JPH10227717A - 水平振動台の支持装置 - Google Patents
水平振動台の支持装置Info
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- JPH10227717A JPH10227717A JP9047128A JP4712897A JPH10227717A JP H10227717 A JPH10227717 A JP H10227717A JP 9047128 A JP9047128 A JP 9047128A JP 4712897 A JP4712897 A JP 4712897A JP H10227717 A JPH10227717 A JP H10227717A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 水平振動台のピッチングおよびローリング方
向の各転倒モーメントを複数の静圧軸受で支持させる水
平振動台の支持装置において、各静圧軸受相互の過拘束
を防止する。 【解決手段】 水平振動台と基盤との間に静圧軸受Ｒ1
〜Ｒ4のほかにピッチング方向の転倒モーメント支持用
の静圧軸受Ｐ1，Ｐ2を配設するとともに、各ピストンの
相関関係に見合ったフィードバック量が加わるように各
静圧軸受の各フィードバック系を相互に接続したため、
各静圧軸受Ｒ1〜Ｒ4，Ｐ1，Ｐ2の相互間に過拘束を発生
させることなく水平振動台の上記転倒モーメントを支持
できるようにした。
向の各転倒モーメントを複数の静圧軸受で支持させる水
平振動台の支持装置において、各静圧軸受相互の過拘束
を防止する。 【解決手段】 水平振動台と基盤との間に静圧軸受Ｒ1
〜Ｒ4のほかにピッチング方向の転倒モーメント支持用
の静圧軸受Ｐ1，Ｐ2を配設するとともに、各ピストンの
相関関係に見合ったフィードバック量が加わるように各
静圧軸受の各フィードバック系を相互に接続したため、
各静圧軸受Ｒ1〜Ｒ4，Ｐ1，Ｐ2の相互間に過拘束を発生
させることなく水平振動台の上記転倒モーメントを支持
できるようにした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、水平振動台の支持
装置に関し、特に水平加振時のピッチングおよびローリ
ング方向の転倒モーメントを支持可能な水平振動台の支
持装置に関する。
装置に関し、特に水平加振時のピッチングおよびローリ
ング方向の転倒モーメントを支持可能な水平振動台の支
持装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば人工衛星の水平振動試験システム
のように、大型の水平振動台の上に大型の供試体（人工
衛星）を搭載して水平方向に振動を加える試験システム
では、供試体の重心が高いと非常に大きな転倒モーメン
トが発生する。これを支えるために、従来、図３，４に
示すように、図５に示すような静圧軸受（この静圧軸受
については後に詳述する）を４個、水平振動台２と基盤
010との間に設置している。
のように、大型の水平振動台の上に大型の供試体（人工
衛星）を搭載して水平方向に振動を加える試験システム
では、供試体の重心が高いと非常に大きな転倒モーメン
トが発生する。これを支えるために、従来、図３，４に
示すように、図５に示すような静圧軸受（この静圧軸受
については後に詳述する）を４個、水平振動台２と基盤
010との間に設置している。
【０００３】すなわち、等容量の各静圧軸受（上記構成
の静圧軸受を配設位置に応じて、Ｒ1〜Ｒ4の符号を付
し、以下静圧軸受Ｒ1〜Ｒ4と呼ぶ）が、水平振動台05の
下側に、正方形状に配設されていて、矢印02方向のロー
リングを静圧軸受Ｒ3，Ｒ4で支持させ、矢印03方向のピ
ッチングを静圧軸受Ｒ1，Ｒ4で支持させるようになって
いる（反対方向のローリングおよびピッチングについて
は、それぞれ静圧軸受Ｒ1，Ｒ2およびＲ2，Ｒ3が支持す
る）。矢印01は水平加振軸（加振方向）を示している。
また図３中の符号06は供試体，矢印07は倒れ方向をそれ
ぞれ示している。ここで、静圧軸受について、図５によ
り説明する。
の静圧軸受を配設位置に応じて、Ｒ1〜Ｒ4の符号を付
し、以下静圧軸受Ｒ1〜Ｒ4と呼ぶ）が、水平振動台05の
下側に、正方形状に配設されていて、矢印02方向のロー
リングを静圧軸受Ｒ3，Ｒ4で支持させ、矢印03方向のピ
ッチングを静圧軸受Ｒ1，Ｒ4で支持させるようになって
いる（反対方向のローリングおよびピッチングについて
は、それぞれ静圧軸受Ｒ1，Ｒ2およびＲ2，Ｒ3が支持す
る）。矢印01は水平加振軸（加振方向）を示している。
また図３中の符号06は供試体，矢印07は倒れ方向をそれ
ぞれ示している。ここで、静圧軸受について、図５によ
り説明する。
【０００４】この静圧軸受は内部凹所62をもつ可動体６
と、内部凹所62に嵌入された上方パッド７と、上方パッ
ド７に一端部をナット81を介して取付けられて内部凹所
62からピストン20（詳細は後述）を貫通して下方へ延在
するプリロードボルト８と、下方パッド９と、内部凹所
62の底面62ａと上方パッド７の下面に突設されたランド
73ａ，73ｂとで形成される第１ポケット10とをそなえる
とともに、ポケット10に圧油供給源11からの圧油を供給
する油路82，91ａならびに絞り72をもつ圧油通路71がそ
れぞれ設けられている。
と、内部凹所62に嵌入された上方パッド７と、上方パッ
ド７に一端部をナット81を介して取付けられて内部凹所
62からピストン20（詳細は後述）を貫通して下方へ延在
するプリロードボルト８と、下方パッド９と、内部凹所
62の底面62ａと上方パッド７の下面に突設されたランド
73ａ，73ｂとで形成される第１ポケット10とをそなえる
とともに、ポケット10に圧油供給源11からの圧油を供給
する油路82，91ａならびに絞り72をもつ圧油通路71がそ
れぞれ設けられている。
【０００５】同様にして、ピストン20の下面にも第２ポ
ケット92が設けられてポケット92に油圧供給源11からの
圧油を供給するために油路94および絞り94ａが設けられ
ている。
ケット92が設けられてポケット92に油圧供給源11からの
圧油を供給するために油路94および絞り94ａが設けられ
ている。
【０００６】ピストン20は、可動体６のそのほかの部分
とは別の部材から構成されるとともに、可動体６に形成
された開口部65に突設されている一対の突起64によって
開口部65内を上下動可能に案内される一方、外周縁にフ
ランジ部20ａが突設され、フランジ部20ａの上下面と突
起64, 64との間で油室66ａ，66ｂを形成している。
とは別の部材から構成されるとともに、可動体６に形成
された開口部65に突設されている一対の突起64によって
開口部65内を上下動可能に案内される一方、外周縁にフ
ランジ部20ａが突設され、フランジ部20ａの上下面と突
起64, 64との間で油室66ａ，66ｂを形成している。
【０００７】油室66ａ，66ｂにそれぞれ連通する一対の
圧油供給通路67ａ, 67ｂは電気油圧式サーボ弁21に接続
されている。符号22はピストン20の可動体６に対する相
対変位量を検知する変位検出器を示している。また符号
24は油室66ａ，66ｂにサーボ弁21を介して圧油を供給す
るための油圧ユニットを示していて、サーボ弁21には変
位検出器22の信号が、比較器27およびサーボ増幅器29を
介して伝達されるよう構成されている。符号26はピスト
ン20の位置設定信号の入力手段としてのポテンショメー
タを、また符号28はサーボ増幅器を示している。
圧油供給通路67ａ, 67ｂは電気油圧式サーボ弁21に接続
されている。符号22はピストン20の可動体６に対する相
対変位量を検知する変位検出器を示している。また符号
24は油室66ａ，66ｂにサーボ弁21を介して圧油を供給す
るための油圧ユニットを示していて、サーボ弁21には変
位検出器22の信号が、比較器27およびサーボ増幅器29を
介して伝達されるよう構成されている。符号26はピスト
ン20の位置設定信号の入力手段としてのポテンショメー
タを、また符号28はサーボ増幅器を示している。
【０００８】上述の構成により、可動体６が油室66ａ，
66ｂとにそれぞれ供給される圧油の圧力差に応じて上下
方向に移動し、その結果、ピストン20の相対位置が調節
され、これにより支持面61と取付け面２との間隔調整が
行なわれる。ここで、油室66ａと66ｂとに対する供給圧
油の制御は、ポテンショメータ26を操作してサーボ弁21
を制御することによって行なわれる。
66ｂとにそれぞれ供給される圧油の圧力差に応じて上下
方向に移動し、その結果、ピストン20の相対位置が調節
され、これにより支持面61と取付け面２との間隔調整が
行なわれる。ここで、油室66ａと66ｂとに対する供給圧
油の制御は、ポテンショメータ26を操作してサーボ弁21
を制御することによって行なわれる。
【０００９】また、供給圧油の制御により静圧軸受の剛
性ダンピング性能の調整を行なうことができ、さらに固
有振動数や応答レベルの調節も行なうことができる。そ
して、サーボ弁21によりピストン20の位置が制御される
とともに、ピストン20の位置を検出する変位検出器22の
信号がフィードバック信号として加えられているので、
ベースパッド９などの固定部からの外乱振動が可動体６
の制御にフィードバックされて外乱振動に対する免振効
果をもたせることができる。
性ダンピング性能の調整を行なうことができ、さらに固
有振動数や応答レベルの調節も行なうことができる。そ
して、サーボ弁21によりピストン20の位置が制御される
とともに、ピストン20の位置を検出する変位検出器22の
信号がフィードバック信号として加えられているので、
ベースパッド９などの固定部からの外乱振動が可動体６
の制御にフィードバックされて外乱振動に対する免振効
果をもたせることができる。
【００１０】つまり、変位検出器22，比較器27，サーボ
弁21とからなるフィードバック制御系により、支持面61
の位置（取付け面２に対する相対位置）を取付け面２等
の振動などの外乱に対して所定の目標値に保持する作用
が行なわれるようになっていて、取付け面２を振動試験
装置の基盤に据付けるとともに支持面61上に水平振動台
が取付けられる。
弁21とからなるフィードバック制御系により、支持面61
の位置（取付け面２に対する相対位置）を取付け面２等
の振動などの外乱に対して所定の目標値に保持する作用
が行なわれるようになっていて、取付け面２を振動試験
装置の基盤に据付けるとともに支持面61上に水平振動台
が取付けられる。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】ところで、水平振動試
験の場合、供試体の重心が高いと、加振軸方向に倒れよ
うとするピッチングモーメントは非常に大きく、加振軸
の直角方向へ倒れようとするローリングモーメントの２
〜３倍くらい（例えばローリングモーメント４０ton ｆ
・ｍ，ピッチングモーメント１００ton ｆ・ｍ）になる。
験の場合、供試体の重心が高いと、加振軸方向に倒れよ
うとするピッチングモーメントは非常に大きく、加振軸
の直角方向へ倒れようとするローリングモーメントの２
〜３倍くらい（例えばローリングモーメント４０ton ｆ
・ｍ，ピッチングモーメント１００ton ｆ・ｍ）になる。
【００１２】なお上述のような、４基の等容量の静圧軸
受を正方形状に配設した水平振動台支持装置では、ロー
リングモーメントの支持能力（支持容量）とピッチング
モーメントの支持能力（支持容量）とは等しく且つ各モ
ーメントは２対の静圧軸受で支持されるようになってい
るため、各静圧軸受の容量を、ローリングモーメント
（上記の例では４０ton ｆ・ｍ）を基準に選定したと
き、ピッチングモーメント（上記の例では１００ton ｆ
・ｍ）を支持するには、６０ton ｆ・ｍ（１対の静圧軸受
については３０ton ｆ・ｍ）不足することとなる。
受を正方形状に配設した水平振動台支持装置では、ロー
リングモーメントの支持能力（支持容量）とピッチング
モーメントの支持能力（支持容量）とは等しく且つ各モ
ーメントは２対の静圧軸受で支持されるようになってい
るため、各静圧軸受の容量を、ローリングモーメント
（上記の例では４０ton ｆ・ｍ）を基準に選定したと
き、ピッチングモーメント（上記の例では１００ton ｆ
・ｍ）を支持するには、６０ton ｆ・ｍ（１対の静圧軸受
については３０ton ｆ・ｍ）不足することとなる。
【００１３】この不足分を補うため、静圧軸受を単に追
設しただけでは、各静圧軸受が互いに過拘束となって水
平振動台に歪みが生じるという問題点がある。本発明
は、このような課題を解決しようとするものである。
設しただけでは、各静圧軸受が互いに過拘束となって水
平振動台に歪みが生じるという問題点がある。本発明
は、このような課題を解決しようとするものである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明は、水平振動台へ
の取付け面を有する可動体と、同可動体の内部凹所に浮
動状に配設されるピストンと、同ピストンの外側面に対
向配置され基盤に対する取付け面を有するベースパッド
とをそなえるとともに、上記ピストンの内側面と外側面
とにそれぞれ圧油を供給する一対の圧油供給通路と、同
各圧油供給通路に供給される圧油の圧力を調節して上記
ピストンの上記ベースパッドに対する位置を調節可能な
サーボ弁と、上記ピストンと上記可動体との間の相対変
位検出用の変位検出器と、同変位検出器の信号を入力さ
れるとともに上記サーボ弁を制御して上記ピストンの位
置を所定位置に保持するように作動するフィードバック
制御系と、上記ピストンの位置設定信号の入力手段とし
てのポテンショメータとで構成した静圧軸受の複数基を
水平振動台と上記基盤との間に設置し、上記複数の静圧
軸受の各ピストンの相関関係に見合ったフィードバック
量が加わるように、上記各静圧軸受の各フィードバック
系を相互に接続したフィードバック制御回路を設けて課
題解決の手段としている。
の取付け面を有する可動体と、同可動体の内部凹所に浮
動状に配設されるピストンと、同ピストンの外側面に対
向配置され基盤に対する取付け面を有するベースパッド
とをそなえるとともに、上記ピストンの内側面と外側面
とにそれぞれ圧油を供給する一対の圧油供給通路と、同
各圧油供給通路に供給される圧油の圧力を調節して上記
ピストンの上記ベースパッドに対する位置を調節可能な
サーボ弁と、上記ピストンと上記可動体との間の相対変
位検出用の変位検出器と、同変位検出器の信号を入力さ
れるとともに上記サーボ弁を制御して上記ピストンの位
置を所定位置に保持するように作動するフィードバック
制御系と、上記ピストンの位置設定信号の入力手段とし
てのポテンショメータとで構成した静圧軸受の複数基を
水平振動台と上記基盤との間に設置し、上記複数の静圧
軸受の各ピストンの相関関係に見合ったフィードバック
量が加わるように、上記各静圧軸受の各フィードバック
系を相互に接続したフィードバック制御回路を設けて課
題解決の手段としている。
【００１５】また、上記複数基の静圧軸受を、上記水平
振動台の幾何学的中心点を中心とした正方形の各角部に
設置された４基のピッチングおよびローリング方向の各
転倒モーメントを支持する第１静圧軸受と、上記水平振
動台の水平加振軸上で上記水平振動台の幾何学的中心点
に関して対称設置した２基の第２静圧軸受とで構成して
課題解決の手段としている。
振動台の幾何学的中心点を中心とした正方形の各角部に
設置された４基のピッチングおよびローリング方向の各
転倒モーメントを支持する第１静圧軸受と、上記水平振
動台の水平加振軸上で上記水平振動台の幾何学的中心点
に関して対称設置した２基の第２静圧軸受とで構成して
課題解決の手段としている。
【００１６】さらに、上記２基の第２静圧軸受の軸受間
隔Ｐを、上記水平加振軸方向の２基の第１静圧軸受の軸
受間隔Ｒよりも大きく設定して課題解決の手段としてい
る。
隔Ｐを、上記水平加振軸方向の２基の第１静圧軸受の軸
受間隔Ｒよりも大きく設定して課題解決の手段としてい
る。
【００１７】さらにまた、上記２基の第２静圧軸受の各
軸受容量を上記第１静圧軸受の各軸受容量よりも大きく
設定して課題解決の手段としている。
軸受容量を上記第１静圧軸受の各軸受容量よりも大きく
設定して課題解決の手段としている。
【００１８】上述の本発明の水平振動台の支持装置で
は、自己のピストン位置を所定位置に保持するように作
動するフィードバック系をそなえた静圧軸受を複数基水
平振動台と基盤との間に設置するとともに、各ピストン
の相関関係に見合ったフィードバック量が加わるように
各静圧軸受の各フィードバック系を相互に接続したた
め、各静圧軸受を互いに過拘束とならないようにしなが
ら上記水平振動台のピッチングおよびローリング方向の
各モーメントを支持させることが可能となる。
は、自己のピストン位置を所定位置に保持するように作
動するフィードバック系をそなえた静圧軸受を複数基水
平振動台と基盤との間に設置するとともに、各ピストン
の相関関係に見合ったフィードバック量が加わるように
各静圧軸受の各フィードバック系を相互に接続したた
め、各静圧軸受を互いに過拘束とならないようにしなが
ら上記水平振動台のピッチングおよびローリング方向の
各モーメントを支持させることが可能となる。
【００１９】また、水平振動台の幾何学的中心点を中心
とした正方形の各角部に４基の第１静圧軸受を設置する
とともに、水平加振軸上で水平振動台の幾何学的中心点
に関し対称位置にピッチングモーメント支持用の２基の
第２静圧軸受を設置したため、第２静圧軸受をピッチン
グモーメント支持専用としてローリングモーメント支持
を行なわせない構成とすることができる。
とした正方形の各角部に４基の第１静圧軸受を設置する
とともに、水平加振軸上で水平振動台の幾何学的中心点
に関し対称位置にピッチングモーメント支持用の２基の
第２静圧軸受を設置したため、第２静圧軸受をピッチン
グモーメント支持専用としてローリングモーメント支持
を行なわせない構成とすることができる。
【００２０】さらに、水平振動台の幾何学的中心点を中
心とした正方形の各角部に４基の第１静圧軸受を設置す
るとともに、水平加振軸上で水平振動台の幾何学的中心
点に関し対称位置にピッチングモーメント支持用の２基
の第２静圧軸受を設置するとともに、２基の第２静圧軸
受の軸受間隔Ｐを水平加振方向に設置された２基の第１
静圧軸受の軸受間隔Ｒよりも大きく、例えば１.５倍に
設定したことにより、第２静圧軸受による大きな対ピッ
チングモーメント支持力を得ることができる。
心とした正方形の各角部に４基の第１静圧軸受を設置す
るとともに、水平加振軸上で水平振動台の幾何学的中心
点に関し対称位置にピッチングモーメント支持用の２基
の第２静圧軸受を設置するとともに、２基の第２静圧軸
受の軸受間隔Ｐを水平加振方向に設置された２基の第１
静圧軸受の軸受間隔Ｒよりも大きく、例えば１.５倍に
設定したことにより、第２静圧軸受による大きな対ピッ
チングモーメント支持力を得ることができる。
【００２１】また、第２静圧軸受の各軸受容量を第１静
圧軸受の各軸受容量の２倍としたことにより、第２静圧
軸受の軸受間間隔を大きくとらずに第２静圧軸受による
大きな対ピッチングモーメント支持力が得られる。
圧軸受の各軸受容量の２倍としたことにより、第２静圧
軸受の軸受間間隔を大きくとらずに第２静圧軸受による
大きな対ピッチングモーメント支持力が得られる。
【００２２】
【発明の実施の形態】以下、図面により本発明の一実施
形態としての水平振動台の支持装置について説明する
と、図１はその模式平面図、図２はそのフィードバック
制御回路図である。
形態としての水平振動台の支持装置について説明する
と、図１はその模式平面図、図２はそのフィードバック
制御回路図である。
【００２３】この実施形態のものは、図３，４に示した
従来の水平振動台において、ピッチングモーメント支持
能力の不足分を補うために、図１に示すように、水平振
動台05の水平加振軸線上の、水平振動台05の中心点05Ａ
を通るピッチング中心線05Ｐからの距離（支点距離）Ｐ
/２が、静圧軸受Ｒ1〜Ｒ4の支点距離Ｒ/２の１.５倍の
ところに、第１静圧軸受Ｒ1〜Ｒ4の２倍の軸受容量をも
ち、互いに対称配設される２基の第２静圧軸受Ｐ1，Ｐ2
を設置し、４基の第１静圧軸受Ｒ1〜Ｒ4と２基の第２静
圧軸受Ｐ1，Ｐ2とが協同してピッチングモーメントを担
持する時に、ピッチングモーメントの負荷容量（担持能
力）を満たすようにするとともに、各静圧軸受が互いに
競合することがないようなフィードバック回路を設けて
構成されている。
従来の水平振動台において、ピッチングモーメント支持
能力の不足分を補うために、図１に示すように、水平振
動台05の水平加振軸線上の、水平振動台05の中心点05Ａ
を通るピッチング中心線05Ｐからの距離（支点距離）Ｐ
/２が、静圧軸受Ｒ1〜Ｒ4の支点距離Ｒ/２の１.５倍の
ところに、第１静圧軸受Ｒ1〜Ｒ4の２倍の軸受容量をも
ち、互いに対称配設される２基の第２静圧軸受Ｐ1，Ｐ2
を設置し、４基の第１静圧軸受Ｒ1〜Ｒ4と２基の第２静
圧軸受Ｐ1，Ｐ2とが協同してピッチングモーメントを担
持する時に、ピッチングモーメントの負荷容量（担持能
力）を満たすようにするとともに、各静圧軸受が互いに
競合することがないようなフィードバック回路を設けて
構成されている。
【００２４】すなわち図１に示すように、この実施形態
では、図４に示した支持装置の静圧軸受Ｒ1〜Ｒ4のほか
に、水平加振軸01上に、静圧軸受Ｒ1〜Ｒ4の軸受容量の
２倍の軸受容量をもつ２基の静圧軸受Ｐ1，Ｐ2が、水平
振動台05の中心点05Ａを通り、且つ水平加振軸01と直交
するピッチング中心線05Ｐに関し対称位置に設置されて
いる。
では、図４に示した支持装置の静圧軸受Ｒ1〜Ｒ4のほか
に、水平加振軸01上に、静圧軸受Ｒ1〜Ｒ4の軸受容量の
２倍の軸受容量をもつ２基の静圧軸受Ｐ1，Ｐ2が、水平
振動台05の中心点05Ａを通り、且つ水平加振軸01と直交
するピッチング中心線05Ｐに関し対称位置に設置されて
いる。
【００２５】なお、４基の第１静圧軸受Ｒ1〜Ｒ4は、水
平振動台05の幾何学的中心点05Ａを中心とした正方形の
各角部に設置されており、ここで静圧軸受Ｒ1とＲ2（お
よびＲ3とＲ4）との間の水平加振軸方向の距離（以下
「軸受間間隔」という。この軸受間間隔の１/２がレバ
ー長さとなる）Ｒと、静圧軸受Ｐ1とＰ2との間の距離
（以下「軸受間間隔」という）Ｐとは、Ｐ＝１.５Ｒの
関係にある。
平振動台05の幾何学的中心点05Ａを中心とした正方形の
各角部に設置されており、ここで静圧軸受Ｒ1とＲ2（お
よびＲ3とＲ4）との間の水平加振軸方向の距離（以下
「軸受間間隔」という。この軸受間間隔の１/２がレバ
ー長さとなる）Ｒと、静圧軸受Ｐ1とＰ2との間の距離
（以下「軸受間間隔」という）Ｐとは、Ｐ＝１.５Ｒの
関係にある。
【００２６】このように、第２静圧軸受Ｐ1，Ｐ2のレバ
ー長さを第１静圧軸受Ｒ1〜Ｒ4のレバー長さの１.５倍
に設定することにより、第２静圧軸受Ｐ1，Ｐ2の負担力
（静圧軸受の容量×レバー長さ）を大きく設定すること
ができる。
ー長さを第１静圧軸受Ｒ1〜Ｒ4のレバー長さの１.５倍
に設定することにより、第２静圧軸受Ｐ1，Ｐ2の負担力
（静圧軸受の容量×レバー長さ）を大きく設定すること
ができる。
【００２７】上述の構成において、第２静圧軸受Ｐ1，
Ｐ2は水平加振軸01上に配設されているため、第２静圧
軸受Ｐ1，Ｐ2が水平振動台２のローリングを拘束する作
用はない。したがって、第２静圧軸受Ｐ1，Ｐ2と第１静
圧軸受Ｒ1〜Ｒ4とが競合することはない。
Ｐ2は水平加振軸01上に配設されているため、第２静圧
軸受Ｐ1，Ｐ2が水平振動台２のローリングを拘束する作
用はない。したがって、第２静圧軸受Ｐ1，Ｐ2と第１静
圧軸受Ｒ1〜Ｒ4とが競合することはない。
【００２８】また、第２静圧軸受Ｐ1、Ｐ2の各軸受容量
を第１静圧軸受Ｒ1〜Ｒ4の各軸受容量の２倍としたこと
により、第２静圧軸受の軸受間間隔を大きくとらずに第
２静圧子軸受による大きな対ピッチングモーメント支持
力が得られる。
を第１静圧軸受Ｒ1〜Ｒ4の各軸受容量の２倍としたこと
により、第２静圧軸受の軸受間間隔を大きくとらずに第
２静圧子軸受による大きな対ピッチングモーメント支持
力が得られる。
【００２９】なお、水平振動台05のローリングは、第１
水平軸受Ｒ1とＲ2，あるいは第１水平軸受Ｒ3とＲ4とが
１組となって支える。
水平軸受Ｒ1とＲ2，あるいは第１水平軸受Ｒ3とＲ4とが
１組となって支える。
【００３０】したがって、各第１静圧軸受Ｒ1〜Ｒ4のポ
ジション（ピストン位置）の調節は、Ｒ1，Ｒ2およびＲ
3，Ｒ4を一緒に扱うようにすれば、４基の第１静圧軸受
に競合関係が生じることはない。
ジション（ピストン位置）の調節は、Ｒ1，Ｒ2およびＲ
3，Ｒ4を一緒に扱うようにすれば、４基の第１静圧軸受
に競合関係が生じることはない。
【００３１】一方、ピッチングに関しては、第１静圧軸
受Ｒ1，Ｒ4および第２静圧軸受Ｐ1（あるいは静圧軸受
Ｒ2，Ｒ3，Ｐ2）がそれぞれ１組となって支えるように
作用することになる。
受Ｒ1，Ｒ4および第２静圧軸受Ｐ1（あるいは静圧軸受
Ｒ2，Ｒ3，Ｐ2）がそれぞれ１組となって支えるように
作用することになる。
【００３２】したがって、例えば第２静圧軸受Ｐ1のポ
テンショメータ26を操作して、第２静圧軸受Ｐ1のピス
トンを１mmだけ上方に上げたとすると、その結果によっ
て第１静圧軸受Ｒ1，Ｒ4をそれぞれ １mm ×（Ｒ／Ｐ）
（ただしＲ／Ｐは軸受間隔比）だけ上げなければ、過
拘束となる。
テンショメータ26を操作して、第２静圧軸受Ｐ1のピス
トンを１mmだけ上方に上げたとすると、その結果によっ
て第１静圧軸受Ｒ1，Ｒ4をそれぞれ １mm ×（Ｒ／Ｐ）
（ただしＲ／Ｐは軸受間隔比）だけ上げなければ、過
拘束となる。
【００３３】そのために、第１静圧軸受Ｒ1，Ｒ4の各フ
ィードバック制御系は、図２に示すように、第２静圧軸
受Ｐ1の変位に見合ったフィードバック量が加わるよう
に、すなわち第２静圧軸受Ｐ1の変位量（ａ）を軸受間
間隔比に按分した量（ａ×Ｒ／Ｐ）が第１静圧軸受
Ｒ1，Ｒ4の各フィードバック制御系に入力されるよう
に、第２静圧軸受Ｐ1のフィードバック制御系と第１静
圧軸受Ｒ1，Ｒ4の各フィードバック制御系とを接続した
フィードバック制御回路が設けられている。符号30はゲ
インをＲ／Ｐに減算するゲイン調節器を示している。
ィードバック制御系は、図２に示すように、第２静圧軸
受Ｐ1の変位に見合ったフィードバック量が加わるよう
に、すなわち第２静圧軸受Ｐ1の変位量（ａ）を軸受間
間隔比に按分した量（ａ×Ｒ／Ｐ）が第１静圧軸受
Ｒ1，Ｒ4の各フィードバック制御系に入力されるよう
に、第２静圧軸受Ｐ1のフィードバック制御系と第１静
圧軸受Ｒ1，Ｒ4の各フィードバック制御系とを接続した
フィードバック制御回路が設けられている。符号30はゲ
インをＲ／Ｐに減算するゲイン調節器を示している。
【００３４】したがって、第２静圧軸受Ｐ1を第２静圧
軸受Ｐ2に対して水平出しのために、第２静圧軸受Ｐ1を
１mm上方へ移動させたとすると、第１静圧軸受Ｒ1，Ｒ4
も所定量（１mm × Ｒ／Ｐ）だけ上方に移動し、水平振
動台２に歪みが加わること（過拘束となること）をなく
すことができる。
軸受Ｐ2に対して水平出しのために、第２静圧軸受Ｐ1を
１mm上方へ移動させたとすると、第１静圧軸受Ｒ1，Ｒ4
も所定量（１mm × Ｒ／Ｐ）だけ上方に移動し、水平振
動台２に歪みが加わること（過拘束となること）をなく
すことができる。
【００３５】静圧軸受Ｐ2と静圧軸受Ｒ2，Ｒ3とについ
ても、同様のフィードバック制御回路が設けられてい
る。
ても、同様のフィードバック制御回路が設けられてい
る。
【００３６】このように、この実施形態では、水平振動
台05と基盤010との間に、水平加振時のピッチングおよ
びローリング方向の各転倒モーメントを支持させるべく
複数基の静圧軸受を設置した支持装置において、各静圧
軸受を互いに過拘束とならないように保ちながら、各静
圧軸受のポテンシャル（高さ）調整を行なうことができ
る。
台05と基盤010との間に、水平加振時のピッチングおよ
びローリング方向の各転倒モーメントを支持させるべく
複数基の静圧軸受を設置した支持装置において、各静圧
軸受を互いに過拘束とならないように保ちながら、各静
圧軸受のポテンシャル（高さ）調整を行なうことができ
る。
【００３７】なお、各静圧軸受が外乱に対して、各静圧
軸受のフィードバック系によって自己の変位を抑制でき
ることはいうまでもない。また、静圧軸受の容量（負担
能力）は、ピストン20の外周縁に突設されたフランジ部
20ａの面積と油室66ａ，66ｂに供給される油圧の圧力と
の積により、決定される。
軸受のフィードバック系によって自己の変位を抑制でき
ることはいうまでもない。また、静圧軸受の容量（負担
能力）は、ピストン20の外周縁に突設されたフランジ部
20ａの面積と油室66ａ，66ｂに供給される油圧の圧力と
の積により、決定される。
【００３８】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明の水平振動
台の支持装置によれば、次のような効果ないし利点が得
られる。 (1) 自己のピストン位置を所定位置に保持するように作
動するフィードバック系をそなえた静圧軸受を複数基水
平振動台と基盤との間に設置して、各静圧軸受を互いに
過拘束とならないように保ちながら上記水平振動台のピ
ッチングおよびローリング方向の各モーメントを支持さ
せることが可能となる。 (2) 水平振動台の幾何学的中心点を中心とした正方形の
各角部に４基の第１静圧軸受を設置するとともに、水平
加振軸上で水平振動台の幾何学的中心点に関し対称位置
にピッチングモーメント支持用の２基の第２静圧軸受を
設置したため、第２静圧軸受をピッチングモーメント支
持専用としてローリングモーメント支持を行なわせない
構成とすることができる。 (3) 水平振動台の幾何学的中心点を中心とした正方形の
各角部に４基の第１静圧軸受を設置するとともに、水平
加振軸上で水平振動台の幾何学的中心点に関し対称位置
にピッチングモーメント支持用の２基の第２静圧軸受を
設置するとともに、２基の第２静圧軸受の軸受間隔Ｐを
水平加振方向に設置された２基の第１静圧軸受の軸受間
隔Ｒよりも大きく設定したことにより、第２静圧軸受に
よる大きな対ピッチングモーメント支持力を得ることが
できる。 (4) 第２静圧軸受の各軸受容量を第１静圧軸受の各軸受
容量の２倍としたことにより、第２静圧軸受の軸受間間
隔を大きくとらずに第２静圧軸受による大きな対ピッチ
ングモーメント支持力が得られる。
台の支持装置によれば、次のような効果ないし利点が得
られる。 (1) 自己のピストン位置を所定位置に保持するように作
動するフィードバック系をそなえた静圧軸受を複数基水
平振動台と基盤との間に設置して、各静圧軸受を互いに
過拘束とならないように保ちながら上記水平振動台のピ
ッチングおよびローリング方向の各モーメントを支持さ
せることが可能となる。 (2) 水平振動台の幾何学的中心点を中心とした正方形の
各角部に４基の第１静圧軸受を設置するとともに、水平
加振軸上で水平振動台の幾何学的中心点に関し対称位置
にピッチングモーメント支持用の２基の第２静圧軸受を
設置したため、第２静圧軸受をピッチングモーメント支
持専用としてローリングモーメント支持を行なわせない
構成とすることができる。 (3) 水平振動台の幾何学的中心点を中心とした正方形の
各角部に４基の第１静圧軸受を設置するとともに、水平
加振軸上で水平振動台の幾何学的中心点に関し対称位置
にピッチングモーメント支持用の２基の第２静圧軸受を
設置するとともに、２基の第２静圧軸受の軸受間隔Ｐを
水平加振方向に設置された２基の第１静圧軸受の軸受間
隔Ｒよりも大きく設定したことにより、第２静圧軸受に
よる大きな対ピッチングモーメント支持力を得ることが
できる。 (4) 第２静圧軸受の各軸受容量を第１静圧軸受の各軸受
容量の２倍としたことにより、第２静圧軸受の軸受間間
隔を大きくとらずに第２静圧軸受による大きな対ピッチ
ングモーメント支持力が得られる。
【図１】本発明の一実施形態としての水平振動台の支持
装置の模式平面図。
装置の模式平面図。
【図２】同フィードバック制御回路図。
【図３】従来の水平振動台の支持装置の模式側面図。
【図４】同模式平面図。
【図５】静圧軸受の縦断面図。
01 水平加振軸 02 ローリング方向 03 ピッチング方向 04 軸受 05 水平振動台 05Ａ 水平振動台の幾何学的中心点 05Ｐ 水平振動台のピッチング中心軸 06 供試体 010 基盤（浮き基礎） ２ 取付け面 ６ 可動体 ７ 上方パッド ８ プリロードボルト ９ ベースパッド 20 ピストン 21 電気油圧式サーボ弁 22 変位検出器 24 油圧ユニット 26 ポテンショメータ 27 比較器 30 ゲイン調節器 61 支持面（据付け面） 67ａ，67ｂ 圧油供給通路 Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4 第１静圧軸受 Ｐ1，Ｐ2 第２静圧軸受
Claims (4)
- 【請求項１】 水平振動台を支持すべく、同水平振動台
と基盤との間に複数基の静圧軸受が設置され、同各静圧
軸受が、いずれも上記水平振動台への取付け面を有する
可動体と、同可動体の内部凹所に浮動状に配設されるピ
ストンと、 同ピストンの外側面に対向配置され上記基盤に対する取
付け面を有するベースパッドとをそなえるとともに、 上記ピストンの内側面と外側面とにそれぞれ圧油を供給
する一対の圧油供給通路と、 同各圧油供給通路に供給される圧油の圧力を調節して上
記ピストンの上記ベースパッドに対する位置を調節可能
なサーボ弁と、 上記ピストンと上記可動体との間の相対変位検出用の変
位検出器と、 同変位検出器の信号を入力されるとともに上記サーボ弁
を制御して上記ピストンの位置を所定位置に保持するよ
うに作動するフィードバック制御系と、 上記ピストンの位置設定信号の入力手段としてのポテン
ショメータとで構成され、 上記複数の静圧軸受の各ピストンの相関関係に見合った
フィードバック量が加わるように、上記各静圧軸受の各
フィードバック制御系を相互に接続したフィードバック
制御回路が設けられていることを特徴とする、水平振動
台の支持装置。 - 【請求項２】 上記複数基の静圧軸受が、上記水平振動
台の幾何学的中心点を中心とした正方形の各角部に設置
された４基のピッチングおよびローリング方向の各転倒
モーメントを支持する第１静圧軸受と、上記水平振動台
の水平加振軸上で上記水平振動台の幾何学的中心点に関
して対称設置した２基の第２静圧軸受とで構成されてい
ることを特徴とする、請求項１に記載の水平振動台の支
持装置。 - 【請求項３】 上記２基の第２静圧軸受の軸受間隔Ｐ
が、上記水平加振軸方向の２基の第１静圧軸受の軸受間
隔Ｒよりも大きく設定されていることを特徴とする、請
求項２に記載の水平振動台の支持装置。 - 【請求項４】 上記２基の第２静圧軸受の各軸受容量
が、いずれも上記第１静圧軸受の各軸受容量よりも大き
く設定されていることを特徴とする、請求項２または３
のいずれかに記載の水平振動台の支持装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9047128A JPH10227717A (ja) | 1997-02-14 | 1997-02-14 | 水平振動台の支持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9047128A JPH10227717A (ja) | 1997-02-14 | 1997-02-14 | 水平振動台の支持装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10227717A true JPH10227717A (ja) | 1998-08-25 |
Family
ID=12766516
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9047128A Pending JPH10227717A (ja) | 1997-02-14 | 1997-02-14 | 水平振動台の支持装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10227717A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002310846A (ja) * | 2001-04-19 | 2002-10-23 | Akashi Corp | 振動発生機における転倒モーメント測定方法 |
| JP2012140244A (ja) * | 2010-12-15 | 2012-07-26 | Toray Eng Co Ltd | 振動浮上装置及び振動浮上搬送装置 |
| CN114216641A (zh) * | 2021-11-17 | 2022-03-22 | 上海机电工程研究所 | 随机振动条件下弹射分离振动台防水平冲击装置 |
-
1997
- 1997-02-14 JP JP9047128A patent/JPH10227717A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002310846A (ja) * | 2001-04-19 | 2002-10-23 | Akashi Corp | 振動発生機における転倒モーメント測定方法 |
| JP2012140244A (ja) * | 2010-12-15 | 2012-07-26 | Toray Eng Co Ltd | 振動浮上装置及び振動浮上搬送装置 |
| CN114216641A (zh) * | 2021-11-17 | 2022-03-22 | 上海机电工程研究所 | 随机振动条件下弹射分离振动台防水平冲击装置 |
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