JPH10217614A - 感熱記録体 - Google Patents
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- -1 sulfonyl compound Chemical class 0.000 claims abstract description 31
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 12
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 4
- 239000001993 wax Substances 0.000 claims description 24
- 239000000981 basic dye Substances 0.000 claims description 15
- 239000012170 montan wax Substances 0.000 claims description 15
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 claims description 15
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 12
- 239000004203 carnauba wax Substances 0.000 claims description 8
- 235000013869 carnauba wax Nutrition 0.000 claims description 8
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 6
- 230000036571 hydration Effects 0.000 claims description 4
- 238000006703 hydration reaction Methods 0.000 claims description 4
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 claims description 4
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 claims description 3
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 claims description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 claims description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 claims description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 3
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 claims description 2
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000004204 candelilla wax Substances 0.000 claims description 2
- 235000013868 candelilla wax Nutrition 0.000 claims description 2
- 229940073532 candelilla wax Drugs 0.000 claims description 2
- 239000012185 ceresin wax Substances 0.000 claims description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 claims description 2
- IUJAMGNYPWYUPM-UHFFFAOYSA-N hentriacontane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC IUJAMGNYPWYUPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 2
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 abstract description 7
- 238000001454 recorded image Methods 0.000 abstract description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 49
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 31
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 28
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 22
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 21
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 description 20
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 19
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 13
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 13
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 12
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 11
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 11
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 9
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 9
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N monobenzene Natural products C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfone Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- DMJULNNEQMTRMX-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis[(2,5-dimethylphenyl)sulfonyl]phenol Chemical compound CC1=CC=C(C)C(S(=O)(=O)C=2C=C(C(O)=CC=2)S(=O)(=O)C=2C(=CC=C(C)C=2)C)=C1 DMJULNNEQMTRMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LCJQCYQTWIAJBE-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis(benzenesulfonyl)phenol Chemical compound OC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 LCJQCYQTWIAJBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 5
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 4
- 229940077388 benzenesulfonate Drugs 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000006418 4-methylphenylsulfonyl group Chemical group 0.000 description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 3
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 3
- 239000004200 microcrystalline wax Substances 0.000 description 3
- 235000019808 microcrystalline wax Nutrition 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- OAGNKYSIOSDNIG-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-3-[2-(3-methylphenoxy)ethoxy]benzene Chemical compound CC1=CC=CC(OCCOC=2C=C(C)C=CC=2)=C1 OAGNKYSIOSDNIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 2
- SWLDWPIQTOXOSP-UHFFFAOYSA-N CC1=CC(S(C2=CC=CC(O)=C2S(C2=C(C)C=CC(C)=C2)(=O)=O)(=O)=O)=C(C)C=C1 Chemical compound CC1=CC(S(C2=CC=CC(O)=C2S(C2=C(C)C=CC(C)=C2)(=O)=O)(=O)=O)=C(C)C=C1 SWLDWPIQTOXOSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003240 coconut oil Substances 0.000 description 2
- 235000019864 coconut oil Nutrition 0.000 description 2
- 238000004945 emulsification Methods 0.000 description 2
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000003760 tallow Substances 0.000 description 2
- XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L zinc stearate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- LIZLYZVAYZQVPG-UHFFFAOYSA-N (3-bromo-2-fluorophenyl)methanol Chemical compound OCC1=CC=CC(Br)=C1F LIZLYZVAYZQVPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGHOCVLTRROELP-UHFFFAOYSA-N 1,5-bis(benzenesulfonyl)-2-ethoxy-4-ethylbenzene Chemical compound CCOC1=CC(CC)=C(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 FGHOCVLTRROELP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNLNXNOFEOTERT-UHFFFAOYSA-N 1,5-bis(benzenesulfonyl)-2-ethoxy-4-methylbenzene Chemical compound CCOC1=CC(C)=C(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 JNLNXNOFEOTERT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWSUSSNVINJDFO-UHFFFAOYSA-N 1,5-bis(benzenesulfonyl)-2-methyl-4-propan-2-yloxybenzene Chemical compound CC(C)OC1=CC(C)=C(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 MWSUSSNVINJDFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBTGNXMALBPCDX-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-2,4-bis-(4-methylphenyl)sulfonylbenzene Chemical compound COC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC(C)=CC=2)C=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 XBTGNXMALBPCDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZWKPUFQXCYFOL-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis(benzenesulfonyl)-1-butan-2-yloxybenzene Chemical compound CCC(C)OC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 AZWKPUFQXCYFOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEMKPHMQZFHSFO-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis(benzenesulfonyl)-1-butoxybenzene Chemical compound CCCCOC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 YEMKPHMQZFHSFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAXAQJFPIGUZIS-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis(benzenesulfonyl)-1-cyclohexyloxybenzene Chemical compound C=1C=C(OC2CCCCC2)C(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)=CC=1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GAXAQJFPIGUZIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIQLQXSUJYHDMM-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis(benzenesulfonyl)-1-ethoxybenzene Chemical compound CCOC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 VIQLQXSUJYHDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABDSQVVVXGRIBC-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis(benzenesulfonyl)-1-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 ABDSQVVVXGRIBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQONPSANIKNMOM-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis(benzenesulfonyl)-1-octadecoxybenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 UQONPSANIKNMOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQCDCNDPESOANN-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis(benzenesulfonyl)-1-propoxybenzene Chemical compound CCCOC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 LQCDCNDPESOANN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULTGGIPZBRJABJ-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis(benzenesulfonyl)-5-ethylphenol Chemical compound CCC1=CC(O)=C(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 ULTGGIPZBRJABJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWOXYMWRPLOQTF-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis(benzenesulfonyl)-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=C(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GWOXYMWRPLOQTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNHBQEDIFDLVQA-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis-(4-methylphenyl)sulfonyl-1-propan-2-yloxybenzene Chemical compound CC(C)OC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC(C)=CC=2)C=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 VNHBQEDIFDLVQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXVQSTJVKUKAPM-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis-(4-methylphenyl)sulfonylphenol Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C(S(=O)(=O)C=2C=CC(C)=CC=2)=C1 PXVQSTJVKUKAPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOAOFQRJCMVMBM-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis[(2,4-dimethylphenyl)sulfonyl]-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC(S(=O)(=O)C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=C(O)C=C1C MOAOFQRJCMVMBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBHGYLOWHAOBQM-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis[(2,4-dimethylphenyl)sulfonyl]phenol Chemical compound CC1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C(S(=O)(=O)C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=C1 WBHGYLOWHAOBQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZGLMPMQTOOGRI-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis[(2,5-dimethylphenyl)sulfonyl]-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(C)C(S(=O)(=O)C=2C(=CC(O)=C(C=2)S(=O)(=O)C=2C(=CC=C(C)C=2)C)C)=C1 BZGLMPMQTOOGRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFVAQYQZRLGERB-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis[(3,4-dimethylphenyl)sulfonyl]phenol Chemical compound C1=C(C)C(C)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C(S(=O)(=O)C=2C=C(C)C(C)=CC=2)=C1 LFVAQYQZRLGERB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZPZEEPWQAIMHY-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis[(4-chlorophenyl)sulfonyl]-1-propan-2-yloxybenzene Chemical compound CC(C)OC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC(Cl)=CC=2)C=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 YZPZEEPWQAIMHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNFKFGQZMRGBKY-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis[(4-chlorophenyl)sulfonyl]phenol Chemical compound OC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC(Cl)=CC=2)C=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 MNFKFGQZMRGBKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFFVHEUKOHECMG-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis[(4-ethylphenyl)sulfonyl]phenol Chemical compound C1=CC(CC)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C(S(=O)(=O)C=2C=CC(CC)=CC=2)=C1 DFFVHEUKOHECMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNTZSOJTNARRMS-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis[(4-propan-2-ylphenyl)sulfonyl]phenol Chemical compound C1=CC(C(C)C)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C(S(=O)(=O)C=2C=CC(=CC=2)C(C)C)=C1 CNTZSOJTNARRMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SGTNSNPWRIOYBX-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-{[2-(3,4-dimethoxyphenyl)ethyl](methyl)amino}-2-(propan-2-yl)pentanenitrile Chemical compound C1=C(OC)C(OC)=CC=C1CCN(C)CCCC(C#N)(C(C)C)C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 SGTNSNPWRIOYBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRGKCJOTXMZHII-UHFFFAOYSA-N 2-(benzenesulfonyl)-4-(2,4-dimethylphenyl)sulfonylphenol Chemical compound CC1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1 DRGKCJOTXMZHII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVEWXNIBIDTZDG-UHFFFAOYSA-N 2-(benzenesulfonyl)-4-(2,5-dimethylphenyl)sulfonylphenol Chemical compound CC1=CC=C(C)C(S(=O)(=O)C=2C=C(C(O)=CC=2)S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1 MVEWXNIBIDTZDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLCUYMRUGJISAO-UHFFFAOYSA-N 2-(benzenesulfonyl)-4-(3,4-dimethylphenyl)sulfonylphenol Chemical compound C1=C(C)C(C)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1 CLCUYMRUGJISAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJYDUCHJQDCFMB-UHFFFAOYSA-N 2-(benzenesulfonyl)-4-(4-chlorophenyl)sulfonylphenol Chemical compound OC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC(Cl)=CC=2)C=C1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 AJYDUCHJQDCFMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTPSYVQPHZKINI-UHFFFAOYSA-N 2-(benzenesulfonyl)-4-(4-ethylphenyl)sulfonylphenol Chemical compound C1=CC(CC)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1 RTPSYVQPHZKINI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZTJCNQXYVMGRE-UHFFFAOYSA-N 2-(benzenesulfonyl)-4-(4-methylphenyl)sulfonylphenol Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1 DZTJCNQXYVMGRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXBQBZWKIKTEEX-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(2,5-dimethylphenyl)sulfonyl-4-methoxyphenyl]sulfonyl-1,4-dimethylbenzene Chemical compound COC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C(=CC=C(C)C=2)C)C=C1S(=O)(=O)C1=CC(C)=CC=C1C UXBQBZWKIKTEEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKVXBRNAGIBMAR-UHFFFAOYSA-N 2-[[2,4-bis(benzenesulfonyl)phenoxy]methyl]oxirane Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)=CC=1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 FKVXBRNAGIBMAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQVRUHXWNFMWQB-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-4-(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)pyridine Chemical compound O1C(C)(C)C(C)(C)OB1C1=CC=NC(Br)=C1 NQVRUHXWNFMWQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QKJAZPHKNWSXDF-UHFFFAOYSA-N 2-bromoquinoline Chemical compound C1=CC=CC2=NC(Br)=CC=C21 QKJAZPHKNWSXDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQXYBDVZAUEPDL-UHFFFAOYSA-N 2-methylidene-5-phenylpent-4-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(=C)CC=CC1=CC=CC=C1 JQXYBDVZAUEPDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCSGHNKDXGYELG-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethoxybenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1OCCOC1=CC=CC=C1 XCSGHNKDXGYELG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLTCCDHHWYAMCG-UHFFFAOYSA-N 2-phenylmethoxynaphthalene Chemical compound C=1C=C2C=CC=CC2=CC=1OCC1=CC=CC=C1 WLTCCDHHWYAMCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYCOJIVDCGJKDB-UHFFFAOYSA-M 3,4-dimethylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1C WYCOJIVDCGJKDB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UYMBCDOGDVGEFA-UHFFFAOYSA-N 3-(1h-indol-2-yl)-3h-2-benzofuran-1-one Chemical class C12=CC=CC=C2C(=O)OC1C1=CC2=CC=CC=C2N1 UYMBCDOGDVGEFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTILAOCGFRDHBH-UHFFFAOYSA-N 4-(4-propan-2-yloxyphenyl)sulfonylphenol Chemical compound C1=CC(OC(C)C)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 ZTILAOCGFRDHBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFDAPUMHUVDZJC-UHFFFAOYSA-N 4-(benzenesulfonyl)-2-(2,4-dimethylphenyl)sulfonylphenol Chemical compound CC1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)=CC=C1O XFDAPUMHUVDZJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSIQGXIATSHVLV-UHFFFAOYSA-N 4-(benzenesulfonyl)-2-(2,5-dimethylphenyl)sulfonylphenol Chemical compound CC1=CC=C(C)C(S(=O)(=O)C=2C(=CC=C(C=2)S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)O)=C1 ZSIQGXIATSHVLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVROKUYAXPOBPX-UHFFFAOYSA-N 4-(benzenesulfonyl)-2-(4-chlorophenyl)sulfonylphenol Chemical compound OC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 BVROKUYAXPOBPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHKUTKGVDOJDDM-UHFFFAOYSA-N 4-(benzenesulfonyl)-2-(4-ethylphenyl)sulfonylphenol Chemical compound C1=CC(CC)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)=CC=C1O JHKUTKGVDOJDDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQGGHUOGXLCABJ-UHFFFAOYSA-N 4-(benzenesulfonyl)-2-(4-methylphenyl)sulfonylphenol Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)=CC=C1O OQGGHUOGXLCABJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEUBNMWCFHHGJJ-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(3,4-dimethylphenyl)sulfonyl-4-methoxyphenyl]sulfonyl-1,2-dimethylbenzene Chemical compound COC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=C(C)C(C)=CC=2)C=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(C)C(C)=C1 KEUBNMWCFHHGJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWEYTNPAUACTKV-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(3,4-dimethylphenyl)sulfonyl-4-propan-2-yloxyphenyl]sulfonyl-1,2-dimethylbenzene Chemical compound CC(C)OC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=C(C)C(C)=CC=2)C=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(C)C(C)=C1 IWEYTNPAUACTKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZUIWMRBSKQEAD-UHFFFAOYSA-N 5-ethyl-2,4-bis-(4-methylphenyl)sulfonylphenol Chemical compound CCC1=CC(O)=C(S(=O)(=O)C=2C=CC(C)=CC=2)C=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 PZUIWMRBSKQEAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIZBFAWOAKJIEW-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2,4-bis-(4-methylphenyl)sulfonylphenol Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC(S(=O)(=O)C=2C=CC(C)=CC=2)=C(O)C=C1C GIZBFAWOAKJIEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWSKFJUEAFXHKU-UHFFFAOYSA-N C1=CC(Cl)=CC=C1S(=O)(=O)C(C=C1S(=O)(=O)C=2C=CC(Cl)=CC=2)=CC=C1OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1S(=O)(=O)C(C=C1S(=O)(=O)C=2C=CC(Cl)=CC=2)=CC=C1OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 OWSKFJUEAFXHKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDBFNKWFRJOQNP-UHFFFAOYSA-N CC1=C(C(=CC=C1)S(=O)(=O)C2=CC(=C(C=C2C)O)S(=O)(=O)C3=CC=CC(=C3C)C)C Chemical compound CC1=C(C(=CC=C1)S(=O)(=O)C2=CC(=C(C=C2C)O)S(=O)(=O)C3=CC=CC(=C3C)C)C HDBFNKWFRJOQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMUSUXYCLPQMGK-UHFFFAOYSA-N CC1=CC=C(C)C(S(=O)(=O)C=2C=C(C(OS(=O)(=O)C=3C=CC=CC=3)=CC=2)S(=O)(=O)C=2C(=CC=C(C)C=2)C)=C1 Chemical compound CC1=CC=C(C)C(S(=O)(=O)C=2C=C(C(OS(=O)(=O)C=3C=CC=CC=3)=CC=2)S(=O)(=O)C=2C(=CC=C(C)C=2)C)=C1 KMUSUXYCLPQMGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHLOQWMAHOMIEF-UHFFFAOYSA-N CC=1C=C(C=CC1C)S(=O)(=O)C1=C(C=C(C(=C1)S(=O)(=O)C1=CC(=C(C=C1)C)C)C)O Chemical compound CC=1C=C(C=CC1C)S(=O)(=O)C1=C(C=C(C(=C1)S(=O)(=O)C1=CC(=C(C=C1)C)C)C)O LHLOQWMAHOMIEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBEVIDGDZVVQGB-UHFFFAOYSA-N CCC(C=C1)=CC(OS(C2=CC=CC=C2)(=O)=O)=C1S(C1=CC=CC=C1)(=O)=O Chemical compound CCC(C=C1)=CC(OS(C2=CC=CC=C2)(=O)=O)=C1S(C1=CC=CC=C1)(=O)=O XBEVIDGDZVVQGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000004166 Lanolin Substances 0.000 description 1
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N Sulfobutanedioic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)S(O)(=O)=O ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJTHZSGFLWOZKC-UHFFFAOYSA-N [2,4-bis(benzenesulfonyl)-5-methylphenyl] benzoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)C=1C=C(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)C(C)=CC=1OC(=O)C1=CC=CC=C1 WJTHZSGFLWOZKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKKQUGQQOJFCAW-UHFFFAOYSA-N [2,4-bis(benzenesulfonyl)phenyl] 2,5-dimethylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC=C(C)C(S(=O)(=O)OC=2C(=CC(=CC=2)S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1 CKKQUGQQOJFCAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSBSUHYLFREILL-UHFFFAOYSA-N [2,4-bis(benzenesulfonyl)phenyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 ZSBSUHYLFREILL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHUXDZMCTIPYIO-UHFFFAOYSA-N [2,4-bis(benzenesulfonyl)phenyl] 3,4-dimethylbenzenesulfonate Chemical compound C1=C(C)C(C)=CC=C1S(=O)(=O)OC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 BHUXDZMCTIPYIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCNMTBLOEDUXEO-UHFFFAOYSA-N [2,4-bis(benzenesulfonyl)phenyl] 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)OC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 PCNMTBLOEDUXEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNERMBBCXQEACB-UHFFFAOYSA-N [2,4-bis(benzenesulfonyl)phenyl] 4-methylbenzoate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C(=O)OC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 YNERMBBCXQEACB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDPYLPBMLYPCCO-UHFFFAOYSA-N [2,4-bis(benzenesulfonyl)phenyl] acetate Chemical compound CC(=O)OC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 NDPYLPBMLYPCCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVQFBAHYAVSPHP-UHFFFAOYSA-N [2,4-bis(benzenesulfonyl)phenyl] benzenesulfonate Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)OC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 JVQFBAHYAVSPHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQSUSAZIIGBUNC-UHFFFAOYSA-N [2,4-bis(benzenesulfonyl)phenyl] benzoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 FQSUSAZIIGBUNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZUZBFNGBNKBPV-UHFFFAOYSA-N [2,4-bis(benzenesulfonyl)phenyl] octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 CZUZBFNGBNKBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRUJNDFBBHBVBZ-UHFFFAOYSA-N [2,4-bis(benzenesulfonyl)phenyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 ZRUJNDFBBHBVBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUCLCLAXVDXBKV-UHFFFAOYSA-N [2,4-bis-(4-methylphenyl)sulfonylphenyl] 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)OC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC(C)=CC=2)C=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 XUCLCLAXVDXBKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUOAHGAZPHDOSK-UHFFFAOYSA-N [2,4-bis-(4-methylphenyl)sulfonylphenyl] benzoate Chemical compound Cc1ccc(cc1)S(=O)(=O)c1ccc(OC(=O)c2ccccc2)c(c1)S(=O)(=O)c1ccc(C)cc1 AUOAHGAZPHDOSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWUGXFWUKRNMJC-UHFFFAOYSA-N [2,4-bis[(2,5-dimethylphenyl)sulfonyl]phenyl] 2,5-dimethylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC=C(C)C(S(=O)(=O)OC=2C(=CC(=CC=2)S(=O)(=O)C=2C(=CC=C(C)C=2)C)S(=O)(=O)C=2C(=CC=C(C)C=2)C)=C1 UWUGXFWUKRNMJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUZHQMCEICOUPW-UHFFFAOYSA-N [2,4-bis[(2,5-dimethylphenyl)sulfonyl]phenyl] benzoate Chemical compound Cc1ccc(C)c(c1)S(=O)(=O)c1ccc(OC(=O)c2ccccc2)c(c1)S(=O)(=O)c1cc(C)ccc1C PUZHQMCEICOUPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBZLZVDPXCXEIO-UHFFFAOYSA-N [2,4-bis[(3,4-dimethylphenyl)sulfonyl]phenyl] benzoate Chemical compound C1=C(C)C(C)=CC=C1S(=O)(=O)C(C=C1S(=O)(=O)C=2C=C(C)C(C)=CC=2)=CC=C1OC(=O)C1=CC=CC=C1 PBZLZVDPXCXEIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXFRGMALPPXBBP-UHFFFAOYSA-N [4-(benzenesulfonyl)-2-(2,5-dimethylphenyl)sulfonylphenyl] benzenesulfonate Chemical compound CC1=CC=C(C)C(S(=O)(=O)C=2C(=CC=C(C=2)S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)OS(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1 CXFRGMALPPXBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCGTVHIVSMIUGV-UHFFFAOYSA-N [4-(benzenesulfonyl)-2-(4-methylphenyl)sulfonylphenyl] benzenesulfonate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)=CC=C1OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 YCGTVHIVSMIUGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVZKTKTZMQUGJZ-UHFFFAOYSA-N [4-(benzenesulfonyl)-2-(4-methylphenyl)sulfonylphenyl] benzoate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)=CC=C1OC(=O)C1=CC=CC=C1 KVZKTKTZMQUGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- CEGOLXSVJUTHNZ-UHFFFAOYSA-K aluminium tristearate Chemical compound [Al+3].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O CEGOLXSVJUTHNZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229940063655 aluminum stearate Drugs 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 1
- 235000013871 bee wax Nutrition 0.000 description 1
- 239000012166 beeswax Substances 0.000 description 1
- IZJIAOFBVVYSMA-UHFFFAOYSA-N bis(4-methylphenyl) carbonate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1OC(=O)OC1=CC=C(C)C=C1 IZJIAOFBVVYSMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJZGTCYPCWQAJB-UHFFFAOYSA-L calcium stearate Chemical compound [Ca+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O CJZGTCYPCWQAJB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000008116 calcium stearate Substances 0.000 description 1
- 235000013539 calcium stearate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N dodecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCO LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- FWQHNLCNFPYBCA-UHFFFAOYSA-N fluoran Chemical class C12=CC=CC=C2OC2=CC=CC=C2C11OC(=O)C2=CC=CC=C21 FWQHNLCNFPYBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical class C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019388 lanolin Nutrition 0.000 description 1
- 229940039717 lanolin Drugs 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYRFLYHAGKPMFH-UHFFFAOYSA-N octadecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O LYRFLYHAGKPMFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920001495 poly(sodium acrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 description 1
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H sodium hexametaphosphate Chemical compound [Na]OP1(=O)OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])O1 GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 235000019982 sodium hexametaphosphate Nutrition 0.000 description 1
- NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M sodium polyacrylate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)C=C NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003413 spiro compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001577 tetrasodium phosphonato phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高感度でしかも経時の地肌かぶりが少なく、
記録像の保存性とりわけ耐熱性、耐湿性及び耐可塑剤性
に優れた感熱記録体を提供する。 【解決手段】 顕色剤として式（１）のスルホニル化合
物及びその多価金属塩の１種又は２種以上並びにワック
スを含有せしめた感熱記録体。 【化１０】 ［ＸはＨ又は低級アルキル基を表し、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3
はＨ、ハロゲン、ヒドロキシル基、低級アルキル基又は
シクロアルキル基を表し、Ｒ4 ，Ｒ5 ，Ｒ6 はＨ、ハロ
ゲン、低級アルキル基又はシクロアルキル基を表し、Ｒ
7 はＨ又は式（Ａ）を表す。］
記録像の保存性とりわけ耐熱性、耐湿性及び耐可塑剤性
に優れた感熱記録体を提供する。 【解決手段】 顕色剤として式（１）のスルホニル化合
物及びその多価金属塩の１種又は２種以上並びにワック
スを含有せしめた感熱記録体。 【化１０】 ［ＸはＨ又は低級アルキル基を表し、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3
はＨ、ハロゲン、ヒドロキシル基、低級アルキル基又は
シクロアルキル基を表し、Ｒ4 ，Ｒ5 ，Ｒ6 はＨ、ハロ
ゲン、低級アルキル基又はシクロアルキル基を表し、Ｒ
7 はＨ又は式（Ａ）を表す。］
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は感熱記録体に関し、
更に詳しくは、該感熱記録層中に顕色剤として特定のス
ルホニル化合物及びその多価金属塩からなる群から選ば
れる１種又は２種以上を含有せしめ、更にワックスを含
有せしめた場合、高感度でしかも地肌かぶりが少なく、
記録像の保存安定性、とりわけ耐湿性、耐熱性及び耐可
塑剤性に優れた記録特性が得られる感熱記録体に関する
ものである。
更に詳しくは、該感熱記録層中に顕色剤として特定のス
ルホニル化合物及びその多価金属塩からなる群から選ば
れる１種又は２種以上を含有せしめ、更にワックスを含
有せしめた場合、高感度でしかも地肌かぶりが少なく、
記録像の保存安定性、とりわけ耐湿性、耐熱性及び耐可
塑剤性に優れた記録特性が得られる感熱記録体に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来よ
り、電子供与性塩基性染料前駆体と電子受容性顕色剤と
の熱発色反応を利用した感熱記録体はよく知られてい
る。中でも、顕色剤として、２，２−ビス（４−ヒドロ
キシ−フェニル）プロパン及び４−ヒドロキシ−４′−
イソプロポキシ−ジフェニルスルホンはよく知られてい
る（例えば、特公平３−５４６５５号等）。
り、電子供与性塩基性染料前駆体と電子受容性顕色剤と
の熱発色反応を利用した感熱記録体はよく知られてい
る。中でも、顕色剤として、２，２−ビス（４−ヒドロ
キシ−フェニル）プロパン及び４−ヒドロキシ−４′−
イソプロポキシ−ジフェニルスルホンはよく知られてい
る（例えば、特公平３−５４６５５号等）。
【０００３】しかしながら、これらを使用した感熱記録
体は、発色像の保存安定性、特に耐湿性、耐熱性及び耐
可塑剤性について更に改良が求められている。かかる問
題解決のため、本発明者等は、先に顕色剤として一般式
（１）
体は、発色像の保存安定性、特に耐湿性、耐熱性及び耐
可塑剤性について更に改良が求められている。かかる問
題解決のため、本発明者等は、先に顕色剤として一般式
（１）
【０００４】
【化４】 ［一般式（１）において、Ｘは水素原子又は低級アルキ
ル基を表し、Ｒ1 ，Ｒ2及びＲ3 は同一でも異っていて
もよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ
ル基、低級アルキル基又はシクロアルキル基を表し、Ｒ
4 ，Ｒ5 及びＲ6は同一でも異っていてもよく、それぞ
れ水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基又はシクロ
アルキル基を表し、Ｒ7 は水素原子又は
ル基を表し、Ｒ1 ，Ｒ2及びＲ3 は同一でも異っていて
もよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ
ル基、低級アルキル基又はシクロアルキル基を表し、Ｒ
4 ，Ｒ5 及びＲ6は同一でも異っていてもよく、それぞ
れ水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基又はシクロ
アルキル基を表し、Ｒ7 は水素原子又は
【０００５】
【化５】 を表し、ここでＲ4 ，Ｒ5 及びＲ6 は上記の定義の通り
である。］で示されるスルホニル化合物及びその多価金
属塩を見い出し、本化合物に関する特許を出願した。
である。］で示されるスルホニル化合物及びその多価金
属塩を見い出し、本化合物に関する特許を出願した。
【０００６】しかし、本顕色剤の中には粉砕を、極めて
微粒子にしたり、水性顕色剤スラリーを４０℃で長期保
存した場合などに顕色剤が水和する場合がある。このよ
うに水和した顕色剤を用いた場合、得られる感熱記録体
は６０℃に保管した時、地肌かぶりを発生する。本顕色
剤の水和を防止するために本発明者等は鋭意研究を行っ
た結果、一般式（２）
微粒子にしたり、水性顕色剤スラリーを４０℃で長期保
存した場合などに顕色剤が水和する場合がある。このよ
うに水和した顕色剤を用いた場合、得られる感熱記録体
は６０℃に保管した時、地肌かぶりを発生する。本顕色
剤の水和を防止するために本発明者等は鋭意研究を行っ
た結果、一般式（２）
【０００７】
【化６】 ［一般式（２）において、Ｘ，Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ
4 ，Ｒ5 及びＲ6 は一般式（１）におけると同じ意義を
有し、Ｙはアルキル基、アラルキル基、アリル基、シク
ロヘキシル基、アルキルアリール基、アルキルスルホニ
ル基、ベンゼンスルホニル基、アルキルベンゼンスルホ
ニル基、アルキロイル基、ベンゾイル基、アルキルベン
ゾイル基、アクリロイル基、メタアクリロイル基又はグ
リシジル基を表す。］で示されるスルホニル化合物の併
用が有効であることを見い出し、先に、特許を出願し
た。
4 ，Ｒ5 及びＲ6 は一般式（１）におけると同じ意義を
有し、Ｙはアルキル基、アラルキル基、アリル基、シク
ロヘキシル基、アルキルアリール基、アルキルスルホニ
ル基、ベンゼンスルホニル基、アルキルベンゼンスルホ
ニル基、アルキロイル基、ベンゾイル基、アルキルベン
ゾイル基、アクリロイル基、メタアクリロイル基又はグ
リシジル基を表す。］で示されるスルホニル化合物の併
用が有効であることを見い出し、先に、特許を出願し
た。
【０００８】即ち一般式（１）で示される顕色剤が水和
する場合は、一般式（２）で示されるスルホニル化合物
を一般式（１）で示される化合物に含有せしめて顕色剤
として使用すると、顕色剤の水和が防止でき、得られる
感熱記録体の経時の地肌かぶりの発生を防止することが
できる。
する場合は、一般式（２）で示されるスルホニル化合物
を一般式（１）で示される化合物に含有せしめて顕色剤
として使用すると、顕色剤の水和が防止でき、得られる
感熱記録体の経時の地肌かぶりの発生を防止することが
できる。
【０００９】しかし、その後、更に厳しい環境下におか
れても、記録体の経時による地肌かぶりが少ない事が要
求されるようになり、具体的には、試験条件を従来の４
０℃、湿度９０％の１日間及び６０℃、１日間の条件か
ら、５０℃、湿度９０％の１日間及び６０℃、３日間の
条件に厳格化され、この厳格化条件に対応できる記録体
の地肌かぶりの少ない記録体の研究に鋭意努力した。
れても、記録体の経時による地肌かぶりが少ない事が要
求されるようになり、具体的には、試験条件を従来の４
０℃、湿度９０％の１日間及び６０℃、１日間の条件か
ら、５０℃、湿度９０％の１日間及び６０℃、３日間の
条件に厳格化され、この厳格化条件に対応できる記録体
の地肌かぶりの少ない記録体の研究に鋭意努力した。
【００１０】
【課題を解決するための手段】その結果、本発明者等
は、顕色剤として一般式（１）で示される化合物及びそ
の多価金属塩、或いは、一般式（２）で示される化合物
を含有せしめた一般式（１）で示される化合物及びその
多価金属塩からなる群から選ばれる１種又は２種以上を
含有せしめ、更に滑剤としてワックスを用いることによ
り、記録体を５０℃、湿度９０％の１日間及び６０℃、
３日間曝してしても、特徴的に記録体の地肌かぶりが少
なく、記録体は高感度で、かつ、発色像の保存安定性、
特に耐湿性、耐熱性及び耐可塑剤性に優れることを見い
出し、本発明を完成するに至った。
は、顕色剤として一般式（１）で示される化合物及びそ
の多価金属塩、或いは、一般式（２）で示される化合物
を含有せしめた一般式（１）で示される化合物及びその
多価金属塩からなる群から選ばれる１種又は２種以上を
含有せしめ、更に滑剤としてワックスを用いることによ
り、記録体を５０℃、湿度９０％の１日間及び６０℃、
３日間曝してしても、特徴的に記録体の地肌かぶりが少
なく、記録体は高感度で、かつ、発色像の保存安定性、
特に耐湿性、耐熱性及び耐可塑剤性に優れることを見い
出し、本発明を完成するに至った。
【００１１】即ち、本発明は、電子供与性塩基性染料前
駆体と電子受容性顕色剤との熱発色反応を利用した感熱
記録体において、感熱記録層中に顕色剤として一般式
（１）
駆体と電子受容性顕色剤との熱発色反応を利用した感熱
記録体において、感熱記録層中に顕色剤として一般式
（１）
【００１２】
【化７】 ［一般式（１）において、Ｘは水素原子又は低級アルキ
ル基を表し、Ｒ1 ，Ｒ2及びＲ3 は同一でも異っていて
もよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ
ル基、低級アルキル基又はシクロアルキル基を表し、Ｒ
4 ，Ｒ5 及びＲ6は同一でも異っていてもよく、それぞ
れ水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基又はシクロ
アルキル基を表し、Ｒ7 は水素原子又は
ル基を表し、Ｒ1 ，Ｒ2及びＲ3 は同一でも異っていて
もよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ
ル基、低級アルキル基又はシクロアルキル基を表し、Ｒ
4 ，Ｒ5 及びＲ6は同一でも異っていてもよく、それぞ
れ水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基又はシクロ
アルキル基を表し、Ｒ7 は水素原子又は
【００１３】
【化８】 を表し、ここでＲ4 ，Ｒ5 及びＲ6 は上記の定義の通り
である。］で示されるスルホニル化合物及びその多価金
属塩からなる群から選ばれる１種又は２種以上を含有せ
しめ、更に滑剤としワックスを含有せしめることを特徴
とする感熱記録体である。
である。］で示されるスルホニル化合物及びその多価金
属塩からなる群から選ばれる１種又は２種以上を含有せ
しめ、更に滑剤としワックスを含有せしめることを特徴
とする感熱記録体である。
【００１４】また、本発明は、上記感熱記録体におい
て、感熱記録層中に、更に水和防止剤として、一般式
（２）
て、感熱記録層中に、更に水和防止剤として、一般式
（２）
【００１５】
【化９】 ［一般式（２）において、Ｘ，Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ
4 ，Ｒ5 及びＲ6 は請求項１記載の一般式（１）におけ
ると同じ意義を有し、Ｙはアルキル基、アラルキル基、
アリル基、シクロヘキシル基、アルキルアリール基、ア
ルキルスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、アルキル
ベンゼンスルホニル基、アルキロイル基、ベンゾイル
基、アルキルベンゾイル基、アクリロイル基、メタアク
リロイル基又はグリシジル基を表す。］で示されるスル
ホニル化合物を含有せしめた感熱記録体である。
4 ，Ｒ5 及びＲ6 は請求項１記載の一般式（１）におけ
ると同じ意義を有し、Ｙはアルキル基、アラルキル基、
アリル基、シクロヘキシル基、アルキルアリール基、ア
ルキルスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、アルキル
ベンゼンスルホニル基、アルキロイル基、ベンゾイル
基、アルキルベンゾイル基、アクリロイル基、メタアク
リロイル基又はグリシジル基を表す。］で示されるスル
ホニル化合物を含有せしめた感熱記録体である。
【００１６】
【発明の実施の形態】本記録体について更に詳しく説明
する。
する。
【００１７】一般式（１）で示されるスルホニル化合物
の例としては、２，４−ビス（フェニルスルホニル）フ
ェノール、２，４−ビス（４−メチルフェニルスルホニ
ル）フェノール、２，４−ビス（４−エチルフェニルス
ルホニル）フェノール、２，４−ビス（４−イソプロピ
ルフェニルスルホニル）フェノール、２，４−ビス
（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）フェノール、
２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニルスルホニル）
フェノール、２，４−ビス（３，４−ジメチルフェニル
スルホニル）フェノール、２，４−ビス（４−クロロフ
ェニルスルホニル）フェノール、２，４−ビス（フェニ
ルスルホニル）−５−メチルフェノール、２，４−ビス
（４−メチルフェニルスルホニル）−５−メチルフェノ
ール、２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−エチ
ルフェノール、２，４−ビス（４−メチルフェニルスル
ホニル）−５−エチルフェノール、２−（４−メチルフ
ェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）フェ
ノール、２−（４−エチルフェニルスルホニル）−４−
（フェニルスルホニル）フェノール、２−（２，５−ジ
メチルフェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニ
ル）フェノール、２−（２，４−ジメチルフェニルスル
ホニル）−４−（フェニルスルホニル）フェノール、２
−（３，４−ジメチルフェニルスルホニル）−４−（フ
ェニルスルホニル）フェノール、２−（４−クロロフェ
ニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）フェノ
ール、２−（フェニルスルホニル）−４−（４−メチル
フェニルスルホニル）フェノール、２−（フェニルスル
ホニル）−４−（４−エチルフェニルスルホニル）フェ
ノール、２−（フェニルスルホニル）−４−（２，５−
ジメチルフェニルスルホニル）フェノール、２−（フェ
ニルスルホニル）−４−（２，４−ジメチルフェニルス
ルホニル）フェノール、２−（フェニルスルホニル）−
４−（３，４−ジメチルフェニルスルホニル）フェノー
ル、２−（フェニルスルホニル）−４−（４−クロロフ
ェニルスルホニル）フェノール、４，４′−ジヒドロキ
シ−５−（フェニルスルホニル）ジフェニルスルホン、
４，４′−ジヒドロキシ−５，５′−ビス（フェニルス
ルホニル）ジフェニルスルホン、２，４−ビス（２，３
−ジメチルフェニルスルホニル）−５−メチルフェノー
ル、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニルスルホニ
ル）−５−メチルフェノール、２，４−ビス（２，５−
ジメチルフェニルスルホニル）−５−メチルフェノー
ル、２，４−ビス（３，４−ジメチルフェニルスルホニ
ル）−５−メチルフェノール等が挙げられ、これ等は単
独、或いは二種以上混合して使用してもよい。
の例としては、２，４−ビス（フェニルスルホニル）フ
ェノール、２，４−ビス（４−メチルフェニルスルホニ
ル）フェノール、２，４−ビス（４−エチルフェニルス
ルホニル）フェノール、２，４−ビス（４−イソプロピ
ルフェニルスルホニル）フェノール、２，４−ビス
（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）フェノール、
２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニルスルホニル）
フェノール、２，４−ビス（３，４−ジメチルフェニル
スルホニル）フェノール、２，４−ビス（４−クロロフ
ェニルスルホニル）フェノール、２，４−ビス（フェニ
ルスルホニル）−５−メチルフェノール、２，４−ビス
（４−メチルフェニルスルホニル）−５−メチルフェノ
ール、２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−エチ
ルフェノール、２，４−ビス（４−メチルフェニルスル
ホニル）−５−エチルフェノール、２−（４−メチルフ
ェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）フェ
ノール、２−（４−エチルフェニルスルホニル）−４−
（フェニルスルホニル）フェノール、２−（２，５−ジ
メチルフェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニ
ル）フェノール、２−（２，４−ジメチルフェニルスル
ホニル）−４−（フェニルスルホニル）フェノール、２
−（３，４−ジメチルフェニルスルホニル）−４−（フ
ェニルスルホニル）フェノール、２−（４−クロロフェ
ニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）フェノ
ール、２−（フェニルスルホニル）−４−（４−メチル
フェニルスルホニル）フェノール、２−（フェニルスル
ホニル）−４−（４−エチルフェニルスルホニル）フェ
ノール、２−（フェニルスルホニル）−４−（２，５−
ジメチルフェニルスルホニル）フェノール、２−（フェ
ニルスルホニル）−４−（２，４−ジメチルフェニルス
ルホニル）フェノール、２−（フェニルスルホニル）−
４−（３，４−ジメチルフェニルスルホニル）フェノー
ル、２−（フェニルスルホニル）−４−（４−クロロフ
ェニルスルホニル）フェノール、４，４′−ジヒドロキ
シ−５−（フェニルスルホニル）ジフェニルスルホン、
４，４′−ジヒドロキシ−５，５′−ビス（フェニルス
ルホニル）ジフェニルスルホン、２，４−ビス（２，３
−ジメチルフェニルスルホニル）−５−メチルフェノー
ル、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニルスルホニ
ル）−５−メチルフェノール、２，４−ビス（２，５−
ジメチルフェニルスルホニル）−５−メチルフェノー
ル、２，４−ビス（３，４−ジメチルフェニルスルホニ
ル）−５−メチルフェノール等が挙げられ、これ等は単
独、或いは二種以上混合して使用してもよい。
【００１８】尚、上記化合物の多価金属塩において、金
属としては、亜鉛、マグネシウム、カルシウム、ストロ
ンチウム、アルミニウム、鉄、コバルト、ニッケル及び
チタンが好ましく、それらのうち、亜鉛、マグネシウ
ム、カルシウム及びアルミニウムが特に好ましい。
属としては、亜鉛、マグネシウム、カルシウム、ストロ
ンチウム、アルミニウム、鉄、コバルト、ニッケル及び
チタンが好ましく、それらのうち、亜鉛、マグネシウ
ム、カルシウム及びアルミニウムが特に好ましい。
【００１９】一般式（２）で示される化合物の具体的な
例として、以下のような化合物を挙げることができる。
例として、以下のような化合物を挙げることができる。
【００２０】１−メトキシ−２，４−ビス（フェニルス
ルホニル）ベンゼン、１−エトキシ−２，４−ビス（フ
ェニルスルホニル）ベンゼン、１−ｎ−プロポキシ−
２，４−ビス（フェニルスルホニル）ベンゼン、１−ｉ
ｓｏ−プロポキシ−２，４−ビス（フェニルスルホニ
ル）ベンゼン、１−ｎ−ブトキシ−２，４−ビス（フェ
ニルスルホニル）ベンゼン、１−ｓｅｃ−ブトキシ−
２，４−ビス（フェニルスルホニル）ベンゼン、｛２，
４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝ベンジルエ
ーテル、｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニ
ル｝アリルエーテル、｛２，４−ビス（フェニルスルホ
ニル）フェニル｝フェニルエーテル、｛２，４−ビス
（フェニルスルホニル）フェニル｝メタンスルホネー
ト、｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝
ベンゼンスルホネート、｛２，４−ビス（フェニルスル
ホニル）フェニル｝４−メチルベンゼンスルホネート、
｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝２，
４−ジメチルベンゼンスルホネート、｛２，４−ビス
（フェニルスルホニル）フェニル｝２，５−ジメチルベ
ンゼンスルホネート、｛２，４−ビス（フェニルスルホ
ニル）フェニル｝３，４−ジメチルベンゼンスルホネー
ト、｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝
アセテート、１−ステアロイルオキシ−２，４−ビス
（フェニルスルホニル）ベンゼン、｛２，４−ビス（フ
ェニルスルホニル）フェニル｝フェニルカルボキシレー
ト、｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝
４−メチルフェニルカルボキシレート、｛２，４−ビス
（フェニルスルホニル）フェニル｝アクリレート、
｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝メタ
クリレート、１−｛２，４−ビス（フェニルスルホニ
ル）フェノキシ｝−２，３−エポキシプロパン、｛２，
４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝ｎ−ヘキシ
ルエーテル、｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フ
ェニル｝ステアリルエーテル、｛２，４−ビス（フェニ
ルスルホニル）フェニル｝シクロヘキシルエーテル、１
−ｉｓｏ−プロポキシ−２，４−ビス（４−メチルフェ
ニルスルホニル）ベンゼン、１−メトキシ−２，４−ビ
ス（４−メチルフェニルスルホニル）ベンゼン、｛２，
４−ビス（４−メチルフェニルスルホニル）フェニル｝
ベンゼンスルホネート、｛２，４−ビス（４−メチルフ
ェニルスルホニル）フェニル｝４−メチルベンゼンスル
ホネート、｛２，４−ビス（４−メチルフェニルスルホ
ニル）フェニル｝フェニルカルボキシレート、１−メト
キシ−２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニルスルホ
ニル）ベンゼン、｛２，４−ビス（２，５−ジメチルフ
ェニルスルホニル）フェニル｝ベンゼンスルホネート、
｛２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニルスルホニ
ル）フェニル｝２，５−ジメチルベンゼンスルホネー
ト、｛２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニルスルホ
ニル）フェニル｝フェニルカルボキシレート、１−ｉｓ
ｏ−プロポキシ−２，４−ビス（フェニルスルホニル）
−５−メチルベンゼン、１−エトキシ−２，４−ビス
（フェニルスルホニル）−５−メチルベンゼン、｛２，
４−ビス（フェニルスルホニル）−５−メチルフェニ
ル｝ベンゼンスルホネート、｛２，４−ビス（フェニル
スルホニル）−５−メチルフェニル｝フェニルカルボキ
シレート、１−ｉｓｏ−プロポキシ−２，４−ビス（フ
ェニルスルホニル）−５−エチルベンゼン、１−エトキ
シ−２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−エチル
ベンゼン、｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５
−エチルフェニル｝ベンゼンスルホネート、｛１−ｉｓ
ｏ−プロポキシ−２−（４−メチルフェニルスルホニ
ル）−４−フェニルスルホニル｝ベンゼン、｛２−（４
−メチルフェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホ
ニル）フェニル｝アリルエーテル、｛２−（４−メチル
フェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）フ
ェニル｝ベンゼンスルホネート、｛２−（４−メチルフ
ェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）フェ
ニル｝フェニルカルボキシレート、｛１−メトキシ−２
−（４−メチルフェニルスルホニル）−４−フェニルス
ルホニル｝ベンゼン、｛１−ｉｓｏ−プロポキシ−２−
（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）−４−フェニ
ルスルホニル｝ベンゼン、｛２−（２，５−ジメチルフ
ェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）フェ
ニル｝ベンゼンスルホネート、｛２−（２，５−ジメチ
ルフェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）
フェニル｝フェニルカルボキシレート、｛１−メトキシ
−２−（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）−４−
フェニルスルホニル｝ベンゼン、１−ｉｓｏ−プロポキ
シ−２，４−ビス（３，４−ジメチルフェニルスルホニ
ル）ベンゼン、｛２，４−ビス（３，４−ジメチルフェ
ニルスルホニル）フェニル｝アリルエーテル、｛２，４
−ビス（３，４−ジメチルフェニルスルホニル）フェニ
ル｝ベンゼンスルホネート、｛２，４−ビス（３，４−
ジメチルフェニルスルホニル）フェニル｝３，４−ジメ
チルベンゼンスルホネート、｛２，４−ビス（３，４−
ジメチルフェニルスルホニル）フェニル｝フェニルカル
ボキシレート、１−メトキシ−２，４−ビス（３，４−
ジメチルフェニルスルホニル）ベンゼン、１−ｉｓｏ−
プロポキシ−２，４−ビス（４−クロロフェニルスルホ
ニル）ベンゼン、｛２，４−ビス（４−クロロフェニル
スルホニル）フェニル｝ベンゼンスルホネート、｛２，
４−ビス（４−クロロフェニルスルホニル）フェニル｝
４−クロロベンゼンスルホネート。
ルホニル）ベンゼン、１−エトキシ−２，４−ビス（フ
ェニルスルホニル）ベンゼン、１−ｎ−プロポキシ−
２，４−ビス（フェニルスルホニル）ベンゼン、１−ｉ
ｓｏ−プロポキシ−２，４−ビス（フェニルスルホニ
ル）ベンゼン、１−ｎ−ブトキシ−２，４−ビス（フェ
ニルスルホニル）ベンゼン、１−ｓｅｃ−ブトキシ−
２，４−ビス（フェニルスルホニル）ベンゼン、｛２，
４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝ベンジルエ
ーテル、｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニ
ル｝アリルエーテル、｛２，４−ビス（フェニルスルホ
ニル）フェニル｝フェニルエーテル、｛２，４−ビス
（フェニルスルホニル）フェニル｝メタンスルホネー
ト、｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝
ベンゼンスルホネート、｛２，４−ビス（フェニルスル
ホニル）フェニル｝４−メチルベンゼンスルホネート、
｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝２，
４−ジメチルベンゼンスルホネート、｛２，４−ビス
（フェニルスルホニル）フェニル｝２，５−ジメチルベ
ンゼンスルホネート、｛２，４−ビス（フェニルスルホ
ニル）フェニル｝３，４−ジメチルベンゼンスルホネー
ト、｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝
アセテート、１−ステアロイルオキシ−２，４−ビス
（フェニルスルホニル）ベンゼン、｛２，４−ビス（フ
ェニルスルホニル）フェニル｝フェニルカルボキシレー
ト、｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝
４−メチルフェニルカルボキシレート、｛２，４−ビス
（フェニルスルホニル）フェニル｝アクリレート、
｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝メタ
クリレート、１−｛２，４−ビス（フェニルスルホニ
ル）フェノキシ｝−２，３−エポキシプロパン、｛２，
４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝ｎ−ヘキシ
ルエーテル、｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フ
ェニル｝ステアリルエーテル、｛２，４−ビス（フェニ
ルスルホニル）フェニル｝シクロヘキシルエーテル、１
−ｉｓｏ−プロポキシ−２，４−ビス（４−メチルフェ
ニルスルホニル）ベンゼン、１−メトキシ−２，４−ビ
ス（４−メチルフェニルスルホニル）ベンゼン、｛２，
４−ビス（４−メチルフェニルスルホニル）フェニル｝
ベンゼンスルホネート、｛２，４−ビス（４−メチルフ
ェニルスルホニル）フェニル｝４−メチルベンゼンスル
ホネート、｛２，４−ビス（４−メチルフェニルスルホ
ニル）フェニル｝フェニルカルボキシレート、１−メト
キシ−２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニルスルホ
ニル）ベンゼン、｛２，４−ビス（２，５−ジメチルフ
ェニルスルホニル）フェニル｝ベンゼンスルホネート、
｛２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニルスルホニ
ル）フェニル｝２，５−ジメチルベンゼンスルホネー
ト、｛２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニルスルホ
ニル）フェニル｝フェニルカルボキシレート、１−ｉｓ
ｏ−プロポキシ−２，４−ビス（フェニルスルホニル）
−５−メチルベンゼン、１−エトキシ−２，４−ビス
（フェニルスルホニル）−５−メチルベンゼン、｛２，
４−ビス（フェニルスルホニル）−５−メチルフェニ
ル｝ベンゼンスルホネート、｛２，４−ビス（フェニル
スルホニル）−５−メチルフェニル｝フェニルカルボキ
シレート、１−ｉｓｏ−プロポキシ−２，４−ビス（フ
ェニルスルホニル）−５−エチルベンゼン、１−エトキ
シ−２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−エチル
ベンゼン、｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５
−エチルフェニル｝ベンゼンスルホネート、｛１−ｉｓ
ｏ−プロポキシ−２−（４−メチルフェニルスルホニ
ル）−４−フェニルスルホニル｝ベンゼン、｛２−（４
−メチルフェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホ
ニル）フェニル｝アリルエーテル、｛２−（４−メチル
フェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）フ
ェニル｝ベンゼンスルホネート、｛２−（４−メチルフ
ェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）フェ
ニル｝フェニルカルボキシレート、｛１−メトキシ−２
−（４−メチルフェニルスルホニル）−４−フェニルス
ルホニル｝ベンゼン、｛１−ｉｓｏ−プロポキシ−２−
（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）−４−フェニ
ルスルホニル｝ベンゼン、｛２−（２，５−ジメチルフ
ェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）フェ
ニル｝ベンゼンスルホネート、｛２−（２，５−ジメチ
ルフェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）
フェニル｝フェニルカルボキシレート、｛１−メトキシ
−２−（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）−４−
フェニルスルホニル｝ベンゼン、１−ｉｓｏ−プロポキ
シ−２，４−ビス（３，４−ジメチルフェニルスルホニ
ル）ベンゼン、｛２，４−ビス（３，４−ジメチルフェ
ニルスルホニル）フェニル｝アリルエーテル、｛２，４
−ビス（３，４−ジメチルフェニルスルホニル）フェニ
ル｝ベンゼンスルホネート、｛２，４−ビス（３，４−
ジメチルフェニルスルホニル）フェニル｝３，４−ジメ
チルベンゼンスルホネート、｛２，４−ビス（３，４−
ジメチルフェニルスルホニル）フェニル｝フェニルカル
ボキシレート、１−メトキシ−２，４−ビス（３，４−
ジメチルフェニルスルホニル）ベンゼン、１−ｉｓｏ−
プロポキシ−２，４−ビス（４−クロロフェニルスルホ
ニル）ベンゼン、｛２，４−ビス（４−クロロフェニル
スルホニル）フェニル｝ベンゼンスルホネート、｛２，
４−ビス（４−クロロフェニルスルホニル）フェニル｝
４−クロロベンゼンスルホネート。
【００２１】更に、本発明に係わるワックスとは、具体
的な例として、キャンデリラワックス、ライスワック
ス、木ろう、みつろう、ラノリン、モンタンワックス、
カルナバワックス、セレシンワックス、パラフィンワッ
クス、マイクロクリスタリンワックス及び牛脂や椰子油
等の天然ワックス、更にはポリエチレンワックス、モン
タンワックス、カルナバワックス、マイクロクリスタリ
ンワックス及び牛脂や椰子油等の天然ワックス、更には
ポリエチレンワックス、モンタンワックス、カルナバワ
ックス、マイクロクリスタリンワックス等の誘導体並び
にフィシャー・トロプシュワックス等を挙げることがで
きる。
的な例として、キャンデリラワックス、ライスワック
ス、木ろう、みつろう、ラノリン、モンタンワックス、
カルナバワックス、セレシンワックス、パラフィンワッ
クス、マイクロクリスタリンワックス及び牛脂や椰子油
等の天然ワックス、更にはポリエチレンワックス、モン
タンワックス、カルナバワックス、マイクロクリスタリ
ンワックス及び牛脂や椰子油等の天然ワックス、更には
ポリエチレンワックス、モンタンワックス、カルナバワ
ックス、マイクロクリスタリンワックス等の誘導体並び
にフィシャー・トロプシュワックス等を挙げることがで
きる。
【００２２】これ等は、単独或いは混合して使用しても
よい。更には、その効果を損わない範囲内において、他
の一般的に感熱記録体に用いられる滑剤、例えばステア
リン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸ア
ルミニウム等の金属セッケン等を共存せしめてもよい。
よい。更には、その効果を損わない範囲内において、他
の一般的に感熱記録体に用いられる滑剤、例えばステア
リン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸ア
ルミニウム等の金属セッケン等を共存せしめてもよい。
【００２３】顕色剤として使用する一般式（１）の化合
物及びその多価金属塩の総量は、塩基性染料１００重量
部に対し、５０〜６００重量部、好ましくは１００〜４
００重量部である。更に、本顕色剤の水和防止剤として
の一般式（２）で示される化合物の使用量は、使用する
顕色剤１００重量部に対し、０．００１〜２００重量
部、好ましくは０．００２〜１００重量部である。又、
上記したワックスの合計使用量は、塩基性染料１００重
量部に対し、２〜１，０００重量部、好ましくは５〜５
００重量部である。
物及びその多価金属塩の総量は、塩基性染料１００重量
部に対し、５０〜６００重量部、好ましくは１００〜４
００重量部である。更に、本顕色剤の水和防止剤として
の一般式（２）で示される化合物の使用量は、使用する
顕色剤１００重量部に対し、０．００１〜２００重量
部、好ましくは０．００２〜１００重量部である。又、
上記したワックスの合計使用量は、塩基性染料１００重
量部に対し、２〜１，０００重量部、好ましくは５〜５
００重量部である。
【００２４】次に、本発明に使用される塩基性染料、増
感剤、顔料、界面活性剤及び分散剤について述べる。
感剤、顔料、界面活性剤及び分散剤について述べる。
【００２５】塩基性染料としては、トリアリールメタン
系化合物、ジアリールメタン系化合物、ピリジン系化合
物、スピロ系化合物、ローダミン−ラクタム系化合物、
フルオラン系化合物、インドリルフタリド系化合物、フ
ルオレン系化合物等が例示される。中でも、３−Ｎ，Ｎ
−ジブチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラ
ン、３−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ−６−メチル−７−ア
ニリノフルオラン、３−（Ｎ−イソペンチル−Ｎ−エチ
ル）−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−（Ｎ
−シクロヘキシル−Ｎ−メチル）−６−メチル−７−ア
ニリノフルオラン、３−Ｎ，Ｎ−ジエチル−６−クロロ
−７−アニリノフルオラン、クリスタルバイオレットラ
クトン等が代表的なものとして例示される。これらの塩
基性染料は単独で用いても、あるいは発色画像の色調の
調整や多色感熱記録体を得る等の目的で二種以上混合し
ても良い。
系化合物、ジアリールメタン系化合物、ピリジン系化合
物、スピロ系化合物、ローダミン−ラクタム系化合物、
フルオラン系化合物、インドリルフタリド系化合物、フ
ルオレン系化合物等が例示される。中でも、３−Ｎ，Ｎ
−ジブチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラ
ン、３−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ−６−メチル−７−ア
ニリノフルオラン、３−（Ｎ−イソペンチル−Ｎ−エチ
ル）−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−（Ｎ
−シクロヘキシル−Ｎ−メチル）−６−メチル−７−ア
ニリノフルオラン、３−Ｎ，Ｎ−ジエチル−６−クロロ
−７−アニリノフルオラン、クリスタルバイオレットラ
クトン等が代表的なものとして例示される。これらの塩
基性染料は単独で用いても、あるいは発色画像の色調の
調整や多色感熱記録体を得る等の目的で二種以上混合し
ても良い。
【００２６】増感剤としては、含窒素化合物、エステル
化合物、炭化水素化合物、エーテル化合物、スルホン化
合物等が例示される。中でも、β−ナフチルベンジルエ
ーテル、ステアリン酸アミド、４−ベンジルオキシ安息
香酸ベンジルエステル、シュウ酸ジベンジル、シュウ酸
−ジ−Ｐ−メチルベンジル、ビス（４−メチルフェニ
ル）カーボネート、４−ベンジルフェニル、ｍ−タ−フ
ェニル、１，２−ビス（３−メチルフェノキシ）エタ
ン、１，２−ビス（フェノキシ）エタン、ジフェニルス
ルホン、３，３′，４，４′−テトラメチル−ジフェニ
ルエタン等が代表的なものとして例示される。これらの
増感剤は、単独で用いても、あるいは二種以上混合して
もよい。更に、これらの増感剤の使用量は、塩基性染料
１００重量部に対し、５０〜８００重量部好ましくは１
００〜４００重量部である。
化合物、炭化水素化合物、エーテル化合物、スルホン化
合物等が例示される。中でも、β−ナフチルベンジルエ
ーテル、ステアリン酸アミド、４−ベンジルオキシ安息
香酸ベンジルエステル、シュウ酸ジベンジル、シュウ酸
−ジ−Ｐ−メチルベンジル、ビス（４−メチルフェニ
ル）カーボネート、４−ベンジルフェニル、ｍ−タ−フ
ェニル、１，２−ビス（３−メチルフェノキシ）エタ
ン、１，２−ビス（フェノキシ）エタン、ジフェニルス
ルホン、３，３′，４，４′−テトラメチル−ジフェニ
ルエタン等が代表的なものとして例示される。これらの
増感剤は、単独で用いても、あるいは二種以上混合して
もよい。更に、これらの増感剤の使用量は、塩基性染料
１００重量部に対し、５０〜８００重量部好ましくは１
００〜４００重量部である。
【００２７】顔料としては、一般的に感熱記録体に用い
られる顔料、例えばカオリン、シリカ、非晶質シリカ、
焼成カオリン、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、炭酸マグネ
シウム、酸化チタン、硫酸バリウム、合成ケイ酸アルミ
ニウム等の無機系微粉末及びスチレン−メタクリル酸共
重合体、ポリスチレン樹脂、尿素−ホルマリン樹脂等の
有機系樹脂微粉末等と共存せしめてもよい。これら顔料
の使用量は、塩基性染料１００重量部に対し、１０〜
２，０００重量部、好ましくは２０〜１，０００重量部
である。
られる顔料、例えばカオリン、シリカ、非晶質シリカ、
焼成カオリン、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、炭酸マグネ
シウム、酸化チタン、硫酸バリウム、合成ケイ酸アルミ
ニウム等の無機系微粉末及びスチレン−メタクリル酸共
重合体、ポリスチレン樹脂、尿素−ホルマリン樹脂等の
有機系樹脂微粉末等と共存せしめてもよい。これら顔料
の使用量は、塩基性染料１００重量部に対し、１０〜
２，０００重量部、好ましくは２０〜１，０００重量部
である。
【００２８】界面活性剤としては、スルホコハク酸系の
アルカリ金属塩、アルキルベンゼンスルホン酸のアルカ
リ金属塩、ラウリルアルコール硫酸エステルのナトリウ
ム塩等が例示される。分散剤としては、ポリアクリル酸
ソーダ、ポリビニルアルコール（各種の鹸化度、ｐＨ及
び重合度のもの）、カルボキシメチルセルロース、ヒド
ロキシエチルセルロース、ポリアクリルアミド、でんぷ
ん、スチレン−無水マレイン酸共重合体のアンモニウム
塩等が例示される。
アルカリ金属塩、アルキルベンゼンスルホン酸のアルカ
リ金属塩、ラウリルアルコール硫酸エステルのナトリウ
ム塩等が例示される。分散剤としては、ポリアクリル酸
ソーダ、ポリビニルアルコール（各種の鹸化度、ｐＨ及
び重合度のもの）、カルボキシメチルセルロース、ヒド
ロキシエチルセルロース、ポリアクリルアミド、でんぷ
ん、スチレン−無水マレイン酸共重合体のアンモニウム
塩等が例示される。
【００２９】本発明に係わる感熱記録層は公知の方法に
より製造することができ、何ら特殊な方法を採用する必
要はない。例えば、塩基性染料、顕色剤、増感剤及びワ
ックスを、顔料、金属セッケン等と共に界面活性剤、消
泡剤及び分散剤等を含む水性媒体中で、ボールミル、サ
ンドミル等の手段により通常５μｍ以下、好ましくは
１．５μｍ以下の粒径にまで粉砕・分散させて塗液を調
製することができる。次に、その感熱記録層は従来より
公知の技術に従って形成することができ、形成方法は特
に限定されるものではない。例えば、感熱記録層用の塗
液を支持体面上にエアーナイフコーター、ブレーダーコ
ーター、バーコーター、ロッドコーター、グラビアコー
ター、カーテンコーター、ワイヤーバー等の適当な塗布
装置で塗布し、乾燥して記録層を形成することができ
る。塗液の塗布量に関しても特に限定するものではな
く、支持体面に対し、一般に乾燥重量で０．５〜５０ｇ
ｒ／ｍ2、好ましくは１．０〜２０．０ｇｒ／ｍ2 の
範囲である。支持体としては、紙、プラスチックシー
ト、合成紙等が用いられる。又、更に保存性等を高める
目的で、感熱記録層の上に、保護層を設けてもよい。
より製造することができ、何ら特殊な方法を採用する必
要はない。例えば、塩基性染料、顕色剤、増感剤及びワ
ックスを、顔料、金属セッケン等と共に界面活性剤、消
泡剤及び分散剤等を含む水性媒体中で、ボールミル、サ
ンドミル等の手段により通常５μｍ以下、好ましくは
１．５μｍ以下の粒径にまで粉砕・分散させて塗液を調
製することができる。次に、その感熱記録層は従来より
公知の技術に従って形成することができ、形成方法は特
に限定されるものではない。例えば、感熱記録層用の塗
液を支持体面上にエアーナイフコーター、ブレーダーコ
ーター、バーコーター、ロッドコーター、グラビアコー
ター、カーテンコーター、ワイヤーバー等の適当な塗布
装置で塗布し、乾燥して記録層を形成することができ
る。塗液の塗布量に関しても特に限定するものではな
く、支持体面に対し、一般に乾燥重量で０．５〜５０ｇ
ｒ／ｍ2、好ましくは１．０〜２０．０ｇｒ／ｍ2 の
範囲である。支持体としては、紙、プラスチックシー
ト、合成紙等が用いられる。又、更に保存性等を高める
目的で、感熱記録層の上に、保護層を設けてもよい。
【００３０】
【実施例】以下に、本発明を実施例によって説明する。 ［実施例１］ 塩基性染料分散液の調製 ３−Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ−６−メチル−７−アニリ
ノフルオラン２０ｇｒを、濃度５％ポリビニルアルコー
ル（商品名；ＰＶＡ−１１７、クラレ社製）水溶液８０
ｇｒ中でサンドグラインダー（イガラシ機械社製 ＴＳ
Ｇ４Ｈ）を用いて粉砕して、平均粒径０．６μｍの塩基
性染料分散液を調製した。
ノフルオラン２０ｇｒを、濃度５％ポリビニルアルコー
ル（商品名；ＰＶＡ−１１７、クラレ社製）水溶液８０
ｇｒ中でサンドグラインダー（イガラシ機械社製 ＴＳ
Ｇ４Ｈ）を用いて粉砕して、平均粒径０．６μｍの塩基
性染料分散液を調製した。
【００３１】増感剤分散液の調製 １，２−ビス（３−メチルフェノキシ）エタン２０ｇｒ
を、濃度５％ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１１７）
水溶液３０ｇｒ中でサンドグラインダーを用いて粉砕し
て、平均粒径０．６μｍの増感剤分散液を調製した。
を、濃度５％ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１１７）
水溶液３０ｇｒ中でサンドグラインダーを用いて粉砕し
て、平均粒径０．６μｍの増感剤分散液を調製した。
【００３２】顕色剤分散液の調製 ２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）
フェノール２０ｇｒを、濃度５％メチルセルロース（信
越化学工業社製：商品名メトローズ６０ＳＨ−０３）水
溶液３０ｇｒ中でサンドグラインダーを用いて粉砕して
平均粒径１．１μｍの顕色剤分散液を調製した。
フェノール２０ｇｒを、濃度５％メチルセルロース（信
越化学工業社製：商品名メトローズ６０ＳＨ−０３）水
溶液３０ｇｒ中でサンドグラインダーを用いて粉砕して
平均粒径１．１μｍの顕色剤分散液を調製した。
【００３３】顔料分散液の調製 炭酸カルシウム（白石工業社製：商品名ユニバー７０）
３０ｇｒ、水６９ｇｒ及び濃度４０％ヘキサメタリン酸
ソーダ水溶液１．０ｇｒを回転数５，０００ｒｐｍのホ
モジナイザー（特殊機化社製 ＴＫホモディスパーＬ
型）で５分間撹拌して、顔料分散液を調製した。
３０ｇｒ、水６９ｇｒ及び濃度４０％ヘキサメタリン酸
ソーダ水溶液１．０ｇｒを回転数５，０００ｒｐｍのホ
モジナイザー（特殊機化社製 ＴＫホモディスパーＬ
型）で５分間撹拌して、顔料分散液を調製した。
【００３４】滑剤分散液の調製 モンタンワックス（ヘキストジャパン社製：商品名ワッ
クスｋｐ）３０ｇｒに、濃度５％変性ポリビニルアルコ
ール（クラレ社製：商品名ＰＶＡ−２０５）水溶液７０
ｇｒを加え、９４℃で溶融させ、ホモジナイザーにて１
０，０００ＲＰＭで攪拌粉砕し、平均粒径１．０μｍの
滑剤分散液を調製した。
クスｋｐ）３０ｇｒに、濃度５％変性ポリビニルアルコ
ール（クラレ社製：商品名ＰＶＡ−２０５）水溶液７０
ｇｒを加え、９４℃で溶融させ、ホモジナイザーにて１
０，０００ＲＰＭで攪拌粉砕し、平均粒径１．０μｍの
滑剤分散液を調製した。
【００３５】感熱記録層塗布液の調製 上記の塩基性染料分散液３ｇｒ、増感剤分散液３ｇｒ、
顕色剤分散液３ｇｒ、及び顔料分散液７ｇｒ、滑剤とし
て、上記の滑剤分散液２．０ｇｒとパラフィンワックス
エマルジョン濃度３０％のハイドリンＰ（中京油脂社製
の商品名）１．０ｇｒを用い、次に濃度５％ポリビニル
アルコール（ＰＶＡ−１１７）水溶液６ｇ及び水９ｇｒ
を混合して、感熱記録層塗布液を得た。
顕色剤分散液３ｇｒ、及び顔料分散液７ｇｒ、滑剤とし
て、上記の滑剤分散液２．０ｇｒとパラフィンワックス
エマルジョン濃度３０％のハイドリンＰ（中京油脂社製
の商品名）１．０ｇｒを用い、次に濃度５％ポリビニル
アルコール（ＰＶＡ−１１７）水溶液６ｇ及び水９ｇｒ
を混合して、感熱記録層塗布液を得た。
【００３６】感熱記録紙の作製 紙支持体面上に、乾燥後の感熱記録層重量が５ｇｒ／ｍ
2 となるように、ワイヤーバーを用いて感熱記録層塗布
液を塗布し、６０℃のオーブン中で乾燥後、平滑度２０
０秒（ベック法）となるようにキャレンダー処理した。
2 となるように、ワイヤーバーを用いて感熱記録層塗布
液を塗布し、６０℃のオーブン中で乾燥後、平滑度２０
０秒（ベック法）となるようにキャレンダー処理した。
【００３７】［実施例２］実施例１の顕色剤分散液の調
製において、２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニル
スルホニル）フェノール２０ｇｒに代えて、｛２，４−
ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝ベンゼンスルホ
ネートを１．２％含有する２，４−ビス（フェニルスル
ホニル）フェノール２０ｇを用いた以外は実施例１と同
様に操作した。
製において、２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニル
スルホニル）フェノール２０ｇｒに代えて、｛２，４−
ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝ベンゼンスルホ
ネートを１．２％含有する２，４−ビス（フェニルスル
ホニル）フェノール２０ｇを用いた以外は実施例１と同
様に操作した。
【００３８】［実施例３］実施例１の顕色剤分散液の調
製において、２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニル
スルホニル）フェノール２０ｇｒに代えて、｛２，４−
ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝−２，４−ジメ
チルベンゼンスルホネートを５．０％含有する２，４−
ビス（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）フェノー
ル２０ｇｒを用い、更に滑剤分散液の調製において、モ
ンタンワックス（ヘキストワックスｋｐ）３０ｇｒに代
えて、カルナバワックス１号（東洋ペトロライト社製の
商品名）３０ｇｒを用い、更に感熱記録層塗布液の調製
において滑剤として上記の滑剤分散液２．０ｇｒと濃度
３０％ハイドリンＰ１．０ｇｒに代えて、本カルナバワ
ックス分散液３．０ｇｒを用いた以外は実施例１と同様
に操作した。
製において、２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニル
スルホニル）フェノール２０ｇｒに代えて、｛２，４−
ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝−２，４−ジメ
チルベンゼンスルホネートを５．０％含有する２，４−
ビス（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）フェノー
ル２０ｇｒを用い、更に滑剤分散液の調製において、モ
ンタンワックス（ヘキストワックスｋｐ）３０ｇｒに代
えて、カルナバワックス１号（東洋ペトロライト社製の
商品名）３０ｇｒを用い、更に感熱記録層塗布液の調製
において滑剤として上記の滑剤分散液２．０ｇｒと濃度
３０％ハイドリンＰ１．０ｇｒに代えて、本カルナバワ
ックス分散液３．０ｇｒを用いた以外は実施例１と同様
に操作した。
【００３９】［実施例４］実施例１の顕色剤分散液の調
製において、２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニル
スルホニル）フェノール２０ｇｒに代えて、２，４−ビ
ス（フェニルスルホニル）−５−メチルフェノール２０
ｇｒを用い、更に感熱記録層塗布液の調製において滑剤
として実施例１の滑剤分散液２．０ｇｒと濃度３０％ハ
イドリンＰ；１．０ｇｒに代えて、実施例１の滑剤分散
液０．５ｇｒとハイドリンＰ；２．５ｇｒを用いた以外
は実施例１と同様に操作した。
製において、２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニル
スルホニル）フェノール２０ｇｒに代えて、２，４−ビ
ス（フェニルスルホニル）−５−メチルフェノール２０
ｇｒを用い、更に感熱記録層塗布液の調製において滑剤
として実施例１の滑剤分散液２．０ｇｒと濃度３０％ハ
イドリンＰ；１．０ｇｒに代えて、実施例１の滑剤分散
液０．５ｇｒとハイドリンＰ；２．５ｇｒを用いた以外
は実施例１と同様に操作した。
【００４０】［実施例５］実施例１の滑剤分散液の調製
において、モンタンワックス３０ｇｒに代えて、酸化ポ
リエチレンワックス（ヘキストワックス−ＰＥＤ）３０
ｇｒを用い、更に乳化温度を９４℃から加圧下１３０℃
に代えて滑剤分散液を調製し、更に感熱記録層塗布液の
調製において、実施例１の滑剤分散液２．０ｇｒと濃度
３０％ハイドリンＰ１．０ｇｒに代えて、本酸化ポリエ
チレンワックス分散液２．０ｇｒと濃度３０％ハイドリ
ンＰ１．０ｇｒを用いた以外は実施例１と同様に操作し
た。
において、モンタンワックス３０ｇｒに代えて、酸化ポ
リエチレンワックス（ヘキストワックス−ＰＥＤ）３０
ｇｒを用い、更に乳化温度を９４℃から加圧下１３０℃
に代えて滑剤分散液を調製し、更に感熱記録層塗布液の
調製において、実施例１の滑剤分散液２．０ｇｒと濃度
３０％ハイドリンＰ１．０ｇｒに代えて、本酸化ポリエ
チレンワックス分散液２．０ｇｒと濃度３０％ハイドリ
ンＰ１．０ｇｒを用いた以外は実施例１と同様に操作し
た。
【００４１】［比較例１］実施例２の感熱記録層塗布液
の調製で用いた滑剤（濃度３０％モンタンワックス分散
液２．０ｇｒ）に代えて、ステアリン酸亜鉛エマルジョ
ン濃度３０％のハイドリンＺ−７（中京油脂社製の製品
名）２．０ｇｒを用いた以外は実施例２と同様に操作し
た。
の調製で用いた滑剤（濃度３０％モンタンワックス分散
液２．０ｇｒ）に代えて、ステアリン酸亜鉛エマルジョ
ン濃度３０％のハイドリンＺ−７（中京油脂社製の製品
名）２．０ｇｒを用いた以外は実施例２と同様に操作し
た。
【００４２】［比較例２］比較例１の顕色剤分散液の調
製において、２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェ
ノール２０ｇｒに代えて、２，２−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）プロパン２０ｇｒを用いた以外は比較例１
と同様に操作した。
製において、２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェ
ノール２０ｇｒに代えて、２，２−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）プロパン２０ｇｒを用いた以外は比較例１
と同様に操作した。
【００４３】［比較例３］比較例２の感熱記録層塗布液
の調製において、濃度３０％のハイドリンＺ−７；２．
０ｇｒに代えて、実施例１で用いた濃度３０％モンンタ
ンワックス分散液２．０ｇｒを用いた以外は比較例２と
同様に操作した。
の調製において、濃度３０％のハイドリンＺ−７；２．
０ｇｒに代えて、実施例１で用いた濃度３０％モンンタ
ンワックス分散液２．０ｇｒを用いた以外は比較例２と
同様に操作した。
【００４４】次に、実施例１〜６及び比較例１〜３で得
られた感熱記録紙をＦＵＪＩＴＵファクスＦＦ１７００
ＲＸ型機のコピーモード条件で印字テストを行い、又次
の性能比較試験を行った。その結果を表１に示す。
られた感熱記録紙をＦＵＪＩＴＵファクスＦＦ１７００
ＲＸ型機のコピーモード条件で印字テストを行い、又次
の性能比較試験を行った。その結果を表１に示す。
【００４５】性能比較試験 印字濃度 マクベス濃度計を用いて測定した。
【００４６】耐熱性試験 地肌；６０℃で７２時間放置した後の地肌かぶりを下記
の基準で肉眼で観察した。
の基準で肉眼で観察した。
【００４７】 ○：変化なし △：わずか着色 ×：着色 印字；印字紙を６０℃で２４時間放置した後、下記の基
準で示される印字濃度残存率（％）を測定した。
準で示される印字濃度残存率（％）を測定した。
【００４８】印字濃度残存率（％）＝（保存後の印字濃
度／保存前の印字濃度）×１００
度／保存前の印字濃度）×１００
【００４９】耐湿試験 地肌；５０℃、湿度９０％で２４時間放置した後の地肌
かぶりを、耐熱性地肌かぶり試験の基準に準じて表わし
た。
かぶりを、耐熱性地肌かぶり試験の基準に準じて表わし
た。
【００５０】印字；印字紙を４０℃、湿度９０％で２４
時間放置した後、印字濃度残存率を耐熱性印字濃度残存
率（％）に準じ表わした。
時間放置した後、印字濃度残存率を耐熱性印字濃度残存
率（％）に準じ表わした。
【００５１】耐可塑剤試験 ガラスビンの外周に印字紙を巻きつけ、その上にハイラ
ップＶ−４５０（三井東圧化学社製の商品名）を３重に
巻きつけ、４０℃で２時間放置した後、印字濃度残存率
を耐熱性印字濃度残存率（％）に準じ表わした。
ップＶ−４５０（三井東圧化学社製の商品名）を３重に
巻きつけ、４０℃で２時間放置した後、印字濃度残存率
を耐熱性印字濃度残存率（％）に準じ表わした。
【００５２】
【表１】 以上のように、本発明に係わる感熱記録体は、発色性に
優れ、且つ経時の地肌かぶりが少なく、記録像の保存性
とりわけ耐熱性、耐湿性及び耐可塑剤性に優れているこ
とがわかる。
優れ、且つ経時の地肌かぶりが少なく、記録像の保存性
とりわけ耐熱性、耐湿性及び耐可塑剤性に優れているこ
とがわかる。
【００５３】
【発明の効果】本発明により高感度で、しかも経時の地
肌かぶりが少なく、記録像の保存性とりわけ耐熱性、耐
湿性及び耐可塑剤性に優れた感熱記録体が提供される。
肌かぶりが少なく、記録像の保存性とりわけ耐熱性、耐
湿性及び耐可塑剤性に優れた感熱記録体が提供される。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成９年２月２６日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３４】滑剤分散液の調製 モンタンワックス（ヘキストジャパン社製：商品名ワッ
クスＫＰ）３０ｇｒに、濃度５％変性ポリビニルアルコ
ール（クラレ社製：商品名ＰＶＡ−２０５）水溶液７０
ｇｒを加え、９４℃で溶融させ、ホモジナイザーにて１
０，０００ＲＰＭで攪拌粉砕し、平均粒径１．０μｍの
滑剤分散液を調製した。
クスＫＰ）３０ｇｒに、濃度５％変性ポリビニルアルコ
ール（クラレ社製：商品名ＰＶＡ−２０５）水溶液７０
ｇｒを加え、９４℃で溶融させ、ホモジナイザーにて１
０，０００ＲＰＭで攪拌粉砕し、平均粒径１．０μｍの
滑剤分散液を調製した。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３５】感熱記録層塗布液の調製 上記の塩基性染料分散液３ｇｒ、増感剤分散液３ｇｒ、
顕色剤分散液３ｇｒ、及び顔料分散液７ｇｒ、滑剤とし
て、上記の滑剤分散液２．０ｇｒとパラフィンワックス
エマルジョン濃度３０％のハイドリンＰ−７（中京油脂
社製の商品名）１．０ｇｒを用い、次に濃度５％ポリビ
ニルアルコール（ＰＶＡ−１１７）水溶液６ｇ及び水９
ｇｒを混合して、感熱記録層塗布液を得た。
顕色剤分散液３ｇｒ、及び顔料分散液７ｇｒ、滑剤とし
て、上記の滑剤分散液２．０ｇｒとパラフィンワックス
エマルジョン濃度３０％のハイドリンＰ−７（中京油脂
社製の商品名）１．０ｇｒを用い、次に濃度５％ポリビ
ニルアルコール（ＰＶＡ−１１７）水溶液６ｇ及び水９
ｇｒを混合して、感熱記録層塗布液を得た。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３８】［実施例３］実施例１の顕色剤分散液の調
製において、２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニル
スルホニル）フェノール２０ｇｒに代えて、｛２，４−
ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝−２，４−ジメ
チルベンゼンスルホネートを５．０％含有する２，４−
ビス（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）フェノー
ル２０ｇｒを用い、更に滑剤分散液の調製において、モ
ンタンワックス（ヘキストワックスｋｐ）３０ｇｒに代
えて、カルナバワックス１号（東洋ペトロライト社製の
商品名）３０ｇｒを用い、更に感熱記録層塗布液の調製
において滑剤として上記の滑剤分散液２．０ｇｒと濃度
３０％ハイドリンＰ−７；１．０ｇｒに代えて、本カル
ナバワックス分散液３．０ｇｒを用いた以外は実施例１
と同様に操作した。
製において、２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニル
スルホニル）フェノール２０ｇｒに代えて、｛２，４−
ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝−２，４−ジメ
チルベンゼンスルホネートを５．０％含有する２，４−
ビス（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）フェノー
ル２０ｇｒを用い、更に滑剤分散液の調製において、モ
ンタンワックス（ヘキストワックスｋｐ）３０ｇｒに代
えて、カルナバワックス１号（東洋ペトロライト社製の
商品名）３０ｇｒを用い、更に感熱記録層塗布液の調製
において滑剤として上記の滑剤分散液２．０ｇｒと濃度
３０％ハイドリンＰ−７；１．０ｇｒに代えて、本カル
ナバワックス分散液３．０ｇｒを用いた以外は実施例１
と同様に操作した。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３９】［実施例４］実施例１の顕色剤分散液の調
製において、２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニル
スルホニル）フェノール２０ｇｒに代えて、２，４−ビ
ス（フェニルスルホニル）−５−メチルフェノール２０
ｇｒを用い、更に感熱記録層塗布液の調製において滑剤
として実施例１の滑剤分散液２．０ｇｒと濃度３０％ハ
イドリンＰ−７；１．０ｇｒに代えて、実施例１の滑剤
分散液０．５ｇｒとハイドリンＰ−７；２．５ｇｒを用
いた以外は実施例１と同様に操作した。
製において、２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニル
スルホニル）フェノール２０ｇｒに代えて、２，４−ビ
ス（フェニルスルホニル）−５−メチルフェノール２０
ｇｒを用い、更に感熱記録層塗布液の調製において滑剤
として実施例１の滑剤分散液２．０ｇｒと濃度３０％ハ
イドリンＰ−７；１．０ｇｒに代えて、実施例１の滑剤
分散液０．５ｇｒとハイドリンＰ−７；２．５ｇｒを用
いた以外は実施例１と同様に操作した。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４０】［実施例５］実施例１の滑剤分散液の調製
において、モンタンワックス３０ｇｒに代えて、酸化ポ
リエチレンワックス（ヘキストワックス−ＰＥＤ）３０
ｇｒを用い、更に乳化温度を９４℃から加圧下１３０℃
に代えて滑剤分散液を調製し、更に感熱記録層塗布液の
調製において、実施例１の滑剤分散液２．０ｇｒと濃度
３０％ハイドリンＰ−７；１．０ｇｒに代えて、本酸化
ポリエチレンワックス分散液２．０ｇｒと濃度３０％ハ
イドリンＰ−７；１．０ｇｒを用いた以外は実施例１と
同様に操作した。
において、モンタンワックス３０ｇｒに代えて、酸化ポ
リエチレンワックス（ヘキストワックス−ＰＥＤ）３０
ｇｒを用い、更に乳化温度を９４℃から加圧下１３０℃
に代えて滑剤分散液を調製し、更に感熱記録層塗布液の
調製において、実施例１の滑剤分散液２．０ｇｒと濃度
３０％ハイドリンＰ−７；１．０ｇｒに代えて、本酸化
ポリエチレンワックス分散液２．０ｇｒと濃度３０％ハ
イドリンＰ−７；１．０ｇｒを用いた以外は実施例１と
同様に操作した。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４１】［比較例１］実施例２の感熱記録層塗布液
の調製で用いた滑剤（濃度３０％モンタンワックス分散
液２．０ｇｒ）に代えて、ステアリン酸亜鉛分散体濃度
３０％のハイドリンＺ−７−３０（中京油脂社製の製品
名）２．０ｇｒを用いた以外は実施例２と同様に操作し
た。
の調製で用いた滑剤（濃度３０％モンタンワックス分散
液２．０ｇｒ）に代えて、ステアリン酸亜鉛分散体濃度
３０％のハイドリンＺ−７−３０（中京油脂社製の製品
名）２．０ｇｒを用いた以外は実施例２と同様に操作し
た。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４３】［比較例３］比較例２の感熱記録層塗布液
の調製において、濃度３０％のハイドリンＺ−７−３
０；２．０ｇｒに代えて、実施例１で用いた濃度３０％
モンンタンワックス分散液２．０ｇｒを用いた以外は比
較例２と同様に操作した。
の調製において、濃度３０％のハイドリンＺ−７−３
０；２．０ｇｒに代えて、実施例１で用いた濃度３０％
モンンタンワックス分散液２．０ｇｒを用いた以外は比
較例２と同様に操作した。
Claims (3)
- 【請求項１】 電子供与性塩基性染料前駆体と電子受容
性顕色剤との熱発色反応を利用した感熱記録体におい
て、感熱記録層中に顕色剤として一般式（１） 【化１】 ［一般式（１）において、Ｘは水素原子又は低級アルキ
ル基を表し、Ｒ1 ，Ｒ2及びＲ3 は同一でも異っていて
もよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ
ル基、低級アルキル基又はシクロアルキル基を表し、Ｒ
4 ，Ｒ5 及びＲ6は同一でも異っていてもよく、それぞ
れ水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基又はシクロ
アルキル基を表し、Ｒ7 は水素原子又は 【化２】 を表し、ここでＲ4 ，Ｒ5 及びＲ6 は上記の定義の通り
である。］で示されるスルホニル化合物及びその多価金
属塩からなる群から選ばれる１種又は２種以上を含有せ
しめ、更にワックスを含有せしめることを特徴とする感
熱記録体。 - 【請求項２】 感熱記録層中に、更に水和防止剤とし
て、一般式（２） 【化３】 ［一般式（２）において、Ｘ，Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ
4 ，Ｒ5 及びＲ6 は請求項１記載の一般式（１）におけ
ると同じ意義を有し、Ｙはアルキル基、アラルキル基、
アリル基、シクロヘキシル基、アルキルアリール基、ア
ルキルスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、アルキル
ベンゼンスルホニル基、アルキロイル基、ベンゾイル
基、アルキルベンゾイル基、アクリロイル基、メタアク
リロイル基又はグリシジル基を表す。］で示されるスル
ホニル化合物を含有せしめる請求項１記載の感熱記録
体。 - 【請求項３】 前記ワックスが、キャンデリラワック
ス、ライスワックス、カルナバワックス、モンタンワッ
クス、セレシンワックス、パラフィンワックス、フィシ
ャー・トロプシュワックス、モンタンワックス誘導体及
びポリエチレンワックス誘導体からなる群から選ばれる
１種又は２種以上である請求項１又は２記載の感熱記録
体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9024630A JPH10217614A (ja) | 1997-02-07 | 1997-02-07 | 感熱記録体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9024630A JPH10217614A (ja) | 1997-02-07 | 1997-02-07 | 感熱記録体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10217614A true JPH10217614A (ja) | 1998-08-18 |
Family
ID=12143468
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9024630A Pending JPH10217614A (ja) | 1997-02-07 | 1997-02-07 | 感熱記録体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10217614A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7160840B2 (en) | 2001-06-28 | 2007-01-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Thermal recording material |
-
1997
- 1997-02-07 JP JP9024630A patent/JPH10217614A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7160840B2 (en) | 2001-06-28 | 2007-01-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Thermal recording material |
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