JPH10247676A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板搬送ユニットによる設置面積が低減され
た基板処理装置を提供することである。 【解決手段】 基板処理ユニット１の本体部１０上の処
理室１１の１つの角部に円弧状凹部１４を形成すること
により、本体部１０上面の１つの隅部の上部に１／４円
柱状空間が形成される。複数の基板処理ユニット１を１
／４円柱状空間が近接するように中心軸Ｓの周りに配置
することにより、中央部に円弧状凹部１４で囲まれる円
柱状空間２０が形成される。この円柱状空間２０内に搬
送室支持アーム３１により上方から支持された搬送室３
０が配置される。搬送室３０内には２つの基板収納室４
０ａ，４０ｂが鉛直軸の周りで回動可能かつ鉛直方向に
移動可能に配設され、基板収納室４０ａ，４０ｂ内に基
板を保持する基板保持部が水平方向に前進および後退可
能に設けられている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、複数の基板処理ユ
ニットおよび基板搬送ユニットを備えた基板処理装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基
板、フォトマスク用ガラス基板等の基板に種々の処理を
行うために複数の処理室を備えた基板処理装置が用いら
れている。基板処理装置の各処理室で処理される基板は
周囲の雰囲気に大きな影響を受けるので、処理室内は清
浄な状態に保たれる。

【０００３】処理室内で処理された基板を直ちに大気中
に搬出すると、処理された基板が大気の影響を受けるこ
とになる。また、処理室内に基板を搬入する際には、処
理室内に基板とともに大気が侵入し、処理室の内部が汚
染される。そこで、処理室の基板の出入口に密閉空間で
ある搬送室を接続し、搬送室内に窒素等の不活性ガスを
充填し、あるいは真空に保持しておくことにより、処理
室への基板の搬入および搬出時ならびに搬送工程におけ
る基板の汚染を防止している。

【０００４】図１３は複数の処理室および搬送室を備え
た従来の基板処理装置の一例を示す平面図である。

【０００５】図１３の基板処理装置では、基板搬送ユニ
ット１１０の周囲に３つの基板処理ユニット１０１およ
び２つの受け渡し室（ロードロック）１２０が放射状に
接続されている。各基板処理ユニット１０１は、本体部
１０２およびその本体部１０２上に設けられた処理室１
０３により構成される。処理室１０３内で基板に対する
所定の処理が行われる。本体部１０２には、駆動機構、
処理液供給用配管および排気用配管が内蔵される。

【０００６】基板搬送ユニット１１０は搬送室１１１を
有する。搬送室１１１内には、２つの基板保持部１１３
を有する搬送機構１１２が設けられている。搬送機構１
１２は、受け渡し室１２０と処理室１０３との間および
処理室１０３間で基板を搬送する。

【０００７】搬送室１１１と各処理室１０３との間に
は、ガスの流通を遮断可能なゲートバルブ１４０が設け
られ、搬送室１１１と受け渡し室１２０との間にも、同
様にガスの流通を遮断可能なゲートバルブ１５０が設け
られている。また、受け渡し室１２０には、外部との間
で基板を搬入および搬出するためのゲートバルブ１６０
が設けられている。

【０００８】各処理室１０３、搬送室１１１および受け
渡し室１２０内は、予め減圧下に保たれ、あるいはＮ₂
等の不活性ガスにより大気圧または準大気圧下でパージ
され、清浄な雰囲気に保たれている。

【０００９】処理前の基板は一方の受け渡し室１２０内
に搬入される。基板の搬送時には、搬送室１１１と受け
渡し室１２０との間のゲートバルブ１５０が開かれる。
搬送室１１１内の搬送機構１１２は、基板保持部１１３
を伸張して受け渡し室１２０内の基板を受け取った後、
１つの処理室１０３に搬送する。処理室１０３内で処理
された基板は、搬送機構１１２により他の処理室１０３
または他方の受け渡し室１２０に搬送される。あるい
は、同様の処理が並行して行われる。処理が終了した基
板は、受け渡し室１２０から外部に搬出される。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】上記の従来の基板処理
装置においては、複数の基板処理ユニット１０１の中央
部に基板の搬送のための基板搬送ユニット１１０が設け
られている。そのため、複数の基板処理ユニット１０１
の設置面積に加えて基板搬送ユニット１１０の設置面積
が必要となり、基板処理装置の全体のフットプリント
（設置面積）が大きくなる。

【００１１】また、基板搬送ユニット１１０が複数の基
板処理ユニット１０１および受け渡し室１２０の中央部
に位置するため、基板搬送ユニット１１０の保守の際に
は、周囲の基板処理ユニット１０１または受け渡し室１
２０を取り外す必要がある。そのため、基板搬送ユニッ
ト１１０の保守を容易に行うことができない。

【００１２】本発明の目的は、基板搬送ユニットによる
設置面積が低減された基板処理装置を提供することであ
る。

【００１３】本発明の他の目的は、基板搬送ユニットの
保守を容易に行うことができる基板処理装置を提供する
ことである。

【００１４】

【課題を解決するための手段および発明の効果】第１の
発明に係る基板処理装置は、基板に所定の処理を行う処
理室と処理室内での処理動作を行うための駆動機構を内
蔵する本体部とを有する複数の基板処理ユニット、およ
び各基板処理ユニットの処理室に対して基板を搬入およ
び搬出する基板搬送ユニットを備え、各基板処理ユニッ
トの処理室は、本体部上面の少なくとも外周部側の一部
領域上に空間が形成されるように本体部上に設けられ、
複数の基板処理ユニットは、一部領域上に形成された空
間が合体するように配置され、基板搬送ユニットは、複
数の基板処理ユニットの本体部上の合体した空間に配設
されたものである。

【００１５】本発明に係る基板処理装置においては、基
板搬送ユニットが複数の基板処理ユニットの本体部上に
合体するように形成された空間に配設されているので、
基板搬送ユニットの設置面積が複数の基板処理ユニット
の設置面積の一部と重複することになる。したがって、
基板処理装置の全体の設置面積が低減される。

【００１６】第２の発明に係る基板処理装置は、第１の
発明に係る基板処理装置の構成において、基板搬送ユニ
ットを鉛直方向に移動可能に、かつ複数の基板処理ユニ
ットの本体部上の合体した空間の上方位置と複数の基板
処理ユニットの外方位置との間で移動可能に上方から基
板搬送ユニットを支持する支持手段をさらに備えたもの
である。

【００１７】この場合、基板搬送ユニットの保守時に、
基板搬送ユニットを複数の基板処理ユニットの本体部上
から鉛直方向に上昇させ、複数の基板処理ユニットの外
方位置に移動させることができる。それにより、基板搬
送ユニットの保守を基板処理装置の外側で容易に行うこ
とが可能となる。

【００１８】第３の発明に係る基板処理装置は、第１ま
たは第２の発明に係る基板処理装置の構成において、基
板搬送ユニットが、基板を保持する基板保持部と、基板
保持部を鉛直方向および水平方向に移動可能に、かつ鉛
直方向の軸の周りで回動可能に支持する支持機構と、基
板保持部が通過可能な開口部を有しかつ基板保持部およ
び支持機構を取り囲む搬送室とを備えたものである。

【００１９】この場合、基板を保持する基板保持部が鉛
直方向および水平方向に移動するとともに鉛直方向の軸
の周りで回動し、基板保持部が搬送室の開口部を通して
基板処理ユニットの処理室内に前進および後退すること
により、各基板処理ユニットの処理室に対して基板を搬
入および搬出することができる。

【００２０】第４の発明に係る基板処理装置は、第３発
明に係る基板処理装置の構成において、基板搬送ユニッ
トが、搬送室内で基板保持部を取り囲みかつ基板保持部
が通過可能な基板出入口を有する基板収納室をさらに含
むものである。

【００２１】この場合、基板の搬送時に基板が基板収納
室内に収納されるので、基板収納室内を清浄な雰囲気に
保つことにより基板を清浄な状態で搬送することが可能
となる。

【００２２】第５の発明に係る基板処理装置は、第４の
発明に係る基板処理装置の構成において、支持機構が、
基板収納室内に設けられかつ基板保持部を基板出入口を
通して水平方向に移動させる第１の駆動手段と、基板収
納室を鉛直方向に移動させるとともに鉛直方向の軸の周
りで回動させる第２の駆動手段とを含むものである。

【００２３】この場合、第２の駆動手段によって基板収
納室を鉛直方向に移動させるとともに鉛直方向の軸の周
りで回動させ、第１の駆動手段によって基板収納室内の
基板保持部に保持された基板を基板出入口を通して水平
方向に移動させることができる。これにより、基板収納
室に基板を収納した状態で基板を搬送し、各基板処理ユ
ニットの処理室に対して基板を搬入および搬出すること
ができる。

【００２４】第６の発明に係る基板処理装置は、第４ま
たは第５の発明に係る基板処理装置の構成において、基
板搬送ユニットが、基板収納室内に雰囲気ガスを供給す
る給気経路と、基板収納室内の雰囲気ガスを排出する排
気経路とをさらに備えたものである。これにより、基板
収納室内を清浄な雰囲気に保ちつつ基板を搬送すること
が可能となる。

【００２５】第７の発明に係る基板処理装置は、第３、
第４、第５または第６の発明に係る基板処理装置の構成
において、基板搬送ユニットの搬送室が鉛直方向の軸を
中心とする円筒状の外周面を有し、各基板処理ユニット
の処理室は搬送室の円筒状の外周面に接する部分円筒状
の側面を有し、部分円筒状の側面には基板保持部が通過
可能な開口部が設けられ、搬送室は鉛直方向の軸の周り
で回動可能に設けられたものである。

【００２６】この場合、基板搬送ユニットの搬送室を鉛
直方向の軸の周りで回動させることにより各基板処理ユ
ニットの処理室の開口部を開閉することができる。それ
により、基板処理ユニットの処理室の開口部および基板
搬送ユニットの搬送室の開口部を簡単な構造で開閉する
ことが可能となる。

【００２７】

【発明の実施の形態】図１は本発明の一実施例における
基板処理装置の平面図、図２は図１の基板処理装置の横
断面図、図３は図１の基板処理装置の部分縦断面図であ
る。また、図４は図１の基板処理装置における１つの基
板処理ユニットの斜視図、図５は図１の基板処理装置に
おける基板搬送ユニットの主要部の斜視図である。

【００２８】図１の基板処理装置は、３つの基板処理ユ
ニット１、搬入室２ａ、搬出室２ｂ、基板搬送ユニット
３、２つの制御系ユニット４、および２つの薬液供給系
ユニット５を備える。３つの基板処理ユニット１、搬入
室２ａおよび搬出室２ｂは鉛直方向の中心軸Ｓの周りに
放射状に配置され、これらの基板処理ユニット１の外側
に制御系ユニット４および薬液供給系ユニット５が配置
されている。

【００２９】図３に示すように、基板処理ユニット１
は、本体部１０およびその本体部１０上に設けられた処
理室１１からなる。本体部１０は、モータ等の駆動機
構、処理液供給用配管および排気用配管を内蔵する。処
理室１１内には、薬液、洗浄液等の処理液の飛散を防止
するためのカップ１３が上下動自在に設けられている。

【００３０】処理室１１のカップ１３の内部には、基板
Ｗを水平姿勢で保持して回転させる回転保持部１２が配
設されている。この回転保持部１２は、本体部１０内の
モータにより回転駆動される。また、処理室１内には、
カップ１３内の基板Ｗに薬液を供給するためのノズル
（図示せず）、基板Ｗに純水を供給するためのノズル
（図示せず）、基板Ｗの表面を洗浄するためのブラシ
（図示せず）等が設けられている。本実施例では、基板
処理ユニット１は、基板に薬液洗浄処理、水洗処理およ
び乾燥処理を行う。

【００３１】図４に示すように、処理室１１の１つの角
部には円弧状凹部１４が形成され、本体部１０上面の外
周部側の一部領域である隅部の１／４円形領域１８上に
１／４円柱状空間１９が形成されている。したがって、
３つの基板処理ユニット１を１／４円形領域１８が近接
するように中心軸Ｓの周りに配置することにより、中央
部に円弧状凹部１４で囲まれる円柱状空間２０が形成さ
れる（図２および図３参照）。

【００３２】また、１／４円柱状空間１９の下方におけ
る本体部１０の１つの角部に鉛直方向の面取り部１５が
形成されている。これにより、図３に示すように、３つ
の基板処理ユニット１の本体部１０の中央部に、面取り
部１５で囲まれる排気用通路８０が形成される。排気通
路８０は、工場内の排気ラインに接続される。

【００３３】図５に示すように、基板搬送ユニット３は
円筒状の搬送室３０を有する。この搬送室３０は、水平
方向に配置された搬送室支持アーム３１により上部から
吊り下げられている。搬送室３０の上面には複数の給気
口３４が形成され、下面中央部には排気口３５が形成さ
れている。

【００３４】搬送室３０内には、第１の円筒状支持部材
５０、第２の円筒状支持部材５１および２つの基板収納
室４０ａ，４０ｂが配設されている。第１の円筒状支持
部材５０は、搬送室支持アーム３１の下面に鉛直軸の周
りで矢印θの方向に回転可能に取り付けられている。搬
送室３０は第１の円筒状支持部材５０に固定され、第１
の円筒状支持部材５０とともに矢印θの方向に回転可能
となっている。また、第２の円筒状支持部材５１は、第
１の円筒状支持部材５０の下部に矢印Ｚの方向（鉛直方
向）に移動可能に取り付けられている。

【００３５】第２の円筒状支持部材５１の下部に基板収
納室４０ａが固定され、基板収納室４０ａの下部に基板
収納室４０ｂが固定されている。これにより、２段に配
置された基板収納室４０ａ，４０ｂが搬送室３０の内部
で鉛直軸の周りで回転し、かつ上下方向に移動すること
ができる。

【００３６】この搬送室３０は、図２および図３に示す
ように、３つの処理室１１の円弧状凹部１４で囲まれる
円柱状空間２０内に挿入される。

【００３７】図３に示すように、搬送室支持アーム３１
は鉛直方向に延びるアーム支持部３３を介して図１のア
ーム駆動部３２に取り付けられている。アーム駆動部３
２は薬液供給系ユニット５上に設けられている。このア
ーム駆動部３２は、アーム支持部３３を上下方向に駆動
させるともに搬送室支持アーム３１を鉛直軸Ｐの周りで
回動させる。それにより、搬送室支持アーム３１の下部
に取り付けられた搬送室３０を上方に移動させるととも
に、上方に移動した搬送室３０を鉛直軸Ｐの周りで回動
させて基板処理装置の外方に移動させることができる。

【００３８】図２および図３に示すように、各処理室１
１の円弧状凹部１４には、処理室１１に対して基板の搬
入および搬出を行うための開口部１６が形成されてい
る。また、搬送室３０には、基板の搬入および搬出を行
うための１つの開口部３６が形成されている。

【００３９】図２に示すように、搬入室２ａ内には基板
受け渡し台２１ａが設けられ、搬出室２ｂには同様に基
板受け渡し台２１ｂが設けられている。搬送室３０に接
する搬入室２ａの側面には、搬入室２ａから搬送室３０
内へ基板を搬入するための開口部２２ａが形成されてい
る。搬送室３０に接する搬出室２ｂの側面には、搬送室
３０から搬出室２ｂへ基板を搬出するための開口部２２
ｂが形成されている。なお、これらの搬入室２ａおよび
搬出室２ｂには、それぞれ基板を搬入および搬出するた
めのゲートバルブ（図示せず）が設けられている。

【００４０】各処理室１１の開口部１６、搬入室２ａの
開口部２２ａ、搬出室２ｂの開口部２２ｂおよび搬送室
３０の開口部３６は同じ高さに配置されている。本実施
例では、搬送室３０を鉛直軸の周りで回動させることに
より各処理室１１の開口部１６、搬入室２ａの開口部２
２ａおよび搬出室２ｂの開口部２２ｂを開閉することが
できる。

【００４１】図６は基板搬送ユニット１の搬送室３０の
縦断面図、図７は基板搬送ユニット１の搬送室３０の横
断面図である。

【００４２】図６に示すように、基板収納室４０ａ内に
水平移動機構部６０ａが設けられ、基板収納室４０ｂ内
に水平移動機構部６０ｂが設けられている。水平移動機
構部６０ａ，６０ｂは、水平移動機構を内蔵する収納ボ
ックス６１および基板Ｗを保持する基板保持部６２を備
える。

【００４３】図７に示すように、収納ボックス６１の上
面には、矢印Ｘの方向に延びる２本の案内溝６５が設け
られている。基板保持部６２は、案内溝６５に沿って水
平方向（矢印Ｘ方向）に前進および後退可能に収納ボッ
クス６１上に取り付けられている。

【００４４】基板収納室４０ａの前面には、水平移動機
構部６０ａの基板保持部６２が通過可能な基板出入口４
１ａが形成されている。同様に、基板収納室４０ｂの前
面には、水平移動機構部６０ｂの基板保持部６２が通過
可能な基板出入口４１ｂが形成されている。搬送室３０
の開口部３６は、これらの基板収納室４０ａ，４０ｂの
開口部４１ａ，４１ｂに対応する位置に配置されてい
る。

【００４５】基板収納室４０ａの上面には雰囲気ガス供
給口４２ａが設けられ、下面には排気口４３ａが設けら
れている。同様に、基板収納室４０ｂの上面には雰囲気
ガス供給口４２ｂが設けられ、下面には排気口４３ｂが
設けられている。雰囲気ガスとしては、例えばＮ₂ 等の
不活性ガスが用いられる。後述するように、排気口４３
ａ，４３ｂは、それぞれ水平移動機構部６０ａ，６０ｂ
の収納ボックス６１の内部に連通している。

【００４６】雰囲気ガス供給口４２ａから基板収納室４
０ａ内に雰囲気ガスが供給され、排気口４３ａから収納
ボックス６１の内部を通して基板収納室４０ａ内の排気
が行われる。また、雰囲気ガス供給口４２ｂから基板収
納室４０ｂ内に雰囲気ガスが供給され、排気口４３ｂか
ら収納ボックス６１の内部を通して基板収納室４０ｂ内
の排気が行われる。

【００４７】また、搬送室３０内の上部には、空気清浄
用のフィルタ３７が設けられている。上部から供給され
る清浄な空気の下方流（ダウンフロー）５００は、搬送
室３０の上面の給気口３４およびフィルタ３７を通過し
て搬送室３０内に取り込まれ、搬送室３０の下面の排気
口３５から下方に排出され、図３の排気通路８０を通っ
て工場内の排気ラインに導かれる。一方、処理室１１お
よび基板収納室４０ａ，４０ｂ内には所定の雰囲気ガス
が供給される。このとき、処理室１１内の圧力および基
板収納室４０ａ，４０ｂ内の圧力は搬送室３０内の圧力
よりも高く保たれる。それにより、搬送室３０内の基板
収納室４０ａ，４０ｂの周囲に中間低圧部Ａが形成され
る。

【００４８】したがって、処理室１１内から開口部１
６，３６を通して搬送室３０内へ向かう気流の流れが形
成されるとともに、基板収納室４０ａ，４０ｂ内から基
板出入口４１ａ，４１ｂを通して搬送室３０内へ向かう
気流の流れが形成されるので、処理室１１内および基板
収納室４０ａ，４０ｂ内が清浄な雰囲気ガスの状態に保
たれる。

【００４９】このように、中間低圧部Ａを設けることに
より、搬送室３０内を密閉空間とすることなく基板の搬
入および搬出時に処理室１１内を清浄な雰囲気に保つこ
とができ、かつ基板収納室４０ａ，４０ｂの基板出入口
４１ａ，４１ｂに開閉自在なシャッタを設けることなく
基板収納室４０ａ，４０ｂ内を清浄な雰囲気に保つこと
が可能となる。その結果、基板搬送ユニット３の構成が
簡単になる。

【００５０】図８は基板収納室４０ａ内に設けられる水
平移動機構部６０ａの平面図、図９は図８の水平移動機
構部６０ａの縦断面図である。

【００５１】収納ボックス６１の上面に形成された２本
の案内溝６５内には、支持部材６６が矢印Ｘの方向に移
動可能に設けられている。基板保持部６２は、支持部材
６６の上端に水平に固定されている。基板保持部６２上
に基板支持部６３，６４が設けられている。基板保持部
６２上に載置された基板Ｗは、これらの基板支持部６
３，６４間に支持される。

【００５２】収納ボックス６１内には、軸受け７０およ
びモータ７１が所定の間隔を隔てて配置されている。軸
受け７０およびモータ７１に取り付けられたプーリ６
８，６９間にベルト７２が架け渡されている。このベル
ト７２に支持部材６６の一部が取り付けられている。こ
れにより、モータ７１が回転すると、基板保持部６２が
矢印Ｘの方向に前進および後退する。

【００５３】収納ボックス６１の下面には、図６に示し
た排気口４３ａに嵌合する排気孔７３が設けられてい
る。したがって、雰囲気ガス供給口４２ａから基板収納
室４０ａ内に供給される雰囲気ガスは、案内溝６５から
収納ボックス６１の内部に導入され、排気孔７３を通し
て排気口４３ａから排出される。これにより、収納ボッ
クス６１内の摺動部分から発生するパーティクル（塵
埃）が収納ボックス６１から基板収納室４０ａ内に排出
されずに雰囲気ガスとともに排気口４３ａから排気さ
れ、基板Ｗへのパーティクルの付着が防止される。

【００５４】なお、基板収納室４０ｂ内に設けられる水
平移動機構部６０ｂの構成も図８および図９に示される
構成と同様である。

【００５５】図１０は基板搬送ユニット３の主要部の縦
断面図である。なお、図１０には、搬送室３０および搬
送室４０ａ，４０ｂ内の水平移動機構部６０ａ，６０ｂ
は図示されていない。

【００５６】搬送室支持アーム３１は、固定フレーム３
０１および固定カバー３０２により構成される。固定フ
レーム３０１に、フランジ３０３および軸受け３０４を
介して回転部材５０１が鉛直軸の周りで回転可能に取り
付けられている。回転部材５０１の下部には第１の円筒
状支持部材５０が固定されている。搬送室３０は第１の
円筒状支持部材５０に固定される。

【００５７】固定フレーム３０１上に回動用モータ３０
５が取り付けられている。また、回転部材５０１の外周
部にギア３０８が設けられている。回動用モータ３０５
の回転軸に取り付けられたプーリ３０６とギア３０８と
の間にベルト３０７が架け渡されている。回動用モータ
３０５が回転すると、プーリ３０６、ベルト３０７およ
びギア３０８を介して回転部材５０１が第１の円筒状支
持部材５０とともに鉛直軸の周りで矢印θの方向に回転
駆動される。

【００５８】回転部材５０１の上部には、上下移動用モ
ータ３０９が取り付けられている。上下移動用モータ３
０９の回転軸３１０には、カップリング３１１によりボ
ールねじ３１２が連結されている。ボールねじ３１２
は、軸受け３１３により回転自在に鉛直方向に沿って案
内されている。軸受け３１３はナット３１４により固定
されている。

【００５９】また、回転部材５０１の下面には、板状部
材５０２が鉛直方向に固定されている。板状部材５０２
には、鉛直方向に延びる２本のリニアガイド５０３が取
り付けられている。一方、第２の円筒状支持部材５１内
には、移動部材５１１が固定されている。移動部材５１
１は２本のリニアガイド５０３に嵌合する２本の案内溝
５１２を有し、リニアガイド５０３に沿って鉛直方向に
摺動自在に案内されている。移動部材５１１の上端には
ナット５１３が固定されている。このナット５１３には
ボールねじ３１２が螺合する。これにより、上下移動用
モータ３０９の回転軸３１０が回転すると、ボールねじ
３１２も回転し、移動部材５１１が第２の円筒状支持部
材５１とともに矢印Ｚの方向に移動する。

【００６０】このようにして、基板収納室４０ａ，４０
ｂが、鉛直軸の周りで回動可能かつ鉛直方向に移動可能
に第１および第２の円筒状支持部材５０，５１により搬
送室支持アーム３１の下部に支持されている。

【００６１】基板収納室４０ａ内の雰囲気ガス供給口４
２ａは、配管４４ａ、第１および第２の円筒状支持部材
５０，５１内の雰囲気ガス供給チューブ５２ａおよび搬
送室支持アーム３１内の雰囲気ガス供給管３８ａを介し
て外部の雰囲気ガス供給源に接続される。また、基板収
納室４０ａ内の排気口４３ａは、配管４５ａ、第１およ
び第２の円筒状支持部材５０，５１内の排気チューブ５
３ａおよび搬送室支持アーム３１内の排気管３９ａを介
して外部の排気装置に接続される。

【００６２】同様に、基板収納室４０ｂ内の雰囲気ガス
供給口４２ｂは、配管４４ｂ、第１および第２の円筒状
支持部材５０，５１内の雰囲気ガス供給チューブ５２ｂ
および搬送室支持アーム３１内の雰囲気ガス供給管３８
ｂを介して外部の雰囲気ガス供給源に接続される。ま
た、基板収納室４０ｂ内の排気口４３ｂは、配管４５
ｂ、第１および第２の円筒状支持部材５０，５１内の排
気チューブ５３ｂおよび搬送室支持アーム３１内の排気
管３９ｂを介して外部の排気装置に接続される。

【００６３】なお、回動用モータ３０５、上下移動用モ
ータ３０９および水平移動機構部６０ａ，６０ｂのモー
タ７１（図８参照）への給電も搬送室支持アーム３１内
を通して行われる。

【００６４】本実施例では、搬送室支持アーム３１が支
持手段に相当する。また、第１の円筒状支持部材５０、
第２の円筒状支持部材５１および水平移動機構部６０
ａ，６０ｂが支持機構を構成する。特に、水平移動機構
部６０ａ，６０ｂが第１の駆動手段に相当し、回転用モ
ータ３０５、上下移動用モータ３０９等が第２の駆動手
段に相当する。また、雰囲気ガス供給口４２ａ，４２
ｂ、配管４４ａ，４４ｂ、雰囲気ガス供給チューブ５２
ａ，５２ｂおよび雰囲気ガス供給管３８ａ，３８ｂが給
気経路を構成し、排気口４３ａ，４３ｂ、配管４５ａ，
４５ｂ、排気チューブ５３ａ，５３ｂおよび排気管３９
ａ，３９ｂが排気経路を構成する。

【００６５】次に、本実施例の基板処理装置の動作を説
明する。未処理の基板は図２の搬入室２ａ内の基板受け
渡し台２１ａ上に搬入される。そして、搬送室３０内の
第１の円筒状支持部材５０が搬送室３０とともに鉛直軸
の周りで回動するとともに第２の円筒状支持部材５１が
鉛直方向に移動することにより、搬送室３０の開口部３
６および基板収納室４０ａの基板出入口４１ａが搬入室
２ａの開口部２２ａの前方に位置する。この状態で、基
板収納室４０ａ内の水平移動機構部６０ａの基板保持部
６２が基板出入口４１ａ、搬送室３０の開口部３６およ
び搬入室２ａの開口部２２ａを通して前進し、基板受け
渡し台２１ａ上の基板を受け取った後、基板収納室４０
ａ内に後退する。

【００６６】その後、搬送室３０内の第１の円筒状支持
部材５０が搬送室３０とともに鉛直軸の周りで回動する
ことにより、搬送室３０の開口部３６および基板収納室
４０ａの基板出入口４１ａが所定の処理室１１の開口部
１６の前方に位置する。そして、基板収納室４０ａ内の
水平移動機構部６０ａの基板保持部６２が基板出入口４
１ａ、搬送室３０の開口部３６および処理室１１の開口
部１６を通して前進し、処理室１１内に進入する。この
とき、処理室１１内のカップ１３が下降する。基板保持
部６２は、基板を回転保持部１２上に載置した後、後退
して基板収納室４０ａ内に戻る。

【００６７】一方、処理室１１内で基板の処理が終了す
ると、搬送室３０内の第１の円筒状支持部材５０が搬送
室３０とともに鉛直軸の周りで回動するとともに第２の
円筒状支持部材５１が上方向に移動することにより、搬
送室３０の開口部３６および基板収納室４０ｂの基板出
入口４１ｂがその処理室１１の開口部１６の前方に位置
する。そして、基板収納室４０ｂ内の水平移動機構部６
０ｂの基板保持部６２が基板出入口４１ｂ、搬送室３０
の開口部３６および処理室１１の開口部１６を通して前
進し、処理室１１内に進入する。このとき、処理室１１
内のカップ１３が下降する。基板保持部６２は、回転保
持部１２上の基板を受け取った後、後退して基板収納室
４０ｂ内に戻る。

【００６８】その後、搬送室３０内の第１の円筒状支持
部材５０が搬送室３０とともに鉛直軸の周りで回動する
ことにより、搬送室３０の開口部３６および基板収納室
４０ｂの基板出入口４１ｂが搬出室２ｂの開口部２２ｂ
の前方に位置する。そして、基板収納室４０ｂ内の水平
移動機構部６０ｂの基板保持部６２が、基板出入口４１
ｂ、搬送室３０の開口部３６および搬出室２ｂの開口部
２２ｂを通して前進し、基板受け渡し台２１ｂ上に基板
を載置した後、基板収納室４０ｂ内に後退する。

【００６９】搬出室２ｂ内の基板受け渡し台２１ｂ上に
載置された基板は、外部に搬出される。複数の基板に対
して上記の処理が順次的または並列的に行われる。

【００７０】本実施例の基板処理装置においては、基板
搬送ユニット３の搬送室３０が複数の基板処理ユニット
１の本体部１０上に形成された円柱状空間２０に設けら
れているので、基板搬送ユニット３の投影面積が基板処
理ユニット１の投影面積と重複し、基板搬送ユニット３
の設置面積が不要となる。それにより、基板処理装置の
全体の設置面積が低減される。

【００７１】また、基板搬送ユニット３への電力、雰囲
気ガス、排気等の用力の供給が搬送室支持アーム３１を
通して搬送室３０の上方から行われるので、基板処理ユ
ニット１との間で用力供給経路の干渉を回避することが
できる。その結果、床面における構造が煩雑になること
を防止することができる。

【００７２】さらに、処理室１１と搬送室３内の基板収
納室４０ａ，４０ｂとの間に中間低圧部Ａ（図６および
図７参照）が形成されるので、基板収納室４０ａ，４０
ｂの基板出入口４１ａ，４１ｂにシャッタを設ける必要
がなくなる。また、搬送室３が回動することにより各処
理室１１の開口部１６を開閉することができるので、各
処理室１１と搬送室３０との間にゲートバルブを設ける
必要がなくなる。それにより、処理室１１および搬送室
３０の構成が簡単になる。

【００７３】また、未処理の基板が搬入室２ａから搬送
室３０内の一方の基板収納室４０ａにより所定の処理室
１１に搬送され、処理済みの基板が処理室１１から搬送
室３０内の他方の基板収納室４０ｂにより搬出室２ｂに
搬送される。このように、処理前の基板と処理済みの基
板とが常に別個の経路で搬送されるので、処理前の基板
と処理済みの基板とがそれぞれ常に同一の搬送雰囲気に
保たれ、互いに影響を及ぼさない。

【００７４】次に、本実施例の基板処理装置の保守時の
動作を説明する。図１１は本実施例の基板処理装置の保
守時の動作を示す縦断面図、図１２は本実施例の基板処
理装置の保守時の動作を示す平面図である。

【００７５】基板搬送ユニット３の保守時には、まず、
図１１に示すように、アーム駆動部３２によりアーム支
持部３３を上昇させることにより、搬送室支持アーム３
１の下部に支持される搬送室３０を矢印Ｚの方向に沿っ
て上方に移動させる。その後、図１２に示すように、ア
ーム駆動部３２により搬送室支持アーム３１を鉛直軸Ｐ
の周りで矢印Ｒの方向に回動させることにより、搬送室
３０を基板処理装置の外方に移動させる。その後、アー
ム駆動部３２によりアーム支持部３３を下降させること
により搬送室３０を下方に移動させる。この状態で、基
板搬送ユニット３３の保守を容易に行うことができる。

【００７６】また、基板処理ユニット１の保守時には、
薬液供給系ユニット５を矢印Ｑの方向に開く。それによ
り、各基板処理ユニット１の保守を容易に行うことがで
きる。

【００７７】上記実施例では、搬送室３０を回動させる
ことにより各処理室１１の開口部１６を開閉自在に構成
しているが、搬送室３０が回動しない構成の場合には、
複数の処理室１１の開口部１６に対応して搬送室３０に
複数の開口部３６を設け、各開口部３６に開閉自在なシ
ャッタを設ければよい。また、基板収納室４０ａ，４０
ｂの基板出入口４１ａ，４１ｂに開閉自在なシャッタを
設けてもよい。

【００７８】なお、基板処理ユニット１としては、上記
実施例に限らず、処理液の塗布処理、現像処理、加熱処
理、冷却処理等の種々の基板処理を行う基板処理ユニッ
トを用いることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例における基板処理装置の平面
図である。

【図２】図１の基板処理装置の横断面図である。

【図３】図１の基板処理装置の部分縦断面図である。

【図４】図１の基板処理装置における１つの基板処理ユ
ニットの斜視図である。

【図５】図１の基板処理装置における基板搬送ユニット
の搬送室の斜視図である。

【図６】基板搬送ユニットの搬送室の縦断面図である。

【図７】基板搬送ユニットの搬送室の横断面図である。

【図８】水平移動機構部の平面図である。

【図９】水平移動機構部の縦断面図である。

【図１０】基板搬送ユニットの主要部の縦断面図であ
る。

【図１１】図１の基板処理装置の保守時の動作を示す部
分縦断面図である。

【図１２】図１の基板処理装置の保守時の動作を示す平
面図である。

【図１３】従来の基板処理装置の一例を示す平面図であ
る。

【符号の説明】

１ 基板処理ユニット ２ａ 搬入室 ２ｂ 搬出室 ３ 基板搬送ユニット １０ 本体部 １１ 処理室 １６，２２ａ，２２ｂ，３６ 開口部 １９ １／４円柱状空間 ２０ 円柱状空間 ３０ 搬送室 ３１ 搬送室支持アーム ３２ アーム駆動部 ３３ アーム支持部 ３４ 給気口 ３５ 排気口 ４０ａ，４０ｂ 基板収納室 ４１ａ，４１ｂ 基板出入口 ４２ａ，４２ｂ 雰囲気ガス供給口 ４３ａ，４３ｂ 排気口 ５０ 第１の円筒状支持部材 ５１ 第２の円筒状支持部材 ６０ａ，６０ｂ 水平移動機構部 ６１ 収納ボックス ６２ 基板保持部

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板に所定の処理を行う処理室と前記処
   理室内での処理動作を行うための駆動機構を内蔵する本
   体部とを有する複数の基板処理ユニット、および各基板
   処理ユニットの前記処理室に対して基板を搬入および搬
   出する基板搬送ユニットを備え、 各基板処理ユニットの前記処理室は、前記本体部上面の
   少なくとも外周部側の一部領域上に空間が形成されるよ
   うに本体部上に設けられ、 前記複数の基板処理ユニットは、前記一部領域上に形成
   された空間が合体するように配置され、 前記基板搬送ユニットは、前記複数の基板処理ユニット
   の前記本体部上の前記合体した空間に配設されたことを
   特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 前記基板搬送ユニットを鉛直方向に移動
   可能に、かつ前記複数の基板処理ユニットの前記本体部
   上の前記合体した空間の上方位置と前記複数の基板処理
   ユニットの外方位置との間で移動可能に上方から前記基
   板搬送ユニットを支持する支持手段をさらに備えたこと
   を特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
3. 【請求項３】 前記基板搬送ユニットは、 基板を保持する基板保持部と、 前記基板保持部を鉛直方向および水平方向に移動可能
   に、かつ鉛直方向の軸の周りで回動可能に支持する支持
   機構と、 前記基板保持部が通過可能な開口部を有しかつ前記基板
   保持部および前記支持機構を取り囲む搬送室とを備えた
   ことを特徴とする請求項１または２記載の基板処理装
   置。
4. 【請求項４】 前記基板搬送ユニットは、前記搬送室内
   で前記基板保持部を取り囲みかつ前記基板保持部が通過
   可能な基板出入口を有する基板収納室をさらに備えたこ
   とを特徴とする請求項３記載の基板処理装置。
5. 【請求項５】 前記支持機構は、 前記基板収納室内に設けられかつ前記基板保持部を前記
   基板出入口を通して水平方向に移動させる第１の駆動手
   段と、 前記基板収納室を鉛直方向に移動させるとともに鉛直方
   向の軸の周りで回動させる第２の駆動手段とを含むこと
   を特徴とする請求項４記載の基板処理装置。
6. 【請求項６】 前記基板搬送ユニットは、 前記基板収納室内に雰囲気ガスを供給する給気経路と、 前記基板収納室内の雰囲気ガスを排出する排気経路とを
   さらに備えたことを特徴とする請求項４または５記載の
   基板処理装置。
7. 【請求項７】 前記基板搬送ユニットの前記搬送室は鉛
   直方向の軸を中心とする円筒状の外周面を有し、各基板
   処理ユニットの前記処理室は前記搬送室の前記円筒状の
   外周面に接する部分円筒状の側面を有し、前記部分円筒
   状の側面には前記基板保持部が通過可能な開口部が設け
   られ、前記搬送室は鉛直方向の軸の周りで回動可能に設
   けられたことを特徴とする請求項３〜６のいずれかに記
   載の基板処理装置。