JPH10251836A - Ｐｔ被覆シート及びその製造方法 - Google Patents
Ｐｔ被覆シート及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH10251836A JPH10251836A JP9058841A JP5884197A JPH10251836A JP H10251836 A JPH10251836 A JP H10251836A JP 9058841 A JP9058841 A JP 9058841A JP 5884197 A JP5884197 A JP 5884197A JP H10251836 A JPH10251836 A JP H10251836A
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- JP
- Japan
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- sheet
- coated
- coated sheet
- sputtering
- organic polymer
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- Pending
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- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 Ｐｔ（１１１）面への配向が高く、Ｐｔと素
材との密着も高く、任意の形状への加工も容易でＡＳＴ
Ｍ、ＡＦＭ等の試料台として最適なＰｔ被覆シートを提
供する。 【構成】 素材シート上にＰｔのスパッタリング被覆が
施され、該スパッタリング膜面の70％以上がＰｔ（１１
１）面であるＰｔ被覆シート。素材シートとしては有機
高分子シート、Ａｌ上にＮｉメッキされたシートが用い
られる。またＰｔスパッタリング被覆の厚さは 100Å乃
至10,000Åである。
材との密着も高く、任意の形状への加工も容易でＡＳＴ
Ｍ、ＡＦＭ等の試料台として最適なＰｔ被覆シートを提
供する。 【構成】 素材シート上にＰｔのスパッタリング被覆が
施され、該スパッタリング膜面の70％以上がＰｔ（１１
１）面であるＰｔ被覆シート。素材シートとしては有機
高分子シート、Ａｌ上にＮｉメッキされたシートが用い
られる。またＰｔスパッタリング被覆の厚さは 100Å乃
至10,000Åである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は走査型トンネル分析
顕微鏡（ＡＳＴＭ）、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）、原子
間磁気用顕微鏡（ＡＳＲ）、電界イオン顕微鏡（ＦＩ
Ｍ）、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）等の高倍率顕微鏡を
使用するとき、試料台や試料電極として用いられるＡｕ
被覆シートに関する。
顕微鏡（ＡＳＴＭ）、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）、原子
間磁気用顕微鏡（ＡＳＲ）、電界イオン顕微鏡（ＦＩ
Ｍ）、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）等の高倍率顕微鏡を
使用するとき、試料台や試料電極として用いられるＡｕ
被覆シートに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、走査型トンネル分析顕微鏡（ＡＳ
ＴＭ）、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）、原子間磁気用顕微
鏡（ＡＳＲ）、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）、電界イオ
ン顕微鏡（ＦＩＭ）等の高倍率顕微鏡が一般的に用いら
れるようになり、表面分析技術の発展に大きく貢献して
いる。
ＴＭ）、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）、原子間磁気用顕微
鏡（ＡＳＲ）、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）、電界イオ
ン顕微鏡（ＦＩＭ）等の高倍率顕微鏡が一般的に用いら
れるようになり、表面分析技術の発展に大きく貢献して
いる。
【０００３】ところでこのような高倍率顕微鏡を用いて
観察を行う場合、観察試料を載せる試料台、試料電極に
もきびしい条件が要求される。すなわち、上記のような
顕微鏡では試料より戻ってくる情報を感知しそれにより
試料を観察するが、このとき試料よりの情報とともに試
料台より戻ってくる情報も同時に存在するため、この試
料台よりの情報を判別し、区別する必要がある。このよ
うな要求にこたえるための条件として試料台面に高い割
合で（１１１）面が存在すること、試料台面の粗さ（高
低差）が20nm以下であること等が必要とされている。こ
のような条件を満たすことにより試料台面からの情報を
特定することができ、試料からの情報のみを識別するこ
とが可能となる。
観察を行う場合、観察試料を載せる試料台、試料電極に
もきびしい条件が要求される。すなわち、上記のような
顕微鏡では試料より戻ってくる情報を感知しそれにより
試料を観察するが、このとき試料よりの情報とともに試
料台より戻ってくる情報も同時に存在するため、この試
料台よりの情報を判別し、区別する必要がある。このよ
うな要求にこたえるための条件として試料台面に高い割
合で（１１１）面が存在すること、試料台面の粗さ（高
低差）が20nm以下であること等が必要とされている。こ
のような条件を満たすことにより試料台面からの情報を
特定することができ、試料からの情報のみを識別するこ
とが可能となる。
【０００４】従来このような条件を満たす試料台として
は、雲母のシート上にＡｕを蒸着させたシートが用いら
れた。雲母のシートを一定条件でアニールした後、 600
℃近辺でＡｕの蒸着を行い、その後 100℃近辺で２〜３
時間冷却、さらに大気中 500℃〜 600℃で５時間程アニ
ールを行い純水にて急冷してエピタキシャル成長したＡ
ｕ（１１１）面を得るという方法がとられている。
は、雲母のシート上にＡｕを蒸着させたシートが用いら
れた。雲母のシートを一定条件でアニールした後、 600
℃近辺でＡｕの蒸着を行い、その後 100℃近辺で２〜３
時間冷却、さらに大気中 500℃〜 600℃で５時間程アニ
ールを行い純水にて急冷してエピタキシャル成長したＡ
ｕ（１１１）面を得るという方法がとられている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】このようなＡｕ被覆し
た雲母シートが試料台として用いられているのは、従来
雲母上でないとＡｕ（１１１）面が出ないといわれてい
たためであるが、Ａｕの蒸着膜はそのままではＡｕ（１
１１）面とはならず、上記のような工程を経て初めてＡ
ｕ（１１１）面となるため、工程が煩雑であった。また
得られる試料台は素材である雲母の性質から硬くてもろ
く、使用時に希望する形状に加工するのが非常に困難で
あった。さらに雲母上の蒸着膜は密着性が悪く信頼性に
欠けるものであった。
た雲母シートが試料台として用いられているのは、従来
雲母上でないとＡｕ（１１１）面が出ないといわれてい
たためであるが、Ａｕの蒸着膜はそのままではＡｕ（１
１１）面とはならず、上記のような工程を経て初めてＡ
ｕ（１１１）面となるため、工程が煩雑であった。また
得られる試料台は素材である雲母の性質から硬くてもろ
く、使用時に希望する形状に加工するのが非常に困難で
あった。さらに雲母上の蒸着膜は密着性が悪く信頼性に
欠けるものであった。
【０００６】また試料台表面の金属が酸化したり反応し
たりして酸化物や化合物となってしまった場合、金属そ
のものから戻ってくる情報とは違った情報が金属酸化物
や化合物より戻ってくるため、観察結果に悪影響を与え
てしまう。このような悪影響をさけるため、従来は表面
金属に酸化や反応しにくい金属としてＡｕを用いていた
が、Ａｕよりもさらに酸化や反応をしにくい金属で被覆
された試料台の出現も望まれていた。
たりして酸化物や化合物となってしまった場合、金属そ
のものから戻ってくる情報とは違った情報が金属酸化物
や化合物より戻ってくるため、観察結果に悪影響を与え
てしまう。このような悪影響をさけるため、従来は表面
金属に酸化や反応しにくい金属としてＡｕを用いていた
が、Ａｕよりもさらに酸化や反応をしにくい金属で被覆
された試料台の出現も望まれていた。
【０００７】本発明はこのような従来の試料台に置き替
えることができ、さらに使用時に希望する形状に容易に
加工でき、また被覆の密着力が強く信頼性に富んだ試料
台となる金属被覆シートを提供することを目的とする。
さらにこのような金属の被覆シートを短い工程で歩留ま
りよく、容易に製造することのできる製造方法を提供す
る。
えることができ、さらに使用時に希望する形状に容易に
加工でき、また被覆の密着力が強く信頼性に富んだ試料
台となる金属被覆シートを提供することを目的とする。
さらにこのような金属の被覆シートを短い工程で歩留ま
りよく、容易に製造することのできる製造方法を提供す
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明のＰｔ被覆シート
は素材シート表面上にＰｔのスパッタリング膜が施さ
れ、かつ該スパッタリング膜面の70％以上がＰｔ（１１
１）面であることを特徴とするものである。上記の素材
シートとしては有機高分子シート、Ａｌ上にＮｉメッキ
されたシート等が用いられ、有機高分子シートとしては
特にポリエステル、ポリメチルメタアクリレート、ポリ
カーボネート、ポリイミド等が用いられる。Ｐｔのスパ
ッタリング膜の膜厚は 100Å乃至10,000Åであることが
望ましく、さらに最終的な製品であるＡｕ被覆シートの
表面粗さ（高低差）は20nm以下であることが必要とされ
る。
は素材シート表面上にＰｔのスパッタリング膜が施さ
れ、かつ該スパッタリング膜面の70％以上がＰｔ（１１
１）面であることを特徴とするものである。上記の素材
シートとしては有機高分子シート、Ａｌ上にＮｉメッキ
されたシート等が用いられ、有機高分子シートとしては
特にポリエステル、ポリメチルメタアクリレート、ポリ
カーボネート、ポリイミド等が用いられる。Ｐｔのスパ
ッタリング膜の膜厚は 100Å乃至10,000Åであることが
望ましく、さらに最終的な製品であるＡｕ被覆シートの
表面粗さ（高低差）は20nm以下であることが必要とされ
る。
【０００９】さらに本発明のＰｔ被覆シートは、素材シ
ートがＡｌ上にＮｉメッキされたものの場合、最終的に
使用する形状に応じたＶ溝が加工されているものであ
る。
ートがＡｌ上にＮｉメッキされたものの場合、最終的に
使用する形状に応じたＶ溝が加工されているものであ
る。
【００１０】また本発明のＰｔ被覆シートの製造方法は
上記のような素材を洗浄後スパッタリングによりＰｔ被
覆を 100Å乃至10,000Å施すものである。さらに本発明
のＰｔ被覆シートの製造方法は、素材シートがＡｌ上に
Ｎｉメッキされたものの場合、予め素材シートに、最終
的に使用する形状に応じたＶ溝を加工しておくことを特
徴とするものである。
上記のような素材を洗浄後スパッタリングによりＰｔ被
覆を 100Å乃至10,000Å施すものである。さらに本発明
のＰｔ被覆シートの製造方法は、素材シートがＡｌ上に
Ｎｉメッキされたものの場合、予め素材シートに、最終
的に使用する形状に応じたＶ溝を加工しておくことを特
徴とするものである。
【００１１】上記のように本発明のＰｔ被覆シートは素
材シート上にＰｔスパッタリング被覆が施されており、
該スパッタリング膜面の70％以上がＰｔ（１１１）面と
なっているため高倍率顕微鏡の試料台等として用いた場
合、試料台よりの反射情報を特定でき、試料よりの反射
情報と識別することが可能となる。特にＰｔはＡｕより
さらに酸化やその他の反応を起こしにくく、さらに高精
度な観察が可能となる。特にハロゲン化合物の水溶液中
で用いる場合、Ｐｔは非常に安定性があり有効である。
配向性はＰｔ（１１１）面が70％以上あれば一応実用と
なるが、望ましくは80％以上、さらに望ましくは85％以
上ある方が良く、配向性が高くなればなるほど、より高
精度の観察結果が得られる。
材シート上にＰｔスパッタリング被覆が施されており、
該スパッタリング膜面の70％以上がＰｔ（１１１）面と
なっているため高倍率顕微鏡の試料台等として用いた場
合、試料台よりの反射情報を特定でき、試料よりの反射
情報と識別することが可能となる。特にＰｔはＡｕより
さらに酸化やその他の反応を起こしにくく、さらに高精
度な観察が可能となる。特にハロゲン化合物の水溶液中
で用いる場合、Ｐｔは非常に安定性があり有効である。
配向性はＰｔ（１１１）面が70％以上あれば一応実用と
なるが、望ましくは80％以上、さらに望ましくは85％以
上ある方が良く、配向性が高くなればなるほど、より高
精度の観察結果が得られる。
【００１２】本発明のＰｔ被覆シートの素材シートとし
ては有機高分子シート、Ａｌ上にＮｉメッキされたシー
ト等が用いられるが、有機高分子シートが素材の場合、
製品を大きなシートとして供給し、使用者が使用の都度
任意の形状に鋏等で切断することが出来便利である。有
機高分子シートとしては、得られる表面の平坦度、シー
トの強度、耐熱性などにより選択すれば良いが、一般的
に得られるものとしてはポリエステル、ポリメチルメタ
アクリレート、ポリカーボネート、ポリイミド等が使い
易い。
ては有機高分子シート、Ａｌ上にＮｉメッキされたシー
ト等が用いられるが、有機高分子シートが素材の場合、
製品を大きなシートとして供給し、使用者が使用の都度
任意の形状に鋏等で切断することが出来便利である。有
機高分子シートとしては、得られる表面の平坦度、シー
トの強度、耐熱性などにより選択すれば良いが、一般的
に得られるものとしてはポリエステル、ポリメチルメタ
アクリレート、ポリカーボネート、ポリイミド等が使い
易い。
【００１３】また素材シートが有機高分子シートの場
合、耐薬品性も高くなり、さらに応用用途が広がる。
合、耐薬品性も高くなり、さらに応用用途が広がる。
【００１４】スパッタリング膜の膜厚が 100Å未満の場
合希望する配向性が得られず好ましくない。また10,000
Åを越えて膜厚を増やしていっても得られる効果に変わ
りはなく、高価なＰｔがムダとなってしまう。
合希望する配向性が得られず好ましくない。また10,000
Åを越えて膜厚を増やしていっても得られる効果に変わ
りはなく、高価なＰｔがムダとなってしまう。
【００１５】製品表面の粗さ（高低差）は前述の通り反
射情報に一定の方向性を持たせるため20nm以下であるこ
とが必要であるが、さらには13nm以下であることが望ま
しい。
射情報に一定の方向性を持たせるため20nm以下であるこ
とが必要であるが、さらには13nm以下であることが望ま
しい。
【００１６】本発明のＰｔ被覆シートで素材シートがＡ
ｌ上にＮｉメッキされたものの場合、Ｐｔ被覆シート自
体が導電性を持つため、ＡＳＴＭの場合などのように電
気を流す必要があるものでも試料台がそのまま電極とな
り、試料への電気的接続用のリードの設置が不要とな
る。また前述のように試料台は高度な平坦性が必要とさ
れるが、金属の中でもＡｌ上にＮｉメッキされたシート
は研磨することにより容易に平坦面が得られ、13nm以下
の表面粗さが可能となる。Ａｌ上のＮｉメッキの厚みは
２μｍから 100μｍ程度が好ましい。Ｎｉメッキにより
表面硬度と研磨時の鏡面が得られるが、２μｍ未満では
Ｎｉメッキの効果が少なく、 100μｍを超えると時間ば
かりかかり、効果の向上が期待できない。そのような点
からさらに好ましい範囲は５μｍから20μｍ程度であ
る。さらに用いるＡｌ−Ｎｉシートに予め使用時の形状
に応じたＶ溝を加工しておくことにより、使用時に折っ
て希望する形状にすることが可能となる。
ｌ上にＮｉメッキされたものの場合、Ｐｔ被覆シート自
体が導電性を持つため、ＡＳＴＭの場合などのように電
気を流す必要があるものでも試料台がそのまま電極とな
り、試料への電気的接続用のリードの設置が不要とな
る。また前述のように試料台は高度な平坦性が必要とさ
れるが、金属の中でもＡｌ上にＮｉメッキされたシート
は研磨することにより容易に平坦面が得られ、13nm以下
の表面粗さが可能となる。Ａｌ上のＮｉメッキの厚みは
２μｍから 100μｍ程度が好ましい。Ｎｉメッキにより
表面硬度と研磨時の鏡面が得られるが、２μｍ未満では
Ｎｉメッキの効果が少なく、 100μｍを超えると時間ば
かりかかり、効果の向上が期待できない。そのような点
からさらに好ましい範囲は５μｍから20μｍ程度であ
る。さらに用いるＡｌ−Ｎｉシートに予め使用時の形状
に応じたＶ溝を加工しておくことにより、使用時に折っ
て希望する形状にすることが可能となる。
【００１７】
【発明の実施の形態】本発明の素材シートとしては有機
高分子シート、Ａｌ上にＮｉメッキされたシートが用い
られる。表面の平坦性が望まれるため、有機高分子シー
トの場合はシート作成時に表面が平坦になるように特に
注意を払って製造したものを用いる。またＡｌ上にＮｉ
メッキされたシートの場合、Ａｌ上にＮｉメッキをした
後さらに研磨して用いる。研磨の方法としてはバフ研
磨、電解研磨、などの方法がある。
高分子シート、Ａｌ上にＮｉメッキされたシートが用い
られる。表面の平坦性が望まれるため、有機高分子シー
トの場合はシート作成時に表面が平坦になるように特に
注意を払って製造したものを用いる。またＡｌ上にＮｉ
メッキされたシートの場合、Ａｌ上にＮｉメッキをした
後さらに研磨して用いる。研磨の方法としてはバフ研
磨、電解研磨、などの方法がある。
【００１８】上記のシートはＰｔのスパッタリング前に
スパッタリング被覆の密着性を確保するため、洗浄が施
される。洗浄方法は素材を侵さないものなら何でも良い
が、一般的なものとして超音波アルカリ洗浄などがあ
る。
スパッタリング被覆の密着性を確保するため、洗浄が施
される。洗浄方法は素材を侵さないものなら何でも良い
が、一般的なものとして超音波アルカリ洗浄などがあ
る。
【００１９】上記洗浄した素材シートにＰｔのスパッタ
リングが施される。出力とスパッタリング時間は希望す
る膜厚などにより適宜調節すれば良いが、概ね出力 100
Ｗ〜1500Ｗ、時間１分〜３分程度が用いられる。
リングが施される。出力とスパッタリング時間は希望す
る膜厚などにより適宜調節すれば良いが、概ね出力 100
Ｗ〜1500Ｗ、時間１分〜３分程度が用いられる。
【００２０】
【実施例１】ポリエステルシート上にＰｔのスパッタリ
ングを行った。素材シートとしては100mm× 100mm× 0.
1mmt の大きさのポリエステルシートで特に表面が平坦
なものを用いた。アルカリ洗浄液を用いて卓上超音波洗
浄器により60℃にて超音波洗浄を行った。その後よく水
洗し乾燥させた後、マグネトロンスパッタリング及びア
ルゴンスパッタリングの２種の方法によりＰｔをスパッ
タリングした。このときの真空度は５×10-3Torr以上で
あった。膜厚は 200Åと1000Åとし、それぞれの条件は
ＤＣ出力 200Ｗ、時間１分17秒及びＤＣ出力１ＫＷ時間
１分17秒であった。
ングを行った。素材シートとしては100mm× 100mm× 0.
1mmt の大きさのポリエステルシートで特に表面が平坦
なものを用いた。アルカリ洗浄液を用いて卓上超音波洗
浄器により60℃にて超音波洗浄を行った。その後よく水
洗し乾燥させた後、マグネトロンスパッタリング及びア
ルゴンスパッタリングの２種の方法によりＰｔをスパッ
タリングした。このときの真空度は５×10-3Torr以上で
あった。膜厚は 200Åと1000Åとし、それぞれの条件は
ＤＣ出力 200Ｗ、時間１分17秒及びＤＣ出力１ＫＷ時間
１分17秒であった。
【００２１】このようにして得られたＰｔ被覆シートの
各種特性等は表１の比較表のようになった。特に得られ
たＰｔ被覆シートは切断加工性が良いこと、すなわち鋏
で任意の形状に加工できる点で優れていた。
各種特性等は表１の比較表のようになった。特に得られ
たＰｔ被覆シートは切断加工性が良いこと、すなわち鋏
で任意の形状に加工できる点で優れていた。
【００２２】
【実施例２】100mm× 100mm× 0.8mmt のＡｌシート上
に通常の方法によりＮｉメッキを11μｍ施した。その後
シートをバフ研磨により研磨し、10mmの間隔の格子状に
深さ0.7mmのＶ溝を加工した。その後実施例１と同様に
洗浄、Ｐｔスパッタリングを行い、Ｐｔ被覆シートを得
た。
に通常の方法によりＮｉメッキを11μｍ施した。その後
シートをバフ研磨により研磨し、10mmの間隔の格子状に
深さ0.7mmのＶ溝を加工した。その後実施例１と同様に
洗浄、Ｐｔスパッタリングを行い、Ｐｔ被覆シートを得
た。
【００２３】このようにして得られたＰｔ被覆シートの
各種特性は表１の比較表のようになった。切断加工性の
点では、Ｖ溝を加工しておいたため、溝に沿って折れる
事より10mm角の試料台が得られた。
各種特性は表１の比較表のようになった。切断加工性の
点では、Ｖ溝を加工しておいたため、溝に沿って折れる
事より10mm角の試料台が得られた。
【００２４】
【従来例】10mm×10mm×0.15mmt の雲母シートを実施例
と同様に洗浄し 580℃にて40分間アニールした後、Ａｕ
の真空蒸着を行った。真空度１×10-6Torrにて 580℃で
５分間蒸着をおこない1000Åの蒸着膜をつけた。その後
100℃にて３時間冷却し、550℃の大気電気炉にて５時
間アニールした後純水で急冷してＡｕ（１１１）面をエ
ピタキシャル成長させた。
と同様に洗浄し 580℃にて40分間アニールした後、Ａｕ
の真空蒸着を行った。真空度１×10-6Torrにて 580℃で
５分間蒸着をおこない1000Åの蒸着膜をつけた。その後
100℃にて３時間冷却し、550℃の大気電気炉にて５時
間アニールした後純水で急冷してＡｕ（１１１）面をエ
ピタキシャル成長させた。
【００２５】このようにして得られた、Ａｕを蒸着した
雲母シートの各種特性は表１の比較表のようになった。
雲母シートの各種特性は表１の比較表のようになった。
【００２６】なお表１の各種特性の調査において、配向
性はＸ線回折により、密着度は粘着テープによるピール
テスト、曲げ加工性は90°曲げたときの変化、平坦度は
ＡＦＭによる測定、耐薬品性は30％の硫酸に浸漬したと
きの変化によりそれぞれ調査した。
性はＸ線回折により、密着度は粘着テープによるピール
テスト、曲げ加工性は90°曲げたときの変化、平坦度は
ＡＦＭによる測定、耐薬品性は30％の硫酸に浸漬したと
きの変化によりそれぞれ調査した。
【００２７】
【表１】
【００２８】
【発明の効果】以上のように本発明のＰｔ被覆シートは
ＡＳＴＭ、ＡＦＭ等の試料台として用いたとき、Ｐｔ
（１１１）面への配向性が高く、またＰｔ被覆の密着性
が高いため高信頼性の試料台となる。また特に素材シー
トとして有機高分子シートを用いたとき鋏などで任意の
形状に切断でき、耐薬品性も大きく使いかっての良いも
のとなる。さらに本発明のＰｔ被覆シートの製造方法に
よれば、上記のようなＰｔ被覆シートが短時間で効率良
く製造でき、生産性の向上に大きく寄与するものであ
る。
ＡＳＴＭ、ＡＦＭ等の試料台として用いたとき、Ｐｔ
（１１１）面への配向性が高く、またＰｔ被覆の密着性
が高いため高信頼性の試料台となる。また特に素材シー
トとして有機高分子シートを用いたとき鋏などで任意の
形状に切断でき、耐薬品性も大きく使いかっての良いも
のとなる。さらに本発明のＰｔ被覆シートの製造方法に
よれば、上記のようなＰｔ被覆シートが短時間で効率良
く製造でき、生産性の向上に大きく寄与するものであ
る。
Claims (9)
- 【請求項１】 素材シート表面上にＰｔのスパッタリン
グ膜が施され、かつ該Ｐｔスパッタリング膜面の70％以
上がＰｔ（１１１）面であることを特徴とするＰｔ被覆
シート。 - 【請求項２】 上記素材シートが有機高分子シート又は
Ａｌ上にＮｉメッキされたシートのいずれかであること
を特徴とする請求項１記載のＰｔ被覆シート。 - 【請求項３】 上記素材シートの有機高分子シートがポ
リエステル、ポリメチルメタアクリレート、ポリカーボ
ネート又はポリイミドのいずれかのシートであることを
特徴とする請求項２記載のＰｔ被覆シート。 - 【請求項４】 上記素材シートがＡｌ上にＮｉメッキさ
れたシートであり、該シート上には使用する形状に応じ
たＶ溝が加工されていることを特徴とする請求項２記載
のＰｔ被覆シート。 - 【請求項５】 上記Ｐｔのスパッタリング膜の膜厚が 1
00Å乃至10,000Åであることを特徴とする請求項１、
２、３又は４のいずれかに記載のＡｕ被覆シート。 - 【請求項６】 上記Ｐｔ被覆シートの表面粗さが20nm以
下であることを特徴とする請求項１、２、３、４又は５
のいずれかに記載のＰｔ被覆シート。 - 【請求項７】 有機高分子シートの表面を洗浄した後、
スパッタリングにより該シートの表面にＰｔ被覆を 100
Å乃至10,000Å施すことを特徴とするＰｔ被覆シートの
製造方法。 - 【請求項８】 上記有機高分子シートがポリエステル、
ポリメチルメタアクリレート、ポリカーボネート又はポ
リイミドのいずれかのシートであることを特徴とする請
求項７記載のＰｔ被覆シートの製造方法。 - 【請求項９】 Ａｌ上にＮｉメッキをしたシートの表面
を研磨した後使用時の形状に応じたＶ溝を加工し、洗浄
後スパッタリングによりＰｔ被覆を 100Å乃至10,000Å
施すことを特徴とするＰｔ被覆シートの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9058841A JPH10251836A (ja) | 1997-03-13 | 1997-03-13 | Ｐｔ被覆シート及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9058841A JPH10251836A (ja) | 1997-03-13 | 1997-03-13 | Ｐｔ被覆シート及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10251836A true JPH10251836A (ja) | 1998-09-22 |
Family
ID=13095886
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9058841A Pending JPH10251836A (ja) | 1997-03-13 | 1997-03-13 | Ｐｔ被覆シート及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10251836A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007291529A (ja) * | 2001-03-13 | 2007-11-08 | Kiyousera Opt Kk | 金属膜被覆部材およびその製造方法 |
Citations (4)
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|---|---|---|---|---|
| JPH04218761A (ja) * | 1990-10-12 | 1992-08-10 | Osaka Prefecture | 電気化学式弗化水素検出器用作用極 |
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-
1997
- 1997-03-13 JP JP9058841A patent/JPH10251836A/ja active Pending
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