JPH1022249A

JPH1022249A - 電解イオン水洗浄装置

Info

Publication number: JPH1022249A
Application number: JP8170988A
Authority: JP
Inventors: Tsugio Nakamura; 次雄中村; Yasumasa Shima; 泰正志摩; Masashi Nakayama; 正志中山
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1996-07-01
Filing date: 1996-07-01
Publication date: 1998-01-23
Also published as: KR100257280B1; KR980012046A

Abstract

(57)【要約】【課題】装置全体が小さく、少量の電解液で基板の洗
浄が行えるとともに、洗浄むらの発生が少なく、洗浄液
の劣化も少なく、さらに洗浄効率のよい電解イオン水洗
浄方法および装置を提供する。【解決手段】陰極側バッファタンク１および陽極側バ
ッファタンク２に貯留された電解液ＥＷをそれぞれ電解
槽３の陰極側槽室３Ｎおよび陽極側槽室３Ｐにおいて電
気分解し、生成された陰イオン水ＮＷを洗浄ユニット４
において単管ノズル４１からその下方において順次搬送
される基板Ｗに噴射して連続枚葉式に洗浄し、洗浄処理
の使用後の陰イオン水ＮＷを回収槽４４で回収して陰極
側バッファタンク１に帰還させ、再利用する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、少量の電解質を
含んだ純水（以下「電解液」という）を電気分解して陽
イオン水と陰イオン水とを生成し、前記陽イオン水と前
記陰イオン水とのうちの一方を洗浄液とし、他方を非洗
浄液としつつ、前記洗浄液を使用して被処理基板の洗浄
処理を行う装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置用ガラス基板や半導体ウエ
ハ等（以下「基板」という）の製造工程において、基板
上のパーティクル等を除去する必要がある。こういった
基板洗浄の方法の一つとして電解イオン水によって基板
を洗浄する方法がある。この電解イオン水による洗浄の
うち、たとえば、液晶表示用ガラス基板の洗浄では、電
解液を電気分解して生成される陰イオン（ＯＨ^-）水に
基板を浸漬させることによって、基板の洗浄を行う。こ
のような基板の洗浄を行う基板洗浄装置としては図９に
示すようなものが代表的である。

【０００３】すなわち、電解槽１０１には直流電源１０
２に接続された陽極１０３および陰極１０４が設けられ
ており、両極の間に挟まれるようにイオン隔膜１０５が
設けられていることによって、電解槽１０１は陽極側槽
室１０１Ｐと陰極側槽室１０１Ｎとに仕切られている。
そしてその電解槽１０１に電解液を注入し、蓄えられた
電解液に陽極１０３および陰極１０４によって適当な電
圧を印加することによって電解液を電気分解する。

【０００４】このような電気分解を行うことによって陰
極１０４側にＨ₂が発生し、それに伴って電解槽１０１
内の陰極側槽室１０１Ｎ内には陰イオンを多量に含んだ
陰イオン水ＮＷが生成される。

【０００５】そして、この陰極側槽室１０１Ｎ内に生成
された陰イオン水ＮＷ内に複数の基板１１０をキャリア
等に収容して一度に浸漬するなどのバッチ方式によって
基板の洗浄を行っている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
な電解イオン水による基板の洗浄においては、電解槽１
０１の陰極側槽室１０１Ｎ内に生成された陰イオン水Ｎ
Ｗ内に複数の基板１１０をカセット等に収容して一度に
浸漬して洗浄処理を行うために大きな電解槽１０１が必
要となり、それに伴って装置全体が大きくなっていた。

【０００７】また、それにより基板１１０の洗浄処理を
行うための電解液が多量に必要となっていた。

【０００８】また、基板１１０を浸漬させる際の陰極１
０４の近傍の陰イオン水ＮＷと陰極１０４から離れた位
置での陰イオン水ＮＷには、陰極１０４の近傍では陰イ
オンの濃度が高く、逆に陰極１０４から離れた位置では
陰イオンの濃度が低いといった陰イオン水ＮＷの濃度差
が生じ易く、それに伴って基板の洗浄度合いに差が生じ
て洗浄むらが生じ易いことに加えて、陰極１０４付近の
陰イオン濃度が高くなってくると陰イオンの生成効率が
減退するといった問題が生じていた。

【０００９】また、基板１１０を陰極側槽室１０１Ｎに
浸漬させるため、陰極１０４の近傍の電気分解直後の陰
イオン水ＮＷを基板１１０全体に供給できず、基板１１
０の陰極１０４から離れた側の陰イオン水ＮＷは劣化し
てしまっていた。

【００１０】さらに、電解液およびそれにより生成され
た陰イオン水ＮＷの温度は室温より高い温度が好ましい
が従来は室温であるため、洗浄効率が悪かった。

【００１１】この発明は、従来技術における上述の問題
の克服を意図しており、装置全体が小さく、少量の電解
液で基板の洗浄が行える電解イオン水洗浄装置を提供す
ることを第１の目的とする。

【００１２】また、洗浄むらの発生が少なく、洗浄液の
劣化も少ない電解イオン水洗浄装置を提供することを第
２の目的とする。

【００１３】さらに、洗浄液の生成効率や洗浄効率のよ
い電解イオン水洗浄装置を提供することを第３の目的と
する。

【００１４】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、この発明の請求項１の装置は、電解液を電気分解し
て陽イオン水と陰イオン水とを生成し、前記陽イオン水
と前記陰イオン水とのうちの一方を洗浄液とし、他方を
非洗浄液としつつ、前記洗浄液を使用して被処理基板の
洗浄処理を行う装置であって、前記電解液を貯留する第
１と第２のバッファタンクと、前記電解液を前記第１と
第２のバッファタンクのそれぞれから取り出して電気分
解し、それによって前記洗浄液と前記非洗浄液とをそれ
ぞれ生成する電解漕と、前記洗浄液をノズルから噴射し
て被処理基板の洗浄を行う洗浄処理部と、前記洗浄に使
用した後の前記洗浄液を収集して前記第１のバッファタ
ンクに戻す洗浄液帰還経路と、前記非洗浄液を前記電解
漕から前記第２のバッファタンクに戻す非洗浄液帰還経
路と、を備える。

【００１５】また、請求項２の装置は請求項１の装置に
おいて、前記第１と第２のバッファタンクのうち前記第
１のバッファタンクのみに取り付けられて、前記第１の
バッファタンクに貯留している電解液のみを室温以上の
所定の温度に維持する温度調整手段、をさらに備える。

【００１６】また、請求項３の装置は請求項１または請
求項２の装置において、前記第１のバッファタンクから
前記電解漕に供給する電解液の単位時間あたりの供給量
よりも、前記第２のバッファタンクから前記電解漕に供
給する電解液の単位時間あたりの供給量を少なくしたこ
とを特徴とする。

【００１７】さらに、請求項４の装置は請求項１ないし
請求項３のいずれかに記載の装置において、(a) 前記第
１および前記第２のバッファタンクのタンク内面、(b)
前記電解漕の漕内面、および(c) 前記第１のバッファタ
ンクから前記電解漕を介して前記ノズルに至るまでの洗
浄液供給経路と、前記第２のバッファタンクから前記電
解漕を介して前記第２のバッファタンクに戻るまでの非
洗浄液循環経路とのそれぞれの経路内面、のそれぞれ
が、テフロン，ポリビニルクロリド，ポリプロピレンお
よびポリフェニレンサルファイドから選択された材料で
形成されている。

【００１８】

【発明の実施の形態】

【００１９】

【１．第１の実施の形態における機構的構成と装置配
列】図１は本発明の第１の実施の形態にかかる電解イオ
ン水洗浄装置を示す図である。この図１では床面に平行
な水平面をＸ−Ｙ面とし、鉛直方向をＺ方向とする３次
元座標系Ｘ−Ｙ−Ｚが定義されている。

【００２０】この電解イオン水洗浄装置は被処理基板の
１例として、液晶表示装置用ガラス基板（以下、この実
施の形態の説明中では「基板」という）の製造工程にお
いて電解槽によって生成された陰イオン水を洗浄液とし
て用いて基板を連続枚葉式に洗浄する装置であって、主
に陰極側バッファタンク１、陽極側バッファタンク２、
電解槽３、洗浄ユニット４から形成されている。

【００２１】陰極側バッファタンク１には、ごく低濃度
の塩化アンモニウム水溶液である電解液ＥＷをその内部
に貯留するタンク１０を備えている。そして、タンク１
０の内壁にヒータ１３および温度センサ１２が配置され
るとともに、タンク１０の外部にはヒータ１３および温
度センサ１２のそれぞれに接続された温度制御部１１が
設けられ、さらに、タンク１０の内側には配管６ａが設
けられている。

【００２２】そして、配管６ａはポンプ５ａを介して電
解槽３の陰極側槽室３Ｎに接続されている。

【００２３】また、陽極側バッファタンク２も陰極側バ
ッファタンク１と同様に内部に電解液ＥＷを貯留するタ
ンク２０とその内部に設けられた配管６ｂを有してお
り、配管６ｂはポンプ５ｂを介して電解槽３の陽極側槽
室３Ｐに接続されている。

【００２４】電解槽３はイオン隔膜３４によって陽極側
槽室３Ｐと陰極側槽室３Ｎとに二分されている。さらに
電解槽３には直流電源３１の正負両出力端子に接続され
たそれぞれ陽極３２および陰極３３が電解槽３の陽極側
槽室３Ｐおよび陰極側槽室３Ｎのそれぞれの内部に配置
されている。

【００２５】電解槽３の陰極側槽室３Ｎには配管６ｃの
一端が設置されており、さらに配管６ｃは伝導度計７お
よびポンプ５ｃを介して洗浄ユニット４内の配管６ｄに
連結されている。

【００２６】また、洗浄ユニット４にはＸ方向の両側面
にそれぞれ開孔４０ｈ，４０ｉが設けられた筐体４０の
内部には、配管６ｄに接続されるとともに複数の単管ノ
ズル４１を備えたノズル部４２ａ〜４２ｅ（図２参照）
が設けられている。

【００２７】そして、ノズル部４２ａ〜４２ｅの下方に
は複数の搬送ローラ４３が設けられており、さらに複数
の搬送ローラ４３の下方には陰イオン水ＮＷを回収する
回収槽４４が設けられている。

【００２８】さらに、回収槽４４には配管６ｅの一端が
接続されており、この配管６ｅは筐体４０の下面を貫通
して洗浄ユニット４の外部に伸びている。そして配管６
ｅの他端は陰極側バッファタンク１の上方近傍に支持さ
れている。

【００２９】要部についてさらに詳細に説明する。

【００３０】この第１の実施の形態の電解イオン水洗浄
装置では、電解槽３とは別に電気分解によって生成され
る陰イオン水ＮＷの基になる電解液ＥＷを貯留する陰極
側バッファタンク１と陽極側バッファタンク２を備えて
いる。この陰極側バッファタンク１および陽極側バッフ
ァタンク２は前者より後者の方が小さくなっているとと
もに、電解槽３は電気分解に必用な少量の電解液ＥＷが
貯留できるだけの小容量の筐体である。

【００３１】電解槽３の中央にはイオン隔膜３４が、電
解槽３をほぼ等分するように設けられており、それによ
って電解槽３は陽極側槽室３Ｐおよび陰極側槽室３Ｎに
分けられている。

【００３２】そして、電解槽３の陽極側槽室３Ｐおよび
陰極側槽室３Ｎは、それぞれ、配管６ｂ，６ｆおよび配
管６ａ，６ｃが接続されている以外は密閉されており、
それぞれの内部において貯留される電解液ＥＷに完全に
浸漬される高さにそれぞれ陽極３２および陰極３３が配
置されている。また、陽極３２および陰極３３は電解槽
３の外部に設けられた直流電源３１のそれぞれ正および
負の出力端子に接続されている。そして陽極３２、陰極
３３がそれぞれ陰極側バッファタンク１および陽極側バ
ッファタンク２から供給された電解液ＥＷに浸漬され
て、直流電源３１によって陽極３２および陰極３３間に
直流電流が導通されることによって電解液ＥＷは以下の
ように電気分解される。

【００３３】すなわち、陰極３３側にＨ₂が発生し陰イ
オン（ＯＨ^-）が陰極側槽室３Ｎ内の電解液ＥＷ内に生
成される。ところが、そうして生成された陰イオンはイ
オン隔膜３４のために陽極側槽室３Ｐに至ることがない
ため陰極側槽室３Ｎに陰イオンの濃度が高くなった陰イ
オン水ＮＷが生成される。

【００３４】また、配管６ｆおよび６ｃもその一端が電
解槽３に貯留される電解液ＥＷに浸漬する高さにおいて
それぞれ電解槽３の陽極側槽室３Ｐおよび陰極側槽室３
Ｎ内に配置されているとともに、さらに、配管６ｃは陰
極３３の近傍に位置するように設けられている。

【００３５】洗浄ユニット４はＸ方向の両側面に開孔４
０ｈ，４０ｉが設けられた筐体４０に外周を覆われてお
り、その筐体４０の内部上方に、電解槽３の陰極側槽室
３Ｎからの陰イオン水ＮＷを送給する配管６ｄがその長
手方向がＸ軸の正負方向に一致するように配置され、そ
れに対してその長手方向がＹ方向である配管の下面に複
数の単管ノズル４１を備えたノズル部４２ａ〜４２ｅが
接続され、筐体４０内部上面に設置されている。そして
そのノズル部４２ａ〜４２ｅの下方にはその回転軸をＹ
軸の正負方向にもつ複数の搬送ローラ４３がその回転軸
を中心に回転自在に配置されている。さらに、搬送ロー
ラ４３の下方にはノズル部４２ａ〜４２ｅの範囲より広
い大きさで、上面が解放された受け皿状の回収槽４４が
設けられ、さらにこの回収槽４４には開孔４４ｈを通じ
て接続され下方に伸びて筐体４０を貫通する配管６ｅが
設けられている。

【００３６】そして、この洗浄ユニット４は他の処理部
から搬送されてきた基板Ｗが開孔４０ｈから搬入され、
複数の搬送ローラ４３の回転によってＸ方向に搬送され
ながら、上方のノズル部４２ａ〜４２ｅから噴射された
陰イオン水ＮＷによって洗浄された後に開孔４０ｉから
搬出され他の処理部に搬送されるという処理を基板Ｗに
施すものである。

【００３７】図２はノズル部４２ａ〜４２ｅの配置を示
す図であり、ノズル部４２ａ〜４２ｅを下方から見た図
である。この図２において基板Ｗは矢符Ａ３の方向すな
わちＸの正方向に搬送されていく。

【００３８】ノズル部４２ａ〜４２ｅの洗浄ユニット４
内での配置は以下のようである。

【００３９】その長手方向がＸ軸の正負方向に一致する
配管６ｄにノズル部４２ａ〜４２ｅがＸ−Ｙ面内におい
て垂直にそれぞれ異なる間隔を持って接続され、さらに
ノズル部４２ａ〜４２ｅはＹ軸の正負方向に伸びてい
る。

【００４０】より詳しくはノズル部４２ａ〜４２ｅの互
いに隣接するそれぞれの間隔Ｄ１〜Ｄ４はＤ１よりＤ
２、Ｄ２よりＤ３、Ｄ３よりＤ４とＸ軸の正方向に次第
に大きくなっている。すなわちノズル部４２ａ〜４２ｅ
の間隔Ｄ１〜Ｄ４は基板Ｗの搬送方向の上流側より下流
側が大きくなっている。

【００４１】また、ノズル部４２ａ〜４２ｅのそれぞれ
の下面には多数の単管ノズル４１が下方に向けて設けら
れている。図３はこのノズル部４２ａ〜４２ｅおよびそ
れに設けられた単管ノズル４１の断面図である。単管ノ
ズル４１は層流を生成する層流生成ノズルであって、そ
れぞれ円筒状でありその端部は基板面近傍に位置してい
る。

【００４２】配管６ｄから供給された陰イオン水ＮＷは
各ノズル部４２ａ〜４２ｅに振り分けられ、各単管ノズ
ル４１の開孔４１ｈｏから下方に噴射される。その際に
単管ノズル４１から噴射された陰イオン水ＮＷが下方で
搬送される基板Ｗ上面で層流をなして、基板Ｗ上での陰
イオン水ＮＷの表面積が可能な限り小さくなるように開
孔４１ｈｏの内径および単管ノズル４１の下端部と基板
Ｗ上面との距離ＦＤが調節されている。

【００４３】このような構成によって、配管６ｄから供
給された陰イオン水ＮＷは各ノズル部４２ａ〜４２ｅに
振り分けられ、各単管ノズル４１の開孔４１ｈｏから下
方に噴射され、その下方において複数の搬送ローラ４３
によって搬送される基板Ｗを洗浄する。

【００４４】

【２．第１の実施の形態における処理および特徴】以下
において、この実施の形態の電解イオン水洗浄装置によ
る基板洗浄処理手順について説明する。

【００４５】まず、陰極側バッファタンク１内に貯留さ
れた電解液ＥＷは配管６ａを介してポンプ５ａによって
電解槽３の陰極側槽室３Ｎに送給される。

【００４６】なお、陰極側バッファタンク１の電解液Ｅ
Ｗは、タンク１０の内壁に設けられた温度センサ１２に
よるその温度を示す信号がタンク１０の外部に設けられ
た温度制御部１１に送られ、そこで予め設定された温度
より電解液ＥＷの温度が低いかどうかが判定される。そ
して、電解液ＥＷの温度が設定された温度より低い場合
には温度制御部１１はヒータ１３を作動させて電解液Ｅ
Ｗを加熱し、設定温度になれば加熱を停止するといった
温度制御を行い、電解液ＥＷを基板Ｗの洗浄処理に適当
な所定の温度に維持する。

【００４７】つぎに、電解槽３の陰極側槽室３Ｎでは、
配管６ａによって供給された電解液ＥＷに直流電源３１
による適当な電圧が印加される。これにより電解液ＥＷ
が電気分解されて陰極３３側にＨ₂が発生し、それに伴
って陰極側槽室３Ｎ内には陰イオン（ＯＨ^-）が生成さ
れ、それにより陰極側槽室３Ｎ内に陰イオンを多量に含
んだ陰イオン水ＮＷが生成される。

【００４８】そして、このようにして生成された陰イオ
ン水ＮＷはポンプ５ｃによって洗浄ユニット４に至る。

【００４９】洗浄ユニット４には外部から開孔４０ｈに
基板Ｗが一枚ずつ順次矢符Ａ１に従って搬入される。そ
して、洗浄ユニット４に搬入された基板Ｗは搬送ローラ
４３の回転によってＸ方向に並進搬送されながらノズル
部４２ａ〜４２ｅの単管ノズル４１により上方から陰イ
オン水ＮＷを噴射される。これによって、基板Ｗ上面に
付着した正電荷を帯びたパーティクルは中和され、陰イ
オン水ＮＷとともに下方の回収槽４４に回収される。ま
た、基板Ｗの洗浄に用いられなかった陰イオン水ＮＷも
そのまま洗浄ユニット４の内部下方の回収槽４４に回収
される。

【００５０】そしてこのような洗浄処理が終了した基板
Ｗは開孔４０ｉから矢符Ａ２のように搬出され、他の処
理部に搬送される。

【００５１】なお、１枚の基板Ｗが洗浄され搬送される
間に、次の基板Ｗが開孔４０ｈから搬入され同様の洗浄
処理を施され、同様に順次複数の処理対象となる基板Ｗ
が開孔４０ｈから洗浄ユニット４に搬入され洗浄処理を
施された後、開孔４０ｉを通じて洗浄ユニット４から外
部に搬出され、他の処理部に搬送される。

【００５２】このように、この電解イオン水洗浄装置は
連続枚葉式に基板Ｗの洗浄処理を行う。

【００５３】さらに、洗浄ユニット４において回収槽４
４で回収された陰イオン水ＮＷは、開孔４４ｈから配管
６ｅを通じて陰極側バッファタンク１に戻され、電解液
ＥＷと混合される。そして再びポンプ５ａによって配管
６ａを介して電解槽３の陰極側槽室３Ｎに送給され、再
び電気分解される。陰極側バッファタンク１内の電解液
ＥＷは電解槽３の陰極側槽室３Ｎでの電気分解や洗浄ユ
ニット４での洗浄処理を経て陰極側バッファタンク１に
戻るという図１に記載の循環ＣＮのように循環使用され
る。

【００５４】また、陽極側バッファタンク２内に貯留さ
れた電解液ＥＷはポンプ５ｂによって配管６ｂを介して
電解槽３の陽極側槽室３Ｐに送給される。

【００５５】電解槽３の陽極側槽室３Ｐでは、配管６ｂ
によって供給された電解液ＥＷに直流電源３１による適
当な電圧が印加される。これにより電解液ＥＷが電気分
解され陽極側槽室３Ｐに陽イオン水ＰＷが生成される。

【００５６】さらに、この電解槽３の陽極側槽室３Ｐ内
に生成された陽イオン水ＰＷは基板Ｗの洗浄処理などに
使用されることなく配管６ｆを通じて陽極側バッファタ
ンク２に戻され、電解液ＥＷと混合される。そして再び
ポンプ５ｂによって配管６ｂを介して電解槽３の陽極側
槽室３Ｐに送給され、再び電気分解される。

【００５７】このように陽極側バッファタンク２内の電
解液ＥＷは電解槽３の陽極側槽室３Ｐでの電気分解によ
って陽イオン水ＰＷとなった後、基板Ｗの洗浄処理等に
用いられることなく陽極側バッファタンク２に戻るとい
う図１に記載の循環ＣＰを繰返す。

【００５８】以上のように、この発明の第１の実施の形
態の電解イオン水洗浄装置では他の処理部から順次搬入
される基板Ｗの洗浄処理を洗浄ユニット４において行
い、他の処理部へ搬出していくといった枚葉式の基板洗
浄処理を行う。

【００５９】そして、この第１の実施の形態の電解イオ
ン水洗浄装置では、洗浄ユニット４内のノズル部４２ａ
〜４２ｅから陰イオン水ＮＷを噴射して枚葉式の洗浄を
行う構成であるので電解槽３が多数の基板Ｗを浸漬させ
るほど大きなものでなくともよいため装置全体が小型化
でき、それに伴って少量の電解液でも洗浄処理が可能で
ある。

【００６０】また、洗浄ユニット４において陰イオン水
ＮＷを単管ノズル４１から噴射して基板Ｗの洗浄を行う
構成としたので、基板Ｗ上における陰イオン水ＮＷの濃
度むらが少なく、それに伴って基板Ｗの洗浄むらが生じ
にくい。

【００６１】また、電解液ＥＷを陰極側バッファタンク
１から取り出して電解槽３において電気分解し、それに
よって陰イオン水ＮＷを生成し、それを洗浄ユニット４
に供給する構成としたので生成された陰イオン水ＮＷが
電解槽３内の陰極３３付近に停滞することがないため陰
イオン水ＮＷの生成効率がよい。

【００６２】また、この第１の実施の形態の電解イオン
水洗浄装置では、陰極側バッファタンク１から電解槽３
の陰極側槽室３Ｎへの電解液ＥＷの供給量より陽極側バ
ッファタンク２から電解槽３の陽極側槽室３Ｐへの電解
液ＥＷの供給量を少なくしているため、基板Ｗの洗浄に
使用しない陽イオン水ＰＷが陰イオン水ＮＷより少なく
て済むことにより陽極側バッファタンク２内の電解液Ｅ
Ｗが少なくて済み、電解液ＥＷにかかるコストを抑える
ことができる。また、それに伴って陽極側バッファタン
ク２が陰極側バッファタンク１より小さくできるので装
置全体が小型化できる。

【００６３】また、この第１の実施の形態の電解イオン
水洗浄装置では陰極側バッファタンク１および陽極側バ
ッファタンク２と電解槽３が分けられ、さらに電解槽３
から洗浄ユニット４へ陰イオン水ＮＷを供給する配管６
ｃに伝導度計７を設けているため、洗浄処理に使用され
る直前の陰イオン水ＮＷの濃度を測定することにより、
正確な陰イオン水ＮＷの濃度管理ができる。

【００６４】ところで、第１の実施の形態の電解イオン
水洗浄装置に対する比較技術として、以下のような装置
も考えられる。

【００６５】第１の比較技術の電解イオン水洗浄装置
は、電解液を貯留できるほどの容量を持った貯留槽を兼
ねた電解槽の陰極側槽室からポンプによって洗浄ユニッ
トに陰イオン水を供給し、洗浄ユニット内で順次搬送さ
れる基板を洗浄し、洗浄後や洗浄に使用されなかった陰
イオン水は回収されて電解槽の陰極側槽室に戻され、循
環使用される。

【００６６】さらに、洗浄ユニットは第１の実施の形態
の装置とほぼ同様の構成であって連続枚葉式の基板洗浄
処理を行うが、ノズル部が等間隔に配置されていること
と、単管ノズル４１の代わりに図４に示すようなスプレ
ーノズル１４１が設けられている点が異なっており、ま
た、電解槽に設けられた温度調整手段により電解槽内の
電解液の温度調整を行うといったものである。

【００６７】しかしこのような第１の比較技術では、電
解槽が電解液を貯留するタンクをも兼ねているため、電
解槽の陰極側槽室も大きくなり、そのため陰極付近で生
成された電解液を直接洗浄ユニットに供給できず、陰極
側槽室内に拡散した陰イオン水を洗浄ユニットに供給す
ることになるため、陰イオン水が劣化してしまうことが
考えられる。

【００６８】これに対して、第１の実施の形態の電解イ
オン水洗浄装置では、陰極側バッファタンク１および陽
極側バッファタンク２と電解槽３を分けたことにより、
電解槽３における電気分解による生成直後の劣化の少な
い陰イオン水ＮＷを洗浄処理を受ける基板Ｗに噴射する
ことができるため、劣化の少ない陰イオン水ＮＷを基板
Ｗの洗浄処理に使用できる。

【００６９】また、第１の比較技術の装置では、電解槽
に設けられた温度調整手段によって電解槽の陽極側槽室
および陰極側槽室に貯留された電解液全体の温度調整を
行う構成となっているが、第１の実施の形態の装置では
陰極側バッファタンク１のタンク１０の内壁にヒータ１
３および温度センサ１２が配置され、さらにタンク１０
の外部にはヒータ１３および温度センサ１２のそれぞれ
に接続された温度制御部１１が設けられており、それら
によって陰極側バッファタンク１内の電解液ＥＷのみを
室温以上の所定の温度に維持する構成であるため、基板
Ｗの洗浄効率が良好であるとともに、基板Ｗの洗浄に使
用しない陽イオン水ＰＷの温度調整は行わないため、無
駄のない温度調整ができる。

【００７０】また、第１の比較技術の装置では洗浄ユニ
ット内の複数のノズル部は等間隔に設けられている。と
ころで、基板表面は洗浄ユニットに搬入された当初は乾
いており、基板洗浄処理において最初に基板表面に噴射
された陰イオン水ははじかれやすいが、基板が搬送され
ながら陰イオン水を吹き付けられるにつれて次第に基板
表面が濡れてくると陰イオン水は基板に馴染んできては
じかれにくくなる。しかし第１の比較技術の装置では洗
浄ユニット内の複数のノズル部は等間隔に設けられてお
り、基板洗浄処理中に供給される陰イオン水は上流側で
も下流側でも等量となるため基板搬送方向の下流側では
基板表面に供給された陰イオン水が過剰供給の状態にな
り無駄が多い。これに対して、第１の実施の形態の装置
ではノズル部４２ａ〜４２ｅの互いに隣接するそれぞれ
の間隔Ｄ１〜Ｄ４はＤ１よりＤ２、Ｄ２よりＤ３、Ｄ３
よりＤ４とＸ軸の正方向に次第に大きくなっている。す
なわちノズル部４２ａ〜４２ｅの間隔Ｄ１〜Ｄ４は基板
Ｗの搬送方向の上流側より下流側が大きくなっている。
そのため、基板洗浄処理中に供給される陰イオン水は基
板にはじかれやすい基板搬送方向の上流側よりも基板に
馴染みやすくなった下流側が少なく、したがって基板搬
送方向の下流側でも基板表面に供給される陰イオン水の
無駄が少なく、効率のよい基板洗浄が可能である。

【００７１】さらに、第１の比較技術の装置では洗浄ユ
ニットにおいてノズル部の下面に設けられたスプレーノ
ズルによって基板表面に陰イオン水をミスト状にして噴
射するため、そのミスト状の陰イオン水は空気に触れる
表面積が大きく、空気中の二酸化炭素に曝されて劣化し
やすいが、第１の実施の形態の装置ではノズル部４２ａ
〜４２ｅのそれぞれの下面に多数の単管ノズル４１が下
方に向けて設けられており、基板洗浄処理の際には単管
ノズル４１から基板Ｗ表面に供給された陰イオン水は層
流をなすので、空気に曝される表面積がミスト状のそれ
に比べて小さいため劣化の少ない陰イオン水を基板洗浄
処理に使用できる。

【００７２】なお、この発明の第１の実施の形態の電解
イオン水洗浄装置では、陰極側バッファタンク１および
陽極側バッファタンク２、電解槽３、配管６ａ〜６ｆ、
ポンプ５ａ〜５ｃ、伝導度計７および回収槽４４の内面
がすべてテフロン（デュポン社の４フッ化エチレン重合
体の商標名）により形成されている。これは、この装置
の電解液ＥＷや陰イオン水ＮＷ等が接する面が腐食し、
それらの液内に不良な物質が溶出するなど、基板の洗浄
に対して好ましくない影響が発生するのを防止するため
にこのような材質を用いている。このような材質を用い
ることによる上記の効果は枚葉式の電解イオン水洗浄装
置における電解液ＥＷの循環使用においてより顕著な効
果を示す。

【００７３】これを説明するために、第２の比較技術と
して陰極側バッファタンク、陽極側バッファタンクおよ
び電解槽を備え、電解槽の陰極側槽室に基板を浸漬させ
て基板を洗浄し、陰極側槽室から単位時間当たりに所定
量の電解液ＥＷを陰極側バッファタンクに戻すといった
電解液の循環使用を行う電解イオン水洗浄装置を考え
る。

【００７４】この第２の比較技術の電解イオン水洗浄装
置では浸漬方式による基板洗浄処理を行っているため、
電解液の単位時間当たりの循環量すなわち電解液の循環
速度はあまり大きくする必要がない。したがって、装置
全体の電解液が接する内面はあまり腐食されないため、
それらの面を腐食されやすく、かつ表面の流体に対する
抵抗が大きい材質で形成しても問題ない。

【００７５】しかし、この発明の第１の実施の形態の電
解イオン水洗浄装置では連続枚葉式の基板洗浄処理を行
っているために電解液の循環速度は速く、したがって、
装置全体の電解液が接する内面は腐食されやすい。その
ため、この発明の第１および後述する第２〜第４の実施
の形態の電解イオン水洗浄装置では上記のように電解液
が接する内面をテフロンで形成しているのである。

【００７６】

【３．第２の実施の形態における機構的構成および特
徴】図５はこの発明の第２の実施の形態の電解イオン水
洗浄装置の洗浄ユニット４内のノズル部４２ａ〜４２ｅ
の配列を示す図である。また、図６はスリットノズル４
５を備えたノズル部４２ａ〜４２ｅをＹ軸の正方向から
見た断面図（例として断面Ａ−Ａ）である。

【００７７】図５は下方からノズル部４２ａ〜４２ｅを
見上げた状態を表わしており、この第２の実施の形態の
装置では第１の実施の形態の装置と同様に、基板Ｗは矢
符Ａ４の方向すなわちＸ軸の正方向に搬送され、ノズル
部４２ａ〜４２ｅはその長手方向がＸ軸の正負方向に一
致する配管６ｄからノズル部４２ａ〜４２ｅがＹ軸の正
方向に伸びている。

【００７８】より詳しくはノズル部４２ａ〜４２ｅの互
いに隣接するそれぞれの間隔Ｄ１〜Ｄ４はＤ１よりＤ
２、Ｄ２よりＤ３、Ｄ３よりＤ４とＸ軸の正方向に次第
に大きくなっている。すなわちノズル部４２ａ〜４２ｅ
の間隔Ｄ１〜Ｄ４は基板Ｗの搬送方向の上流側より下流
側が大きくなっている。

【００７９】そして、ノズル部４２ａ〜４２ｅのそれぞ
れの下面には第１の実施の形態の装置では多数の単管ノ
ズル４１が設けられていたが、この第２の実施の形態の
装置ではノズル部４２ａ〜４２ｅのそれぞれの下面に、
その長手方向に沿って長い長方形の開孔４５ｈを備えた
スリットノズル４５が設けられている。

【００８０】そして、配管６ｄから供給された陰イオン
水ＮＷは各ノズル部４２ａ〜４２ｅに振り分けられ、そ
こで各スリットノズル４５から下方に噴射され、その下
方において複数の搬送ローラ４３によって搬送される基
板Ｗを洗浄する。

【００８１】このスリットノズル４５も層流を生成する
層流生成ノズルであって、図６に示すようにその端部は
基板上面近傍に位置している。そして、スリットノズル
４５の開孔４５ｈから噴射された陰イオン水ＮＷは下方
で搬送される基板Ｗ上面で層流をなして、基板Ｗ表面上
での陰イオン水ＮＷの表面積が可能な限り小さくなるよ
うに開孔４５ｈの幅と基板Ｗ上面との距離ＳＤが調節さ
れている。

【００８２】そして、その他の陰極側バッファタンク
１、陽極側バッファタンク２、電解槽３等の構成は第１
の実施の形態の装置と同様であり、電解液ＥＷの電気分
解や陰イオン水ＮＷの循環使用等も同様に行われる。

【００８３】以上のような構成になっているため、この
第２の実施の形態の電解イオン水洗浄装置では、基板Ｗ
上面にむらなく陰イオン水ＮＷを噴射でき、洗浄むらの
少ない基板洗浄処理が行える。

【００８４】

【４．第３の実施の形態における機構的構成および特
徴】図７はこの発明の第３の実施の形態の電解イオン水
洗浄装置のノズル部４２における単管ノズル４１ａ〜４
１ｈの配列を示す図である。

【００８５】図７は下方からノズル部４２を見上げた状
態を表わし、洗浄ユニット４は搬入された基板Ｗの回転
洗浄処理を行うスピンスクラバを構成しており、この第
３の実施の形態の装置では、洗浄ユニット４のノズル部
４２の下方には第１の実施の形態の装置の搬送ローラ４
３の代わりにスピンチャックが設けられている点が異な
っている。そして、洗浄ユニット４に搬入された基板Ｗ
はそのスピンチャックの上面に支持されて、そのスピン
チャックの回転に従って矢符Ａ５のように中心ＮＣを軸
としてＸ−Ｙ面内を回転されながら洗浄される。

【００８６】図示のように複数の単管ノズル４１ａ〜４
１ｈはノズル部４２の下面に下方に向けて設けられてお
り、それぞれは中心から外側に向かって次第に互いの間
隔が狭まるように位置している。

【００８７】すなわち、互いに隣接する単管ノズル４１
ａ〜４１ｈのそれぞれの間隔ＴＤ１〜ＴＤ７はＴＤ１よ
りＴＤ２、ＴＤ２よりＴＤ３・・・と中心ＮＣから外側
に向けて次第に小さくなっている。

【００８８】そして、スピンチャックによって基板Ｗを
回転しながら、図示しない配管６ｄからノズル部４２に
供給された陰イオン水ＮＷを上記のように設けられた単
管ノズル４１ａ〜４１ｈから下方の基板Ｗの上面に向け
て噴射することによって基板洗浄処理を行う。

【００８９】この第３の実施の形態の装置においても単
管ノズル４１ａ〜４１ｈの下端部は基板面近傍に位置し
ており、それらから噴射された陰イオン水ＮＷは下方の
基板Ｗ上面で層流をなして、基板Ｗ表面上での陰イオン
水ＮＷの表面積が可能な限り小さくなるように開孔４１
ｈｏの内径および単管ノズル４１ａ〜４１ｈの下端部と
基板Ｗ上面との距離が調節されている。

【００９０】そして、その他の陰極側バッファタンク
１、陽極側バッファタンク２、電解槽３等の構成は第１
の実施の形態の装置と同様であり、電解液ＥＷの電気分
解や陰イオン水ＮＷの循環使用等も同様に行われる。

【００９１】以上のような構成になっているため、この
第３の実施の形態の電解イオン水洗浄装置では、基板Ｗ
上面にむらなく陰イオン水ＮＷを噴射でき、洗浄むらの
少ない基板洗浄処理が行えるとともに、単管ノズル４１
ａ〜４１ｈのうち、外側のものほど隣りとの間隔が狭く
なっているので、基板Ｗの一定角速度の回転に対して単
位時間当たりの移動面積が小さい内側ほど陰イオン水Ｎ
Ｗの供給量が少ないので無駄が少ない。

【００９２】なお、その他の電解液ＥＷの循環、電気分
解等の構成は第１の実施の形態と同様である。

【００９３】

【５．第４の実施の形態における機構的構成および特
徴】図８はこの発明の第３の実施の形態の電解イオン水
洗浄装置のノズル部４２におけるスリットノズル４５の
配置を示す図である。

【００９４】図８は下方からノズル部４２を見上げた状
態を表わし、この第４の実施の形態の装置でも第３の実
施の形態の装置と同様に洗浄ユニット４は搬入された基
板Ｗの回転洗浄処理を行うスピンスクラバを構成してい
る。

【００９５】また、図示のようにこの第４の実施の形態
の装置は第３の実施の形態の装置と異なり、ノズル部４
２の下面に下方に向けてスリットノズル４５が設けられ
ている。さらに、このノズル部４２の下方には図示しな
いスピンチャックが設けられている。そして、洗浄ユニ
ット４に搬入された基板Ｗはそのスピンチャックの上面
に支持されて、そのスピンチャックの回転に従って矢符
Ａ６のように中心ＮＣを軸としてＸ−Ｙ面内を回転され
ながら洗浄される。

【００９６】また、この第４の実施の形態の装置のスリ
ットノズル４５は第２の実施の形態のスリットノズルと
同様の層流生成ノズルであって、ノズル部４２の長手方
向に沿って長い長方形の開孔４５ｈが設けられており、
その下方の端部は基板上面近傍に位置している。そし
て、スリットノズル４５の開孔４５ｈから噴射された陰
イオン水ＮＷは下方で搬送される基板Ｗ上面で層流をな
して、基板Ｗ表面上での陰イオン水ＮＷの表面積が可能
な限り小さくなるように開孔４５ｈの幅と基板Ｗ上面と
の距離が調節されている。

【００９７】そして、その他の陰極側バッファタンク
１、陽極側バッファタンク２、電解槽３等の構成は第２
の実施の形態の装置と同様であり、電解液ＥＷの電気分
解や陰イオン水ＮＷの循環使用等も同様に行われる。

【００９８】以上のような構成になっているため、この
第４の実施の形態の電解イオン水洗浄装置でも、基板Ｗ
上面にむらなく陰イオン水ＮＷを噴射でき、洗浄むらの
少ない基板洗浄処理が行える。

【００９９】

【６．変形例】この発明の第１〜第４の実施の形態の電
解イオン水洗浄装置では、液晶表示装置用ガラス基板の
洗浄処理を行うものとしたが、この発明はこれに限られ
るものではなく、特に洗浄処理に陰イオン水を用いるも
のでなく、半導体ウエハ等の陽イオン水によって洗浄処
理を行うものを対象とすることも可能であり、その場合
には洗浄ユニット４には電解槽３の陽極側槽室３Ｐから
得られた陽イオン水を供給し、回収槽４４によって回収
された陽イオン水を陽極側バッファタンク２に戻して再
利用する構成とする。すなわち、第１の実施の形態にお
ける陰極側と陽極側を切り換えた構成としたものであ
る。

【０１００】また、この発明の第１〜第４の実施の形態
の電解イオン水洗浄装置では、陰イオン水ＮＷの濃度管
理を伝導度計７によって管理する構成としたが、洗浄液
の濃度管理はこれに限定されるものでなく濃度計等の手
段でもよい。

【０１０１】また、第１および第２の実施の形態の電解
イオン水洗浄装置では、ノズル部４２ａ〜４２ｅの間隔
を基板搬送の下流側ほど大きい構成としたが、この発明
はそれに限定されるものではなくノズル部４２ａ〜４２
ｅを等間隔に設ける等の構成でもよい。

【０１０２】また、この発明の第１および第３の実施の
形態の電解イオン水洗浄装置では、洗浄液の基板上への
供給を円筒状の単管ノズル４１ａ〜４１ｈによって行う
構成としたが、は単管ノズル４１は円筒に限られるもの
ではなく断面が矩形状の管でもよく、あるいはノズル部
４２ａ〜４２ｅに直接、開孔を設けるような構成でもよ
い。

【０１０３】また、この発明の第４の実施の形態の電解
イオン水洗浄装置では、スピンスクラバでのスリットノ
ズルはノズル部４２ａ〜４２ｅの長手方向に沿って長い
長方形の開孔４５ｈが設けられた構成としたが、この開
孔４５ｈはこの形状に限られるものではなく、例えば外
側ほど開孔４５ｈを広くして外側ほど洗浄液の供給量を
多くする構成とすることも可能である。

【０１０４】また、この発明の第１〜第４の実施の形態
の電解イオン水洗浄装置では、陰極側バッファタンク１
および陽極側バッファタンク２、電解槽３、配管６ａ〜
６ｆ、ポンプ５ａ〜５ｃ、伝導度計７および回収槽４４
の内面は電解液ＥＷに対する耐薬品性のため材質をテフ
ロンとしたが、それ以外にもポリビニルクロリド（ＰＶ
Ｃ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリフェニレンサルフ
ァイド（ＰＰＳ）といった樹脂によって形成することも
可能である。

【０１０５】

【実施例】なお、この発明の第１〜第４の実施の形態の
電解イオン水洗浄装置においては、電解液ＥＷは低濃度
の塩化アンモニウムとしたが、これは電気分解の際の純
水への電流の導通をよくするためのもので、実際の装置
では大気中への蒸発などのために陰極側バッファタンク
１および陽極側バッファタンク２のそれぞれに図示しな
い供給手段によって塩化アンモニウム水溶液を補充する
ことによって、その濃度を５００ｐｐｍ前後に維持して
いる。

【０１０６】また、この発明の第１および第２の実施の
形態の電解イオン水洗浄装置においては基板の並進搬送
速度は０．８ｍ／ｍｉｎであり、これに対して５本のノ
ズル部４２ａ〜４２ｅのそれぞれからは陰イオン水ＮＷ
を６〜８リットル／ｍｉｎの割合で供給している。

【０１０７】また、この発明の第１〜第４の実施の形態
の電解イオン水洗浄装置においては、陰極側バッファタ
ンク１内の電解液ＥＷを室温以上の所定温度に維持する
構成としたが、実際の装置では２５〜８０℃の範囲内の
温度に設定することができ、より好ましい温度として実
際には４０〜５０℃に維持している。この電解液ＥＷの
温度は基板の洗浄効率の為には５０℃以上の高温である
方が望ましいが、あまり高温にしすぎると陰極側バッフ
ァタンク１、陽極側バッファタンク２、電解槽３等の内
面を腐食し、電解液ＥＷ内等に不良な物質が溶出するな
どの好ましくない影響が発生してしまうためにこのよう
な温度に設定している。

【０１０８】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１の電解イ
オン水洗浄装置では、第１および第２のバッファタンク
と電解槽を分けたことにより、電解槽における電気分解
による生成直後の洗浄液を被処理基板に噴射することが
できるため、劣化の少ない洗浄液を被処理基板の洗浄処
理に使用できる。また電解槽が多数の被処理基板を浸漬
させるほど大きなものでなくともよいため装置全体が小
型化でき、それに伴って少量の電解液でも洗浄処理が可
能である。

【０１０９】また、洗浄液をノズルから噴射して被処理
基板の洗浄を行う構成としたので、被処理基板上におけ
る洗浄液の濃度むらが少なく、それに伴って被処理基板
の洗浄むらが生じにくい。

【０１１０】また、電解液を前記第１のバッファタンク
から取り出して電解漕において電気分解し、それによっ
て洗浄液を生成して洗浄処理部に供給する構成としたの
で、生成された洗浄液が停滞することがないため洗浄液
の生成効率がよい。

【０１１１】また、請求項２の電解イオン水洗浄装置で
は第１のバッファタンクのみに温度調整手段が備わって
おり、洗浄液を生成するための電解液のみを室温以上の
所定の温度に維持することにより洗浄液の温度を室温以
上の所定の温度に維持する構成であるため、被処理基板
の洗浄効率が良好であるとともに、被処理基板の洗浄に
使用しない非洗浄液の温度調整は行わないため効率のよ
い温度調整ができる。

【０１１２】さらに、請求項３の電解イオン水洗浄装置
では、洗浄液を生成するための電解液を貯留する第１の
バッファタンクから電解漕に供給する電解液の単位時間
あたりの供給量よりも、非洗浄液を生成するための電解
液を貯留する第２のバッファタンクから電解漕に供給す
る電解液の単位時間あたりの供給量を少なくしたため、
基板洗浄には不要な非洗浄液が少なくて済む。

【０１１３】また、請求項４の電解イオン水洗浄装置で
は、(a) 前記第１および前記第２のバッファタンクのタ
ンク内面、(b) 前記電解漕の漕内面、および(c) 前記第
１のバッファタンクから前記電解漕を介して前記ノズル
に至るまでの洗浄液供給経路と、前記第２のバッファタ
ンクから前記電解漕を介して前記第２のバッファタンク
に戻るまでの非洗浄液循環経路とのそれぞれの経路内
面、のそれぞれが、テフロン（デュポン社の４フッ化エ
チレン重合体の商標名），ポリビニルクロリド，ポリプ
ロピレンおよびポリフェニレンサルファイドから選択さ
れた材料で形成されているため、上記のそれぞれの面か
ら洗浄液が溶出しにくく、そのため不良イオンによる中
和作用によって洗浄液が劣化することが少ない。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１の実施の形態の電解イオン水洗浄装置の構
成を示す図である。

【図２】第１の実施の形態の電解イオン水洗浄装置のノ
ズル部の配列を示す図である。

【図３】第１の実施の形態の電解イオン水洗浄装置のノ
ズル部の断面図である。

【図４】第１の比較技術のスプレーノズルの断面図であ
る。

【図５】第２の実施の形態の電解イオン水洗浄装置のス
リットノズルの配列を示す図である。

【図６】第２の実施の形態の電解イオン水洗浄装置のス
リットノズルの断面図である。

【図７】第３の実施の形態の電解イオン水洗浄装置の単
管ノズルの配列を示す図である。

【図８】第４の実施の形態の電解イオン水洗浄装置のス
リットノズルの配置を示す図である。

【図９】従来装置の構成を示す図である。

【符号の説明】

１陰極側バッファタンク２陽極側バッファタンク３電解槽３Ｎ陰極側槽室３Ｐ陽極側槽室４洗浄ユニット５ａ〜５ｂポンプ６ａ〜６ｆ配管１１温度制御部１２温度センサ１３ヒータ３１直流電源３２陽極３３陰極３４イオン隔膜４１単管ノズル４２ａ〜４２ｅノズル部４３搬送ローラ４４回収槽４５スリットノズルＣＮ陰イオン水の循環ＥＷ電解液ＮＷ陰イオン水ＰＷ陽イオン水Ｗ基板

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】電解液を電気分解して陽イオン水と陰イ
オン水とを生成し、前記陽イオン水と前記陰イオン水と
のうちの一方を洗浄液とし、他方を非洗浄液としつつ、
前記洗浄液を使用して被処理基板の洗浄処理を行う装置
において、前記電解液を貯留する第１と第２のバッファタンクと、前記電解液を前記第１と第２のバッファタンクのそれぞ
れから取り出して電気分解し、それによって前記洗浄液
と前記非洗浄液とをそれぞれ生成する電解漕と、前記洗浄液をノズルから噴射して被処理基板の洗浄を行
う洗浄処理部と、前記洗浄に使用した後の前記洗浄液を収集して前記第１
のバッファタンクに戻す洗浄液帰還経路と、前記非洗浄液を前記電解漕から前記第２のバッファタン
クに戻す非洗浄液帰還経路と、を備えることを特徴とす
る電解イオン水洗浄装置。
【請求項２】請求項１の装置において、前記第１と第２のバッファタンクのうち前記第１のバッ
ファタンクのみに取り付けられて、前記第１のバッファ
タンクに貯留している電解液のみを室温以上の所定の温
度に維持する温度調整手段、をさらに備える電解イオン
水洗浄装置。
【請求項３】請求項１または請求項２の装置におい
て、前記第１のバッファタンクから前記電解漕に供給する電
解液の単位時間あたりの供給量よりも、前記第２のバッ
ファタンクから前記電解漕に供給する電解液の単位時間
あたりの供給量を少なくしたことを特徴とする電解イオ
ン水洗浄装置。
【請求項４】請求項１ないし請求項３のいずれかに記
載の装置において、 (a) 前記第１および前記第２のバッファタンクのタンク
内面、 (b) 前記電解漕の漕内面、および(c) 前記第１のバッフ
ァタンクから前記電解漕を介して前記ノズルに至るまで
の洗浄液供給経路と、前記第２のバッファタンクから前
記電解漕を介して前記第２のバッファタンクに戻るまで
の非洗浄液循環経路とのそれぞれの経路内面、のそれぞ
れが、テフロン，ポリビニルクロリド，ポリプロピレンおよび
ポリフェニレンサルファイドから選択された材料で形成
されていることを特徴とする電解イオン水洗浄装置。