JPH10239503A - マイクロレンズアレイ及びその作製方法 - Google Patents
マイクロレンズアレイ及びその作製方法Info
- Publication number
- JPH10239503A JPH10239503A JP9041823A JP4182397A JPH10239503A JP H10239503 A JPH10239503 A JP H10239503A JP 9041823 A JP9041823 A JP 9041823A JP 4182397 A JP4182397 A JP 4182397A JP H10239503 A JPH10239503 A JP H10239503A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- microlens
- microlens array
- shielding layer
- transparent substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 迷光を有効に遮断して解像度を向上させるマ
イクロレンズアレイ及びその作製方法を提供すること。 【解決手段】 透明基板(30A)の一面にマイクロレ
ンズ(30B)が形成されたマイクロレンズアレイ(3
0)の裏面側に遮光層(30C)を備える。この遮光層
(30C)は、マイクロレンズ(30B)の光軸と平行
な光を該レンズ(30B)から入射して得られる光像に
等しい開口部を有する。この開口部は、前記光像により
感光材料を感光させて形成する。従って、遮光層(30
C)は必要最小限の大きさの開口部(30D)を備える
こととなり、迷光などの不要光を有効に排除して、解像
度を向上させる。
イクロレンズアレイ及びその作製方法を提供すること。 【解決手段】 透明基板(30A)の一面にマイクロレ
ンズ(30B)が形成されたマイクロレンズアレイ(3
0)の裏面側に遮光層(30C)を備える。この遮光層
(30C)は、マイクロレンズ(30B)の光軸と平行
な光を該レンズ(30B)から入射して得られる光像に
等しい開口部を有する。この開口部は、前記光像により
感光材料を感光させて形成する。従って、遮光層(30
C)は必要最小限の大きさの開口部(30D)を備える
こととなり、迷光などの不要光を有効に排除して、解像
度を向上させる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、イメージスキャナ
や液晶パネル等に応用されるマイクロレンズアレイ及び
その作製方法に関するものである。
や液晶パネル等に応用されるマイクロレンズアレイ及び
その作製方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、イメージスキャナや液晶パネル等
では、光を極めて微小な単位で集光するためのマイクロ
レンズアレイを備えたものがある。図6に例示するよう
に、このマイクロレンズアレイ1は、ポリメチルメタア
クリレート(PMMA)等を材料として、射出成型法等
を用いて透明基板上に有効口径125μm程度のマイク
ロレンズ1aを所定の配列で形成したものである。
では、光を極めて微小な単位で集光するためのマイクロ
レンズアレイを備えたものがある。図6に例示するよう
に、このマイクロレンズアレイ1は、ポリメチルメタア
クリレート(PMMA)等を材料として、射出成型法等
を用いて透明基板上に有効口径125μm程度のマイク
ロレンズ1aを所定の配列で形成したものである。
【0003】マイクロレンズアレイの応用例として、図
7に示すような光導波路型イメージセンサSがある。こ
の光導波路型イメージセンサは、イメージスキャナなど
に用いられ、原稿面10を照明する発光ダイオードアレ
イ8と、原稿面10からの反射光を集光するマイクロレ
ンズアレイ1と、該マイクロレンズアレイ1で集光され
た光を光情報として導いて縮小する光導波路基板5と、
該光導波路基板5からの光情報を電気信号に変換するた
めの電荷結合素子(CCD)6とを組み合わせて構成さ
れている。
7に示すような光導波路型イメージセンサSがある。こ
の光導波路型イメージセンサは、イメージスキャナなど
に用いられ、原稿面10を照明する発光ダイオードアレ
イ8と、原稿面10からの反射光を集光するマイクロレ
ンズアレイ1と、該マイクロレンズアレイ1で集光され
た光を光情報として導いて縮小する光導波路基板5と、
該光導波路基板5からの光情報を電気信号に変換するた
めの電荷結合素子(CCD)6とを組み合わせて構成さ
れている。
【0004】また、図8に示すように、光導波路基板5
は、光の通路となる高屈折率のコア部3と、該コア部3
よりも低屈折率のクラッド部4とからなる。そして、光
導波路基板5に光結合されマイクロレンズアレイ1の各
マイクロレンズ1aが、原稿面10からの反射光を各コ
ア部3に集光するものとなっている。
は、光の通路となる高屈折率のコア部3と、該コア部3
よりも低屈折率のクラッド部4とからなる。そして、光
導波路基板5に光結合されマイクロレンズアレイ1の各
マイクロレンズ1aが、原稿面10からの反射光を各コ
ア部3に集光するものとなっている。
【0005】ここで、各コア部3に集光された光は、原
稿面10の各部からの光情報であって、これらを互いに
分離して電荷結合素子6に導く必要があり、隣接するマ
イクロレンズ間のクロストークを回避する必要がある。
このため、図9(a)において、マイクロレンズの開口
数NA1と光導波路の開口数NAwgを一致させるように
設計する。
稿面10の各部からの光情報であって、これらを互いに
分離して電荷結合素子6に導く必要があり、隣接するマ
イクロレンズ間のクロストークを回避する必要がある。
このため、図9(a)において、マイクロレンズの開口
数NA1と光導波路の開口数NAwgを一致させるように
設計する。
【0006】ここで、 NA1=n・sinα NAwg=n0sinθ=(n1 2−n2 2)1/2ただし、 n:マイクロレンズ1aの屈折率 n0:コア部3との境界付近におけるマイクロレンズア
レイ1側の屈折率 n1:コア部3の屈折率 n2:クラッド部4の屈折率 θ:受光角 α:レンズの縁と焦点との間を結ぶ直線と光軸(中心
軸)とのなす角度 D:マイクロレンズ1aの有効口径 f:マイクロレンズ1aの焦点距離
レイ1側の屈折率 n1:コア部3の屈折率 n2:クラッド部4の屈折率 θ:受光角 α:レンズの縁と焦点との間を結ぶ直線と光軸(中心
軸)とのなす角度 D:マイクロレンズ1aの有効口径 f:マイクロレンズ1aの焦点距離
【0007】このようにマイクロレンズアレイ1を設計
すると、図9(b)に示すように、原稿面10の領域A
からの反射光は、光導波路基板5の入射面(コア部3の
端面)で像を結び、コア部3に有効に入射される。ま
た、例えば隣接するマイクロレンズに入射する点Bから
の反射光は、コア部3に閉じ込められるための臨界角度
よりも大きな角度でコア部3に入射することとなる。こ
のため、この点Bからの光はコア部3の外に放出され、
コア間でクロストークが生じることがない。このよう
に、原稿面10の各領域からの反射光は、その各領域に
対応する一つのマイクロレンズにより集光され、一本の
光導波路に入射するように設計されている。
すると、図9(b)に示すように、原稿面10の領域A
からの反射光は、光導波路基板5の入射面(コア部3の
端面)で像を結び、コア部3に有効に入射される。ま
た、例えば隣接するマイクロレンズに入射する点Bから
の反射光は、コア部3に閉じ込められるための臨界角度
よりも大きな角度でコア部3に入射することとなる。こ
のため、この点Bからの光はコア部3の外に放出され、
コア間でクロストークが生じることがない。このよう
に、原稿面10の各領域からの反射光は、その各領域に
対応する一つのマイクロレンズにより集光され、一本の
光導波路に入射するように設計されている。
【0008】上述のマイクロレンズアレイ1は、マイク
ロレンズ1aを1次元に配列したものであるが、図10
に示すように、2次元に配列したマイクロレンズアレイ
14もある。この2次元のマイクロレンズアレイ14の
応用例として高輝度液晶パネルがある。即ち、図11に
示すように、高輝度液晶パネルHPは、TFT基板23
の上にTFT22と一体的に形成された画素電極21を
透過するバックライトの光量を制御することにより画像
を表示するものであって、マイクロレンズアレイ14を
バックライトの入射面(裏面)側に備え、これによりバ
ックライト光を画素電極21に集光して光透過率を向上
させ、画像の輝度を高める。また、画素電極21以外の
領域を遮光するための遮光マスク19を備え、TFT2
2を光から保護すると共に、迷光等の不要光を遮断して
解像度の向上を図っている。
ロレンズ1aを1次元に配列したものであるが、図10
に示すように、2次元に配列したマイクロレンズアレイ
14もある。この2次元のマイクロレンズアレイ14の
応用例として高輝度液晶パネルがある。即ち、図11に
示すように、高輝度液晶パネルHPは、TFT基板23
の上にTFT22と一体的に形成された画素電極21を
透過するバックライトの光量を制御することにより画像
を表示するものであって、マイクロレンズアレイ14を
バックライトの入射面(裏面)側に備え、これによりバ
ックライト光を画素電極21に集光して光透過率を向上
させ、画像の輝度を高める。また、画素電極21以外の
領域を遮光するための遮光マスク19を備え、TFT2
2を光から保護すると共に、迷光等の不要光を遮断して
解像度の向上を図っている。
【0009】ここで1次元または2次元のマイクロレン
ズアレイに付随する迷光を遮断するために、従来以下の
ような構造が提案されている。まず第一の構造として、
特開平2−43501号公報に開示されているように、
マイクロレンズアレイの透明基板の裏面(マイクロレン
ズが形成されている面とは反対側の面)に、レンズの光
軸を中心としてレンズの径よりも小さい径の開口部を有
する遮光層を形成して、レンズ以外からの光や隣接レン
ズによる迷光を遮断したものがある。
ズアレイに付随する迷光を遮断するために、従来以下の
ような構造が提案されている。まず第一の構造として、
特開平2−43501号公報に開示されているように、
マイクロレンズアレイの透明基板の裏面(マイクロレン
ズが形成されている面とは反対側の面)に、レンズの光
軸を中心としてレンズの径よりも小さい径の開口部を有
する遮光層を形成して、レンズ以外からの光や隣接レン
ズによる迷光を遮断したものがある。
【0010】このマイクロレンズアレイの作製方法は、
まず透明基板を用意して、リフトオフ法にて、レンズを
形成する面の裏面にアルミニウム(Al)等の遮光層で
所望の開口部以外を覆う。次に、射出成型法を用いてレ
ンズを形成すべき面にマイクロレンズを形成する。
まず透明基板を用意して、リフトオフ法にて、レンズを
形成する面の裏面にアルミニウム(Al)等の遮光層で
所望の開口部以外を覆う。次に、射出成型法を用いてレ
ンズを形成すべき面にマイクロレンズを形成する。
【0011】第二の構造として、特開平2−64501
号公報に開示されているように、遮光基板の開口部にマ
イクロレンズを嵌合するように備えたものがある。即
ち、図12(a)に示すように、まず、開口部24aを
備えた遮光基板24を用意する。この遮光基板24は、
SUS等の金属薄板にフォトエッチング加工により所定
の大きさの開口部24aを複数形成した後、さらに開口
部以外の表面を化学的処理法により黒色処理する。
号公報に開示されているように、遮光基板の開口部にマ
イクロレンズを嵌合するように備えたものがある。即
ち、図12(a)に示すように、まず、開口部24aを
備えた遮光基板24を用意する。この遮光基板24は、
SUS等の金属薄板にフォトエッチング加工により所定
の大きさの開口部24aを複数形成した後、さらに開口
部以外の表面を化学的処理法により黒色処理する。
【0012】次に、同図(b)に示すように、マイクロ
レンズとなる樹脂フィルム25を遮光基板24の上に重
ね合わせて、同図(c)に示すように、マイクロレンズ
アレイの形状を反転させた金型26を樹脂フィルム25
の上に配置し、裏側には平坦な表面を有する金型27を
配置する。そして、樹脂フィルムのガラス転移点以上の
温度で加熱すると共に、金型26及び27で挟むように
圧着して開口部24aに樹脂フィルム25を流し込んだ
後、ガラス転移点以下の温度に冷却する。これにより、
同図(d)に示すような遮光部分(24)を備えたマイ
クロレンズアレイを得ることができる。
レンズとなる樹脂フィルム25を遮光基板24の上に重
ね合わせて、同図(c)に示すように、マイクロレンズ
アレイの形状を反転させた金型26を樹脂フィルム25
の上に配置し、裏側には平坦な表面を有する金型27を
配置する。そして、樹脂フィルムのガラス転移点以上の
温度で加熱すると共に、金型26及び27で挟むように
圧着して開口部24aに樹脂フィルム25を流し込んだ
後、ガラス転移点以下の温度に冷却する。これにより、
同図(d)に示すような遮光部分(24)を備えたマイ
クロレンズアレイを得ることができる。
【0013】第三の構造として、特開平4−55871
号公報に開示されているように、マイクロレンズアレイ
の光入射面のマイクロレンズ以外の領域を粗面加工等に
よる乱反射面に加工したものがある。これによりマイク
ロレンズ以外の領域に入射する不要な光線を乱反射して
カットする。
号公報に開示されているように、マイクロレンズアレイ
の光入射面のマイクロレンズ以外の領域を粗面加工等に
よる乱反射面に加工したものがある。これによりマイク
ロレンズ以外の領域に入射する不要な光線を乱反射して
カットする。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前述の図6
に示すような従来の遮光層を有しないマイクロレンズア
レイ1を光導波路基板5と組み合わせて導波路型縮小イ
メージメンサに適用する場合、図13(a)に示すよう
なマイクロレンズ1a以外の領域から入射する不要光
や、同図(b)に示すような隣接レンズからの漏光が、
光導波路基板5のクラッド部4に入り込んでしまう。こ
れがクラッド部4において迷光となり、解像度を低下さ
せる原因となる。
に示すような従来の遮光層を有しないマイクロレンズア
レイ1を光導波路基板5と組み合わせて導波路型縮小イ
メージメンサに適用する場合、図13(a)に示すよう
なマイクロレンズ1a以外の領域から入射する不要光
や、同図(b)に示すような隣接レンズからの漏光が、
光導波路基板5のクラッド部4に入り込んでしまう。こ
れがクラッド部4において迷光となり、解像度を低下さ
せる原因となる。
【0015】また、前述の図11に示すように、2次元
マイクロレンズアレイを高輝度液晶パネルHPに適用す
る場合、従来、有効画素部以外を遮へいする遮光マスク
とマイクロレンズアレイを別々に作製していたため、こ
れらの間のアライメントが必要不可欠であった。
マイクロレンズアレイを高輝度液晶パネルHPに適用す
る場合、従来、有効画素部以外を遮へいする遮光マスク
とマイクロレンズアレイを別々に作製していたため、こ
れらの間のアライメントが必要不可欠であった。
【0016】さらに、マイクロレンズアレイに付随する
迷光を遮断するための遮光層を有するマイクロレンズア
レイでは、以下のような問題点がある。即ち、前述の第
一の構造によれば、リフトオフ法により遮光層を形成す
るため、マイクロレンズの位置、大きさ及び数に対応し
た開口部を有するフォトマスクを準備しなければならな
い。
迷光を遮断するための遮光層を有するマイクロレンズア
レイでは、以下のような問題点がある。即ち、前述の第
一の構造によれば、リフトオフ法により遮光層を形成す
るため、マイクロレンズの位置、大きさ及び数に対応し
た開口部を有するフォトマスクを準備しなければならな
い。
【0017】また、前述の第二の構造によれば、隣り合
うマイクロレンズが或る程度離れている場合には効果的
であるが、マイクロレンズアレイ同士が接近すると、隣
接レンズからの漏光の影響を防ぐことができない。即
ち、マイクロレンズアレイのパターンによって遮光の効
果が限定されてしまう。さらに、前述の第三の構造によ
れば、レンズ以外の領域に入射する不要光を有効にカッ
トすることはできるが、隣接レンズから入り込む漏光の
影響を除去することは困難である。
うマイクロレンズが或る程度離れている場合には効果的
であるが、マイクロレンズアレイ同士が接近すると、隣
接レンズからの漏光の影響を防ぐことができない。即
ち、マイクロレンズアレイのパターンによって遮光の効
果が限定されてしまう。さらに、前述の第三の構造によ
れば、レンズ以外の領域に入射する不要光を有効にカッ
トすることはできるが、隣接レンズから入り込む漏光の
影響を除去することは困難である。
【0018】本発明は、このような問題に鑑みてなされ
たものであって、遮光層を形成するためのフォトマスク
を必要とせず、またマイクロレンズアレイのパターンに
よって遮光層の効果が限定されることなく、さらに所望
の位置に必要最小限の開口部を有する遮光層を容易に形
成することができ、レンズ外または隣接レンズからの迷
光を有効に遮光することができるマイクロレンズアレイ
及びその作製方法を提供することを課題とする。
たものであって、遮光層を形成するためのフォトマスク
を必要とせず、またマイクロレンズアレイのパターンに
よって遮光層の効果が限定されることなく、さらに所望
の位置に必要最小限の開口部を有する遮光層を容易に形
成することができ、レンズ外または隣接レンズからの迷
光を有効に遮光することができるマイクロレンズアレイ
及びその作製方法を提供することを課題とする。
【0019】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決達成する
ために、本発明は以下の構成を有する。即ち、請求項1
に記載の発明に係るマイクロレンズアレイは、透明基板
の一面側に複数のマイクロレンズを配列して備えたマイ
クロレンズアレイであって、前記透明基板の他面側に遮
光層を備え、該遮光層が、前記マイクロレンズの光軸と
平行する光を前記マイクロレンズから入射して結像する
領域を開口した開口部を有することを特徴とするマイク
ロレンズアレイの構成を有する。
ために、本発明は以下の構成を有する。即ち、請求項1
に記載の発明に係るマイクロレンズアレイは、透明基板
の一面側に複数のマイクロレンズを配列して備えたマイ
クロレンズアレイであって、前記透明基板の他面側に遮
光層を備え、該遮光層が、前記マイクロレンズの光軸と
平行する光を前記マイクロレンズから入射して結像する
領域を開口した開口部を有することを特徴とするマイク
ロレンズアレイの構成を有する。
【0020】また、請求項2に記載の発明に係るマイク
ロレンズアレイは、請求項1に記載の発明に係るマイク
ロレンズアレイにおいて、マイクロレンズは一次元また
は二次元に配列されたことを特徴とするマイクロレンズ
アレイの構成を有する。
ロレンズアレイは、請求項1に記載の発明に係るマイク
ロレンズアレイにおいて、マイクロレンズは一次元また
は二次元に配列されたことを特徴とするマイクロレンズ
アレイの構成を有する。
【0021】また、請求項3に記載の発明に係るマイク
ロレンズアレイの作製方法は、透明基板の一面側に複数
のマイクロレンズを配列して備えたマイクロレンズアレ
イの作製方法であって、(a)透明基板の他面側に感光
性材料を塗布し、(b)前記マイクロレンズの光軸と平
行する光を前記マイクロレンズから入射して前記感光性
材料に結像する光像により該感光性材料を露光し、
(c)前記光像により露光された領域を残して前記感光
性材料を選択的に除去し、(d)前記透明基板の他面側
に遮光層を形成し、(e)前記光像により露光された領
域の感光性材料を除去することを特徴とするマイクロレ
ンズアレイの作製方法の構成を有する。
ロレンズアレイの作製方法は、透明基板の一面側に複数
のマイクロレンズを配列して備えたマイクロレンズアレ
イの作製方法であって、(a)透明基板の他面側に感光
性材料を塗布し、(b)前記マイクロレンズの光軸と平
行する光を前記マイクロレンズから入射して前記感光性
材料に結像する光像により該感光性材料を露光し、
(c)前記光像により露光された領域を残して前記感光
性材料を選択的に除去し、(d)前記透明基板の他面側
に遮光層を形成し、(e)前記光像により露光された領
域の感光性材料を除去することを特徴とするマイクロレ
ンズアレイの作製方法の構成を有する。
【0022】また、請求項4に記載の発明に係るマイク
ロレンズアレイの作製方法は、透明基板の一面側に複数
のマイクロレンズを配列して備えたマイクロレンズアレ
イの作製方法であって、(a)前記透明基板の他面側
に、所定の波長及び強度を有する光に感光して透光性を
顕す感光性材料を塗布し、(b)前記マイクロレンズの
光軸と平行する前記光を前記マイクロレンズから入射し
て前記感光性材料に結像する光像により該感光性材料を
露光することを特徴とするマイクロレンズアレイの作製
方法の構成を有する。
ロレンズアレイの作製方法は、透明基板の一面側に複数
のマイクロレンズを配列して備えたマイクロレンズアレ
イの作製方法であって、(a)前記透明基板の他面側
に、所定の波長及び強度を有する光に感光して透光性を
顕す感光性材料を塗布し、(b)前記マイクロレンズの
光軸と平行する前記光を前記マイクロレンズから入射し
て前記感光性材料に結像する光像により該感光性材料を
露光することを特徴とするマイクロレンズアレイの作製
方法の構成を有する。
【0023】以下、本発明の作用を述べる。即ち、請求
項1または2に記載の発明に係るマイクロレンズアレイ
によれば、少なくとも、マイクロレンズから入射した光
は、遮光層の開口部を通過する。また、このマイクロレ
ンズ外から入射した光は、遮光層により遮られる。仮
に、マイクロレンズ外から入射した光が遮光層の開口部
に入射したとしても、開口数を適切に選ぶことによっ
て、この入射光の影響を排除することができる。
項1または2に記載の発明に係るマイクロレンズアレイ
によれば、少なくとも、マイクロレンズから入射した光
は、遮光層の開口部を通過する。また、このマイクロレ
ンズ外から入射した光は、遮光層により遮られる。仮
に、マイクロレンズ外から入射した光が遮光層の開口部
に入射したとしても、開口数を適切に選ぶことによっ
て、この入射光の影響を排除することができる。
【0024】また、請求項3に記載の発明に係るマイク
ロレンズアレイの作製方法によれば、透明基板の他面側
に塗布された感光性材料(フォトレジスト)は、マイク
ロレンズの光軸と平行する光を入射して結像する光像の
部分を残して除去される。従って、この上に遮光層を形
成した後、残された感光材料を除去すれば、この感光材
料の上に位置する遮光層の一部も同時に除去される。こ
の結果、遮光層には、マイクロレンズの特性に応じて必
要最小限の大きさに開口された開口部が形成される。
ロレンズアレイの作製方法によれば、透明基板の他面側
に塗布された感光性材料(フォトレジスト)は、マイク
ロレンズの光軸と平行する光を入射して結像する光像の
部分を残して除去される。従って、この上に遮光層を形
成した後、残された感光材料を除去すれば、この感光材
料の上に位置する遮光層の一部も同時に除去される。こ
の結果、遮光層には、マイクロレンズの特性に応じて必
要最小限の大きさに開口された開口部が形成される。
【0025】また、請求項4に記載の発明に係るマイク
ロレンズアレイの作製方法によれば、透明基板の他面側
に塗布された感光性材料は、マイクロレンズの光軸と平
行する光を入射して結像する光像の部分が投光性を顕
す。従って、感光性材料はマイクロレンズの特性に応じ
て必要最小限の大きさの領域が透光性を顕し、その他の
領域で遮光するものとなる。
ロレンズアレイの作製方法によれば、透明基板の他面側
に塗布された感光性材料は、マイクロレンズの光軸と平
行する光を入射して結像する光像の部分が投光性を顕
す。従って、感光性材料はマイクロレンズの特性に応じ
て必要最小限の大きさの領域が透光性を顕し、その他の
領域で遮光するものとなる。
【0026】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態に係るマ
イクロレンズアレイについて、図面を参照して説明す
る。なお、各図において、共通する要素には同一符号を
付して、その重複する説明を省略する。図1(a)及び
同図(b)に示すように、本発明に係るマイクロレンズ
アレイ30は、透明基板30Aの一面側に複数のマイク
ロレンズ30Bを配列して備え、透明基板30Aの他面
側(裏面側)に遮光層30Cを備える。この遮光層30
Cは、マイクロレンズ30Bの光軸と平行する光をマイ
クロレンズ30Bから入射して結像する領域を開口した
開口部30Dを有する。
イクロレンズアレイについて、図面を参照して説明す
る。なお、各図において、共通する要素には同一符号を
付して、その重複する説明を省略する。図1(a)及び
同図(b)に示すように、本発明に係るマイクロレンズ
アレイ30は、透明基板30Aの一面側に複数のマイク
ロレンズ30Bを配列して備え、透明基板30Aの他面
側(裏面側)に遮光層30Cを備える。この遮光層30
Cは、マイクロレンズ30Bの光軸と平行する光をマイ
クロレンズ30Bから入射して結像する領域を開口した
開口部30Dを有する。
【0027】ここで、透明基板30A及びマイクロレン
ズ30Bの材質は、例えばポリメチルメタアクリレート
(PMMA)などが用いられる。このマイクロレンズ3
0Bの有効口径は例えば125μm程度であり、射出成
型法により長さ110mm、幅3mmの透明基板30A
の上に865個程が1次元状に配列して形成される。な
お、高輝度液晶パネルなどに適用する場合には、2次元
状にマイクロレンズを配列するが、この場合、例えば1
10mm角に透明基板上に縦方向に20個、横方向に2
0個を配列して、合計400個程のマイクロレンズ群が
形成される。
ズ30Bの材質は、例えばポリメチルメタアクリレート
(PMMA)などが用いられる。このマイクロレンズ3
0Bの有効口径は例えば125μm程度であり、射出成
型法により長さ110mm、幅3mmの透明基板30A
の上に865個程が1次元状に配列して形成される。な
お、高輝度液晶パネルなどに適用する場合には、2次元
状にマイクロレンズを配列するが、この場合、例えば1
10mm角に透明基板上に縦方向に20個、横方向に2
0個を配列して、合計400個程のマイクロレンズ群が
形成される。
【0028】このような構成を有するマイクロレンズア
レイ30を前述の光導波路基板5と光結合させて、光導
波路型イメージセンサを構成した場合、遮光層30Cの
開口部3Dは、マイクロレンズ30Bの光軸と平行する
光をマイクロレンズ30Bから入射して結像する領域を
開口して得られたものであるから、図2に示すように、
マイクロレンズ30Bの光軸と平行に原稿面10から入
射する反射光Lは、開口部30Dを通過して、光導波路
基板5のコア部3に入射する。
レイ30を前述の光導波路基板5と光結合させて、光導
波路型イメージセンサを構成した場合、遮光層30Cの
開口部3Dは、マイクロレンズ30Bの光軸と平行する
光をマイクロレンズ30Bから入射して結像する領域を
開口して得られたものであるから、図2に示すように、
マイクロレンズ30Bの光軸と平行に原稿面10から入
射する反射光Lは、開口部30Dを通過して、光導波路
基板5のコア部3に入射する。
【0029】これに対して、同図に示すように、隣接す
るマイクロレンズから入射する不要光L1や、マイクロ
レンズ外から入射した不要光L2は、遮光層30Cに遮
られ、クラッド部4に入射せず、迷光とならない。仮
に、不要光L1,L2が開口部30Dに入射したとして
も、マイクロレンズアレイ30及び光導波路基板5の開
口数を適切に設計することによって、この不要光はコア
部3からクラッド部4に放出される。また、図3に示す
ように、高輝度液晶パネルに適用した場合も同様に、不
要光L3,L4が遮光層30Cに遮光されて、迷光の発
生が有効に阻止される。
るマイクロレンズから入射する不要光L1や、マイクロ
レンズ外から入射した不要光L2は、遮光層30Cに遮
られ、クラッド部4に入射せず、迷光とならない。仮
に、不要光L1,L2が開口部30Dに入射したとして
も、マイクロレンズアレイ30及び光導波路基板5の開
口数を適切に設計することによって、この不要光はコア
部3からクラッド部4に放出される。また、図3に示す
ように、高輝度液晶パネルに適用した場合も同様に、不
要光L3,L4が遮光層30Cに遮光されて、迷光の発
生が有効に阻止される。
【0030】次に、マイクロレンズアレイ30の作製方
法について説明する。先ず、図4(a)に示すように、
透明基板30Aの一面側に複数のマイクロレンズ30B
を配列して備えたマイクロレンズアレイ36を用意す
る。マイクロレンズアレイ36の材料としては、例えば
ポリメチルメタアクリレート(PMMA)などの高屈折
率材料が用いられる。
法について説明する。先ず、図4(a)に示すように、
透明基板30Aの一面側に複数のマイクロレンズ30B
を配列して備えたマイクロレンズアレイ36を用意す
る。マイクロレンズアレイ36の材料としては、例えば
ポリメチルメタアクリレート(PMMA)などの高屈折
率材料が用いられる。
【0031】次に、同図(b)に示すように、透明基板
30Aの他面側(裏面側)に、膜厚が例えば2μm程度
のネガ型フォトレジストなどの感光性樹脂38(感光性
材料)を塗布する。そして、マイクロレンズ30Bの光
軸と平行するように紫外線などの活性光UVをマイクロ
レンズ30B側から照射し、このマイクロレンズ30B
により結像される光像により感光性樹脂38を露光する
(感光させる)。
30Aの他面側(裏面側)に、膜厚が例えば2μm程度
のネガ型フォトレジストなどの感光性樹脂38(感光性
材料)を塗布する。そして、マイクロレンズ30Bの光
軸と平行するように紫外線などの活性光UVをマイクロ
レンズ30B側から照射し、このマイクロレンズ30B
により結像される光像により感光性樹脂38を露光する
(感光させる)。
【0032】次に、同図(c)に示すように、現像液に
て露光された領域38Aを残して感光性樹脂38を選択
的に除去する。次に、同図(d)に示すように、透明基
板30Aの他面側に、例えば膜厚1000〜2000オ
ングストローム程度のアルミニウムなどの金属薄膜を遮
光層30Cとして蒸着などにより形成する。最後に、同
図(e)に示すように、有機溶剤などを用いて残った感
光性材料38Aと、この上に堆積した遮光層30Cの一
部とを溶解して除去し、遮光層30Cに開口部30Dを
形成する。以上により、前述の図1(a)及び(b)に
示すようなマイクロレンズアレイ30を得る。
て露光された領域38Aを残して感光性樹脂38を選択
的に除去する。次に、同図(d)に示すように、透明基
板30Aの他面側に、例えば膜厚1000〜2000オ
ングストローム程度のアルミニウムなどの金属薄膜を遮
光層30Cとして蒸着などにより形成する。最後に、同
図(e)に示すように、有機溶剤などを用いて残った感
光性材料38Aと、この上に堆積した遮光層30Cの一
部とを溶解して除去し、遮光層30Cに開口部30Dを
形成する。以上により、前述の図1(a)及び(b)に
示すようなマイクロレンズアレイ30を得る。
【0033】このようにして作製したマイクロレンズア
レイ30は、所望の位置に必要最小限の大きさの開口部
30Dが形成された遮光層30Cを備える。このような
遮光層30Cを備える1次元マイクロレンズアレイ30
を導波路と結合した場合、レンズ外及び隣接レンズから
の不要な光を除去することができ、高解像度が得られ
る。さらに2次元マイクロレンズアレイとして構成して
液晶パネルなどに適用した場合、光源の光の利用効率が
向上するとともに、迷光が減少してコントラストが向上
し、見やすい表示が得られる。
レイ30は、所望の位置に必要最小限の大きさの開口部
30Dが形成された遮光層30Cを備える。このような
遮光層30Cを備える1次元マイクロレンズアレイ30
を導波路と結合した場合、レンズ外及び隣接レンズから
の不要な光を除去することができ、高解像度が得られ
る。さらに2次元マイクロレンズアレイとして構成して
液晶パネルなどに適用した場合、光源の光の利用効率が
向上するとともに、迷光が減少してコントラストが向上
し、見やすい表示が得られる。
【0034】次に、図5を参照しながら、他の作製方法
について説明する。先ず、図5(a)に示すように、透
明基板30Aの一面側に複数のマイクロレンズ30Bを
配列して備えたマイクロレンズアレイ36を準備する。
次に、同図(b)に示すように、透明基板30Aの裏面
側に、所定の波長と強度を有する光(以下、「特定光」
と記す)に反応して色素が分解して透光性を顕す色素膜
41(フォトクロミック材)を塗布する。
について説明する。先ず、図5(a)に示すように、透
明基板30Aの一面側に複数のマイクロレンズ30Bを
配列して備えたマイクロレンズアレイ36を準備する。
次に、同図(b)に示すように、透明基板30Aの裏面
側に、所定の波長と強度を有する光(以下、「特定光」
と記す)に反応して色素が分解して透光性を顕す色素膜
41(フォトクロミック材)を塗布する。
【0035】そして、マイクロレンズ30Bの光軸と平
行するように特定光TLをマイクロレンズ30B側から
照射し、このマイクロレンズ30Bにより結像される光
像により色素膜41を露光する。この露光により、同図
(c)に示すように、色素膜41は、マイクロレンズ3
0Bにより結像した光像に対応する部分41Aの色素が
分解されて透明になり、先の図1(a)及び(b)に示
すものと等価な構造となる。
行するように特定光TLをマイクロレンズ30B側から
照射し、このマイクロレンズ30Bにより結像される光
像により色素膜41を露光する。この露光により、同図
(c)に示すように、色素膜41は、マイクロレンズ3
0Bにより結像した光像に対応する部分41Aの色素が
分解されて透明になり、先の図1(a)及び(b)に示
すものと等価な構造となる。
【0036】ここで、色素膜41として、例えば570
nmで色素が分解するように調整されたフタロシアニンを
2μm程度の膜厚で塗布して用いることができる。ま
た、この場合、特定光TLの波長は570nmに設定さ
れ、その光強度は、縮小型イメージセンサとして使用す
る場合の原稿面から反射される570nmの波長を有する
光成分の最大強度よりも十分大きく設定される。
nmで色素が分解するように調整されたフタロシアニンを
2μm程度の膜厚で塗布して用いることができる。ま
た、この場合、特定光TLの波長は570nmに設定さ
れ、その光強度は、縮小型イメージセンサとして使用す
る場合の原稿面から反射される570nmの波長を有する
光成分の最大強度よりも十分大きく設定される。
【0037】このように特定光TLの強度を選択するこ
とにより、原稿面10からの反射光に反応して遮光層が
透光性を顕すことがなく、窓41A以外の領域の遮光性
が維持される。この作製方法によれば、先の図4に示す
作製方法と比較して、工程を3工程短縮することができ
る。
とにより、原稿面10からの反射光に反応して遮光層が
透光性を顕すことがなく、窓41A以外の領域の遮光性
が維持される。この作製方法によれば、先の図4に示す
作製方法と比較して、工程を3工程短縮することができ
る。
【0038】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、以下のような効果を得ることができる。即
ち、請求項1に記載の発明によれば、マイクロレンズア
レイの裏面側に、該マイクロレンズアレイが形成する光
像の大きさに等しい開口部を有する遮光層を形成したの
で、必要とする光に損失を生じることなく迷光などの不
要光のみを有効に遮断することができる。この結果マイ
クロレンズアレイの光出射面での像の解像度を向上させ
ることができる。また、液晶パネルに適用した場合、T
FTを光から有効に保護することができると共に、迷光
などの不要光を有効に遮断して、コントラストを向上さ
せることができる。
によれば、以下のような効果を得ることができる。即
ち、請求項1に記載の発明によれば、マイクロレンズア
レイの裏面側に、該マイクロレンズアレイが形成する光
像の大きさに等しい開口部を有する遮光層を形成したの
で、必要とする光に損失を生じることなく迷光などの不
要光のみを有効に遮断することができる。この結果マイ
クロレンズアレイの光出射面での像の解像度を向上させ
ることができる。また、液晶パネルに適用した場合、T
FTを光から有効に保護することができると共に、迷光
などの不要光を有効に遮断して、コントラストを向上さ
せることができる。
【0039】また、請求項3または4に記載の発明によ
れば、マイクロレンズが形成する光像を用いて遮光層
(色素膜)の開口部の大きさを定めるので、開口部
(窓)を必要最小限の大きさに容易に形成することがで
きる。従って、マイクロレンズアレイのパターンに関係
なく、個々のマイクロレンズの特性に応じて所望の位置
に必要最小限の開口部を有した遮光層を容易に形成する
ことができる。なお、請求項4に記載の発明によれば、
さらに作製工程を短縮することができる。
れば、マイクロレンズが形成する光像を用いて遮光層
(色素膜)の開口部の大きさを定めるので、開口部
(窓)を必要最小限の大きさに容易に形成することがで
きる。従って、マイクロレンズアレイのパターンに関係
なく、個々のマイクロレンズの特性に応じて所望の位置
に必要最小限の開口部を有した遮光層を容易に形成する
ことができる。なお、請求項4に記載の発明によれば、
さらに作製工程を短縮することができる。
【図1】(a)及び(b)は、本発明のマイクロレンズ
アレイの斜視図である。
アレイの斜視図である。
【図2】本発明のマイクロレンズアレイの遮光効果を説
明するための説明図である。
明するための説明図である。
【図3】本発明のマイクロレンズアレイを液晶パネルに
適用した場合の遮光効果を説明するための説明図であ
る。
適用した場合の遮光効果を説明するための説明図であ
る。
【図4】(a)〜(e)は、本発明のマイクロレンズア
レイの作製方法を説明するための説明図である。
レイの作製方法を説明するための説明図である。
【図5】(a)〜(c)は、本発明のマイクロレンズア
レイの他の作製方法を説明するための説明図である。
レイの他の作製方法を説明するための説明図である。
【図6】従来の1次元マイクロレンズアレイの斜視図で
ある。
ある。
【図7】導波路型イメージセンサを説明するための図で
ある。
ある。
【図8】マイクロレンズアレイと光導波路基板との結合
構造を示す透視図である。
構造を示す透視図である。
【図9】(a)は、マイクロレンズ及び光導波路基板の
開口数の原理図である。(b)は、マイクロレンズに付
随する迷光の光路を示す図である。
開口数の原理図である。(b)は、マイクロレンズに付
随する迷光の光路を示す図である。
【図10】従来の2次元マイクロレンズアレイの斜視図
である。
である。
【図11】マイクロレンズアレイと液晶パネルを一体化
した高輝度液晶パネルの構造を示す図である。
した高輝度液晶パネルの構造を示す図である。
【図12】(a)〜(d)は、従来の遮光層を設けたマ
イクロレンズアレイの作製方法を説明するための図であ
る。
イクロレンズアレイの作製方法を説明するための図であ
る。
【図13】(a)及び(b)は、不要光(漏光)の光路
を示す図である。
を示す図である。
30 マイクロレンズアレイ 30A 透明基板 30B マイクロレンズ 30C 遮光層 30D 開口部 41 色素膜 41A 窓
Claims (4)
- 【請求項1】 透明基板の一面側に複数のマイクロレン
ズを配列して備えたマイクロレンズアレイであって、 前記透明基板の他面側に遮光層を備え、該遮光層は、前
記マイクロレンズの光軸と平行する光を前記マイクロレ
ンズから入射して結像する領域を開口した開口部を有す
ることを特徴とするマイクロレンズアレイ。 - 【請求項2】 請求項1に記載の発明に係るマイクロレ
ンズアレイにおいて、マイクロレンズは一次元または二
次元に配列されたことを特徴とするマイクロレンズアレ
イ。 - 【請求項3】 透明基板の一面側に複数のマイクロレン
ズを配列して備えたマイクロレンズアレイの作製方法で
あって、(a)透明基板の他面側に感光性材料を塗布
し、(b)前記マイクロレンズの光軸と平行する光を前
記マイクロレンズから入射して前記感光性材料に結像す
る光像により該感光性材料を露光し、(c)前記光像に
より露光された領域を残して前記感光性材料を選択的に
除去し、(d)前記透明基板の他面側に遮光層を形成
し、(e)前記光像により露光された領域の感光性材料
を除去することを特徴とするマイクロレンズアレイの作
製方法。 - 【請求項4】 透明基板の一面側に複数のマイクロレン
ズを配列して備えたマイクロレンズアレイの作製方法で
あって、(a)前記透明基板の他面側に、所定の波長及
び強度を有する光に感光して透光性を顕す感光性材料を
塗布し、(b)前記マイクロレンズの光軸と平行する前
記光を前記マイクロレンズから入射して前記感光性材料
に結像する光像により該感光性材料を露光することを特
徴とするマイクロレンズアレイの作製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9041823A JPH10239503A (ja) | 1997-02-26 | 1997-02-26 | マイクロレンズアレイ及びその作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9041823A JPH10239503A (ja) | 1997-02-26 | 1997-02-26 | マイクロレンズアレイ及びその作製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10239503A true JPH10239503A (ja) | 1998-09-11 |
Family
ID=12619017
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9041823A Pending JPH10239503A (ja) | 1997-02-26 | 1997-02-26 | マイクロレンズアレイ及びその作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10239503A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6788460B2 (en) | 1998-04-15 | 2004-09-07 | Duke University | Projection screen apparatus |
| US6816306B2 (en) | 1998-04-15 | 2004-11-09 | Bright View Technologies Inc. | Micro-lens array based light transmitting screen with high resolution and low imaging artifacts |
| US6829087B2 (en) | 1998-04-15 | 2004-12-07 | Bright View Technologies, Inc. | Micro-lens array based light transmitting screen with tunable gain |
| US6967779B2 (en) | 1998-04-15 | 2005-11-22 | Bright View Technologies, Inc. | Micro-lens array with precisely aligned aperture mask and methods of producing same |
| JP2009145104A (ja) * | 2007-12-12 | 2009-07-02 | Sanyo Electric Co Ltd | エバネッセント波発生装置及びそれを用いた観察装置 |
| CN114519870A (zh) * | 2020-11-16 | 2022-05-20 | 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 | 光学图像采集单元、制作方法、光学图像采集器件及电子设备 |
-
1997
- 1997-02-26 JP JP9041823A patent/JPH10239503A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6788460B2 (en) | 1998-04-15 | 2004-09-07 | Duke University | Projection screen apparatus |
| US6816306B2 (en) | 1998-04-15 | 2004-11-09 | Bright View Technologies Inc. | Micro-lens array based light transmitting screen with high resolution and low imaging artifacts |
| US6829087B2 (en) | 1998-04-15 | 2004-12-07 | Bright View Technologies, Inc. | Micro-lens array based light transmitting screen with tunable gain |
| US6967779B2 (en) | 1998-04-15 | 2005-11-22 | Bright View Technologies, Inc. | Micro-lens array with precisely aligned aperture mask and methods of producing same |
| JP2007526491A (ja) * | 2003-06-03 | 2007-09-13 | ブライト ビュー テクノロジーズ インコーポレイテッド | 正確に位置合わせされた開口マスクを持つマイクロレンズアレイおよびその製造方法 |
| JP2009145104A (ja) * | 2007-12-12 | 2009-07-02 | Sanyo Electric Co Ltd | エバネッセント波発生装置及びそれを用いた観察装置 |
| CN114519870A (zh) * | 2020-11-16 | 2022-05-20 | 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 | 光学图像采集单元、制作方法、光学图像采集器件及电子设备 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3079969B2 (ja) | 完全密着型イメージセンサ及びその製造方法 | |
| US5121254A (en) | Image transmitting element and process for producing photo-shield spacer plate used therein | |
| JPH0264501A (ja) | マイクロレンズアレイ及びその製造方法 | |
| JP3535610B2 (ja) | 液晶プロジェクタ−用の液晶デバイスおよび液晶デバイス用の対向基板 | |
| US20210200079A1 (en) | Negative refraction imaging lithographic method and equipment | |
| JPH10225995A (ja) | マイクロレンズアレイ、その製造方法、及び光導波路型イメージセンサ | |
| JP2552389B2 (ja) | 透過型表示装置 | |
| JPH02301703A (ja) | フリースペースプレーナー光学要素の集積 | |
| US5163117A (en) | Image transmitting element comprising an array of photo-transmissible holes | |
| JPH02301702A (ja) | プレーナー反射光学デバイス | |
| KR0135922B1 (ko) | 마이크로렌즈 기판 및 그것을 사용한 액정 표시 소자 및 액정 프로젝터 장치 | |
| JP6046916B2 (ja) | マイクロレンズの形成方法 | |
| JP3129386B2 (ja) | 光学装置 | |
| JP3495583B2 (ja) | 光学装置 | |
| US20070218372A1 (en) | Method For Production Of Micro-Optics Structures | |
| US11567411B2 (en) | Maskless photolithography devices, methods, and systems | |
| JPH06230203A (ja) | 光学素子及びその製造方法、当該光学素子を製造するためのスタンパ並びに当該光学素子を使用した画像表示装置 | |
| JPH10181089A (ja) | 光学装置 | |
| JP2002048906A (ja) | 回折光学素子、および該回折光学素子を有する光学系、撮影装置、観察装置 | |
| JP3086137B2 (ja) | マイクロレンズ基板の製造方法および製造装置 | |
| JPH1184337A (ja) | 液晶装置および投写型表示装置 | |
| JPH10253951A (ja) | 反射型液晶表示器 | |
| JPS6150101A (ja) | 集光性フイルタ−の製造方法 | |
| JP2820748B2 (ja) | 結像素子 | |
| JP2003054025A (ja) | 画像伝達装置 |