属の量を分析することにより
行った。
量の評価は、試料（シリコンウェーハーキャリアの５ｍ
ｍ角フレークス状粉砕物）１０ｇを８０℃の超純水８０
ｍｌ中に１２０分間浸漬処理した後、原子吸光光度計
（日立製作所製 Ｚ８１００）を用いて、浸漬処理後の
超純水中の溶出アルカリ金属の量を分析することにより
行った。
【００４９】
【表１】
【００５０】
【表２】
【００５１】
【表３】
【００５２】上表に示すようにＰＢＴに釉薬を配合した
帯電防止性を必要としない搬送用シリコンウェーハーキ
ャリア（実施例４）は、良好なマーキング性を示した。
また、ＰＢＴとＰＥＥＡに釉薬を配合した帯電防止性を
必要とする工程用シリコンウェーハーキャリア（実施例
１〜３、５）は、良好なマーキング性を示し、ウェーハ
ーの洗浄工程でウェーハー汚染の原因となる溶出金属の
実質的な増大は認められなかった。さらに、このような
キャリアは、直接、管理用のバーコードをマーキングす
ることができるため、コスト及び生産性などの面からも
有用である。
帯電防止性を必要としない搬送用シリコンウェーハーキ
ャリア（実施例４）は、良好なマーキング性を示した。
また、ＰＢＴとＰＥＥＡに釉薬を配合した帯電防止性を
必要とする工程用シリコンウェーハーキャリア（実施例
１〜３、５）は、良好なマーキング性を示し、ウェーハ
ーの洗浄工程でウェーハー汚染の原因となる溶出金属の
実質的な増大は認められなかった。さらに、このような
キャリアは、直接、管理用のバーコードをマーキングす
ることができるため、コスト及び生産性などの面からも
有用である。
【００５３】
【発明の効果】本願発明によれば、高鮮明度のレーザマ
ーキングを備え、同時に帯電防止性及びシリコンウェー
ハーの表面汚染防止性に優れるシリコンウェーハーキャ
リアを得ることができる。
ーキングを備え、同時に帯電防止性及びシリコンウェー
ハーの表面汚染防止性に優れるシリコンウェーハーキャ
リアを得ることができる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０８Ｌ 71/03 Ｃ０８Ｌ 77/12 77/00 Ｂ４１Ｍ 5/26 Ｓ 77/12 Ｂ６５Ｄ 85/38 Ｒ
Claims (8)
- 【請求項１】 （Ａ）熱可塑性ポリエステル１００重量
部に対して（Ｂ）釉薬０．００１〜１０重量部からなる
ポリエステル樹脂組成物からなり、０．１ｍｍ幅の線状
レーザマーキングにおいて長さ４ｍｍ当たりに長さ０．
２ｍｍ以上のマーキング欠如部分が現れることのないレ
ーザマーキングの可能なシリコンウェーハーキャリア。 - 【請求項２】 ０．１ｍｍ幅の線状レーザマーキングに
おいて長さ４ｍｍ当たりに長さ０．２ｍｍ以上のマーキ
ング欠如部分が現れることのないレーザマーキングを備
えた請求項１に記載のシリコンウェーハーキャリア。 - 【請求項３】 レーザマーキングが光学的に読み取り可
能なバーコードを構成する請求項２に記載のシリコンウ
ェーハーキャリア。 - 【請求項４】 表面固有抵抗が１０13〜１０10Ωである
請求項１に記載のシリコンウェーハーキャリア。 - 【請求項５】 （Ａ）熱可塑性ポリエステル１００重量
部に対して（Ｂ）釉薬０．００１〜１０重量部及び
（Ｃ）制電ポリマー１０〜１００重量部からなるポリエ
ステル樹脂組成物からなり、０．１ｍｍ幅の線状レーザ
マーキングにおいて長さ４ｍｍ当たりに長さ０．２ｍｍ
以上のマーキング欠如部分が現れることのない請求項１
または４に記載のレーザマーキングの可能なシリコンウ
ェーハーキャリア。 - 【請求項６】 熱可塑性ポリエステルがポリブチレンテ
レフタレートである請求項１に記載のシリコンウェーハ
ーキャリア。 - 【請求項７】 制電ポリマー（Ｃ）がポリエチレングリ
コール系ポリアミド共重合体、ポリエチレングリコール
系ポリエステル共重合体、ポリエチレングリコールメタ
クリレート共重合体、ポリ（エチレンオキシド/プロピ
レンオキシド）共重合体、ポリエチレングリコール系ポ
リエステルアミド及びポリ（エピクロルヒドリン/エチ
レンオキシド）共重合体からなる群より選ばれる１種以
上の制電ポリマーである請求項５に記載のシリコンウェ
ーハーキャリア。 - 【請求項８】 釉薬（Ｂ）が長石釉、石灰釉、鉛釉、ア
ルカリ釉、アルカリ−石灰釉、硼酸釉よりなる群より選
ばれる１種又は２種以上を組み合わせてなる釉薬であっ
て、釉薬が焼成して釉となった場合の主成分が次式Ｒ1
Ｏ・ＸＲ2 2Ｏ3・ＹＲ3Ｏ2（但し、Ｒ1≠Ｒ2、Ｒ2≠
Ｒ3、Ｒ3≠Ｒ1、 Ｒ1Ｏは金属酸化物を示し、Ｒ2 2Ｏ3は
Ａｌ2Ｏ3あるいはＡｌ2Ｏ3とＢ2Ｏ3もしくはＦｅ2Ｏ3、
Ｓｂ2Ｏ3、Ｃｒ2Ｏ3、Ｍｎ2Ｏ3等との併用を示し、 Ｒ3
Ｏ2はＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、ＺｒＯ2、ＣｅＯ2、
Ｂ2Ｏ3、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ5、Ｖ2Ｏ5，Ｐ2Ｏ5、Ｕ
Ｏ3、ＭｏＯ3等を示す。またＲＯを１とするとＸ＝０．
１〜１．２、Ｙ＝１〜１２で、Ｘ：Ｙは１／１０内外で
ある。）で表される釉薬である請求項１に記載のシリコ
ンウェーハーキャリア。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1516597A JPH10214882A (ja) | 1997-01-29 | 1997-01-29 | レーザマーキング可能なシリコンウェーハーキャリア |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1516597A JPH10214882A (ja) | 1997-01-29 | 1997-01-29 | レーザマーキング可能なシリコンウェーハーキャリア |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10214882A true JPH10214882A (ja) | 1998-08-11 |
Family
ID=11881198
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1516597A Pending JPH10214882A (ja) | 1997-01-29 | 1997-01-29 | レーザマーキング可能なシリコンウェーハーキャリア |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10214882A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100300497B1 (ko) * | 1999-07-23 | 2001-11-01 | 이수남 | 몰딩후 불량 반도체 패키지 검출 방법 |
| JPWO2005000969A1 (ja) * | 2003-06-27 | 2006-11-02 | 東洋インキ製造株式会社 | 誘導放出光増幅光波用樹脂組成物およびその利用 |
| JP2010189557A (ja) * | 2009-02-19 | 2010-09-02 | Mitsubishi Plastics Inc | ポリエステルフィルム |
-
1997
- 1997-01-29 JP JP1516597A patent/JPH10214882A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100300497B1 (ko) * | 1999-07-23 | 2001-11-01 | 이수남 | 몰딩후 불량 반도체 패키지 검출 방법 |
| JPWO2005000969A1 (ja) * | 2003-06-27 | 2006-11-02 | 東洋インキ製造株式会社 | 誘導放出光増幅光波用樹脂組成物およびその利用 |
| JP4742237B2 (ja) * | 2003-06-27 | 2011-08-10 | 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 | 誘導放出光増幅光波用樹脂組成物およびその利用 |
| JP2010189557A (ja) * | 2009-02-19 | 2010-09-02 | Mitsubishi Plastics Inc | ポリエステルフィルム |
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