JPH10239645A - 波長可変グレーティング導波路 - Google Patents

波長可変グレーティング導波路

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JPH10239645A
JPH10239645A JP9041774A JP4177497A JPH10239645A JP H10239645 A JPH10239645 A JP H10239645A JP 9041774 A JP9041774 A JP 9041774A JP 4177497 A JP4177497 A JP 4177497A JP H10239645 A JPH10239645 A JP H10239645A
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JP
Japan
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wavelength
grating
waveguide
refractive index
light
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Withdrawn
Application number
JP9041774A
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English (en)
Inventor
Fumihiro Ebisawa
文博 海老澤
Takeshi Sukegawa
健 助川
Takuji Yoshida
卓史 吉田
Koichi Arishima
功一 有島
Shigeki Sakaguchi
茂樹 坂口
Katsunari Okamoto
勝就 岡本
Mitsutoshi Hoshino
光利 星野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NTT Inc
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Publication date
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  • Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
  • Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 石英系グレーティング光導波路において、グ
レーティング導波路の実効屈折率をクラッド材料の光化
学反応あるいは熱光学効果による屈折率変化を利用して
可変することでグレーティング波長を変えることができ
るようにした波長可変グレーティング導波路を提供する
ことにある。 【解決手段】 平面基板1上に形成された石英系のコア
3、クラッド2,5構造を有し、且つ、コア3の一部に
グレーティング4が形成されている光導波路において、
該光導波路のコア3の上部に形成された溝に充填材6を
配して、上部クラッドとすることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、オプトエレクトロ
ニクス分野、光通信分野において使用される波長が可変
できるグレーティング導波路に関するものである。
【0002】
【従来の技術】光波長分割多重(WDM)伝送技術にお
いては多重化された光の特定の波長の選別が重要になっ
てくる。この光波長分割多重では波長選別のためにグレ
ーティングが形成された石英系光導波路が重要なキーデ
バイスの構成要素となる。この導波路は石英系材料を用
いているため高安定性、低伝搬損失など優れた特性を持
っている。
【0003】この導波路を利用すると小型で簡単な構造
を持つ波長フィルター、共振器、選択波長分岐挿入回路
などが作製できる。例えば、選択波長分岐挿入回路では
2つの3dBカップラで挟まれた2本の等価なアームグ
レーティング導波路を持つマッハツェンダー干渉回路で
構成されており、簡単な構成で性能を持っている(上塚
尚登 他、電子通信学会 第9回光ファイバ応用技術研
究会講演予稿集、プラザでいご、沖縄、1996)。
【0004】上塚らの報告によるとこの選択波長分岐挿
入回路は素子作製時のグレーティングの形成によってそ
の波長は決定されるために選択波長は固定となる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は石英系
グレーティング光導波路において、グレーティング導波
路の実効屈折率をクラッド材料の光化学反応あるいは熱
光学効果による屈折率変化を利用して可変することでグ
レーティング波長を変えることができるようにした波長
可変グレーティング導波路を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は基板上に形成さ
れた石英系のコア、クラッド構造を有する完全埋め込み
型のグレーティング光導波路において、コアの1面ある
いは3面に近接、あるいは接する部分に有機高分子材料
あるいは自己保持型ホトクロミック材料を含む高分子を
クラッドとして用いることを最も主要な特徴とする。
【0007】従来の技術の石英系グレーティング導波路
はすべてが石英ガラスで構成されており、導波路の実効
屈折率が制御出来ないという欠点があった。この結果、
グレーティング波長を任意に可変することができなかっ
た。従来技術とは石英ガラスの上部あるいは上部側部ク
ラッドの一部を有機高分子や自己保持型ホトクロミック
材料を含む有機高分子に変え、これらの高分子の屈折率
を変えることでグレーティング波長を制御できるように
した点が異なる。
【0008】〔作用〕一般にグレーティング波長λ
gは、次式で表される。 λg=2×Neff×Λ …(1) ここで、Neffは導波路の実効屈折率、Λはグレーティ
ングのピッチである。従来の技術で作製された石英系グ
レーティング導波路では実効屈折率NeffもピッチΛも
変えることが出来ない。
【0009】何らかの手段で、実効屈折率Neffかピッ
チΛを変えることができれば、グレーティング波長λg
を変えることができることになる。ここではグレーティ
ング光導波路の実効屈折率を変えることでグレーティン
グ波長λgを可変することとした。
【0010】実効屈折率は導波路を構成しているクラッ
ドの屈折率を単一モード導波条件を維持するようにして
変化させることで変えることができる。石英クラッドの
一部を高分子に置き換え、この高分子の屈折率を変えれ
ば、グレーティング波長を可変できるようになる。高分
子の屈折率は電気光学効果など様々な効果で変えること
ができるが、ここでは高分子のホトクロミック光化学反
応と高分子の温度変化による屈折率変化を利用した。
【0011】したがって、クラッドとして高分子を用
い、これに温度変化を与えることにより、あるいはホト
クロミック材料を含む高分子をクラッドとして紫外線、
可視光線を照射することで波長可変グレーティング導波
路を実現することができる。
【0012】
【発明の実施の形態】
〔実施例1〕本発明の第一の実施例を図1〜3に示す。
本実施例は、波長可変選択波長分岐挿入回路に応用した
例であり、2本の波長可変グレーティングアーム導波路
12を2個の3dBカップラ9で挟んだ構造である。
【0013】図1はこの回路の構造を示す上面図、図2
はアーム導波路12に垂直方向の断面線II−IIによる断
面図、図3は1本のアーム導波路12に平行方向の断面
線III−IIIによる断面図である。
【0014】図中、1はシリコン基板、2は下部クラッ
ド、3はコア、4は屈折率差を用いたグレーティング、
5は上部側部クラッド、6は自己保持型ホトクロミック
材料を10%含有したフッ素化エポキシ樹脂、7は入射
ポート、8は入射ポート、9は3dBカップラ、10は
出射ポート、11は出射ポート、12はグレーティング
アーム導波路である。
【0015】自己保持型ホトクロミック材料として、フ
ルギド型ホトクロミック化合物、ジアリルエテン系ホト
クロミック化合物があるが、ここでは後者の代表的な化
合物である1、2ビス(2メチルベンゾ(b)チオフェ
ン3イル)パーフルオロシクロアルケン(英語名:1,2-B
is[2-Methylbenzo[b]thiophen-3-yl]perfluorocycloalk
ene)を用いた。
【0016】作製した波長可変選択波長分岐挿入回路は
1.55μmの波長帯域で動作し、コア径6.5μm×
6.5μm、コアとクラッドの比屈折率差0.75%、
アーム導波路の長さ10mmである。このアーム導波路
に屈折率差が0.001でピッチが0.53μmのグレ
ーティングをエキシマレーザ(波長248nm) で作製
した。
【0017】アーム導波路12の間隔は100μmであ
り、この2本のアーム導波路12の上に幅200μm、
長さ8mmで深さがコア3の直上までの深さの溝を反応
性イオンエッチィングで削り、この溝に屈折率を1.4
44に調整した自己保持型ホトクロミック材料を10%
含有したフッ素化エポキシ樹脂6を充填した。
【0018】作製した波長可変選択波長分岐挿入回路を
動作するには入射ポート7に1.55μmの波長帯にお
いて波長λ1から波長λnのn波長多重化されたレーザー
光を入射させる。すると、ポート8からグレーティング
波長λgに相当する波長λ1を取り出すことができ、波長
λ1を分岐することができる。ポート11からはλ1の信
号が取り除かれた残りの波長多重光λ2〜λnを取り出す
ことが出来る。
【0019】また、ポート10から取り除かれたλ1
光を入射すれば、ポート11にはλ2〜λnにλ1を付加
したλ1〜λnの波長多重信号を取り出すことができる。
このように、ブラッグ波長に相当する波長を選択的に分
岐、挿入ができるのでファイバ伝送中の波長多重光信号
から決められた波長の信号を取り出したり、付け加える
ことができる。グレーティング導波路の3dBの帯域は
0.3nmであり、グレーティング波長λgの透過およ
び反射減衰量はともに20dB以上であった。
【0020】グレーティング波長λgの可変は次のよう
に行った。両アーム導波路12の直上に直径1mm程
度、長さ10mmの小型キセノンフラッシュランプを2
本アーム導波路12に平行に配置した。このランプの1
本は紫外線カットフィルターを装着し、もう―本には可
視カットフィルターを装着してある。それぞれのカット
フィルターの波長は500nmに設定した。
【0021】小型キセノンフラッシュランプの駆動装置
を準備して、紫外線と可視光線のパルスをアーム導波路
上部に充填した自己保持型ホトクロミック材料を10%
含有したフッ素化エポキシ樹脂6に照射できるようにし
た。
【0022】波長間隔0.5nmで1.5505μmか
ら1.553μmまでの6波長多重信号をポート7から
入射させた。この時、ポート8からは波長1.5505
μmの光が観測され、ポート11からは波長1.551
〜1.553μmの光信号が観測された。ここで可視カ
ットフィルターを装着した小型キセノンフラッシュラン
プの駆動装置の電源を入れ、紫外線フラッシュ光を5回
点滅させたところ、ポート8には波長1.5505μm
の光に代わって1.551μmの光が観測され、同時に
ポート11からは波長1.551μmの波長の光が抜け
た波長多重信号光が観測された。
【0023】そして、その状態は自己保持安定化され
た。紫外線フラッシュ光の点滅回数を増やして、ポート
8の分岐波長を1.53μmまで順次変化させることが
できた。どの波長でもその選択波長は維持され、長期間
の自己保持安定性が保たれた。
【0024】今度は逆に分岐波長を短くするために、紫
外カットフィルターを装着した小型キセノンフラッシュ
ランプの駆動装置の電源を入れ、可視のフラッシュ光を
2回点滅させたところ、ポート8には波長1.553μ
mの光に代わって1.5525μmの光が観測され、同
時にポート11からは波長1.5525μmの波長の光
が抜けた波長多重信号光が観測された。可視のフラッシ
ュ光の点滅回数を増やすことで分岐波長は順次短波長に
移動し、最終的に1.5505μmの分岐波長が観測さ
れた。この分岐波長でも同様に長期的な自己保持安定性
があった。
【0025】このように紫外線あるいは可視光線のフラ
ッシュ光を一定の点滅回数だけ点滅させることで任意の
分岐波長を可変でき、またその選択波長を無電力で自己
保持することができた。以上のことは分岐波長と同時
に、ポート10から入射する挿入波長についても同じこ
とであった。
【0026】以上のように、従来の選択波長分岐挿入回
路に比べて、その選択波長を可変するだけでなく、自己
保持性を利用して無電力で安定化できるようになった。
同時にこの回路はグレーティング導波路を用いているた
めに、従来のアレー導波路格子を用いた波長可変選択波
長分岐挿入回路よりも単純で小型であるという特徴を備
えている。
【0027】〔実施例2〕本発明の第二の実施例を図4
〜6に示す。本実施例は、波長可変選択波長分岐挿入回
路に応用した例であり、2本の波長可変グレーティング
アーム導波路12を2個の3dBカップラ9で挟んだ構
造である。
【0028】図4はこの回路の構造を示す上面図、図5
はアーム導波路12に垂直方向の断面線V−Vによる断
面図、図6は1本のアーム導波路12に平行方向の断面
線VI−VIによる断面図である。
【0029】図中、1はシリコン基板、2は下部クラッ
ド、3はコア、4は屈折率差を用いたグレーティング、
5は上部側部クラッド、7は入射ポート、8は入射ポー
ト、9は3dBカップラ、10は出射ポート、11は出
射ポート、12はグレーティングアーム導波路、13は
フッ素化エポキシ樹脂、14はクロム/金蒸着のヒータ
ーである。
【0030】溝に充填する樹脂はその屈折率の整合性と
ともにその温度係数が大きいほど、ヒーター14の加熱
による屈折率の変化が大きくなるために好ましい。フッ
素化エポキシ樹脂13の屈折率の温度係数は−3×10
-4であるが、これと同等以上の屈折率の温度係数を持つ
樹脂も使用可能であった。
【0031】例えば、ゴム状EVA樹脂(−3.3×1
-4)、シロキサンゲル(−3.5×10-4)、ポリオ
レフィン系ポリオール(−7×10-4)などである。作
製した波長可変選択波長分岐挿入回路は1.55μmの
波長帯域で動作し、コア径6.5μm×6.5μm、コ
アとクラッドの比屈折率差0.75%、アーム導波路1
2の長さは10mmである。このアーム導波路12に屈
折率差が0.001でピッチが0.53μmのグレーテ
ィングをエキシマレーザ(波長248nm)で作製し
た。
【0032】アーム導波路12の間隔は100μmであ
り、この2本のアーム導波路12の上に幅200μm、
長さ8mmで深さがコア直上までの深さの溝を反応性イ
オンエッチィングで削り、この溝に屈折率を1.444
に調整したフッ素化エポキシ樹脂13を充填した。作製
した波長可変選択波長分岐挿入回路の動作は実施例1に
示した通りである。
【0033】グレーティング導波路の3dBの帯域は
0.3nmでグレーティング波長λgの透過および反射
減衰量はともに20dB以上であった。グレーティング
波長λ gの可変は樹脂13上に設置されたヒーター14
の加熱により行った。ヒーター14の加熱温度はヒータ
ー14の上に置かれた熱電対により測定した。波長間隔
0.5nmで1.5505μmから1.553μmまで
の6波長多重信号をポート7から入射させた。この時、
ポート8からは波長1.5505μmの光が出射され、
ポート11からは波長1.551〜1.553μmの光
信号が観測された。
【0034】ここでヒーター14の電源を入れ、温度を
20℃から35℃まで上昇させたところ、ポート8には
波長1.5505μmの光に代わって1.551μmの
光が出射され、同時にポート11からは波長1.551
μmの波長の光が欠落した波長多重光が観測された。ポ
ート10より1.551μmの光を入射させると、ポー
ト11には1.551μmの光が付加された波長多重信
号が観測された。さらに温度を上昇させ、60℃になっ
たところで分岐波長は1.553μmとなり、ポート8
には1.553μmの光が出射された。
【0035】ヒーター14の加熱温度(℃)と分岐波長
の観測結果を図7に示した。このヒーター14を用いた
方法では分岐波長を一定に保つのに電流を流して、温度
を一定に保つ必要がある。平均の切り替え速度は1ミリ
秒以内であり、高速で分岐波長の切り替えあるいは分岐
波長の掃引操作に適している。以上のように、従来の選
択波長分岐挿入回路に比べて、単純で小型であり、1ミ
リ秒以下の高速の分岐波長切り替えができた。
【0036】〔実施例3〕本発明の第三の実施例を図8
〜図10に示す。本実施例は、波長可変選択波長分岐挿
入回路に応用した例であり、2本の波長可変グレーティ
ングアーム導波路12を2個の3dBカップラ9で挟ん
だ構造である。
【0037】図8はこの回路の構造を示す上面図、図9
はアーム導波路12に垂直方向の断面線IX−IXによる断
面図、図10は1本のアーム導波路12に平行方向の断
面線X−Xによる断面図である。
【0038】図中、1はシリコン基板、2は下部クラッ
ド、3はコア、5は上部側部クラッド、6は自己保持型
ホトクロミック材料を10%含有したフッ素化エポキシ
樹脂、7は入射ポート、8は入射ポート、9は3dBカ
ップラ、10は出射ポート、11は出射ポート、12は
グレーティングアーム導波路、15はコアのエッチィン
グにより作製したグレーティングである。
【0039】自己保持型ホトクロミック材料として、フ
ルギド型ホトクロミック化合物、ジアリルエテン系ホト
クロミック化合物があるが、ここでは後者の代表的な化
合物1、2ビス(2メチルベンゾ(b)チオフェン3イ
ル)パーフルオロシクロアルケン(英語名:1,2-Bis[2-M
ethylbenzo[b]thiophen-3-yl]perfluorocycloalkene)を
用いた。
【0040】作製した波長可変選択波長分岐挿入回路は
1.55μmの波長帯域で動作し、コア径4μm×3μ
m、コアとクラッドの比屈折率差1.0%、アーム導波
路12の長さ1mmである。回路の上部クラッドを一度
反応性イオンエッチィングでコア3の上部まで削った後
にアーム導波路部分にレジストを干渉露光して、反応性
イオンエッチィングでピッチが0.5μmの物理的なグ
レーティング15を形成した。このグレーティング部分
を残して、上部クラッドを再作製した。次に残したグレ
ーティング部分にホトクロミック材料を10%含有した
フッ素化エポキシ樹脂6を充填した。
【0041】作製した波長可変選択波長分岐挿入回路の
動作は実施例1に示した通りである。グレーティング導
波路の3dBの帯域は0.3nmでグレーティング波長
λgの透過および反射減衰量はともに20dB以上であ
った。
【0042】グレーティング波長λgの可変は実施例1
と同様に両アーム導波路12の直上に直径1mm程度、
長さ15mmの小型キセノンフラッシュランプを2本ア
ーム導波路12に平行に配置し、これを点滅させて行っ
た。波長間隔0.5nmで1.5505μmから1.5
3μmまでの6波長多重信号をポート7から入射させ
た。この時、ポート8からは波長1.5505μmの光
が観測され、ポート11からは波長1.551〜1.5
53μmの光信号が観測された。
【0043】ここで可視カットフィルターを装着した小
型キセノンフラッシュランプの駆動装置の電源を入れ、
紫外線フラッシュ光を4回点滅させたところ、ポート8
には波長1.505μmの光に代わって1.551μm
の光が観測され、同時にポート11からは波長1.55
1μmの波長の光が抜けた波長多重光が観測された。そ
して、その状態は無電力で自己保持安定化された。続け
て、分岐、挿入波長を変えるために紫外線フラッシュ光
の点滅回数を増やして、ポート8からの分岐波長を順次
1.553μmまで変化させることができた。各波長で
もその状態は維持され、長期間の自己保持安定性が確認
された。
【0044】今度は逆に分岐波長を短波長にシフトさせ
るために、紫外カットフィルターを装着した小型キセノ
ンフラッシュランプの駆動装置の電源を入れ、可視のフ
ラッシュ光を2回点滅させたところ、ポート8には波長
1.553μmの光に代わって1.5525μmの分岐
光が観測され、同時にポート11からは波長1.552
5μmの波長の光が抜けた波長多重光が観測された。可
視のフラッシュ光の点滅回数を増やすことで分岐波長は
順次短波長に移動し、最終的に1.5505μmの分岐
波長が出射された。
【0045】このように紫外線あるいは可視光線のフラ
ッシュ光を一定の点滅回数だけ点滅させることで任意の
分岐波長を可変でき、またその波長を無電力で自己保持
することができた。以上のように、従来の選択波長分岐
挿入回路に比べて、その選択波長を可変するだけでな
く、自己保持性を利用して無電力で安定化できるように
なった。同時にこの回路はグレーティング導波路を用い
ているために、従来のアレー導波路格子を用いた波長可
変選択波長分岐挿入回路よりも単純で小型であるという
特徴を備えている。
【0046】〔実施例4〕本発明の第四の実施例を図1
1〜図13に示す。本実施例は、波長可変選択波長分岐
挿入回路に応用した例であり、2本の波長可変グレーテ
ィングアーム導波路12を2個の3dBカップラ9で挟
んだ構造である。
【0047】図11はこの回路の構造を示す上面図、図
12はアーム導波路12に垂直方向の断面線XII−XIIに
よる断面図、図13は1本のアーム導波路12に平行方
向の断面線XIII−XIIIによる断面図である。
【0048】図中、1はシリコン基板、2は下部クラッ
ド、3はコア、5は上部側部クラッド、7は入射ポー
ト、8は入射ポート、9は3dBカップラ、10は出射
ポート、11は出射ポート、12はグレーティングアー
ム導波路、13はフッ素化エポキシ樹脂、14はクロム
/金蒸着のヒーター、15はコアのエッチィングにより
作製したグレーティングである。
【0049】この構造は実施例2で示したものと同じ原
理で動作し、異なる点はグレーティングアーム導波路1
2の構造である。実施例2では紫外線照射により石英ガ
ラスの屈折率がわずかに大きくなる現象を用いて、これ
でグレーティングを形成したが、本実施例では直接コア
にエッチィングにより物理的なグレーティング15を形
成している。溝に充填する樹脂はその屈折率の整合性と
ともにその温度係数が大きいほど、ヒーター14の加熱
による屈折率の変化が大きくなるために好ましい。
【0050】フッ素化エポキシ樹脂13の屈折率の温度
係数は−3×10-4であるが、これと同等以上の屈折率
の温度係数を持つ樹脂も使用可能であった。例えば、ゴ
ム状EVA樹脂(−3.3×10-4)、シロキサンゲル
(−3.5×10-4)、ポリオレフイン系ポリオール
(−7×10-4)などである。
【0051】作製した波長可変選択波長分岐挿入回路は
1.55μmの波長帯域で動作し、コア径6.5μm×
6.5μm、コアとクラッドの比屈折率差0.75%、
アーム導波路12の長さは10mmである。
【0052】回路の上部クラッドを一度反応性イオンエ
ッチィングでコア直上部まで削った後にアーム導波路部
分にレジストを干渉露光して、反応性イオンエッチィン
グでビッチが0.5μmの物理的なグレーティングを形
成した。このグレーティング部分を残して、上部クラッ
ドを再作製した。この時にアーム導波路上部に金属マス
クを置いて、部分的な溝を形成し、ここに屈折率を調整
したフッ素化エポキシ樹脂13を充填した。
【0053】作製した波長可変選択波長分岐挿入回路の
動作は実施例1に示した通りである。グレーティング導
波路の3dBの帯域は0.3nmでグレーティング波長
λgの透過および反射減衰量はともに20dB以上であ
った。グレーティング波長λgの可変は樹脂上に設置さ
れたヒーター14の加熱により行った。ヒーター14の
加熱温度はヒーター14の上に置かれた熱電対により測
定した。波長間隔0.5nmで1.5505μmから
1.53μmまでの6波多重信号をポート7から入射さ
せた。
【0054】この時、ポート8からは波長1.5505
μmの光が観測され、ポート11からは波長1.551
〜1.553μmの光信号が観測された。ここでヒータ
ー14の電源を入れ、温度を20℃から40℃まで上昇
させたところ、ポート8には波長1.5505μmの光
に代わって1.551μmの光が観測され、同時にポー
ト11からは波長1.551μmの波長の光が欠落した
波長多重光が観測された。
【0055】この温度でポート10に波長1.551μ
mの光信号を入射させるとポート11からはこの1.5
51μmの信号が付加された波長多重信号が観測され
た。さらに温度を上昇させるにしたがって順次分岐波長
は長波長にシフトして行った。70℃になったところで
分岐波長は1.553μmとなった。
【0056】このヒーター14を用いた方法では分岐波
長を一定に保つのに電流を流して、温度を一定にする必
要があるが、平均の切り替え速度は1ミリ秒以内であ
り、高速で分岐波長の切り替えあるいは分岐波長の掃引
操作に適していた。以上のように、従来の選択波長分岐
挿入回路に比べて、単純で小型であり、1ミリ秒以下の
高速の分岐波長切り替えができた。
【0057】〔実施例5〕本発明の第五の実施例を図1
4〜図15に示す。本実施例は、波長可変選択波長分岐
挿入回路に応用した例であり、2本の波長可変グレーテ
ィングアーム導波路12を2個の3dBカップラ9で挟
んだ構造である。
【0058】図14はこの回路の構造を示す上面図、図
15はアーム導波路12に垂直方向の断面線XV−XVによ
る断面図である。
【0059】図中、1はシリコン基板、2は下部クラッ
ド、3はコア、5は上部側部クラッド、6は自己保持型
ホトクロミック材料を10%含有したフッ素化エポキシ
樹脂、7は入射ポート、8は入射ポート、9は3dBカ
ップラ、10は出射ポート、11は出射ポート、12は
グレーティングアーム導波路である。
【0060】自己保持型ホトクロミック材料として、フ
ルギド型ホトクロミック化合物、ジアリルエテン系ホト
クロミック化合物があるが、ここでは後者の代表的な化
合物1、2ビス(2メチルベンゾ(b)チオフェン3イ
ル)パーフルオロシクロアルケン(英語名:1,2-Bis[2-M
ethylbenzo[b]thiophen-3-yl]perfluorocycloalkene)を
用いた。
【0061】作製した波長可変選択波長分岐挿入回路は
1.55μmの波長帯域で動作し、コア径6.5μm×
6.5μm、コアとクラッドの比屈折率差0.75%、
アーム導波路12の長さ10mmと実施例1と同じであ
るが、その断面構造が異なる。この構造は上部クラッド
だけでなく、側部クラッドの屈折率可変構造になるため
に実施例1の上部クラッドだけに比べて可変の割合が大
きくなるという特徴を持っている。このアーム導波路1
2の溝はこの回路の上部側部クラッド5を形成する時に
溝となる部分に金属マスクを置いてガラススートを堆積
させ、ガラス化することで形成できる。
【0062】このアーム導波路12に屈折率差が0.0
01でピッチが0.53μmのグレーティングをエキシ
マレーザ(波長248nm)を用いた2光束干渉法で作
製した。アーム導波路12の間隔は100μmである。
この溝に屈折率を調整した自己保持型ホトクロミック材
料を10%含有したフッ素化エポキシ樹脂6を充填し
た。作製した波長可変選択波長分岐挿入回路の動作は実
施例1に示した通りである。グレーティング導波路の3
dBの帯域は0.3nmでグレーティング波長λgの透
過および反射減衰量はともに20dB以上であった。
【0063】グレーティング波長λgの可変は次のよう
に行った。両アーム導波路直上に直径1mm程度、長さ
15mmの小型キセノンフラッシュランプを2本アーム
導波路12に平行に配置した。このランプの1本は紫外
線カットフィルターを装着し、もう一本には可視カット
フィルターを装着してある。
【0064】それぞれのカットフィルターの波長は50
0nmに設定した。小型キセノンフラッシュランプの駆
動装置を準備して、紫外線と可視光線のパルスをアーム
導波路上部に充填した自己保持型ホトクロミック材料を
10%含有したフッ素化エポキシ樹脂6に照射できるよ
うにした。
【0065】波長間隔0.5nmで1.5505μmか
ら1.555μmまでの10波多重信号をポート7から
入射させた。この時、ポート8からは波長1.5505
μmの光が観測され、ポート11からは波長1.551
〜1.555μmの光信号が観測された。ここで可視カ
ットフィルターを装着した小型キセノンフラッシュラン
プの駆動装置の電源を入れ、紫外線フラッシュ光を4回
点滅させたところ、ポート8には波長1.5505μm
の光に代わって1.551μmの光が観測され、同時に
ポート11からは波長1.551μmの波長の光が抜け
た波長多重光が観測された。ポート10から1.51μ
mの光を入射させるとポート11にはこの1.551μ
mの信号が付加された波長多重信号が観測された。
【0066】この分岐、挿入波長は無電力で保持され
た。紫外線フラッシュ光の点滅回数をさらに増やして、
ポート8からの分岐波長を順次1.555μmまで変化
させることができた。各波長で分岐、挿入波長は維持さ
れ、長期間の自己保持安定性が保たれた。
【0067】今度は逆に分岐波長を短波長にするため
に、紫外カットフィルターを装着した小型キセノンフラ
ッシュランプの駆動装置の電源を入れ、可視のフラッシ
ュ光を2回点滅させた。ポート8には波長1.555μ
mの光に代わって1.5545μmの光が観測され、同
時にポート11からは波長1.5545μmの波長の光
が抜けた波長多重光が観測された。可視のフラッシュ光
の点滅回数を増やすことで分岐波長は順次短波長に移動
し、最終的に1.5505μmの分岐波長が観測され
た。各分岐波長で長期間の自己保持安定性が認められ
た。
【0068】このように紫外線あるいは可視光線のフラ
ッシュ光を一定の点滅回数だけ点滅させることで任意の
分岐波長を可変でき、またその波長を無電力で自己保持
することができた。従って、従来の選択波長分岐挿入回
路に比べて、その選択波長を可変するだけでなく、自己
保持性を利用して無電力で安定化できるようになった。
同時にこの回路はグレーティング導波路を用いているた
めに、従来のアレー導波路格子を用いた波長可変選択波
長分岐挿入回路よりも単純で小型であるという特徴を備
えている。
【0069】〔実施例6〕本発明の第六の実施例を図1
6〜図17に示す。本実施例は、波長可変選択波長分岐
挿入回路に応用した例であり、2本の波長可変グレーテ
ィングアーム導波路12を2個の3dBカップラ9で挟
んだ構造である。図16はこの回路の構造を示す上面
図、図17はアーム導波路12に垂直方向の断面線XVII
−XVIIによる断面図である。
【0070】図中の1はシリコン基板、2は下部クラッ
ド、3はコア、5は上部側部クラッド、7は入射ポー
ト、8は入射ポート、9は3dBカップラ、10は出射
ポート、11は出射ポート、12はグレーティングアー
ム導波路、13はフッ素化エポキシ樹脂、14はクロム
/金蒸着のヒーターである。
【0071】溝に充填する樹脂はその屈折率の整合性と
ともにその温度係数が大きいほど、ヒーター14の加熱
による屈折率の変化が大きくなるために好ましい。フッ
素化エポキシ樹脂の屈折率の温度係数は−3×10-4
あるが、これと同等以上の屈折率の温度係数を持つ樹脂
も使用可能であった。例えば、ゴム状EVA樹脂(−
3.3×10-4)、シロキサンゲル(−3.5×1
-4)、ポリオレフィン系ポリオール(−7×10-4
などである。
【0072】作製した波長可変選択波長分岐挿入回路は
1.55μmの波長帯域で動作し、コア径6.5μm×
6.5μm、コアとクラッドの比屈折率差0.75%、
アーム導波路12の長さは10mmと実施例2に示した
ものとほとんど同じであるが、上部クラッドとともに側
部クラッドの高分子の屈折率を変えることでより大きな
波長可変範囲を実現できた。
【0073】このアーム導波路12の溝はこの回路の上
部側部クラッド5を形成する時に溝となる部分に金属マ
スクを置いてガラススートを堆積させ、ガラス化するこ
とで形成できる。このアーム導波路12に屈折率差が
0.001でピッチが0.53μmのグレーティングを
エキシマレーザ(波長248nm)を用いた2光束干渉
法で作製した。アーム導波路12の間隔は100μmで
ある。この溝に屈折率を調整した自己保持型ホトクロミ
ック材料を10%含有したフッ素化エポキシ樹脂13を
充填した。
【0074】作製した波長可変選択波長分岐挿入回路の
動作は実施例1に示した通りである。グレーティング導
波路の3dBの帯域は0.3nmでグレーティング波長
λgの透過および反射減衰量はともに20dB以上であ
った。グレーティング波長λgの可変は樹脂上に設置さ
れたヒーター14の加熱により行った。ヒーター14の
加熱温度はヒーター14の上に置かれた熱電対により測
定した。波長間隔0.5nmで1.5505μmから
1.555μmまでの10波多重信号をポート7から入
射させた。
【0075】この時、ポート8からは波長1.5505
μmの光が観測され、ポート11からは波長1.551
〜1.555μmの光信号が観測された。ここでヒータ
ー14の電源を入れ、温度を20℃から25℃まで上昇
させたところ、ポート8には波長1.5505μmの光
に代わって1.551μmの光が観測され、同時にポー
ト11からは波長1.551μmの波長の光が抜けた波
長多重光が観測された。
【0076】この温度を維持したまま、ポート10から
1.551μmの信号を入射させたところ、ポート11
からはこの1.551μmの信号が付加された波長多重
信号が観測された。さらに温度を上昇させると順次分岐
波長は長波長にシフトし、60℃になったところで分岐
波長は1.555μmとなった。
【0077】このヒーター14を用いた方法では分岐波
長を一定に保つのに電流を流して、温度を管理する必要
があるが、平均の切り替え速度は1ミリ秒以内であり、
高速で分岐波長の切り替えあるいは分岐波長の掃引操作
に適していた。以上のように、従来の選択波長分岐挿入
回路に比べて、単純で小型であり、1ミリ秒以下の高速
の波長切り替えができた。
【0078】
【発明の効果】以上、実施例に基づいて具体的に説明し
たように、本発明の波長可変グレーティング導波路を用
いれば、波長が可変できる小型の波長フィルターや選択
波長分岐挿入回路を容易に作製できる。ホトクロミック
光化学反応を用いたものでは、波長可変でかつ自己保持
動作が可能な波長半固定タイプの光デバイスとなり、一
方、熱光学効果を用いたものでは分岐波長の維持にはヒ
ーター電流を流し続けなければならないが、数mSの高
速応答を利用した波長切り替えが可能である。このよう
に構造が簡単で小型の波長可変光デバイスを用いること
により経済的で小型の波長多重通信(WDM)方式用装
置やシステムを構築できる利点が生まれる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第一の実施例に係るグレーティング導
波路を用いた波長可変選択波長分岐挿入回路を示す上面
図である(本実施例の波長可変グレーティング導波路は
紫外線レーザー干渉により作製されたグレーティングと
ホトクロミック材料による上部クラッドにより構成され
ている。)。
【図2】図1中の断面線II−IIによる断面図である。
【図3】図1中の断面線III−IIIによる断面図である。
【図4】本発明の第二の実施例に係るグレーティング導
波路を用いた波長可変選択波長分岐挿入回路を示す上面
図である(本実施例の波長可変グレーティング導波路は
紫外線レーザー干渉により作製されたグレーティングと
上部クラッドの上部に配置したヒーターにより構成され
ている。)。
【図5】図4中の断面線V−Vによる断面図である。
【図6】図4中の断面線VI−VIによる断面図である。
【図7】実施例2のデバイスのヒーター加熱温度(℃)
と分岐波長の関係を示すグラフである。
【図8】本発明の第三の実施例に係るグレーティング導
波路を用いた波長可変選択波長分岐挿入回路を示す上面
図である(本実施例の波長可変グレーティング導波路は
エッチィングにより作製されたグレーティングとホトク
ロミック高分子材料による上部クラッドにより構成され
ている。)。
【図9】図8中の断面線IX−IXによる断面図である。
【図10】図8中の断面線X−Xによる断面図である。
【図11】本発明の第四の実施例に係るグレーティング
導波路を用いた波長可変選択波長分岐挿入回路を示す上
面図である(本実施例の波長可変グレーティング導波路
はエッチィングにより作製されたグレーティングと上部
クラッドの上部に配置したヒーターにより構成されてい
る。)。
【図12】図11中の断面線XII−XIIによる断面図であ
る。
【図13】図11中の断面線XIII−XIIIによる断面図で
ある。
【図14】本発明の第五の実施例に係るグレーティング
導波路を用いた波長可変選択波長分岐挿入回路を示す上
面図である(本実施例の波長可変グレーティング導波路
は紫外線レーザー干渉により作製されたグレーティング
とホトクロミック高分子材料による上部側部クラッドに
より構成されている。)。
【図15】図14中の断面線XV−XVによる断面図であ
る。
【図16】本発明の第六の実施例に係るグレーティング
導波路を用いた波長可変選択波長分岐挿入回路を示す上
面図である(本実施例の波長可変グレーティング導波路
は紫外線レーザーにより作製されたグレーティングと上
部側部クラッドの上部に配置したヒーターにより構成さ
れている。)。
【図17】図16中の断面線XVII−XVIIによる断面図で
ある。
【符号の説明】
1 シリコン基板 2 下部クラッド 3 コア 4 屈折率差を用いたグレーティング 5 上部側部クラッド 6 自己保持型ホトクロミック材料を10%含有したフ
ッ素化エポキシ樹脂 7 入射ポート 8 入射ポート 9 3dBカップラ 10 出射ポート 11 出射ポート 12 グレーティングアーム導波路 13 フッ素化エポキシ樹脂 14 クロム/全蒸着のヒーター 15 コアのエッチィングにより作製したグレーティン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 有島 功一 東京都新宿区西新宿三丁目19番2号 日本 電信電話株式会社内 (72)発明者 坂口 茂樹 東京都新宿区西新宿三丁目19番2号 日本 電信電話株式会社内 (72)発明者 岡本 勝就 東京都新宿区西新宿三丁目19番2号 日本 電信電話株式会社内 (72)発明者 星野 光利 東京都新宿区西新宿三丁目19番2号 日本 電信電話株式会社内

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 平面基板上に形成された石英系のコア、
    クラッド構造を有し、且つ、コアの一部にグレーティン
    グが形成されている光導波路において、該光導波路のコ
    アの上部に形成された溝に充填材を配して、上部クラッ
    ドとすることを特徴とする波長可変グレーティング導波
    路。
  2. 【請求項2】 請求項1において、該充填材が屈折率を
    可変、固定可能な屈折率自己保持型ホトクロミック化合
    物を含む有機化合物であることを特徴とする波長可変グ
    レーティング導波路。
  3. 【請求項3】 請求項1において、該充填材として有機
    化合物を用い、該有機化合物の上部にヒーターを配する
    構造としたことを特徴とする波長可変グレーティング導
    波路。
  4. 【請求項4】 平面基板上に形成された石英系のコア、
    クラッド構造を有し、且つ、コアの一部にグレーティン
    グが形成されている光導波路において、該光導波路のコ
    アの上部及び側部が露出するように形成された溝に充填
    材を配して、上部側部クラッドとすることを特徴とする
    波長可変グレーティング導波路。
  5. 【請求項5】 請求項4において、該充填材が屈折率を
    可変、固定可能な屈折率自己保持型ホトクロミック化合
    物を含む有機化合物であることを特徴とする波長可変グ
    レーティング導波路。
  6. 【請求項6】 請求項4において、該充填材として有機
    化合物を用い、該有機化合物の上部にヒーターを配する
    構造としたことを特徴とする波長可変グレーティング導
    波路。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005242214A (ja) * 2004-02-27 2005-09-08 Keio Gijuku 光機能導波路、光変調器、アレイ導波路回折格子及び分散補償回路

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005242214A (ja) * 2004-02-27 2005-09-08 Keio Gijuku 光機能導波路、光変調器、アレイ導波路回折格子及び分散補償回路
WO2005083500A1 (ja) * 2004-02-27 2005-09-09 Keio University 光機能導波路、光変調器、アレイ導波路回折格子及び分散補償回路
US7756376B2 (en) 2004-02-27 2010-07-13 Keio University Optical functional waveguide, optical modulator, arrayed waveguide grating, and dispersion compensation circuit

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