JPH10235376A - 苛性ソーダ注入制御装置 - Google Patents
苛性ソーダ注入制御装置Info
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- JPH10235376A JPH10235376A JP4019997A JP4019997A JPH10235376A JP H10235376 A JPH10235376 A JP H10235376A JP 4019997 A JP4019997 A JP 4019997A JP 4019997 A JP4019997 A JP 4019997A JP H10235376 A JPH10235376 A JP H10235376A
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- caustic soda
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- filtration
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Landscapes
- Separation Of Suspended Particles By Flocculating Agents (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 浄水処理におけるｐＨ管理を適性に行う。
【解決手段】 沈殿処理水のｐＨ1と濾過水のｐＨ2を測
定する。前記ｐＨ1を補正部２３で補正した後、前記ｐ
Ｈ2との差分を差分検出部２４で求め、その差分値を注
入量補正係数部２５に供給して、補正係数Ｋ1を加え
る。濾過池１２1〜１２nの濾抗Ｒ1〜Ｒnを測定し、平均
濾抗を平均値検出部２６で求め、その平均値を濾過池通
過時間算出部２７に供給して、平均濾抗(ｍ)に対する濾
過池通過時間を得る。前記濾過池通過時間は注入量補間
部２８に供給され、注入量補間データを算出する。一
方、ｐＨＣ１６にはあらかじめ設定されたｐＨ設定値が
入力され、前記ｐＨ2がフィードバックされ、演算制御
式により苛性ソーダ注入量を算出する。その苛性ソーダ
注入量は注入量補正部２９に供給され、ここで注入量補
正係数Ｋ1および注入量補間データにより注入量は補正
される。
定する。前記ｐＨ1を補正部２３で補正した後、前記ｐ
Ｈ2との差分を差分検出部２４で求め、その差分値を注
入量補正係数部２５に供給して、補正係数Ｋ1を加え
る。濾過池１２1〜１２nの濾抗Ｒ1〜Ｒnを測定し、平均
濾抗を平均値検出部２６で求め、その平均値を濾過池通
過時間算出部２７に供給して、平均濾抗(ｍ)に対する濾
過池通過時間を得る。前記濾過池通過時間は注入量補間
部２８に供給され、注入量補間データを算出する。一
方、ｐＨＣ１６にはあらかじめ設定されたｐＨ設定値が
入力され、前記ｐＨ2がフィードバックされ、演算制御
式により苛性ソーダ注入量を算出する。その苛性ソーダ
注入量は注入量補正部２９に供給され、ここで注入量補
正係数Ｋ1および注入量補間データにより注入量は補正
される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、浄水処理における
苛性ソーダ注入制御装置に関するものである。
苛性ソーダ注入制御装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年における都市部での水環境の悪化に
伴って、河川や湖沼の水質汚濁が進んでいる。我国の水
道水として利用される水源の約７０％は、地表水と呼ば
れる湖沼水、ダム水及び河川水に依存している。これら
湖沼水やダムには富栄養化に伴う生物活動が活発化する
ことによるカビ臭や藻臭の発生があり、他方の河川水に
は各種排水に含まれている有機物やアンモニア性窒素が
流入され、河川の自然浄化作用によってこれらの流入物
を完全に浄化することは期待できない状況にある。そこ
で、浄水場を設置してそれら湖沼水や河川水を浄化する
ことにより、安全でおいしい水を確保している。
伴って、河川や湖沼の水質汚濁が進んでいる。我国の水
道水として利用される水源の約７０％は、地表水と呼ば
れる湖沼水、ダム水及び河川水に依存している。これら
湖沼水やダムには富栄養化に伴う生物活動が活発化する
ことによるカビ臭や藻臭の発生があり、他方の河川水に
は各種排水に含まれている有機物やアンモニア性窒素が
流入され、河川の自然浄化作用によってこれらの流入物
を完全に浄化することは期待できない状況にある。そこ
で、浄水場を設置してそれら湖沼水や河川水を浄化する
ことにより、安全でおいしい水を確保している。
【０００３】浄水場では、濾過水のｐＨ値を規定値に維
持するためと、配管保護のために苛性ソーダ(ＮａＯＨ)
注入が行われている。図５は、従来例における浄水場の
苛性ソーダ注入制御装置を説明するためのシステム概要
図を示すものである。図５において、図中の符号１は混
和池を示すものであり、湖沼水や河川水から得られた原
水に凝集剤を注入して、その原水に含有する微細な粘土
質、微生物、藻類等を凝集して微小なフロックを形成す
る。前記混和池１で処理された処理水はフロック形成池
１０に送られ、その処理水に含有する微小なフロックを
大きく成長させる。
持するためと、配管保護のために苛性ソーダ(ＮａＯＨ)
注入が行われている。図５は、従来例における浄水場の
苛性ソーダ注入制御装置を説明するためのシステム概要
図を示すものである。図５において、図中の符号１は混
和池を示すものであり、湖沼水や河川水から得られた原
水に凝集剤を注入して、その原水に含有する微細な粘土
質、微生物、藻類等を凝集して微小なフロックを形成す
る。前記混和池１で処理された処理水はフロック形成池
１０に送られ、その処理水に含有する微小なフロックを
大きく成長させる。
【０００４】前記フロック形成池１０で処理された処理
水は沈殿池１１に送られ、その処理水に含有する大きく
成長したフロックを沈殿させる。その沈殿処理水は砂層
が設けられた濾過池１２に送られ、沈殿処理水中の残留
フロックを捕捉する。なお、前記濾過池１２は所望によ
り複数の濾過池から構成される場合がある。前記濾過池
１２を通過した濾過水は塩素混和池１３に送られ塩素が
注入される。
水は沈殿池１１に送られ、その処理水に含有する大きく
成長したフロックを沈殿させる。その沈殿処理水は砂層
が設けられた濾過池１２に送られ、沈殿処理水中の残留
フロックを捕捉する。なお、前記濾過池１２は所望によ
り複数の濾過池から構成される場合がある。前記濾過池
１２を通過した濾過水は塩素混和池１３に送られ塩素が
注入される。
【０００５】一般的に、苛性ソーダは沈殿処理水に注入
される。その注入量を求めるために、濾過池１２と塩素
混和池１３との間の検出部２２(後述する第２検出部)に
ｐＨ計１４ｂを設置する。そのｐＨ計１４ｂで得られた
ｐＨ値と、あらかじめ設定したｐＨ設定値とをｐＨコン
トロール部(以下ｐＨＣと略する)１６に入力し、演算制
御(フィードフォワード)式により苛性ソーダ注入量を算
出する。その算出された苛性ソーダ注入量をＦＩＣ(FLO
W INJECTION CONTROL)１７に入力し、そのＦＩＣ１７に
より注入機１８を動作させることにより、適量の苛性ソ
ーダを沈殿処理水に注入することができる。また、注入
機１８から注入される苛性ソーダの注入量は流量計１９
により測定され、その測定値をＦＩＣ１７にフィードバ
ックさせることにより、苛性ソーダ注入量をさらに適量
にすることができる。
される。その注入量を求めるために、濾過池１２と塩素
混和池１３との間の検出部２２(後述する第２検出部)に
ｐＨ計１４ｂを設置する。そのｐＨ計１４ｂで得られた
ｐＨ値と、あらかじめ設定したｐＨ設定値とをｐＨコン
トロール部(以下ｐＨＣと略する)１６に入力し、演算制
御(フィードフォワード)式により苛性ソーダ注入量を算
出する。その算出された苛性ソーダ注入量をＦＩＣ(FLO
W INJECTION CONTROL)１７に入力し、そのＦＩＣ１７に
より注入機１８を動作させることにより、適量の苛性ソ
ーダを沈殿処理水に注入することができる。また、注入
機１８から注入される苛性ソーダの注入量は流量計１９
により測定され、その測定値をＦＩＣ１７にフィードバ
ックさせることにより、苛性ソーダ注入量をさらに適量
にすることができる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】図５に示すような苛性
ソーダ注入制御装置において、沈殿処理水に苛性ソーダ
を注入してから、その沈殿処理水が濾過池を通過し濾過
水となるまでに２時間程度の時間を要する。そのため、
濾過池を通過した後におけるｐＨのフィードバック値を
得るために、ある程度の時間を費やしてしまい、苛性ソ
ーダ注入量の過多および過小のハンチングが起こりやす
くなる。ゆえに、浄水処理におけるｐＨ適性管理が困難
となる。
ソーダ注入制御装置において、沈殿処理水に苛性ソーダ
を注入してから、その沈殿処理水が濾過池を通過し濾過
水となるまでに２時間程度の時間を要する。そのため、
濾過池を通過した後におけるｐＨのフィードバック値を
得るために、ある程度の時間を費やしてしまい、苛性ソ
ーダ注入量の過多および過小のハンチングが起こりやす
くなる。ゆえに、浄水処理におけるｐＨ適性管理が困難
となる。
【０００７】本発明は、前記課題に基づいて成されたも
のであり、苛性ソーダ注入量の補正を短時間で行い、苛
性ソーダ注入量の過多および過少を防ぐことが可能な浄
水処理における苛性ソーダ注入制御装置を提供すること
にある。
のであり、苛性ソーダ注入量の補正を短時間で行い、苛
性ソーダ注入量の過多および過少を防ぐことが可能な浄
水処理における苛性ソーダ注入制御装置を提供すること
にある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記課題の解
決を図るために、第１発明は原水に含有する懸濁物を沈
殿池にて凝集、沈殿、分離して沈殿処理水を得、フィー
ドフォワード演算制御部により苛性ソーダ注入量を変化
させながら前記沈殿処理水に苛性ソーダを注入してから
濾過池にて濾過し、その濾過水を塩素混和池にて塩素等
を注入する浄水処理において、前記沈殿処理水のｐＨ値
と前記濾過水のｐＨ値との差を求めて苛性ソーダ注入量
補正係数を算出し、前記沈殿処理水が濾過池を通過する
時間から苛性ソーダ注入量補間データを算出し、苛性ソ
ーダ注入量補正部にて前記注入量補正係数および前記注
入量補間データにより前記苛性ソーダ注入量を補正する
ことを特徴とする。
決を図るために、第１発明は原水に含有する懸濁物を沈
殿池にて凝集、沈殿、分離して沈殿処理水を得、フィー
ドフォワード演算制御部により苛性ソーダ注入量を変化
させながら前記沈殿処理水に苛性ソーダを注入してから
濾過池にて濾過し、その濾過水を塩素混和池にて塩素等
を注入する浄水処理において、前記沈殿処理水のｐＨ値
と前記濾過水のｐＨ値との差を求めて苛性ソーダ注入量
補正係数を算出し、前記沈殿処理水が濾過池を通過する
時間から苛性ソーダ注入量補間データを算出し、苛性ソ
ーダ注入量補正部にて前記注入量補正係数および前記注
入量補間データにより前記苛性ソーダ注入量を補正する
ことを特徴とする。
【０００９】第２発明は、前記第１発明において、前記
沈殿処理水に注入される苛性ソーダ注入量を測定し、そ
の測定値を前記苛性ソーダ注入量補間部にフィードバッ
クさせることを特徴とする。
沈殿処理水に注入される苛性ソーダ注入量を測定し、そ
の測定値を前記苛性ソーダ注入量補間部にフィードバッ
クさせることを特徴とする。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。なお、図５と同一なものには同一
符号を付してその詳細な説明を省略する。図１は、本発
明の実施の形態における浄水場の苛性ソーダ注入制御装
置を説明するためのシステム概要図を示すものである。
図１において、混和池１で処理された処理水はフロック
形成池１０に送られ、その処理水に含有する微小なフロ
ックを大きく成長させる。
に基づいて説明する。なお、図５と同一なものには同一
符号を付してその詳細な説明を省略する。図１は、本発
明の実施の形態における浄水場の苛性ソーダ注入制御装
置を説明するためのシステム概要図を示すものである。
図１において、混和池１で処理された処理水はフロック
形成池１０に送られ、その処理水に含有する微小なフロ
ックを大きく成長させる。
【００１１】前記フロック形成池１０で処理された処理
水は沈殿池１１に送られ、その処理水に含有する大きく
成長したフロックを沈殿させる。次に、フロックを沈殿
させられた沈殿処理水は複数個の濾過池１２1〜１２nに
送られ、沈殿処理水中の残留フロックを捕捉する。その
後、前記濾過池１２1〜１２nを通過した濾過水は塩素混
和池１３に送られ、塩素が注入される。
水は沈殿池１１に送られ、その処理水に含有する大きく
成長したフロックを沈殿させる。次に、フロックを沈殿
させられた沈殿処理水は複数個の濾過池１２1〜１２nに
送られ、沈殿処理水中の残留フロックを捕捉する。その
後、前記濾過池１２1〜１２nを通過した濾過水は塩素混
和池１３に送られ、塩素が注入される。
【００１２】まず、ｐＨ計１４ａを用いて沈殿処理水の
ｐＨ1を第１検出部２１で測定し、またｐＨ計１４ｂを
用いて濾過水のｐＨ2を第２検出部２２で測定する。前
記ｐＨ1を手分析による補正部２３で補正した後、前記
ｐＨ2との差分(差分値)を差分検出部２４で求める。そ
の後、前記差分検出部２４で検出した差分値を注入量補
正係数部２５に供給して、その差分値に補正(減算)係数
Ｋ1を加える。図２は、差分値に対する注入量補正係数
Ｋ1特性図を示すものである。
ｐＨ1を第１検出部２１で測定し、またｐＨ計１４ｂを
用いて濾過水のｐＨ2を第２検出部２２で測定する。前
記ｐＨ1を手分析による補正部２３で補正した後、前記
ｐＨ2との差分(差分値)を差分検出部２４で求める。そ
の後、前記差分検出部２４で検出した差分値を注入量補
正係数部２５に供給して、その差分値に補正(減算)係数
Ｋ1を加える。図２は、差分値に対する注入量補正係数
Ｋ1特性図を示すものである。
【００１３】前記沈殿処理水には、ｐＨ調整のために苛
性ソーダ(ＮａＯＨ)が注入されるが、苛性ソーダ注入量
を求めるために沈殿処理水のｐＨ値(ｐＨ1)と濾過水の
ｐＨ値(ｐＨ2)とを測定し、それらｐＨ値の差を算出す
る。沈殿処理水のｐＨ1において、苛性ソーダ注入点に
おけるｐＨ値と、その苛性ソーダ注入点から離れた点に
おけるｐＨ値とには差が生じる。そこで、苛性ソーダ注
入点から、例えば４点程度の異なる位置のｐＨ値を同時
測定し(図１中では省略して１点のみ記載)、その測定値
の平均値をｐＨ1とする。
性ソーダ(ＮａＯＨ)が注入されるが、苛性ソーダ注入量
を求めるために沈殿処理水のｐＨ値(ｐＨ1)と濾過水の
ｐＨ値(ｐＨ2)とを測定し、それらｐＨ値の差を算出す
る。沈殿処理水のｐＨ1において、苛性ソーダ注入点に
おけるｐＨ値と、その苛性ソーダ注入点から離れた点に
おけるｐＨ値とには差が生じる。そこで、苛性ソーダ注
入点から、例えば４点程度の異なる位置のｐＨ値を同時
測定し(図１中では省略して１点のみ記載)、その測定値
の平均値をｐＨ1とする。
【００１４】前記濾過池１２1〜１２nには濾抗計１５1
〜１５nを接続してそれぞれの濾抗Ｒ1〜Ｒnを測定した
後、前記Ｒ1〜Ｒnの平均値(平均濾抗)を平均値検出部２
６で求める。その求めた平均値を濾過池通過時間算出部
２７に供給して、沈殿処理水が濾過池を通過するのに要
する時間を算出し、平均濾抗(ｍ)に対する濾過池通過時
間(ＨＯＵＲ)を得る。図３は、平均濾抗に対する濾過池
通過時間特性図を示すものである。このように設定され
た前記濾過池通過時間は、注入量補間部２８に供給さ
れ、ここで沈殿処理水に対する苛性ソーダ注入補正量が
「０」になるようにするための注入量補間データを算出
する。図４は、時間変化(沈殿処理水が濾過池を通過し
始めた時刻から通過し終えた時刻：濾過池通過時間)に
対する苛性ソーダ注入補正量特性図を示すものであり、
ｔ0は現在時刻(濾過池を通過し始めた時刻)、ｔ1は濾過
池通過時間、Ｑ0は現在時刻における注入補正量を示
す。
〜１５nを接続してそれぞれの濾抗Ｒ1〜Ｒnを測定した
後、前記Ｒ1〜Ｒnの平均値(平均濾抗)を平均値検出部２
６で求める。その求めた平均値を濾過池通過時間算出部
２７に供給して、沈殿処理水が濾過池を通過するのに要
する時間を算出し、平均濾抗(ｍ)に対する濾過池通過時
間(ＨＯＵＲ)を得る。図３は、平均濾抗に対する濾過池
通過時間特性図を示すものである。このように設定され
た前記濾過池通過時間は、注入量補間部２８に供給さ
れ、ここで沈殿処理水に対する苛性ソーダ注入補正量が
「０」になるようにするための注入量補間データを算出
する。図４は、時間変化(沈殿処理水が濾過池を通過し
始めた時刻から通過し終えた時刻：濾過池通過時間)に
対する苛性ソーダ注入補正量特性図を示すものであり、
ｔ0は現在時刻(濾過池を通過し始めた時刻)、ｔ1は濾過
池通過時間、Ｑ0は現在時刻における注入補正量を示
す。
【００１５】一方、ｐＨＣ１６にはあらかじめ設定され
たｐＨ設定値(ＳＶ)が入力され、前記ｐＨ計１４ｂによ
り得られたｐＨ2がプロセス値(ＰＶ)としてフィードバ
ックされ、演算制御式により苛性ソーダ注入量を算出す
る。このようにして算出された苛性ソーダ注入量は、注
入量補正部２９に供給され、ここで注入量補正係数Ｋ1
および注入量補間データにより注入量は補正される。そ
の補正された補正出力値は設定値(ＳＶ)としてＦＩＣ１
７に入力され、そのＦＩＣ１７から注入機１８の操作出
力値(ＭＶ)を得、注入機１８を動作させて苛性ソーダを
沈殿処理水に注入する。なお、沈殿処理水に注入される
苛性ソーダは流量計１９により測定され、その測定値は
前記注入量補間部２８と前記ＦＩＣ１７にプロセス値と
してフィードバックされる。
たｐＨ設定値(ＳＶ)が入力され、前記ｐＨ計１４ｂによ
り得られたｐＨ2がプロセス値(ＰＶ)としてフィードバ
ックされ、演算制御式により苛性ソーダ注入量を算出す
る。このようにして算出された苛性ソーダ注入量は、注
入量補正部２９に供給され、ここで注入量補正係数Ｋ1
および注入量補間データにより注入量は補正される。そ
の補正された補正出力値は設定値(ＳＶ)としてＦＩＣ１
７に入力され、そのＦＩＣ１７から注入機１８の操作出
力値(ＭＶ)を得、注入機１８を動作させて苛性ソーダを
沈殿処理水に注入する。なお、沈殿処理水に注入される
苛性ソーダは流量計１９により測定され、その測定値は
前記注入量補間部２８と前記ＦＩＣ１７にプロセス値と
してフィードバックされる。
【００１６】
【発明の効果】以上示したように本発明によれば、沈殿
処理水が濾過池を通過する時間を推定することにより、
沈殿処理水に注入する苛性ソーダ注入量を補正すること
が可能となる。
処理水が濾過池を通過する時間を推定することにより、
沈殿処理水に注入する苛性ソーダ注入量を補正すること
が可能となる。
【００１７】また、沈殿処理水のｐＨ値と濾過水のｐＨ
値との差を求めることにより、濾過池を通過中の沈殿処
理水(苛性ソーダ注入済み)のｐＨ値を推定することがで
きるため、苛性ソーダ注入済みの濾過水のｐＨ値を測定
される以前、すなわち苛性ソーダ注入済みの沈殿処理水
が濾過された時点で、苛性ソーダ注入量を補正すること
が可能となる。
値との差を求めることにより、濾過池を通過中の沈殿処
理水(苛性ソーダ注入済み)のｐＨ値を推定することがで
きるため、苛性ソーダ注入済みの濾過水のｐＨ値を測定
される以前、すなわち苛性ソーダ注入済みの沈殿処理水
が濾過された時点で、苛性ソーダ注入量を補正すること
が可能となる。
【００１８】ゆえに、苛性ソーダの注入過多および過少
を防止して浄水処理におけるｐＨ管理を適性に行うこと
ができ、原水の処理を良好に行うことができる。
を防止して浄水処理におけるｐＨ管理を適性に行うこと
ができ、原水の処理を良好に行うことができる。
【図１】本発明の実施の形態における浄水場の苛性ソー
ダ注入制御装置を説明するためのシステム概要図。
ダ注入制御装置を説明するためのシステム概要図。
【図２】差分値に対する注入量補正係数Ｋ1特性図。
【図３】平均濾抗に対する濾過池通過時間特性図。
【図４】時間変化に対する苛性ソーダ注入補正量特性
図。
図。
【図５】従来例における浄水場の苛性ソーダ注入制御装
置を説明するためのシステム概要図。
置を説明するためのシステム概要図。
１…混和池 １０…フロック形成池 １１…沈殿池 １２、１２1〜１２n…濾過池 １３…塩素混和池 １４ａ、１４ｂ…ｐＨ計 １５1〜１５n…濾抗計 １６…ｐＨコントロール部 １７…FLOW INJECTION CONTROL部 １８…注入機 １９…流量計 ２１、２２…検出部 ２３…補正部 ２４…差分検出部 ２５…注入量補正係数部 ２６…平均値検出部 ２７…濾過池通過時間算出部 ２８…注入量補間部 ２９…注入量補正部
Claims (2)
- 【請求項１】 原水に含有する懸濁物を沈殿池にて凝
集、沈殿、分離して沈殿処理水を得、フィードフォワー
ド演算制御部により苛性ソーダ注入量を変化させながら
前記沈殿処理水に苛性ソーダを注入してから濾過池にて
濾過し、その濾過水を塩素混和池にて塩素等を注入する
浄水処理において、 前記沈殿処理水のｐＨ値と前記濾過水のｐＨ値との差を
求めて苛性ソーダ注入量補正係数を算出し、前記沈殿処
理水が濾過池を通過する時間から苛性ソーダ注入量補間
データを算出し、苛性ソーダ注入量補正部にて前記注入
量補正係数および前記注入量補間データにより前記苛性
ソーダ注入量を補正することを特徴とする苛性ソーダ注
入制御装置。 - 【請求項２】 前記沈殿処理水に注入される苛性ソーダ
注入量を測定し、その測定値を前記苛性ソーダ注入量補
間部にフィードバックさせることを特徴とする請求項１
記載の苛性ソーダ注入制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4019997A JPH10235376A (ja) | 1997-02-25 | 1997-02-25 | 苛性ソーダ注入制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4019997A JPH10235376A (ja) | 1997-02-25 | 1997-02-25 | 苛性ソーダ注入制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10235376A true JPH10235376A (ja) | 1998-09-08 |
Family
ID=12574124
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4019997A Pending JPH10235376A (ja) | 1997-02-25 | 1997-02-25 | 苛性ソーダ注入制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10235376A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009061453A (ja) * | 2008-12-08 | 2009-03-26 | Toshiba Corp | 浄水場におけるｐＨ制御装置 |
-
1997
- 1997-02-25 JP JP4019997A patent/JPH10235376A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009061453A (ja) * | 2008-12-08 | 2009-03-26 | Toshiba Corp | 浄水場におけるｐＨ制御装置 |
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