JPH10245123A

JPH10245123A - 基板保持機構、基板搬送装置および基板処理装置

Info

Publication number: JPH10245123A
Application number: JP5305497A
Authority: JP
Inventors: Takuya Shibao; 卓也柴尾
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1997-03-07
Filing date: 1997-03-07
Publication date: 1998-09-14

Abstract

(57)【要約】【課題】基板を安定して保持することができる基板保
持機構を提供する。【解決手段】複数の基板Ｗを起立姿勢にて保持する保
持台２３２において、基板Ｗの外縁部が当接する部位に
基板Ｗを保持するための溝Ｇを形成するとともに、これ
らの溝Ｇの形状を基板Ｗが所定方向に僅かに傾くような
形状とする。これにより、例えば、保持台２３２を基板
保持機構の一構成要素として有し、この基板保持機構に
て基板Ｗを保持して搬送する基板搬送装置などにおい
て、基板Ｗががたつくことなく安定して保持されて搬送
されることとなる。その結果、隣り合う基板Ｗが互いに
接触してしまうことがなく、基板Ｗの破損やパーティク
ルの発生を防ぐことができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体装置製造
用基板や液晶表示器などの製造に用いられるガラス基板
など（以下、単に「基板」という。）を複数枚同時に起
立姿勢にて保持する基板保持機構、ならびに、この基板
保持機構を利用した基板搬送装置および基板処理装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、基板に処理を施す基板処理装
置や基板を搬送する基板搬送装置において、複数の基板
を起立姿勢にて同時に取り扱う場合が数多くある。特
に、複数の基板をカセットに起立姿勢にて収容した状態
で搬出入する基板処理装置では、カセットから基板を出
し入れする際や、基板を搬送する際にも複数の基板が起
立姿勢にて取り扱われている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、近年の技術革
新に伴う基板の大型化や、基板搬送時の複数の基板のピ
ッチ（隣り合う基板と基板との間隔）の減少により、新
たな問題が生じつつある。

【０００４】すなわち、図１１(a)に示すように、基板
Ｗを起立姿勢にて保持台１０１に形成された複数の溝１
１１で保持する場合、ある程度の「遊びＳ」を設けて保
持することとなるので、図１１(b)に示すように基板Ｗ
は様々な方向に多少傾いて保持されることとなる。これ
により、基板の大型化やピッチの減少に伴い、隣り合う
基板が互いに接触してしまうという問題が生じる。な
お、図１１(b)では図示の便宜上多少強調して基板Ｗを
傾けて示している。

【０００５】また、このような状態で基板Ｗを搬送した
場合、僅かながたつきであっても基板Ｗが揺れ動くた
め、基板Ｗ自身の品質やパーティクルの発生などに問題
が生じる。

【０００６】そこで、この発明は、上記課題に鑑みなさ
れたもので、複数の基板を起立姿勢にて保持する場合
に、基板が互いに接触しない基板保持機構を提供し、ま
た、これを利用して基板のがたつきやパーティクルの発
生を防止することができる基板搬送装置および基板処理
装置を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、複数
の基板を起立姿勢にて保持する保持機構であって、当接
部位において前記複数の基板の外縁部に当接することに
より前記複数の基板を保持する保持部材を備え、前記保
持部材の前記当接部位に、前記複数の基板を所定の方向
に傾いた起立姿勢にて保持する複数の凹凸面が形成され
ている。

【０００８】請求項２の発明は、請求項１記載の基板保
持機構であって、前記保持部材が、前記複数の基板を下
方より当接して支持する当接面を有し、前記複数の凹凸
面が、前記当接面に形成された複数の溝である。

【０００９】請求項３の発明は、請求項１記載の基板保
持機構であって、前記保持部材が、前記複数の基板を外
縁部側方より当接して挟持する２つの当接面を有し、前
記複数の凹凸面が、前記２つの当接面に形成された複数
の溝である。

【００１０】請求項４の発明は、請求項１ないし３のい
ずれかに記載の基板保持機構を備えた基板搬送装置であ
って、前記基板保持機構を移動させる移動手段をさらに
備える。

【００１１】請求項５の発明は、請求項１ないし３のい
ずれかに記載の基板保持機構を備えた基板処理装置であ
って、前記基板保持機構を移動させる移動手段と、前記
複数の基板に所定の処理を施す処理手段とをさらに備え
る。

【００１２】請求項６の発明は、複数の基板に所定の処
理を施す基板処理装置であって、カセットに起立姿勢に
て格納される前記複数の基板を上下に出し入れする出入
手段と、前記出入手段との間で前記複数の基板を受け渡
しするとともに前記複数の基板を起立姿勢にて搬送する
搬送手段と、前記搬送手段との間で前記複数の基板を受
け渡しするとともに前記複数の基板に前記所定の処理を
施す処理手段とを備え、前記出入手段が、前記複数の基
板を下方より当接して支持する支持台と、前記支持台を
昇降させる昇降手段とを有し、前記搬送手段が、前記複
数の基板を外縁部側方より当接して狭持する２つの保持
板と、前記２つの保持板を移動させる移動手段とを有
し、前記支持台における前記複数の基板と当接する面
に、前記複数の基板を所定方向に傾いた起立姿勢にて支
持する複数の溝が形成されており、前記２つの保持板に
おける前記複数の基板と当接する面に、前記複数の基板
を所定方向に傾いた起立姿勢にて狭持する複数の溝が形
成されている。

【００１３】

【発明の実施の形態】

＜１．基板処理装置の例＞＜１．１全体構成および動作＞図１はこの発明に係る
基板処理装置１を示す斜視図である。

【００１４】この基板処理装置１は、装置外部との間で
基板Ｗを収容したカセットＣの受渡が行われるカセット
載置ユニット２Ｕ、複数の基板Ｗを起立姿勢にて洗浄処
理する基板処理ユニット４Ｕを有しており、さらに、カ
セット載置ユニット２Ｕと基板処理ユニット４Ｕ間にお
いて基板Ｗを搬送する基板搬送ロボット３を有してい
る。

【００１５】カセット載置ユニット２Ｕは、カセットＣ
を載置しておくカセット載置部２１、カセットＣを取り
扱うカセット移載ロボット２２、基板Ｗを基板搬送ロボ
ット３との間で受け渡しする突上部２３、および、空の
カセットＣを洗浄するカセット洗浄部２４を有してい
る。

【００１６】また、基板処理ユニット４Ｕは、基板Ｗに
所定の洗浄処理を施す洗浄処理部４を複数有し、洗浄処
理後の基板Ｗを乾燥する乾燥処理部４ｄを有している。
なお、洗浄処理部４は、所定の洗浄液を貯留する貯留槽
４３を有しており、洗浄液に基板Ｗを浸漬させることに
より所定の洗浄処理を施すようになっている。また、乾
燥処理部４ｄは基板Ｗを乾燥するために乾燥室４３ｄを
有している。

【００１７】次に、基板処理装置１における動作を説明
する。

【００１８】基板処理装置１には、まず、カセットＣに
収容された状態で基板Ｗがカセット載置ユニット２Ｕに
搬入される。すなわち、カセットＣに複数の基板Ｗが起
立姿勢にて収容された状態で搬送車などによりカセット
載置ユニット２Ｕまで搬送され、その後カセット載置ユ
ニット２Ｕのカセット載置部２１上にカセットＣが図中
に示すＹ方向に配列配置される。

【００１９】カセットＣの搬入が完了すると、これらの
カセットＣのうち２つがカセット移載ロボット２２によ
り突上部２３へと移載される。

【００２０】突上部２３では、カセットＣがＺ方向を向
く軸を中心として９０゜回転する。これにより、カセッ
トＣに収容されている基板Ｗの主面の法線がＸ方向を向
く状態からＹ方向に向く状態となる。図２(a)は、カセ
ットＣが回転した後の突上部２３および基板搬送ロボッ
ト３の２つの保持板３ａを示した図であり、上記カセッ
トＣの回転は回転台２３１の回転により行われる。

【００２１】カセットＣの回転が完了すると、図２(b)
に示すように突上台２３２を昇降させる昇降駆動源（図
示省略）の動作により、突上台２３２が下方より基板Ｗ
を突き上げ、基板ＷがカセットＣから取り出される。こ
こで、基板搬送ロボット３の両保持板３ａは、Ｙ方向を
向く軸３ｂを中心にそれぞれ回動可能とされており、こ
の回動動作で突上部２３からの基板Ｗを図２(b)に示す
ように狭持して受け取ることが可能とされている。

【００２２】突上部２３にて基板Ｗが取り出されて空に
なったカセットＣは、カセット移載ロボット２２により
カセット洗浄部２４へと送られ、洗浄が施される。カセ
ットＣの洗浄が完了するとカセット移載ロボット２２に
より再び突上部２３に載置される。

【００２３】突上部２３より基板Ｗを受け取った基板搬
送ロボット３は、保持板３ａをＸ方向に移動させる移動
駆動源（図示省略）の動作により基板ＷをＸ方向へと搬
送し、まず、１つの洗浄処理部４へ渡す。すなわち、各
洗浄処理部４には基板Ｗを昇降させる昇降ロボット４２
を有しており、上昇位置にある昇降台４２ａに向けて基
板搬送ロボット３が保持板３ａに狭持されている基板Ｗ
を開放して渡す。

【００２４】基板Ｗを受け取った昇降ロボット４２は、
昇降台４２ａを昇降駆動源４２ｂの動作により下降し、
貯留槽４３に貯留されている洗浄液に昇降台４２ａごと
基板Ｗを浸漬させる。

【００２５】洗浄液に浸漬することにより基板Ｗに洗浄
処理が施されると、昇降台４２ａは再び上昇し、基板Ｗ
を洗浄液から取り出して基板搬送ロボット３に基板Ｗを
渡す。なお、このとき基板搬送ロボット３は、基板Ｗを
洗浄処理部４に渡す際に用いた保持板３ａの面ではな
く、その裏面を用いて基板Ｗを保持する。これにより、
保持板３ａの表裏を乾燥した基板Ｗを保持する面と洗浄
液が付着した基板Ｗを保持する面とに使い分けている。

【００２６】洗浄処理部４より基板Ｗを受け取った基板
搬送ロボット３は、次に、基板Ｗを乾燥処理部４ｄへと
搬送し、乾燥処理部４ｄに基板Ｗを渡す。乾燥処理部４
ｄには洗浄処理部４の昇降ロボット４２と同様の役割を
する昇降ロボット（図示省略）を有しており、この昇降
ロボットが基板搬送ロボット３との基板Ｗの受渡を行
う。

【００２７】乾燥処理部４ｄにおいて乾燥処理が完了し
た基板Ｗは、再び基板搬送ロボット３に渡され、基板搬
送ロボット３は基板Ｗを（−Ｘ）方向へと搬送して突上
部２３の上方へと搬送する。

【００２８】突上部２３の上方へと搬送されてきた基板
Ｗは、カセット載置ユニット２Ｕにて上述の動作と逆の
動作をして基板Ｗをカセット載置部２１上のカセットＣ
に収容する。すなわち、基板搬送ロボット３から突上部
２３が基板Ｗを受け取って洗浄されたカセットＣに収容
し、カセットＣがカセット移載ロボット２２により突上
部２３からカセット載置部２１へと移載される。

【００２９】＜１．２突上部における基板保持機構＞
以上、この発明に係る基板処理装置１の構成および動作
について説明してきたが、次に、基板処理装置１の突上
部２３における基板Ｗを保持する形態について説明す
る。

【００３０】図２を用いて既に説明したように、起立姿
勢にてカセットＣに収容されている基板Ｗは下方より突
上台２３２に突き上げられるようにしてカセットＣから
取り出され、上方の基板搬送ロボット３に向けて送られ
る。

【００３１】図３は基板Ｗを突き上げる突上台２３２を
示す斜視図である。図３に示すように基板Ｗが当接する
突上台２３２の上面の当接部位には複数の溝Ｇが形成さ
れており、基板Ｗの外縁部がこの溝Ｇにはまり込むこと
により基板Ｗが保持されるようになっている。すなわ
ち、突上台２３２が突上部２３における基板保持機構の
一構成要素となっている。

【００３２】図４(a)は、基板Ｗが溝Ｇにはまり込んだ
様子を示す断面図である。図４(a)に示すように、これ
らの溝Ｇは全て同じ方向に傾いて形成されており、基板
Ｗが溝Ｇにはまり込むことにより、図４(b)に示すよう
に全ての基板ＷがＺ方向に対して僅かに傾いたＺＬ方向
に起立姿勢にて保持されるようになっている。なお、図
４(b)では多少強調して基板Ｗを傾けて示している。ま
た、以下の図面においても同様に強調して示している。

【００３３】これにより、基板Ｗが溝Ｇに保持された状
態でがたついてしまうことがなく、隣り合う基板が相互
に接触することを有効に防止することができる。その結
果、基板Ｗの破損やパーティクルの発生などを防ぐこと
ができる。

【００３４】図５(a)および(b)は、突上台２３２の別の
形態を示す断面図および側面図である。図５(b)に示す
ようにこの突上台２３２では、突上台２３２自身がＺＬ
方向に傾いており、溝Ｇは図５(a)に示すように突上台
２３２の上面に対してほぼ垂直に基板Ｗを保持するよう
に形成されている。したがって、基板Ｗは突上台２３２
とともにＺＬ方向に傾いた起立姿勢にて保持されること
となる。その結果、基板Ｗが溝Ｇにはまり込んだ状態で
がたつくということはなく、隣り合う基板Ｗの接触が防
止され、基板Ｗの破損やパーティクルの発生などを防ぐ
ことができる。

【００３５】なお、図５(b)に示す突上台２３２では突
上台２３２を支持する軸も傾いており、図６に示すよう
に、突上部２３に載置されるカセットＣや回転台２３１
や回転台２３１の回転軸２３Ｃも傾いている。そして、
突上台２３２は回転軸２３Ｃに沿ってＺ方向に対して傾
いたＺＬ方向に沿って突き上げられるようになってい
る。

【００３６】以上、突上台２３２について説明してきた
が、図４や図６に示した突上台２３２は具体例にすぎ
ず、基板Ｗを傾けて保持するのであれば様々な変形が可
能である。

【００３７】例えば、突上台２３２では製作の容易性か
ら当接部位に溝Ｇを形成しているが、溝を形成するので
はなく、基板Ｗを挟み込むような突起を形成するように
してもよい。

【００３８】また、図６では突上方向やカセットＣの姿
勢も傾けているが、カセットＣにおいて基板Ｗが十分な
遊び（基板Ｗを拘束するカセットＣ内部の爪などの部位
と基板Ｗとの隙間）をもって収容されているならば、突
上方向が傾いている必要は必ずしもなく、また、カセッ
トＣが傾いた状態で突上部２３に載置される必要もな
い。

【００３９】また、逆に、図４に示した突上台２３２に
おいて、図５に示したものと同様に突き上げ方向やカセ
ットＣの載置姿勢を傾けるようにしてもよい。

【００４０】＜１．３基板搬送ロボットにおける基板
保持機構＞図７は、基板搬送ロボット３の保持板３ａを
示す斜視図であり、図８は保持板３ａを２方向から見た
様子を示す図である。

【００４１】図７に示すように、基板搬送ロボット３は
２つの保持板３ａを対向して有しており、各保持板３ａ
には基板Ｗの外縁部が当接する当接部位に基板Ｗの外縁
部がはまり込むための溝Ｇ１が形成されている。そし
て、保持板３ａがＸ方向を向く軸３ｂを中心として回転
することにより２つの保持板３ａに挟まれるようにして
基板Ｗが溝Ｇ１に保持されるようになっている。すなわ
ち、２つの保持板３ａが基板搬送ロボット３における基
板保持機構の一構成要素となっている。

【００４２】保持板３ａには溝Ｇ１が形成されている
が、これらの溝Ｇ１は図８に示すように、保持板３ａが
Ｚ−Ｘ面に平行なときにＺ方向に対して僅かに傾いたＺ
Ｌ１方向を向くように形成されている。したがって、基
板Ｗは溝Ｇ１に沿って僅かに傾いた起立姿勢にて保持さ
れることとなる。これにより、基板Ｗは重力に対して不
安定とはならず、がたつくことなく保持される。また、
隣り合う基板Ｗの接触も生じない。その結果、安定した
基板Ｗの搬送が実現され、基板Ｗの破損やパーティクル
の発生などが防止されるようになっている。

【００４３】また、図４に示した突上台２３２との間に
おいて容易に基板Ｗの受渡をすることも可能となる。

【００４４】なお、図８に示す保持板３ａでは、溝Ｇ１
をＺ方向に対して傾いて形成されているが、溝Ｇ１を保
持板３ａの回転の中心軸３Ｃ（軸３ｂ）に対して直角方
向を向くように形成し、中心軸３Ｃを傾けるようにして
もよい。この場合、図６に示した突上台２３２との基板
Ｗの受渡が容易となる。

【００４５】また、保持板３ａの当接部位に溝Ｇ１を形
成するのではなく、基板Ｗを保持可能であるならば例え
ば保持板３ａに突起を形成するようにしてもよい。

【００４６】＜２．基板搬送装置＞図１では、複数の
基板Ｗを安定して保持することができる基板保持機構を
有する基板処理装置１について説明したが、図９および
図１０はこの基板保持機構を有する基板搬送装置を示す
図である。

【００４７】図９に示す基板搬送装置ＳＣ１は、矢印Ｌ
１にて示すように複数の基板Ｗを水平方向であるＸ方向
に搬送する装置である。なお、基板搬送装置ＳＣ１で
は、基板ＷはＹ方向に長い２本の保持棒５により保持さ
れるようになっており、これらの保持棒５には基板Ｗを
Ｚ方向から僅かに傾けて保持するように溝が形成されて
いる。これにより、基板Ｗの搬送中のがたつきが防止さ
れ、隣り合う基板Ｗの接触や基板Ｗの破損などが効果的
に防止される。

【００４８】この基板搬送装置ＳＣ１を図９に示すよう
に２つの水平方向に配列配置された基板処理装置ＳＰ
１、ＳＰ２の上方に配置することにより、基板Ｗは基板
処理装置ＳＰ１、ＳＰ２の上方へ搬送可能とされ、各基
板処理装置ＳＰ１、ＳＰ２が矢印Ｌ２、Ｌ３に示すよう
に基板搬送装置ＳＣ１との間で基板Ｗの受渡を行うこと
により、両基板処理装置ＳＰ１、ＳＰ２間の基板搬送が
実現される。これにより、カセットを介することなく安
定した基板Ｗの搬送が可能となる。

【００４９】また、図１０は別の形態の基板搬送装置Ｓ
Ｃ２を示す図である。図１０に示される基板搬送装置Ｓ
Ｃ２は保持台６上に複数の基板Ｗを起立姿勢にて保持
し、基板Ｗを矢印Ｌ４にて示すように上下方向であるＺ
方向に搬送するものである。

【００５０】保持台６には、既に説明した基板処理装置
１における突上台２３２と同様に複数の基板Ｗを所定方
向に僅かに傾けて保持する溝が形成されており、これに
より、基板Ｗが安定して搬送されるようになっている。

【００５１】この基板搬送装置ＳＣ２を上下に配置され
た２つの基板処理装置ＳＰ３、ＳＰ４の間に配置するこ
とにより、両基板処理装置ＳＰ３、ＳＰ４間において基
板Ｗを安定して搬送することが可能となり、カセットに
基板Ｗを入れ直して搬送するといった工程が省略可能と
なる。

【００５２】＜３．変形例＞以上、この発明に係る基
板保持機構ならびにこれを利用した基板処理装置および
基板搬送装置について説明してきたが、この発明は上記
形態に限定されるものではない。

【００５３】例えば、図１に示される基板処理装置１で
は、突上台２３２や保持板３ａにおいて基板Ｗが傾いた
起立姿勢で保持されるが、洗浄処理部４の昇降台４２ａ
において基板Ｗが保持される場合においても傾いた起立
姿勢となるようにしてもよい。このように、複数の基板
Ｗが所定方向に傾いて安定して保持されるのであれば、
基板Ｗを保持する任意の機構に利用可能である。

【００５４】また、図９や図１０に示した基板搬送装置
ＳＣ１、ＳＣ２は基板処理装置間において基板Ｗを搬送
する場合のものであるが、基板処理装置間が長く、長距
離の基板搬送をしなければならない場合であっても利用
可能である。この場合は、基板搬送装置を基板Ｗを傾い
た起立姿勢にて保持する基板搬送車とすることにより実
現可能となる。したがって、搬送環境が整っているので
あるならば、カセットを用いない基板搬送が容易に実現
される。

【００５５】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１記載の発
明では、複数の基板の外縁部が保持部材に形成された複
数の凹凸面により所定の方向に傾いた起立姿勢にて保持
されるため、基板はがたつきにくく、安定して保持され
ることとなる。また、これにより隣り合う基板との接触
も防止され、基板の破損やパーティクルの発生も防止さ
れる。

【００５６】請求項２および３記載の発明では、複数の
凹凸面が複数の溝であるので、保持部材の加工が容易と
なる。

【００５７】請求項４記載の発明では、請求項１ないし
３のいずれかに記載の保持機構を備えるので、基板がが
たつくことはなく、かつ、カセットを用いることなく安
定して基板を搬送することができる。これにより、隣り
合う基板の接触も防止され、基板の破損やパーティクル
の発生も防止される。

【００５８】請求項５記載の発明では、請求項１ないし
３のいずれかに記載の保持機構を備えるので、基板がが
たつくことはなく、安定して基板を取り扱うことができ
る。これにより、隣り合う基板の接触も防止され、基板
の破損やパーティクルの発生も防止される。

【００５９】請求項６記載の発明では、保持台と２つの
保持板とに複数の基板を傾いた起立姿勢にて保持する溝
が形成されているので、基板ががたつくことはなく、安
定して取り扱うことができる。これにより、隣り合う基
板の接触も防止され、基板の破損やパーティクルの発生
も防止される。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明に係る基板処理装置を示す斜視図であ
る。

【図２】（ａ）は突上部が基板を突き上げる前を示す図
である。（ｂ）は突上部が基板を突き上げた後を示す図
である。

【図３】突上台を示す斜視図である。

【図４】（ａ）は突上台の溝の断面を示す図である。
（ｂ）は突上台上の基板を示す図である。

【図５】（ａ）は突上台の溝の断面を示す図である。
（ｂ）は突上台上の基板を示す図である。

【図６】突上部を示す断面図である。

【図７】保持板を示す斜視図である。

【図８】保持板を示す図である。

【図９】この発明に係る基板搬送装置の概略を示す図で
ある。

【図１０】この発明に係る基板搬送装置の概略を示す図
である。

【図１１】（ａ）は従来の保持台の溝の断面を示す図で
ある。（ｂ）は従来の保持台上の基板を示す図である。

【符号の説明】

１基板処理装置３基板搬送ロボット３ａ保持板４洗浄装置４ｄ乾燥装置５保持棒２３突上部２３２突上台ＣカセットＧ、Ｇ１溝ＳＣ１、ＳＣ２基板搬送装置Ｗ基板

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】複数の基板を起立姿勢にて保持する保持
機構であって、当接部位において前記複数の基板の外縁部に当接するこ
とにより前記複数の基板を保持する保持部材、を備え、前記保持部材の前記当接部位に、前記複数の基板を所定
の方向に傾いた起立姿勢にて保持する複数の凹凸面が形
成されていることを特徴とする基板保持機構。
【請求項２】請求項１記載の基板保持機構であって、前記保持部材が、前記複数の基板を下方より当接して支
持する当接面を有し、前記複数の凹凸面が、前記当接面に形成された複数の溝
であることを特徴とする基板保持機構。
【請求項３】請求項１記載の基板保持機構であって、前記保持部材が、前記複数の基板を外縁部側方より当接
して挟持する２つの当接面を有し、前記複数の凹凸面が、前記２つの当接面に形成された複
数の溝であることを特徴とする基板保持機構。
【請求項４】請求項１ないし３のいずれかに記載の基
板保持機構を備えた基板搬送装置であって、前記基板保持機構を移動させる移動手段、をさらに備え
ることを特徴とする基板搬送装置。
【請求項５】請求項１ないし３のいずれかに記載の基
板保持機構を備えた基板処理装置であって、前記基板保持機構を移動させる移動手段と、前記複数の基板に所定の処理を施す処理手段と、をさら
に備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項６】複数の基板に所定の処理を施す基板処理
装置であって、 (a) カセットに起立姿勢にて格納される前記複数の基板
を上下に出し入れする出入手段と、 (b) 前記出入手段との間で前記複数の基板を受け渡しす
るとともに前記複数の基板を起立姿勢にて搬送する搬送
手段と、 (c) 前記搬送手段との間で前記複数の基板を受け渡しす
るとともに前記複数の基板に前記所定の処理を施す処理
手段と、を備え、前記出入手段が、 (b-1) 前記複数の基板を下方より当接して支持する支持
台と、 (b-2) 前記支持台を昇降させる昇降手段と、を有し、前記搬送手段が、 (c-1) 前記複数の基板を外縁部側方より当接して狭持す
る２つの保持板と、 (c-2) 前記２つの保持板を移動させる移動手段と、を有
し、前記支持台における前記複数の基板と当接する面に、前
記複数の基板を所定方向に傾いた起立姿勢にて支持する
複数の溝が形成されており、前記２つの保持板における前記複数の基板と当接する面
に、前記複数の基板を所定方向に傾いた起立姿勢にて狭
持する複数の溝が形成されていることを特徴とする基板
処理装置。