JPH10236837A - 石英ガラスの製造装置 - Google Patents
石英ガラスの製造装置Info
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- JPH10236837A JPH10236837A JP9045565A JP4556597A JPH10236837A JP H10236837 A JPH10236837 A JP H10236837A JP 9045565 A JP9045565 A JP 9045565A JP 4556597 A JP4556597 A JP 4556597A JP H10236837 A JPH10236837 A JP H10236837A
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/14—Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
- C03B19/1407—Deposition reactors therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/01205—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/60—Relationship between burner and deposit, e.g. position
- C03B2207/62—Distance
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 炉の底部に開口部を備えた石英ガラスの製造
装置において、屈折率の均質性が良くかつ脈理のないよ
うにインゴットを製造する。 【解決手段】 炉２の底部にある開口部２Ｂに、この開
口部２Ｂを開閉可能な開閉扉１６〜１９を設ける。ター
ゲット３上におけるインゴット１５の成長に応じて開閉
扉１６〜１９を開けて、開口部２Ｂの開口面積を大きく
する。これにより、排気管１３からの排気を効率よく行
うことができ、炉２内の温度上昇を抑制して、一定温度
にてインゴット１５の合成を行うことができる。
装置において、屈折率の均質性が良くかつ脈理のないよ
うにインゴットを製造する。 【解決手段】 炉２の底部にある開口部２Ｂに、この開
口部２Ｂを開閉可能な開閉扉１６〜１９を設ける。ター
ゲット３上におけるインゴット１５の成長に応じて開閉
扉１６〜１９を開けて、開口部２Ｂの開口面積を大きく
する。これにより、排気管１３からの排気を効率よく行
うことができ、炉２内の温度上昇を抑制して、一定温度
にてインゴット１５の合成を行うことができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、石英ガラスの製造
装置に関し、とくに屈折率の均質性に優れた石英ガラス
を製造する装置に関する。
装置に関し、とくに屈折率の均質性に優れた石英ガラス
を製造する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】シリコンなどのウエハ上に集積回路の微
細パターンを露光、転写する縮小露光装置の照明光学系
あるいは投影光学系のレンズとして用いられるガラスと
して、従来の光学ガラスに代えて合成石英ガラスや蛍石
などのフッ化物単結晶を用いることが提案されている。
このような、縮小露光装置の光学系などに用いられる石
英ガラスには、紫外光の高透過性と屈折率の高均質化が
要求されている。例えば、光リソグラフィ用の投影レン
ズ材料としての石英ガラスは、３方向に脈理が無く、光
軸方向の屈折率均質性Δｎが４×１０-6以下、かつレン
ズの光軸方向の屈折率分布が中央対称性を有し、非回転
対称成分のＲＭＳ値が０．００５０λ以下、その回転対
称成分を２・４次でカーブフィッティングした後の残差
成分のＲＭＳ値が０．００５０λ以下であることが要求
されている。一方、紫外光の高透過性を実現するために
は、石英ガラス中の不純物の濃度を抑制する必要があ
る。このため、底部に開口部を有する炉と、この開口部
に対向するターゲットと、石英ガラス合成用のバーナと
を備え、石英ガラスの原料となるＳｉ化合物ガスと加熱
のための燃焼ガスとをバーナから流出させ、火炎内で石
英ガラスを堆積させる火炎加水分解法により石英ガラス
を製造する装置が提案されている。この火炎加水分解法
によれば、不純物の混入を抑制することが容易であるた
め、高純度の石英ガラスが得られる。
細パターンを露光、転写する縮小露光装置の照明光学系
あるいは投影光学系のレンズとして用いられるガラスと
して、従来の光学ガラスに代えて合成石英ガラスや蛍石
などのフッ化物単結晶を用いることが提案されている。
このような、縮小露光装置の光学系などに用いられる石
英ガラスには、紫外光の高透過性と屈折率の高均質化が
要求されている。例えば、光リソグラフィ用の投影レン
ズ材料としての石英ガラスは、３方向に脈理が無く、光
軸方向の屈折率均質性Δｎが４×１０-6以下、かつレン
ズの光軸方向の屈折率分布が中央対称性を有し、非回転
対称成分のＲＭＳ値が０．００５０λ以下、その回転対
称成分を２・４次でカーブフィッティングした後の残差
成分のＲＭＳ値が０．００５０λ以下であることが要求
されている。一方、紫外光の高透過性を実現するために
は、石英ガラス中の不純物の濃度を抑制する必要があ
る。このため、底部に開口部を有する炉と、この開口部
に対向するターゲットと、石英ガラス合成用のバーナと
を備え、石英ガラスの原料となるＳｉ化合物ガスと加熱
のための燃焼ガスとをバーナから流出させ、火炎内で石
英ガラスを堆積させる火炎加水分解法により石英ガラス
を製造する装置が提案されている。この火炎加水分解法
によれば、不純物の混入を抑制することが容易であるた
め、高純度の石英ガラスが得られる。
【０００３】しかしながら、火炎加水分解法により製造
される石英ガラスは、不純物の濃度は抑えられるが、温
度分布が不均一なことにより生じる脈理や、光軸方向の
屈折率の均質性に関しては満足のいくものが得られない
ことがあった。ここで、屈折率の均質性は、ターゲット
上にインゴットが形成されるときのインゴットの径方向
の温度分布に依存すると考えられる。このため、屈折率
の均質性を最適化するようにインゴットのヘッド部の温
度分布を調節すべく、ターゲットを回転させるととも
に、インゴットのヘッド部の温度分布に応じてバーナと
インゴットとを相対的に平面移動させるようにした石英
ガラスの製造装置が提案されている（特開平６−２３４
５３１号公報）。この装置によれば、屈折率の均質性を
最適化するような温度分布を形成し、その結果として均
質性が向上した石英ガラスを得ることができる。一方、
このような石英ガラスの製造装置においては、インゴッ
トの合成時において発生する塩素ガスなどを排気するた
めの排気口を有するものであるが、排気を行うための二
次空気は、炉の底部に形成された開口部から供給され
る。
される石英ガラスは、不純物の濃度は抑えられるが、温
度分布が不均一なことにより生じる脈理や、光軸方向の
屈折率の均質性に関しては満足のいくものが得られない
ことがあった。ここで、屈折率の均質性は、ターゲット
上にインゴットが形成されるときのインゴットの径方向
の温度分布に依存すると考えられる。このため、屈折率
の均質性を最適化するようにインゴットのヘッド部の温
度分布を調節すべく、ターゲットを回転させるととも
に、インゴットのヘッド部の温度分布に応じてバーナと
インゴットとを相対的に平面移動させるようにした石英
ガラスの製造装置が提案されている（特開平６−２３４
５３１号公報）。この装置によれば、屈折率の均質性を
最適化するような温度分布を形成し、その結果として均
質性が向上した石英ガラスを得ることができる。一方、
このような石英ガラスの製造装置においては、インゴッ
トの合成時において発生する塩素ガスなどを排気するた
めの排気口を有するものであるが、排気を行うための二
次空気は、炉の底部に形成された開口部から供給され
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述した石英ガラスの
製造装置においては、ターゲット上に合成されるインゴ
ットは時間の経過とともに大きくなるため、炉の底部に
形成された開口部はその開口面積が小さくなるものであ
る。しかしながら、開口部の面積が小さくなると、排気
効率が低下して炉内の温度が上昇する。また、インゴッ
トの合成を行うと、合成面に捕捉されなかったＳｉＯ2
粉の堆積物が排気管に付着して排気効率が低下し、これ
によっても炉内温度が上昇する。このように、炉内温度
が上昇すると、インゴット合成面付近の温度も上昇する
ため、インゴットの粘度が低下し、インゴットのつぶれ
が生じてしまう。この場合、バーナからの燃焼ガスの流
量を小さくして温度上昇を防止することが考えられる
が、バーナからの供給熱量の差や温度分布が生じてしま
い、脈理が発生してインゴットの品質が低下してしま
う。
製造装置においては、ターゲット上に合成されるインゴ
ットは時間の経過とともに大きくなるため、炉の底部に
形成された開口部はその開口面積が小さくなるものであ
る。しかしながら、開口部の面積が小さくなると、排気
効率が低下して炉内の温度が上昇する。また、インゴッ
トの合成を行うと、合成面に捕捉されなかったＳｉＯ2
粉の堆積物が排気管に付着して排気効率が低下し、これ
によっても炉内温度が上昇する。このように、炉内温度
が上昇すると、インゴット合成面付近の温度も上昇する
ため、インゴットの粘度が低下し、インゴットのつぶれ
が生じてしまう。この場合、バーナからの燃焼ガスの流
量を小さくして温度上昇を防止することが考えられる
が、バーナからの供給熱量の差や温度分布が生じてしま
い、脈理が発生してインゴットの品質が低下してしま
う。
【０００５】本発明の目的は、インゴットの品質を低下
させることなくその合成を行うことができる石英ガラス
の製造装置を提供することにある。
させることなくその合成を行うことができる石英ガラス
の製造装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】一実施の形態を示す図１
〜図３を参照して説明すると、請求項１の発明は、底部
に開口部２Ａを有する炉２と、開口部２Ｂから炉２内に
対向するように配設されたインゴット形成用ターゲット
３と、ターゲット３に先端を向けて配設された石英ガラ
ス合成用バーナ１と、開口部２Ｂから炉２内に流入した
空気を炉２外へ放出する排気系１３とを備え、炉２内に
おいてターゲット３上に石英ガラスのインゴット１５を
形成する石英ガラスの製造装置に適用され、開口部２Ｂ
の開口面積を変更可能な変更機構１６〜１９，２０を備
えたことにより上記目的を達成する。請求項２の発明
は、炉２内の温度を測定する温度測定器８と、温度測定
器８による測定結果に基づいて、開口部２Ｂの開口面積
を変更するよう変更機構１６〜１９，２０を制御する制
御系２１とをさらに備える。請求項３の発明は、ターゲ
ット３に形成されたインゴット１５のヘッド部の径方向
の温度分布に応じて、ターゲット３を移動平面上におい
てバーナ１に対して相対的に平面移動させる移動機構を
備え、開口部２Ｂは、ターゲット３の移動範囲に適合す
る形状をなす。
〜図３を参照して説明すると、請求項１の発明は、底部
に開口部２Ａを有する炉２と、開口部２Ｂから炉２内に
対向するように配設されたインゴット形成用ターゲット
３と、ターゲット３に先端を向けて配設された石英ガラ
ス合成用バーナ１と、開口部２Ｂから炉２内に流入した
空気を炉２外へ放出する排気系１３とを備え、炉２内に
おいてターゲット３上に石英ガラスのインゴット１５を
形成する石英ガラスの製造装置に適用され、開口部２Ｂ
の開口面積を変更可能な変更機構１６〜１９，２０を備
えたことにより上記目的を達成する。請求項２の発明
は、炉２内の温度を測定する温度測定器８と、温度測定
器８による測定結果に基づいて、開口部２Ｂの開口面積
を変更するよう変更機構１６〜１９，２０を制御する制
御系２１とをさらに備える。請求項３の発明は、ターゲ
ット３に形成されたインゴット１５のヘッド部の径方向
の温度分布に応じて、ターゲット３を移動平面上におい
てバーナ１に対して相対的に平面移動させる移動機構を
備え、開口部２Ｂは、ターゲット３の移動範囲に適合す
る形状をなす。
【０００７】なお、本発明の構成を説明する上記課題を
解決するための手段の項では、本発明を分かり易くする
ために発明の実施の形態の図を用いたが、これにより本
発明が実施の形態に限定されるものではない。
解決するための手段の項では、本発明を分かり易くする
ために発明の実施の形態の図を用いたが、これにより本
発明が実施の形態に限定されるものではない。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下図面を参照して本発明の実施
の形態について説明する。図１は本発明の実施の形態に
係る石英ガラスの製造装置の構成を示す図、図２は後述
する開閉扉の構成を示す図である。図１に示すように、
本実施の形態に係る石英ガラスの製造装置において、炉
２内には図２に示すように長円形断面の炉内空間が形成
され、炉２の上部にはターゲット３にその先端部を向け
てバーナ１が設置されている。炉壁には、ＩＲカメラ５
による観察窓４と、排気口６，７とがそれぞれ設けられ
ている。また、熱電対８により炉２内の温度を測定して
いる。さらに、炉２の下部には、インゴット１５の形成
用のターゲット３が配設されており、ターゲット３は、
支持軸１１を介して炉２の外にある不図示のモータによ
り回転可能かつ図１の左右方向（図２の矢印Ａ方向）に
揺動可能とされている。また、ターゲット３はインゴッ
トの成長速度に応じて降下可能とされている。
の形態について説明する。図１は本発明の実施の形態に
係る石英ガラスの製造装置の構成を示す図、図２は後述
する開閉扉の構成を示す図である。図１に示すように、
本実施の形態に係る石英ガラスの製造装置において、炉
２内には図２に示すように長円形断面の炉内空間が形成
され、炉２の上部にはターゲット３にその先端部を向け
てバーナ１が設置されている。炉壁には、ＩＲカメラ５
による観察窓４と、排気口６，７とがそれぞれ設けられ
ている。また、熱電対８により炉２内の温度を測定して
いる。さらに、炉２の下部には、インゴット１５の形成
用のターゲット３が配設されており、ターゲット３は、
支持軸１１を介して炉２の外にある不図示のモータによ
り回転可能かつ図１の左右方向（図２の矢印Ａ方向）に
揺動可能とされている。また、ターゲット３はインゴッ
トの成長速度に応じて降下可能とされている。
【０００９】炉２は、炉枠１０により囲繞されており、
炉枠１０の観察窓４に対応する位置には観察窓１２が形
成されている。また、炉枠１０には排気管１３が接続さ
れており、炉２に形成された排気口６，７から排気を行
う。排気管１３の先端には、スクラバーなどの除害設備
や排気ファンが設置されている。また、炉２の底部の開
口２Ａは、断面形状長円形であるが、本実施の形態で
は、炉２の開口２Ａの内側には図２に示すように、例え
ば耐火ボードからなる開閉自在な開閉扉１６，１７，１
８，１９により形成された可変開口部２Ｂが設けられて
いる。図３に示すように、開閉扉１６〜１９はモータな
どからなる開閉機構２０により開閉されるものである。
開閉機構２０の駆動は、熱電対８により測定される炉２
内の温度分布に基づいて制御装置２１により制御され
る。例えば、開閉扉１８，１９を駆動することにより可
変開口部２Ｂは図５に示すように開き、開閉扉１６，１
７を駆動することにより可変開口部２Ｂは図６に示すよ
うに開く。そして、開閉扉１６〜１９を駆動することに
より、可変開口部２Ｂは最終的に図７に示すように最大
限に開放する。
炉枠１０の観察窓４に対応する位置には観察窓１２が形
成されている。また、炉枠１０には排気管１３が接続さ
れており、炉２に形成された排気口６，７から排気を行
う。排気管１３の先端には、スクラバーなどの除害設備
や排気ファンが設置されている。また、炉２の底部の開
口２Ａは、断面形状長円形であるが、本実施の形態で
は、炉２の開口２Ａの内側には図２に示すように、例え
ば耐火ボードからなる開閉自在な開閉扉１６，１７，１
８，１９により形成された可変開口部２Ｂが設けられて
いる。図３に示すように、開閉扉１６〜１９はモータな
どからなる開閉機構２０により開閉されるものである。
開閉機構２０の駆動は、熱電対８により測定される炉２
内の温度分布に基づいて制御装置２１により制御され
る。例えば、開閉扉１８，１９を駆動することにより可
変開口部２Ｂは図５に示すように開き、開閉扉１６，１
７を駆動することにより可変開口部２Ｂは図６に示すよ
うに開く。そして、開閉扉１６〜１９を駆動することに
より、可変開口部２Ｂは最終的に図７に示すように最大
限に開放する。
【００１０】次いで、本実施の形態の動作について説明
する。まずターゲット３を十分な温度（２０００℃以
上）に加熱した後、バーナ１から例えばＳｉＣｌ4など
の原料ガスを供給し、加水分解反応によりインゴット１
５の合成を開始する。そして、徐々にＳｉＯ2粉をター
ゲット３に堆積するとともに溶解してガラス化する。こ
の際、ターゲット３を支持軸１１の周りに回転させると
ともに、図１の左右方向に揺動して、インゴット１５が
均一に加熱されるようにする。さらに、ＩＲカメラ５に
よりインゴット合成面とバーナ１との距離をモニタし、
インゴットの成長に拘わらずその距離が一定となるよう
にターゲット３を降下させる。また、排気口６，７を介
して排気管１３から炉２内の排気を行うことにより、炉
２内の過熱を防止する。すなわち、炉２の底部に形成さ
れた可変開口部２Ｂから室温の大気を炉２内に導入して
炉２内の熱量を制御する。そして、この状態を数週間続
けることによりインゴット１５を得る。
する。まずターゲット３を十分な温度（２０００℃以
上）に加熱した後、バーナ１から例えばＳｉＣｌ4など
の原料ガスを供給し、加水分解反応によりインゴット１
５の合成を開始する。そして、徐々にＳｉＯ2粉をター
ゲット３に堆積するとともに溶解してガラス化する。こ
の際、ターゲット３を支持軸１１の周りに回転させると
ともに、図１の左右方向に揺動して、インゴット１５が
均一に加熱されるようにする。さらに、ＩＲカメラ５に
よりインゴット合成面とバーナ１との距離をモニタし、
インゴットの成長に拘わらずその距離が一定となるよう
にターゲット３を降下させる。また、排気口６，７を介
して排気管１３から炉２内の排気を行うことにより、炉
２内の過熱を防止する。すなわち、炉２の底部に形成さ
れた可変開口部２Ｂから室温の大気を炉２内に導入して
炉２内の熱量を制御する。そして、この状態を数週間続
けることによりインゴット１５を得る。
【００１１】この際、インゴット１５は徐々に成長して
合成開始時のターゲット３の径よりも大きくなるため、
開口部２Ｂの面積が実質的に減少する。このように開口
部２Ｂの面積が減少すると、開口部２Ｂからの二次空気
が少なくなり、排気管１３からの排気量が減少する。同
時に輻射熱の外部への放出が減少するため、炉２内の温
度が上昇する。また、排気管１３に堆積物３０が付着す
ると、圧力損失が増加するため排気量が減少して炉２内
の温度が上昇する。このように、炉２内の温度が上昇す
ると、インゴット１５が不均一に加熱されることとな
る。本実施の形態においては、炉２内の温度を熱電対８
により検出し、この炉２内の温度が常に一定となるよう
に、制御装置２１により開閉機構２０を駆動して開閉扉
１６〜１９を開き、開口部２Ｂの面積を大きくする。こ
れにより、炉２内には排気のための二次空気が効率よく
取り込まれることとなり、排気管１３による炉２内の排
気を滞りなく行うことができる。したがって、上昇しか
けた炉２内の温度はまた元の温度に戻るため、炉２内の
温度を常に略一定としてインゴット１５の合成を行うこ
とができる。また、図４に示すように、インゴット１５
の成長方向の温度分布は、従来の開口部２Ｂの面積を一
定としてバーナからの供給熱量を制御する方式のものと
比較して、開口部２Ｂを変更可能としたものは小さくな
っている。これにより、インゴット１５の成長過程にお
ける温度変化を小さくすることができるため、最終的に
合成されるインゴット１５は均一に加熱され、成長方向
にも脈理のない均質なインゴット１５を得ることができ
る。
合成開始時のターゲット３の径よりも大きくなるため、
開口部２Ｂの面積が実質的に減少する。このように開口
部２Ｂの面積が減少すると、開口部２Ｂからの二次空気
が少なくなり、排気管１３からの排気量が減少する。同
時に輻射熱の外部への放出が減少するため、炉２内の温
度が上昇する。また、排気管１３に堆積物３０が付着す
ると、圧力損失が増加するため排気量が減少して炉２内
の温度が上昇する。このように、炉２内の温度が上昇す
ると、インゴット１５が不均一に加熱されることとな
る。本実施の形態においては、炉２内の温度を熱電対８
により検出し、この炉２内の温度が常に一定となるよう
に、制御装置２１により開閉機構２０を駆動して開閉扉
１６〜１９を開き、開口部２Ｂの面積を大きくする。こ
れにより、炉２内には排気のための二次空気が効率よく
取り込まれることとなり、排気管１３による炉２内の排
気を滞りなく行うことができる。したがって、上昇しか
けた炉２内の温度はまた元の温度に戻るため、炉２内の
温度を常に略一定としてインゴット１５の合成を行うこ
とができる。また、図４に示すように、インゴット１５
の成長方向の温度分布は、従来の開口部２Ｂの面積を一
定としてバーナからの供給熱量を制御する方式のものと
比較して、開口部２Ｂを変更可能としたものは小さくな
っている。これにより、インゴット１５の成長過程にお
ける温度変化を小さくすることができるため、最終的に
合成されるインゴット１５は均一に加熱され、成長方向
にも脈理のない均質なインゴット１５を得ることができ
る。
【００１２】なお、上記実施の形態においては、開口部
２Ｂの面積を長円形としているが、矩形あるいは円形と
してもよい。また、ターゲット３を図１の左右方向ある
いは前後方向に揺動可能としているが、とくに揺動させ
なくともよい。ターゲット３を揺動させる場合、その揺
動と同期して開閉扉１６，１７を同方向に駆動すれば、
インゴット周囲の開口面積の対称性が保持され、さらに
炉内の温度分布を一定とすることができる。
２Ｂの面積を長円形としているが、矩形あるいは円形と
してもよい。また、ターゲット３を図１の左右方向ある
いは前後方向に揺動可能としているが、とくに揺動させ
なくともよい。ターゲット３を揺動させる場合、その揺
動と同期して開閉扉１６，１７を同方向に駆動すれば、
インゴット周囲の開口面積の対称性が保持され、さらに
炉内の温度分布を一定とすることができる。
【００１３】また、上記実施の形態においては、熱電対
８により炉２内の温度を検出し、この検出結果に基づい
て開閉扉１６〜１９を開閉しているが、インゴット１５
の合成時の炉２内の温度変化を予めデータとして記憶し
ておき、このデータに基づいて開閉扉１６〜１９の開閉
を制御してもよい。さらに、上記実施の形態において
は、制御装置２１により開閉扉１６〜１９の開閉を制御
しているが、手動により開閉扉１６〜１９を開閉しても
よい。
８により炉２内の温度を検出し、この検出結果に基づい
て開閉扉１６〜１９を開閉しているが、インゴット１５
の合成時の炉２内の温度変化を予めデータとして記憶し
ておき、このデータに基づいて開閉扉１６〜１９の開閉
を制御してもよい。さらに、上記実施の形態において
は、制御装置２１により開閉扉１６〜１９の開閉を制御
しているが、手動により開閉扉１６〜１９を開閉しても
よい。
【００１４】以下、上述したように構成した石英ガラス
の製造装置により合成されるインゴットについて、屈折
率の均質性についての実験結果を比較例と比較して説明
する。
の製造装置により合成されるインゴットについて、屈折
率の均質性についての実験結果を比較例と比較して説明
する。
【００１５】（１）実施例１ 上述した本発明の実施の形態に係る石英ガラスの製造装
置により約φ３５０×ｔ１０００ｍｍのインゴットを合
成した。この際、開口部２Ｂを３６０×５００ｍｍ（炉
開口２Ａの６７％の面積）〜４５０×６３０ｍｍ（長円
形）の間にて制御した。このようにして得られたインゴ
ットの屈折率の均質性を測定するための試料（φ２５０
×ｔ４０）を作製後、１０００℃で１０時間以上保持
し、１０℃／時の降温速度で除冷して十分歪みを取り除
いた後、干渉計を用いたオイルオンプレート法にて屈折
率均質性Δｎの測定を行い、さらにピンホール法による
脈理の測定を行った。
置により約φ３５０×ｔ１０００ｍｍのインゴットを合
成した。この際、開口部２Ｂを３６０×５００ｍｍ（炉
開口２Ａの６７％の面積）〜４５０×６３０ｍｍ（長円
形）の間にて制御した。このようにして得られたインゴ
ットの屈折率の均質性を測定するための試料（φ２５０
×ｔ４０）を作製後、１０００℃で１０時間以上保持
し、１０℃／時の降温速度で除冷して十分歪みを取り除
いた後、干渉計を用いたオイルオンプレート法にて屈折
率均質性Δｎの測定を行い、さらにピンホール法による
脈理の測定を行った。
【００１６】この結果、実施例１においては、屈折率均
質性Δｎは１．８×１０-6でかつ３方向に脈理のない石
英ガラスが得られた。この石英ガラスにより作製したレ
ンズの光軸方向の屈折率分布は中央対称性を有し、かつ
非回転対称成分のＲＭＳ値が０．００１０λであり、そ
の回転対称成分を２．４次でカーブフィッティングした
後の残差成分のＲＭＳ値が０．０００８λであった。こ
れは光リソグラフィ投影レンズ用石英ガラス、とくに２
５６Ｍ以降の短波長光を用いる縮小露光装置に用いられ
るレンズ用石英ガラスの仕様を十分に満たすものであっ
た。
質性Δｎは１．８×１０-6でかつ３方向に脈理のない石
英ガラスが得られた。この石英ガラスにより作製したレ
ンズの光軸方向の屈折率分布は中央対称性を有し、かつ
非回転対称成分のＲＭＳ値が０．００１０λであり、そ
の回転対称成分を２．４次でカーブフィッティングした
後の残差成分のＲＭＳ値が０．０００８λであった。こ
れは光リソグラフィ投影レンズ用石英ガラス、とくに２
５６Ｍ以降の短波長光を用いる縮小露光装置に用いられ
るレンズ用石英ガラスの仕様を十分に満たすものであっ
た。
【００１７】（２）実施例２ 上述した本発明の実施の形態に係る石英ガラスの製造装
置により約φ３５０×ｔ１０００ｍｍのインゴット１５
を合成した。この際、開口部２Ｂを３６０×５００ｍｍ
〜４５０×６３０ｍｍの間にて制御するとともに、イン
ゴット１５の成長方向において図４に示すような温度分
布となるようにした。このようにして得られたインゴッ
ト１５の屈折率の均質性を測定するための試料（φ２５
０×ｔ４０）を作製後、１０００℃で１０時間以上保持
し、１０℃／時の降温速度で除冷して十分歪みを取り除
いた後、干渉計を用いたオイルオンプレート法にて屈折
率均質性Δｎの測定を行い、さらにピンホール法による
脈理の測定を行った。
置により約φ３５０×ｔ１０００ｍｍのインゴット１５
を合成した。この際、開口部２Ｂを３６０×５００ｍｍ
〜４５０×６３０ｍｍの間にて制御するとともに、イン
ゴット１５の成長方向において図４に示すような温度分
布となるようにした。このようにして得られたインゴッ
ト１５の屈折率の均質性を測定するための試料（φ２５
０×ｔ４０）を作製後、１０００℃で１０時間以上保持
し、１０℃／時の降温速度で除冷して十分歪みを取り除
いた後、干渉計を用いたオイルオンプレート法にて屈折
率均質性Δｎの測定を行い、さらにピンホール法による
脈理の測定を行った。
【００１８】この結果、実施例２においては、屈折率均
質性Δｎは１．６×１０-6でかつ３方向に脈理のない石
英ガラスが得られた。この石英ガラスにより作製したレ
ンズの光軸方向の屈折率分布は中央対称性を有し、かつ
非回転対称成分のＲＭＳ値が０．０００８λであり、そ
の回転対称成分を２．４次でカーブフィッティングした
後の残差成分のＲＭＳ値が０．０００５λであった。こ
れは光リソグラフィ投影レンズ用石英ガラスの仕様を十
分に満たすものであった。
質性Δｎは１．６×１０-6でかつ３方向に脈理のない石
英ガラスが得られた。この石英ガラスにより作製したレ
ンズの光軸方向の屈折率分布は中央対称性を有し、かつ
非回転対称成分のＲＭＳ値が０．０００８λであり、そ
の回転対称成分を２．４次でカーブフィッティングした
後の残差成分のＲＭＳ値が０．０００５λであった。こ
れは光リソグラフィ投影レンズ用石英ガラスの仕様を十
分に満たすものであった。
【００１９】（３）比較例１ 上述した実施例１と同一条件下において、φ３５０×ｔ
１０００ｍｍのインゴット１５を合成した。この際、開
口部２Ｂを４５０×６３０ｍｍ（長円形）にて一定に保
持した。このようにして得られたインゴット１５の屈折
率の均質性を測定するための試料（φ２５０×ｔ４０）
を作製後、屈折率均質性Δｎおよび脈理の測定を行っ
た。
１０００ｍｍのインゴット１５を合成した。この際、開
口部２Ｂを４５０×６３０ｍｍ（長円形）にて一定に保
持した。このようにして得られたインゴット１５の屈折
率の均質性を測定するための試料（φ２５０×ｔ４０）
を作製後、屈折率均質性Δｎおよび脈理の測定を行っ
た。
【００２０】この結果、比較例１においては、屈折率均
質性Δｎは５×１０-6でかつ光軸方向側面から観察した
結果、層状の脈理が認められた。この石英ガラスにより
作製したレンズの光軸方向の屈折率分布は中央対称性が
悪く、かつ非回転対称成分のＲＭＳ値が０．００７１λ
であり、その回転対称成分を２．４次でカーブフィッテ
ィングした後の残差成分のＲＭＳ値が０．００７８λで
あった。これは光リソグラフィ投影レンズ用石英ガラス
の仕様を満たしていないものであった。
質性Δｎは５×１０-6でかつ光軸方向側面から観察した
結果、層状の脈理が認められた。この石英ガラスにより
作製したレンズの光軸方向の屈折率分布は中央対称性が
悪く、かつ非回転対称成分のＲＭＳ値が０．００７１λ
であり、その回転対称成分を２．４次でカーブフィッテ
ィングした後の残差成分のＲＭＳ値が０．００７８λで
あった。これは光リソグラフィ投影レンズ用石英ガラス
の仕様を満たしていないものであった。
【００２１】（４）比較例２ 上述した実施例１と同一条件下において、φ３５０×ｔ
１０００ｍｍのインゴット１５を合成した。この際、開
口部２Ｂを３６０×５００ｍｍ（開口２Ａの６７％）に
て一定に保持した。この際、開口部の面積をインゴット
１５の径付近まで小さくしたが、合成開始時にインゴッ
トの径が非常に大きくなり、バーナ１からのガス供給量
を減少させた。しかしながら、炉２内の温度上昇を抑制
することができず、バーナ１からの供給ガス量の下限値
に達し、供給する火炎が上昇気流に乗ってバーナ１に戻
ってしまい、合成不可能となってしまった。
１０００ｍｍのインゴット１５を合成した。この際、開
口部２Ｂを３６０×５００ｍｍ（開口２Ａの６７％）に
て一定に保持した。この際、開口部の面積をインゴット
１５の径付近まで小さくしたが、合成開始時にインゴッ
トの径が非常に大きくなり、バーナ１からのガス供給量
を減少させた。しかしながら、炉２内の温度上昇を抑制
することができず、バーナ１からの供給ガス量の下限値
に達し、供給する火炎が上昇気流に乗ってバーナ１に戻
ってしまい、合成不可能となってしまった。
【００２２】以上の実施の形態と請求項との対応におい
て、開閉扉１６〜１９および開閉機構２０が変更機構
を、熱電対８が温度測定器を、制御装置２１が制御系を
それぞれ構成する。
て、開閉扉１６〜１９および開閉機構２０が変更機構
を、熱電対８が温度測定器を、制御装置２１が制御系を
それぞれ構成する。
【００２３】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、請求項１の
発明によれば、炉の開口部の面積を変更可能としたた
め、インゴットの成長に応じて開口部の面積を変更する
ことにより、炉内の温度を略一定に保持することができ
る。これにより、合成開始時と終了時とにおいて同一条
件下にて最適に合成を行うことができるため、屈折率の
均質性に優れ、かつ脈理のないインゴットを製造するこ
とができる。請求項２の発明によれば、炉内の温度に基
づいて開口部の開口面積を変更するようにしたため、炉
内の温度を略一定に保持し、これによりインゴットの成
長方向における温度分布をなくして脈理のないインゴッ
トを製造することができる。請求項３の発明によれば、
インゴットはそのヘッド部の径方向における温度分布に
応じてバーナに対して相対的に平面移動するため、イン
ゴットは径方向に均一に加熱されることとなる。したが
って、インゴットの温度分布をなくして均質性の良いイ
ンゴットを製造することができる。
発明によれば、炉の開口部の面積を変更可能としたた
め、インゴットの成長に応じて開口部の面積を変更する
ことにより、炉内の温度を略一定に保持することができ
る。これにより、合成開始時と終了時とにおいて同一条
件下にて最適に合成を行うことができるため、屈折率の
均質性に優れ、かつ脈理のないインゴットを製造するこ
とができる。請求項２の発明によれば、炉内の温度に基
づいて開口部の開口面積を変更するようにしたため、炉
内の温度を略一定に保持し、これによりインゴットの成
長方向における温度分布をなくして脈理のないインゴッ
トを製造することができる。請求項３の発明によれば、
インゴットはそのヘッド部の径方向における温度分布に
応じてバーナに対して相対的に平面移動するため、イン
ゴットは径方向に均一に加熱されることとなる。したが
って、インゴットの温度分布をなくして均質性の良いイ
ンゴットを製造することができる。
【図１】本発明の実施の形態に係る石英ガラスの製造装
置の構成を示す図
置の構成を示す図
【図２】本発明の実施の形態に係る石英ガラスの製造装
置の水平方向断面図
置の水平方向断面図
【図３】本発明の実施の形態に係る石英ガラスの製造装
置における制御装置および開閉機構の構成を示すブロッ
ク図
置における制御装置および開閉機構の構成を示すブロッ
ク図
【図４】インゴットの上下方向の位置における温度分布
を示すグラフ
を示すグラフ
【図５】開閉扉の開閉状態を示す図
【図６】開閉扉の開閉状態を示す図
【図７】開閉扉の開閉状態を示す図
１ バーナ ２ 炉 ２Ａ 炉底開口部 ２Ｂ 開口部 ３ ターゲット ４，１２ 観察窓 ８ 熱電対 １０ 炉枠 １５ インゴット １６，１７，１８，１９ 開閉扉 ２０ 開閉機構 ２１ 制御装置
Claims (3)
- 【請求項１】 底部に開口部を有する炉と、該開口部か
ら該炉内に対向するように配設されたインゴット形成用
ターゲットと、該ターゲットに先端を向けて配設された
石英ガラス合成用バーナと、前記開口部から前記炉内に
流入した空気を該炉外へ放出する排気系とを備え、前記
炉内において前記ターゲット上に石英ガラスのインゴッ
トを形成する石英ガラスの製造装置において、 前記開口部の開口面積を変更可能な変更機構を備えたこ
とを特徴とする石英ガラスの製造装置。 - 【請求項２】 前記炉内の温度を測定する温度測定器
と、 該温度測定器による測定結果に基づいて、前記開口部の
開口面積を変更するよう前記変更機構を制御する制御系
とをさらに備えたことを特徴とする請求項１記載の石英
ガラスの製造装置。 - 【請求項３】 前記ターゲットに形成されたインゴット
のヘッド部の径方向の温度分布に応じて、前記ターゲッ
トを移動平面上において前記バーナに対して相対的に平
面移動させる移動機構を備え、 前記開口部は、前記ターゲットの移動範囲に適合する形
状をなすことを特徴とする請求項１または２記載の石英
ガラスの製造装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04556597A JP3832008B2 (ja) | 1997-02-28 | 1997-02-28 | 石英ガラスの製造装置 |
| KR1019980004386A KR100514668B1 (ko) | 1997-02-28 | 1998-02-13 | 석영 유리 제조 장치 및 제조 방법 |
| DE69805877T DE69805877T2 (de) | 1997-02-28 | 1998-02-27 | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von Quartzglasprodukten |
| EP98103452A EP0861812B1 (en) | 1997-02-28 | 1998-02-27 | Quartz glass manufacturing apparatus and method |
| US09/031,516 US6018964A (en) | 1997-02-28 | 1998-02-27 | Method for manufacturing quartz glass |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04556597A JP3832008B2 (ja) | 1997-02-28 | 1997-02-28 | 石英ガラスの製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10236837A true JPH10236837A (ja) | 1998-09-08 |
| JP3832008B2 JP3832008B2 (ja) | 2006-10-11 |
Family
ID=12722884
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04556597A Expired - Lifetime JP3832008B2 (ja) | 1997-02-28 | 1997-02-28 | 石英ガラスの製造装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6018964A (ja) |
| EP (1) | EP0861812B1 (ja) |
| JP (1) | JP3832008B2 (ja) |
| KR (1) | KR100514668B1 (ja) |
| DE (1) | DE69805877T2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008137871A (ja) * | 2006-12-05 | 2008-06-19 | Covalent Materials Tokuyama Corp | 合成シリカガラス製造装置、合成シリカガラス製造方法 |
| JP2009132549A (ja) * | 2007-11-29 | 2009-06-18 | Covalent Materials Tokuyama Corp | 合成石英ガラスの製造装置 |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6044664A (en) * | 1997-09-29 | 2000-04-04 | Nikon Corporation | Synthetic silica glass manufacturing apparatus |
| JP3796561B2 (ja) | 1999-04-21 | 2006-07-12 | 信越化学工業株式会社 | 合成石英ガラスの製造方法 |
| JP2001010833A (ja) * | 1999-06-21 | 2001-01-16 | Nikon Corp | 石英ガラス部材 |
| AU6321600A (en) * | 1999-08-12 | 2001-03-13 | Nikon Corporation | Method for preparation of synthetic vitreous silica and apparatus for heat treatment |
| KR100326173B1 (ko) * | 1999-12-30 | 2002-02-27 | 윤종용 | 고순도 실리카 글래스 제조 공정의 열처리 제어 방법 |
| KR100330233B1 (ko) * | 2000-01-11 | 2002-03-25 | 윤종용 | 솔-젤 공법에 의해 제조되는 실리카 글래스의 착색 방지방법 |
| US6314766B1 (en) | 2000-01-19 | 2001-11-13 | Corning Incorporated | Apparatus for minimizing air infiltration in the production of fused silica glass |
| DE10058558C2 (de) * | 2000-11-24 | 2002-11-07 | Heraeus Quarzglas | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Quarzglaskörpers |
| EP1471038A3 (de) * | 2003-04-26 | 2005-11-23 | Schott Ag | Verfahren zur Herstellung von Glaskörpern aus dotiertem Quarzglas |
| JP4569779B2 (ja) * | 2006-09-07 | 2010-10-27 | 信越化学工業株式会社 | 合成石英ガラスインゴット及び合成石英ガラス部材の製造方法 |
| CN101148311B (zh) * | 2007-09-04 | 2010-04-07 | 湖北菲利华石英玻璃股份有限公司 | 气炼连续熔制透明石英玻璃锭的熔制设备及熔制工艺 |
| EP2878582B1 (en) | 2012-06-27 | 2018-09-26 | Nikon Corporation | SiO2-TiO2-BASED GLASS PRODUCTION METHOD, PRODUCTION METHOD FOR PLATE-SHAPED MEMBER COMPRISING SiO2-TiO2-BASED GLASS, AND SiO2-TiO2-BASED GLASS PRODUCTION DEVICE |
| KR101553657B1 (ko) | 2013-09-27 | 2015-09-16 | (주) 디에스테크노 | 석영유리 잉곳 제조용 버너 이송장치 |
| CN114702233B (zh) * | 2022-05-12 | 2023-12-22 | 江苏亨芯石英科技有限公司 | 一种石英沉积装置及方法 |
| CN117776505A (zh) * | 2023-12-01 | 2024-03-29 | 长飞石英技术(武汉)有限公司 | 大尺寸高均匀合成石英玻璃锭沉积炉及制备方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54131034A (en) * | 1978-03-25 | 1979-10-11 | Fujitsu Ltd | Production of glass for light-transmitting fiber |
| DE3036915C2 (de) * | 1979-10-09 | 1987-01-22 | Nippon Telegraph And Telephone Corp., Tokio/Tokyo | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Lichtleitfaserausgangsformen sowie deren Verwendung zum Ziehen von Lichtleitfasern |
| JPS57100930A (en) * | 1980-12-12 | 1982-06-23 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Preparation of base material for optical fiber |
| JPS6026055B2 (ja) * | 1980-12-23 | 1985-06-21 | 東芝セラミツツクス株式会社 | 石英ガラスおよびその製造方法 |
| JPS59164644A (ja) * | 1983-03-11 | 1984-09-17 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 溶融石英インゴツトの製法 |
| JPS60155538A (ja) * | 1984-01-26 | 1985-08-15 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光学用多孔質母材の製造方法 |
| JPS62171939A (ja) * | 1986-01-27 | 1987-07-28 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 多孔質光フアイバ母材の製造装置 |
| JPH01257146A (ja) * | 1988-04-05 | 1989-10-13 | Japan Metals & Chem Co Ltd | 合成石英インゴット製造用保温炉 |
| JPH04154639A (ja) * | 1990-10-17 | 1992-05-27 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 石英ガラス製造装置 |
| JP2814867B2 (ja) * | 1993-02-10 | 1998-10-27 | 株式会社ニコン | 石英ガラスの製造方法 |
| JPH0717737A (ja) * | 1993-07-02 | 1995-01-20 | Showa Electric Wire & Cable Co Ltd | 光ファイバ母材の製造装置 |
| US6087283A (en) * | 1995-01-06 | 2000-07-11 | Nikon Corporation | Silica glass for photolithography |
-
1997
- 1997-02-28 JP JP04556597A patent/JP3832008B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-02-13 KR KR1019980004386A patent/KR100514668B1/ko not_active Expired - Lifetime
- 1998-02-27 DE DE69805877T patent/DE69805877T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-02-27 US US09/031,516 patent/US6018964A/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-02-27 EP EP98103452A patent/EP0861812B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008137871A (ja) * | 2006-12-05 | 2008-06-19 | Covalent Materials Tokuyama Corp | 合成シリカガラス製造装置、合成シリカガラス製造方法 |
| JP2009132549A (ja) * | 2007-11-29 | 2009-06-18 | Covalent Materials Tokuyama Corp | 合成石英ガラスの製造装置 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0861812A1 (en) | 1998-09-02 |
| DE69805877D1 (de) | 2002-07-18 |
| KR100514668B1 (ko) | 2006-02-28 |
| EP0861812B1 (en) | 2002-06-12 |
| DE69805877T2 (de) | 2002-12-19 |
| KR19980071345A (ko) | 1998-10-26 |
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