JPH10236847A - Optical thin film, its forming composition and ultraviolet-absorbing and heat ray-reflecting glass using the composition - Google Patents

Optical thin film, its forming composition and ultraviolet-absorbing and heat ray-reflecting glass using the composition

Info

Publication number
JPH10236847A
JPH10236847A JP35270097A JP35270097A JPH10236847A JP H10236847 A JPH10236847 A JP H10236847A JP 35270097 A JP35270097 A JP 35270097A JP 35270097 A JP35270097 A JP 35270097A JP H10236847 A JPH10236847 A JP H10236847A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
oxide
thin film
mol
refractive index
optical thin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP35270097A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koichiro Nakamura
浩一郎 中村
Koichi Maeda
浩一 前田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Sheet Glass Co Ltd
Original Assignee
Nippon Sheet Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Sheet Glass Co Ltd filed Critical Nippon Sheet Glass Co Ltd
Priority to JP35270097A priority Critical patent/JPH10236847A/en
Publication of JPH10236847A publication Critical patent/JPH10236847A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical thin film having a high refractive index to enhance the selectivity in heat ray reflection and capable of absorbing UV and a UV-absorbing and heat ray-reflecting glass using the thin film. SOLUTION: This optical thin film contains titanium oxide, cerium oxide and bismuth oxide. In this case, the contents of the titanium oxide, cerium oxide and bismuth oxide are expressed by the coordinates (TiO2 mol%, CeO mol% and Bi2 O3 mol%) lie within the tetragon consisting of A(4, 1, 95), B(98, 1, 1), C(20, 79, 1) and D(3, 14, 83). Meanwhile, this UV-absorbing and heat ray- reflecting glass is formed by laminating a high-refractive-index film layer and a low-refractive-index film layer alternately on a transparent glass substrate at least in three layers, and at least one layer among the high-refractive-index films is an optical thin film.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は光学薄膜、特に透明
ガラス基材の表面に被覆して紫外線吸収および熱線反射
機能を付与するに適した高屈折率膜、およびその高屈折
率膜を形成するための被覆組成物、およびその高屈折率
膜を用いた紫外線吸収熱線反射ガラスに関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention forms an optical thin film, particularly a high refractive index film suitable for providing a function of absorbing ultraviolet rays and reflecting heat rays by coating the surface of a transparent glass substrate, and the high refractive index film. And a UV-absorbing heat ray reflective glass using the high refractive index film.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、車内、室内に流入する太陽光線の
紫外線および熱線領域を遮蔽して、内装品の劣化防止、
日焼けの防止、熱暑感の低減および冷房機器負荷の低減
をはかる紫外線熱線遮蔽ガラスの要求が高まってきてい
る。この目的を達成するために、紫外線吸収能をもつ高
屈折率層と低屈折率層を交互にガラス表面に積層した紫
外線吸収熱線反射ガラスや、可視光線を透過し熱線を選
択的に反射するような紫外線吸収熱線反射ガラスの開発
がなされている。
2. Description of the Related Art In recent years, ultraviolet rays and heat rays of sunlight entering a vehicle or a room are shielded to prevent deterioration of interior components.
There is an increasing demand for an ultraviolet heat ray shielding glass for preventing sunburn, reducing the feeling of heat and heat, and reducing the load on cooling equipment. In order to achieve this purpose, a high-refractive-index layer having a high-refractive-index layer and a low-refractive-index layer having an ultraviolet-absorbing ability are alternately laminated on the glass surface, or a heat-reflective glass that transmits visible light and selectively reflects heat rays. Various types of UV absorbing heat ray reflective glass have been developed.

【0003】ところでこの紫外線吸収熱線反射ガラスを
可視光線透過率の下限が70%と定められている自動車
ウィンドシールドとして用いるためには、可視光線の透
過率を減ずることなく、熱線領域のみの反射率を高める
ことが必要である。このためには高屈折率層と低屈折率
層について、これらの界面の数(積層数)を増やす方法
と高屈折率層の屈折率と低屈折率層の屈折率の差を大き
くする方法などがある。
[0003] In order to use this ultraviolet ray absorbing heat ray reflective glass as an automotive windshield in which the lower limit of the visible light ray transmittance is set to 70%, the reflectivity of only the heat ray region without reducing the visible ray transmittance. It is necessary to increase. For this purpose, for the high refractive index layer and the low refractive index layer, a method of increasing the number of interfaces (the number of layers) of these interfaces and a method of increasing the difference between the refractive index of the high refractive index layer and the refractive index of the low refractive index layer are used. There is.

【0004】たとえば特開平6−345488号には、
高屈折率層と低屈折率層の2層構成からなる熱線反射膜
を被覆した熱線反射ガラスが述べられている。ここで記
載されている低屈折率層はガラス基板と高屈折率層の中
間の屈折率をもっている。この熱線反射ガラスは、層の
数が2であることおよび低屈折率層が中間の屈折率をも
つことのために、その熱線反射性能は十分とは言えな
い。
For example, JP-A-6-345488 discloses that
A heat reflecting glass coated with a heat reflecting film having a two-layer structure of a high refractive index layer and a low refractive index layer is described. The low-refractive-index layer described here has an intermediate refractive index between the glass substrate and the high-refractive-index layer. This heat ray reflective glass has insufficient heat ray reflection performance because the number of layers is two and the low refractive index layer has an intermediate refractive index.

【0005】また特開平4−177204号には紫外線
および赤外線カットフィルターについて、そして特開平
8−104544号には熱線反射紫外線吸収ガラスおよ
びその製造法について、それぞれ公開されている。これ
らの公報で開示されている熱線反射ガラスに用いられて
いる高屈折率膜としては、文献〔Akio Makishima,etal,
J.Am.ceram.Soc.,69[6]C-127-C-129(1986)〕に記載され
ているような、酸化セリウムまたは酸化物セリウムと酸
化チタンを主成分としてなる紫外線吸収膜を用いてい
る。この酸化セリウムと酸化チタンからなる膜は、その
紫外線吸収能を発現させるような組成比率に選定してい
る。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-177204 discloses an ultraviolet and infrared cut filter, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-104544 discloses a heat-reflection ultraviolet absorbing glass and a method for producing the same. As a high refractive index film used for the heat ray reflective glass disclosed in these publications, literature (Akio Makishima, et al.,
J. Am. Ceram. Soc., 69 [6] C-127-C-129 (1986)], a cerium oxide or an ultraviolet absorbing film containing cerium oxide and titanium oxide as main components. Used. The composition ratio of the film composed of cerium oxide and titanium oxide is selected so as to exhibit its ultraviolet absorbing ability.

【0006】また特開平8−239244号には、高屈
折率層−低屈折率層−高屈折率層の3層構成からなり、
各層が170〜400nmの光学膜厚を有する紫外線吸
収ガラスが記載され、ここで酸化チタンからなる高屈折
率層2層のうち1層が、酸化物セリウムを、好ましくは
酸化物セリウムの酸化チタンに対する重量比が、0.1
〜5.0になるように含有させることが開示されてい
る。
JP-A-8-239244 discloses a three-layer structure of a high refractive index layer, a low refractive index layer, and a high refractive index layer.
An ultraviolet absorbing glass in which each layer has an optical thickness of 170 to 400 nm is described, wherein one of two high refractive index layers made of titanium oxide is composed of cerium oxide, preferably cerium oxide with respect to titanium oxide. Weight ratio is 0.1
It is disclosed to be contained so as to be ~ 5.0.

【0007】また特開平7−281023号には、酸化
チタンおよび酸化ビスマスを含有する高屈折率膜、及び
それを用いた赤外線反射膜付き白熱電球について述べら
れている。
[0007] Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-281023 describes a high refractive index film containing titanium oxide and bismuth oxide, and an incandescent lamp with an infrared reflecting film using the same.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかし上記の紫外線赤
外線カットフィルター(特開平4−177204号)、
熱線反射紫外線吸収ガラス(特開平8−104544
号)、および紫外線吸収ガラス(特開平8−23924
4号)では熱線反射性能が最大限には発揮されてはいな
かった。また、上記赤外線反射膜付き白熱電球(特開平
7−281023号)に用いられている高屈折率膜に
は、十分な紫外線吸収能が発現されてはいなかった。
However, the above-mentioned ultraviolet / infrared cut filter (Japanese Patent Laid-Open No. 4-177204),
Heat-reflecting ultraviolet absorbing glass (Japanese Patent Laid-Open No. 8-104544)
No.) and an ultraviolet absorbing glass (JP-A-8-23924).
No. 4), the heat ray reflection performance was not maximized. In addition, the high refractive index film used in the incandescent lamp with the infrared reflective film (Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-281023) did not exhibit sufficient ultraviolet absorbing ability.

【0009】本発明はこのような問題点を解決するため
になされたものであり、熱線反射選択性能を高めるため
の高屈折率を有し、かつ紫外線吸収性能を有する光学薄
膜およびこれを用いてなる紫外線吸収熱線反射ガラスを
提供することを目的とするものである。
The present invention has been made in order to solve such problems, and has an optical thin film having a high refractive index for improving heat ray reflection selecting performance and an ultraviolet absorbing performance, and using the same. It is an object of the present invention to provide an ultraviolet ray absorbing heat ray reflective glass.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、酸化チタンお
よび酸化セリウムおよび酸化ビスマスを含有することを
特徴とする光学薄膜である。
The present invention is an optical thin film containing titanium oxide, cerium oxide and bismuth oxide.

【0011】以下に本発明を詳細に説明する。本発明に
おける高屈折率を有する光学薄膜は酸化チタン、酸化セ
リウムおよび酸化ビスマスを含有する。酸化チタンは薄
膜の屈折率を高めかつ薄膜に紫外線吸収性能を与えるの
に役立ち、酸化セリウムは薄膜に紫外線吸収性能を与え
るのに役立つ。薄膜中の酸化セリウムの割合が少なすぎ
ると紫外線吸収の効果がみられない。逆に酸化セリウム
の割合が多すぎると、屈折率の低下をもたらす。従って
薄膜中の酸化チタンおよび酸化セリウムの含有量の比率
は、それぞれの酸化状態をTiO2、CeO2と仮定して
これらのモル比で表して、TiO2とCeO2の合計に対
するCeO2の比、CeO2/(TiO2+CeO2)が
0.99〜80%であることが必要であり、より好まし
い比率は20〜60%であり、さらに好ましい比率は3
0〜50%である。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. The optical thin film having a high refractive index in the present invention contains titanium oxide, cerium oxide and bismuth oxide. Titanium oxide helps to increase the refractive index of the thin film and gives the thin film ultraviolet absorption performance, and cerium oxide helps to give the thin film ultraviolet absorption performance. If the ratio of cerium oxide in the thin film is too small, the effect of ultraviolet absorption is not seen. Conversely, if the proportion of cerium oxide is too large, the refractive index will decrease. Thus the ratio of the content of titanium oxide and cerium oxide in the thin film, expressed in these molar ratios assuming respective oxidation states and TiO 2, CeO 2, the ratio of CeO 2 to the total of TiO 2 and CeO 2 , CeO 2 / (TiO 2 + CeO 2 ) needs to be 0.99 to 80%, a more preferable ratio is 20 to 60%, and a further preferable ratio is 3
0 to 50%.

【0012】また酸化チタンおよび酸化セリウムを含有
する薄膜中に、酸化ビスマスを共存させることにより屈
折率を向上させることができる。薄膜中の酸化ビスマス
の割合がごく少量でも屈折率を向上させる効果はある
が、添加しすぎると相対的に酸化チタンおよび酸化セリ
ウムの割合が減少するため、紫外線吸収の効果が減少す
る。従って薄膜中の酸化チタンおよび酸化ビスマスの含
有量の比率は、ビスマスの酸化状態をBi23と仮定す
ると、それぞれTiO2およびBi23のモル比で表し
て、TiO2とBi23の合計に対するBi23の比、
Bi23/(TiO2+Bi23)が1〜96%である
ことが必要であり、より好ましい比率は4〜60%であ
り、さらに好ましい比率は4〜50%である。
The refractive index can be improved by allowing bismuth oxide to coexist in the thin film containing titanium oxide and cerium oxide. Even if the proportion of bismuth oxide in the thin film is very small, there is an effect of improving the refractive index, but if too much is added, the proportions of titanium oxide and cerium oxide relatively decrease, so that the effect of ultraviolet absorption decreases. Thus the ratio of the content of titanium oxide and bismuth oxide in the thin film, assuming the oxidation state of bismuth Bi 2 O 3, respectively, in mole ratio of TiO 2 and Bi 2 O 3, TiO 2 and Bi 2 O the ratio of Bi 2 O 3 to the total of 3,
Bi 2 O 3 / (TiO 2 + Bi 2 O 3 ) needs to be 1 to 96%, a more preferable ratio is 4 to 60%, and a still more preferable ratio is 4 to 50%.

【0013】従って本発明の高屈折率および紫外線吸収
を有する光学薄膜中の酸化チタン、酸化セリウム、およ
び酸化ビスマスの含有率は、TiO2−CeO2−Bi2
3系三元組成において、図1のグラフに示すように、
それぞれTiO2、CeO2、Bi23のモル比を座標点
(TiO2モル%,CeO2モル%,Bi23モル%)で
表わして、A(4,1,95)、B(98,1,1)、C(20,79,
1)、D(3,14,83)からなる四角形ABCDの範囲内の
比率であることが必要であり、より好ましくは、E(3
6,9,55)、F(77,20,3)、G(39,59,2)、H(24,38,
38)からなる四角形EFGHの範囲内の比率であり、さ
らに好ましくはI(54,23,23)、J(68,29,3)、K(4
9,48.5,2)、L(39,39,22)からなる四角形IJKLの
範囲内の比率である。四角形IJKLの範囲は、薄膜の
屈折率を高め、薄膜に紫外線吸収性能を与え、かつ薄膜
が白濁するおそれが小さいので最も好ましい。
Therefore, the content of titanium oxide, cerium oxide and bismuth oxide in the optical thin film having a high refractive index and ultraviolet absorption of the present invention is TiO 2 -CeO 2 -Bi 2
In the O 3 -based ternary composition, as shown in the graph of FIG.
The molar ratios of TiO 2 , CeO 2 , and Bi 2 O 3 are respectively represented by coordinate points (TiO 2 mol%, CeO 2 mol%, Bi 2 O 3 mol%), and A (4,1,95), B ( 98,1,1), C (20,79,
1) and D (3,14,83) must be within the range of a square ABCD, more preferably E (3,14,83).
6,9,55), F (77,20,3), G (39,59,2), H (24,38,
38), and more preferably a ratio within the range of a square EFGH consisting of I (54,23,23), J (68,29,3), K (4
9,48.5,2) and L (39,39,22) within the range of a square IJKL. The range of the square IJKL is most preferable because the refractive index of the thin film is increased, the thin film is provided with ultraviolet absorbing performance, and the thin film is less likely to be clouded.

【0014】紫外線吸収性能を有する酸化チタンおよび
酸化セリウムの薄膜の屈折率は、薄膜を形成する加熱温
度にも依存するが、同じ焼成条件で得られた薄膜の場
合、酸化ビスマスを含有させることにより0.01から
1.00の範囲で向上させることができる。
The refractive index of a thin film of titanium oxide and cerium oxide having ultraviolet absorption performance also depends on the heating temperature for forming the thin film. In the case of a thin film obtained under the same sintering conditions, the thin film contains bismuth oxide. It can be improved in the range of 0.01 to 1.00.

【0015】同じ焼成条件で得られた薄膜でTiO2
60モル%、CeO2 40モル%からなり紫外線吸収
性能を有する光学薄膜は、例えば550nmの波長の光
に対する屈折率は1.99であるが、酸化ビスマスを含
有させた本発明によれば紫外線吸収性能を有し、かつ
2.00〜2.35の高い屈折率(波長550nm)を
有する光学薄膜が得られる。そして本発明の光学薄膜は
通常は50〜500nmの幾何学的厚みを有する。
[0015] The thin film obtained under the same firing conditions is made of TiO 2
An optical thin film composed of 60 mol% and 40 mol% of CeO 2 and having an ultraviolet absorbing performance has, for example, a refractive index of 1.99 with respect to light having a wavelength of 550 nm. An optical thin film having performance and a high refractive index (wavelength: 550 nm) of 2.00 to 2.35 can be obtained. And the optical thin film of the present invention usually has a geometric thickness of 50 to 500 nm.

【0016】本発明の光学薄膜は酸化チタン、酸化セリ
ウム、および酸化ビスマスを含有するが、屈折率および
紫外線吸収性能をそれほど下げなければ、上記成分以外
の成分、例えばZr酸化物、Ta酸化物、Nb酸化物、
W酸化物、Sb酸化物、Si酸化物等を少量、例えばこ
れらを合計で10モル%以下含有してもよい。
Although the optical thin film of the present invention contains titanium oxide, cerium oxide and bismuth oxide, components other than the above components, such as Zr oxide, Ta oxide, Nb oxide,
A small amount of W oxide, Sb oxide, Si oxide, etc., for example, may be contained in a total of 10 mol% or less.

【0017】高屈折率膜と低屈折率膜の層を交互に透明
ガラス基材上に、少なくとも3層積層させてなる熱線反
射ガラスにおいて、前記高屈折率膜のうち少なくとも1
層を上記の紫外線吸収性能および高屈折率を有する光学
薄膜とすることにより紫外線吸収熱線反射ガラスが得ら
れる。前記少なくとも3層の内の少なくとも2層が高屈
折率膜であることが好ましい。また前記高屈折率膜のす
べてを上記の紫外線吸収性能および高屈折率を有する光
学薄膜とすることにより、紫外線吸収性能、熱線反射性
能を高めることができるので、さらに好ましい。
In a heat ray reflective glass comprising at least three layers of high refractive index films and low refractive index films alternately laminated on a transparent glass substrate, at least one of the high refractive index films
By making the layer an optical thin film having the above-mentioned ultraviolet absorbing performance and high refractive index, an ultraviolet absorbing heat ray reflective glass can be obtained. It is preferable that at least two of the at least three layers are high refractive index films. Further, it is more preferable that all the high refractive index films are optical thin films having the above-mentioned ultraviolet absorbing performance and high refractive index, since the ultraviolet absorbing performance and the heat ray reflecting performance can be enhanced.

【0018】高屈折率膜と低屈折率膜の層数について
は、この数が多いほど設定波長の反射率を高めることが
できることから多いほうが望ましい。しかしながら層数
を多くすると焼成によりクラックやピンホールが発生し
て、膜強度の低下をもたらすこと、あるいはコーティン
グ回数が増えコスト的に望ましくないことなどの観点か
ら、層数は7層以下が好ましく、より好ましくは5層以
下、更に3層が最も好ましい。
As for the number of layers of the high refractive index film and the low refractive index film, it is desirable that the larger the number, the higher the reflectance at the set wavelength can be. However, when the number of layers is increased, cracks and pinholes are generated by baking, and the number of layers is preferably 7 or less, from the viewpoint that the film strength is reduced, or the number of coatings is increased and the cost is undesirable. More preferably, 5 layers or less, and most preferably, 3 layers.

【0019】高屈折率膜と低屈折率膜の積層の順序につ
いては、透明基板に高屈折率膜を最初に形成してその後
低屈折率膜を形成してもよいし、その逆の順序で積層し
てもよい。しかしながら、設定する熱線(赤外線)の中
心波長における反射率を高める観点から、積層数が奇数
で最上層もしくは最下層が高屈折率膜の層であるほうが
好ましい。この場合積層数が3の場合には、高屈折率膜
が少なくとも2層必要であることから、高屈折率膜を最
初に透明基板上に形成させなければならない。また、積
層数が偶数である場合に、最下層または最上層の低屈折
率膜の光学膜厚は設定波長の8分の1として、色調の安
定性を向上させてもよい。
Regarding the order of laminating the high refractive index film and the low refractive index film, the high refractive index film may be formed first on the transparent substrate and then the low refractive index film may be formed, or vice versa. They may be stacked. However, from the viewpoint of increasing the reflectance at the center wavelength of the heat ray (infrared ray) to be set, it is preferable that the number of layers is an odd number and the uppermost layer or the lowermost layer is a layer of a high refractive index film. In this case, when the number of layers is three, at least two high-refractive-index films are required, so that the high-refractive-index film must be first formed on a transparent substrate. When the number of layers is even, the optical film thickness of the lowermost or uppermost low-refractive-index film may be set to 8 of the set wavelength to improve color stability.

【0020】前記高屈折率膜は、680nmから200
0nmの波長の光(熱線)の1/4波長、すなわち17
0〜500nmの光学膜厚を有することが好ましく、7
00nmから1200nmの波長の光の1/4波長、す
なわち175〜300nmの光学膜厚を有することがよ
り好ましく、それにより、可視光線の透過率を透明基板
のそのものの値から大きく減ずることなく熱線領域の反
射率を高めることができる。また、低屈折率膜はその屈
折率が高屈折率膜のそれよりも小さいものであればよい
が、本発明の高屈折率膜と交互に積層した場合に熱線の
反射性能を高めるために、透明基板の屈折率と同程度か
それよりも低いものが望ましい。透明基板として用いら
れるフロートガラスは、通常約1.5の屈折率を有す
る。低屈折率膜としては例えば屈折率が1.5以下の物
質、例えば屈折率が1.46(波長460〜850nm
の光に対して)のシリカ単独およびシリカを主成分とす
る膜が好便に用いられ、高屈折率膜の光学膜厚と同様
に、熱線の1/4波長、すなわち170〜500nmの
光学膜厚を有することが好ましく、700nmから12
00nmの波長の光の1/4波長、すなわち175〜3
00nmの光学膜厚を有することがより好ましい。
The high refractive index film has a thickness of 680 nm to 200 nm.
1/4 wavelength of light (heat ray) having a wavelength of 0 nm, that is, 17
It preferably has an optical thickness of 0 to 500 nm,
More preferably, it has an optical film thickness of 4 wavelength of light having a wavelength of from 00 nm to 1200 nm, that is, 175 to 300 nm, so that the visible light transmittance is not significantly reduced from the value of the transparent substrate itself. Can be increased. Further, the low refractive index film may have a refractive index smaller than that of the high refractive index film, but in order to enhance the heat ray reflection performance when alternately laminated with the high refractive index film of the present invention, It is desirable that the refractive index is equal to or lower than the refractive index of the transparent substrate. Float glass used as a transparent substrate usually has a refractive index of about 1.5. As the low refractive index film, for example, a substance having a refractive index of 1.5 or less, for example, a refractive index of 1.46 (wavelength 460 to 850 nm)
Of silica alone and a film containing silica as a main component are conveniently used, and an optical film having a wavelength of 1/4 wavelength of heat rays, that is, 170 to 500 nm, like the optical film thickness of the high refractive index film. Preferably from 700 nm to 12
1 / wavelength of light having a wavelength of 00 nm, that is, 175 to 3
More preferably, it has an optical thickness of 00 nm.

【0021】このように高屈折率膜として非常に高い屈
折率を有するものを用い、かつ高屈折率膜の光学膜厚お
よび低屈折率膜の光学膜厚を熱線の1/4波長の値とす
ることにより、熱線領域の反射率を選択的に高め、かつ
可視光線透過率を透明基板そのものの値に近い値に維持
することができる。
As described above, a high-refractive-index film having a very high refractive index is used, and the optical film thickness of the high-refractive-index film and the optical film thickness of the low-refractive-index film are set to the value of 1 / wavelength of the heat ray. By doing so, the reflectance in the heat ray region can be selectively increased, and the visible light transmittance can be maintained at a value close to the value of the transparent substrate itself.

【0022】本発明の高屈折率膜および低屈折率膜を形
成する方法としては、スパッタ法、CVD法で形成するこ
とが可能であるが、コストの面からゾル-ゲル法による
方が望ましい。ゾル−ゲル法によるコーティングについ
てはスピンコート法、ディップコート法、フローコート
法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷
法、スクリーン印刷法などが用いられる。
The high refractive index film and the low refractive index film of the present invention can be formed by a sputtering method or a CVD method, but it is more preferable to use the sol-gel method from the viewpoint of cost. For the coating by the sol-gel method, a spin coating method, a dip coating method, a flow coating method, a roll coating method, a gravure coating method, a flexographic printing method, a screen printing method and the like are used.

【0023】本発明の高屈折率膜の形成に用いられるゾ
ル−ゲル法によるコーティング液組成物はチタン化合
物、セリウム化合物、ビスマス化合物および溶媒からな
り、チタン化合物とセリウム化合物とビスマス化合物を
有機溶媒に混合することにより得られる。チタン化合物
としてはチタンアルコキシド、チタンアルコキシド塩化
物、チタンキレート化物などが用いられる。チタンアル
コキシドとしてはチタンメトキシド、チタンエトキシ
ド、チタンn-プロポキシド、チタンn-ブトキシド、チタ
ンイソブトキシド、チタンメトキシプロポキシド、チタ
ンステアリルオキシド、チタン2-エチルヘキシオキシド
などが例示できる。チタンアルコキシド塩化物としては
チタンクロリドトリイソプロポキシド、チタンジクロリ
ドジエトキシドなどが挙げられる。
The coating liquid composition by the sol-gel method used for forming the high refractive index film of the present invention comprises a titanium compound, a cerium compound, a bismuth compound and a solvent, and the titanium compound, the cerium compound and the bismuth compound are converted to an organic solvent. Obtained by mixing. As the titanium compound, titanium alkoxide, titanium alkoxide chloride, titanium chelate and the like are used. Examples of the titanium alkoxide include titanium methoxide, titanium ethoxide, titanium n-propoxide, titanium n-butoxide, titanium isobutoxide, titanium methoxypropoxide, titanium stearyl oxide, and titanium 2-ethylhexoxide. Examples of the titanium alkoxide chloride include titanium chloride triisopropoxide, titanium dichloride diethoxide and the like.

【0024】チタンキレート化物としては、チタントリ
イソプロポキサシド(2,4-ペンタンジオネート)、チタ
ンジイソプロポキシド(ビス-2,4-ペンタンジオネー
ト)、チタンアリルアセテートトリイソプロポキシド、
チタンビス(トリエタノールアミン)ジイソプロポキシ
ド、チタンジ-n-ブトキシド(ビス-2,4-ペンタンジオ
ネート)などが用いられる。セリウム化合物としては硝
酸セリウム6水和物、塩化セリウム、セリウムイソプロ
ポキシド、セリウムt-ブトキシド、セリウムメトキシエ
トキシドなどが用いられる。ビスマス化合物としては硝
酸ビスマス、酢酸ビスマス、オキシ酢酸ビスマス、塩化
ビスマス、ビスマスヘキサフルオロペンタジオネート、
ビスマスt-ペントキサイド、ビスマステトラメチルヘプ
タンジオネートなどが用いられる。
Examples of the titanium chelate include titanium triisopropoxaside (2,4-pentanedionate), titanium diisopropoxide (bis-2,4-pentanedionate), titanium allyl acetate triisopropoxide,
Titanium bis (triethanolamine) diisopropoxide, titanium di-n-butoxide (bis-2,4-pentanedionate) and the like are used. As the cerium compound, cerium nitrate hexahydrate, cerium chloride, cerium isopropoxide, cerium t-butoxide, cerium methoxy ethoxide and the like are used. Bismuth compounds include bismuth nitrate, bismuth acetate, bismuth oxyacetate, bismuth chloride, bismuth hexafluoropentadionate,
Bismuth t-pentoxide, bismuth tetramethylheptanedionate and the like are used.

【0025】前記コーティング液組成物中には、チタン
化合物、セリウム化合物、およびビスマス化合物が、そ
れぞれTiO2、CeO2、およびBi23に換算して、
それらの酸化物換算モル比の座標点(TiO2モル%、
CeO2モル%、Bi23モル%)で表わして、A(4,
1,95)、B(98,1,1)、C(20,79,1)、D(3,14,83)
からなる四角形ABCDの範囲内、より好ましくは、E
(36,9,55)、F(77,20,3)、G(39,59,2)、H(24,
38,38)からなる四角形EFGHの範囲内、さらに好ま
しくは、I(54,23,23)、J(68,29,3)、K(49,48.
5,2)、L(39,39,22)からなる四角形IJKLの範囲
内の比率になるように含有される。四角形IJKLの範
囲は、膜の特性が優れることの外に、コーティング液組
成物の寿命が長く長期間貯蔵できるので最も好ましい。
In the coating liquid composition, a titanium compound, a cerium compound, and a bismuth compound are converted into TiO 2 , CeO 2 , and Bi 2 O 3 , respectively.
Coordinate points of the molar ratio of these oxides (TiO 2 mol%,
Expressed as CeO 2 mol%, Bi 2 O 3 mol%, A (4,
1,95), B (98,1,1), C (20,79,1), D (3,14,83)
Within the range of a square ABCD consisting of
(36,9,55), F (77,20,3), G (39,59,2), H (24,
38, 38), more preferably I (54, 23, 23), J (68, 29, 3), K (49, 48.
5,2) and L (39,39,22) in a ratio within the range of a square IJKL. The range of the square IJKL is most preferable because the coating liquid composition has a long life and can be stored for a long period of time, in addition to having excellent characteristics of the film.

【0026】本発明の低屈折率膜の形成に用いられるゾ
ル−ゲル法によるコーティング液組成物は、ケイ素化合
物および溶媒からなる。この組成物としては、シリコン
アルコキシドをアルコールなどの溶媒に混ぜ、酸性や塩
基性の触媒で加水分解、重合を進めたものが用いられ
る。シリコンアルコキシドとしては、シリコンメトキシ
ド、シリコンエトキシドあるいはそれらのオリゴマー体
が用いられる。酸触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸、酢
酸、しゅう酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、リ
ン酸、フッ酸、蟻酸などが用いられる。塩基性触媒とし
ては、アンモニア、アミン類が用いられる。シリカにケ
イ素以外の金属の酸化物、例えば酸化チタン、酸化セリ
ウム、酸化ビスマス、酸化アルミニウム、酸化ジルコニ
ウムなどを著しく屈折率が高くならない範囲で、膜の機
械的強度の向上、耐環境性の向上、あるいは屈折率を調
整するために混ぜても構わない。あるいは超微粒子状の
シリカや、シリカにフッ素を含有させたり、多孔質にし
て更に屈折率を低くしたものを用いてもよい。
The sol-gel coating solution composition used for forming the low refractive index film of the present invention comprises a silicon compound and a solvent. As this composition, a composition obtained by mixing silicon alkoxide with a solvent such as alcohol, and promoting hydrolysis and polymerization with an acidic or basic catalyst is used. As the silicon alkoxide, silicon methoxide, silicon ethoxide, or an oligomer thereof is used. Examples of the acid catalyst include hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, acetic acid, oxalic acid, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, phosphoric acid, hydrofluoric acid, and formic acid. As the basic catalyst, ammonia and amines are used. Oxide of a metal other than silicon to silica, for example, titanium oxide, cerium oxide, bismuth oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, etc., as long as the refractive index is not significantly increased, the mechanical strength of the film is improved, the environmental resistance is improved, Alternatively, they may be mixed to adjust the refractive index. Alternatively, ultrafine silica particles or silica particles containing fluorine or having a further reduced refractive index by being porous may be used.

【0027】上記高屈折率膜および低屈折率膜の形成に
用いられるコーティング液組成物に用いられる有機溶媒
は、コーティング方法に依存するが、メタノール、エタ
ノール、イソプロパノール、ブタノール、ヘキサノー
ル、オクタノール、2-メトキシエタノール、2-エトキシ
エタノール、2-ブトキシエタノール、セロソルブアセテ
ート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、へキ
シレングリコール、ジエチレングリコール、トリプロピ
レングリコール、ジアセトンアルコールなどが挙げられ
る。本発明のコーティング液組成物は、上述した溶媒を
単独でまたはコーティング液の粘度、表面張力などを調
節するために複数用いても構わない。また、安定化剤、
レベリング剤、増粘剤などを必要に応じて少量加えても
構わない。溶媒使用量は、最終的に得られる高屈折率膜
および低屈折率膜の膜厚、採用するコーティング方法に
も依存するが、通常は全固形分が1〜20%の範囲内に
入るように使用される。
The organic solvent used in the coating liquid composition used for forming the high refractive index film and the low refractive index film depends on the coating method, but includes methanol, ethanol, isopropanol, butanol, hexanol, octanol, Examples include methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 2-butoxyethanol, cellosolve acetate, diethylene glycol monoethyl ether, hexylene glycol, diethylene glycol, tripropylene glycol, diacetone alcohol and the like. In the coating liquid composition of the present invention, the above-mentioned solvent may be used alone or a plurality of the solvents may be used to adjust the viscosity, surface tension and the like of the coating liquid. Also, a stabilizer,
A small amount of a leveling agent, a thickener, or the like may be added as needed. The amount of the solvent used depends on the thickness of the high-refractive-index film and low-refractive-index film finally obtained, and also on the coating method to be employed, but usually the total solid content is within the range of 1 to 20%. used.

【0028】上記コーティング液組成物は、前記の種々
の塗布方法を利用してガラス基体上に塗布し、その後酸
化性雰囲気中(空気中)で100〜300℃の温度で5
〜120分乾燥した後、500〜800℃の温度で1〜
100分間焼成することにより高屈折率膜または低屈折
率膜が形成される。積層すべき高屈折率膜および低屈折
率膜のそれぞれについて乾燥・焼成の操作を行ってもよ
いが、高屈折率膜および低屈折率膜の塗布および乾燥を
それぞれ行った後、焼成を一括しておこなってもよい。
また、上記の100〜300℃の熱乾燥の代わりに、紫
外線、可視光線などにより10秒〜10分間光照射乾燥
を行ってもよく、また両者を併用してもよい。
The above-mentioned coating liquid composition is applied to a glass substrate by using the above-mentioned various application methods, and then applied at a temperature of 100 to 300 ° C. in an oxidizing atmosphere (in air).
After drying for up to 120 minutes,
By baking for 100 minutes, a high refractive index film or a low refractive index film is formed. Drying and baking operations may be performed for each of the high-refractive-index film and the low-refractive-index film to be laminated, but after applying and drying the high-refractive-index film and the low-refractive-index film, respectively, the baking is performed at once. May be performed.
Further, instead of the above-mentioned heat drying at 100 to 300 ° C., light irradiation drying may be performed for 10 seconds to 10 minutes with ultraviolet rays, visible light, or the like, or both may be used in combination.

【0029】本発明の光学薄膜が紫外線吸収性能を有す
る理由については、Ti−O−Ce結合が関与している
と推定される。またBiが存在する場合に屈折率が向上
する理由については、薄膜内部でチタンおよびビスマス
が、チタンとビスマスの複合酸化物TixBiyz、例え
ばビスマスタイタネート類似化合物、チタン酸化物Ti
xzおよびビスマス酸化物Biyzの単独または混合状
態、結晶質または非晶質との混合状態で存在すると考え
られ、これらのうちのいずれかが屈折率の向上に寄与し
ているものと推定される。
The reason why the optical thin film of the present invention has an ultraviolet absorbing performance is presumed to be due to the Ti—O—Ce bond. The reason why the refractive index is improved when Bi is present is that titanium and bismuth in the thin film are composed of a composite oxide of titanium and bismuth, Ti x Bi y O z , for example, a bismuth itanate-like compound, titanium oxide Ti
x O z and bismuth oxide Bi y O z are considered to exist alone or in a mixed state, or in a mixed state with crystalline or amorphous, and any of these contributes to the improvement of the refractive index. It is estimated to be.

【0030】本発明の高屈折率膜を低屈折率膜と組み合
わせて、通常の無着色ガラス基板、紫外線吸収無着色ガ
ラス基板または紫外線吸収着色ガラス基板に積層するこ
とにより、基板ガラスの可視光透過率をあまり低下させ
ることなく、しかも基板ガラスの透過色調および反射色
調を大きく変えることなく、70%以上の可視光線透過
率(Ya)、60%以下でかつ可視光線透過率よりも1
5%以上低い太陽光線透過率(Tg)および25%以下
の紫外線透過率(ISO 9050による。以下TUV(I
SO)で表す)を有する紫外線吸収熱線反射ガラスが得ら
れる。特に基板ガラスとして、紫外線透過率Tuv(IS
O)が10%以下の値をもつ、2.0〜5.0mmの厚み
の着色ガラス板を用いることにより、車両窓用に適した
紫外線吸収熱線反射ガラスが得られる。
By combining the high refractive index film of the present invention with a low refractive index film and laminating it on a normal non-colored glass substrate, an ultraviolet-absorbing non-colored glass substrate or an ultraviolet-absorbing colored glass substrate, the visible light transmission of the substrate glass is achieved. The visible light transmittance (Ya) of 70% or more, 60% or less and 1% less than the visible light transmittance without significantly lowering the transmittance and significantly changing the transmission color tone and the reflection color tone of the substrate glass.
Sunlight transmittance (Tg) of 5% or less and ultraviolet transmittance of 25% or less (according to ISO 9050; hereinafter, TUV (I
SO)) is obtained. Particularly, as a substrate glass, an ultraviolet transmittance Tuv (IS
By using a colored glass plate having a thickness of 2.0 to 5.0 mm having a value of O) of 10% or less, a UV absorbing heat ray reflective glass suitable for a vehicle window can be obtained.

【0031】[0031]

【発明の実施の形態】以下に実施例を示し本発明をより
具体的に説明する。 [実施例1〜12、比較例1〜2] 高屈折率膜形成用溶液組成物の作製:24.9gの硝酸
ビスマス5水和物(Bi原料)を118.6gの2−エ
トキシエタノールに混合し、170.7gのテトライソ
プロポキシチタン(Ti原料)を加え、60℃で3時間
攪拌した。室温に冷却した後、173.4gの硝酸セリ
ウム6水和物(Ce原料)を120gの2-エトキシエタ
ノールに溶解した液を添加し、室温で1時間攪拌して表
1のA1のA液に相当する高屈折率膜形成用溶液組成物
を得た。上記Bi原料、Ti原料、Ce原料の3種の添
加量を同様に調整することにより表1の組成比(モル
比)となるように混合し、A2〜A14の13種のTi
2−CeO2−Bi23含有組成物を調製した。(A
液)
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. [Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 and 2] Preparation of solution composition for forming high refractive index film: 24.9 g of bismuth nitrate pentahydrate (Bi raw material) was mixed with 118.6 g of 2-ethoxyethanol. Then, 170.7 g of tetraisopropoxy titanium (Ti raw material) was added, and the mixture was stirred at 60 ° C. for 3 hours. After cooling to room temperature, a solution prepared by dissolving 173.4 g of cerium nitrate hexahydrate (Ce raw material) in 120 g of 2-ethoxyethanol was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour to obtain a solution A of A1 in Table 1. A corresponding solution composition for forming a high refractive index film was obtained. By adjusting the amounts of addition of the three types of Bi raw material, Ti raw material, and Ce raw material in the same manner, they were mixed so as to have the composition ratio (molar ratio) shown in Table 1, and the 13 types of A2 to A14 Ti were mixed.
The O 2 -CeO 2 -Bi 2 O 3 containing composition was prepared. (A
liquid)

【0032】アルカリ水溶液中で5分、引き続いて純水
中で5分超音波処理したソーダライムガラス板(厚み:
3.5mm、可視光線透過率:90%、太陽光線透過
率:84.7%、紫外線透過率(波長370nm):7
6.2%、屈折率:波長460nmおよび850nmの
光に対してそれぞれ約1.54および1.50)の上
に、上記組成物A液をスピンコート法により塗布し、2
50℃で1.5時間乾燥後、720℃ に加熱した電気
炉中で2分間加熱し焼成した。得られた膜はいずれも厚
みが約100nmであり、その屈折率(測定波長370
nm、550nmおよび900nm)および膜自体の消
衰係数(測定波長370nm)を表1に示す。なお、屈
折率はエリプソメトリにより測定した。また膜の外観を
肉眼で観察した結果を表1に示し、膜に異常のないもの
を「良好」、膜にクラックが入っているものを「クラッ
ク」と記した。表より酸化ビスマス量がBi23換算で
2.5%以上であれば屈折率の高い膜、すなわち測定波
長370nmでの屈折率が2.20以上であり、測定波
長550nmでの屈折率が2.00以上であり、測定波
長900nmでの屈折率が1.96以上であり、370
nmの消衰係数が0.15以上の膜が形成されることは
明らかである。
A soda-lime glass plate (thickness:
3.5 mm, visible light transmittance: 90%, sunlight transmittance: 84.7%, ultraviolet transmittance (wavelength 370 nm): 7
6.2%, refractive index: about 1.54 and 1.50 for light having wavelengths of 460 nm and 850 nm, respectively), and then applying the composition A solution by spin coating.
After drying at 50 ° C. for 1.5 hours, it was heated in an electric furnace heated to 720 ° C. for 2 minutes and fired. Each of the obtained films has a thickness of about 100 nm and its refractive index (measurement wavelength 370).
nm, 550 nm and 900 nm) and the extinction coefficient of the film itself (measuring wavelength 370 nm) are shown in Table 1. The refractive index was measured by ellipsometry. The results of observing the appearance of the film with the naked eye are shown in Table 1, and those having no abnormality in the film are described as “good”, and those having cracks in the film are described as “crack”. From the table, if the bismuth oxide content is 2.5% or more in terms of Bi 2 O 3 , the film has a high refractive index, that is, the refractive index at the measurement wavelength of 370 nm is 2.20 or more, and the refractive index at the measurement wavelength of 550 nm is 2.00 or more, the refractive index at a measurement wavelength of 900 nm is 1.96 or more, and 370
It is apparent that a film having an extinction coefficient of 0.15 nm or more is formed.

【0033】これに対し、酸化ビスマスが存在しない場
合には370nmの消衰係数は酸化ビスマスが存在する
場合と同程度であるが屈折率がやや小さく、また膜にク
ラックが入り、膜強度が低下した(比較例1)。また酸
化セリウムが存在しない場合には紫外線吸収能が著しく
小さいことが明らかである(比較例2)。なお、光学特
性は、可視光線透過率(Ya:JIS Z 872
2)、太陽光線透過率(Tg:JIS Z 872
2)、可視光反射率(Ra:12度入射時の反射率 J
IS R 3106)により測定した。なお、各実施例
および比較例の光学膜の組成を図1のTiO2−CeO2
−Bi23系三元組成グラフにプロットしている。
On the other hand, when bismuth oxide does not exist, the extinction coefficient at 370 nm is almost the same as that when bismuth oxide exists, but the refractive index is slightly small, and the film cracks and the film strength decreases. (Comparative Example 1). In addition, it is clear that when cerium oxide is not present, the ultraviolet absorbing ability is extremely small (Comparative Example 2). In addition, optical characteristics are shown by visible light transmittance (Ya: JIS Z872).
2), sunlight transmittance (Tg: JIS Z 872)
2), visible light reflectance (Ra: reflectance at an incidence of 12 degrees J
IS R 3106). The compositions of the optical films of the examples and the comparative examples are shown in TiO 2 —CeO 2 of FIG.
-Bi are plotted in 2 O 3 ternary composition chart.

【0034】[0034]

【表1】 ==================================== No. 酸化物換算モル比率 屈折率n 消衰 膜 モル% −−−−−−−−−−− 係数k 外観 A液 (TiO2,CeO2,Bi2O3) (370nm) (550nm) (900nm) (370nm) −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例 1 A1 (58.5, 39, 2.5) 2.26 2.03 1.96 0.19 良好 2 A2 (57, 38, 5 ) 2.34 2.11 2.03 0.22 良好 3 A3 (54, 36, 10 ) 2.36 2.13 2.05 0.19 良好 4 A4 (48, 32, 20 ) 2.51 2.27 2.19 0.18 良好 5 A5 (42, 28, 30 ) 2.52 2.28 2.20 0.17 良好 6 A6 (54, 24, 22 ) 2.57 2.30 2.21 0.17 良好 7 A7 (67, 30, 3 ) 2.60 2.35 2.26 0.17 良好 8 A8 (49, 48, 3 ) 2.24 2.02 1.96 0.17 良好 9 A9 (40, 39, 21 ) 2.38 2.13 2.05 0.17 良好 10 A10 (20, 20, 60 ) 2.28 2.05 1.98 0.20 良好 11 A11 (70, 10, 20 ) 2.60 2.31 2.21 0.15 良好 12 A12 (25, 60, 15 ) 2.20 2.00 1.97 0.19 良好 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 比較例 1 A13 (60, 40, 0 ) 2.19 1.99 1.95 0.19 クラック 2 A14 (95, 0, 5 ) 2.68 2.37 2.28 0.018 良好 ====================================Table 1 =================================== No. Oxide Equivalent Molar Ratio Refractive Index n extinction film mol% ----------- coefficient k appearance A solution (TiO 2, CeO 2, Bi 2 O 3) (370nm) (550nm) (900nm) (370nm) ----- −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− Example 1 A1 (58.5, 39, 2.5) 2.26 2.03 1.96 0.19 Good 2 A2 ( 57, 38, 5) 2.34 2.11 2.03 0.22 Good 3 A3 (54, 36, 10) 2.36 2.13 2.05 0.19 Good 4 A4 (48, 32, 20) 2.51 2.27 2.19 0.18 Good 5 A5 (42, 28, 30) 2.52 2.28 2.20 0.17 Good 6 A6 (54, 24, 22) 2.57 2.30 2.21 0.17 Good 7 A7 (67, 30, 3) 2.60 2.35 2.26 0.17 Good 8 A8 (49, 48, 3) 2.24 2.02 1.96 0.17 Good 9 A9 (40, 39, 21) 2.38 2.13 2.05 0.17 Good 10 A10 (20, 20, 60) 2.28 2.05 1.98 0.20 Good 11 A11 (70, 10, 20) 2.60 2.31 2.21 0.15 Good 12 A12 (25 , 60, 15) 2.20 2.00 1.97 0.19 Good −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− Comparative Example 1 A13 ( 60, 40, 0) 2.19 1.99 1.95 0.19 Crack 2 A14 (95, 0, 5) 2.68 2.37 2.28 0.018 good ========================= ===========

【0035】[実施例13〜17、比較例3、比較例
4] 低屈折率膜形成用溶液組成物(B液)の作製:エチルシ
リケート(コルコート社製「エチルシリケート40」)
150gをエチルセロソルブ132gに混合し、0.1
モル/lの塩酸を18g加え室温で2時間攪拌した(B
液)。
Examples 13 to 17, Comparative Examples 3 and 4 Preparation of low refractive index film forming solution composition (Solution B): Ethyl silicate ("Ethyl silicate 40" manufactured by Colcoat Co., Ltd.)
150 g was mixed with 132 g of ethyl cellosolve.
18 g of mol / l hydrochloric acid was added and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours (B
liquid).

【0036】[実施例13]無着色のソーダライムガラ
ス板(厚み:3.5mm、可視光線透過率:89.3
%、太陽光線透過率:72.6%、紫外線透過率(37
0nm):57.7%、紫外線透過率(Tuv(IS
O)):53.4%)を実施例1で記載した方法で洗浄し
た後、そのガラス板の片側表面上に上記A4のA液をス
ピンコート法で形成し、250℃ で1.5時間乾燥し
て第1層膜を形成した。続いて、該第1層膜の上に前記
B液を塗布し、250℃で1.5時間乾燥後、500℃
に加熱した電気炉中で60分間加熱し焼成してシリカか
らなる第2層とした。続いて該第2層の上に、前記A4
と同じA液を塗布し、実施例1に記載した方法で乾燥、
焼成を行って第3層とした。なお、各層の厚みは、膜付
きのガラス板の透過色調、反射色調が基板の色調にほぼ
近くなる範囲内で、太陽光線透過率が最も小さくなるよ
うに、シミュレーション計算により決定した。なお、実
施例14〜16および比較例3,4でも同様にして各層
厚みを決定した。
Example 13 Uncolored soda-lime glass plate (thickness: 3.5 mm, visible light transmittance: 89.3)
%, Sunlight transmittance: 72.6%, ultraviolet transmittance (37
0 nm): 57.7%, UV transmittance (Tuv (IS
O)): 53.4%) was washed by the method described in Example 1, and then the solution A4 of A4 was formed on one surface of the glass plate by spin coating, followed by 1.5 hours at 250 ° C. After drying, a first layer film was formed. Subsequently, the solution B was applied on the first layer film, and dried at 250 ° C. for 1.5 hours.
The resultant was heated in an electric furnace heated for 60 minutes and fired to form a second layer made of silica. Subsequently, on the second layer, the A4
The same liquid A was applied and dried by the method described in Example 1.
Firing was performed to form a third layer. The thickness of each layer was determined by a simulation calculation so that the transmittance of sunlight was minimized within a range in which the transmission color tone and the reflection color tone of the glass plate with the film were almost close to the color tone of the substrate. The thickness of each layer was determined in the same manner in Examples 14 to 16 and Comparative Examples 3 and 4.

【0037】得られた熱線反射ガラスは第1層が98n
m、第2層が151nm、第3層が90nmの幾何学的
膜厚を有し、可視光線透過率79.4%、太陽光線透過
率58.6%、370nmにおける透過率21.0%、
Tuv(ISO)は19.4%であった。また色調について
は、透過色、ガラス面の反射色ともに基板の色調と同じ
であった。なお、第1層、第2層および第3層の光学膜
厚は、900nmの波長の光に対する屈折率(2.1
9、1.46および2.19)の値を使って計算する
と、それぞれ214.6nm、220.5nm、および
197.1nmであった。
The obtained heat ray reflective glass has a first layer of 98n.
m, the second layer has a geometric thickness of 151 nm, the third layer has a geometric thickness of 90 nm, visible light transmittance of 79.4%, sunlight transmittance of 58.6%, transmittance of 370 nm of 21.0%,
Tuv (ISO) was 19.4%. As for the color tone, the transmission color and the reflection color of the glass surface were the same as the color tone of the substrate. The optical thicknesses of the first layer, the second layer and the third layer have a refractive index (2.1 for light having a wavelength of 900 nm).
9, 1.46 and 2.19) were 214.6 nm, 220.5 nm and 197.1 nm, respectively.

【0038】[実施例14]基板ガラスとしてグリーン
色ソーダライムガラス板(厚み:3.5mm、可視光線
透過率:81.0%、太陽光線透過率:60.8%、紫
外線透過率(370nm):52.6%、紫外線透過率
(Tuv(ISO)):31.4% )を用いたほかは実施
例13と同様にして行った。得られた熱線反射ガラスは
第1層が109nm、第2層が142nm、第3層が9
1.5nmの幾何学的膜厚を有し、可視光線透過率7
2.1%、太陽光線透過率43.8%、370nmにお
ける透過率14.6%、Tuv(ISO)は8.7%であっ
た。また色調については、透過色、ガラス面の反射色と
もに基板の色調と同じであった。
Example 14 A green soda lime glass plate (thickness: 3.5 mm, visible light transmittance: 81.0%, sunlight transmittance: 60.8%, ultraviolet transmittance (370 nm)) was used as the substrate glass. : 52.6% and UV transmittance (Tuv (ISO): 31.4%) were used in the same manner as in Example 13. In the obtained heat ray reflective glass, the first layer was 109 nm, the second layer was 142 nm, and the third layer was 9 nm.
It has a geometric thickness of 1.5 nm and a visible light transmittance of 7
2.1%, sunlight transmittance 43.8%, transmittance at 370 nm 14.6%, Tuv (ISO) was 8.7%. As for the color tone, the transmission color and the reflection color of the glass surface were the same as the color tone of the substrate.

【0039】[実施例15]基板ガラスとしてブロンズ
色ソーダライムガラス板(厚み:3.5mm、可視光線
透過率:79.3%、太陽光線透過率:72.68%、
紫外線透過率(370nm):57.7%、紫外線透過
率(Tuv(ISO)):38.2%)を用いたほかは実施
例13と同様にして行った。得られた熱線反射ガラスは
第1層が98nm、第2層が148nm、第3層が95
nmの幾何学的膜厚を有し、可視光線透過率72.2
%、太陽光線透過率52.1%、370nmにおける透
過率16.6%、Tuv(ISO)は9.8%であった。ま
た色調については、透過色、ガラス面の反射色ともに基
板の色調と同じであった。
Example 15 A bronze-colored soda lime glass plate (thickness: 3.5 mm, visible light transmittance: 79.3%, solar light transmittance: 72.68%) was used as the substrate glass.
The procedure was performed in the same manner as in Example 13 except that the ultraviolet transmittance (370 nm): 57.7% and the ultraviolet transmittance (Tuv (ISO)): 38.2%. In the obtained heat ray reflective glass, the first layer has a thickness of 98 nm, the second layer has a thickness of 148 nm, and the third layer has a thickness of 95 nm.
with a geometric thickness of 7 nm and a visible light transmission of 72.2
%, Sunlight transmittance 52.1%, transmittance at 370 nm 16.6%, and Tuv (ISO) was 9.8%. As for the color tone, the transmission color and the reflection color of the glass surface were the same as the color tone of the substrate.

【0040】[実施例16]基板ガラスとして紫外線吸
収能を有するグリーンガラス(厚み:3.5mm、可視
光線透過率:72.8%、太陽光線透過率:48.8
%、紫外線透過率(370nm):26.9%、紫外線
透過率(Tuv(ISO)):9.5%)を用いたほかは実
施例13と同様にして行った。得られた膜付きガラスの
370nmにおける透過率は6.8%、Tuv(ISO)は
3.4%、可視光線透過率は72.2%、太陽光線透過
率は37.6%であり、しかも透過、反射における色調
が基板と同じであった。
Example 16 As a substrate glass, green glass having an ultraviolet absorbing ability (thickness: 3.5 mm, visible light transmittance: 72.8%, sunlight transmittance: 48.8)
%, Ultraviolet transmittance (370 nm): 26.9%, and ultraviolet transmittance (Tuv (ISO)): 9.5%). The transmittance of the obtained glass with a film at 370 nm is 6.8%, Tuv (ISO) is 3.4%, visible light transmittance is 72.2%, and sunlight transmittance is 37.6%. The color tone in transmission and reflection was the same as that of the substrate.

【0041】[実施例17]基板ガラスとして紫外線吸
収能を有するブロンズガラス(厚み:3.5mm、可視
光線透過率:73.9%、太陽光線透過率:65.3
%、紫外線透過率(370nm):29.7%、紫外線
透過率(Tuv(ISO)):9.6%)を用いたほかは実
施例13と同様にして行った。得られた膜付きガラスの
370nmにおける透過率は7.4%、Tuv(ISO)は
3.7%、可視光線透過率は72.0%、太陽光線透過
率は49.4%であり、しかも透過、反射における色調
が基板と同じであった。
Example 17 Bronze glass having an ultraviolet absorbing ability (thickness: 3.5 mm, visible light transmittance: 73.9%, sunlight transmittance: 65.3) as a substrate glass
%, Ultraviolet transmittance (370 nm): 29.7%, and ultraviolet transmittance (Tuv (ISO)): 9.6%. The transmittance of the obtained glass with a film at 370 nm is 7.4%, Tuv (ISO) is 3.7%, visible light transmittance is 72.0%, and sunlight transmittance is 49.4%. The color tone in transmission and reflection was the same as that of the substrate.

【0042】実施例13〜17から、各種ガラス基板に
3層からなる被覆膜を設けることにより、可視光線透過
率を高い値、特に70%以上、に維持したまま、熱線反
射性能の高い紫外線吸収熱線反射ガラス、特に太陽光線
透過率が60%以下で(可視光線透過率−太陽光線透過
率)の値が15%以上で紫外線透過率(Tuv(ISO))
が25%以下の膜付きガラスが得られる。また、ガラス
基板の可視光線透過率、太陽光線透過率および紫外線透
過率(Tuv(ISO))の値をそれぞれ、Ya1、Tg1お
よびTuv1とし、上記膜付きガラス板の可視光線透過
率、太陽光線透過率および紫外線透過率(Tuv(IS
O))の値をそれぞれ、Ya2、Tg2およびTuv2と
し、3層膜自体の可視光線透過率、太陽光線透過率およ
び紫外線透過率をそれぞれ、(Ya2/Ya1)、(Tg
2/Tg1)および(Tuv2/Tuv1)で定義すると、
実施例13〜17では、(Ya2/Ya1)が90%以
上、(Tg2/Tg1)が82%以下、および(Tuv2
/Tuv1)が40%以下の性能を有する3層膜が得ら
れる。
As can be seen from Examples 13 to 17, by providing a coating film consisting of three layers on various glass substrates, it is possible to maintain the visible light transmittance at a high value, especially 70% or more, and to maintain the visible light transmittance at a high value. Absorptive heat ray reflective glass, especially UV ray transmittance (Tuv (ISO)) when the sunlight ray transmittance is 60% or less and the value of (visible light ray transmittance-sunlight ray transmittance) is 15% or more.
Is 25% or less. Further, the values of the visible light transmittance, the sunlight transmittance and the ultraviolet transmittance (Tuv (ISO)) of the glass substrate are defined as Ya1, Tg1 and Tuv1, respectively. Rate and UV transmittance (Tuv (IS
O)), the values of Ya2, Tg2, and Tuv2 are defined as visible light transmittance, sunlight transmittance, and ultraviolet transmittance of the three-layer film itself, respectively (Ya2 / Ya1), (Tg).
2 / Tg1) and (Tuv2 / Tuv1),
In Examples 13 to 17, (Ya2 / Ya1) is 90% or more, (Tg2 / Tg1) is 82% or less, and (Tuv2
/ Tuv1) having a performance of 40% or less can be obtained.

【0043】[比較例3]実施例13で用いたA4のA
液の代わりに、比較例1でのA13のA液を用いた以外
は実施例13と同様にして行った。得られた紫外線吸収
ガラスは第1層が123nm、第2層が159nm、第
3層が109nmの幾何学的膜厚を有し、得られた膜付
きガラスの波長370nmにおける紫外線透過率は2
8.6%であり、Tuv(ISO)は25.5%であり、可
視光線透過率は75.0%であった。太陽光線透過率は
66.7%であり、(Tg2/Tg1)の値は91.9%
であって、実施例13[太陽光線透過率は58.6%、
(Tg2/Tg1)の値は80.7%]に比べて熱線遮蔽
能が劣っていた。また透過、反射における色調は基板と
ほぼ同じであった。
Comparative Example 3 A of A4 used in Example 13
Example 13 was carried out in the same manner as in Example 13 except that the solution A of A13 in Comparative Example 1 was used instead of the solution. The obtained ultraviolet absorbing glass has a geometric thickness of 123 nm for the first layer, 159 nm for the second layer, and 109 nm for the third layer. The ultraviolet transmittance at a wavelength of 370 nm of the glass with the obtained film is 2 nm.
8.6%, Tuv (ISO) was 25.5%, and visible light transmittance was 75.0%. The sunlight transmittance is 66.7%, and the value of (Tg2 / Tg1) is 91.9%.
And Example 13 [sunlight transmittance is 58.6%,
(Tg2 / Tg1) value was 80.7%]. The color tone in transmission and reflection was almost the same as that of the substrate.

【0044】[比較例4]実施例13で用いたA4のA
液の代わりに、比較例2でのA14のA液を用いた以外
は実施例13と同様にして行った。得られた膜付きガラ
スの可視光線透過率は78.4%、太陽光線透過率は6
0.1%であった。370nmにおける透過率は54.
3%であり、Tuv(ISO)は50.6%であり、(Tu
v2/Tuv1)の値は94.8%であって、実施例13
[Tuv(ISO)は19.4%、(Tuv2/Tuv1)の
値は36.3%]に比べて紫外線吸収性能が著しく劣っ
ていた。また透過、反射における色調は基板とほぼ同じ
であった。
Comparative Example 4 A of A4 used in Example 13
Example 13 was carried out in the same manner as in Example 13 except that the solution A of A14 in Comparative Example 2 was used instead of the solution. The visible light transmittance of the glass with the obtained film is 78.4%, and the solar light transmittance is 6
0.1%. The transmittance at 370 nm is 54.
3%, Tuv (ISO) is 50.6%, (Tuv
v2 / Tuv1) was 94.8%, which was obtained in Example 13.
[Tuv (ISO) was 19.4%, and the value of (Tuv2 / Tuv1) was 36.3%]. The color tone in transmission and reflection was almost the same as that of the substrate.

【0045】[0045]

【発明の効果】以上発明の詳細な説明で述べたように、
本発明により屈折率の非常に高い高屈折率膜が提供さ
れ、また可視光線透過率を高い値で維持したまま、熱線
反射性能の高い紫外線吸収熱線反射ガラスが得られる。
As described above in the detailed description of the invention,
According to the present invention, a high-refractive-index film having a very high refractive index is provided, and an ultraviolet-absorbing heat-ray reflecting glass having high heat-ray reflecting performance can be obtained while maintaining a high visible light transmittance.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の光学薄膜の組成を示すグラフ。FIG. 1 is a graph showing the composition of an optical thin film of the present invention.

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 酸化チタン、酸化セリウムおよび酸化ビ
スマスを含有することを特徴とする光学薄膜。
1. An optical thin film comprising titanium oxide, cerium oxide and bismuth oxide.
【請求項2】 請求項1の光学薄膜において、前記酸化
チタン、酸化セリウム、および酸化ビスマスの含有率が
それぞれTiO2、CeO2、Bi23の酸化物換算モル
比の座標点(TiO2モル%、CeO2モル%、Bi23
モル%)で表わして、A(4,1,95)、B(98,1,1)、C
(20,79,1)、D(3,14,83)からなる四角形ABCDの
範囲内の比率である光学薄膜。
2. The optical thin film according to claim 1, wherein the contents of the titanium oxide, cerium oxide, and bismuth oxide are coordinate points (TiO 2) of a molar ratio of TiO 2 , CeO 2 , and Bi 2 O 3 in terms of oxide. Mol%, CeO 2 mol%, Bi 2 O 3
Mol%), A (4,1,95), B (98,1,1), C
An optical thin film having a ratio within the range of a square ABCD consisting of (20,79,1) and D (3,14,83).
【請求項3】 請求項1の光学薄膜において、前記酸化
チタン、酸化セリウム、および酸化ビスマスの含有率が
それぞれTiO2、CeO2、Bi23の酸化物換算モル
比の座標点(TiO2モル%、CeO2モル%、Bi23
モル%)で表わして、E(36,9,55)、F(77,20,3)、
G(39,59,2)、H(24,38,38)からなる四角形EFG
Hの範囲内の比率である光学薄膜。
3. The optical thin film according to claim 1, wherein the contents of the titanium oxide, cerium oxide and bismuth oxide are coordinate points (TiO 2) of the molar ratio of TiO 2 , CeO 2 and Bi 2 O 3 in terms of oxide. Mol%, CeO 2 mol%, Bi 2 O 3
Mol%), E (36,9,55), F (77,20,3),
Square EFG consisting of G (39,59,2) and H (24,38,38)
An optical thin film having a ratio in the range of H.
【請求項4】 請求項1の光学薄膜において、前記酸化
チタン、酸化セリウム、および酸化ビスマスの含有率が
それぞれTiO2、CeO2、Bi23の酸化物換算モル
比の座標点(TiO2モル%、CeO2モル%、Bi23
モル%)で表わして、I(54,23,23)、J(68,29,
3)、K(49,48.5,2)、L(39,39,22)からなる四角形
IJKLの範囲内の比率である光学薄膜。
4. The optical thin film according to claim 1, wherein the contents of the titanium oxide, cerium oxide and bismuth oxide are coordinate points (TiO 2) of the molar ratio of TiO 2 , CeO 2 and Bi 2 O 3 in terms of oxide. Mol%, CeO 2 mol%, Bi 2 O 3
Mol (%), I (54,23,23), J (68,29,
3) An optical thin film having a ratio within the range of a square IJKL consisting of K (49,48.5,2) and L (39,39,22).
【請求項5】 チタンアルコキシド、チタンアルコキシ
ド塩化物、またはチタンキレート化物からなるチタン化
合物とセリウム無機塩またはセリウムアルコキシドから
なるセリウム化合物とビスマス無機塩またはビスマスア
ルコキシドからなるビスマス化合物を含む溶液を基材上
に塗布し、400〜800℃で加熱することにより得ら
れる請求項1〜4のいずれか1項に記載の光学薄膜。
5. A solution containing a titanium compound composed of a titanium alkoxide, a titanium alkoxide chloride or a titanium chelate, a cerium inorganic salt or a cerium compound composed of a cerium alkoxide and a bismuth compound composed of a bismuth inorganic salt or a bismuth alkoxide is placed on a substrate. The optical thin film according to any one of claims 1 to 4, wherein the optical thin film is obtained by coating the composition on a substrate and heating the composition at 400 to 800 ° C.
【請求項6】 チタン化合物、セリウム化合物およびビ
スマス化合物を有機溶媒に混合溶解してなる光学薄膜形
成用組成物。
6. An optical thin film forming composition obtained by mixing and dissolving a titanium compound, a cerium compound and a bismuth compound in an organic solvent.
【請求項7】 前記チタン化合物、セリウム化合物およ
びビスマス化合物が、それぞれTiO2、CeO2、およ
びBi23に換算して、それらの酸化物換算モル比の座
標点(TiO2モル%、CeO2モル%、Bi23モル
%)で表わして、A(4,1,95)、B(98,1,1)、C(2
0,79,1)、D(3,14,83)からなる四角形ABCDの範
囲内の比率で混合溶解されている請求項6記載の光学薄
膜形成用組成物。
7. The titanium compound, the cerium compound and the bismuth compound are converted into TiO 2 , CeO 2 and Bi 2 O 3 , respectively, and coordinate points (TiO 2 mol%, CeO 2 mol%) of their oxide conversion molar ratios are converted. 2 mol%, expressed as Bi 2 O 3 mol%), A (4,1,95), B (98,1,1), C (2
7. The composition for forming an optical thin film according to claim 6, wherein the composition is mixed and dissolved in a ratio within the range of a square ABCD comprising (0,79,1) and D (3,14,83).
【請求項8】 高屈折率膜の層と低屈折率膜の層が透明
ガラス基材上に交互に、合計で少なくとも3層積層され
ており、前記少なくとも3層の内の少なくとも2層が高
屈折率膜であり、その高屈折率膜のうち少なくとも1層
が請求項1〜5のいずれか1項に記載の光学薄膜である
ことを特徴とする紫外線吸収熱線反射ガラス。
8. A layer of a high-refractive-index film and a layer of a low-refractive-index film are alternately laminated on a transparent glass substrate in a total of at least three layers, and at least two of the at least three layers are high. An ultraviolet ray absorbing heat ray reflective glass, which is a refractive index film, wherein at least one of the high refractive index films is the optical thin film according to any one of claims 1 to 5.
【請求項9】 前記高屈折率膜が、170〜500nm
の光学膜厚を有する請求項8記載の紫外線吸収熱線反射
ガラス。
9. The high refractive index film has a thickness of 170 to 500 nm.
The ultraviolet ray absorbing heat ray reflective glass according to claim 8, which has an optical film thickness of:
【請求項10】 前記低屈折率膜が1.6以下の屈折率
を有し、170〜500nmの光学膜厚を有する請求項
8または9記載の紫外線吸収熱線反射ガラス。
10. The ultraviolet ray absorbing heat ray reflective glass according to claim 8, wherein the low refractive index film has a refractive index of 1.6 or less and has an optical thickness of 170 to 500 nm.
【請求項11】 前記透明基板が2.0〜5.0mmの
厚みと10%以下の紫外線透過率(TUV(ISO))を有す
る着色ガラス板である請求項8〜10のいずれか1項に
記載の紫外線吸収熱線反射ガラス。
11. The method according to claim 8, wherein the transparent substrate is a colored glass plate having a thickness of 2.0 to 5.0 mm and an ultraviolet transmittance (TUV (ISO)) of 10% or less. The ultraviolet absorbing heat ray reflective glass as described in the above.
JP35270097A 1996-12-25 1997-12-22 Optical thin film, its forming composition and ultraviolet-absorbing and heat ray-reflecting glass using the composition Pending JPH10236847A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP35270097A JPH10236847A (en) 1996-12-25 1997-12-22 Optical thin film, its forming composition and ultraviolet-absorbing and heat ray-reflecting glass using the composition

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8-344799 1996-12-25
JP34479996 1996-12-25
JP35270097A JPH10236847A (en) 1996-12-25 1997-12-22 Optical thin film, its forming composition and ultraviolet-absorbing and heat ray-reflecting glass using the composition

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10236847A true JPH10236847A (en) 1998-09-08

Family

ID=26577867

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP35270097A Pending JPH10236847A (en) 1996-12-25 1997-12-22 Optical thin film, its forming composition and ultraviolet-absorbing and heat ray-reflecting glass using the composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH10236847A (en)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000143292A (en) * 1998-11-06 2000-05-23 Central Glass Co Ltd Porous photo-catalyst film coating glass and its coating method
JP2001350015A (en) * 2000-06-09 2001-12-21 Keio Gijuku Multilayer heterostructure film, optical element using the same, and method of manufacturing the same
KR100371055B1 (en) * 2001-04-14 2003-02-05 한국과학기술원 Bismuth-cerium Titanate Thin Film for Capacitor of Ferroelectric Random Access Memory
JP2007169538A (en) * 2005-12-26 2007-07-05 Toshiba Lighting & Technology Corp UV blocking material, visible light selective transmission filter, visible light selective transmission resin material and light source
WO2008152887A1 (en) * 2007-06-11 2008-12-18 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Visible light transmitting solar radiation heat reflecting film
KR101372652B1 (en) * 2010-02-10 2014-03-11 주식회사 엘지화학 Resin composition for optical member
JP2018171839A (en) * 2017-03-31 2018-11-08 大日本印刷株式会社 Decorative sheet and decorative material prepared therewith
JP2018537381A (en) * 2015-10-22 2018-12-20 コーニング インコーポレイテッド Ultraviolet light-resistant article and method for producing the same

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000143292A (en) * 1998-11-06 2000-05-23 Central Glass Co Ltd Porous photo-catalyst film coating glass and its coating method
JP2001350015A (en) * 2000-06-09 2001-12-21 Keio Gijuku Multilayer heterostructure film, optical element using the same, and method of manufacturing the same
KR100371055B1 (en) * 2001-04-14 2003-02-05 한국과학기술원 Bismuth-cerium Titanate Thin Film for Capacitor of Ferroelectric Random Access Memory
JP2007169538A (en) * 2005-12-26 2007-07-05 Toshiba Lighting & Technology Corp UV blocking material, visible light selective transmission filter, visible light selective transmission resin material and light source
WO2008152887A1 (en) * 2007-06-11 2008-12-18 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Visible light transmitting solar radiation heat reflecting film
JP5057485B2 (en) * 2007-06-11 2012-10-24 独立行政法人産業技術総合研究所 Visible light solar radiation heat reflective film
KR101372652B1 (en) * 2010-02-10 2014-03-11 주식회사 엘지화학 Resin composition for optical member
JP2018537381A (en) * 2015-10-22 2018-12-20 コーニング インコーポレイテッド Ultraviolet light-resistant article and method for producing the same
JP2018171839A (en) * 2017-03-31 2018-11-08 大日本印刷株式会社 Decorative sheet and decorative material prepared therewith

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Morimoto et al. Ultraviolet ray absorbing coatings on glass for automobiles
US6921578B2 (en) Low-reflection glass article
EP0890556B1 (en) Thin film for optics, composition for the formation thereof, and ultraviolet-absorbing and heat-reflecting glass made by using the same
JPH08337441A (en) Transparent substrate with antireflection coating
JPH06511326A (en) anti-reflective coating
JPH10291839A (en) Ultraviolet ray and heat ray reflecting glass article
JPH10236847A (en) Optical thin film, its forming composition and ultraviolet-absorbing and heat ray-reflecting glass using the composition
JPH08268732A (en) Heat ray reflecting glass
JP2877553B2 (en) Anti-reflection glass for vehicles
JPH08104546A (en) Production of glass with reinforced and/or bent ultraviolet ray absorbing film
JPH1149532A (en) Low reflection glass article and its production
JPH0781977A (en) Anti-reflection coating and production thereof
JP3678043B2 (en) Low reflection glass articles for automobiles
JP2000335940A (en) Low-reflecting glass article
JP2877554B2 (en) Anti-reflection glass for vehicles
JPH08337438A (en) Middle layer composition for forming ultraviolet-ray absorbing coating film and ultraviolet-ray absorbing glass
JP3347467B2 (en) Coating liquid for forming colored thin film, colored thin film and method for producing the same, and glass article
JPH10120441A (en) Optical thin film, composition for forming the same and heat ray reflecting glass using the same
JPH06192598A (en) UV absorbing glass
JP2007241177A (en) Antireflection structure and structure
JP3544687B2 (en) Coating liquid, colored film and method for producing the same
JP2001206736A (en) Method for manufacturing colored film-coated glass article and colored film-coated glass article
JP4023206B2 (en) Bent glass plate for vehicles with optical equipment
JPH08104543A (en) Composition for forming ultraviolet absorbing film and production of glass having ultraviolet absorbing film
JP2003313052A (en) Glass sheet for vehicle with combiner for hud and method for manufacturing the same