JPH10239672A - 液晶光学素子およびその製造方法 - Google Patents
液晶光学素子およびその製造方法Info
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- JPH10239672A JPH10239672A JP30104897A JP30104897A JPH10239672A JP H10239672 A JPH10239672 A JP H10239672A JP 30104897 A JP30104897 A JP 30104897A JP 30104897 A JP30104897 A JP 30104897A JP H10239672 A JPH10239672 A JP H10239672A
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Abstract
き基板間に、粒子状の液晶1を第1の高分子2で被覆し
た微粒子3を、光学的異方性を示す第2の高分子4に分
散させて保持した液晶光学素子。
Description
合体を用いて光の通過制御を行う液晶光学素子に関し、
特に、液晶粒子を高分子の被覆で覆った高分子/液晶要
素を利用した新しい液晶光学素子に関する。
ているが、その欠点の一つは一般のTNやSTN素子で
は偏光板を使用するため、表示が暗いことである。その
ため、対向した電極付き基板間に挟持された高分子と液
晶との複合体を形成し、両者の屈折率一致と不一致とに
よる光制御(インデックスマッチング法)を利用した液
晶光学素子が既に用いられている。
を多孔質体に含浸せしめた系、液晶と高分子相とを光重
合相分離法で形成するなどが公知の手法であって、液晶
/高分子複合体素子とか分散型液晶素子などと呼ばれて
いる(従来例1)。
素はR.R.ClikemanらのAM−LCD 96
ダイジェスト(1996)、169頁に記載されてい
る。高分子/液晶要素をアクリルバインダで結合し、電
極付き基板間に挟持したものである。これも液晶/高分
子複合体素子として機能する(従来例2)。その電圧−
光透過率特性(VT特性:曲線aが従来例2、曲線bが
従来例1)を図3に示す。
素の形成に際し、高い形状制御が行われ、かつ、内包さ
れる液晶を95%まで高めることができる。そして、そ
の直径の分散性(DW /Dn )は1.005であり、ほ
とんど単分散に近い高分子/液晶要素の微粒子が形成さ
れる。そして、パウダー状の微粒子として簡易に取り扱
うことができる。また、そのVT特性が鋭い変化を示
す。
透明、電圧オン時に透明となって、明るい表示が可能で
あり、視野角はやや狭く、斜め方向から見たときのオン
時ヘイズが問題になることも多い。この欠点の解決策と
して、J.W.DoaneらはSID’90 ダイジェ
スト、224(1990)において、液晶と液晶性モノ
マーを垂直配向処理した基板間に挟んだ状態で重合さ
せ、その間に、相分離構造を得ることを提案した(従来
例3)。
オン透過率、オフ透過率、視野角を考慮すると、光の制
御性がまだ十分ではない。また、従来例3の液晶光学素
子はオン時の視野角は広いけれども、液晶と液晶性モノ
マーの重合によって得られた高分子の相分離が十分でな
く、液晶がこの高分子にかなり溶解しているために、電
圧に応答する液晶の割合が低く、駆動電圧が非常に高い
という欠点があった。
すべくなされたものであり、少なくとも一方が透明であ
る一対の電極付き基板間に、液晶の粒子を第1の高分子
で被覆した高分子/液晶要素を、光学的異方性を示す第
2の高分子に分散させて保持した液晶光学素子を提供す
る。
においては、第2の高分子が液晶性モノマーの重合体で
あり、かつ基板面に対してほぼ垂直配向され、第2の高
分子の常光屈折率は液晶の常光屈折率にほぼ一致され、
第2の高分子の異常光屈折率は液晶の異常光屈折率にほ
ぼ一致されてなる液晶光学素子を提供する。
においては、液晶の粒子の径が0.5〜2.5μmであ
る液晶光学素子を提供する。また、上記の液晶光学素子
の好ましい態様においては、2色性色素が液晶に含有さ
れてなる液晶光学素子を提供する。また、上記の液晶光
学素子の好ましい態様においては、液晶の誘電率異方性
が5〜25である液晶光学素子を提供する。また、上記
の液晶光学素子の好ましい態様においては、基板間隙が
5〜30μmである液晶光学素子を提供する。また、上
記の液晶光学素子の好ましい態様においては、粒子形状
指数K(重量平均直径/数平均直径)が1.3以下であ
る液晶光学素子を提供する。
においては、高分子/液晶要素のなかでの液晶の重量比
が30〜90重量%である液晶光学素子を提供する。さ
らに好ましくは40〜80重量%とする。また、上記の
液晶光学素子の好ましい態様においては、第1の高分子
の屈折率と液晶の常光屈折率がほぼ一致してなる液晶光
学素子を提供する。また、上記の液晶光学素子の好まし
い態様においては、高分子/液晶要素である微粒子の比
率は液晶光学素子のセル内空間の40〜80体積%とす
る液晶光学素子を提供する。
有する基板間に、液晶の粒子を第1の高分子で被覆した
高分子/液晶要素を、光重合可能な液晶性モノマーに分
散し、電界を基板間に印加しながら、液晶性モノマーに
光を照射し、液晶性モノマーを重合する液晶光学素子の
製造方法を提供する。
ましい態様においては、基板の内面に垂直配向処理を行
う液晶光学素子の製造方法を提供する。
極付き対向基板間に、液晶を第1の高分子皮膜で覆った
高分子/液晶要素を第2の高分子、すなわち、配向処理
された光学的異方性を示す第2の高分子に分散させて保
持する。そして、従来技術では得られなかった広視野角
特性を達成する。
制御を目的とする場合には微粒子を0.5〜2.5μm
のサイズにすることが好ましい。
異方性を示すものが好ましい。誘電率異方性は小さけれ
ば駆動電圧が高く、大きすぎれば耐久性にやや難点のあ
る液晶を選択しなければならないので5〜25の範囲が
好ましい。
影響しており、分布が小さければ鋭く、広ければ緩やか
であるので、素子の使用目的に応じて選択されるが、あ
まり広いとオンオフのコントラストがとれにくくなるの
で、粒子形状指数K、すなわち重量平均直径の数平均直
径に対する比、は1.3以下が好ましい。ここで、直径
Di の粒子の濃度(個数)をNi とするとき、数平均直
径=Σ(Ni Di )/ΣNi 、重量平均直径=Σ(Ni
Di 2)/Σ(Ni Di )、で定義される。
駆動できるが、第1の高分子の皮膜の厚みが小さくなる
ため、微粒子の機械的強度が小さくなり、微粒子の取り
扱いが難しくなるので重量で30〜90%が好ましい。
強さに応じて、濃色から淡色への色変化するので好まし
い。2色性色素はアゾ系色素やアントラキノン系色素な
どのうちから選ばれる。
高分子の屈折率は電界印加時の透明性を大きくするため
に一致することが好ましい。
異方性高分子の厚みは小さければオフ時の光散乱能が小
さく、大きすぎれば駆動電圧が高くなりすぎるので5〜
30μmが好ましい。
晶性モノマーの重合によって得られた高分子であって、
基板に垂直配向しており、その常光屈折率は液晶の常光
屈折率にほぼ一致し、その異常光屈折率は液晶の異常光
屈折率に一致する。
手段として、通常の液晶の配向手段を利用できる。すな
わち、磁場配向、基板の垂直処理配向、電場配向などを
適用できる。しかし、磁場配向は素子が大きい場合には
装置が大型化する問題がある。
晶性モノマーに該微粒子を分散した分散液を電極を有す
る基板間に挟み、電圧を印加しながら、光照射して液晶
性モノマーを重合させる、または光重合性の液晶性モノ
マーに微粒子を分散した分散液をあらかじめ垂直配向処
理をした電極を有する基板間に挟み、光照射して液晶性
モノマーを重合させる。
す光学的異方性を示す高分子について説明する。第2の
高分子を形成するための液晶性モノマーの例は化1で表
されるアクリル酸誘導体化合物である。
素原子、塩素原子またはメチル基、mは0〜8の整数、
nはmが0または1のときは0であり、それ以外は1で
あり、Xは単結合、COO、OCOまたはCH2 CH2
である。環内にYを記した6員環は、1,4−フェニレ
ン基または1,4−トランス−シクロヘキシレン基であ
り、Zは炭素数1〜8のアルキル基、炭素数1〜8のア
ルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、またはシアノ基で
ある。
化2の化合物があげられる。
ある。具体例として、4−(トランス−4’−n−プロ
ピルシクロヘキシルカルボニルオキシ)フェニルアクリ
レート、4−(トランス−4’−n−ブチルシクロヘキ
シルカルボニルオキシ)フェニルアクリレート、4−
(トランス−4’−n−ペンチルシクロヘキシルカルボ
ニルオキシ)フェニルアクリレート、4−(4’−n−
プロピルフェニルカルボニルオキシ)フェニルアクリレ
ート、4−(4’−n−ブチルフェニルカルボニルオキ
シ)フェニルアクリレート、4−(4’−n−ペンチル
フェニルカルボニルオキシ)フェニルアクリレートがあ
げられる。
して化3の化合物があげられる。4−[3−(アクリロ
イルオキシ)プロピルオキシ]−4’−シアノビフェニ
ルである。
する。素子の耐熱性を大きくするために架橋性モノマー
を液晶性モノマーと共重合することが好ましい。その具
体例としては化4で表されるアクリル酸誘導体化合物が
あげられる。
1のそれと同じであり、qは0または1であり、pは0
または1であり、X' はpが0の場合は単結合であり、
pが1の場合はXと同じである。具体例として、次の化
5に示す各種の化合物があげられる。例えば、ビス(ア
クリロイルオキシ)ビフェニルである。
体)と第2の高分子との比率の説明について説明する。
高分子/液晶要素、つまり、微粒子は、微粒子と第2の
高分子との合計重量に対して、40〜80重量%とする
ことが好ましい。なぜなら、微粒子が多ければ駆動電圧
が低いので好ましいが、多すぎれば空セルへの微粒子と
液晶性モノマーの注入などが難しくなるので40〜80
重量%の範囲に設定することが好ましい。
に注入した後、光や熱を作用させて、液晶性モノマーを
重合させて、微粒子が第2の高分子に分散した分散体が
得られる。
BDH社製の誘電率異方性が正の液晶(E−8)を80
重量部と高分子を20重量部準備した。そして、液晶を
被覆する高分子の外側の直径が1.5μmで、微粒子分
散率1.005の微粒子を形成した。
ルオキシ)フェニルアクリレート30%、4−(4’−
n−ペンチルフェニルカルボニルオキシ)フェニルアク
リレート30%、4−[3−(アクリロイルオキシ)プ
ロピルオキシ]−4’−シアノビフェニル30%、ビス
(アクリロイルオキシ)ビフェニル10%からなる液晶
性モノマー混合物にメルク社製光重合開始剤ダロキュア
を1%添加した液晶性組成物を準備した。
分散物を、それぞれITO透明電極を有する一対の対向
基板間に真空注入した。その素子のITO透明電極に1
00Hz・10Vの交流電圧を印加しながら液晶性モノ
マーを基板に対して垂直配向させつつ、重合した。
圧無印加時には光の散乱を伴う濃い紫色を示し、電極に
対して交流電圧を印加した場合には淡紫色を示し、広い
視野角を持ち、光の散乱はほとんど観察されなかった。
図1に本例の液晶光学素子の状態を示す。分図Aはオフ
状態である、分図Bはオン状態を示す。液晶1と、液晶
1を被覆する第1の高分子(被覆層)2、第2の高分子
4、微粒子3(液晶1と第1の高分子2)が備えられて
いる。透明電極や通常の液晶光学素子において自明な構
造要素は図示を省略した。
モノマー混合物の代わりに、2−エチルヘキシルアクリ
レート50%と東亜合成社製ウレタンアクリレート50
%の混合物を用いる以外は同様にして、液晶表示素子を
形成した。交流電圧を印加した場合には淡紫色を示し斜
め方向からは光の散乱は観察された。
性モノマー5とをほぼ一様に分散した。その後、対向基
板を重ねてセルを形成し封止した。さらに、対向電極間
に電圧を印加しながら光照射し、液晶性モノマーを重合
させ第2の高分子4を形成した。例1と同様に優れた光
学特性を得た。例3の工程を図2の分図A、B、Cに示
す。
あらかじめ形成した以外は例1と同様に液晶セルを形成
した。電圧を印加せずに、光照射し、第2の高分子を形
成した。例1と同様に優れた光学特性を得た。
の液晶光学素子を形成できるようになった。また、製造
法が従来の分散型液晶素子に比較して、簡便であり、か
つ安定に早く製造できる利点がある。
タ、レーザーシャッタなど各種の技術に、それぞれの所
望の光学特性に応じて、高分子/液晶要素や第1の高分
子、第2の高分子の材料、形状寸法を調整して適用でき
る。
びBはオン状態を模式的に示す断面図。
Bは対向電極間に電圧を印加しながら光照射して光重合
を誘起した状態、Cは光重合後の印加電圧のない状態で
あり、本発明の液晶光学素子の製造方法を示す模式図。
Claims (5)
- 【請求項1】少なくとも一方が透明である一対の電極付
き基板間に、液晶の粒子を第1の高分子で被覆した高分
子/液晶要素を、光学的異方性を示す第2の高分子に分
散させて保持した液晶光学素子。 - 【請求項2】第2の高分子が液晶性モノマーの重合体で
あり、かつ基板面に対してほぼ垂直配向され、第2の高
分子の常光屈折率は液晶の常光屈折率にほぼ一致され、
第2の高分子の異常光屈折率は液晶の異常光屈折率にほ
ぼ一致されてなる請求項1記載の液晶光学素子。 - 【請求項3】粒子形状指数K(重量平均直径/数平均直
径)が1.3以下である請求項1または2記載の液晶光
学素子。 - 【請求項4】少なくとも一方が透明である一対の電極付
き基板間に、液晶の粒子を第1の高分子で被覆した高分
子/液晶要素を、光重合可能な液晶性モノマーに分散
し、電界または磁界を基板間に印加しながら、液晶性モ
ノマーに光を照射し、液晶性モノマーを重合する液晶光
学素子の製造方法。 - 【請求項5】基板の内面にあらかじめ垂直配向処理を行
う請求項4記載の液晶光学素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30104897A JPH10239672A (ja) | 1996-12-24 | 1997-10-31 | 液晶光学素子およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8-343958 | 1996-12-24 | ||
| JP34395896 | 1996-12-24 | ||
| JP30104897A JPH10239672A (ja) | 1996-12-24 | 1997-10-31 | 液晶光学素子およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10239672A true JPH10239672A (ja) | 1998-09-11 |
Family
ID=26562541
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30104897A Pending JPH10239672A (ja) | 1996-12-24 | 1997-10-31 | 液晶光学素子およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10239672A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7169449B2 (en) * | 2002-04-16 | 2007-01-30 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device |
| JP2020016710A (ja) * | 2018-07-23 | 2020-01-30 | Jsr株式会社 | 液晶素子及びその製造方法、表示装置、並びに液晶組成物 |
-
1997
- 1997-10-31 JP JP30104897A patent/JPH10239672A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7169449B2 (en) * | 2002-04-16 | 2007-01-30 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device |
| JP2020016710A (ja) * | 2018-07-23 | 2020-01-30 | Jsr株式会社 | 液晶素子及びその製造方法、表示装置、並びに液晶組成物 |
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| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070412 |
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Effective date: 20070515 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |