JPH1025263A - フラバノン及びそのカルバ誘導体 - Google Patents

フラバノン及びそのカルバ誘導体

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JPH1025263A
JPH1025263A JP9029356A JP2935697A JPH1025263A JP H1025263 A JPH1025263 A JP H1025263A JP 9029356 A JP9029356 A JP 9029356A JP 2935697 A JP2935697 A JP 2935697A JP H1025263 A JPH1025263 A JP H1025263A
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JP
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methyl
solvent
dihydro
hydroxyphenyl
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JP9029356A
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English (en)
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Katsumi Fujimoto
克巳 藤本
Yuji Iwano
雄次 岩野
Natsuki Tanaka
夏樹 田中
Isamu Mikoshiba
勇 御子芝
Yasuteru Iijima
康輝 飯島
Motohiko Taki
基彦 瀧
Shoichi Saito
昭一 齋藤
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Sankyo Co Ltd
Original Assignee
Sankyo Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】優れた組織選択的エストロゲン様作用を有し、
副作用が軽減された、新規なフラバノン及びそのカルバ
誘導体 【解決手段】下記の化合物、その薬理上許容される塩又
はそのエステル 【化１】 Ｒ1 ：ＯＨ、ＣＯＯＨ、置換可ＣＯＮＨ、アミン残基；
Ｒ2 ：Ｈ、ＯＨ、ハロゲン；Ｒ3 ：Ｈ、アルキル；Ｒ
4 、Ｒ6 ：Ｈ、ＯＨ；Ｒ5 ：Ｈ、アルキル、ＯＨ；Ａ：
Ｏ、置換可ＮＨ、ＯＣＯ、ＣＯＮＨ；Ｅ：Ｏ、Ｓ、ＣＨ
2 ；Ｇ：Ｏ、Ｓ、２Ｈ；Ｊ：ＣＯ、置換可アルキレン、
置換可アルケニレン；ｎ：１−２０。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、優れた、特異的エ
ストロゲンリセプター結合能を有する新規なフラバノン
及びそのカルバ誘導体に関する。
【０００２】尚、エストロゲンリセプターに特異的に結
合することにより、子宮及び乳腺ではエストロゲンアン
タゴニスト作用を発揮し、骨組織では、エストロゲンア
ゴニスト活性を発揮する。
【０００３】
【従来の技術】エストロゲンは女性ホルモンの一種であ
り、発情作用を示すホルモンおよび類似の作用を持つ物
質の総称である。天然に存在するエストロゲンとして
は、ステロイド系のエストロゲンである、エストラジオ
ール、エストロン、エストリオール、エキリン、ホモエ
ストロン及びエチニルエストラジオールが知られている
が、この中で、エストラジオールが主要なヒトエストロ
ゲンとして知られている。一方、合成で得られる、非ス
テロイド系のエストロゲンとしては、例えばジエチルス
チルベステロールやヘキセストロール等が知られてい
る。これらのエストロゲン類のうち、ステロイド系エス
トロゲンは、例えば、エストロゲンの減少に起因する無
月経、無排卵周期症、機能性子宮出血、子宮発育不全な
どを適応症とする医薬として用いられており、更に、更
年期障害の治療や乳汁分泌抑制等にも用いられており、
非ステロイド系エストロゲンは、主として前立腺癌及び
前立腺肥大症等の治療薬として使用されている。しかし
ながら、現在使用されているエストロゲン剤は、何れ
も、胃腸障害、血栓症、子宮出血、肝障害等の副作用を
有するという問題があり、長期投与すると、子宮癌や乳
癌等が発現する場合があることが知られている。特に、
女性は、閉経後エストロゲンが急激に減少するために、
更年期障害、骨量の急激な減少が起こることが知られて
おり、この治療には、エストロゲンの補充療法が行われ
ているゆえ、上記の副作用が問題となっている。そこ
で、エストロゲンアンタゴニストについては、乳癌治療
薬として盛んに研究が行われ、タモキシフェン、ラロキ
シフェン等が開発され、これらは、乳腺及び子宮ではエ
ストロゲンアンタゴニストとして作用するが、骨ではエ
ストロゲンアゴニストとして作用するので、上記副作用
を軽減した良好な骨粗鬆症薬になるものと考えられてい
る。しかしながら、フラバノン及びそのカルバ誘導体で
このような活性を示すものは、現在まで知られていな
い。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、優れた
組織選択的エストロゲン様作用を有する誘導体の合成と
その薬理活性について永年に亘り鋭意研究を行なった結
果、既知の化合物とは全く構造を異にする新規なフラバ
ノン及びそのカルバ誘導体が、優れた組織選択的エスト
ロゲン様作用（アゴニスト活性）を有し、従来のエスト
ロゲン剤が有する副作用が軽減されていることを見出
し、本発明を完成した。
【０００５】更に、本発明の他の目的は、上記化合物を
有効成分とする、エストロゲンの減少に起因する疾患
（例えば、無月経、無排卵周期症、機能性子宮出血、子
宮発育不全等）、更年期障害、骨粗鬆症、前立腺癌、前
立腺肥大症及び高コレステロール症等の予防剤又は治療
剤を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の新規なフラバノ
ン及びそのカルバ誘導体は、一般式
【０００７】
【化２】
【０００８】（式中、Ｒ1 は、水酸基、カルボキシ基、
低級アルキル基で置換されていてもよいカルバモイル
基、又は、アミン残基を示し、Ｒ2 は、水素原子、水酸
基又はハロゲン原子を示し、Ｒ3 は、水素原子又は低級
アルキル基を示し、Ｒ4 及びＲ6 は、同一又は異なっ
て、水素原子又は水酸基を示し、Ｒ5 は、水素原子、低
級アルキル基又は水酸基を示し、Ａは、酸素原子、低級
アルキル基で置換されていてもよいイミノ基、オキシカ
ルボニル基又はカルバモイル基を示し、Ｅは、酸素原
子、硫黄原子又はメチレン基を示し、Ｇは、酸素原子、
硫黄原子又は２個の水素原子を示し、Ｊは、カルボニル
基又はカルボニル基を有していてもよい炭素数１乃至６
個のアルキレン基若しくは炭素数２乃至６個のアルケニ
レン基を示し、ｎは、１乃至２０の整数を表す。）で表
わされ、好適な化合物としては、 （１）Ｒ1 が、低級アルキル基で置換されていてもよい
カルバモイル基又はアミン残基である誘導体 （２）Ｒ1 が、アミン残基である誘導体 （３）Ｒ2 が、水酸基である誘導体 （４）Ｒ3 が、水素原子又はメチル基である誘導体 （５）Ｒ3 が、Ｒ2 に対して、オルト位に結合している
誘導体 （６）Ａが、酸素原子、低級アルキル基で置換されてい
てもよいイミノ基又はカルバモイル基である誘導体 （７）Ａが、酸素原子である誘導体 （８）Ｅが、メチレン基である誘導体 （９）Ｇが、酸素原子又は２個の水素原子である誘導体 （１０）Ｊが、メチレン基又はエチレン基である誘導体 （１１）ｎが、１乃至６の整数である誘導体 （１２）「そのエステル」の残基が、「低級アルキル
基」；「アルケニル基」；「アルキニル基」；「ハロゲ
ノ低級アルキル基」；ヒドロキシ「低級アルキル基」；
「脂肪族アシル」−「低級アルキル基」；「アラルキル
基」；「シリル基」；「アルコキシ低級アルキル基」：
「低級アルコキシ」カルボニル「低級アルキル基」；シ
アノ「低級アルキル基」；「低級アルキル」チオメチル
基；「アリール」チオメチル基；「低級アルキル」スル
ホニル「低級アルキル基」；「アリール」スルホニル
「低級アルキル基」；アシルオキシ「低級アルキル
基」；（アルコキシカルボニルオキシ）アルキル基；
「カルボニルオキシアルキル基」；「フタリジル基」；
「アリール基」；「カルボキシアルキル基」；又は；
「アミノ酸のアミド形成残基」である誘導体であり、更
に好適な化合物としては、以下で表される化合物、その
薬理上許容される塩又はそのエステルである。
【０００９】・７，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒド
ロキシフェニル）−５−〔４−（２−アゼパン−１−イ
ルエトキシ）フェニル〕メチル−３，４−ジヒドロ−２
Ｈ−ナフタレン−１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−〔４−（２−ピペリジノエトキシ）フェニ
ル〕メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１
−オン ・５−〔４−（２−アゼパン−１−イルエトキシ）フェ
ニル〕メチル−６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒド
ロキシフェニル）−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレ
ン−１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−〔４−（２−ヘプタメチレンイミン−１−イ
ルエトキシ）フェニル〕メチル−３，４−ジヒドロ−２
Ｈ−ナフタレン−１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−｛４−〔２−（３−メチルピペリジノ）エト
キシ〕フェニル｝メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナ
フタレン−１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−｛４−〔２−（２−メチルピペリジノ）エト
キシ〕フェニル｝メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナ
フタレン−１−オン ・５−｛４−〔２−（３−アザビシクロ［３，２，２］
ノナン−３−イル）エトキシ〕フェニル｝メチル−６，
８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニル）−
３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−｛４−〔２−（２，６−ジメチルピペリジ
ノ）エトキシ〕フェニル｝メチル−３，４−ジヒドロ−
２Ｈ−ナフタレン−１−オン ・５，７−ジヒドロキシ−８−〔４−（２−ピペリジノ
エトキシ）フェニル〕メチル−２−（４−ヒドロキシフ
ェニル）−クロマン−４−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−｛４−〔２−（４−メチルピペリジノ）エト
キシ〕フェニル｝メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナ
フタレン−１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−｛４−〔２−（３，３−ジメチルピペリジ
ノ）エトキシ〕フェニル｝メチル−３，４−ジヒドロ−
２Ｈ−ナフタレン−１−オン ・５−｛４−〔２−（１，３，３−トリメチル−６−ア
ザビシクロ［３．２．１］オクタン−６−イル）エトキ
シ〕フェニル｝メチル−６，８−ジヒドロキシ−３−
（４−ヒドロキシフェニル）−３，４−ジヒドロ−２Ｈ
−ナフタレン−１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−〔４−（３−ピペリジノプロポキシ）フェニ
ル〕メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１
−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−｛４−［２−（３，３，５−トリメチルヘプ
タメチレンイミノ) エトキシ] フェニル} メチル−３，
４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−｛４−［２−（４−メチルピペラジノ）エト
キシ] フェニル} メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナ
フタレン−１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−｛４−［２−（３，３−ジメチルピペラジ
ノ）エトキシ] フェニル} メチル−３，４−ジヒドロ−
２Ｈ−ナフタレン−１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−｛４−（３−ジメチルアミノプロポキシ）フ
ェニル} メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン
−１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−｛４−（４−ヘキサメチレンイミノブトキ
シ）フェニル} メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−｛４−（３−ヘキサメチレンイミノプロポキ
シ）フェニル} メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−｛４−（２−シクロヘキシルアミノエトキ
シ）フェニル} メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシ−３−
メチルフェニル）−５−｛４−（２−ヘキサメチレンイ
ミノエトキシ）フェニル} メチル−３，４−ジヒドロ−
２Ｈ−ナフタレン−１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−７−メチル−５−[ ４−（２−ピペリジニル）エ
トキシベンジル] −３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレ
ン−１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−｛２−［４−（２−ピペリジニルエトキシ）
フェニル］エチル｝−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタ
レン−１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−｛２−［４−２−ピペリジニルエトキシ）フ
ェニル］ビニル｝−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレ
ン−１−オン 本発明の新規な子宮又は乳腺癌の予防剤又は治療剤は、
上記より選択される化合物、その薬理上許容される塩又
はそのエステルを有効成分として含有し、本発明の新規
なエストロゲンの減少に起因する疾患の予防剤又は治療
剤は、上記より選択される化合物、その薬理上許容され
る塩又はそのエステルを有効成分として含有し、本発明
の新規な骨粗鬆症の予防剤又は治療剤は、上記より選択
される化合物、その薬理上許容される塩又はそのエステ
ルを有効成分として含有し、本発明の新規なコレステロ
−ル低下剤は、上記より選択される化合物、その薬理上
許容される塩又はそのエステルを有効成分として含有す
る。
【００１０】上記一般式（Ｉ）において、Ｒ1 の定義に
おける「低級アルキル基で置換されていてもよいカルバ
モイル基」の「低級アルキル基」、Ｒ3 及びＲ5 の定義
における「低級アルキル基」並びにＡの定義における
「低級アルキル基で置換されていてもよいイミノ基」の
「低級アルキル基」とは、例えば、メチル、エチル、ｎ
−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、
ｓ−ブチル、tert−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチ
ル、２−メチルブチル、ネオペンチル、１−エチルプロ
ピル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、４−メチルペンチ
ル、３−メチルペンチル、２−メチルペンチル、１−メ
チルペンチル、３，３−ジメチルブチル、２，２−ジメ
チルブチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチ
ルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，３−ジメチル
ブチル、２−エチルブチルのような炭素数１乃至６個の
直鎖又は分枝鎖アルキル基を示し、好適には炭素数１乃
至４個の直鎖又は分枝鎖アルキル基である。
【００１１】Ｒ1 の定義における「アミン残基」とは、
ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、
ジイソプロピルアミノ、ジブチルアミノのような上記
「低級アルキル」が置換したアミノ基；１−アジリジニ
ル、１−アゼチジニル、１−ピロリジニル、１−ピペリ
ジニル、１−ピペラジニル、１−モルホリニル、１−チ
オモルホリニル、１−ペルヒドロアゼピニル、１−ペル
ヒドロアゾシニル、１−ペルヒドロアゾニニル、１−ペ
ルヒドロアゼシニルのような３乃至１５員の環状アミノ
基；又は２−アザビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２
−イル、３−アザビシクロ［２．２．１］ヘプタン−３
−イル、７−アザビシクロ［２．２．１］ヘプタン−７
−イル、２−アザビシクロ［２．２．２］オクタン−２
−イル、６−アザビシクロ［３．２．１］オクタン−６
−イル、２−アザビシクロ［３．２．２］ノナン−２−
イル、３−アザビシクロ［３．２．２］ノナン−３−イ
ル、６−アザビシクロ［３．２．２］ノナン−６−イル
のようなビシクロ環状アミノ基を示し、上記環状アミノ
基の場合には、その環上に「低級アルキル基」又は「ア
ラルキル基」が置換していてもよい。
【００１２】斯かる「アラルキル基」とは、例えば、ベ
ンジル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、イ
ンデニルメチル、フェナンスレニルメチル、アントラセ
ニルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、
１−フェネチル、２−フェネチル、１−ナフチルエチ
ル、２−ナフチルエチル、１−フェニルプロピル、２−
フェニルプロピル、３−フェニルプロピル、１−ナフチ
ルプロピル、２−ナフチルプロピル、３−ナフチルプロ
ピル、１−フェニルブチル、２−フェニルブチル、３−
フェニルブチル、４−フェニルブチル、１−ナフチルブ
チル、２−ナフチルブチル、３−ナフチルブチル、４−
ナフチルブチル、１−フェニルペンチル、２−フェニル
ペンチル、３−フェニルペンチル、４−フェニルペンチ
ル、５−フェニルペンチル、１−ナフチルペンチル、２
−ナフチルペンチル、３−ナフチルペンチル、４−ナフ
チルペンチル、５−ナフチルペンチル、１−フェニルヘ
キシル、２−フェニルヘキシル、３−フェニルヘキシ
ル、４−フェニルヘキシル、５−フェニルヘキシル、６
−フェニルヘキシル、１−ナフチルヘキシル、２−ナフ
チルヘキシル、３−ナフチルヘキシル、４−ナフチルヘ
キシル、５−ナフチルヘキシル、６−ナフチルヘキシル
を挙げることができ、好適には、「低級アルキル基」部
分の炭素数が１乃至４個の「アラルキル基」であり、更
に好適には、ベンジル基である。
【００１３】Ｒ2 の定義における「ハロゲン原子」と
は、弗素原子、塩素原子、臭素原子又は沃素原子であ
り、好適には、弗素原子、塩素原子である。
【００１４】Ｊの定義における「カルボニル基を有して
いてもよい炭素数１乃至６個のアルキレン基若しくは炭
素数２乃至６個のアルケニレン基」の「炭素数１乃至６
個のアルキレン基」とは、例えば、メチレン、メチルメ
チレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、テトラ
メチレン、１−メチルトリメチレン、２−メチルトリメ
チレン、３−メチルトリメチレン、ペンタメチレン、ヘ
キサメチレンのような炭素数１乃至６個の直鎖又は分枝
鎖アルキレン基を挙げることができ、好適には、炭素数
１乃至４個の直鎖又は分枝鎖アルキレン基であり、更に
好適には、メチレン、エチレン、トリメチレン又はテト
ラメチレンである。
【００１５】Ｊの定義における「カルボニル基を有して
いてもよい炭素数１乃至６個のアルキレン基若しくは炭
素数２乃至６個のアルケニレン基」の「炭素数２乃至６
個のアルケニレン基」とは、例えば、エテニレン、２−
プロペニレン、１−メチル−２−プロペニレン、２−メ
チル−２−プロペニレン、２−エチル−２−プロペニレ
ン、２−ブテニレン、１−メチル−２−ブテニレン、２
−メチル−２−ブテニレン、１−エチル−２−ブテニレ
ン、３−ブテニレン、１−メチル−３−ブテニレン、２
−メチル−３−ブテニレン、１−エチル−３−ブテニレ
ン、２−ペンテニレン、１−メチル−２−ペンテニレ
ン、２−メチル−２−ペンテニレン、３−ペンテニレ
ン、１−メチル−３−ペンテニレン、２−メチル−３−
ペンテニレン、４−ペンテニレン、１−メチル−４−ペ
ンテニレン、２−メチル−４−ペンテニレン、２−ヘキ
セニレン、３−ヘキセニレン、４−ヘキセニレン、５−
ヘキセニレン、のような炭素数２乃至６個の直鎖又は分
枝鎖アルケニレン基を挙げることができ、好適には、２
−プロペニレン、３−ブテニレン、２−ペンテニレン、
３−ペンテニレン、４−ペンテニレン、２−ヘキセニレ
ン、４−ヘキセニレンである。
【００１６】「エストロゲンの減少に起因する疾患」と
は、例えば、無月経、無排卵周期症、機能性子宮出血、
子宮発育不全をいう。
【００１７】「その薬理上許容される塩」とは、本発明
の化合物（Ｉ）は、塩にすることができるので、その塩
をいい、そのような塩としては、好適にはナトリウム
塩、カリウム塩、リチウム塩のようなアルカリ金属塩、
カルシウム塩、マグネシウム塩のようなアルカリ土類金
属塩、アルミニウム塩、鉄塩、亜鉛塩、銅塩、ニッケル
塩、コバルト塩等の金属塩；アンモニウム塩のような無
機塩、tert−オクチルアミン塩、ジベンジルアミン塩、
モルホリン塩、グルコサミン塩、フェニルグリシンアル
キルエステル塩、エチレンジアミン塩、Ｎ−メチルグル
カミン塩、グアニジン塩、ジエチルアミン塩、トリエチ
ルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ’−ジ
ベンジルエチレンジアミン塩、クロロプロカイン塩、プ
ロカイン塩、ジエタノールアミン塩、Ｎ−ベンジル−フ
ェネチルアミン塩、ピペラジン塩、テトラメチルアンモ
ニウム塩、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン塩
のような有機塩等のアミン塩；弗化水素酸塩、塩酸塩、
臭化水素酸塩、沃化水素酸塩のようなハロゲン化水素酸
塩、硝酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸
塩；メタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン
酸塩、エタンスルホン酸塩のような低級アルカンスルホ
ン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン
酸塩のようなアリ−ルスルホン酸塩、酢酸、りんご酸、
フマ−ル酸塩、コハク酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、蓚
酸塩、マレイン酸塩等の有機酸塩；及び、グリシン塩、
リジン塩、アルギニン塩、オルニチン塩、グルタミン酸
塩、アスパラギン酸塩のようなアミノ酸塩を挙げること
ができる。
【００１８】又、本発明の化合物（Ｉ）は、大気中に放
置しておくことにより、水分を吸収し、吸着水が付いた
り、水和物となる場合があり、そのような塩も本発明に
包含される。
【００１９】「そのエステル」とは、本発明の化合物
（Ｉ）は、エステルにすることができるので、そのエス
テルをいい、そのようなエステルとしては、「水酸基の
エステル」と「カルボキシ基のエステル」を挙げること
ができ、各々のエステル残基が「一般的保護基」又は
「生体内で加水分解のような生物学的方法により開裂し
得る保護基」であるエステルをいう。
【００２０】「一般的保護基」とは、加水素分解、加水
分解、電気分解、光分解のような化学的方法により開裂
し得る保護基をいい、「水酸基のエステル」に斯かる
「一般的保護基」としては、例えば、ホルミル、アセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノ
イル、ピバロイル、バレリル、イソバレリル、オクタノ
イル、ノナノイル、デカノイル、３−メチルノナノイ
ル、８−メチルノナノイル、３−エチルオクタノイル、
３，７−ジメチルオクタノイル、ウンデカノイル、ドデ
カノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ペンタ
デカノイル、ヘキサデカノイル、１−メチルペンタデカ
ノイル、１４−メチルペンタデカノイル、１３，１３−
ジメチルテトラデカノイル、ヘプタデカノイル、１５−
メチルヘキサデカノイル、オクタデカノイル、１−メチ
ルヘプタデカノイル、ノナデカノイル、アイコサノイル
及びヘナイコサノイルのようなアルキルカルボニル基、
スクシノイル、グルタロイル、アジポイルのようなカル
ボキシ化アルキルカルボニル基、クロロアセチル、ジク
ロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセ
チルのようなハロゲノ低級アルキルカルボニル基、メト
キシアセチルのような低級アルコキシ低級アルキルカル
ボニル基、（Ｅ）−２−メチル−２−ブテノイルのよう
な不飽和アルキルカルボニル基等の「脂肪族アシル
基」；ベンゾイル、α−ナフトイル、β−ナフトイルの
ようなアリ−ルカルボニル基、２−ブロモベンゾイル、
４−クロロベンゾイルのようなハロゲノアリ−ルカルボ
ニル基、２，４，６−トリメチルベンゾイル、４−トル
オイルのような低級アルキル化アリ−ルカルボニル基、
４−アニソイルのような低級アルコキシ化アリ−ルカル
ボニル基、２−カルボキシベンゾイル、３−カルボキシ
ベンゾイル、４−カルボキシベンゾイルのようなカルボ
キシ化アリ−ルカルボニル基、４−ニトロベンゾイル、
２−ニトロベンゾイルのようなニトロ化アリ−ルカルボ
ニル基、２−（メトキシカルボニル) ベンゾイルのよう
な低級アルコキシカルボニル化アリ−ルカルボニル基、
４−フェニルベンゾイルのようなアリ−ル化アリ−ルカ
ルボニル基等の「芳香族アシル基」；テトラヒドロピラ
ン−２−イル、３−ブロモテトラヒドロピラン−２−イ
ル、４−メトキシテトラヒドロピラン−４−イル、テト
ラヒドロチオピラン−２−イル、４−メトキシテトラヒ
ドロチオピラン−４−イルのような「テトラヒドロピラ
ニル又はテトラヒドロチオピラニル基」；テトラヒドロ
フラン−２−イル、テトラヒドロチオフラン−２−イル
のような「テトラヒドロフラニル又はテトラヒドロチオ
フラニル基」；トリメチルシリル、トリエチルシリル、
イソプロピルジメチルシリル、t-ブチルジメチルシリ
ル、メチルジイソプロピルシリル、メチルジ-t−ブチル
シリル、トリイソプロピルシリルのようなトリ低級アル
キルシリル基、ジフェニルメチルシリル、ジフェニルブ
チルシリル、ジフェニルイソプロピルシリル、フェニル
ジイソプロピルシリルのような１乃至２個のアリ−ル基
で置換されたトリ低級アルキルシリル基等の「シリル
基」；メトキシメチル、１，１−ジメチル−１−メトキ
シメチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、イソプ
ロポキシメチル、ブトキシメチル、tert−ブトキシメチ
ルのような低級アルコキシメチル基、２−メトキシエト
キシメチルのような低級アルコキシ化低級アルコキシメ
チル基、２，２，２−トリクロロエトキシメチル、ビス
（２−クロロエトキシ）メチルのようなハロゲノ低級ア
ルコキシメチル等の「アルコキシメチル基」；１−エト
キシエチル、１−（イソプロポキシ）エチルのような低
級アルコキシ化エチル基、２，２，２−トリクロロエチ
ルのようなハロゲン化エチル基等の「置換エチル基」；
ベンジル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、
ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、α−ナフチル
ジフェニルメチル、９−アンスリルメチルのような１乃
至３個のアリ−ル基で置換された低級アルキル基、４−
メチルベンジル、２，４，６−トリメチルベンジル、
３，４，５−トリメチルベンジル、４−メトキシベンジ
ル、４−メトキシフェニルジフェニルメチル、２−ニト
ロベンジル、４−ニトロベンジル、４−クロロベンジ
ル、４−ブロモベンジル、４−シアノベンジルのような
低級アルキル、低級アルコキシ、ニトロ、ハロゲン、シ
アノ基でアリ−ル環が置換された１乃至３個のアリ−ル
基で置換された低級アルキル基等の「アラルキル基」；
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、tert−ブト
キシカルボニル、イソブトキシカルボニルのような低級
アルコキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエト
キシカルボニル、２−トリメチルシリルエトキシカルボ
ニルのようなハロゲン又はトリ低級アルキルシリル基で
置換された低級アルコキシカルボニル基等の「アルコキ
シカルボニル基」；ビニルオキシカルボニル、アリルオ
キシカルボニルのような「アルケニルオキシカルボニル
基」；ベンジルオキシカルボニル、４−メトキシベンジ
ルオキシカルボニル、３，４−ジメトキシベンジルオキ
シカルボニル、２−ニトロベンジルオキシカルボニル、
４−ニトロベンジルオキシカルボニルのような、１乃至
２個の低級アルコキシ又はニトロ基でアリ−ル環が置換
されていてもよい「アラルキルオキシカルボニル基」を
挙げることができ、一方、「カルボキシ基のエステル」
に斯かる「一般的保護基」としては、好適には、メチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチ
ル、イソブチル、ｓ−ブチル、tert−ブチル、ｎ−ペン
チル、イソペンチル、２−メチルブチル、ネオペンチ
ル、１−エチルプロピル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシ
ル、４−メチルペンチル、３−メチルペンチル、２−メ
チルペンチル、１−メチルペンチル、３，３−ジメチル
ブチル、２，２−ジメチルブチル、１，１−ジメチルブ
チル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチ
ル、２，３−ジメチルブチル、２−エチルブチルのよう
な「低級アルキル基」；エテニル、１−プロペニル、２
−プロペニル、１−メチル−２−プロペニル、１−メチ
ル−１−プロペニル、２−メチル−１−プロペニル、２
−メチル−２−プロペニル、２−エチル−２−プロペニ
ル、１−ブテニル、２−ブテニル、１−メチル−２−ブ
テニル、１−メチル−１−ブテニル、３−メチル−２−
ブテニル、１−エチル−２−ブテニル、３−ブテニル、
１−メチル−３−ブテニル、２−メチル−３−ブテニ
ル、１−エチル−３−ブテニル、１−ペンテニル、２−
ペンテニル、１−メチル−２−ペンテニル、２−メチル
−２−ペンテニル、３−ペンテニル、１−メチル−３−
ペンテニル、２−メチル−３−ペンテニル、４−ペンテ
ニル、１−メチル−４−ペンテニル、２−メチル−４−
ペンテニル、１−ヘキセニル、２−ヘキセニル、３−ヘ
キセニル、４−ヘキセニル、５−ヘキセニルのような
「アルケニル基」；エチニル、２−プロピニル、１−メ
チル−２−プロピニル、２−メチル−２−プロピニル、
２−エチル−２−プロピニル、２−ブチニル、１−メチ
ル−２−ブチニル、２−メチル−２−ブチニル、１−エ
チル−２−ブチニル、３−ブチニル、１−メチル−３−
ブチニル、２−メチル−３−ブチニル、１−エチル−３
−ブチニル、２−ペンチニル、１−メチル−２−ペンチ
ニル、２−メチル−２−ペンチニル、３−ペンチニル、
１−メチル−３−ペンチニル、２−メチル−３−ペンチ
ニル、４−ペンチニル、１−メチル−４−ペンチニル、
２−メチル−４−ペンチニル、２−ヘキシニル、３−ヘ
キシニル、４−ヘキシニル、５−ヘキシニルのような
「アルキニル基」；トリフルオロメチル、トリクロロメ
チル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、ジブロモメ
チル、フルオロメチル、２，２，２−トリフルオロエチ
ル、２，２，２−トリクロロエチル、２−ブロモエチ
ル、２−クロロエチル、２−フルオロエチル、２−ヨー
ドエチル、３−クロロプロピル、４−フルオロブチル、
６−ヨードヘキシル、２，２−ジブロモエチルのような
「ハロゲノ低級アルキル基」；２−ヒドロキシエチル、
２，３−ジヒドロキシプロピル、３−ヒドロキシプロピ
ル、３，４−ジヒドロキシブチル、４−ヒドロキシブチ
ルのようなヒドロキシ「低級アルキル基」；アセチルメ
チルのような「脂肪族アシル」−「低級アルキル基」；
ベンジル、フェネチル、３−フェニルプロピル、α−ナ
フチルメチル、β−ナフチルメチル、ジフェニルメチ
ル、トリフェニルメチル、６−フェニルヘキシル、α−
ナフチルジフェニルメチル、９−アンスリルメチルのよ
うな１乃至３個のアリ−ル基で置換された「低級アルキ
ル基」、４−メチルベンジル、２，４，６−トリメチル
ベンジル、３，４，５−トリメチルベンジル、４−メト
キシベンジル、４−メトキシフェニルジフェニルメチ
ル、２−ニトロベンジル、４−ニトロベンジル、４−ク
ロロベンジル、４−ブロモベンジル、４−シアノベンジ
ル、４−シアノベンジルジフェニルメチル、ビス（２−
ニトロフェニル）メチル、ピペロニル、４−メトキシカ
ルボニルベンジルのような低級アルキル、低級アルコキ
シ、ニトロ、ハロゲン、シアノ、アルコキシカルボニル
基でアリ−ル環が置換された１乃至３個のアリ−ル基で
置換された低級アルキル基等の「アラルキル基」；トリ
メチルシリル、トリエチルシリル、イソプロピルジメチ
ルシリル、tert−ブチルジメチルシリル、メチルジイソ
プロピルシリル、メチルジtert−ブチルシリル、トリイ
ソプロピルシリル、メチルジフェニルシリル、イソプロ
ピルジフェニルシリル、ブチルジフェニルシリル、フェ
ニルジイソプロピルシリルのような「シリル基」を挙げ
ることができる。「生体内で加水分解のような生物学的
方法により開裂し得る保護基」とは、人体内で加水分解
等の生物学的方法により開裂し、フリーの酸又はその塩
を生成する保護基をいい、そのような誘導体か否かは、
ラットやマウスのような実験動物に静脈注射により投与
し、その後の動物の体液を調べ、元となる化合物又はそ
の薬理学的に許容される塩を検出できることにより決定
でき、「水酸基のエステル」に斯かる「生体内で加水分
解のような生物学的方法により開裂し得る保護基」とし
ては、例えば、ホルミルオキシメチル、アセトキシメチ
ル、ジメチルアミノアセトキシメチル、プロピオニルオ
キシメチル、ブチリルオキシメチル、ピバロイルオキシ
メチル、バレリルオキシメチル、イソバレリルオキシメ
チル、ヘキサノイルオキシメチル、１−ホルミルオキシ
エチル、１−アセトキシエチル、１−プロピオニルオキ
シエチル、１−ブチリルオキシエチル、１−ピバロイル
オキシエチル、１−バレリルオキシエチル、１−イソバ
レリルオキシエチル、１−ヘキサノイルオキシエチル、
１−ホルミルオキシプロピル、１−アセトキシプロピ
ル、１−プロピオニルオキシプロピル、１−ブチリルオ
キシプロピル、１−ピバロイルオキシプロピル、１−バ
レリルオキシプロピル、１−イソバレリルオキシプロピ
ル、１−ヘキサノイルオキシプロピル、１−アセトキシ
ブチル、１−プロピオニルオキシブチル、１−ブチリル
オキシブチル、１−ピバロイルオキシブチル、１−アセ
トキシペンチル、１−プロピオニルオキシペンチル、１
−ブチリルオキシペンチル、１−ピバロイルオキシペン
チル、１−ピバロイルオキシヘキシルのような１−
（「脂肪族アシル」オキシ）「低級アルキル基」；ホル
ミルチオメチル、アセチルチオメチル、ジメチルアミノ
アセチルチオメチル、プロピオニルチオメチル、ブチリ
ルチオメチル、ピバロイルチオメチル、バレリルチオメ
チル、イソバレリルチオメチル、ヘキサノイルチオメチ
ル、１−ホルミルチオエチル、１−アセチルチオエチ
ル、１−プロピオニルチオエチル、１−ブチリルチオエ
チル、１−ピバロイルチオエチル、１−バレリルチオエ
チル、１−イソバレリルチオエチル、１−ヘキサノイル
チオエチル、１−ホルミルチオプロピル、１−アセチル
チオプロピル、１−プロピオニルチオプロピル、１−ブ
チリルチオプロピル、１−ピバロイルチオプロピル、１
−バレリルチオプロピル、１−イソバレリルチオプロピ
ル、１−ヘキサノイルチオプロピル、１−アセチルチオ
ブチル、１−プロピオニルチオブチル、１−ブチリルチ
オブチル、１−ピバロイルチオブチル、１−アセチルチ
オペンチル、１−プロピオニルチオペンチル、１−ブチ
リルチオペンチル、１−ピバロイルチオペンチル、１−
ピバロイルチオヘキシルのような１−（「脂肪族アシ
ル」チオ）「低級アルキル基」；シクロペンチルカルボ
ニルオキシメチル、シクロヘキシルカルボニルオキシメ
チル、１−シクロペンチルカルボニルオキシエチル、１
−シクロヘキシルカルボニルオキシエチル、１−シクロ
ペンチルカルボニルオキシプロピル、１−シクロヘキシ
ルカルボニルオキシプロピル、１−シクロペンチルカル
ボニルオキシブチル、１−シクロヘキシルカルボニルオ
キシブチルのような１−（「シクロアルキル」カルボニ
ルオキシ）「低級アルキル基」、ベンゾイルオキシメチ
ルのような１−（「芳香族アシル」オキシ）「低級アル
キル基」等の１−（アシルオキシ）「低級アルキル
基」：メトキシカルボニルオキシメチル、エトキシカル
ボニルオキシメチル、プロポキシカルボニルオキシメチ
ル、イソプロポキシカルボニルオキシメチル、ブトキシ
カルボニルオキシメチル、イソブトキシカルボニルオキ
シメチル、ペンチルオキシカルボニルオキシメチル、ヘ
キシルオキシカルボニルオキシメチル、シクロヘキシル
オキシカルボニルオキシメチル、シクロヘキシルオキシ
カルボニルオキシ（シクロヘキシル）メチル、１−（メ
トキシカルボニルオキシ）エチル、１−（エトキシカル
ボニルオキシ）エチル、１−（プロポキシカルボニルオ
キシ）エチル、１−（イソプロポキシカルボニルオキ
シ）エチル、１−（ブトキシカルボニルオキシ）エチ
ル、１−（イソブトキシカルボニルオキシ）エチル、１
−（tert−ブトキシカルボニルオキシ）エチル、１−
（ペンチルオキシカルボニルオキシ）エチル、１−（ヘ
キシルオキシカルボニルオキシ）エチル、１−（シクロ
ペンチルオキシカルボニルオキシ）エチル、１−（シク
ロペンチルオキシカルボニルオキシ）プロピル、１−
（シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ）プロピル、
１−（シクロペンチルオキシカルボニルオキシ）ブチ
ル、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ）ブ
チル、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ）
エチル、１−（エトキシカルボニルオキシ）プロピル、
２−（メトキシカルボニルオキシ）エチル、２−（エト
キシカルボニルオキシ）エチル、２−（プロポキシカル
ボニルオキシ）エチル、２−（イソプロポキシカルボニ
ルオキシ）エチル、２−（ブトキシカルボニルオキシ）
エチル、２−（イソブトキシカルボニルオキシ）エチ
ル、２−（ペンチルオキシカルボニルオキシ）エチル、
２−（ヘキシルオキシカルボニルオキシ）エチル、１−
（メトキシカルボニルオキシ）プロピル、１−（エトキ
シカルボニルオキシ）プロピル、１−（プロポキシカル
ボニルオキシ）プロピル、１−（イソプロポキシカルボ
ニルオキシ）プロピル、１−（ブトキシカルボニルオキ
シ）プロピル、１−（イソブトキシカルボニルオキシ）
プロピル、１−（ペンチルオキシカルボニルオキシ）プ
ロピル、１−（ヘキシルオキシカルボニルオキシ）プロ
ピル、１−（メトキシカルボニルオキシ）ブチル、１−
（エトキシカルボニルオキシ）ブチル、１−（プロポキ
シカルボニルオキシ）ブチル、１−（イソプロポキシカ
ルボニルオキシ）ブチル、１−（ブトキシカルボニルオ
キシ）ブチル、１−（イソブトキシカルボニルオキシ）
ブチル、１−（メトキシカルボニルオキシ）ペンチル、
１−（エトキシカルボニルオキシ）ペンチル、１−（メ
トキシカルボニルオキシ）ヘキシル、１−（エトキシカ
ルボニルオキシ）ヘキシルのような（アルコキシカルボ
ニルオキシ）アルキル基：フタリジル、ジメチルフタリ
ジル、ジメトキシフタリジルのような「フタリジル
基」：（５−フェニル−２−オキソ−１，３−ジオキソ
レン−４−イル）メチル、［５−（４−メチルフェニ
ル）−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イル］
メチル、［５−（４−メトキシフェニル）−２−オキソ
−１，３−ジオキソレン−４−イル］メチル、［５−
（４−フルオロフェニル）−２−オキソ−１，３−ジオ
キソレン−４−イル］メチル、［５−（４−クロロフェ
ニル）−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イ
ル］メチル、（２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４
−イル）メチル、（５−メチル−２−オキソ−１，３−
ジオキソレン−４−イル）メチル、（５−エチル−２−
オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イル）メチル、
（５−プロピル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−
４−イル）メチル、（５−イソプロピル−２−オキソ−
１，３−ジオキソレン−４−イル）メチル、（５−ブチ
ル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イル）メ
チルのようなオキソジオキソレニルメチル基等の「カル
ボニルオキシアルキル基」：前記「脂肪族アシル基」：
前記「芳香族アシル基」：「コハク酸のハーフエステル
塩残基」：「燐酸エステル塩残基」：「アミノ酸等のエ
ステル形成残基」：カルバモイル基：１乃至２個の低級
アルキル基で置換されたカルバモイル基：２−カルボキ
シエチルジチオエチル、３−カルボキシプロピルジチオ
エチル、４−カルボキシブチルジチオエチル、５−カル
ボキシペンチルジチオエチル、６−カルボキシヘキシル
ジチオエチルのようなカルボキシ「低級アルキル」ジチ
オエチル基：メチルジチオエチル、エチルジチオエチ
ル、プロピルジチオエチル、ブチルジチオエチル、ペン
チルジチオエチル、ヘキシルジチオエチルのような「低
級アルキル」ジチオエチル基：及び、ピバロイルオキシ
メチルオキシカルボニルのような「１−（アシルオキ
シ）アルキルオキシカルボニル基」を挙げることがで
き、好適には、１−（「脂肪族アシル」チオ）「低級ア
ルキル基」及びカルボキシ「低級アルキル」ジチオエチ
ル基であり、一方、「カルボキシ基のエステル」に斯か
る「生体内で加水分解のような生物学的方法により開裂
し得る保護基」としては、具体的には、メトキシメチ
ル、１−エトキシエチル、１−メチル−１−メトキシエ
チル、１−（イソプロポキシ）エチル、２−メトキシエ
チル、２−エトキシエチル、１，１−ジメチル−１−メ
トキシメチル、エトキシメチル、ｎ−プロポキシメチ
ル、イソプロポキシメチル、ｎ−ブトキシメチル、tert
−ブトキシメチルのような低級アルコキシ低級アルキル
基、２−メトキシエトキシメチルのような低級アルコキ
シ化低級アルコキシ低級アルキル基、フェノキシメチル
のような「アリール」オキシ「低級アルキル基」、２，
２，２−トリクロロエトキシメチル、ビス（２−クロロ
エトキシ）メチルのようなハロゲン化低級アルコキシ低
級アルキル基等の「アルコキシ低級アルキル基」：メト
キシカルボニルメチルのような「低級アルコキシ」カル
ボニル「低級アルキル基」；シアノメチル、２−シアノ
エチルのようなシアノ「低級アルキル基」；メチルチオ
メチル、エチルチオメチルのような「低級アルキル」チ
オメチル基；；フェニルチオメチル、ナフチルチオメチ
ルのような「アリール」チオメチル基；２−メタンスル
ホニルエチル、２−トリフルオロメタンスルホニルエチ
ルのようなハロゲンで置換されてもよい「低級アルキ
ル」スルホニル「低級アルキル基」；２−ベンゼンスル
ホニルエチル、２−トルエンスルホニルエチルのような
「アリール」スルホニル「低級アルキル基」；ホルミル
オキシメチル、アセトキシメチル、プロピオニルオキシ
メチル、ブチリルオキシメチル、ピバロイルオキシメチ
ル、バレリルオキシメチル、イソバレリルオキシメチ
ル、ヘキサノイルオキシメチル、１−ホルミルオキシエ
チル、１−アセトキシエチル、１−プロピオニルオキシ
エチル、１−ブチリルオキシエチル、１−ピバロイルオ
キシエチル、１−バレリルオキシエチル、１−イソバレ
リルオキシエチル、１−ヘキサノイルオキシエチル、２
−ホルミルオキシエチル、２−アセトキシエチル、２−
プロピオニルオキシエチル、２−ブチリルオキシエチ
ル、２−ピバロイルオキシエチル、２−バレリルオキシ
エチル、２−イソバレリルオキシエチル、２−ヘキサノ
イルオキシエチル、１−ホルミルオキシプロピル、１−
アセトキシプロピル、１−プロピオニルオキシプロピ
ル、１−ブチリルオキシプロピル、１−ピバロイルオキ
シプロピル、１−バレリルオキシプロピル、１−イソバ
レリルオキシプロピル、１−ヘキサノイルオキシプロピ
ル、１−アセトキシブチル、１−プロピオニルオキシブ
チル、１−ブチリルオキシブチル、１−ピバロイルオキ
シブチル、１−アセトキシペンチル、１−プロピオニル
オキシペンチル、１−ブチリルオキシペンチル、１−ピ
バロイルオキシペンチル、１−ピバロイルオキシヘキシ
ルのような「脂肪族アシル」オキシ「低級アルキル
基」、シクロペンチルカルボニルオキシメチル、シクロ
ヘキシルカルボニルオキシメチル、１−シクロペンチル
カルボニルオキシエチル、１−シクロヘキシルカルボニ
ルオキシエチル、１−シクロペンチルカルボニルオキシ
プロピル、１−シクロヘキシルカルボニルオキシプロピ
ル、１−シクロペンチルカルボニルオキシブチル、１−
シクロヘキシルカルボニルオキシブチルのような「シク
ロアルキル」カルボニルオキシ「低級アルキル基」、ベ
ンゾイルオキシメチルのような「芳香族アシル」オキシ
「低級アルキル基」等のアシルオキシ「低級アルキル
基」；メトキシカルボニルオキシメチル、エトキシカル
ボニルオキシメチル、プロポキシカルボニルオキシメチ
ル、イソプロポキシカルボニルオキシメチル、ブトキシ
カルボニルオキシメチル、イソブトキシカルボニルオキ
シメチル、ペンチルオキシカルボニルオキシメチル、ヘ
キシルオキシカルボニルオキシメチル、シクロヘキシル
オキシカルボニルオキシメチル、シクロヘキシルオキシ
カルボニルオキシ（シクロヘキシル）メチル、１−（メ
トキシカルボニルオキシ）エチル、１−（エトキシカル
ボニルオキシ）エチル、１−（プロポキシカルボニルオ
キシ）エチル、１−（イソプロポキシカルボニルオキ
シ）エチル、１−（ブトキシカルボニルオキシ）エチ
ル、１−（イソブトキシカルボニルオキシ）エチル、１
−（tert−ブトキシカルボニルオキシ）エチル、１−
（ペンチルオキシカルボニルオキシ）エチル、１−（ヘ
キシルオキシカルボニルオキシ）エチル、１−（シクロ
ペンチルオキシカルボニルオキシ）エチル、１−（シク
ロペンチルオキシカルボニルオキシ）プロピル、１−
（シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ）プロピル、
１−（シクロペンチルオキシカルボニルオキシ）ブチ
ル、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ）ブ
チル、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ）
エチル、１−（エトキシカルボニルオキシ）プロピル、
２−（メトキシカルボニルオキシ）エチル、２−（エト
キシカルボニルオキシ）エチル、２−（プロポキシカル
ボニルオキシ）エチル、２−（イソプロポキシカルボニ
ルオキシ）エチル、２−（ブトキシカルボニルオキシ）
エチル、２−（イソブトキシカルボニルオキシ）エチ
ル、２−（ペンチルオキシカルボニルオキシ）エチル、
２−（ヘキシルオキシカルボニルオキシ）エチル、１−
（メトキシカルボニルオキシ）プロピル、１−（エトキ
シカルボニルオキシ）プロピル、１−（プロポキシカル
ボニルオキシ）プロピル、１−（イソプロポキシカルボ
ニルオキシ）プロピル、１−（ブトキシカルボニルオキ
シ）プロピル、１−（イソブトキシカルボニルオキシ）
プロピル、１−（ペンチルオキシカルボニルオキシ）プ
ロピル、１−（ヘキシルオキシカルボニルオキシ）プロ
ピル、１−（メトキシカルボニルオキシ）ブチル、１−
（エトキシカルボニルオキシ）ブチル、１−（プロポキ
シカルボニルオキシ）ブチル、１−（イソプロポキシカ
ルボニルオキシ）ブチル、１−（ブトキシカルボニルオ
キシ）ブチル、１−（イソブトキシカルボニルオキシ）
ブチル、１−（メトキシカルボニルオキシ）ペンチル、
１−（エトキシカルボニルオキシ）ペンチル、１−（メ
トキシカルボニルオキシ）ヘキシル、１−（エトキシカ
ルボニルオキシ）ヘキシルのような（アルコキシカルボ
ニルオキシ）アルキル基；（５−フェニル−２−オキソ
−１，３−ジオキソレン−４−イル）メチル、［５−
（４−メチルフェニル）−２−オキソ−１，３−ジオキ
ソレン−４−イル］メチル、［５−（４−メトキシフェ
ニル）−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イ
ル］メチル、［５−（４−フルオロフェニル）−２−オ
キソ−１，３−ジオキソレン−４−イル］メチル、［５
−（４−クロロフェニル）−２−オキソ−１，３−ジオ
キソレン−４−イル］メチル、（２−オキソ−１，３−
ジオキソレン−４−イル）メチル、（５−メチル−２−
オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イル）メチル、
（５−エチル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４
−イル）メチル、（５−プロピル−２−オキソ−１，３
−ジオキソレン−４−イル）メチル、（５−イソプロピ
ル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イル）メ
チル、（５−ブチル−２−オキソ−１，３−ジオキソレ
ン−４−イル）メチルのようなオキソジオキソレニルメ
チル基等の「カルボニルオキシアルキル基」：フタリジ
ル、ジメチルフタリジル、ジメトキシフタリジルのよう
な「フタリジル基」：フェニル、インダニルのような
「アリール基」：上記「低級アルキル基」：カルボキシ
メチルのような「カルボキシアルキル基」：及び、フェ
ニルアラニンのような「アミノ酸のアミド形成残基」を
挙げることができ、好適には、「カルボニルオキシアル
キル基」である。
【００２１】
【発明の実施の形態】本発明の一般式（１）で表される
フラバノン及びそのカルバ誘導体は、以下に記載する方
法によって製造することができる。
【００２２】尚、〔Ａ法〕は、フラバノンのカルバ誘導
体の製造方法であり、〔Ｂ法〕は、フラバノン誘導体の
製造方法である。
【００２３】〔Ａ法〕
【００２４】
【化３】
【００２５】〔Ｂ法〕
【００２６】
【化４】
【００２７】上記式中、Ｒ1 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ
6 、Ｇ及びｎは前記と同意義を示す。
【００２８】Ｊ’は、カルボニル基を有していてもよい
炭素数１乃至６個のアルキレン基を示す。
【００２９】Ｒ2'は、水素原子、保護された水酸基又は
ハロゲン原子を示し、斯かる「水酸基の保護基」は、前
記「水酸基のエステル」に斯かる「一般的保護基」の定
義に記載した基と同様の基を示す。
【００３０】Ｒ4'及びＲ6'は、同一又は異なって、水素
原子又は保護された水酸基を示し、斯かる「水酸基の保
護基」は、例えば、ホルミル、アセチル、メトキシアセ
チルの様な低級アルコキシ基が置換していてもよいアル
カノイル基；ベンゾイル、４ークロロベンゾイル、４ー
トルオイルのようなハロゲン原子又は低級アルキル基が
置換していてもよいベンゾイル基；テトラヒドロピラン
ー２ーイル、４ーメトキシテトラヒドロピランー２ーイ
ル、テトラヒドロチオピランー２ーイルのような低級ア
ルコキシ基が置換していてもよいテトラヒドロピラニル
基又はテトラヒドロチオピラニル基；トリメチルシリ
ル、トリエチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリルの様
な低級アルキルシリル基；ジフェニルメチルシリル、ジ
フェニルブチルシリルのような１又は２個のフェニル基
が置換していてもよい低級アルキルシリル基；メトキシ
メチル、１、１ージメチルー１ーメトキシメチル、２ー
メトキシエトキシメチル、エトキシメチル、エトキシエ
チルのような低級アルコキシ置換低級アルキル；ベンジ
ル、４ーメチルベンジル、４ーメトキシベンジル、４ー
シアノベンジル、トリフェニルメチルのような低級アル
キル、低級アルコキシ、ハロゲン、又はシアノ基がベン
ゼン環に置換していてもよいアラルキル基；メチルチオ
メチルのような低級アルキルチオメチル基；メチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチルなどのような低
級アルキル基；トリクロロエチル、２、２、２ートリク
ロロエチルなどのようなハロゲン原子が置換していても
よいアルキル基；トリメチルシリルメチル、トリメチル
シリルエチルなどの様な低級アルキルシリル基が置換し
ていてもよいアルキル基などを上げることができ、好適
にはメチル、エチル、ベンジル、メトキシメチル基であ
る。
【００３１】Ｒ5'は、水素原子、低級アルキル基又は保
護された水酸基を示し、斯かる「水酸基の保護基」も、
前記Ｒ4'及びＲ6'の「水酸基の保護基」の定義に記載し
た基と同様の基を示す。
【００３２】Ｒ7 は、カルボキシ基の保護基を示し、斯
かる「カルボキシ基の保護基」は、前記「カルボキシ基
のエステル」に斯かる「一般的保護基」の定義に記載し
た基と同様の基を示す。
【００３３】Ｒ8 は、保護された水酸基又はニトロ基を
示し、斯かる「水酸基の保護基」も、前記「水酸基のエ
ステル」に斯かる「一般的保護基」の定義に記載した基
と同様の基を示す。
【００３４】Ｒ9 は、酸素原子、イミノ基、又は、低級
アルキル基で置換されたイミノ基を示す。
【００３５】Ｍは、水酸基又は脱離基を示し、該脱離基
としては、通常、求核残基として脱離する基であれば特
に限定はないが、好適には、塩素、臭素、沃素のような
ハロゲン原子；メトキシカルボニルオキシ、エトキシカ
ルボニルオキシのような低級アルコキシカルボニルオキ
シ基；アセトキシ、プロピオニルオキシのようなアルキ
ルカルボニルオキシ基；クロロアセチルオキシ、ジクロ
ロアセチルオキシ、トリクロロアセチルオキシ、トリフ
ルオロアセチルオキシのようなハロゲン化アルキルカル
ボニルオキシ基、メトキシアセチルオキシのような低級
アルコキシアルキルカルボニルオキシ基等の脂肪族アシ
ルオキシ基；ベンゾイルオキシのようなアリ−ルカルボ
ニルオキシ基、２−ブロモベンゾイルオキシ、４−クロ
ロベンゾイルオキシのようなハロゲン化アリ−ルカルボ
ニルオキシ基、２，４，６−トリメチルベンゾイルオキ
シ、４−トルオイルオキシのような低級アルキル化アリ
−ルカルボニルオキシ基、４−アニソイルオキシのよう
な低級アルコキシ化アリ−ルカルボニルオキシ基、４−
ニトロベンゾイルオキシ、２−ニトロベンゾイルオキシ
のようなニトロ化アリ−ルカルボニルオキシ基等の芳香
族アシルオキシ基；トリクロロメチルオキシのようなト
リハロゲノメチルオキシ基；メタンスルホニルオキシ、
エタンスルホニルオキシのような低級アルカンスルホニ
ルオキシ基；トリフルオロメタンスルホニルオキシ、ペ
ンタフルオロエタンスルホニルオキシのようなハロゲノ
低級アルカンスルホニルオキシ基；ベンゼンスルホニル
オキシ、ｐ−トルエンスルホニルオキシ、p-ニトロベン
ゼンスルホニルオキシのようなアリ−ルスルホニルオキ
シ基を挙げることができ、更に好適には、ハロゲン原
子、低級アルカンスルホニルオキシ基及びアリ−ルスル
ホニルオキシ基である。
【００３６】Ｓｔｅｐ １は、化合物（ＩＩ）と化合物
（ＩＩＩ）とを、溶媒中、ルイス酸触媒の存在下、フリ
ーデル・クラフツ反応により、化合物（ＩＶ）を製造す
る工程である。
【００３７】使用されるルイス酸としては、通常、ルイ
ス酸として使用されるものであれば、特に限定はない
が、好適には、トリメチルシリルトリフルオロメタンス
ルホネートのようなトリ低級アルキルシリルトリフルオ
ロメタンスルホネート類、四塩化錫のような錫類、臭化
亜鉛のような亜鉛類、四塩化チタンのようなチタン類、
塩化アルミニウム等のようなアルミニウム類、ボロント
リフルオリド、ボロントリブロミドのようなホウ素化合
物、過塩素酸銀、トリフルオロメタンスルホン酸銀等の
ような銀類又は過塩素酸トリメチルシリルエステル、過
塩素酸トリフェニルメチルエステルのような過塩素酸類
であり、更に好適には、銀類及び過塩素酸類であり、最
も好適には、銀類である。使用される溶媒としては、反
応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれ
ば特に限定はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、
リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；
ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジ
クロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのよ
うなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエ−テル、ジイソ
プロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエー
テルのようなエ−テル類；ニトロエタン、ニトロベンゼ
ンのようなニトロ化合物類；アセトニトリル、イソブチ
ロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチル
ホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチルスルホ
キシド、スルホランのようなスルホキシド類を挙げるこ
とができ、好適には、ハロゲン化炭化水素類である。反
応温度は、通常、−２０℃乃至１００℃であり、好適に
は、−１０℃乃至５０℃である。反応時間は、使用され
る化合物、使用される触媒、使用される溶媒及び反応温
度等により変化するが、通常、１時間乃至１０時間であ
り、好適には、２時間乃至５時間である。
【００３８】Ｓｔｅｐ ２は、化合物（ＩＶ）を、溶媒
の存在又は非存在下に、酸触媒を使用して、脱保護と同
時に閉環し、次いで、水酸基を再保護することにより、
化合物（Ｖ）を製造する工程である。又、Ｇが２個の水
素原子を表す場合には、さらにカルボニル基を還元する
工程が加わる。
【００３９】前段の工程において、使用される酸触媒と
しては、通常の反応に於いて酸触媒として用いられるも
のであれば特に限定はないが、好適には、塩酸、臭化水
素酸、硫酸、過塩素酸、燐酸、ポリリン酸のような無機
酸又は酢酸、蟻酸、蓚酸、メタンスルホン酸、パラトル
エンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタ
ンスルホン酸のような有機酸等のブレンステッド酸或い
は塩化亜鉛、四塩化スズ、ボロントリクロリド、ボロン
トリフルオリド、ボロントリブロミドのようなルイス酸
を挙げることができ、更に好適には、ポリリン酸及びル
イス酸である。前段の工程において、使用される溶媒と
しては、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解する
ものであれば特に限定はないが、好適には、ヘキサン、
ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭
化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香
族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩
化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベ
ンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢
酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルの
ようなエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピル
エ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキ
シエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのよ
うなエ−テル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンの
ようなケトン類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのよう
なニトロ化合物類；アセトニトリル、イソブチロニトリ
ルのようなニトリル類；ホルムアミド、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロ
トリアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシド、
スルホランのようなスルホキシド類を挙げることがで
き、更に好適には、ハロゲン化炭化水素類である。反応
温度は、−１００℃乃至２００℃であり、好適には、−
７８℃乃至１００℃である。
【００４０】反応時間は、使用される化合物、使用され
る溶媒、使用される酸触媒及び反応温度等により変化す
るが、通常、１時間乃至５０時間であり、好適には、２
時間乃至３０時間である。
【００４１】後段の水酸基の再保護化の工程は、以下の
いずれかの方法に準じて実施される。
【００４２】＜方法１＞一般式 Ｒ10−Ｘを有する化合
物、又は、一般式 Ｒ10−Ｏ−Ｒ10を有する化合物（Ｒ
10がアシル基の場合）の１乃至４当量（好適には、２乃
至３当量）と、溶媒中、塩基の存在又は非存在下に、反
応させる方法＜方法２＞ 一般式 Ｒ10−ＯＨ を有する化合物（Ｒ10
がアシル基の場合）と、溶媒中、「縮合剤」及び塩基の
存在又は非存在下に、反応させる方法＜方法３＞ 一般式 Ｒ10−ＯＨ を有する化合物（Ｒ10
がアシル基の場合）と、溶媒中で、塩化燐酸ジエチルの
ようなハロゲン化燐酸ジアルキルエステル類及び塩基の
存在下に、反応させる方法＜方法４＞ Ｒ10Ｏ−ＣＨ＝ＮＣＹ3 及び酸を作用させる
方法＜方法５＞ 保護基が、テトラヒドロピラニル基、テトラ
ヒドロチオピラニル基、テトラヒドロフラニル基、テト
ラヒドロチオフラニル基の場合には、ジヒドロピランな
どの対応するジヒドロ体と、酸の存在下に反応させる方
法。
【００４３】［上記式中、Ｒ10は、前記「水酸基の保護
基」である。Ｘは、脱離基を示すが、斯かる脱離基と
は、通常、求核残基として脱離する基であれば特に限定
はないが、好適には、塩素、臭素、沃素のようなハロゲ
ン原子；メトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニ
ルオキシのような低級アルコキシカルボニルオキシ基；
クロロアセチルオキシ、ジクロロアセチルオキシ、トリ
クロロアセチルオキシ、トリフルオロアセチルオキシの
ようなハロゲン化アルキルカルボニルオキシ基；メタン
スルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシのような低
級アルカンスルホニルオキシ基；トリフルオロメタンス
ルホニルオキシ、ペンタフルオロエタンスルホニルオキ
シのようなハロゲノ低級アルカンスルホニルオキシ基；
ベンゼンスルホニルオキシ、ｐ−トルエンスルホニルオ
キシ、ｐ−ニトロベンゼンスルホニルオキシのようなア
リ−ルスルホニルオキシ基を挙げることができ、更に好
適には、ハロゲン原子，ハロゲノ低級アルカンスルホニ
ルオキシ基、及び、アリ−ルスルホニルオキシ基であ
る。
【００４４】Ｙは、ハロゲン原子を示す。
【００４５】＜方法１＞において使用される溶媒として
は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するもの
であれば特に限定はないが、好適には、ヘキサン、ヘプ
タンのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリ
ド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化
水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸
ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエ
ーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテルのようなエーテル類；アセトニト
リル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルム
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−
メチルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミド
のようなアミド類を挙げることができる。＜方法１＞に
おいて使用される塩基としては、通常の反応において塩
基として使用されるものであれば、特に限定はないが、
好適には、Ｎ−メチルモルホリン、トリエチルアミン、
トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジシ
クロヘキシルアミン、Ｎ−メチルピペリジン、ピリジ
ン、４−ピロリジノピリジン、ピコリン、４−（Ｎ，Ｎ
−ジメチルアミノ）ピリジン、２，６−ジ（tert−ブチ
ル）−４−メチルピリジン、キノリン、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリンのような有機塩
基類を挙げることができる。尚、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアミノ）ピリジン、４−ピロリジノピリジンは、他の
塩基と組み合わせて、触媒量を用いることもでき、又、
反応を効果的に行わせるために、ベンジルトリエチルア
ンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムクロリ
ドのような第４級アンモニウム塩類、ジベンゾ−１８−
クラウン−６のようなクラウンエーテル類等を添加する
こともできる。反応温度は、通常、−２０℃乃至使用す
る溶媒の還流温度で行なわれるが、好適には、０℃乃至
使用する溶媒の還流温度である。反応時間は、主に反応
温度、原料化合物、使用される塩基又は使用される溶媒
の種類等によって異なるが、通常、１０分間乃至３日間
であり、好適には、１時間乃至６時間である。
【００４６】一般式 Ｒ10−Ｘを有する化合物の具体例
としては、例えば、アセチルクロリド、プロピオニルク
ロリド、ブチリルブロミド、バレリルクロリド、ヘキサ
ノイルクロリドのような脂肪族アシルハライド；メトキ
シカルボニルクロリド、メトキシカルボニルブロミド、
エトキシカルボニルクロリド、プロポキシカルボニルク
ロリド、ブトキシカルボニルクロリド、ヘキシルオキシ
カルボニルクロリドのような低級アルコキシカルボニル
ハライド若しくはベンゾイルクロリド、ベンゾイルブロ
ミド、ナフトイルクロリドのようなアリールカルボニル
ハライドのようなアシルハライド類、tert−ブチルジメ
チルシリルクロリド、トリメチルシリルクロリド、トリ
エチルシリルクロリド、トリエチルシリルブロミド、ト
リイソプロピルシリルクロリド、ジメチルイソプロピル
シリルクロリド、ジエチルイソプロピルシリルクロリ
ド、tert−ブチルジフェニルシリルクロリド、ジフェニ
ルメチルシリルクロリド、トリフェニルシリルクロリド
のようなシリルハライド類又は対応するシリルトリフル
オロメタンスルホネ−ト類、ベンジルクロリド、ベンジ
ルブロミドのようなアラルキルハライド類を挙げること
ができる。
【００４７】一般式 Ｒ10−Ｏ−Ｒ10を有する化合物の
具体例としては、例えば、無水酢酸、無水プロピオン
酸、無水バレリル酸、無水ヘキサン酸のような脂肪族カ
ルボン酸無水物を挙げることができ、更に、ギ酸と酢酸
のような混合酸無水物を使用することもできる。
【００４８】＜方法２＞において使用される「縮合剤」
としては、 （イ）ジエチルホスホリルシアニド、ジフェニルホスホ
リルアジド、シアノ燐酸ジエチルのような燐酸エステル
類と下記塩基の組合せ； （ロ）１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド、１，
３−ジイソプロピルカルボジイミド、１−エチル−３−
（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド等のカ
ルボジイミド類；前記カルボジイミド類と下記塩基の組
合せ；前記カルボジイミド類とＮ−ヒドロキシスクシン
イミド、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、Ｎ−ヒド
ロキシ−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミ
ドのようなＮ−ヒドロキシ類の組合せ； （ハ）２，２’−ジピリジル ジサルファイド、２，
２’−ジベンゾチアゾリルジサルファイドのようなジサ
ルファイド類とトリフェニルホスフィン、トリブチルホ
スフィンのようなホスフィン類の組合せ； （ニ）Ｎ，Ｎ’−ジスクシンイミジルカ−ボネート、ジ
−２−ピリジル カーボネート、Ｓ、Ｓ’−ビス（１−
フェニル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ジチオカー
ボネートのようなカーボネート類； （ホ）Ｎ，Ｎ’−ビス（２−オキソ−３−オキサゾリジ
ニル）ホスフィニッククロライドのようなホスフィニッ
ククロライド類； （ヘ）Ｎ，Ｎ’−ジスクシンイミジルオキザレート、
Ｎ，Ｎ’−ジフタルイミドオキザレート、Ｎ，Ｎ’−ビ
ス（５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミジ
ル）オキザレート、１，１’−ビス（ベンゾトリアゾリ
ル）オキザレート、１，１’−ビス（６−クロロベンゾ
トリアゾリル）オキザレート、１，１’−ビス（６−ト
リフルオロメチルベンゾトリアゾリル）オキザレートの
ようなオキザレート類； （ト）前記ホスフィン類とアゾジカルボン酸ジエチル、
１，１’−（アゾジカルボニル）ジピペリジンのような
アゾジカルボン酸エステル又はアゾジカルボキシアミド
類の組合せ；前記ホスフィン類と下記塩基の組合せ； （ワ）Ｎ−エチル−５−フェニルイソオキサゾリウム−
３’−スルホナートのようなＮ−低級アルキル−５−ア
リールイソオキサゾリウム−３’−スルホナート類； （カ）ジ−２−ピリジルジセレニドのようなジヘテロア
リールジセレニド類； （ヨ）ｐ−ニトロベンゼンスルホニルトリアゾリドのよ
うなアリールスルホニルトリアゾリド類； （タ）２−クロル−１−メチルピリジニウム ヨーダイ
ドのような２−ハロ−１−低級アルキルピリジニウム
ハライド類； （レ）１，１’−オキザリルジイミダゾ−ル、Ｎ，Ｎ’
−カルボニルジイミダゾ−ルのようなイミダゾール類； （ソ）３−エチル−２−クロロ−ベンゾチアゾリウム
フルオロボレートのような３−低級アルキル−２−ハロ
ゲン−ベンゾチアゾリウム フルオロボレート類； （ツ）３−メチル−ベンゾチアゾール−２−セロンのよ
うな３−低級アルキル−ベンゾチアゾール−２−セロン
類； （ネ）フェニルジクロロホスフェート、ポリホスフェー
トエステルのようなホスフェート類； （ナ）クロロスルホニルイソシアネートのようなハロゲ
ノスルホニルイソシアネート類； （ラ）トリメチルシリルクロリド、トリエチルシリルク
ロリドのようなハロゲノシラン類； （ム）メタンスルホニルクロリドのような低級アルカン
スルホニルハライドと下記塩基の組合せ； （ウ）Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルクロロホルマ
ミジウムクロリドのようなＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ
低級アルキルハロゲノホルマミジウムクロリド類を挙げ
ることができるが、好適には、カルボジイミド類、及
び、ホスフィン類とアゾジカルボン酸エステル又はアゾ
ジカルボキシアミド類の組合せである。
【００４９】＜方法２＞において使用される溶媒として
は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するもの
であれば特に限定はないが、好適には、ヘキサン、ヘプ
タンのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリ
ド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化
水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸
ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエ
ーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテルのようなエーテル類；アセトニト
リル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルム
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−
メチルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミド
のようなアミド類を挙げることができる。＜方法２＞に
おいて使用される塩基としては、上記＜方法１＞におい
て記載したのと同様の塩基を使用することができる。反
応温度は、−２０℃乃至８０℃で行なわれるが、好適に
は、０℃乃至室温である。反応時間は、主に反応温度、
原料化合物、反応試薬又は使用される溶媒の種類等によ
って異なるが、通常、１０分間乃至３日間で、好適に
は、３０分間乃至１日間である。
【００５０】＜方法３＞において使用される溶媒として
は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するもの
であれば特に限定はないが、好適には、ヘキサン、ヘプ
タンのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリ
ド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化
水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸
ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエ
ーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテルのようなエーテル類；アセトニト
リル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルム
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−
メチルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミド
のようなアミド類を挙げることができる。＜方法３＞に
おいて使用される塩基としては、上記＜方法１＞におい
て記載したのと同様の塩基を使用することができる。反
応温度は、０℃乃至使用される溶媒の還流温度で行なわ
れるが、好適には、室温乃至５０℃である。反応時間
は、主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用され
る溶媒の種類等によって異なるが、通常、１０分間乃至
３日間で、好適には、３０分間乃至１日間である。
【００５１】＜方法４＞において使用される酸として
は、トリフルオロ酢酸のようなハロゲノ低級アルカン
酸；トリフルオロメタンスルホン酸、ｐ−トルエンスル
ホン酸、カンファースルホン酸などの有機スルホン酸；
強酸性イオン交換樹脂などを挙げることができる。
【００５２】＜方法４＞において使用される溶媒として
は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するもの
であれば特に限定はないが、好適には、ヘキサン、ヘプ
タン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水
素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼ
ンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エ
チル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのよう
なエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのような
エ−テル類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニ
トロ化合物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルの
ようなニトリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリ
アミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スル
ホランのようなスルホキシド類を挙げることができる。
【００５３】反応温度は、−８０℃乃至１００℃で行な
われるが、好適には、−５０℃乃至５０℃である。反応
時間は、主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用
される溶媒の種類等によって異なるが、通常、５分間乃
至２日間で、好適には、１０分間乃至１日間である。
【００５４】＜方法５＞において使用される酸として
は、通常の反応において酸触媒として使用されるもので
あれば特に限定はないが、好適には塩酸、臭化水素酸、
硫酸、過塩素酸、燐酸のような無機酸又は酢酸、蟻酸、
蓚酸、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、ト
リフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸のよう
な有機酸等のブレンステッド酸或いは塩化亜鉛、四塩化
スズ、ボロントリクロリド、ボロントリフルオリド、ボ
ロントリブロミドのようなルイス酸をあげることがで
き、好適には有機酸であり、更に好適には有機強酸であ
る。
【００５５】＜方法５＞において使用される溶媒として
は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するもの
であれば特に限定はないが、好適には、ヘキサン、ヘプ
タン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水
素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼ
ンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エ
チル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのよう
なエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのような
エ−テル類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニ
トロ化合物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルの
ようなニトリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリ
アミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スル
ホランのようなスルホキシド類を挙げることができる。
【００５６】反応温度は、−５０℃乃至１００℃で行な
われるが、好適には、０℃乃至５０℃である。反応時間
は、主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用され
る溶媒の種類等によって異なるが、通常、５分間乃至２
日間で、好適には、３０分間乃至１日である。
【００５７】低級アルキル化の場合には、例えば、ジメ
チル硫酸、ジエチル硫酸のようなジアルキル硫酸を、塩
基の存在下、反応させることにより行われる。使用され
る塩基は、好適には、水素化ナトリウム、水素化カリウ
ム、水素化リチウムのようなアルカリ金属水素化物であ
る。反応温度は、０乃至120 ℃（好適には、２０乃至８
０℃）であり、反応時間は、１乃至２４時間（好適に
は、１乃至１６時間）である。尚、Ｒ8 基が、「ニトロ
基」でない場合には、Ｒ8 の水酸基を、他の水酸基と異
なった反応条件で除去できる保護基で保護するのが好ま
しく、例えば、試薬の反応性等を利用することにより、
Ｒ8 の水酸基を、他の水酸基の保護基と異なった条件で
除去しうるＲ10基で修飾することが好ましい。
【００５８】G が２個の水素原子を表す場合の、カルボ
ニル基を還元する工程は、I)水素化金属試薬を作用させ
て、カルボニル基を還元しアルコールを得た後、接触水
添によりアルコールを除去する方法、または、II) 直接
接触水添によりカルボニル酸素を除去する方法のいずれ
かの方法により行われる。
【００５９】I)の方法で使用される水素化金属試薬とし
ては、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム
のような水素化ホウ素アルカリ金属、水素化アルミニウ
ムリチウム、水素化トリエトキシアルミニウムリチウム
のような水素化アルミニウム化合物、水素化テルルナト
リウムのようなヒドリド試薬を挙げる事ができる。使用
される溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特
に限定はないが、好適には、メタノール、エタノールの
ようなアルコール類、エーテル、テトラヒドロフランの
ようなエーテル類、水又は上記の混合溶媒を挙げる事が
できる。反応温度は -50℃乃至100 ℃であり、好適に
は、-20 ℃乃至50℃である。反応時間は化合物、反応温
度により変化するが、通常数分乃至２４時間であり、好
適には数分乃至５時間である。反応終了後、たとえば溶
剤を留去し、反応液を水に注ぎ、水と混和しない溶剤、
たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出
し、抽出液より溶剤を留去することによって得られるも
のを、通常、そのまま次の工程に用いる。所望により、
各種クロマトあるいは再結晶法により、単離精製するこ
ともできる。
【００６０】I), II) で行われる接触水添において使用
される触媒としては、パラジウム炭素、水酸化パラジウ
ム炭素、白金、ラネ−ニッケルを挙げる事が出来、好適
にはパラジウム炭素又は水酸化パラジウム炭素である。
使用される溶媒としては、反応を阻害しないものであれ
ば特に限定はないが、好適には、メタノ−ル、エタノ−
ルのようなアルコ−ル類、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンのようなエ−テル類、酢酸のような脂肪酸又はこれ
らの有機溶媒と水との混合溶媒を挙げる事ができる。反
応温度は 0℃乃至100 ℃であり、好適には、１0 ℃乃至
50℃である。反応時間は化合物、反応温度により変化す
るが、通常数分乃至２４時間であり、好適には数分乃至
５時間である。反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反
応液を水に注ぎ、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼ
ン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液より溶
剤を留去することによって得られるものを、通常、その
まま次の工程に用いる。所望により、各種クロマトある
いは再結晶法により、単離精製することもできる。
【００６１】Ｓｔｅｐ ３は、化合物（Ｖ）の（１）Ｒ
8 基が、「保護された水酸基」である場合に、この保護
基を除去する工程、又は、（２）Ｒ8 基が、「ニトロ
基」である場合に、これを還元する工程、により、化合
物（ＶＩ）を製造する工程である。
【００６２】（１）の工程である、「保護された水酸
基」の保護基を除去する工程は、保護基の種類によって
異なるが、一般にこの分野の技術において周知の方法に
よって以下の様に実施される。
【００６３】水酸基の保護基として、シリル基を使用し
た場合には、通常、弗化テトラブチルアンモニウム、弗
化水素酸、弗化水素酸−ピリジン、弗化カリウムのよう
な弗素アニオンを生成する化合物で処理するか、又は、
酢酸、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、ト
リフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸のよう
な有機酸又は塩酸のような無機酸で処理することにより
除去できる。尚、弗素アニオンにより除去する場合に、
蟻酸、酢酸、プロピオン酸のような有機酸を加えること
によって、反応が促進することがある。使用される溶媒
としては、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解す
るものであれば特に限定はないが、好適には、ジエチル
エ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテルのようなエ−テル類；アセトニト
リル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；水；酢
酸のような有機酸及びこれらの混合溶媒を挙げることが
できる。反応温度及び反応時間は、特に限定はないが、
通常、０℃乃至１００℃（好適には、１０℃乃至３０
℃）で、１乃至２４時間実施される。
【００６４】水酸基の保護基が、アラルキル基又はアラ
ルキルオキシカルボニル基である場合には、通常、溶媒
中、還元剤と接触させることにより（好適には、触媒下
に常温にて接触還元）除去する方法又は酸化剤を用いて
除去する方法が好適である。接触還元による除去におい
て使用される溶媒としては、本反応に関与しないもので
あれば特に限定はないが、メタノ−ル、エタノ−ル、イ
ソプロパノ−ルのようなアルコ−ル類、ジエチルエ−テ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−テル
類、トルエン、ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化
水素類、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化
水素類、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル
類、ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ヘキサメチ
ルホスホロトリアミドのようなアミド類、蟻酸、酢酸の
ような脂肪酸類、水、又はこれらの混合溶媒が好適であ
り、更に好適には、アルコ−ル類、脂肪酸類、アルコ−
ル類とエーテル類との混合溶媒、アルコ−ル類と水との
混合溶媒、又は、脂肪酸類と水との混合溶媒である。
【００６５】使用される触媒としては、通常、接触還元
反応に使用されるものであれば、特に限定はないが、好
適には、パラジウム炭素、パラジウム黒、ラネ−ニッケ
ル、酸化白金、白金黒、ロジウム−酸化アルミニウム、
トリフェニルホスフィン−塩化ロジウム、パラジウム−
硫酸バリウムが用いられる。圧力は、特に限定はない
が、通常１乃至１０気圧で行なわれる。反応温度及び反
応時間は、出発物質、溶媒及び触媒の種類等により異な
るが、通常、０℃乃至１００℃（好適には、２０℃乃至
７０℃）、５分乃至４８時間（好適には、１時間乃至２
４時間）である。
【００６６】酸化による除去において使用される溶媒と
しては、本反応に関与しないものであれば特に限定はな
いが、好適には、含水有機溶媒である。このような有機
溶媒として好適には、アセトンのようなケトン類、メチ
レンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロ
ゲン化炭化水素類、アセトニトリルのようなニトリル
類、ジエチルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエ−テル類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのよ
うなアミド類及びジメチルスルホキシドのようなスルホ
キシド類を挙げることができる。使用される酸化剤とし
ては、酸化に使用される化合物であれば特に限定はない
が、好適には、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、ア
ンモニウムセリウムナイトレイト（ＣＡＮ）、２，３−
ジクロロ−５，６−ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン（ＤＤ
Ｑ）が用いられる。反応温度及び反応時間は、出発物
質、溶媒及び触媒の種類等により異なるが、通常、０乃
至１５０℃で、１０分乃至２４時間実施される。
【００６７】又、液体アンモニア中若しくはメタノ−
ル、エタノ−ルのようなアルコ−ル中において、−７８
乃至−２０℃で、金属リチウム、金属ナトリウムのよう
なアルカリ金属類を作用させることによっても除去でき
る。
【００６８】更に、溶媒中、塩化アルミニウム−沃化ナ
トリウム、又はトリメチルシリルイオダイドのようなア
ルキルシリルハライド類を用いても除去することができ
る。使用される溶媒としては、本反応に関与しないもの
であれば特に限定はないが、好適には、アセトニトリル
のようなニトリル類、メチレンクロリド、クロロホルム
のようなハロゲン化炭化水素類又はこれらの混合溶媒が
使用される。反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒
等により異なるが、通常は０乃至５０℃で、５分乃至３
日間実施される。
【００６９】尚、反応基質が硫黄原子を有する場合は、
好適には、塩化アルミニウム−沃化ナトリウムが用いら
れる。
【００７０】水酸基の保護基が、脂肪族アシル基、芳香
族アシル基又はアルコキシカルボニル基である場合に
は、溶媒中、塩基で処理することにより除去される。
【００７１】使用される塩基としては、化合物の他の部
分に影響を与えないものであれば特に限定はないが、好
適にはナトリウムメトキシドのような金属アルコキシド
類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのよ
うなアルカリ金属炭酸塩；水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化リチウム、水酸化バリウムのようなアル
カリ金属水酸化物又はアンモニア水、濃アンモニア−メ
タノ−ルのようなアンモニア類が用いられる。使用され
る溶媒としては、通常の加水分解反応に使用されるもの
であれば特に限定はなく、水；メタノ−ル、エタノ−
ル、n-プロパノ−ルのようなアルコ−ル類、テトラヒド
ロフラン、ジオキサンのようなエ−テル類等の有機溶媒
又は水と上記有機溶媒との混合溶媒が好適である。反応
温度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び使用される塩
基等により異なり特に限定はないが、副反応を抑制する
ために、通常は０乃至１５０℃で、1 乃至１０時間実施
される。
【００７２】水酸基の保護基が、アルコキシメチル基、
テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロチオピラニル
基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロチオフラニ
ル基又は置換されたエチル基である場合には、通常、溶
媒中、酸で処理することにより除去される。使用される
酸としては、通常、ブレンステッド酸又はルイス酸とし
て使用されるものであれば特に限定はなく、好適には、
塩化水素；塩酸、硫酸、硝酸のような無機酸；又は酢
酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエ
ンスルホン酸のような有機酸等のブレンステッド酸：三
弗化ホウ素のようなルイス酸であるが、ダウエックス５
０Ｗのような強酸性の陽イオン交換樹脂も使用すること
ができる。使用される溶媒としては、反応を阻害せず、
出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はな
いが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石
油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トル
エン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンク
ロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、
クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化
炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、
酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチ
ルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリ
コールジメチルエーテルのようなエ−テル類；メタノ−
ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノ−ル、イソプロパノ−
ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、tert−ブタノ−
ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グ
リセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチル
セロソルブ、のようなアルコ−ル類；アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、
シクロヘキサノンのようなケトン類；水、又は、これら
の混合溶媒が好適であり、更に好適には、ハロゲン化炭
化水素類、エステル類又はエ−テル類である。反応温度
及び反応時間は、出発物質、溶媒及び使用される酸の種
類・濃度等により異なるが、通常は−１０乃至１００℃
（好適には、−５乃至５０℃）で、５分乃至４８時間
（好適には、３０分乃至１０時間）である。
【００７３】水酸基の保護基が、アルケニルオキシカル
ボニル基である場合は、通常、水酸基の保護基が前記の
脂肪族アシル基、芳香族アシル基又はアルコキシカルボ
ニル基である場合の除去反応の条件と同様にして、塩基
と処理することにより達成される。
【００７４】尚、アリルオキシカルボニルの場合は、特
にパラジウム、及びトリフェニルホスフィン、又はビス
（メチルジフェニルホスフィン）（１，５−シクロオク
タジエン）イリジウム（Ｉ）・ヘキサフルオロホスフェ
−トを使用して除去する方法が簡便で、副反応が少なく
実施することができる。
【００７５】（２）の工程である、Ｒ8 基の「ニトロ
基」を還元する工程は次のいずれかの方法により行われ
る。
【００７６】＜方法１＞亜鉛、鉄又は錫を使用し、水、
水酸化ナトリウム、アンモニア、酢酸、塩化アンモニウ
ム／水−メタノール中、又は、水−塩酸で行う方法＜方法２＞ 水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチ
ウムのような水素化ホウ素アルカリ金属、水素化テルル
ナトリウムのようなヒドリド試薬を使用し、パラジウム
炭素、塩化錫、四塩化チタン、塩化鉄、塩化コバルト、
塩化ニッケル、塩化銅、銅アセチルアセトン等の触媒存
在下若しくは非存在下に、メタノール、エタノールのよ
うなアルコール類、エーテル、テトラヒドロフランのよ
うなエーテル類又は上記の混合溶媒中で行う方法＜方法３＞ パラジウム炭素、酸化白金、ラネ−ニッケル
のような触媒を用い、メタノ−ル、エタノ−ルのような
アルコ−ル類、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエ−テル類、酢酸のような脂肪酸又はこれらの有機溶
媒と水との混合溶媒中、常温にて、水素、シクロヘキセ
ン、ヒドラジン、蟻酸等により接触還元を行なう方法＜方法４＞ 鉄カルボニル錯体を、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、アルミナ等の触媒存在下又は非存在下
に、アルコール中で作用させる方法＜方法５＞ 硫化ナトリウム又は硫化アンモニウムを、水
酸化ナトリウム又は塩化アンモン存在下若しくは非存在
下に、作用させる方法 尚、反応温度は、−２０℃乃至１００℃であり、好適に
は、０℃乃至４０℃である。反応時間は、使用する化合
物、使用する還元方法及び反応温度等により変化する
が、通常、３０分間乃至２４時間であり、好適には、１
時間乃至１０時間である。
【００７７】Ｓｔｅｐ ４は、化合物（ＶＩ）の「水酸
基」又は「アミノ基」と、（１）一般式Ｍ−（ＣＨ2 ）
n −Ｒ1 を有する化合物、又は、（２）一般式Ｍ−ＣＯ
（ＣＨ2 ）n −Ｒ1 を有する化合物［式中、Ｒ1 、ｎ及
びＭは前記と同意義を示す。］とを、溶媒中、塩基の存
在下に反応させ、次いで、残存する他の水酸基の保護基
を除去し、所望により、更に保護化することにより、本
発明化合物（Ｉ）を製造する工程である。
【００７８】前段の工程において使用される塩基として
は、通常の反応において塩基として使用されるものであ
れば、特に限定はないが、好適には、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、炭酸リチウムのようなアルカリ金属炭酸
塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水
素リチウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩類；水素化
リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのような
アルカリ金属水素化物類；水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化バリウム、水酸化リチウムのようなアル
カリ金属水酸化物類；弗化ナトリウム、弗化カリウムの
ようなアルカリ金属弗化物類等の無機塩基類；ナトリウ
ムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキ
シド、カリウムエトキシド、カリウムtert−ブトキシ
ド、リチウムメトキシドのようなアルカリ金属アルコキ
シド類；メチルメルカプタンナトリウム、エチルメルカ
プタンナトリウムのようなメルカプタンアルカリ金属
類；Ｎ−メチルモルホリン、トリエチルアミン、トリプ
ロピルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチ
ルアミン、ジシクロヘキシルアミン、Ｎ−メチルピペリ
ジン、ピリジン、４−ピロリジノピリジン、ピコリン、
４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、２，６−ジ
（tert−ブチル）−４−メチルピリジン、キノリン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリ
ン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−
エン（ＤＢＮ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．
２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ
［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）のような
有機塩基類又はブチルリチウム、リチウムジイソプロピ
ルアミド、リチウム ビス（トリメチルシリル）アミド
のような有機金属塩基類を挙げることができる。
【００７９】前段の工程において使用される溶媒として
は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するもの
であれば特に限定はないが、好適には、ヘキサン、ヘプ
タン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水
素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼ
ンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エ
チル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのよう
なエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのような
エ−テル類；メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノ−
ル、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−
ル、tert−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチ
レングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘ
キサノール、メチルセロソルブ、のようなアルコ−ル
類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン
類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合
物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニ
トリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドの
ようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホランの
ようなスルホキシド類を挙げることができる。尚、「ア
ミノ基」に関する反応においては、Ｓｔｅｐ ２の＜方
法２＞に記載した方法に準じて、「縮合剤」を使用して
行われる。「水酸基」に関する反応の反応温度は，１０
℃乃至２００℃であり、好適には、２０℃乃至１６０℃
である。「水酸基」に関する反応の反応時間は，使用す
る化合物、使用する塩基及び反応温度等により変化する
が、通常、１０分乃至２０時間であり、好適には、２０
分乃至１０時間である。「アミノ基」に関する反応の反
応温度は、−５０℃乃至１００℃であり、好適には、−
１０℃乃至５０℃である。「アミノ基」に関する反応の
反応時間は、使用する化合物、使用する塩基、使用する
縮合剤及び反応温度等により変化するが、通常、１時間
乃至２４時間であり、好適には、２時間乃至１０時間で
ある。
【００８０】又、化合物（ＶＩ）の「水酸基」と、一般
式Ｍ−（ＣＨ2 ）n −Ｒ1 を有する化合物とを反応させ
る場合には、Ｍが水酸基を示す化合物を使用し、光延反
応に付すのが好ましい。
【００８１】光延反応に使用される試薬としては、通
常、光延反応に使用できる試薬であれば、特に限定はな
いが、好適には、ジエチルアゾジカルボキシレート、ジ
イソプロピルアゾジカルボキシレートのようなジ低級ア
ルキルアゾジカルボキシレート類又は１，１’−（アゾ
ジカルボニル）ジピペリジンのようなヘテロアリールア
ゾジカルボニル類等のアゾ化合物とトリフェニルホスフ
ィンのようなトリアリールホスフィン類又はトリｎ−ブ
チルホスフィンのようなトリ低級アルキルホスフィン類
等のホスフィン類の組合せであり、更に好適には、ジ低
級アルキルアゾジカルボキシレート類とトリアリールホ
スフィン類の組合せであり、最も好適には、ジエチルア
ゾジカルボキシレートとトリフェニルホスフィンの組合
せである。使用される溶媒としては、反応を阻害せず、
出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はな
いが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンのよう
な芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホル
ム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジ
クロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エ
チル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジ
エチルのようなエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソ
プロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエー
テルのようなエ−テル類；アセトニトリル、イソブチロ
ニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジ
ノン、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスルホ
キシド類を挙げることができ、好適には、芳香族炭化水
素類及びエ−テル類である。反応温度は、−２０℃乃至
１００℃で行なわれるが、好適には、０℃乃至５０℃で
ある。反応時間は、主に、反応温度、原料化合物、反応
試薬又は使用される溶媒の種類によって異なるが、通
常、１０分間乃至３日間であり、好適には、３０分間乃
至１２時間である。
【００８２】後段の工程である、他の水酸基の保護基の
除去工程は、Ｓｔｅｐ ３の記載に準じて、同様にして
達成される。
【００８３】所望の工程である、例えば、「生体内で加
水分解のような生物学的方法により開裂し得る保護基」
で保護化する工程は、Ｓｔｅｐ ２の記載に準じて、同
様にして達成される。
【００８４】上記各反応の終了後、各反応の目的化合物
は、常法に従って、反応混合物から採取される。例え
ば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場
合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような
混和しない有機溶媒を加え、水等で洗浄後、目的化合物
を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥
後、溶剤を留去することによって得られる。得られた目
的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿、
又は、通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方
法、例えば、シリカゲル、アルミナ、マグネシウムーシ
リカゲル系のフロリジルのような担体を用いた吸着カラ
ムクロマトグラフィー法；セファデックスＬＨ−２０
（ファルマシア社製）、アンバーライトＸＡＤ−１１
（ローム・アンド・ハース社製）、ダイヤイオンＨＰ−
２０（三菱化成社製）ような担体を用いた分配カラムク
ロマトグラフィー等の合成吸着剤を使用する方法、イオ
ン交換クロマトを使用する方法、又は、シリカゲル若し
くはアルキル化シリカゲルによる順相・逆相カラムクロ
マトグラフィー法（好適には、高速液体クロマトグラフ
ィーである。）を適宜組合せ、適切な溶離剤で溶出する
ことによって分離、精製することができる。
【００８５】尚、異性体を分離する必要がある場合に
は、上記各工程の反応終了後、又は、所望工程の終了後
の適切な時期に、上記分離精製手段によって行なうこと
ができる。
【００８６】Ｓｔｅｐ ５は、化合物（ＶＩＩ）と化合
物（ＩＩＩ）とを、溶媒中、酸又は塩基の存在下に反応
させ、次いで、水酸基を保護することにより、化合物
（ＶＩＩＩ）を製造する工程である。
【００８７】前段の反応において使用される酸として
は、通常の反応において酸触媒として使用されるもので
あれば特に限定はないが、好適には、塩酸、臭化水素
酸、硫酸、過塩素酸、燐酸のような無機酸又は酢酸、蟻
酸、蓚酸、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン
酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸
のような有機酸等のブレンステッド酸或いは塩化亜鉛、
四塩化スズ、ボロントリクロリド、ボロントリフルオリ
ド、ボロントリブロミドのようなルイス酸を挙げること
ができ、更に好適には、有機強酸及びルイス酸であり、
最も好適には、ルイス酸である。前段の反応において使
用される塩基としては、通常の反応において塩基として
使用されるものであれば、特に限定はないが、好適に
は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのよ
うなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなアルカリ金属
炭酸水素塩類；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水
素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸化
リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類；弗化ナトリ
ウム、弗化カリウムのようなアルカリ金属弗化物類等の
無機塩基類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキ
シド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリ
ウムtert−ブトキシド、リチウムメトキシドのようなア
ルカリ金属アルコキシド類；メチルメルカプタンナトリ
ウム、エチルメルカプタンナトリウムのようなメルカプ
タンアルカリ金属類；Ｎ−メチルモルホリン、トリエチ
ルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、ジ
イソプロピルエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、
Ｎ−メチルピペリジン、ピリジン、４−ピロリジノピリ
ジン、ピコリン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリ
ジン、２，６−ジ（tert−ブチル）−４−メチルピリジ
ン、キノリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジ
エチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．
０］ノナ−５−エン（ＤＢＮ）、１，４−ジアザビシク
ロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジ
アザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢ
Ｕ）のような有機塩基類又はブチルリチウム、リチウム
ジイソプロピルアミド、リチウム ビス（トリメチルシ
リル）アミドのような有機金属塩基類を挙げることがで
きる。尚、反応を効果的に行わせるために、ベンジルト
リエチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニ
ウムクロリドのような第４級アンモニウム塩類、ジベン
ゾ−１８−クラウン−６のようなクラウンエーテル類等
を添加することもできる。
【００８８】前段の反応において使用される溶媒として
は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するもの
であれば特に限定はないが、好適には、ヘキサン、ヘプ
タン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水
素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼ
ンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エ
チル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのよう
なエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのような
エ−テル類；メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノ−
ル、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−
ル、tert−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチ
レングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘ
キサノール、メチルセロソルブ、のようなアルコ−ル
類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン
類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合
物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニ
トリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドの
ようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホランの
ようなスルホキシド類を挙げることができ、更に好適に
は、ハロゲン化炭化水素類、アミド類及びエーテル類で
ある。前段の反応の反応温度は、−７８℃乃至１００℃
であり、好適には、２０℃乃至使用する溶媒の還流温度
である。前段の反応の反応時間は、使用する化合物、使
用する酸又は塩基の種類、使用する溶媒及び反応温度等
により変化するが、通常、１時間乃至５０時間であり、
好適には、１０時間乃至３０時間である。
【００８９】後段の工程である、水酸基の保護化工程
は、Ｓｔｅｐ ２の記載に準じて、同様にして達成され
る。
【００９０】Ｓｔｅｐ ６は、化合物（ＶＩＩＩ）と、
アルデヒド化合物（ＩＸ）とを、塩基の存在下に、アル
ドール縮合して、化合物（Ｘ）を製造する工程である。
【００９１】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであとしては、通常の反
応において塩基として使用されるものであれば、特に限
定はないが、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸
水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウム
のようなアルカリ金属炭酸水素塩類；水素化リチウム、
水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金
属水素化物類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化バリウム、水酸化リチウムのようなアルカリ金属水
酸化物類；弗化ナトリウム、弗化カリウムのようなアル
カリ金属弗化物類等の無機塩基類；ナトリウムメトキシ
ド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリ
ウムエトキシド、カリウムtert−ブトキシド、リチウム
メトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類；メチ
ルメルカプタンナトリウム、エチルメルカプタンナトリ
ウムのようなメルカプタンアルカリ金属類；Ｎ−メチル
モルホリン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、
トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジシ
クロヘキシルアミン、Ｎ−メチルピペリジン、ピリジ
ン、４−ピロリジノピリジン、ピコリン、４−（Ｎ，Ｎ
−ジメチルアミノ）ピリジン、２，６−ジ（tert−ブチ
ル）−４−メチルピリジン、キノリン、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジア
ザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン（ＤＢＮ）、
１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡ
ＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウン
デカ−７−エン（ＤＢＵ）のような有機塩基類又はブチ
ルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、リチウム
ビス（トリメチルシリル）アミドのような有機金属塩
基類を挙げることができる。
【００９２】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノ−ル、イソ
プロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、tert
−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリ
コール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノー
ル、メチルセロソルブ、のようなアルコ−ル類；アセト
ニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホ
ルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスルホ
キシド類を挙げることができ、更に好適には、アミド類
である。反応温度は、−７８℃乃至３０℃であり、好適
には、−３０℃乃至１０℃である。反応時間は、使用す
る化合物、使用する溶媒、使用する塩基及び反応温度等
により変化するが、通常、１時間乃至２０時間であり、
好適には、２時間乃至５時間である。
【００９３】Ｓｔｅｐ ７は、化合物（Ｘ）を、溶媒
中、塩基で処理することにより、閉環し、化合物（Ｘ
Ｉ）を製造する工程である。
【００９４】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのような
アルカリ金属炭酸水素塩類；水素化リチウム、水素化ナ
トリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化
物類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリ
ウム、水酸化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物
類；弗化ナトリウム、弗化カリウムのようなアルカリ金
属弗化物類等の無機塩基類；ナトリウムメトキシド、ナ
トリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエ
トキシド、カリウムtert−ブトキシド、リチウムメトキ
シドのようなアルカリ金属アルコキシド類；メチルメル
カプタンナトリウム、エチルメルカプタンナトリウムの
ようなメルカプタンアルカリ金属類；Ｎ−メチルモルホ
リン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブ
チルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジシクロヘ
キシルアミン、Ｎ−メチルピペリジン、ピリジン、４−
ピロリジノピリジン、ピコリン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアミノ）ピリジン、２，６−ジ（tert−ブチル）−４
−メチルピリジン、キノリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリ
ン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシク
ロ［４．３．０］ノナ−５−エン（ＤＢＮ）、１，４−
ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣ
Ｏ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ
−７−エン（ＤＢＵ）のような有機塩基類又はブチルリ
チウム、リチウムジイソプロピルアミド、リチウム ビ
ス（トリメチルシリル）アミドのような有機金属塩基類
を挙げることができる。
【００９５】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノ−ル、イソ
プロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、tert
−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリ
コール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノー
ル、メチルセロソルブ、のようなアルコ−ル類；アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イ
ソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン類；ニトロ
エタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセ
トニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；
ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミ
ド類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスル
ホキシド類を挙げることができ、好適にはアルコール類
である。反応温度は、−５０℃乃至５０℃であり、好適
には、０℃乃至３０℃である。反応時間は、使用する化
合物、使用する塩基、使用する溶媒及び反応温度等によ
り変化するが、通常、１時間乃至２０時間であり、好適
には、３時間乃至１０時間である。Ｓｔｅｐ ８ は、化合物（ＸＩ）について、Ｓｔｅｐ
３の記載に準じて、同様にして反応を行い、化合物（Ｘ
ＩＩ）を製造する工程である。
【００９６】Ｓｔｅｐ ９は、化合物（ＸＩＩ）につい
て、Ｓｔｅｐ ４の記載に準じて、同様にして反応を行
い、本発明化合物（Ｉ）を製造する工程である。
【００９７】上記各反応の終了後、各反応の目的化合物
は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、
反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合に
は濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和
しない有機溶媒を加え、水等で洗浄後、目的化合物を含
む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、
溶剤を留去することによって得られる。得られた目的化
合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又
は、通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方
法、例えば、シリカゲル、アルミナ、マグネシウムーシ
リカゲル系のフロリジルのような担体を用いた吸着カラ
ムクロマトグラフィー法；セファデックスＬＨ−２０
（ファルマシア社製）、アンバーライトＸＡＤ−１１
（ローム・アンド・ハース社製）、ダイヤイオンＨＰ−
２０（三菱化成社製）ような担体を用いた分配カラムク
ロマトグラフィー等の合成吸着剤を使用する方法、イオ
ン交換クロマトを使用する方法、又は、シリカゲル若し
くはアルキル化シリカゲルによる順相・逆相カラムクロ
マトグラフィー法（好適には、高速液体クロマトグラフ
ィーである。）を適宜組合せ、適切な溶離剤で溶出する
ことによって分離、精製することができる。
【００９８】尚、異性体を分離する必要がある場合に
は、上記各工程の反応終了後、又は、所望工程の終了後
の適切な時期に、上記分離精製手段によって行なうこと
ができる。
【００９９】尚、本発明の原料である、化合物（ＩＩ）
及び化合物（ＶＩＩ）は、公知の化合物であるか、又
は、公知の方法に準じて製造することができる。例え
ば、本発明の原料である化合物（ＩＩ）については、以
下〔Ｃ法〕乃至〔Ｅ法〕に準じて製造することができ
る。
【０１００】〔Ｃ法〕は、本発明の原料である化合物
（ＩＩ）の製造方法であり、〔Ｄ法〕は、〔Ｃ法〕にお
ける中間体である化合物（ＸＶＩ）の別途製造方法であ
り、〔Ｅ法〕は、本発明の原料である化合物（ＩＩ）の
別途製造方法である。
【０１０１】〔Ｃ法〕
【０１０２】
【化５】
【０１０３】〔Ｄ法〕
【０１０４】
【化６】
【０１０５】〔Ｅ法〕
【０１０６】
【化７】
【０１０７】上記式中、Ｒ2'、Ｒ3 、Ｒ4'、Ｒ5'、
Ｒ6'、Ｒ7 、Ｍ及びＹは前記と同意義を示す。
【０１０８】Ｓｔｅｐ １０は、化合物（ＸＩＩＩ）
と、化合物（ＸＩＶ）とを、溶媒中、酸触媒の存在下に
縮合して、化合物（ＸＶ）を製造する工程である。
【０１０９】使用される酸触媒としては、通常の反応に
於いて酸触媒として用いられるものであれば特に限定は
ないが、好適には、トリメチルシリルトリフルオロメタ
ンスルホネートのようなトリ低級アルキルシリルトリフ
ルオロメタンスルホネート類、四塩化錫のような錫類、
臭化亜鉛のような亜鉛類、四塩化チタンのようなチタン
類、過塩素酸銀、ホウ弗化銀のような銀類又は過塩素酸
トリメチルシリルエステル、過塩素酸トリフェニルメチ
ルエステルのような過塩素酸類である。使用される溶媒
としては、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解す
るものであれば特に限定はないが、好適には、ヘキサ
ン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪
族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロ
ロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエ
チルのようなエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソプ
ロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
メトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ルのようなエ−テル類；アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキ
サノンのようなケトン類；ニトロエタン、ニトロベンゼ
ンのようなニトロ化合物類；アセトニトリル、イソブチ
ロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチル
ホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチルスルホ
キシド、スルホランのようなスルホキシド類を挙げるこ
とができる。反応温度は、−５０℃乃至６０℃であり、
好適には、−１０℃乃至３０℃である。反応時間は、使
用する化合物、使用する酸触媒、使用する溶媒及び反応
温度等により変化するが、通常、１時間乃至２０時間で
あり、好適には、２時間乃至６時間である。Ｓｔｅｐ １１ は、化合物（ＸＶ）のカルボニル基に対
し、溶媒の存在下若しくは非存在下に、ウィテッヒ反応
を行い、化合物（ＸＶＩ）を製造する工程である。
【０１１０】使用されるウィテッヒ試薬としては、ジエ
チルホスホノ酢酸エチル、ジメチルホスホノ酢酸エチル
のようなホスホノ酢酸エチル類；ヨウ化エトキシカルボ
ニルトリフェニルホスホニウム等のエトキシカルボニル
ホスホニウム塩類等を挙げることができる。使用される
塩基としては、通常の反応において塩基として使用され
るものであれば、特に限定はないが、好適には、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのようなアルカ
リ金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ
ム、炭酸水素リチウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩
類；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウ
ムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸化リチウム
のようなアルカリ金属水酸化物類；弗化ナトリウム、弗
化カリウムのようなアルカリ金属弗化物類等の無機塩基
類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリウムtert
−ブトキシド、リチウムメトキシドのようなアルカリ金
属アルコキシド類；メチルメルカプタンナトリウム、エ
チルメルカプタンナトリウムのようなメルカプタンアル
カリ金属類；Ｎ−メチルモルホリン、トリエチルアミ
ン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、ジイソプ
ロピルエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、Ｎ−メ
チルピペリジン、ピリジン、４−ピロリジノピリジン、
ピコリン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、
２，６−ジ（tert−ブチル）−４−メチルピリジン、キ
ノリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチル
アニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ
−５−エン（ＤＢＮ）、１，４−ジアザビシクロ［２．
２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシ
クロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）のよ
うな有機塩基類又はブチルリチウム、リチウムジイソプ
ロピルアミド、リチウム ビス（トリメチルシリル）ア
ミドのような有機金属塩基類を挙げることができる。使
用できる溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質をあ
る程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適に
は、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルの
ような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチ
ル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのような
エステル類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタ
ン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ
−テル類；メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノ−
ル、イソプロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、イソブタノ−
ル、tert−ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチ
レングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘ
キサノール、メチルセロソルブ、のようなアルコ−ル
類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合
物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニ
トリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドの
ようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホランの
ようなスルホキシド類を挙げることができる。反応温度
は、０℃乃至３００℃であり、好適には、５０℃乃至２
００℃である。 反応時間は、使用する化合物、使用す
る試薬、溶媒及び反応温度等により変化するが、通常、
１時間乃至２０時間であり、好適には、３時間乃至１０
時間である。
【０１１１】Ｓｔｅｐ １２は、化合物（ＸＶＩ）の二
重結合に対し、溶媒中、接触還元反応を行い、本発明の
原料化合物（ＩＩ）を製造する工程である。
【０１１２】使用される接触還元触媒としては、通常の
反応において接触還元触媒として使用されるものであれ
ば、特に限定はないが、好適には、パラジウム炭素、酸
化白金、ラネ−ニッケルを挙げることができる。使用さ
れる溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質をある程
度溶解するものであれば特に限定はないが、好適には、
メタノ−ル、エタノ−ルのようなアルコ−ル類、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−テル類、酢酸の
ような脂肪酸又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒を
挙げることができる。反応温度は、０℃乃至１００℃で
あり、好適には、１０℃乃至５０℃である。反応時間
は、使用する化合物、使用する接触還元触媒、使用する
溶媒及び反応温度により変化するが、通常、１時間乃至
３０時間であり、好適には、２時間乃至１０時間であ
る。
【０１１３】Ｓｔｅｐ １３は、化合物（ＸＶ）と、一
般式Ｍ−ＣＨ2 ＣＯＯＲ7 を有する化合物（式中、Ｒ7
及びＭは前記と同意義を示す。）とを、溶媒中、金属及
び金属塩の存在下、反応させることにより、化合物（Ｘ
ＶＩＩ）を製造する工程である。
【０１１４】使用される金属及び金属塩としては、通常
の縮合反応に用いられるものであれば特に限定はない
が、好適には、マグネシウム、亜鉛、亜鉛銅合金、錫、
二塩化錫、セリウム、塩化セリウム、ヨウ化サマリウム
を挙げることができる。使用される溶媒としては、反応
を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば
特に限定はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リ
グロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベ
ンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジ
クロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのよ
うなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、
酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエス
テル類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、
ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テ
ル類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化
合物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのような
ニトリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミド
のようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホラン
のようなスルホキシド類を挙げることができる。反応温
度は、−１００℃乃至２００℃であり、好適には、０℃
乃至１００℃である。反応時間は、使用する化合物、使
用される金属及び金属塩、使用される溶媒及び反応温度
等により変化するが、通常、１時間乃至２０時間であ
り、好適には、３時間乃至１０時間である。
【０１１５】Ｓｔｅｐ １４は、化合物（ＸＶＩＩ）の
水酸基を、溶媒中、酸を作用させるか、又は塩基の存在
下若しくは非存在下に、脱水剤を使用して、脱水し、化
合物（ＸＶＩ）を別途製造する工程である。
【０１１６】使用される酸としては、通常の反応におい
て酸触媒として使用されるものであれば特に限定はない
が、好適には、塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、燐
酸のような無機酸又は酢酸、蟻酸、蓚酸、メタンスルホ
ン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、ト
リフルオロメタンスルホン酸のような有機酸等のブレン
ステッド酸或は塩化亜鉛、四塩化スズ、ボロントリクロ
リド、ボロントリフルオリド、ボロントリブロミドのよ
うなルイス酸をあげることができ、好適には有機酸であ
り、更に好適には、有機強酸である。
【０１１７】使用される脱水剤としては、通常の反応に
於いて脱水剤として用いられるものであれば特に限定は
ないが、好適には、Ｎ−エチル−５−フェニルイソオキ
サゾリウム−３’−スルホナ−トのようなＮ−低級アル
キル−５−アリールイソオキサゾリウム−３’−スルホ
ナ−ト類；Ｎ’，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミ
ド（ＤＣＣ）のようなＮ’，Ｎ’−ジシクロアルキルカ
ルボジイミド類；ジ−２−ピリジルジセレニドのような
ジヘテロアリールジセレニド類；２−クロル−１−メチ
ルピリジニウム ヨーダイドのような２−ハロ−１−低
級アルキルピリジニウム ハライド；塩化チオニル；オ
キザリルクロリド；五塩化リンを挙げることができる。
使用される塩基としては、通常の反応において塩基とし
て使用されるものであれば、特に限定はないが、好適に
は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのよ
うなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなアルカリ金属
炭酸水素塩類；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水
素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸化
リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類；弗化ナトリ
ウム、弗化カリウムのようなアルカリ金属弗化物類等の
無機塩基類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキ
シド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリ
ウムtert−ブトキシド、リチウムメトキシドのようなア
ルカリ金属アルコキシド類；メチルメルカプタンナトリ
ウム、エチルメルカプタンナトリウムのようなメルカプ
タンアルカリ金属類；Ｎ−メチルモルホリン、トリエチ
ルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、ジ
イソプロピルエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、
Ｎ−メチルピペリジン、ピリジン、４−ピロリジノピリ
ジン、ピコリン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリ
ジン、２，６−ジ（tert−ブチル）−４−メチルピリジ
ン、キノリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジ
エチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．
０］ノナ−５−エン（ＤＢＮ）、１，４−ジアザビシク
ロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジ
アザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢ
Ｕ）のような有機塩基類又はブチルリチウム、リチウム
ジイソプロピルアミド、リチウム ビス（トリメチルシ
リル）アミドのような有機金属塩基類を挙げることがで
きる。使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発
物質をある程度溶解するものであれば特に限定はない
が、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油
エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロ
リド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、ク
ロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭
化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢
酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチル
エ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテルのようなエ−テル類；アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホ
ロン、シクロヘキサノンのようなケトン類；ニトロエタ
ン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニ
トリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホル
ムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスルホ
キシド類を挙げることができる。反応温度は、−２０℃
乃至１５０℃であり、好適には、０℃乃至１００℃であ
る。反応時間は、使用する化合物、使用される脱水剤、
使用される塩基、使用される溶媒及び反応温度により変
化するが、通常、１時間乃至１０時間であり、好適に
は、２時間乃至５時間である。
【０１１８】Ｓｔｅｐ １５は、化合物（ＸＶＩＩＩ）
と化合物（ＸＩＸ）とを、金属若しくは金属塩の存在下
に反応させ、本発明の原料化合物（ＩＩ）を別途製造す
る工程である。
【０１１９】使用される金属若しくは金属塩としては、
通常の縮合反応に用いられるものであれば特に限定はな
いが、好適にはリチウム、ナトリウム、カリウム、マグ
ネシウム、亜鉛、亜鉛銅合金、錫、二塩化錫、セリウ
ム、塩化セリウム、ヨウ化サマリウム等を挙げることが
できる。
【０１２０】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合
物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニ
トリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドの
ようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホランの
ようなスルホキシド類を挙げることができる。反応温度
は、−５０℃乃至５０℃であり、好適には、−３０℃乃
至２０℃である。反応時間は、使用する化合物、使用す
る金属若しくは金属塩、使用する溶媒及び反応温度等に
より変化するが、通常、１時間乃至１０時間であり、好
適には、２時間乃至８時間である。
【０１２１】上記各反応終了後、各反応の目的化合物は
常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反
応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には
濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和し
ない有機溶媒を加え、水等で洗浄後、目的化合物を含む
有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶
剤を留去することによって得られる。得られた目的化合
物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、
通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法、例
えば、シリカゲル、アルミナ、マグネシウムーシリカゲ
ル系のフロリジルのような担体を用いた吸着カラムクロ
マトグラフィー法；セファデックスＬＨ−２０（ファル
マシア社製）、アンバーライトＸＡＤ−１１（ローム・
アンド・ハース社製）、ダイヤイオンＨＰ−２０（三菱
化成社製）ような担体を用いた分配カラムクロマトグラ
フィー等の合成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロ
マトを使用する方法、又は、シリカゲル若しくはアルキ
ル化シリカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフ
ィー法（好適には、高速液体クロマトグラフィーであ
る。）を適宜組合せ、適切な溶離剤で溶出することによ
って分離、精製することができる。
【０１２２】尚、異性体を分離する必要がある場合に
は、上記各工程の反応終了後、又は、所望工程の終了後
の適切な時期に、上記分離精製手段によって行なうこと
ができる。
【０１２３】［Ｆ法］は、化合物(I) のＪがカルボニル
基を有している場合の化合物(I) の製造方法であり、
［Ｇ法］は、Ｊがアルキレン基である場合の別途製造方
法であり、［Ｈ法］は、Ｊが、アルケニレン基である場
合の化合物(I) の製造方法であり、［Ｉ法］は、化合物
(XXVIII)から化合物(XXVI)を得る方法である。
【０１２４】［Ｆ法］
【０１２５】
【化８】
【０１２６】［Ｇ法］
【０１２７】
【化９】
【０１２８】［Ｈ法］
【０１２９】
【化１０】
【０１３０】［Ｉ法］
【０１３１】
【化１１】
【０１３２】R6''は、水素原子、水酸基又は保護された
水酸基を示す。ｓは、０乃至５の整数を示す。ｔは、０
乃至４の整数を示す。
【０１３３】Step 16 は、化合物(II)を、溶媒の存在又
は非存在下に、酸触媒を使用して、脱保護と同時に閉環
し、次いで、水酸基を再保護することにより、化合物(X
X)を製造する工程であり、Step 2と同様に行うことがで
きる。Step 17 は化合物（XX）を酸または塩基の存在下若しく
は非存在下ハロゲン化して化合物（XXI ）を製造する工
程である。
【０１３４】使用されるハロゲン化剤としては塩素、臭
素、よう素などのハロゲン原子；塩化スルフリル；塩化
銅、臭化銅等のハロゲン化銅類；一酸化塩素；次亜塩素
酸ナトリウム、次亜臭素酸、などの次亜ハロゲン酸化合
物；Ｎ−ブロモスクシミド（NBS ）、Ｎ−クロロスクシ
ミド（NCS ）、Ｎ−ヨ−ドスクシミド（NIS ）などのN-
ハロゲン化コハク酸イミド類；四塩化炭素、四臭化炭素
などのハロゲン化炭素類をあげることができる。好適に
はハロゲン原子、N-ハロゲン化コハク酸イミド類であ
り、更に好適には臭素、NBS である。
【０１３５】使用される酸としては、通常の反応におい
て酸触媒として使用されるものであれば特に限定はない
が、好適には塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、燐酸
のような無機酸又は酢酸、蟻酸、蓚酸、メタンスルホン
酸、パラトルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリ
フルオロメタンスルホン酸のような有機酸等のブレンス
テッド酸或いは塩化亜鉛、四塩化スズ、ボロントリクロ
リド、ボロントリフルオリド、ボロントリブロミドのよ
うなルイス酸をあげることができる。
【０１３６】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのような
アルカリ金属炭酸水素塩類；水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化バリウム、水酸化リチウムのようなア
ルカリ金属水酸化物類等の無機塩基類；メチルメルカプ
タンナトリウム、エチルメルカプタンナトリウムのよう
なメルカプタンアルカリ金属類；トリエチルアミン、ト
リブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N-メチ
ルモルホリン、ピリジン、4-(N,N- ジメチルアミノ) ピ
リジン、N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリ
ン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0] ノナ-5- エン、1,4-ジ
アザビシクロ[2.2.2] オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビ
シクロ[5.4.0] ウンデク- 7-エン(DBU) のような有機塩
基類を挙げることができる。好適には有機塩基類であ
り、更に好適にはピリジンである。
【０１３７】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ジクロロ
メタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、
クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化
炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、
酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチ
ルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリ
コールジメチルエーテルのようなエ−テル類；メタノ−
ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、
n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ−ル、イソア
ミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、
オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソル
ブ、のようなアルコ−ル類；アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘ
キサノンのようなケトン類；ニトロエタン、ニトロベン
ゼンのようなニトロ化合物類；アセトニトリル、イソブ
チロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチ
ルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチルスル
ホキシド、スルホランのようなスルホキシド類を挙げる
ことができる。
【０１３８】反応温度は通常-30 乃至150 ℃であり、好
適には-10 乃至80℃である。反応時間は使用される原
料、溶剤、反応温度などにより異なるが、通常10分乃至
１０時間であり、好適には、３０分乃至５時間である。
【０１３９】反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応
液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。
【０１４０】Step 18 は化合物（XXI ）を活性化剤の存
在下若しくは非存在下有機金属により金属化し、アルデ
ヒド（XXII）を作用させることにより化合物（XXIII ）
を得る工程である。
【０１４１】使用される有機金属化合物としては、メチ
ルリチウム、ブチルリチウム、s-ブチルリチウム、t-ブ
チルリチウム、フェニルリチウム等の有機リチウム類を
あげることが出来、好適にはブチルリチウムである。
【０１４２】活性化剤としてはテトラメチルエチレンジ
アミン、１、４ージアザビシクロ[2,2,2] オクタンな
ど、有機金属塩を活性化するものをあげることができ
る。
【０１４３】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ジクロロ
メタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、
クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化
炭化水素類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタ
ン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ
−テル類を挙げることができ好適にはエ−テル、ヘキサ
ン、テトラヒドロフラン及びその混合溶媒である。反応
温度は通常-100乃至150 ℃であり、好適には-80 乃至80
℃である。反応時間は使用される原料、溶剤、反応温度
などにより異なるが、通常10分乃至１０時間であり、好
適には、３０分乃至５時間である。
【０１４４】反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応
液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。
【０１４５】Step 19 は前工程で得られたアルコール
（XXIII ）を酸化してケトン（XXIV）を得る工程であ
る。
【０１４６】使用される酸化剤としては、通常、酸化反
応に使用されるものであれば特に限定はないが、好適に
は、過マンガン酸カリウム、二酸化マンガンのよなな酸
化マンガン類；四酸化ルテニウムのような酸化ルテニウ
ム類；二酸化ゼレンのようなゼレン化合物；塩化鉄のよ
うな鉄化合物；四酸化オスミウムのようなオスミウム化
合物；酸化銀のような銀化合物；酢酸水銀のような水銀
化合物；酸化鉛、四酢酸鉛のような酸化鉛化合物；クロ
ム酸カリウム、クロム酸−硫酸錯体、クロム酸−ピリジ
ン錯体のようなクロム酸化合物、アンモニウムセリウム
ナイトレイト(CAN) のようなセリウム化合物等の無機金
属酸化剤；塩素分子、臭素分子、沃素分子のようなハロ
ゲン分子；過沃素酸ナトリウムのような過沃素酸類；オ
ゾン；過酸化水素水；亜硝酸のような亜硝酸化合物；亜
塩素酸カリウム、亜塩素酸ナトリウムのような亜塩素酸
化合物；過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウムのような過
硫酸化合物等の無機酸化剤；ＤＭＳＯ酸化に使用される
試薬類（ジメチルスルホキシドとジシクロヘキシルカル
ボジイミド、オキザリルクロリド、無水酢酸若しくは五
酸化燐との錯体又はピリジン−無水硫酸の錯体）；t-ブ
チルヒドロパーオキシドのようなパーオキシド類；トリ
フェニルメチルカチオンのような安定なカチオン類；N-
ブロモコハク酸イミドのようなコハク酸イミド類；次亜
塩素酸t-ブチルのような次亜塩素酸化合物；Dess-Marti
n 試薬の様な超原子価よう素化合物類； 2,3- ジクロロ
-5,6- ジシアノ-p- ベンゾキノン(DDQ) のようなキノン
化合物等の有機酸化剤を挙げることができ、更に好適に
は、Dess-Martin 試薬である。
【０１４７】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホル
ムのようなハロゲン化炭化水素類；エ−テル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタンのようなエ
−テル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類；ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類；硫
酸水のような希釈酸；水酸化ナトリウム水のような希釈
塩基；水；アセトン、メチルエチルケトンのようなケト
ン類；ピリジンのような有機塩基又はアセトニトリルの
ようなニトリル類を挙げることができる。
【０１４８】反応温度は-50 ℃乃至100 ℃で行なわれ、
反応時間は、主に反応温度、原料化合物又は使用される
溶媒の種類によって異なるが、通常30分乃至15時間であ
る。尚、上記酸化反応においては、トリエチルベンジル
アンモニウム クロライド、トリブチルベンジルアンモ
ニウム ブロミドのような層間移動触媒を加えることに
よって反応が加速される。
【０１４９】反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応
液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。
【０１５０】Step 20 は化合物（XXIV）の（１）R 8 基
が、「保護された水酸基」である場合に、この保護基を
除去する工程、または、（２）R 8 基が、「ニトロ基」
である場合に、これを還元する工程により、化合物（XX
V ）を製造する工程であり、Step 3と同様に行なうこと
ができる。
【０１５１】Step 21 は化合物（XXV ）の「水酸基」又
は「アミノ基」と、（１）一般式 M-(CH2 )n -R1を有す
る化合物、又は、（２）一般式 M-CO(CH2 )n -R1を有す
る化合物[ 式中、R1、ｎ及びM は前記と同意義を示
す。] とを、溶媒中塩基の存在下に反応させ、次いで、
残存する他の水酸基の保護基を除去し、所望により、更
に保護化することにより、本発明化合物（I ）を製造す
る工程であり、Step 4と同様に行なうことができる。
【０１５２】Step 22 は化合物（XXIII ）の水酸基を溶
媒中活性化するか直接触媒の存在下若しくは非存在下、
還元することにより除去して化合物（XXVI）を得る工程
である。
【０１５３】使用される還元剤としては、水素；リチウ
ム、カリウムなどのアルカリ金属；ボラン、水素化ホウ
素ナトリウムのような水素化ホウ素類；水素化アルミニ
ウムリチウムなどの水素化アルミニウム類；トリエチル
シラン等のシラン類；亜鉛；ヨウ化サマリウム；よう
素；シクロヘキセン；蟻酸などをあげることが出来、好
適には水素である。
【０１５４】使用される触媒としては、酸化白金等の白
金化合物；パラジウム炭素、水酸化パラジウム等のパラ
ジウム類；三弗化ホウ素、塩化アルミニウムなどのルイ
ス酸類；酢酸、トリフルオロ酢酸などの有機酸類；アン
モニア、メチルアミン、エチルアミンなどのアミン類を
あげることができ、好適にはパラジウム類である。
【０１５５】使用される活性化剤としてはジエチルクロ
ロホスフェート、クロロホスホニック ビスジメチルア
ミド、塩化トルエンスルホニル、塩化メタンスルホニル
などをあげることができる。
【０１５６】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ジクロロ
メタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、
クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化
炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、
酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチ
ルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリ
コールジメチルエーテルのようなエ−テル類；メタノ−
ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、
n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ−ル、イソア
ミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、
オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソル
ブ、のようなアルコ−ル類；アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘ
キサノンのようなケトン類；ニトロエタン、ニトロベン
ゼンのようなニトロ化合物類；アセトニトリル、イソブ
チロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチ
ルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチルスル
ホキシド、スルホランのようなスルホキシド類；酢酸な
どの有機酸類；水及びこれらの混合溶媒を挙げることが
できる。
【０１５７】反応温度は-100℃乃至100 ℃で行なわれ、
反応時間は、主に反応温度、原料化合物又は使用される
溶媒の種類によって異なるが、通常30分乃至15時間であ
る。反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応液を水に
注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水と混和し
ない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸エチルな
どで抽出し、抽出液より溶剤を留去することによって得
られるものを、通常、そのまま次の工程に用いる。所望
により、各種クロマトあるいは再結晶法により、単離精
製することもできる。
【０１５８】Step 23 は化合物（XXVI）の（１）R 8 基
が、「保護された水酸基」である場合に、この保護基を
除去する工程、または、（２）R 8 基が、「ニトロ基」
である場合に、これを還元する工程により、化合物（XX
VII ）を製造する工程であり、Step 3と同様に行なうこ
とができる。
【０１５９】Step 24 は化合物（XXVII ）の「水酸基」
又は「アミノ基」と、（１）一般式 M-(CH2 )n -R1を有
する化合物、又は、（２）一般式 M-CO(CH2 )n -R1を有
する化合物[ 式中、R1、ｎ及びM は前記と同意義を示
す。] とを、溶媒中塩基の存在下に反応させ、次いで、
残存する他の水酸基の保護基を除去し、所望により、更
に保護化することにより、本発明化合物（I ）を製造す
る工程であり、Step 4と同様に行なうことができる。
【０１６０】Step 25 は化合物（XXIII ）の水酸基を活
性化した後、塩基存在下水素原子と共に脱離させ化合物
（XXVIII）を得る工程である。
【０１６１】使用される活性化剤としては、塩化メタン
スルホニル、塩化トルエンスルホニル、塩化トリフルオ
ロメタンスルホニル等の塩化スルホニル類；ジエチルク
ロロホスフェート、クロロホスホニック ビスジメチル
アミドなどのクロロリン酸誘導体類；塩化アセチル、塩
化ベンゾイル等の酸クロリド類をあげることができる。
使用される塩基としては、通常の反応において塩基とし
て使用されるものであれば、特に限定はないが、好適に
は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのよ
うなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなアルカリ金属
炭酸水素塩類；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水
素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸化
リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類等の無機塩基
類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウムｔ−ブトキシド、リチウムメトキシドのようなア
ルカリ金属アルコキシド類；メチルメルカプタンナトリ
ウム、エチルメルカプタンナトリウムのようなメルカプ
タンアルカリ金属類；トリエチルアミン、トリブチルア
ミン、ジイソプロピルエチルアミン、N-メチルモルホリ
ン、ピリジン、4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジン、N,
N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジア
ザビシクロ[4.3.0] ノナ-5- エン、1,4-ジアザビシクロ
[2.2.2] オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.
0] ウンデク- 7-エン(DBU) のような有機塩基類又はブ
チルリチウム、リチウムジイソプロピルアミドのような
有機金属塩基類を挙げることができ、好適には有機塩基
類である。 尚、反応を効果的に行わせるために、ベン
ジルトリエチルアンモニウムクロリド、テトラブチルア
ンモニウムクロリドのような第４級アンモニウム塩類、
ジベンゾ-18-クラウン-6のようなクラウンエーテル類等
を添加することもできる。
【０１６２】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ジクロロ
メタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、
クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化
炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、
酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチ
ルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリ
コールジメチルエーテルのようなエ−テル類；アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イ
ソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン類；ニトロ
エタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセ
トニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；
ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミ
ド類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスル
ホキシド類を挙げることができる。
【０１６３】反応温度は-50 ℃乃至150 ℃で行なわれ、
反応時間は、主に反応温度、原料化合物又は使用される
溶媒の種類によって異なるが、通常30分乃至24時間であ
る。反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応液を水に
注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水と混和し
ない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸エチルな
どで抽出し、抽出液より溶剤を留去することによって得
られるものを、通常、そのまま次の工程に用いる。所望
により、各種クロマトあるいは再結晶法により、単離精
製することもできる。
【０１６４】Step 26 は化合物（XXVIII）の（１）R 8
基が、「保護された水酸基」である場合に、この保護基
を除去する工程、または、（２）R 8 基が、「ニトロ
基」である場合に、これを還元する工程により、化合物
（XXIX）を製造する工程であり、Step 3と同様に行なう
ことができる。
【０１６５】Step 27 は化合物（XXIX）の「水酸基」又
は「アミノ基」と、（１）一般式 M-(CH2 )n -R1を有す
る化合物、又は、（２）一般式 M-CO(CH2 )n -R1を有す
る化合物[ 式中、R1、ｎ及びM は前記と同意義を示
す。] とを、溶媒中塩基の存在下に反応させ、次いで、
残存する他の水酸基の保護基を除去し、所望により、更
に保護化することにより、本発明化合物（I ）を製造す
る工程であり、Step 4と同様に行なうことができる。
【０１６６】Step 28 は化合物（XXVIII）を還元し、ｓ
が（ｔ＋１）の場合に化合物（XXVI）を得る工程であ
る。
【０１６７】還元は通常、溶媒中、還元剤と接触させる
ことによる（好適には、触媒下に常温にて接触還元）方
法が好適である。
【０１６８】接触還元において使用される溶媒として
は、本反応に関与しないものであれば特に限定はない
が、メタノ−ル、エタノ−ル、イソプロパノ−ルのよう
なアルコ−ル類、ジエチルエ−テル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンのようなエ−テル類、トルエン、ベンゼ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素類、ヘキサン、シ
クロヘキサンのような脂肪族炭化水素類、酢酸エチル、
酢酸プロピルのようなエステル類、酢酸のような脂肪酸
類又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒が好適であ
る。
【０１６９】使用される触媒としては、通常、接触還元
反応に使用されるものであれば、特に限定はないが、好
適には、パラジウム炭素、ラネ−ニッケル、酸化白金、
白金黒、ロジウム−酸化アルミニウム、トリフェニルホ
スフィン−塩化ロジウム、パラジウム−硫酸バリウムが
用いられる。
【０１７０】圧力は、特に限定はないが、通常１乃至１
０気圧で行なわれる。
【０１７１】反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒
及び触媒の種類等により異なるが、通常、０乃至１００
℃で、５分乃至２４時間実施される。
【０１７２】反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応
液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。
【０１７３】本発明の新規なフラバノン及びそのカルバ
誘導体は、優れた特異的エストロゲンリセプター結合能
を有し、且つ、毒性も少ないので、エストロゲンの減少
に起因する疾患（例えば、無月経、無排卵周期症、機能
性子宮出血、子宮発育不全等）、更年期障害、骨粗鬆
症、前立腺癌、前立腺肥大症及び高コレステロール症等
の予防剤及び治療剤として有用である。
【０１７４】本発明の化合物（Ｉ）の投与形態として
は、例えば、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくは
シロップ剤等による経口投与又は注射剤若しくは坐剤等
による非経口投与を挙げることができ、これらの製剤
は、賦形剤（例えば、乳糖、白糖、葡萄糖、マンニッ
ト、ソルビットのような糖誘導体；トウモロコシデンプ
ン、バレイショデンプン、α澱粉、デキストリン、カル
ボキシメチルデンプンのような澱粉誘導体；結晶セルロ
ース、低置換度ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロ
キシプロピルメチルセルロース、カルボキシメチルセル
ロース、カルボキシメチルセルロースカルシウム、内部
架橋カルボキシメチルセルロースナトリウムのようなセ
ルロース誘導体；アラビアゴム；デキストラン；プルラ
ンのような有機系賦形剤：及び、軽質無水珪酸、合成珪
酸アルミニウム、メタ珪酸アルミン酸マグネシウムのよ
うな珪酸塩誘導体；燐酸カルシウムのような燐酸塩；炭
酸カルシウムのような炭酸塩；硫酸カルシウムのような
硫酸塩等の無機系賦形剤を挙げることができる。）、滑
沢剤（例えば、ステアリン酸、ステアリン酸カルシウ
ム、ステアリン酸マグネシウムのようなステアリン酸金
属塩；タルク；コロイドシリカ；ビーガム、ゲイ蝋のよ
うなワックス類；硼酸；アジピン酸；硫酸ナトリウムの
ような硫酸塩；グリコール；フマル酸；安息香酸ナトリ
ウム；ＤＬロイシン；脂肪酸ナトリウム塩；ラウリル硫
酸ナトリウム、ラウリル硫酸マグネシウムのようなラウ
リル硫酸塩；無水珪酸、珪酸水和物のような珪酸類；及
び、上記澱粉誘導体を挙げることができる。）、結合剤
（例えば、ポリビニルピロリドン、マクロゴール、及
び、前記賦形剤と同様の化合物を挙げることができ
る。）、崩壊剤（例えば、前記賦形剤と同様の化合物、
及び、クロスカルメロースナトリウム、カルボキシメチ
ルスターチナトリウム、架橋ポリビニルピロリドンのよ
うな化学修飾されたデンプン・セルロース類を挙げるこ
とができる。）、安定剤（メチルパラベン、プロピルパ
ラベンのようなパラオキシ安息香酸エステル類；クロロ
ブタノール、ベンジルアルコール、フェニルエチルアル
コールのようなアルコール類；塩化ベンザルコニウム；
フェノール、クレゾールのようなフェノール類；チメロ
サール；デヒドロ酢酸；及び、ソルビン酸を挙げること
ができる。）、矯味矯臭剤（例えば、通常使用される、
甘味料、酸味料、香料等を挙げることができる。）、希
釈剤等の添加剤を用いて周知の方法で製造される。その
使用量は症状、年齢、投与方法等により異なるが、例え
ば、経口投与の場合には、１回当り、下限として０．０
１mg/kg 体重（好ましくは、０．１mg/kg体重）、上限
として、１００mg/kg 体重（好ましくは、２０mg/kg 体
重）を、静脈内投与の場合には、１回当り、下限として
０．０１mg/kg 体重（好ましくは、０．１mg/kg 体
重）、上限として、１００mg/kg 体重（好ましくは、２
０mg/kg体重）を１日当り１乃至数回症状に応じて投与
することが望ましい。
【０１７５】以下に、下図のような実施例及び試験例を
挙げて本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれ
らに限定されるものではない。
【０１７６】
【化１２】
【０１７７】
【化１３】
【０１７８】
【化１４】
【０１７９】
【化１５】
【０１８０】
【化１６】
【０１８１】
【化１７】
【０１８２】
【化１８】
【０１８３】
【化１９】
【０１８４】
【実施例１】７，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−［４−（２−ピペリジノエトキシ）フェニ
ル］メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１
−オン
【０１８５】
【実施例１（ａ）】３’，４’，４−トリメトキシデオキシベンゾイン ３，４−ジメトキシフェニル酢酸８ｇ（４０ｍｍｏｌ）
を、ベンゼン１００ｍｌに懸濁させ、氷冷下、塩化チオ
ニル４．４６ｍｌ（６０ｍｍｏｌ）を加え、３時間加熱
還流した。溶媒を留去した後、再び氷冷し、アニソール
５０ｍｌ及び塩化アルミニウム５．８７ｇ（４４ｍｍｏ
ｌ）を加え、室温で３時間攪拌した。稀塩酸及び酢酸エ
チルを加え、抽出し、有機層を水及び飽和食塩水で洗浄
した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去
した。得られた残渣をヘキサンで３回洗浄し、標記化合
物８ｇ（７０％）を得た。 薄層クロマトグラフィー：Ｒｆ値（展開溶媒：酢酸エチ
ル／ヘキサン＝２／１）＝０．７ 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：7.99(d,2H,J=8.6Hz),6.92(d,2H,J=8.6Hz),
6.84-6.79(m,3H),4.17(s,2H),3.86(s,3H),3.85(s,s,3H,
3H)
【０１８６】
【実施例１（ｂ）】４−（３，４−ジメトキシフェニル）−３−（４−メト
キシフェニル）ブタン酸エチル 氷冷下、トリエチルフォスフォノアセテート３０ｍｌ
に、ナトリウムヒドリド３．３５ｇ（８８．６ｍｍｏ
ｌ）を加え、３０分攪拌した後、実施例１（ａ）で得ら
れた（３’，４’，４−トリメトキシデオキシベンゾイ
ン２．５ｇ（８．８６ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃で３
時間攪拌した。酢酸エチルを加え、水及び飽和食塩水で
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去
した。得られた残渣３．１６ｇをエタノール１００ｍｌ
に溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ３００ｍｇを加え、水素気
流下、室温にて３時間接触水素添加をした。セライトを
用いて濾過した後、溶媒を留去し、得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチ
ル／ヘキサン＝６／１）を用いて精製し、標記化合物
３．０ｇ（９２％）を得た。 薄層クロマトグラフィー：Ｒｆ値（展開溶媒：酢酸エチ
ル／ヘキサン＝２／１）＝０．６ 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：7.04(d,2H,J=8.6Hz),6.78(d,2H,J=8.6Hz),
6.73-6.45(m,3H),4.00(q,2H,J=7.2Hz),3.83(s,3H),3.76
(s,3H),3.74(s,3H),3.35-3.29(m,1H),2.83-2.80(m,2H),
2.66-2.51(m,2H),1.12(t,3H,J=7.2Hz)
【０１８７】
【実施例１（ｃ）】４−［３，４−ジメトキシ−６−（４−メシルオキシフ
ェニルメチル）フェニル］−３−（４−メトキシフェニ
ル）ブタン酸エチル 実施例１（ｂ）で得られた、４−（３，４−ジメトキシ
フェニル）−３−（４−メトキシフェニル）ブタン酸エ
チル１ｇ（２．８ｍｍｏｌ）を、塩化メチレン５０ｍｌ
に溶解させ、氷冷下、ｐ−メシルオキシベンジルブロミ
ド７４０ｍｇ（２．８ｍｍｏｌ）及び過塩素酸銀５８０
ｍｇ（２．８ｍｍｏｌ）を加え、５時間撹拌した。セラ
イトを用いてろ過した後、水洗し、飽和食塩水で洗浄
し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を
留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）
を用いて精製し、標記化合物５００ｍｇ（３３％）を得
た。 薄層クロマトグラフィー：Ｒｆ値（展開溶媒：ヘキサン
／酢酸エチル＝２／１）＝０．４ 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：7.16(d,2H,J=8.6Hz),7.08(d,2H,J=8.6Hz),
6.94(d,2H,J=8.6Hz),6.76(d,2H,J=8.6Hz),6.52(s,1H),
6.36(s,1H),4.00(q,2H,J=7.2Hz),3.86-3.82(m,2H),3.77
(s,3H),3.76(s,3H),3.69(s,3H),3.26-3.18(m,1H),3.11
(s,3H),2.88-2.81(m,1H),2.76-2.58(m,3H),1.12(t,3H,J
=7.2Hz)
【０１８８】
【実施例１（ｄ）】７，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−（４−メシルオキシフェニル）メチル−３，
４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オン 実施例１（ｃ）で得られた、４−［３，４−ジメトキシ
−６−（４−メシルオキシフェニルメチル）フェニル］
−３−（４−メトキシフェニル）ブタン酸エチル５００
ｍｇ（０．９２ｍｍｏｌ）を、塩化エチレン１００ｍｌ
に溶解させ、−７８℃冷却下、１Ｍ臭化ホウ素−塩化メ
チレン溶液９．２ｍｌ（９．２ｍｍｏｌ）を加え、室温
で一昼夜撹拌した。溶液を氷冷した後、メタノール２０
ｍｌを加えた。溶媒を留去し、酢酸エチルを加え、水洗
した後、飽和食塩水で洗浄し、有機層を硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。減圧下、溶媒を留去し、得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキ
サン／酢酸エチル＝３／１）を用いて精製し、標記化合
物４６０ｍｇ（８６％）を得た。 薄層クロマトグラフィー：Ｒｆ値（展開溶媒：ヘキサン
／酢酸エチル＝１／１）＝０．４ 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
Ｄ3 ＯＤ）：7.16(d,2H,J=8.6Hz),7.08(d,2H,J=8.6Hz),
7.03(d,2H,J=8.6Hz),6.97(s,1H),6.78(d,2H,J=8.6Hz),
3.90(s,2H),3.34-3.24(m,1H),3.13(s,3H),3.05-2.68(m,
4H)
【０１８９】
【実施例１（ｅ）】７，８−ジベンジルオキシ−３−（４−ベンジルオキシ
フェニル）−５−（４−メシルオキシフェニル）メチル
−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オン 実施例１（ｄ）で得られた、７，８−ジヒドロキシ−３
−（４−ヒドロキシフェニル）−５−（４−メシルオキ
シフェニル）メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタ
レン−１−オン１１５ｍｇ（０．２５３ｍｍｏｌ）を、
エタノール１００ｍｌに懸濁させ、氷冷下、ベンジルブ
ロミド２１６ｍｇ（１．２６ｍｍｏｌ）及び炭酸カリウ
ム１７４ｍｇ（１．２６ｍｍｏｌ）を加え、３時間、加
熱還流した。溶媒を留去し、酢酸エチル、水及び飽和重
層水を順次加え 洗浄した後、有機層を硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサ
ン／酢酸エチル＝４／１）を用いて精製し、標記化合物
１１７ｍｇ（６４％）を得た。 薄層クロマトグラフィー：Ｒｆ値（展開溶媒：ヘキサン
／酢酸エチル＝２／１）＝０．５ 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：7.60-7.30(m,15H),7.20(d,2H,J=8.6Hz),7.
12(d,2H,J=8.6Hz),7.05(d,2H,J=8.6Hz),6.95(d,2H,J=8.
6Hz),6.94(s,1H),5.18-5.13(m,2H),5.12(s,2H),5.08(s,
2H),3.95(s,2H),3.30-3.23(m,1H),3.16(s,3H),3.14-2.7
5(m,4H)
【０１９０】
【実施例１（ｆ）】７，８−ジベンジルオキシ−３−（４−ベンジルオキシ
フェニル）−５−（４−ヒドロキシフェニル）メチル−
３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オン 実施例１（ｅ）で得られた、７，８−ジベンジルオキシ
−３−（４−ベンジルオキシフェニル）−５−（４−メ
シルオキシフェニル）メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ
−ナフタレン−１−オン１１７ｍｇ（０．１６ｍｍｏ
ｌ）を、エタノール：テトラヒドロフラン＝２：１の混
合溶媒１０ｍｌに溶解させ、１Ｎ水酸化ナトリウム１ｍ
ｌを加え、２時間加熱還流した。溶媒を留去し、酢酸エ
チル、水及び飽和重層水を順次加え、洗浄した後、有機
層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去し
た。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
−（展開溶媒：塩化メチレン／酢酸エチル＝１００／
１）を用いて精製し、標記化合物１１７ｍｇ（６４％）
を得た。 薄層クロマトグラフィー：Ｒｆ値（展開溶媒：塩化メチ
レン／酢酸エチル＝１００／１）＝０．２ 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：7.56-7.30(m,15H),7.10(d,2H,J=8.6Hz),6.
93(s,1H),6.92(d,2H,J=8.6Hz),6.85(d,2H,J=8.6Hz),6.7
2(d,2H,J=8.6Hz),5.14-5.08(m,2H),5.07(s,2H),5.05(s,
2H),3.83(br.s,1H),3.28-3.22(m,1H),3.16-3.06(m,1H),
2.88-2.66(m,H)
【０１９１】
【実施例１（ｇ）】７，８−ジベンジルオキシ−３−（４−ベンジルオキシ
フェニル）−５−［４−（２−ピペリジノエトキシ）フ
ェニル］メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン
−１−オン 実施例１（ｆ）で得られた、７，８−ジベンジルオキシ
−３−（４−ベンジルオキシフェニル）−５−（４−ヒ
ドロキシフェニル）メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−
ナフタレン−１−オン５０ｍｇ（０．０７７ｍｍｏｌ）
及びＮ−（クロロエチル）ピペリジン塩酸塩３０ｍｇ
（０．１５ｍｍｏｌ）を、ジメチルホルムアミド６ｍｌ
に溶解させ、窒素気流下、炭酸カリウム４２ｍｇ（０．
３ｍｍｏｌ）を加え、１００℃にて、４時間撹拌した。
溶媒を留去し、酢酸エチル及び水を加え、洗浄した後、
有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去
した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（展開溶媒：酢酸エチル）を用いて精製し、標記化
合物２１ｍｇ（３６％）を得た。 薄層クロマトグラフィー：Ｒｆ値（展開溶媒：酢酸エチ
ル）＝０．２ 核磁気共鳴スペクトルδｐｐｍ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ3 ＋ＣＤ3 ＯＤ）：7.56-7.29(m,15H),7.11(d,2H,J=
8.6Hz),6.94-6.88(m,5H),6.80(d,2H,J=8.6Hz),5.12-5.0
8(m,2H),5.06(s,2H),5.05(s,2H),4.10(t,2H,J=6.0Hz),
3.84(s,2H),3.28-3.15(m,2H),2.80(t,2H,J=6.0Hz),2.72
-2.65(m,3H),2.53-2.51(m,4H),1.64-1.60(m,4H),1.46-
1.43(m,2H
【０１９２】
【実施例１（ｈ）】７，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−［４−（２−ピペリジノエトキシ）フェニ
ル］メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１
−オン 実施例１（ｇ）で得られた、７，８−ジベンジルオキシ
−３−（４−ベンジルオキシフェニル）−５−［４−
（２−ピペリジノエトキシ）フェニル］メチル−３，４
−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オン２１ｍｇ
（０．０２８ｍｍｏｌ）を、エタノール５ｍｌに溶解さ
せ、１０％Ｐｄ−Ｃ１０ｍｇを加え、水素雰囲気下、室
温で６時間撹拌した。セライトを用いてろ過した後、溶
媒を留去し、分取薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：
塩化メチレン／メタノール＝１０／１）を用いて精製
し、標記化合物１１ｍｇ（８０％）を得た。そのうち、
５ｍｇを塩酸−メタノ−ルを用いて塩酸塩とした。 薄層クロマトグラフィー：Ｒｆ値（展開溶媒：塩化メチ
レン／メタノール＝１０／１）＝０．２ 核磁気共鳴スペクトルδｐｐｍ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ3 ＋ＣＤ3 ＯＤ）：6.99(s,1H),6.83(d,2H,J=8.6Hz),
6.74(d,2H,J=8.6Hz),6.66(d,2H,J=8.6Hz),6.59(d,2H,J=
8.6Hz),4.10(t,2H,J=6.0Hz),3.88-3.70(m,2H),3.40-3.2
8(m,1H),3.12-3.03(m,1H),2.92-2.80(m,3H),2.88(t,3H,
J=6.0Hz),2.65-2.52(m,4H),1.72-1.64(m,4H),1.51-1.43
(m,2H)
【０１９３】
【実施例２】７，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−［４−（２−（４−モルホリノ）エトキシ）
フェニル］メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレ
ン−１−オン 実施例１（ｆ）で得た、７，８−ジベンジルオキシ−３
−（４−ベンジルオキシフェニル）−５−（４−ヒドロ
キシフェニル）メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン１９．９ｍｇ（０．０３ｍｍｏｌ）及
びＮ−（クロロエチル）モルホリン塩酸塩８．６ｍｇ
（０．０６ｍｍｏｌ）を、ジメチルホルムアミド２ｍｌ
に溶解させ、窒素気流下、炭酸カリウム１３ｍｇ（０．
０９ｍｍｏｌ）を加え、１００ ℃にて４時間撹拌し
た。溶媒を留去し、水及び酢酸エチルを加え有機層を抽
出した後、減圧下溶媒を留去し、残査２３．６ｍｇを得
た。得られた残渣を、エタノール：テトラヒドロフラン
＝１：１の混合溶媒４ｍｌに溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ
１０ｍｇを加え、水素雰囲気下、室温で６時間撹拌し
た。セライトを用いてろ過した後、溶媒を留去し、分取
薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン／メ
タノール＝１０／１）を用いて精製し、標記化合物１
３．２ｍｇ（８８．２％）を得た。 薄層クロマトグラフィー：Ｒｆ値（展開溶媒：塩化メチ
レン／メタノール＝１０／１）＝０．２５ 核磁気共鳴スペクトルδｐｐｍ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ3 ＋ＣＤ3 ＯＤ）：12.55(s,1H),6.98-6.90(m,5H),6.
75-6.66(m,4H),4.08(t,2H,J=5.5Hz),3.81(s,2H),3.75
(t,2H,J=4.7Hz),3.37-3.29(m,1H),3.11(dd,1H,J=4.1,1
6.3Hz),2.90-2.74(m,5H),2.70-2.55(m,4H) マススペクトル ｍ／ｚ：４８９（Ｍ+ ）
【０１９４】
【実施例３】７，８−ジヒドロキシ−３−（４−ジヒドロキシフェニ
ル）−５−［４−（２−ジメチルアミノエトキシ）フェ
ニル］メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−
１−オン 実施例１（ｆ）で得た、７，８−ジベンジルオキシ−３
−（４−ベンジルオキシフェニル）−５−（４−ヒドロ
キシフェニル）メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン１５．７ｍｇ（０．０２４ｍｍｏｌ）
及び２−ジメチルアミノエチルクロリド塩酸塩３．５ｍ
ｇ（０．２４ｍｍｏｌ）を、ジメチルホルムアミド２ｍ
ｌに溶解させ、窒素気流下、炭酸カリウム３３ｍｇ
（０．２４ｍｍｏｌ）を加え、１００℃にて４時間撹拌
した。溶媒を留去し、水及び酢酸エチルを加え、有機層
を抽出した後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣
を、エタノール：テトラヒドロフラン＝１：１の混合溶
媒４ｍｌに溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ１０ｍｇを加え、
水素雰囲気下、室温で６時間撹拌した。セライトを用い
てろ過した後、溶媒を留去し、分取薄層クロマトグラフ
ィー（展開溶媒：塩化メチレン／メタノール＝５／１）
を用いて精製し、標記化合物７．０ｍｇ（６４．５％）
を得た。 薄層クロマトグラフィー：Ｒｆ値（展開溶媒：塩化メチ
レン／メタノール＝５／１）＝０．２５ 核磁気共鳴スペクトルδｐｐｍ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ3 ＋ＣＤ3 ＯＤ）：6.97-6.86(m,5H),6.77-6.68(m,4
H),4.07(t,2H,J=5.4Hz),3.84(d,1H,J=15.9Hz),3.78(d,1
H,J=15.9Hz),3.35(m,1H),3.09(dd,1H,J=4.2,16.2Hz),2.
91-2.64(m,5H),2.40(s,6H) マススペクトル ｍ／ｚ：４４７（Ｍ+ ）
【０１９５】
【実施例４】７，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−［４−（２−ピロリジノエトキシ）フェニ
ル］メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１
−オン 実施例１（ｆ）で得た、７，８−ジベンジルオキシ−３
−（４−ベンジルオキシフェニル）−５−（４−ヒドロ
キシフェニル）メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン１１．４ｍｇ（０．０１７ｍｍｏｌ）
及びＮ−（クロロエチル）ピロリジン塩酸塩２８ｍｇ
（０．１７ｍｍｏｌ）を、ジメチルホルムアミド３ｍｌ
に溶解させ、窒素気流下、炭酸カリウム２３ｍｇ（０．
１７ｍｍｏｌ）を加え、１００℃にて、４時間撹拌し
た。溶媒を留去し、水及び酢酸エチルを加え、有機層を
抽出した後、減圧下溶媒を留去し、残査を得た。得られ
た残渣を、エタノール：テトラヒドロフラン＝１：１の
混合溶媒４ｍｌに溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ１０ｍｇを
加え、水素雰囲気下、室温で６時間撹拌した。セライト
を用いてろ過した後、溶媒を留去し、分取薄層クロマト
グラフィー（展開溶媒：塩化メチレン／メタノール＝５
／１）を用いて精製し、標記化合物４．０ｍｇ（４８
％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：塩化メチ
レン／メタノール＝５／１）＝０．２０ 核磁気共鳴スペクトルδｐｐｍ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ3 ＋ＣＤ3 ＯＤ）：7.01-6.84(m,5H),6.77-6.66(m,4
H),4.27-4.17(m,2H),3.85(d,1H,J=15.8Hz),3.78(d,1H,J
=15.8Hz),3.34-2.70(m,11H),2.03-1.86(m,4H) マススペクトル ｍ／ｚ：４７３（Ｍ+ ）
【０１９６】
【実施例５】７，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−［４−（２−アゼパン−１−イルエトキシ）
フェニル］メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレ
ン−１−オン 実施例１（ｆ）で得た、７，８−ジベンジルオキシ−３
−（４−ベンジルオキシフェニル）−５−（４−ヒドロ
キシフェニル）メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン１７．６ｍｇ（０．０２７ｍｍｏｌ）
及びＮ−（クロロエチル）ヘキサメチレンイミン塩酸塩
１５．８ｍｇ（０．０６ｍｍｏｌ）を、ジメチルホルム
アミド３ｍｌに溶解させ、窒素気流下、炭酸カリウム１
１ｍｇ（０．０６ｍｍｏｌ）を加え、１００℃にて４時
間撹拌した。溶媒を留去し、水及び酢酸エチルを加え、
有機層を抽出した後、減圧下溶媒を留去し、残査を得
た。得られた残渣をエタノール：テトラヒドロフラン＝
１：１の混合溶媒４ｍｌに溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ１
０ｍｇを加え、水素雰囲気下、室温で６時間撹拌した。
セライトを用いてろ過した後、溶媒を留去し、分取薄層
クロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン／メタノ
ール＝５／１）を用いて精製し、標記化合物２．３ｍｇ
（２７．５％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：塩化メチ
レン／メタノール＝５／１）＝０．２５ 核磁気共鳴スペクトルδｐｐｍ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ3 ＋ＣＤ3 ＯＤ）：6.96-6.88(m,5H),6.78-6.72(m,4
H),4.37-4.22(m,23H),3.85(d,1H,J=15.8Hz),3.78(d,1H,
J=15.8Hz),3.39-2.71(m,11H),1.82-1.52(m,8H) マススペクトル ｍ／ｚ：５０１（Ｍ+ ）
【０１９７】
【実施例６】６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−［４−（２−ピペリジノエトキシ）フェニ
ル］メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１
−オン
【０１９８】
【実施例６（ａ）】３’，５’，４−トリメトキシデオキシベンゾイン ３，５−ジメトキシフェニル酢酸３ｇ（１５．４ｍｍｏ
ｌ）を、ベンゼン５０ｍｌに懸濁させ、氷冷下、オキザ
リルクロリド２ｇ（１６．０ｍｍｏｌ）及びジメチルホ
ルムアミド２滴を加え、３時間攪拌した。溶媒を留去し
た後、アニソール１０ｍｌ及び塩化アルミニウム２．１
ｇ（１５．８ｍｍｏｌ）加え、室温で３時間攪拌した。
稀塩酸及び酢酸エチルを加え、抽出し、有機層を水及び
飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、
減圧下溶媒を留去した。得られた残渣を、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキ
サン＝３／１）を用いて精製し、標記化合物３．１８ｇ
（７２．４％）を得た。 薄層クロマトグラフィー：Ｒｆ値（展開溶媒：酢酸エチ
ル／ヘキサン＝２／１）＝０．７ 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ（２７０ＭＨｚ，ＣＤ
Ｃｌ3 ）：7.99(d,2H,J=8.6Hz),6.92(d,2H,J=8.6Hz),6.
43-6.34(m,3H),4.15(s,2H),3.85(s,3H),3.76(s,3H,3H)
【０１９９】
【実施例６（ｂ）】４−（３，５−ジメトキシフェニル）−３−（４−メト
キシフェニル）ブタン酸エチル トリエチルフォスフォノアセテート１４ｇ（６２．５ｍ
ｍｏｌ）に、氷冷下、ナトリウムヒドリド１４ｇ（６
２．５ｍｍｏｌ）を加え、３０分攪拌した後、実施例６
（ａ）で得た、３’，５’，４−トリメトキシデオキシ
ベンゾイン３．１８ｇ（１１．１ｍｍｏｌ）を加え、１
２０℃で３時間攪拌した。酢酸エチルを加え、水及び飽
和食塩水で洗浄した後、得られた残渣３ｇをエタノール
１００ｍｌに溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ５００ｍｇを加
え、水素気流下、室温にて３時間、接触水素添加を行っ
た。セライトを用いて濾過した後、溶媒を留去し、得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開
溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝６／１）を用いて精製
し、標記化合物２．３８ｇ（６０％）を得た。 薄層クロマトグラフィー：Ｒｆ値（展開溶媒：酢酸エチ
ル／ヘキサン＝５／１）＝０．７ 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：7.02(d,2H,J=8.6Hz),6.79(d,2H,J=8.6Hz),
6.28-6.26(m,1H),6.20-6.19(m,2H),3.99(q,2H,J=7.1H
z),3.76(s,3H),3.71(s,3H,3H),3.38-3.32(m,1H),2.83-
2.79(m,2H),2.68-2.50(m,2H),1.11(t,3H,J=7.1Hz)
【０２００】
【実施例６（ｃ）】４−（３，５−ジメトキシフェニル）−３−（４−メト
キシフェニル）ブタン酸エチル（別法） 実施例６（ａ）で得た、３’，５’，４−トリメトキシ
デオキシベンゾイン７．４７ｇ（２６ｍｍｏｌ）を、テ
トラヒドロフラン１５０ｍｌに溶解させ、亜鉛−銅合金
（約亜鉛９１％−銅５％）３．２ｇ及びブロモ酢酸エチ
ル３．５ｍｌを加え、窒素雰囲気下６時間加熱還流し
た。稀塩酸及び酢酸エチルを加え、抽出し、有機層を、
水及び飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾
燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣７．６１ｇ
に、ベンゼン１００ｍｌ及びｐ−トルエンスルホン酸１
００ｍｇを加え、窒素気流下、３時間加熱還流した。水
及び酢酸エチルを加え、抽出し、有機層を水及び飽和食
塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下
溶媒を留去した。得られた残渣７．１８ｇを、エタノー
ル１００ｍｌに溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ５００ｍｇを
加え、水素気流下、室温にて、６時間接触水素添加をし
た。セライトを用いて濾過した後、溶媒を留去し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢
酸エチル／ヘキサン＝６／１）を用いて精製し、標記化
合物５．６６ｇ（５７％）を得た。
【０２０１】
【実施例６（ｄ）】４−［３，５−ジメトキシ−６−（４−メシルオキシフ
ェニルメチル）フェニル］−３−（４−メトキシフェニ
ル）ブタン酸エチル 実施例６（ｂ）又は（ｃ）で得た、４−（３，５−ジメ
トキシフェニル）−３−（４−メトキシフェニル）ブタ
ン酸エチル７．６ｇ（２２．１ｍｍｏｌ）を、塩化メチ
レン５００ｍｌに溶解させ、氷冷下、ｐ−メシルオキシ
ベンジルブロミド５．８ｇ（２２．１ｍｍｏｌ）及び過
塩素酸銀４．５ｇ（２２．１ｍｍｏｌ）を加え、５時間
撹拌した。セライトを用いてろ過した後、水洗し、飽和
食塩水で洗浄した後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣を、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢
酸エチル＝４／１）を用いて精製し、標記化合物４．１
９ｇ（３５．９％）を得た。 薄層クロマトグラフィー：Ｒｆ値（展開溶媒：ヘキサン
／酢酸エチル＝２／１）＝０．４ 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：7.12(d,2H,J=8.7Hz),7.06(d,2H,J=8.7Hz),
6.95(d,2H,J=8.7Hz),6.77(d,2H,J=8.7Hz),6.34(d,1H,J=
2.4Hz),6.11(d,1H,J=2.4Hz),3.96(q,2H,J=7.2Hz),3.92
(m,2H),3.76(s,3H),3.72(s,3H),3.68(s,3H),3.27-3.10
(m,1H),3.09(s,3H),2.87-2.71(m,2H),2.68-2.46(m,2H),
1.09(t,3H,J=7.2Hz)
【０２０２】
【実施例６（ｅ）】６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−［（４−メシルオキシフェニル）メチル］−
３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オン 実施例６（ｄ）で得た、４−［３，５−ジメトキシ−６
−（４−メシルオキシフェニルメチル）フェニル］−３
−（４−メトキシフェニル）ブタン酸エチル２．３ｇ
（４．３５ｍｍｏｌ）を、塩化メチレン３００ｍｌに溶
解させ、−７８℃冷却下、１Ｍ臭化ホウ素−塩化メチレ
ン溶液２５．３ｍｌ（２６ｍｍｏｌ）を加え、室温で、
一昼夜撹拌した。氷冷下、メタノール５０ｍｌを加え、
溶媒を留去し、酢酸エチルを加え、水洗し、飽和食塩水
で洗浄した後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減
圧下、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチ
ル＝４／１）を用いて精製し、標記化合物１．５７ｇ
（８０％）を得た。 薄層クロマトグラフィー：Ｒｆ値（展開溶媒：ヘキサン
／酢酸エチル＝２／１）＝０．４ 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
Ｄ3 ＯＤ）：7.21-7.11(m,4H),7.01(d,2H,J=8.5Hz),6.6
9(d,2H,J=8.5Hz),6.27(s,1H),3.98(s,2H),3.18-3.05(m,
2H),3.14(s,3H),2.75-2.64(m,3H)
【０２０３】
【実施例６（ｆ）】５−（４−ヒドロキシフェニル）メチル−６，８−ビス
メトキシメトキシ−３−（４−メトキシメトキシフェニ
ル）−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オン 実施例６（ｅ）で得た、６，８−ジヒドロキシ−３−
（４−ヒドロキシフェニル）−５−［（４−メシルオキ
シフェニル）メチル］−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン４００ｍｇ（０．７５ｍｍｏｌ）を、
塩化メチレン１５ｍｌに懸濁させ、氷冷下、メトキシメ
チルクロリド１．２ｇ（１５ｍｍｏｌ）及びジイソプロ
ピルエチルアミン１．９２ｇ（１５ｍｍｏｌ）を加え、
室温で、二日間撹拌した。水及び飽和重層水を順次加え
洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧
下、溶媒を留去した。得られた残渣をメタノール：テト
ラヒドロフラン＝３：１の溶媒３０ｍｌに溶解させ、１
規定水酸化ナトリウム２ｍｌ（２ｍｍｏｌ）を加え、３
時間加熱還流した。溶媒を留去し、酢酸エチルを加え、
水洗し、飽和食塩水で洗浄した後、有機層を硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘ
キサン／酢酸エチル＝２／１）を用いて精製し、標記化
合物９７ｍｇ（２２．３％）を得た。 薄層クロマトグラフィー：Ｒｆ値（展開溶媒：ヘキサン
／酢酸エチル＝１／１）＝０．４ 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：7.07(d,2H,J=8.6Hz),6.95(d,2H,J=8.6Hz),
6.90(d,2H,J=8.6Hz),6.88(d,2H,J=8.6Hz),6.69(d,2H,J=
8.6Hz),5.26(s,2H),5.21(s,2H),5.15(s,2H),3.95(s,2
H),3.27-3.17(m,2H),2.88-2.71(m,3H)
【０２０４】
【実施例６（ｇ）】６，８−ジベンジルオキシ−５−（４−ヒドロキシフェ
ニル）メチル−３−（４−ベンジルオキシフェニル）−
３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オン 実施例６（ｅ）で得られた、６，８−ジヒドロキシ−３
−（４−ヒドロキシフェニル）−５−［（４−メシルオ
キシフェニル）メチル］−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナ
フタレン−１−オン１．５７ｇ（３．５ｍｍｏｌ）を、
塩化メチレン２００ｍｌに懸濁させ、氷冷下、ベンジル
ブロミド１．８ｇ（１０．６ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム
１．４５ｇ（１０．６ｍｍｏｌ）及び触媒量の１８−ク
ラウン−６を加え、室温で２時間撹拌した。反応液に、
水を加え、洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し
た後、減圧下、溶媒を留去した。
【０２０５】得られた残渣を、メタノール：テトラヒド
ロフラン＝３：１の溶媒５０ｍｌに溶解させ、１規定水
酸化ナトリウム７ｍｌ（７ｍｍｏｌ）を加え、３時間加
熱還流した。溶媒を留去し、酢酸エチルを加え水洗し、
飽和食塩水で洗浄した後、有機層を硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン／
酢酸エチル＝２／１）を用いて精製し、標記化合物１．
２３ｇ（５５．４％）を得た。 薄層クロマトグラフィー：Ｒｆ値（展開溶媒：ヘキサン
／酢酸エチル＝１／１）＝０．４ 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：7.64-7.20(m,15H),7.09(d,2H,J=8.6Hz),6.
92(d,2H,J=8.6Hz),6.88(d,2H,J=8.6Hz),6.53(s,1H),5.1
6(s,2H),5.05(s,2H),5.04(s,2H),3.97(s,2H),3.28-3.19
(m,2H),2.89-2.72(m,3H)
【０２０６】
【実施例６（ｈ）】６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−［４−（２−ピペリジノエトキシ）フェニ
ル］メチル−３，４−ジヒドロキシ−２Ｈ−ナフタレン
−１−オン 実施例６（ｇ）で得た、６，８−ベンジルオキシ−５−
（４−ヒドロキシフェニル）メチル−３−（４−ベンジ
ルオキシフェニル）−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタ
レン−１−オン５０ｍｇ（０．０８ｍｍｏｌ）及びＮ−
（クロロエチル）ピペリジン塩酸塩５０ｍｇ（０．２４
ｍｍｏｌ）を、ジメチルホルムアミド６ｍｌに溶解さ
せ、窒素気流下、炭酸カリウム５０ｍｇ（０．３ｍｍｏ
ｌ）を加え、１００℃にて、４時間撹拌した。溶媒を留
去し、水及び酢酸エチルを加え、有機層を抽出した後、
減圧下、溶媒留去し、残査を得た。得られた残渣を、エ
タノール：ＴＨＦ＝１：１の溶媒４ｍｌに溶解させ、１
０％Ｐｄ−Ｃ１０ｍｇを加え、水素雰囲気下、室温で６
時間撹拌した。セライトを用いてろ過した後、溶媒を留
去し、分取薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メ
チレン／メタノール＝１０／１）を用いて精製し、標記
化合物２１ｍｇ（５５％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：塩化メチ
レン／メタノール＝１０／１）＝０．２５ 核磁気共鳴スペクトルδｐｐｍ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ3 ＋ＣＤ3 ＯＤ）：６．９９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５
８Ｈｚ），６．９５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５８Ｈｚ），
６．７９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５８Ｈｚ），６．６９
（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５８Ｈｚ），６．２７（ｓ，１
Ｈ），４．０９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），３．８
８（ｍ，２Ｈ），３．１５−２．８５（ｍ，４Ｈ），
２．８７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），２．７９−
２．６０（ｍ，５Ｈ），１．７０−１．６０（ｍ，４
Ｈ），１．５６−１．５０（ｍ，２Ｈ）
【０２０７】
【実施例７】７，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−［４−（３−ピペリジノプロポキシ）フェニ
ル］メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１
−オン 実施例１（ｆ）で得た、７，８−ジベンジルオキシ−３
−（４−ベンジルオキシフェニル）−５−（４−ヒドロ
キシフェニル）メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン１７．６ｍｇ（０．０２７ｍｍｏｌ）
及び３−クロロプロピルピペリジン塩酸塩１１ｍｇ
（０．０５４ｍｍｏｌ）を、ジメチルホルムアミド３ｍ
ｌに溶解させ、窒素気流下、炭酸カリウム１０ｍｇ
（０．０６ｍｍｏｌ）を加え、１００℃にて、４時間撹
拌した。溶媒を留去し、水及び酢酸エチルを加え、有機
層を抽出した後、減圧下、溶媒を留去し、残査を得た。
得られた残渣を、エタノール：ＴＨＦ＝１：１の混合溶
媒４ｍｌに溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ１０ｍｇを加え、
水素雰囲気下、室温で６時間撹拌した。セライトを用い
てろ過した後、溶媒を留去し、分取薄層クロマトグラフ
ィー（展開溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１０／
１）を用いて精製し、標記化合物５．８ｍｇ（４２．５
％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：塩化メチ
レン／メタノール＝１０／１）＝０．２５ 核磁気共鳴スペクトルδｐｐｍ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ３ ＋ＣＤ3 ＯＤ）：6.98-6.91(m,5H),6.76-6.72(m,
4H),4.06-4.00(m,2H),3.81(s,2H),3.32-3.22(m,1H),3.1
2-2.68(m,6H),2.50-2.04(m,6H),2.01-1.81(m,4H),1.69-
1.48(m,2H) マススペクトル ｍ／ｚ：５０１（Ｍ+ ）
【０２０８】
【実施例８】７，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニ
ル］メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１
−オン 実施例１（ｆ）で得た、７，８−ジベンジルオキシ−３
−（４−ベンジルオキシフェニル）−５−（４−ヒドロ
キシフェニル）メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン１４．３ｍｇ（０．０２１ｍｍｏｌ）
及び２−クロロエタノール３４ｍｇ（０．４２ｍｍｏ
ｌ）を、ジメチルホルムアミド３ｍｌに溶解させ、窒素
気流下、炭酸カリウム６０ｍｇ（０．４２ｍｍｏｌ）を
加え、１００℃にて、４時間撹拌した。溶媒を留去し、
水及び酢酸エチルを加え、有機層を抽出した後、減圧
下、溶媒を留去し、残査を得た。得られた残渣を、エタ
ノール：テトラヒドロフラン＝１：１の混合溶媒４ｍｌ
に溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ１０ｍｇを加え、水素雰囲
気下、室温で、６時間撹拌した。セライトを用いてろ過
した後、溶媒を留去し、分取薄層クロマトグラフィー
（展開溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１０／１）を
用いて精製し、標記化合物３．４ｍｇ（３６．６％）を
得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：塩化メチ
レン／メタノール＝２０／１）＝０．２５ 核磁気共鳴スペクトルδｐｐｍ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ3 ＋ＣＤ3 ＯＤ）：7.03-6.96(m,5H),6.90-6.70(m,4
H),4.05(t,2H,J=4.7Hz),3.93(t,2H,J=4.7Hz),3.83(s,2
H),3.83(s,2H),3.33-3.22(m,1H),3.16-3.07(m,1H),2.87
-2.69(m,3H) マススペクトル ｍ／ｚ：４２０（Ｍ+ ）
【０２０９】
【実施例９】５−［４−（２−アミノエトキシ）フェニル］メチル−
７，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オン 実施例１（ｆ）で得た、７，８−ジベンジルオキシ−３
−（４−ベンジルオキシフェニル）−５−（４−ヒドロ
キシフェニル）メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン１００．９ｍｇ（０．１５ｍｍｏｌ）
及び２−ベンジルオキシカルボニルアミノエチルクロラ
イド３２０ｍｇ（１．５ｍｍｏｌ）を、ジメチルホルム
アミド５ｍｌに溶解させ、窒素気流下、炭酸カリウム２
００ｍｇ（１．５ｍｍｏｌ）を加え、１００℃にて、４
時間撹拌した。溶媒を留去し、水及び酢酸エチルを加え
有機層を抽出した後、減圧下、溶媒を留去し、残査を得
た。得られた残渣を、エタノール：テトラヒドロフラン
＝１：１の混合溶媒４ｍｌに溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ
１０ｍｇを加え、水素雰囲気下、室温で、６時間撹拌し
た。セライトを用いてろ過した後、溶媒を留去し、分取
薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン／メ
タノール＝１０／１）を用いて精製し、標記化合物６．
２ｍｇ（９．５％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：塩化メチ
レン／メタノール＝１０／１）＝０．０５ 核磁気共鳴スペクトルδｐｐｍ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ3 ＋ＣＤ3 ＯＤ）：7.68-7.06(m,5H),6.85-6.79(m,4
H),4.02(t,2H,J=5.0Hz),3.87(s,2H),3.40-3.22(m,1H),
3.15(dd,1H,J=3.8,16.5Hz),3.09(t,2H,J=5.0Hz),2.96-
2.73(m,3H) マススペクトル ｍ／ｚ：４２０（Ｍ+ ）
【０２１０】
【実施例１０】７，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−［４−（２−ジイソプロピルアミノエトキ
シ）フェニル］メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン 実施例１（ｆ）で得た、７，８−ジベンジルオキシ−３
−（４−ベンジルオキシフェニル）−５−（４−ヒドロ
キシフェニル）メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン３４．７ｍｇ（０．０５３ｍｍｏｌ）
及び２−ジイソプロピルアミノエチルクロライド塩酸塩
３１ｍｇ（０．１６ｍｍｏｌ）を、ジメチルホルムアミ
ド３ｍｌに溶解させ、窒素気流下、炭酸カリウム２２ｍ
ｇ（０．１６ｍｍｏｌ）を加え、１００℃にて、４時間
撹拌した。溶媒を留去し、水及び酢酸エチルを加え、有
機層を抽出した後、減圧下、溶媒を留去し、残査を得
た。得られた残渣を、エタノール：テトラヒドロフラン
＝１：１の混合溶媒４ｍｌに溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ
１０ｍｇを加え、水素雰囲気下、室温で、６時間撹拌し
た。セライトを用いてろ過した後、溶媒を留去し、分取
薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン／メ
タノール＝１０／１）を用いて精製し、標記化合物１
６．８ｍｇ（６０．４％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：塩化メチ
レン／メタノール＝１０／１）＝０．２５ 核磁気共鳴スペクトルδｐｐｍ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ3 ＋ＣＤ3 ＯＤ）：12.57(s,1H),6.97-6.89(m,5H),6.
79-6.74(m,4H),4.16-3.90(br.s,2H),3.85(d,1H,J=15.7H
z),3.78(d,1H,J=15.7Hz),3.39-2.74(m,8H),3.12(dd,1H,
J=4.0,16.1Hz),1.16(br.s,12H) マススペクトル ｍ／ｚ：５０４（Ｍ+ ）
【０２１１】
【実施例１１】５−［４−（エトキシカルボニルメトキシ）フェニル］
メチル−７，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシ
フェニル）−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１
−オン 実施例１（ｆ）で得た、７，８−ジベンジルオキシ−３
−（４−ベンジルオキシフェニル）−５−（４−ヒドロ
キシフェニル）メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン６０．２ｍｇ（０．０９３ｍｍｏｌ）
及びブロモ酢酸エチル３３ｍｇ（０．２ｍｍｏｌ）を、
アセトン５ｍｌに溶解させ、窒素気流下、炭酸カリウム
２８ｍｇ（０．２ｍｍｏｌ）を加え、４時間加熱還流し
た。溶媒を留去し、水及び酢酸エチルを加え、有機層を
抽出した。減圧下、溶媒を留去し、残査４４．４ｍｇを
得た。得られた残渣を、エタノール：テトラヒドロフラ
ン＝１：１の混合溶媒４ｍｌに溶解し、１０％Ｐｄ−Ｃ
１０ｍｇを加え、水素雰囲気下、室温で、６時間撹拌し
た。セライトを用いてろ過した後、溶媒を留去し、分取
薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エ
チル＝１／１）を用いて精製し、標記化合物２２．８ｍ
ｇ（５３％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：ヘキサン
／酢酸エチル＝１／１）＝０．５ 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：12.56(s,1H),7.05-6.95(m,5H),6.82-6.75
(m,4H),5.56(s,1H),4.99(s,1H),4.59(s,2H),4.27(q,2H,
J=7.2Hz),3.83(s,2H),3.34-3.24(m,1H),3.14-3.07(m,1
H),2.95-2.70(m,3H),1.30(t,3H,J=7.2Hz) マススペクトル ｍ／ｚ：４６２（Ｍ+ ）
【０２１２】
【実施例１２】５−［４−（２−ジエチルアミノエトキシ）フェニル］
メチル−７，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシ
フェニル）−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１
−オン 実施例１（ｆ）で得た、７，８−ジベンジルオキシ−３
−（４−ベンジルオキシフェニル）−５−（４−ヒドロ
キシフェニル）メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン５０ｍｇ（０．０８ｍｍｏｌ）及び２
−ジメチルアミノエチルクロリド塩酸塩４０ｍｇ（０．
２３ｍｍｏｌ）を、ジメチルホルムアミド２ｍｌに溶解
させ、窒素気流下、炭酸カリウム６４ｍｇ（０．４６ｍ
ｍｏｌ）を加え、１２０℃にて、４時間撹拌した。溶媒
を留去し、水及び酢酸エチルを加え、有機層を抽出した
後、減圧下、溶媒を留去した。得られた残査を、エタノ
ール：テトラヒドロフラン＝１：１の溶媒３ｍｌに混合
溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ３０ｍｇを加え、水素雰囲気
下、室温で、６時間撹拌した。セライトを用いてろ過し
た後、溶媒を留去し、分取薄層クロマトグラフィー（展
開溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１０／１）を用い
て精製し、標記化合物２１．１ｍｇ（５６％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：塩化メチ
レン／メタノール＝５／１）＝０．４４ 核磁気共鳴スペクトルδｐｐｍ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ3 ＋ＣＤ3 ＯＤ）：7.01(m,4H),6.90(s,1H),6.83(d,2
H,J=8.58Hz),6.70(d,2H,J=8.58Hz),4.10(t,2H,J=5.6H
z),3.80(s,2H),3.20-3.11(m,1H),3.02(t,2H,J=5.6Hz),
2.84-2.76(m,8H),1.14(t,t,3H,3H,J=7.2Hz) マススペクトル ｍ／ｚ：４７５（Ｍ+ ）
【０２１３】
【実施例１３】５−［４−（カルボキシメトキシ）フェニル］メチル−
７，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−２−オン 実施例１（ｆ）で得た、７，８−ジベンジルオキシ−３
−（４−ベンジルオキシフェニル）−５−（４−ヒドロ
キシフェニル）メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン３９．７ｍｇ（０．０６１ｍｍｏｌ）
及びブロモ酢酸ベンジル３３ｍｇ（０．１２ｍｍｏｌ）
を、アセトン５ｍｌに溶解させ、窒素気流下、炭酸カリ
ウム１７ｍｇ（０．１２ｍｍｏｌ）を加え、４時間加熱
還流した。溶媒を留去し、水及び酢酸エチルを加え、有
機層を抽出した後、減圧下、溶媒を留去し、残査４１．
３ｍｇを得た。得られた残渣を、エタノール：テトラヒ
ドロフラン＝１：１混合溶媒４ｍｌに溶解させ、１０％
Ｐｄ−Ｃ１０ｍｇを加え、水素雰囲気下、室温で、６時
間撹拌した。セライトを用いてろ過した後、溶媒を留去
し、分取薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メチ
レン／メタノール＝３：１）を用いて精製し、標記化合
物１６．５ｍｇ（６２％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：塩化メチ
レン／メタノール＝３／１）＝０．０５ 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
Ｄ3 ＯＤ）：7.04(d,2H,J=8.2Hz),6.96(d,2H,J=8.2Hz),
6.90(s,1H),6.82(d,2H,J=8.2Hz),6.71(d,2H,J=8.2Hz),
4.37(s,2H),3.82(s,2H),3.30-3.05(m,2H),2.95-2.69(m,
3H) マススペクトル ｍ／ｚ：４３５（Ｍ+ ）
【０２１４】
【実施例１４】５−［４−（２−アゼパン−１−イルエトキシ）フェニ
ル］メチル−６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロ
キシフェニル）−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン
−１−オン 実施例６（ｇ）で得た、６，８−ジベンジルオキシ−５
−（４−ヒドロキシフェニル）メチル−３−（４−ベン
ジルオキシフェニル）−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン５０ｍｇ（０．０８ｍｍｏｌ）及びＮ
−（クロロエチル）ヘキサメチレンイミン塩酸塩４６ｍ
ｇ（０．２３ｍｍｏｌ）を、ジメチルホルムアミド２ｍ
ｌに溶解させ、窒素気流下、炭酸カリウム６４ｍｇ
（０．４６ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃にて、４時間撹
拌した。溶媒を留去し、水及び酢酸エチルを加え、有機
層を抽出した後、減圧下、溶媒を留去した。得られた残
査を、エタノール：テトラヒドロフラン＝１：１の混合
溶媒３ｍｌに溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ５０ｍｇを加
え、水素雰囲気下、室温で、６時間撹拌した。セライト
を用いてろ過した後、溶媒を留去し、分取薄層クロマト
グラフィー（展開溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１
０／１）を用いて精製し、標記化合物１１．８ｍｇ（２
５％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：塩化メチ
レン／メタノール＝５／１）＝０．３ 核磁気共鳴スペクトルδｐｐｍ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ3 ＋ＣＤ3 ＯＤ）：7.00(m,4H),6.81(d,2H,J=8.58H
z),6.69(d,2H,J=8.58Hz),6.26(s,1H),4.18(t,2H,J=5.3H
z),3.90(s,2H),3.32-3.30(m,4H),3.16-3.12(m,4H),3.07
(t,2H,J=5.3Hz),2.77-2.69(m,2H),1.82-1.80(m,4H),1.7
0-1.66(m,4H) マススペクトル ｍ／ｚ：５０１（Ｍ+ ）
【０２１５】
【実施例１５】５−［４−（７−Ｎ−ブチル−Ｎ−エチルカルバモイル
ヘプチルオキシ）フェニル］メチル−７，８−ジヒドロ
キシ−３−（４−ヒドロキシフェニル）−３，４−ジヒ
ドロキシ−２Ｈ−ナフタレン−１−オン 実施例１（ｆ）で得た、７，８−ジベンジルオキシ−３
−（４−ベンジルオキシフェニル）−５−（４−ヒドロ
キシフェニル）メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン５０ｍｇ（０．０８ｍｍｏｌ）及びＮ
−ブチル−Ｎ−エチルブロモオクタノイルアミド７１ｍ
ｇ（０．２３ｍｍｏｌ）を、ジメチルホルムアミド２ｍ
ｌに溶解させ、窒素気流下、炭酸カリウム３２ｍｇ
（０．２３ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃にて、４時間撹
拌した。溶媒を留去し、水及び酢酸エチルを加え、有機
層を抽出した後、減圧下、溶媒を留去した。得られた残
査を、エタノール：テトラヒドロフラン＝１：１の混合
溶媒３ｍｌに溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ５０ｍｇを加
え、水素雰囲気下、室温で、６時間撹拌した。セライト
を用いてろ過した後、溶媒を留去し、分取薄層クロマト
グラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／
１）を用いて精製し、標記化合物２８．２ｍｇ（４９
％）を得た。 薄層クロマトグラフィー：Ｒｆ値（展開溶媒：ヘキサン
／酢酸エチル＝１／１）＝０．６２ 核磁気共鳴スペクトルδｐｐｍ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ3 ＋ＣＤ3 ＯＤ）：7.03(d,2H,J=8.6Hz),6.96(d,2H,J
=8.6Hz),6.90(s,1H),6.78(d,2H,J=8.6Hz),6.71(d,2H,J=
8.63Hz),3.91(m,2H),3.81(s,2H),2.83-2.71(m,3H),2.43
-2.30(m,2H),1.76-1.71(m,2H),1.47-1.28(m,12H),1.16-
1.06(m,3H),0.97-0.90(m,3H) マススペクトル ｍ／ｚ：６０１（Ｍ+ ）
【０２１６】
【実施例１６】５−［４−（１１−Ｎ−ブチル−Ｎ−エチルカルバモイ
ルウンデカニルオキシ）フェニル］メチル−７，８−ジ
ヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニル）−３，４
−ジヒドロキシ−２Ｈ−ナフタレン−１−オン 実施例１（ｆ）で得た、７，８−ジベンジルオキシ−３
−（４−ベンジルオキシフェニル）−５−（４−ヒドロ
キシフェニル）メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン５０ｍｇ（０．０８ｍｍｏｌ）及びＮ
−ブチルエチルブロモドデカノイルアミド８４ｍｇ
（０．２３ｍｍｏｌ）を、ジメチルホルムアミド２ｍｌ
に溶解させ、窒素気流下、炭酸カリウム３２ｍｇ（０．
２３ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃にて、４時間撹拌し
た。溶媒を留去し、水及び酢酸エチルを加え、有機層を
抽出した後、減圧下、溶媒を留去した。得られた残査
を、エタノール：テトラヒドロフラン＝１：１の混合溶
媒３ｍｌに溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ５０ｍｇを加え、
水素雰囲気下、室温で、６時間撹拌した。セライトを用
いてろ過した後、溶媒を留去し、分取薄層クロマトグラ
フィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）を
用いて精製し、標記化合物６．２ｍｇ（１２％）を得
た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：ヘキサン
／酢酸エチル＝１／１）＝０．６ 核磁気共鳴スペクトルδｐｐｍ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ3 ＋ＣＤ3 ＯＤ）：7.04(d,2H,J=8.6Hz),6.97(d,2H,J
=8.6Hz),6.90(s,1H),6.79(d,2H,J=8.6Hz),6.71(d,2H,J=
8.6Hz),3.91(m,2H),3.81(s,2H),3.32-3.30(m,6H),3.30-
3.27(m,2H),2.88-2.72(m,3H),2.34-2.31(m,2H),1.76-1.
70(m,2H),1.62-1.50(m,4H),1.35-1.26(m,14H),1.19-1.0
6(m,3H),0.96-0.90(m,3H) マススペクトル ｍ／ｚ：６５８（Ｍ+ ）
【０２１７】
【実施例１７】７，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−［４−（２−ヘプタメチレンイミン−１−イ
ルエトキシ）フェニル］メチル−３，４−ジヒドロ−２
Ｈ−ナフタレン−１−オン 実施例１（ｆ）で得た、７，８−ジベンジルオキシ−３
−（４−ベンジルオキシフェニル）−５−（４−ヒドロ
キシフェニル）メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン５０ｍｇ（０．０８ｍｍｏｌ）及びＮ
−（クロロエチル）ヘプタメチレンイミン塩酸塩４９ｍ
ｇ（０．２３ｍｍｏｌ）を、ジメチルホルムアミド２ｍ
ｌに溶解させ、窒素気流下、炭酸カリウム６４ｍｇ
（０．４６ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃にて、４時間撹
拌した。溶媒を留去し、水及び酢酸エチルを加え、有機
層を抽出した後、減圧下、溶媒を留去した。得られた残
査を、エタノール：テトラヒドロフラン＝１：１の混合
溶媒３ｍｌに溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ５０ｍｇを加
え、水素雰囲気下、室温で、６時間撹拌した。セライト
を用いてろ過した後、溶媒を留去し、分取薄層クロマト
グラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／
２）を用いて精製し、標記化合物１０．１ｍｇ（２５
％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：ヘキサン
／酢酸エチル＝１／２）＝０．４８ 核磁気共鳴スペクトルδｐｐｍ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ3 ＋ＣＤ3 ＯＤ）：7.05-6.979(m,4H),6.90(s,1H),6.
87(d,2H,J=8.6Hz),6.70(d,2H,J=8.63Hz),4.07(m,2H),3.
83(s,2H),3.24-3.10(m,1H),3.05-3.01(m,2H),2.94-2.68
(m,8H),1.70-1.60(m,10H) マススペクトル ｍ／ｚ：５１５（Ｍ+ ）
【０２１８】
【実施例１８】６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−［４−（２−ヘプタメチレンイミン−１−イ
ルエトキシ）フェニル］メチル−３，４−ジヒドロ−２
Ｈ−ナフタレン−１−オン 実施例６（ｇ）で得た、６，８−ジベンジルオキシ−５
−（４−ヒドロキシフェニル）メチル−３−（４−ベン
ジルオキシフェニル）−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン５０ｍｇ（０．０８ｍｍｏｌ）及びＮ
−（クロロエチル）ヘプタメチレンイミン塩酸塩４９ｍ
ｇ（０．２３ｍｍｏｌ）を、ジメチルホルムアミド２ｍ
ｌに溶解させ、窒素気流下、炭酸カリウム６４ｍｇ
（０．４６ｍｍｏｌ）を加え、１４０℃にて、２．５時
間撹拌した。溶媒を留去し、水及び酢酸エチルを加え、
有機層を抽出した後、減圧下、溶媒を留去した。得られ
た残査を、エタノール：テトラヒドロフラン＝１：１の
混合溶媒３ｍｌに溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ５０ｍｇを
加え、水素雰囲気下、室温で、６時間撹拌した。セライ
トを用いてろ過した後、溶媒を留去し、分取薄層クロマ
トグラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／
２）を用いて精製し、標記化合物１６．８ｍｇ（５８
％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：ヘキサン
／酢酸エチル＝１／３）＝０．６ 核磁気共鳴スペクトルδｐｐｍ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ3 ＋ＣＤ3 ＯＤ）：7.00-6.97(m,4H),6.77(d,2H,J=8.
6Hz),6.69(d,2H,J=8.6Hz),6.26(s,1H),4.04(m,2H),3.88
(s,2H),3.32-3.30(m,6H),3.12-3.07(m,2H),3.01-2.97
(m,2H),2.86-2.73(m,4H) マススペクトル ｍ／ｚ：５１５（Ｍ+ ）
【０２１９】
【実施例１９】７，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−｛４−［２−（３−メチルピペリジノ）エト
キシ］フェニル｝メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナ
フタレン−１−オン 実施例１（ｆ）で得た、７，８−ジベンジルオキシ−３
−（４−ベンジルオキシフェニル）−５−（４−ヒドロ
キシフェニル）メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン５０ｍｇ（０．０８ｍｍｏｌ）及びＮ
−（クロロエチル）３−メチルピペリジン塩酸塩４６ｍ
ｇ（０．２３ｍｍｏｌ）を、ジメチルホルムアミド２ｍ
ｌに溶解させ、窒素気流下、炭酸カリウム６４ｍｇ
（０．４６ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃にて、４時間撹
拌した。溶媒を留去し、水及び酢酸エチルを加え、有機
層を抽出した後、減圧下、溶媒を留去した。得られた残
査を、エタノール：テトラヒドロフラン＝１：１の混合
溶媒３ｍｌに溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ５０ｍｇを加
え、水素雰囲気下、室温で、６時間撹拌した。セライト
を用いてろ過した後、溶媒を留去し、分取薄層クロマト
グラフィー（展開溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１
０／１）を用いて精製し、標記化合物１６．３ｍｇ（４
２％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：塩化メチ
レン／メタノール＝１０／１）＝０．６ 核磁気共鳴スペクトルδｐｐｍ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ3 ＋ＣＤ3 ＯＤ）：7.03-6.95(m,4H),6.89(s,1H),6.8
1(d,2H,J=8.6Hz),6.70(d,2H,J=8.6Hz),4.09(m,2H),3.80
(s,2H),3.32-3.30(m,3H),3.21-2.91(m,4H),2.86-2.65
(m,4H),2.15-2.05(m,1H),1.85-1.60(m,4H),0.88(m,3H) マススペクトル ｍ／ｚ：５０１（Ｍ+ ）
【０２２０】
【実施例２０】７，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−｛４−［２−（３，５−ジメチルピペリジ
ノ）エトキシ］フェニル｝メチル−３，４−ジヒドロ−
２Ｈ−ナフタレン−１−オン 実施例１（ｆ）で得た、７，８−ジベンジルオキシ−３
−（４−ベンジルオキシフェニル）−５−（４−ヒドロ
キシフェニル）メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン１００ｍｇ（０．１５ｍｍｏｌ）及び
Ｎ−（クロロエチル）−３，５−ジメチルピペリジン塩
酸塩９８ｍｇ（０．４６ｍｍｏｌ）を、ジメチルホルム
アミド６ｍｌに溶解させ、窒素気流下、炭酸カリウム１
２８ｍｇ（０．９３ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃にて、
４時間撹拌した。溶媒を留去し、水及び酢酸エチルを加
え、有機層を抽出した後、減圧下、溶媒を留去した。得
られた残査を、エタノール：テトラヒドロフラン＝１：
１の混合溶媒６ｍｌに溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ６０ｍ
ｇを加え、水素雰囲気下、室温で、６時間撹拌した。セ
ライトを用いてろ過した後、溶媒を留去し、分取薄層ク
ロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン／メタノー
ル＝１０／１）を用いて精製し、標記化合物１６．３ｍ
ｇ（４２％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：ヘキサン
／酢酸エチル＝１／５）＝０．２３ 核磁気共鳴スペクトルδｐｐｍ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ3 ＋ＣＤ3 ＯＤ）：7.03-6.95(m,4H),6.89(s,1H),6.8
2(d,2H,J=8.6Hz),6.70(d,2H,J=8.6Hz),4.11(m,2H),3.81
(s,2H),3.20-2.99(m,5H),2.92-2.66(m,5H),1.75-1.72
(m,5H),0.88(m,6H) マススペクトル ｍ／ｚ：５１５（Ｍ+ ）
【０２２１】
【実施例２１】７，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−｛４−［２−（３，５−ジメチルピペリジ
ノ）エトキシ］フェニル｝メチル−３，４−ジヒドロ−
２Ｈ−ナフタレン−１−オン 実施例１（ｆ）で得た、７，８−ジベンジルオキシ−３
−（４−ベンジルオキシフェニル）−５−（４−ヒドロ
キシフェニル）メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン１００ｍｇ（０．１５ｍｍｏｌ）及び
Ｎ−（クロロエチル）−３，５−ジメチルピペリジン塩
酸塩９８ｍｇ（０．４６ｍｍｏｌ）を、ジメチルホルム
アミド６ｍｌに溶解させ、窒素気流下、炭酸カリウム１
２８ｍｇ（０．９３ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃にて、
４時間撹拌した。溶媒を留去し、水及び酢酸エチルを加
え、有機層を抽出した後、減圧下、溶媒を留去した。得
られた残査を、エタノール：テトラヒドロフラン＝１：
１の混合溶媒６ｍｌに溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ６０ｍ
ｇを加え、水素雰囲気下、室温で、６時間撹拌した。セ
ライトを用いてろ過した後、溶媒を留去し、分取薄層ク
ロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン／メタノー
ル＝１０／１）を用い精製して、標記化合物１６．３ｍ
ｇ（４２％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：ヘキサン
／酢酸エチル＝２／３）＝０．３８ 核磁気共鳴スペクトルδｐｐｍ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ3 ＋ＣＤ3 ＯＤ）：7.04-7.01(m,4H),6.91-6.85(m,3
H),6.72-6.69(m,2H),4.26-4.23(m,2H),3.85(s,2H),3.26
-3.15(m,2H),3.05-2.94(m,2H),2.88-2.72(m,4H),2.15-
2.09(m,2H),1.47(t,2H,J=6.0Hz),1.29(s,2H),1.04(d,6
H,J=6.8Hz) マススペクトル ｍ／ｚ：５１５（Ｍ+ ）
【０２２２】
【実施例２２】７，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−［４−（２−オクタメチレンイミン−１−イ
ルエトキシ）フェニル］メチル−３，４−ジヒドロ−２
Ｈ−ナフタレン−１−オン 実施例１（ｆ）で得た、７，８−ジベンジルオキシ−３
−（４−ベンジルオキシフェニル）−５−（４−ヒドロ
キシフェニル）メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン５０ｍｇ（０．０８ｍｍｏｌ）及びＮ
−（クロロエチル）オクタメチレンイミン塩酸塩５２ｍ
ｇ（０．２３ｍｍｏｌ）を、ジメチルホルムアミド２ｍ
ｌに溶解させ、窒素気流下、炭酸カリウム６４ｍｇ
（０．４６ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃にて、４時間撹
拌した。溶媒を留去し、水及び酢酸エチルを加え、有機
層を抽出した後、減圧下、溶媒を留去した。得られた残
査を、エタノール：テトラヒドロフラン＝１：１の混合
溶媒３ｍｌに溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ３０ｍｇを加
え、水素雰囲気下、室温で、６時間撹拌した。セライト
を用いてろ過した後、溶媒を留去し、分取薄層クロマト
グラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／
１）を用いて精製して、標記化合物９．５ｍｇ（２３
％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：ヘキサン
／酢酸エチル＝１／３）＝０．７６ 核磁気共鳴スペクトルδｐｐｍ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ3 ＋ＣＤ3 ＯＤ）：7.03(d,2H,J=8.6Hz),6.96(d,2H,J
=8.6Hz),6.90(s,1H),6.79(d,2H,J=8.6Hz),6.71(d,2H,J=
8.6Hz),4.00(m,2H),3.80(s,2H),3.22-3.03(m,3H),2.89-
2.85(m,2H),2.82-2.70(m,2H),2.64-2.60(m,4H),1.61-1.
50(m,12H) マススペクトル ｍ／ｚ：５２９（Ｍ+ ）
【０２２３】
【実施例２３】７，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−｛４−［２−（２−メチルピペリジノ）エト
キシ］フェニル｝メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナ
フタレン−１−オン 実施例１（ｆ）で得た、７，８−ジベンジルオキシ−３
−（４−ベンジルオキシフェニル）−５−（４−ヒドロ
キシフェニル）メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン５０ｍｇ（０．０８ｍｍｏｌ）及びＮ
−（クロロエチル）−２−メチルピペリジン塩酸塩４６
ｍｇ（０．２３ｍｍｏｌ）を、ジメチルホルムアミド２
ｍｌに溶解させ、窒素気流下、炭酸カリウム６４ｍｇ
（０．４６ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃にて、４時間撹
拌した。溶媒を留去し、水及び酢酸エチルを加え、有機
層を抽出した後、減圧下、溶媒を留去した。得られた残
査を、エタノール：テトラヒドロフラン＝１：１の混合
溶媒３ｍｌに溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ５０ｍｇを加
え、水素雰囲気下、室温で、６時間撹拌した。セライト
を用いてろ過した後、溶媒を留去し、分取薄層クロマト
グラフィー（展開溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１
０／１）を用いて精製し、標記化合物４．７ｍｇ（１２
％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：塩化メチ
レン／メタノール＝１０／１）＝０．６ 核磁気共鳴スペクトルδｐｐｍ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ3 ＋ＣＤ3 ＯＤ）：7.04-6.99(m,4H),6.90(s,1H),6.8
5(d,2H,J=8.6Hz),6.70(d,2H,J=8.6Hz),4.16(m,2H),3.83
(s,2H),3.24-3.16(m,2H),3.11-3.02(m,2H),2.94-2.67
(m,6H),1.76-1.66(m,4H),1.49-1.42(m,2H),1.24(m,3H) マススペクトル ｍ／ｚ：５０１（Ｍ+ ）
【０２２４】
【実施例２４】６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−｛４−［２−（オクタメチレンイミン−１−
イル）エトキシ］フェニル｝メチル−３，４−ジヒドロ
−２Ｈ−ナフタレン−１−オン 実施例６（ｇ）で得た、６，８−ジベンジルオキシ−５
−（４−ヒドロキシフェニル）メチル−３−（４−ベン
ジルオキシフェニル）−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン５０ｍｇ（０．０８ｍｍｏｌ）及びＮ
−（クロロエチル）オクタメチレンイミン塩酸塩５２ｍ
ｇ（０．２３ｍｍｏｌ）を、ジメチルホルムアミド２ｍ
ｌに溶解させ、窒素気流下、炭酸カリウム６４ｍｇ
（０．４６ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃にて、４時間撹
拌した。溶媒を留去し、水及び酢酸エチルを加え、有機
層を抽出した後、減圧下、溶媒を留去した。得られた残
査を、エタノール：テトラヒドロフラン＝１：１の混合
溶媒３ｍｌに溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ６０ｍｇを加
え、水素雰囲気下、室温で、６時間撹拌した。セライト
を用いてろ過した後、溶媒を留去し、分取薄層クロマト
グラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝２／
１）を用いて精製し、標記化合物１９．８ｍｇ（４８
％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：ヘキサン
／酢酸エチル＝１／１）＝０．６６ 核磁気共鳴スペクトルδｐｐｍ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ3 ＋ＣＤ3 ＯＤ）：6.96-6.70(m,4H),6.75-6.67(m,4
H),6.26(s,1H),3.99(m,2H),3.88(s,2H),3.14-3.06(m,2
H),2.89-2.85(m,2H),2.79-2.70(m,3H),2.69-2.58(m,4
H),1.59-1.51(m,12H) マススペクトル ｍ／ｚ：５２９（Ｍ+ ）
【０２２５】
【実施例２５】７，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−｛４−［２−（２，６−ジメチルピペリジ
ノ）エトキシ］フェニル｝メチル−３，４−ジヒドロ−
２Ｈ−ナフタレン−１−オン 実施例１（ｆ）で得た、７，８−ジベンジルオキシ−３
−（４−ベンジルオキシフェニル）−５−（４−ヒドロ
キシフェニル）メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン５０ｍｇ（０．０８ｍｍｏｌ）及びＮ
−（クロロエチル）−２，６−ジメチルピペリジン塩酸
塩４９ｍｇ（０．２３ｍｍｏｌ）を、ジメチルホルムア
ミド４ｍｌに溶解させ、窒素気流下、炭酸カリウム６４
ｍｇ（０．４６ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃にて、４時
間撹拌した。溶媒を留去し、水及び酢酸エチルを加え、
有機層を抽出した後、減圧下、溶媒を留去した。得られ
た残査を、エタノール：テトラヒドロフラン＝１：１の
混合溶媒３ｍｌに溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ６０ｍｇを
加え、水素雰囲気下、室温で、６時間撹拌した。セライ
トを用いてろ過した後、溶媒を留去し、分取薄層クロマ
トグラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／
５）を用いて精製し、標記化合物１２．８ｍｇ（３２
％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：ヘキサン
／酢酸エチル＝１／５）＝０．２ 核磁気共鳴スペクトルδｐｐｍ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ3 ＋ＣＤ3 ＯＤ）：7.04-6.97(m,4H),6.90(s,1H),6.8
1(d,2H,J=8.6Hz),6.59(d,2H,J=8.6Hz),4.06(t,2H,J=6.0
Hz),3.82(s,2H),3.21(t,2H,J=5.9Hz),3.10-2.92(m,3H),
2.82-2.70(m,4H),1.68-1.62(m,3H),1.40-1.28(m,3H),1.
23(s,3H),1.21(s,3H) マススペクトル ｍ／ｚ：５１５（Ｍ+ ）
【０２２６】
【実施例２６】５−｛４−［２−（４−ベンジルピペリジノ）エトキ
シ］フェニル｝メチル−６，８−ジヒドロキシ−３−
（−４−ヒドロキシフェニル）−３，４−ジヒドロ−２
Ｈ−ナフタレン−１−オン 実施例６（ｇ）で得た、６，８−ジベンジルオキシ−５
−（４−ヒドロキシフェニル）メチル−３−（４−ベン
ジルオキシフェニル）−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン５０ｍｇ（０．０８ｍｍｏｌ）及びＮ
−（クロロエチル）−４−ベンジルピペリジン塩酸塩６
４ｍｇ（０．２３ｍｍｏｌ）を、ジメチルホルムアミド
４ｍｌに溶解させ、窒素気流下、炭酸カリウム６４ｍｇ
（０．４６ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃にて、４時間撹
拌した。溶媒を留去し、水及び酢酸エチルを加え、有機
層を抽出した後、減圧下、溶媒を留去した。得られた残
査を、エタノール：テトラヒドロフラン＝１：１の混合
溶媒３ｍｌに溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ５０ｍｇを加
え、水素雰囲気下、室温で、６時間撹拌した。セライト
を用いてろ過した後、溶媒を留去し、分取薄層クロマト
グラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／
５）を用いて精製し、標記化合物２１．１ｍｇ（４７
％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：ヘキサン
／酢酸エチル＝１／５）＝０．１８ 核磁気共鳴スペクトルδｐｐｍ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ3 ＋ＣＤ3 ＯＤ）：7.27-7.11(m,5H),7.00-6.95(m,4
H),6.75(d,2H,J=8.6Hz),6.68(d,2H,J=8.6Hz),6.26(s,1
H),4.06(t,2H,J=5.6Hz),3.87(s,2H),3.10-3.05(m,4H),
2.85(t,2H,J=5.6Hz),2.76-2.67(m,3H),2.55-2.51(m,3
H),2.26-2.17(m,3H),1.40-1.28(m,4H) マススペクトル ｍ／ｚ：５７８（Ｍ+ ）
【０２２７】
【実施例２７】６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−｛４−［２−（３−メチルピペリジノ）エト
キシ］フェニル｝メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナ
フタレン−１−オン 実施例６（ｇ）で得た、６，８−ジベンジルオキシ−５
−（４−ヒドロキシフェニル）メチル−３−（４−ベン
ジルオキシフェニル）−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン５０ｍｇ（０．０８ｍｍｏｌ）及びＮ
−（クロロエチル）−３−メチルピペリジン塩酸塩４６
ｍｇ（０．２３ｍｍｏｌ）を、ジメチルホルムアミド３
ｍｌに溶解させ、窒素気流下、炭酸カリウム６４ｍｇ
（０．４６ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃にて、４時間撹
拌した。溶媒を留去し、水及び酢酸エチルを加え、有機
層を抽出した後、減圧下、溶媒を留去した。得られた残
査を、エタノール：テトラヒドロフラン＝１：１の混合
溶媒３ｍｌに溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ４０ｍｇを加
え、水素雰囲気下、室温で、６時間撹拌した。セライト
を用いてろ過した後、溶媒を留去し、分取薄層クロマト
グラフィー（展開溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１
０／１）を用いて精製し、標記化合物２１．１ｍｇ（４
７％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：塩化メチ
レン／メタノール＝１０／１）＝０．２０ 核磁気共鳴スペクトルδｐｐｍ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ3 ＋ＣＤ3 ＯＤ）：7.01-6.96(m,4H),6.77(d,2H,J=8.
6Hz),6.68(d,2H,J=8.6Hz),6.26(s,1H),4.09(t,2H,J=5.6
Hz),3.88(s,2H),3.11-2.98(m,4H),2.86(t,2H,J=5.6Hz),
2.76-2.69(m,4H),2.19-2.09(m,1H),1.90-1.81(m,1H),1.
75-1.65(m,4H),0.88(m,3H) マススペクトル ｍ／ｚ：５０１（Ｍ+ ）
【０２２８】
【実施例２８】６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−｛４−［２−（２−メチルピペリジノ）エト
キシ］フェニル｝メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナ
フタレン−１−オン 実施例６（ｇ）で得た、６，８−ジベンジルオキシ−５
−（４−ヒドロキシフェニル）メチル−３−（４−ベン
ジルオキシフェニル）−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン５０ｍｇ（０．０８ｍｍｏｌ）及びＮ
−（クロロエチル）−２−メチルピペリジン塩酸塩４６
ｍｇ（０．２３ｍｍｏｌ）を、ジメチルホルムアミド３
ｍｌに溶解させ、窒素気流下、炭酸カリウム６４ｍｇ
（０．４６ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃にて、４時間撹
拌した。溶媒を留去し、水及び酢酸エチルを加え、有機
層を抽出した後、減圧下、溶媒を留去した。得られた残
査を、エタノール：テトラヒドロフラン＝１：１の混合
溶媒３ｍｌに溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ４０ｍｇを加
え、水素雰囲気下、室温で、６時間撹拌した。セライト
を用いてろ過した後、溶媒を留去し、分取薄層クロマト
グラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／
３）を用いて精製し、標記化合物２０．１ｍｇ（５２
％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：ヘキサン
／酢酸エチル＝１／５）＝０．１ 核磁気共鳴スペクトルδｐｐｍ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ3 ＋ＣＤ3 ＯＤ）：7.01-6.95(m,4H),6.77(d,2H,J=8.
6Hz),6.68(d,2H,J=8.6Hz),6.26(s,1H),4.09(m,2H),3.88
(s,2H),3.25-3.06(m,4H),2.98-2.82(m,1H),2.78-2.61
(m,4H),2.56-2.47(m,1H),1.72-1.66(m,4H),1.42-1.35
(m,2H),1.18(m,3H) マススペクトル ｍ／ｚ：５０１（Ｍ+ ）
【０２２９】
【実施例２９】５−｛４−［２−（３−アザビシクロ［３．２．２］ノ
ナン−３−イル）エトキシ］フェニル｝メチル−６，８
−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニル）−
３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オン 実施例６（ｇ）で得た、６，８−ジベンジルオキシ−５
−（４−ヒドロキシフェニル）メチル−３−（４−ベン
ジルオキシフェニル）−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン５０ｍｇ（０．０８ｍｍｏｌ）及び
（Ｎ−クロロエチル）−３−アザビシクロ（３．２．
２）ノナン塩酸塩５２ｍｇ（０．２３ｍｍｏｌ）を、ジ
メチルホルムアミド３ｍｌに溶解させ、窒素気流下、炭
酸カリウム６４ｍｇ（０．４６ｍｍｏｌ）を加え、１２
０℃にて、４時間撹拌した。溶媒を留去し、水及び酢酸
エチルを加え、有機層を抽出した後、減圧下、溶媒を留
去した。得られた残査を、エタノール：テトラヒドロフ
ラン＝１：１の混合溶媒３ｍｌに溶解させ、１０％Ｐｄ
−Ｃ７０ｍｇを加え、水素雰囲気下、室温で、６時間撹
拌した。セライトを用いてろ過した後、溶媒を留去し、
分取薄層クロマトグラフィーに付し（展開溶媒：塩化メ
チレン／メタノール＝８／１）を用いて精製し、標記化
合物２７．３ｍｇ（６７％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：塩化メチ
レン／メタノール＝８／１）＝０．５４ 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
Ｄ3 ＯＤ）：6.99-6.95(m,4H),6.75(d,2H,J=8.6Hz),6.6
8(d,2H,J=8.6Hz),6.26(s,1H),4.05(t,2H,J=5.9Hz),3.86
(s,2H),3.11-3.06(m,2H),2.85(t,2H,J=5.9Hz),2.77-2.7
2(m,4H),2.71-2.62(m,3H),1.87(br.s 2H),1.78-1.75(m,
4H),1.67-1.58(m,4H)
【０２３０】
【実施例３０】６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−｛４−［２−（２，６−ジメチルピペリジ
ノ）エトキシ］フェニル｝メチル−３，４−ジヒドロ−
２Ｈ−ナフタレン−１−オン 実施例６（ｇ）で得た、６，８−ジベンジルオキシ−５
−（４−ヒドロキシフェニル）メチル−３−（４−ベン
ジルオキシフェニル）−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン５０ｍｇ（０．０８ｍｍｏｌ）及び
（Ｎ−クロロエチル）−２，６−ジメチルピペリジン塩
酸塩７０ｍｇ（０．２３ｍｍｏｌ）を、ジメチルホルム
アミド３ｍｌに溶解させ、窒素気流下、炭酸カリウム６
４ｍｇ（０．４６ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃にて、４
時間撹拌した。溶媒を留去し、水及び酢酸エチルを加
え、有機層を抽出した後、減圧下、溶媒を留去した。得
られた残査を、エタノール：テトラヒドロフラン＝１：
１の混合溶媒３ｍｌに溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ４０ｍ
ｇを加え、水素雰囲気下、室温で、６時間撹拌した。セ
ライトを用いてろ過した後、溶媒を留去し、分取薄層ク
ロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン／メタノー
ル＝８／１）を用いて精製し、標記化合物１９．９ｍｇ
（５０％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：塩化メチ
レン／メタノール＝８／１）＝０．２ 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
Ｄ3 ＯＤ）：7.01-6.96(m,4H),6.76(d,2H,J=8.6Hz),6.6
9(d,2H,J=8.6Hz),6.25(s,1H),4.05(t,2H,J=5.9Hz),3.88
(s,2H),2.87-2.81(m,4H),2.78-2.63(m,3H),1.72-1.63
(m,4H),1.40-1.37(m,2H),1.22(s,s,3H,3H)
【０２３１】
【実施例３１】５−｛４−［２−ジベンジルアミノエトキシ］フェニ
ル｝メチル−６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロ
キシフェニル）−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン
−１−オン 実施例６（ｇ）で得た、６，８−ジベンジルオキシ−５
−（４−ヒドロキシフェニル）メチル−３−（４−ベン
ジルオキシフェニル）−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン５０ｍｇ（０．０８ｍｍｏｌ）及びＮ
−ジベンジル−１−アミノエチルクロリド塩酸塩６９ｍ
ｇ（０．２３ｍｍｏｌ）を、ジメチルホルムアミド３ｍ
ｌに溶解させ、窒素気流下、炭酸カリウム６４ｍｇ
（０．４６ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃にて、４時間撹
拌した。溶媒を留去し、水及び酢酸エチルを加え、有機
層を抽出した後、減圧下、溶媒を留去した。得られた残
査を、エタノール：テトラヒドロフラン＝１：１の混合
溶媒３ｍｌに溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ４０ｍｇを加
え、水素雰囲気下、室温で、６時間撹拌した。セライト
を用いてろ過した後、溶媒を留去し、分取薄層クロマト
グラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝２／
１）を用いて精製し、標記化合物１４．１ｍｇ（３０
％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：ヘキサン
／酢酸エチル＝２／１）＝０．２ 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
Ｄ3 ＯＤ）：7.39-7.15(m,10H),6.99-6.92(m,4H),6.69
(d,2H,J=8.6Hz),6.64(d,2H,J=8.6Hz),6.27(s,1H),3.97
(t,2H,J=6.0Hz),3.86(s,2H),3.64(s,4H),3.14-3.06(s,4
H),2.98-2.81(m,1H),2.78(t,2H,J=6.0Hz),2.75-2.62(m,
2H)
【０２３２】
【実施例３２】６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−［４−（２−ピペリジノアセチル）アミノフ
ェニル］メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン
−１−オン
【０２３３】
【実施例３２（ａ）】４−［３，５−ジメトキシ−２−（４−ニトロフェニル
メチル）フェニル］−３−（４−メトキシフェニル）ブ
タン酸エチル 実施例１（ｂ）で得た、４−（３，４−ジメトキシフェ
ニル）−３−（４−メトキシフェニル）ブタン酸エチル
１．３ｇ（３．７ｍｍｏｌ）を、塩化メチレン３００ｍ
ｌに溶解させ、氷冷下、ｐ−ニトロベンジルブロミド８
２０ｍｇ（３．７ｍｍｏｌ）及び過塩素酸銀７８０ｍｇ
（３．７ｍｏｌ）を加え、５時間撹拌した。セライトを
用いてろ過した後、水洗し、飽和食塩水で洗浄した後、
有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下、溶媒を留
去した。得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝６／１）
を用いて精製し、標記化合物７６０ｍｇ（４１．９％）
を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：ヘキサン
／酢酸エチル＝５／１）＝０．４ 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：8.04(d,2H,J=8.58Hz),7.16(d,2H,J=8.58H
z),6.94(d,2H,J=8.58Hz),6.75(d,2H,J=8.58Hz),6.35(d,
1H,J=1.98Hz),6.11(d,1H,J=1.98Hz),4.01(m,2H),3.75
(s,3H),3.70(s,3H),3.67(s 3H),3.52(s,3H),3.23-3.15
(m,1H),2.88-2.50(m,4H)
【０２３４】
【実施例３２（ｂ）】６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−［（４−ニトロフェニル）メチル］−３，４
−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オン 実施例３２（ａ）で得た、４−［３，５−ジメトキシ−
２−（４−ニトロフェニルメチル）フェニル］−３−
（４−メトキシフェニル）ブタン酸エチル７６０ｍｇ
（１．５ｍｍｏｌ）に、２５％臭化水素−酢酸５０ｍｌ
を加え、１２時間加熱還流した。溶媒を留去し、酢酸エ
チルを加え、水洗し、飽和食塩水で洗浄した後、有機層
を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下、溶媒を留去し
た。得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）を用
いて精製し、標記化合物２６０ｍｇ（３８％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：ヘキサン
／酢酸エチル＝１／１）＝０．４ 核磁気共鳴スペクトルδｐｐｍ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ3 ＋ＣＤ3 ＯＤ）：8.07(d,2H,J=8.58Hz),7.26(d,2H,
J=8.58Hz),7.01(d,2H,J=8.58Hz),6.79(d,2H,J=8.58Hz),
6.31(s,1H),4.08-4.02(m,2H),3.23-3.08(m,2H),2.855-
2.67(m,3H)
【０２３５】
【実施例３２（ｃ）】５−［（４−ニトロフェニル）メチル］−６，８−ジメ
シルオキシ−３−（４−メシルオキシフェニル）−３，
４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オン 実施例３２（ｂ）で得た、６，８−ジヒドロキシ−３−
（４−ヒドロキシフェニル）−５−［（４−ニトロフェ
ニル）メチル］−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン
−１−オン１３０ｍｇ（０．３ｍｍｏｌ）を、塩化メチ
レン３０ｍｌに溶解させ、氷冷下、メタンスルフォニル
クロリド１６５ｍｇ（１．５ｍｍｏｌ）、トリエチルア
ミン１６０ｍｇ（１．５ｍｍｏｌ）及びジメチルアミノ
ピリジン５ｍｇを加え、３時間撹拌した。反応液に、水
及び飽和重層水を順次加え、洗浄し、有機層を硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後、減圧下、溶媒を留去した。得ら
れた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展
開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝６／１）を用いて精製
し、標記化合物１５０ｍｇ（７３％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：ヘキサン
／酢酸エチル＝１／２）＝０．７ 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：8.13(d,2H,J=8.58Hz),7.31(s,1H),7.26-7.
15(m,6H),4.26(m,2H),3.41(s,3H),3.23(s,3H),3.16(s,3
H),3.10-2.77(m,5H)
【０２３６】
【実施例３２（ｄ）】５−［（４−アミノフェニル）メチル］−６，８−ジメ
シルオキシ−３−（４−メシルオキシフェニル）−３，
４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オン 実施例３２（ｃ）で得た、５−［（４−ニトロフェニ
ル）メチル］−６，８−ジメシルオキシ−３−（４−メ
シルオキシフェニル）−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン１５０ｍｇ（０．２３ｍｍｏｌ）を、
エタノール４０ｍｌに溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ３０ｍ
ｇを加え、室温にて、水素気流下、接触水素添加を行っ
た。３時間後、セライトを用いて濾過した後、溶媒を留
去した。得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／３）
を用いて精製し、標記化合物８０ｍｇ（５３％）を得
た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：ヘキサン
／酢酸エチル＝１／３）＝０．２ 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：7.23(d,2H,J=8.58Hz),7.18(d,2H,J=8.58H
z),6.78(d,2H,J=8.58Hz),6.59(d,2H,J=8.58Hz),4.02(m,
2H),3.38(s,2H),3.34-3.25(m,1H),3.16(s,3H),3.09(s,3
H),2.94-2.77(m,4H)
【０２３７】
【実施例３２（ｅ）】６，８−ジメシルオキシ−３−（４−メシルオキシフェ
ニル）−５−［４−（２−ピペリジノアセチル）アミノ
フェニル］メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレ
ン−１−オン １−ピペリジン酢酸３７．８ｍｇ（０．２６ｍｍｏｌ）
を、塩化メチレン１０ｍｌに懸濁させ、氷冷下、オキザ
リルクロリド３２．７ｍｇ（０．２６ｍｍｏｌ）及びジ
メチルホルムアミド２滴を加え、３０分撹拌した後、実
施例３２（ｄ）で得た、５−［（４−アミノフェニル）
メチル］−６，８−ジメシルオキシ−３−（４−メシル
オキシフェニル）−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレ
ン−１−オン８０ｍｇ（０．１３ｍｍｏｌ）及びトリエ
チルアミン２６ｍｇ（０．２６ｍｍｏｌ）を加え、２時
間撹拌した。反応液に、水を加え、洗浄し、有機層を硫
酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下、溶媒を留去し
た。得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（酢酸エチル）を用いて精製し、標記化合物９０ｍ
ｇ（８８％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：酢酸エチ
ル）＝０．５ 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：7.46(d,2H,J=8.58Hz),7.46(s,1H),7.19(d,
2H,J=8.58Hz),6.96(d,2H,J=8.58Hz),4.11(m,2H),3.38
(s,3H),3.39-3.17(m,3H),3.15(s,3H),3.12(s,3H),2.92-
2.75(m,4H),2.54-2.51(m,4H),1.63(m,4H),1.49-1.45(m,
2H)
【０２３８】
【実施例３２（ｆ）】６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−［４−（２−ピペリジノアセチル）アミノフ
ェニル］メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン
−１−オン 実施例３２（ｅ）で得た、６，８−ジメシルオキシ−３
−（４−メシルオキシフェニル）−５−［４−（２−ピ
ペリジノアセチル）アミノフェニル］メチル−３，４−
ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オン９０ｍｇ（０．
１１ｍｍｏｌ）を、エタノール１０ｍｌに溶解させ、１
規定水酸化ナトリウム１ｍｌを加え、２時間加熱還流し
た。溶媒を留去し、酢酸エチルを加え、水及び飽和食塩
水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下、
溶媒を留去した。得られた残渣を、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（酢酸エチル）を用いて精製し、標記
化合物１２ｍｇ（１６％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：酢酸エチ
ル）＝０．５ 核磁気共鳴スペクトルδｐｐｍ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ3 ＋ＣＤ3 ＯＤ）：7.34(d,2H,J=8.58Hz),7.06(d,2H,
J=8.58Hz),6.99(d,2H,J=8.58Hz),6.74(d,2H,J=8.58Hz),
6.14(s,1H),4.05-3.85(m,2H),3.27-3.20(m,1H),2.76-2.
64(m,4H),2.54-2.50(m,4H),1.67-1.61(m,4H),1.59-1.48
(m,2H)
【０２３９】
【実施例３３】６，７，８−トリヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフ
ェニル）−５−［４−（２−ピペリジノアセチル）アミ
ノフェニル］メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタ
レン−１−オン塩酸塩
【０２４０】
【実施例３３（ａ）】３’，４’，５’，４−テトラメトキシデオキシベンゾ
イン ３，４，５−トリメトキシフェニル酢酸５ｇ（２２．１
ｍｍｏｌ）を、ベンゼン５０ｍｌに懸濁させ、氷冷下、
塩化チオニル２．６ｇ（２２．１ｍｍｏｌ）を加え、３
時間加熱還流した。溶媒を留去し、再び氷冷し、アニソ
ール５０ｍｌ及び塩化アルミニウム３．０ｇ（２２．４
ｍｍｏｌ）を加え、室温で、３時間攪拌した。稀塩酸及
び酢酸エチルを加え、抽出し、有機層を、水及び飽和食
塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
下、溶媒を留去した。得られた残渣を、ヘキサンで３回
洗浄し、標記化合物５．８ｇ（８３％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：酢酸エチ
ル／ヘキサン＝２／１）＝０．６ 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：8.00(d,2H,J=9.2Hz),6.94(d,2H,J=9.2Hz),
6.50-6.47(m,2H),4.16(s,2H),3.93(s,3H),3.87(s,3H),
3.85(s,3H),3.83(s,3H)
【０２４１】
【実施例３３（ｂ）】４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−３−（４
−メトキシフェニル）ブタン酸エチル 氷冷下、トリエチルフォスフォノアセテート２０ｍｌ
に、ナトリウムヒドリド３．３ｇ（８３ｍｍｏｌ）を加
え、３０分攪拌した後、実施例３３（ａ）で得た、
３’，４’，５’，４−テトラメトキシデオキシベンゾ
イン２．６ｇ（８．３ｍｍｏｌ）を加え、１２５℃で、
３時間攪拌した。酢酸エチルを加え、水及び飽和食塩水
で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下、溶媒を
留去した。得られた残渣を、エタノール１００ｍｌに溶
解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ２６０ｍｇを加え、水素気流
下、室温にて、３時間、接触水素添加を行った。セライ
トを用いて濾過した後、溶媒を留去し、得られた残渣
を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：
酢酸エチル／ヘキサン＝６／１）を用いて精製し、標記
化合物１．４ｇ（２７％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：酢酸エチ
ル／ヘキサン＝２／１）＝０．５５ 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：7.05(d,2H,J=8.6Hz),6.80(d,2H,J=8.6Hz),
6.19(s,2H),4.01(q,2H,J=7.2Hz),3.79(s,3H),3.76(s,3
H),3.74(s,3H),3.74(s,s,3H,3H),3.36-3.28(m,1H),2.86
-2.79(m,2H),2.70-2.52(m,2H),1.13(t,3H,J=7.2Hz)
【０２４２】
【実施例３３（ｃ）】４−［３，４，５−トリメトキシ−２−（４−ニトロフ
ェニルメチル）フェニル］−３−（４−メトキシフェニ
ル）ブタン酸エチル 実施例３３（ｂ）で得た、４−（３，４，５−トリメト
キシフェニル）−３−（４−メトキシフェニル）ブタン
酸エチル５００ｍｇ（１．２８ｍｍｏｌ）を、塩化メチ
レン６０ｍｌに溶解させ、氷冷下、ｐ−ニトロベンジル
ブロミド２８０ｍｇ（１．２８ｍｍｏｌ）及び過塩素酸
銀２６０ｍｇ（１．２８ｍｏｌ）を加え、５時間撹拌し
た。セライトを用いてろ過した後、水洗し、飽和食塩水
で洗浄した後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減
圧下 溶媒を留去した。得られた残渣を、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エ
チル＝４／１）を用いて精製し、標記化合物４５５ｍｇ
（７５％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：ヘキサン
／酢酸エチル＝２／１）＝０．５ 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：8.08(d,2H,J=8.6Hz),7.18(d,2H,J=8.6Hz),
6.92(d,2H,J=8.6Hz),6.76(d,2H,J=8.6Hz),6.19(s,1H),
4.00(m,2H),3.83(s,3H),3.76(s,3H),3.74(s,3H),3.67
(s,3H),3.34-3.28(m,1H),2.86-2.80(m,2H),2.64-2.53
(m,2H)
【０２４３】
【実施例３３（ｄ）】６，７，８−トリヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフ
ェニル）−５−（４−ニトロフェニル）メチル−３，４
−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オン 実施例３３（ｃ）で得た、４−［３，４，５−トリメト
キシ−２−（４−ニトロフェニルメチル）フェニル］−
３−（４−メトキシフェニル）ブタン酸エチル４５５ｍ
ｇ（０．８７ｍｍｏｌ）を、塩化メチレン１５ｍｌに溶
解させ、−７８℃で冷却下、１Ｍ臭化ホウ素−塩化メチ
レン溶液５．２ｍｌ（５．２２ｍｍｏｌ）を加え、室温
で、一昼夜撹拌した。溶液を氷冷した後、メタノール４
ｍｌを加え、溶媒を留去した。酢酸エチルを加え、水洗
し、飽和食塩水で洗浄した後、有機層を硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣
を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：
ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）を用いて精製し、標記
化合物１７５ｍｇ（７０％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：ヘキサン
／酢酸エチル＝１／１）＝０．５ 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
Ｄ3 ＯＤ）：8.08(d,2H,J=8.6Hz),7.26(d,2H,J=8.6Hz),
7.02(d,2H,J=8.6Hz),6.77(d,2H,J=8.6Hz),4.01(m,2H),
3.30-3.19(m,1H),3.09-2.98(m,2H),2.83-2.67(m,2H)
【０２４４】
【実施例３３（ｅ）】５−（４−アミノフェニル）メチル−６，７，８−トリ
ヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニル）−３，４
−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オン 実施例３３（ｄ）で得た、６，７，８−トリヒドロキシ
−３−（４−ヒドロキシフェニル）−５−（４−ニトロ
フェニル）メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレ
ン−１−オン１７５ｍｇ（０．３７ｍｍｏｌ）を、エタ
ノール３０ｍｌに溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ２０ｍｇを
加え、水素雰囲気下、室温で、６時間撹拌した。セライ
トを用いてろ過した後、溶媒を留去し、分取薄層クロマ
トブラフィー（展開溶媒：塩化メチレン／酢酸エチル＝
２／１）を用いて精製し、標記化合物１０３ｍｇ（６４
％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：塩化メチ
レン／酢酸エチル＝１／１）＝０．４ 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
Ｄ3 ＯＤ）：7.00(d,2H,J=8.6Hz),6.89(d,2H,J=8.63H
z),6.75(d,2H,J=8.6Hz),6.59(d,2H,J=8.6Hz),3.96-3.81
(m,2H),3.30-3.17(m,1H),3.09-2.98(m,2H),2.83-2.67
(m,2H)
【０２４５】
【実施例３３（ｆ）】６，７，８−トリヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフ
ェニル）−５−［４−（２−ピペリジノアセチル）アミ
ノフェニル］メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタ
レン−１−オン塩酸塩 １−ピペリジン酢酸１３ｍｇ（０．０９ｍｍｏｌ）を、
塩化メチレン５ｍｌに溶解させ、窒素気流下、Ｎ−メチ
ルモルホリン及びジメチルホルムアミドを各々２滴加
え、−２０℃にて、トリエチルアミン９．２ｍｇ（０．
０９ｍｍｏｌ）、クロロギ酸エチル１０ｍｇ（０．０９
ｍｍｏｌ）及び実施例３３（ｅ）で得た、５−（４−ア
ミノフェニル）メチル−６，７，８−トリヒドロキシ−
３−（４−ヒドロキシフェニル）−３，４−ジヒドロ−
２Ｈ−ナフタレン−１−オン２０ｍｇ（０．０４５ｍｍ
ｏｌ）を順次加え、室温で、１２時間撹拌した。溶媒を
留去し、酢酸エチル、水及び飽和重層水を順次加え、洗
浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧
下、溶媒を留去した。得られた残渣を、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサ
ン＝１／１）を用いて精製した後、塩酸−メタノールに
て塩酸塩とし、標記化合物２．１ｍｇ（８％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：酢酸エチ
ル）＝０．４ 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
Ｄ3 ＯＤ）：7.39(d,2H,J=7.9Hz),7.06(d,2H,J=7.9Hz),
6.99(d,2H,J=8.6Hz),6.76(d,2H,J=8.6Hz),4.02-3.90(m,
2H),3.30-3.17(m,1H),3.09-2.98(m,2H),2.83-2.67(m,2
H),2.61-2.52(m,4H),1.67-1.60(m,4H),1.55-1.48(m,2H)
【０２４６】
【実施例３４】７，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−［４−（２−ピペリジノアセチル）アミノフ
ェニル］メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン
−１−オン
【０２４７】
【実施例３４（ａ）】４−［３，４−ジメトキシ−６−（４−ニトロフェニル
メチル）］フェニル−３−（４−メトキシフェニル）ブ
タン酸エチル 実施例１（ｂ）で得た、４−（３，４−ジメトキシフェ
ニル）−３−（４−メトキシフェニル）ブタン酸エチル
５００ｍｇ（１．４ｍｍｏｌ）を、塩化メチレン３０ｍ
ｌに溶解させ、氷冷下、ｐ−ニトロベンジルブロミド３
００ｍｇ（１．４ｍｍｏｌ）及び過塩素酸銀２９０ｍｇ
（１．４ｍｍｏｌ）を加え、５時間、撹拌した。セライ
トを用いてろ過した後、水洗し、飽和食塩水で洗浄した
後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下、溶媒
を留去した。得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／
１）を用いて精製し、標記化合物３２１ｍｇ（４６％）
を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：ヘキサン
／酢酸エチル＝２／１）＝０．４ 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：8.06(d,2H,J=8.6Hz),7.18(d,2H,J=8.6Hz),
6.91(d,2H,J=8.6Hz),6.76(d,2H,J=8.6Hz),6.50(s,1H),
6.36(s,1H),4.00(q,2H,J=7.2Hz),3.73(s,3H),3.75(s,3
H),3.69(s,3H),3.26-3.13(m,1H),2.89-2.80(m,1H),2.71
-2.53(m,3H),1.28(t,3H,J=7.2Hz)
【０２４８】
【実施例３４（ｂ）】４−［６−（４−アミノフェニルメチル）−３，４−ジ
メトキシ］フェニル−３−（４−メトキシフェニル）ブ
タン酸エチル 実施例３４（ａ）で得た、４−［３，４−ジメトキシ−
６−（４−ニトロフェニルメチル）］フェニル−３−
（４−メトキシフェニル）ブタン酸エチル１８０ｍｇ
（０．３６ｍｍｏｌ）を、エタノール１２ｍｌに溶解さ
せ、１０％Ｐｄ−Ｃ２０ｍｇを加え、水素雰囲気下、室
温で、６時間撹拌した。セライトを用いてろ過した後、
溶媒を留去し、分取薄層クロマトブラフィー（ヘキサ
ン：酢酸エチル＝２：１）を用いて精製し、標記化合物
１１ｍｇ（８０％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：ヘキサン
／酢酸エチル＝２／１）＝０．２ 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：7.04(d,2H,J=8.6Hz),6.98(s,1H),6.85(d,2
H,J=8.6Hz),6.62(d,2H,J=8.6Hz),3.77(s,2H),3.70(q,2
H,J=7.2Hz),3.31-3.23(m,1H),3.17-3.08(m,1H),2.91-2.
79(m,3H),1.70(br.s,2H),1.21(t,3H,J=7.2Hz)
【０２４９】
【実施例３４（ｃ）】４−｛３，４−ジメトキシ−６−［４−（２−ピロリジ
ノアセチル）アミノフェニル］メチル｝フェニル−３−
（４−メトキシフェニル）ブタン酸エチル 実施例３４（ｂ）で得た、４−［６−（４−アミノフェ
ニルメチル）−３，４−ジメトキシ］フェニル−３−
（４−メトキシフェニル）ブタン酸エチル１００ｍｇ
（０．２１ｍｍｏｌ）、１−ピペリジン酢酸３５ｍｇ
（０．２１ｍｍｏｌ）を、塩化メチレン６ｍｌに溶解さ
せ、窒素気流下、シアノリン酸ジエチル４０ｍｇ（０．
２１ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン０．０３４ｍｌ
（０．２１ｍｍｏｌ）を加え、室温にて、１２時間撹拌
した。溶媒を留去し、酢酸エチル、水及び飽和重層水を
順次加え、洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し
た後、減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣を、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチ
ル／ヘキサン＝１／１）を用いて精製し、標記化合物７
０ｍｇ（５５％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：酢酸エチ
ル／ヘキサン＝１／１）＝０．１ 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：9.19(br.s,1H),7.45(d,2H,J=8.6Hz),7.01
(d,2H,J=8.6Hz),6.96(d,2H,J=8.6Hz),6.76(d,2H,J=8.6H
z),6.53(s,1H),6.36(s,1H),4.00(q,2H,J=7.2Hz),3.90-
3.81(m,2H),3.76(s,s,3H,3H),3.68(s,3H),3.28-3.19(m,
1H),3.05(s,2H),2.90-2.82(m,3H),2.71-2.57(m,3H),2.5
4-2.51(m,4H),1.67-1.57(m,4H),1.50-1.46(m,2H)
【０２５０】
【実施例３４（ｄ）】７，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−［４−（２−ピペリジノアセチル）アミノフ
ェニル］メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン
−１−オン 実施例３４（ｃ）で得た、４−｛３，４−ジメトキシ−
６−［４−（２−ピロリジノアセチル）アミノフェニ
ル］メチル｝フェニル−３−（４−メトキシフェニル）
ブタン酸エチル７０ｍｇ（０．１２ｍｍｏｌ）を、塩化
エチレン１５ｍｌに溶解させ、−７８℃で冷却下、１Ｍ
臭化ホウ素−塩化メチレン溶液０．９ｍｌ（０．９６ｍ
ｍｏｌ）を加え、室温で、一昼夜撹拌した。溶液を氷冷
した後、メタノール５ｍｌを加え、溶媒を留去し、酢酸
エチルを加え、水洗し、飽和食塩水で洗浄した後、有機
層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下、溶媒を留去し
た。得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（展開溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１０／
１）を用いて精製し，標記化合物１０ｍｇ（１６．７
％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：塩化メチ
レン／メタノール＝１０／１）＝０．５ 核磁気共鳴スペクトルδｐｐｍ（２７０ＭＨｚ，ＣＤ3
ＯＤ＋ＣＤ3 ＯＤ）：7.44(d,2H,J=8.6Hz),7.01(d,2H,J
=8.6Hz),7.00-6.95(m,3H),6.75(d,2H,J=8.6Hz),3.85(s,
2H),3.45(s,2H),3.32-3.05(m,2H),2.90-2.72(m,2H),2.7
0-2.62(m,4H),1.74-1.64(m,4H),1.54-1.44(m,2H)
【０２５１】
【実施例３５】５，７−ジヒドロキシ−８−［４−（２−ピペリジノエ
トキシ）フェニル］メチル−２−（４−ヒドロキシフェ
ニル）−クロマン−４−オン
【０２５２】
【実施例３５（ａ）】３−（４−ベンジルオキシベンジル）−２−ヒドロキシ
−４，６−ジメトキシメチルオキシアセトフェノン ２’，４’，６’−トリハイドロキシアセトフェノン４
ｇ（２１．５ｍｍｏｌ）を、テトラヒドロフラン３００
ｍｌに溶解させ、４’−ベンジルオキシベンジルクロリ
ド５ｇ（２１．５ｍｍｏｌ）及び炭酸カリウム８．９２
ｇ（６４．５ｍｍｏｌ）を加え、２０時間、加熱還流し
た後、溶媒を留去した。得られた残渣９００ｍｇに、テ
トラヒドロフラン１００ｍｌを加え、溶解させ、氷冷
下、メトキシメチルクロリド９８８ｍｇ（１２．３ｍｍ
ｏｌ）及びジイソプロピルエチルアミン１．７４ｇ（１
２．５ｍｍｏｌ）を加え、室温で、８時間攪拌した後、
溶媒を留去した。酢酸エチルを加え、水洗し、飽和食塩
水で洗浄した後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、
減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣を、シリカゲル
カラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸
エチル＝６／１）を用いて精製し、標記化合物８７０ｍ
ｇ（８．８％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：ヘキサン
／酢酸エチル＝３／１）＝０．４ 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：13.9(s,1H),7.41-7.25(m,5H),7.21(d,2H,J
=8.58Hz),6.82(d,2H,J=8.58Hz),6.38(s,1H),5.24(s,2
H),5.20(s,2H),4.99(s,2H),3.89(s,2H),3.50(s,2H),3.3
6(s,2H),2.56(s,2H)
【０２５３】
【実施例３５（ｂ）】２−ヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニル）メチ
ル−４，６−ジメトキシメチルオキシアセトフェノン 実施例３５（ａ）で得た、３−（４−ベンジルオキシベ
ンジル）−２−ヒドロキシ−４，６−ジメトキシメチル
オキシアセトフェノン８７０ｍｇ（１．９ｍｍｏｌ）
を、エタノール５０ｍｌに溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ２
００ｍｇを加え、室温にて、水素気流下、接触水素添加
を行った。３時間後、セライトを用いて濾過した後、溶
媒を留去した。得られた残渣を、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４
／１）を用いて精製し、標記化合物６３０ｍｇ（９０．
５％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：ヘキサン
／酢酸エチル＝３／１）＝０．３ 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：13.8(s,1H),7.13(d,2H,J=8.58Hz),6.68(d,
2H,J=8.58Hz),6.39(s,1H),5.25(s,1H),5.22(s,2H),3.87
(s,2H),3.79(br.s,1H),3.51(s,3H),3.37(s,3H),2.65(s,
3H)
【０２５４】
【実施例３５（ｃ）】５，７−ジヒドロキシ−８−（４−ヒドロキシフェニ
ル）メチル−２−（４−ヒドロキシフェニル）クロマン
−４−オン 実施例３５（ｂ）で得た、２−ヒドロキシ−３−（４−
ヒドロキシフェニル）メチル−４，６−ジメトキシメチ
ルオキシアセトフェノン３６０ｍｇ（０．９４ｍｍｏ
ｌ）を、ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させ、氷
冷下、ナトリウムヒドリド１１０ｍｇ（２．９７ｍｍｏ
ｌ）を加え、３０分攪拌した後、ｐ−メトキシメチルオ
キシベンズアルデヒド１５０ｍｇ（０．９９ｍｍｏｌ）
を加え、室温で、３時間攪拌した。溶媒を留去し、メタ
ノール２０ｍｌに溶解し、１規定水酸化ナトリウムを数
滴加え、室温で、６時間攪拌した後、溶媒を留去した。
酢酸エチルを加え、飽和重曹水、水及び飽和食塩水で洗
浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下、溶媒を
留去した。得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝２／
１）を用いて精製し、標記化合物９０ｍｇ（１７．８
％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：ヘキサン
／酢酸エチル＝１／１）＝０．５ 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：7.30(d,2H,J=8.58Hz),7.05(d,2H,2H,J=8.5
8Hz,J=8.58Hz),6.68(d,2H,J=8.58Hz),5.37-5.31(m,1H),
5.25(s,2H),5.23(s,2H),5.20(s,2H),3.92-3.80(m,2H),
3.51(s,3H),3.50(s,3H),3.39(s,3H),3.03-2.78(m,2H),
2.59(br.s,1H)
【０２５５】
【実施例３５（ｄ）】５，７−ジヒドロキシ−８−［４−（２−ピペリジノエ
トキシ）フェニル］メチル−２−（４−ヒドロキシフェ
ニル）クロマン−４−オン 実施例３５（ｃ）で得た、５，７−ジヒドロキシ−８−
（４−ヒドロキシフェニル）メチル−２−（４−ヒドロ
キシフェニル）クロマン−４−オン９０ｍｇ（０．１７
ｍｍｏｌ）を、無水テトラヒドロフラン５０ｍｌに溶解
させ、氷冷下、ピペリジンエタノール５７ｍｇ（０．４
４ｍｍｏｌ）、アゾジカルボン酸ジエチル７７ｍｇ
（０．８４ｍｍｏｌ）及びトリフェニルフォスフィン１
１５ｍｇ（０．４４ｍｍｏｌ）を加え、３時間撹拌し
た。溶媒を留去し、酢酸エチルを加え、水及び飽和食塩
水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下、
溶媒を留去した。得られた残渣を、メタノール１０ｍｌ
に溶解させ、塩酸−メタノール溶液５ｍｌを加え、室温
で、６時間撹拌した。溶媒を留去した後、酢酸エチルを
加え、飽和重曹水、水及び飽和食塩水で洗浄した後、硫
酸マグネシウムで乾燥し、減圧下、溶媒を留去した。得
られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１０／１）を
用いて精製し、標記化合物６ｍｇ（６．９％）を得た。 薄層クロマトグラフィ−：Ｒｆ値（展開溶媒：塩化メチ
レン／メタノール＝１０／１）＝０．４ 核磁気共鳴スペクトルδｐｐｍ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ3 ＋ＣＤ3 ＯＤ）：７．０９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５
８Ｈｚ），７．０６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５８Ｈｚ），
６．７８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５８Ｈｚ），６．７２
（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５８Ｈｚ），５．９８（ｓ，１
Ｈ），５．３７−５．２７（ｍ，１Ｈ），４．０５
（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），３．９０−３．７２
（ｍ，２Ｈ），３．０７−２．７５（ｍ，２Ｈ），２．
８５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），２．６０（ｍ，４
Ｈ），１．５６−１．４８（ｍ，４Ｈ），１．４９−
１．４０（ｍ，２Ｈ）
【０２５６】
【実施例３６】６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−［４−（２−ピペリジン−１−イルエトキ
シ）ベンゾイル］−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレ
ン−１−オン
【０２５７】
【実施例３６（ａ）】６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オン 実施例６（ｂ）又は６（ｃ）で得られた、４−（３，５
−ジメトキシフェニル）−３−（４−メトキシフェニ
ル）ブタン酸エチル３００ｍｇ（0.87mmol )に、ポリリ
ン酸5gを加え、窒素気流下、80℃で、２時間加熱攪拌し
た。水及び酢酸エチルを加え、有機層を抽出し、飽和重
曹水、水及び飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧下溶媒を留去し、残渣260mg を塩化メチレ
ン70mlに溶解し、1M三臭化ボロン溶液5.2ml を、 -78℃
にて加え、室温で８時間攪拌した。メタノール、酢酸エ
チル水及び飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾
燥し、減圧下、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーに付し（酢酸エチル：ヘキサン＝
１：１）の展開溶媒を用い精製し、所望の化合物200mg
(87.5%)を得た。 Rf=0.5（酢酸エチル：ヘキサン＝２：１） 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ＋ＣＤ3 ＯＤ）：１２．８（ｓ、１Ｈ），７．
１１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５８Ｈｚ），６．８１（ｄ，
２Ｈ，Ｊ＝８．５８Ｈｚ），６．２２−６．２１（ｍ，
２Ｈ），３．３７−３．２４（ｍ，２Ｈ），３．０１−
２．９８（ｍ，２Ｈ），２．８１−２．７１（ｍ，２
Ｈ）
【０２５８】
【実施例３６（ｂ）】５，７−ビス−メトキシメトキシ−３−（４−メトキシ
メトキシフェニル）−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタ
レン−１−オン 実施例３６（ａ）で得られた、６，８−ジヒドロキシ−
３−（４−ヒドロキシフェニル）−３，４−ジヒドロ−
２Ｈ−ナフタレン−１−オン３．５０ｇ（１２．９ｍｍ
ｏｌ）を、塩化メチレン３００ｍｌに懸濁し、ジイソプ
ロピルエチルアミン７０ｍｌ及びクロルメチルメチルエ
ーテル３０ｍｌを滴下して、窒素雰囲気下、室温にて２
０時間攪拌した。反応液を３００ｍｌの塩化メチレンで
希釈し、有機層を、水、飽和重曹水、飽和食塩水にて洗
浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下、溶媒を留去
して、粗生成物５．５ｇを得た。これを、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エ
チル＝２／１）を用いて精製し、標記化合物３．３ｇ
（６３％）を得た。 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ３ ）：７．１９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈ
ｚ），７．０２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），６．７
３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），６．５８（ｄ，２
Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），５．２７（ｓ，２Ｈ），５．２
０（ｓ，２Ｈ），５．１７（ｓ，２Ｈ），３．５４
（ｓ，３Ｈ），３．４８（ｓ，６Ｈ），３．４５−３．
３０（ｍ，１Ｈ），３．１２−３．０７（ｍ，２Ｈ），
２．８７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５，４．０Ｈｚ），
２．７３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．５，１２．５Ｈｚ）
【０２５９】
【実施例３６（ｃ）】５−ブロモ−６，８−ビスメトキシメトキシ−３−（４
−メトキシメトキシフェニル）−３，４−ジヒドロ−２
Ｈ−ナフタレン−１−オン 実施例３６（ｂ）で得られた、５，７−ビスメトキシメ
トキシ−３−（４−メトキシメトキシフェニル）−３，
４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オン３．１ｇ
（７．８ｍｍｏｌ）を、塩化メチレン５０mlに溶解さ
せ、氷冷下、１Ｍ臭素−四臭化炭素溶液９ml（９．０mm
ol）を加え、窒素雰囲気下、１時間攪拌した。酢酸エチ
ルを加え、水洗し、飽和食塩水で洗浄した後、有機層を
硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下、溶媒を留去した。
得られた残渣を、塩化メチレン５０mlに溶解させ、ジイ
ソプロピルエチルアミン１５ml（８６mmol）、メトキシ
メチルクロリド６．４ml（８４mmol）を加え、室温で、
２日間攪拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチルを加
え、水洗し、飽和食塩水で洗浄した後、有機層を硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧下、溶媒を留去した。得られ
た残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開
溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝２／１〜１／１）を用い
て精製し、標記化合物２．９ｇ（７８．３％）を得た。 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：7.24-7.20(m,2H),7.06-7.03(m,2H),6.96
(s,1H),5.31(s,2H),5.27(s,2H),5.18(s,2H),3.54(s,3
H),3.53(s,3H),3.49(s,3H),3.49-3.26(m,2H),2.97-2.72
(m,3H)
【０２６０】
【実施例３６（ｄ）】５−｛［４−（tert−ブチルジメチルシリルオキシ）フ
ェニル］ヒドロキシメチル｝−６，８−メトキシメトキ
シ−３−（４−メトキシメトキシフェニル）−３，４−
ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オン、及び［５−
（tert−ブチルジメチルシリルオキシ）−２，４−ビス
メトキシメトキシ−７−（４−メトキシメトキシフェニ
ル）−７，８−ジヒドロナフタレン−１−イル］−［４
−（tert−ブチルジメチルシリルオキシ）フェニル］メ
タノール 実施例３６（ｃ）で得られた、５−ブロモ−６，８−ビ
スメトキシメトキシ−３−（４−メトキシメトキシフェ
ニル）−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オ
ン２０８．３mg（０．４３mmol）を、テトラヒドロフラ
ン１５mlに溶解させ、氷冷下、１Ｍリチウムヘキサメチ
ルジシラジド−テトラヒドロフラン溶液４ml（４．０mm
ol）を加え、窒素雰囲気下、３０分間攪拌した後、tert
−ブチルジメチルシリルトリフルオロメタンスルホネー
ト０．５ml（２．１８mmol）を加え、更に、４０分間攪
拌した。酢酸エチルを加え、水洗し、飽和食塩水で洗浄
した後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下、
溶媒を留去した。得られた残渣を、エーテル１０mlに溶
解させ、−７８℃に冷却し、１．６Ｍブチルリチウム−
ヘキサン溶液１．３５ml（２．１６mmol）を加え、窒素
雰囲気下、３０分間攪拌した後、４−tert−ブチルジメ
チルシリルオキシベンズアルデヒド７２０mg（３．０５
mmol）のエーテル５ml溶液を加えた。２時間かけ、−２
０℃まで昇温し、反応を、飽和塩化アンモニウム水溶液
を加え、停止させた。酢酸エチルを加え、水洗し、飽和
食塩水で洗浄した後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣を、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン／
酢酸エチル＝１０／１〜１／２）を用いて精製し、標記
ケトン体４４．１mg（１６．０％）と、シリルエノール
エーテル体１４０．２mg（４３．０％）を得た。 ケトン体の核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ（２７０Ｍ
Ｈｚ，ＣＤＣｌ3 ）：7.26-6.95(m,6H),6.01-6.90(m,1
H),6.78-6.73(m,2H),6.19-6.16(m,1H),5.31-5.25(m,2
H),5.20-5.05(m,4H),3.66-3.39(m,7H),3.29-3.16(m,4
H),2.92-2.17(m,3H),0.96(s,9H),0.16-0.15(m,6H) シリルエノールエーテル体の核磁気共鳴スペクトル δ
ｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）：7.12-7.07(m,
2H),6.95-6.82(m,5H),6.74-6.60(m,2H),6.04-5.96(m,1
H),5.32-4.92(m,7H),3.78-3.47(m,7H),3.28-3.05(m,4
H),2.76-2.66(m,1H),0.99-0.95(m,18H),0.19-0.14(m,12
H)
【０２６１】
【実施例３６（ｅ）】５−［４−（tert−ブチルジメチルシリルオキシ）ベン
ゾイル］−６，８−ビスメトキシメトキシ−３−（４−
メトキシメトキシフェニル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−
ナフタレン−１−オン 実施例３６（ｄ）で得られた、５−｛［４−（tert−ブ
チルジメチルシリルオキシ）フェニル］ヒドロキシメチ
ル｝−６，８−メトキシメトキシ−３−（４−メトキシ
メトキシフェニル）−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタ
レン−１−オン４４．１mg（０．０７mmol）を、塩化メ
チレン３mlに溶解させ、氷冷下、デス・マーチン試薬３
０mg（０．０７mmol）を加え、窒素雰囲気下、２０分間
攪拌した。酢酸エチルを加え、水洗し、飽和食塩水で洗
浄した後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
下、溶媒を留去した。得られた残渣を、分取薄層クロマ
トグラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／
１）を用いて精製し、標記化合物３２．０mg（７２．８
％）を得た。 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：７．７４−７．７０（ｍ，２Ｈ），７．０
８−７．０５（ｍ，２Ｈ），６．９５−６．９２（ｍ，
３Ｈ），６．８６−６．８２（ｍ，２Ｈ），５．３１
（ｓ，２Ｈ），５．１３（ｓ，２Ｈ），５．０９（ｓ，
２Ｈ），３．５７（ｓ，３Ｈ），３．４５（ｓ，３
Ｈ），３．３８−３．１８（ｍ，１Ｈ），３．２６
（ｓ，３Ｈ），２．９６−２．６９（ｍ，４Ｈ），０．
９８（ｓ，９Ｈ），０．２３（ｓ，６Ｈ）
【０２６２】
【実施例３６（ｆ）】５−（４−ヒドロキシベンゾイル）−６，８−ビスメト
キシメトキシ−３−（４−メトキシメトキシフェニル）
−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オン （１）実施例３６（ｅ）で得られた、５−［４−（ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ベンゾイル］−
６，８−ビスメトキシメトキシ−３−（４−メトキシメ
トキシフェニル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン
−１−オン３２．０mg（０．０５mmol）を、テトラヒド
ロフラン３mlに溶解させ、１Ｍテトラブチルアンモニウ
ムフルオリド−テトラヒドロフラン溶液６０μｌ（０．
０６mmol）を加え、室温で、１時間攪拌した。酢酸エチ
ルを加え、水洗し、飽和食塩水で洗浄した後、有機層を
硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下、溶媒を留去した。
得られた残渣を、分取薄層クロマトグラフィー（展開溶
媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）を用いて精製し、
標記化合物２６．１mg（９９．４％）を得た。 （２）実施例３６（ｄ）で得られた、［５−（tert−ブ
チルジメチルシリルオキシ）−２，４−ビスメトキシメ
トキシ−７−（４−メトキシメトキシフェニル）−７，
８−ジヒドロナフタレン−１−イル］−［４−（tert−
ブチルジメチルシリルオキシ）フェニル］メタノール１
４０．２mg（０．１９mmol）を、塩化メチレン７mlに溶
解させ、氷冷下、デス・マーチン試薬９５mg（０．２２
mmol）を加え、窒素雰囲気下、３０分間攪拌した。酢酸
エチルを加え、水洗し、飽和食塩水で洗浄した後、有機
層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下、溶媒を留去し
た。得られた残渣を、テトラヒドロフラン７mlに溶解さ
せ、１Ｍテトラブチルアンモニウムフルオリド−テトラ
ヒドロフラン溶液６００μｌ（０．０６mmol）を加え、
室温で、２．５時間攪拌した。酢酸エチルを加え、水洗
し、飽和食塩水で洗浄した後、有機層を硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣
を、分取薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン
／酢酸エチル＝１／２）を用いて精製し、標記化合物６
９．５mg（７１．４％）を得た。 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：7.71-7.68(m,2H),7.08-7.04(m,2H),6.95-
6.90(m,3H),6.84-6.81(m,2H),5.32(s,2H),5.13(s,2H),
5.10(S,2H),3.57(s,3H),3.45(s,3H),3.33-3.22(m,1H),
3.27(s,3H),2.99-2.70(m,4H)
【０２６３】
【実施例３６（ｇ）】６，８−ビスメトキシメトキシ−３−（４−メトキシメ
トキシフェニル）−５−［４−（２−ピペリジン−１−
イルエトキシ）ベンゾイル］−３，４−ジヒドロ−２Ｈ
−ナフタレン−１−オン 実施例３６（ｆ）で得られた、５−（４−ヒドロキシベ
ンゾイル）−６，８−ビスメトキシメトキシ−３−（４
−メトキシメトキシフェニル）−３，４−ジヒドロ−２
Ｈ−ナフタレン−１−オン７．３mg（０．０１４mmol）
を、ジメチルホルムアミド２mlに溶解させ、２−クロロ
エチルピペリジン塩酸塩１０mg（０．０５４mmol）、炭
酸カリウム３０mg（０．２１７mmol）を加え、窒素雰囲
気下、１００℃で、２時間攪拌した。酢酸エチルを加
え、水洗し、飽和食塩水で洗浄した後、有機層を硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧下、溶媒を留去した。得られ
た残渣を、分取薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：塩
化メチレン／メタノール＝１０／１）を用いて精製し、
標記化合物４．６mg（５２．０％）を得た。 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：7.78-7.75(m,2H),7.08-7.04(m,2H),6.95-
6.89(m,5H),5.32(s,2H),5.12(s,2H),5.09(s,2H),4.18
(t,2H,J=5.9Hz),3.57(s,3H),3.45(s,3H),3.30-3.19(m,1
H),3.27(s,3H),2.97-2.61(m,6H),2.60-2.49(m,4H),1.68
-1.53(m,4H),1.52-1.41(m,2H)
【０２６４】
【実施例３６（ｈ）】６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−［４−（２−ピペリジン−１−イルエトキ
シ）ベンゾイル］−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレ
ン−１−オン 実施例３６（ｇ）で得られた、６，８−ビスメトキシメ
トキシ−３−（４−メトキシメトキシフェニル）−５−
［４−（２−ピペリジン−１−イル−エトキシ）ベンゾ
イル］−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オ
ン４．６mg（０．００７mmol）を、メタノール２mlに溶
解させ、塩酸−メタノール溶液１mlを加え、室温で、一
晩攪拌した。酢酸エチルを加え、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、水、飽和食塩水の順で洗浄した後、有機層を
硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下、溶媒を留去した。
得られた残渣を、分取薄層クロマトグラフィー（展開溶
媒：塩化メチレン／メタノール＝１０／１）を用いて精
製し、標記化合物２．６mg（７１．４％）を得た。 核磁気共鳴スペクトルδｐｐｍ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ3 ＋１滴ＣＤ3 ＯＤ）：7.69-7.65(m,2H),6.91-6.82
(m,4H),6.70-6.67(m,2H),6.31(s,1H),4.21-4.14(m,2H),
3.30-3.22(m,1H),2.92-2.55(m,10H),1.71-1.60(m,4H),
1.51-1.45(m,2H) ＦＡＢマススペクトル ｍ／ｚ：５０２（Ｍ＋Ｈ）+
【０２６５】
【実施例３７】６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−［４−（２−ヘキサメチレンイミン−１−イ
ルエトキシ）ベンゾイル］−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−
ナフタレン−１−オン
【０２６６】
【実施例３７（ａ）】６，８−ビスメトキシメトキシ−３−（４−メトキシメ
トキシフェニル）−５−［４−（２−ヘキサメチレンイ
ミノ−１−イルエトキシ）ベンゾイル］−３，４−ジヒ
ドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オン 実施例３６（ｆ）で得られた、５−（４−ヒドロキシベ
ンゾイル）−６，８−ビスメトキシメトキシ−３−（４
−メトキシメトキシフェニル）−３，４−ジヒドロ−２
Ｈ−ナフタレン−１−オン２６．１mg（０．０５mmol）
を、ジメチルホルムアミド３mlに溶解させ、２−（ヘキ
サメチレンイミノ）エチルクロリド塩酸塩３０mg（０．
１５mmol）、炭酸カリウム４０mg（０．２９mmol）を加
え、窒素雰囲気下、１００℃で、２時間攪拌した。酢酸
エチルを加え、水洗し、飽和食塩水で洗浄した後、有機
層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下、溶媒を留去し
た。得られた残渣を、分取薄層クロマトグラフィー（展
開溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１０／１）を用い
て精製し、標記化合物２５．４mg（７８．５％）を得
た。 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：7.79-7.758(m,2H),7.09-7.05(m,2H),6.95-
6.89(m,5H),5.33(s,2H),5.13(s,2H),5.10(s,2H),4.14
(t,2H,J=6.0Hz),3.58(s,3H),3.45(s,3H),3.33-3.21(m,1
H),3.27(s,3H),2.99(t,2H,J=6.0Hz),2.95-2.69(m,8H),
1.81-1.54(m,8H)
【０２６７】
【実施例３７（ｂ）】６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−［４−（２−ヘキサメチレンイミノ−１−イ
ルエトキシ）ベンゾイル］−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−
ナフタレン−１−オン 実施例３７（ａ）で得られた、６，８−ビスメトキシメ
トキシ−３−（４−メトキシメトキシフェニル）−５−
［４−（２−ヘキサメチレンイミノ−１−イルエトキ
シ）ベンゾイル］−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレ
ン−１−オン２５．４mg（０．０３９mmol）を、メタノ
ール２mlに溶解させ、塩酸−メタノール溶液１mlを加
え、室温で、一晩攪拌した、酢酸エチルを加え、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水の順で洗浄し
た後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下、溶
媒を留去した。得られた残渣を、分取薄層クロマトグラ
フィー（展開溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１０／
１）を用いて精製し、標記化合物９．０mg（４４．５
％）を得た。 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ＋ＣＤ3 ＯＤ）：7.69-7.66(m,2H),6.91-6.88
(m,2H),6.82-6.78(m,2H),6.70-6.67(m,2H),6.29(s,1H),
4.23-4.11(m,2H),3.28-3.19(m,1H),3.18(t,2H,J=5.7H
z),2.98-2.66(m,8H),1.76-1.56(m,8H) ＦＡＢマススペクトル ｍ／ｚ：５１６（Ｍ＋Ｈ）+
【０２６８】
【実施例３８】３−（４’−ヒドロキシフェニル）−６，８−ジヒドロ
キシ−５−［４−（ヘキサメチレンイミノ）エチルオキ
シベンゾイル］−１，２，３，４−テトラヒドロナフタ
レン
【０２６９】
【実施例３８（ａ）】５，７−ビスメトキシメトキシ−２−（４−メトキシメ
トキシフェニル）−１，２，３，４−テトラヒドロナフ
タレン 実施例３６（ｂ）で得られた、５，７−ビスメトキシメ
トキシ−３−（４−メトキシメトキシフェニル）−３，
４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オン２．６２ｇ
（６．５１mmol）を、酢酸エチル１００ml、メタノール
１００mlの混液に溶解し、水酸化パラジウム（５３８m
g）を加え、水素置換し、室温にて、３時間攪拌した。
反応液を、セライトを用いてろ過し、減圧下、溶媒を留
去して、粗生成物を１．５ｇ得た。これを、シリカゲル
カラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘ
キサン＝１／１０）を用いて精製し、標記化合物１．５
３ｇ（６０％）を得た。 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：７．１７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），
７．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），６．６３
（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．３Ｈｚ），６．４７（ｄ，２Ｈ，
Ｊ＝２．３Ｈｚ），５．１８（ｓ，２Ｈ），５．１７
（ｓ，２Ｈ），５．１３（ｓ，２Ｈ），３．４９（ｓ，
６Ｈ），３．４７（ｓ，３Ｈ），２．９７−２．７４
（ｍ，４Ｈ），２．６８−２．５５（ｍ，１Ｈ），２．
１７−２．０４（ｍ，１Ｈ），１．８８−１．７３
（ｍ，１Ｈ）
【０２７０】
【実施例３８（ｂ）】８−ブロモ−５，７−ビスメトキシメトキシ−２−（４
−メトキシメトキシフェニル）−１，２，３，４−テト
ラヒドロナフタレン 実施例３８（ａ）で得られた、５，７−ビスメトキシメ
トキシ−２−（４−メトキシメトキシフェニル）−１，
２，３，４−テトラヒドロナフタレン１．５ｇ（３．８
６ｍｍｏｌ）を、クロロホルム１５０mlに溶解した後、
ピリジン３mlを加え、均一な溶液とした。これに、氷冷
下、窒素雰囲気下に、１Ｍ臭素−四塩化炭素溶液をゆっ
くりと滴下した。滴下終了後、更に、氷冷下、１時間攪
拌した。反応液を、塩化メチレンで希釈し、これを、希
塩酸、飽和重曹水溶液、飽和食塩水にて順次洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、溶媒を留
去した。得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／５）
にて精製し、標記化合物１．６６ｇ（９２％）を得た。 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：7.20(d,2H,J=8.6Hz),7.11(d,2H,J=8.6Hz),
6.84(s,1H),5.21(s,2H),5.19(s,2H),5.17(s,2H),3.53
(s,3H),3.49(s,3H),3.48(s,3H),3.18(dd,1H,J=4.6,17.6
Hz),3.01-2.90(m,1H),2.88-2.81(m,1H),2.70-2.57(m,2
H),2.13-2.04(m,1H),1.77(ddd,1H,J=5.3,11.9,17.6Hz)
【０２７１】
【実施例３８（ｃ）】［２，４−ビスメトキシメトキシ−７−（４−メトキシ
メトキシフェニル）−５，６，７，８−テトラヒドロナ
フタレン−１−イル］＝［４−（tert−ブチルジメチル
シリルオキシ）フェニル］＝メタノール 実施例３８（ｂ）で得られた、８−ブロモ−５，７−ビ
スメトキシメトキシ−２−（４−メトキシメトキシフェ
ニル）−１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン７０
０mg（１．４９mmol）を、無水エーテル６０mlに溶解
し、−７８℃、窒素雰囲気下にて、１．６Ｍブチルリチ
ウム−ヘキサン溶液を、４．５ml滴下した。−７８℃に
て、１０分間攪拌した後、４−tert−ブチルジメチルシ
リルオキシベンズアルデヒド１．７８ｇ（７．５３mmo
l）をエーテル３０mlに溶解した溶液を滴下した。滴下
終了後、−７８℃で、２時間攪拌した。−７８℃で、反
応液中に、少量の塩化アンモニウム水溶液を滴下した
後、室温まで昇温し、エーテルで希釈した。有機層を、
水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣を、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エ
チル／ヘキサン＝１／１０〜１／４）にて分離精製し、
標記化合物５８０．１mg（６３％）を得た。 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：7.15-7.07(m,4H),6.96(d,1H,J=8.6Hz),6.7
9-6.69(m,3H),6.02-5.90(m,1H),5.24-5.16(m,2H),5.14
(s,2H),5.02-4.87(m,2H),3.50(s,3H),3.47(s,3H),3.18-
3.16(m,3H),3.29-2.52(m,5H),2.16-2.05(m,1H),1.89-1.
60(m,1H)
【０２７２】
【実施例３８（ｄ）】［２，４−ビスメトキシメトキシ−７−（４−メトキシ
メトキシフェニル）−５，６，７，８−テトラヒドロナ
フタレン−１−イル］＝［４−（tert−ブチルジメチル
シリルオキシ）フェニル］＝ケトン 実施例３８（ｃ）で得られた、［２，４−ビスメトキシ
メトキシ−７−（４−メトキシメトキシフェニル）−
５，６，７，８−テトラヒドロナフタレン−１−イル］
＝［４−（tert−ブチルジメチルシリルオキシ）フェニ
ル］＝メタノール５８０mg（０．９２mmol）を、クロロ
ホルム５０mlに溶解し、０℃、窒素雰囲気下で、デス・
マーチン試薬４９３mg（１．１６mmol）を加え、攪拌し
た。０℃にて、２時間攪拌した後、反応液をクロロホル
ムで希釈し、水酸化ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水
にて順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
下、溶媒留去した。得られた残渣を、シリカゲルカラム
クロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン
＝１／５）にて分離精製し、標記化合物５６９mg（９８
％）を得た。 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：7.74(d,2H,J=8.6Hz),7.07(d,2H,J=8.8Hz),
6.92(d,2H,J=8.6Hz),6.82(d,2H,9.0Hz),6.80(s,1H),5.2
3(s,2H),5.12(s,2H),4.99(s,2H),3.51(s,3H),3.44(s,3
H),3.24(s,3H),3.19-2.55(m,5H),2.11-2.05(m,1H),1.87
-1.69(m,1H),0.97(s,9H),0.21(s,6H)
【０２７３】
【実施例３８（ｅ）】［２，４−ビスメトキシメトキシ−７−（４−メトキシ
メトキシフェニル）−５，６，７，８−テトラヒドロナ
フタレン−１−イル］＝（４−ヒドロキシフェニル）＝
メタノール 実施例３８（ｄ）で得られた、［２，４−ビスメトキシ
メトキシ−７−（４−メトキシメトキシフェニル）−
５，６，７，８−テトラヒドロナフタレン−１−イル］
＝［４−（tert−ブチルジメチルシリルオキシ）フェニ
ル］＝ケトン５６９mg（０．９１mmol）を、無水テトラ
ヒドロフラン５０mlに溶解し、０℃、窒素雰囲気下で、
１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフルオライドのテト
ラヒドロフラン溶液を１．１ml滴下した。０℃にて、３
０分間攪拌した後、酢酸エチルで希釈し、有機層を、
水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を、減圧下留去した。得られた残渣を、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エ
チル／ヘキサン＝１／２）にて、分離精製し、標記化合
物４３１mg（９３％）を得た。 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：7.76(d,2H,J=8.6Hz),7.06(d,2H,J=8.6Hz),
6.92(d,2H,J=8.6Hz),6.81(d,2H,J=8.6Hz),6.80(s,1H),
5.24(s,2H),5.12(s,2H),5.00(s,2H),3.51(s,3H),3.45
(s,3H),3.25(s,3H),3.02-2.95(m,1H),2.85-2.50(m,4H),
2.29-2.05(m,1H),1.90-1.65(m,1H)
【０２７４】
【実施例３８（ｆ）】３−（４−ヒドロキシフェニル）−６，８−ジヒドロキ
シ−５−［４−（ヘキサメチレンイミノ）エチルオキシ
ベンゾイル］−１，２，３，４−テトラヒドロナフタレ
ン 実施例３８（ｅ）で得られた、［２，４−ビスメトキシ
メトキシ−７−（４−メトキシメトキシフェニル）−
５，６，７，８−テトラヒドロナフタレン−１−イル］
＝（４−ヒドロキシフェニル）＝メタノール５０mg
（０．１０mmol）と２−（ヘキサメチレンイミノ）エチ
ルクロリド塩酸塩９７mg（０．４９mmol）を、トルエン
で共沸させた後、ジメチルホルムアミド２mlに溶解し、
炭酸カリウム１３６mg（０．９８mmol、すりつぶしたも
の）を加え、１２０℃で、７時間攪拌した。反応終了
後、酢酸エチルを加え、水洗し、酢酸エチル層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。残渣を、メ
タノール４mlに溶解し、塩酸−メタノール溶液２mlを加
え、室温で、１５時間攪拌した。反応終了後、溶媒を留
去し、酢酸エチルを加え、炭酸水素ナトリウム水溶液で
洗浄し、酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を留去した。残渣を、薄層クロマトグラフィー
（展開溶媒：塩化メチレン／メタノール＝５／１）で精
製し、標記化合物２５mg（５１％）を得た。 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
Ｄ3 ＯＤ）：7.77(2H,d,J=8.9Hz),6.98-6.91(4H,m),6.6
4(2H,d,J=8.5Hz),6.29(1H,s),4.21(2H,t,J=5.5Hz),3.10
(2H,t,J=5.5Hz),2.95-2.91(4H,m),2.70-2.48(4H,m),2.3
2-2.00(1H,m),1.75-1.64(10H,m) マススペクトル：５０１（Ｍ+ ） Ｒｆ値＝０．２６（塩化メチレン／メタノール＝５／
１）
【０２７５】
【実施例３９】３−（４−ヒドロキシフェニル）−６，８−ジヒドロキ
シ−５−［４−（ジベンジルアミノエチルオキシ）ベン
ゾイル］−１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン 実施例３８（ｅ）で得られた、［２，４−ビスメトキシ
メトキシ−７−（４−メトキシメトキシフェニル）−
５，６，７，８−テトラヒドロナフタレン−１−イル］
＝（４−ヒドロキシフェニル）＝メタノール５０mg
（０．１０mmol）と、Ｎ−（２−クロロエチル）ジベン
ジルアミン塩酸塩１４６mg（０．４９mmol）を、トルエ
ンで共沸させた後、ジメチルホルムアミド２mlに溶解
し、炭酸カリウム１３６mg（０．９８mmol、すりつぶし
たもの）を加え、１００℃で、２時間攪拌した。反応終
了後、酢酸エチルを加え、水洗し、酢酸エチル層を、無
水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。残渣
を、メタノール４mlに溶解し、塩酸−メタノール溶液２
mlを加え、室温で、１５時間攪拌した。反応終了後、溶
媒を留去し、酢酸エチルを加え、炭酸水素ナトリウム水
溶液で洗浄し、酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、溶媒を留去した。残渣を、薄層クロマトグラフ
ィー（展開溶媒：塩酸メチレン／メタノール＝１０／
１）で精製し、標記化合物４９．９mg（８５％）を得
た。 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
Ｄ3 ＯＤ）：7.70(2H,d,J=8.9Hz),7.35-7.14(10H,m),6.
92(2H,d,J=8.5Hz),6.78(2H,d,J=8.8Hz),6.64(2H,d,J=8.
5Hz),6.30(1H,s),4.03(2H,t,J=5.8Hz),3.65(4H,s),3.35
(2H,s),2.84-2.80(2H,m),2.69-2.49(4H,m),2.03-1.98(1
H,m) ＦＡＢマススペクトル ｍ／ｚ：６００（Ｍ＋Ｈ）+ Ｒｆ値＝０．５２（塩化メチレン／メタノール＝１０／
１）
【０２７６】
【実施例４０】３−（４−ヒドロキシフェニル）−６，８−ジヒドロキ
シ−５−［４−（ピペリジノエトキシ）ベンゾイル］−
１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン 実施例３８（ｅ）で得られた、［２，４−ビスメトキシ
メトキシ−７−（４−メトキシメトキシフェニル）−
５，６，７，８−テトラヒドロナフタレン−１−イル］
＝（４−ヒドロキシフェニル）＝メタノール５０mg
（０．１０mmol）と、２−（ペンタメチレンイミノ）エ
チルクロリド塩酸塩９１mg（０．４９mmol）を、トルエ
ンで共沸させた後、ジメチルホルムアミド２mlに溶解
し、炭酸カリウム１３６mg（０．９８mmol）を加え、１
００℃で、６時間攪拌した。反応終了後、酢酸エチルを
加え、水で洗浄し、酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、溶媒を留去した。残渣を、メタノール４ml
に溶解し、塩酸−メタノール溶液２mlを加え、室温で、
１５時間攪拌した。反応終了後、溶媒を留去し、酢酸エ
チルを加え、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、酢酸
エチル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去
した。残渣を、薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：塩
化メチレン／メタノール＝５／１）で精製し、 標記化合
物１１．２mg（２１％）を得た。 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
Ｄ3 ＯＤ）：7.77(2H,d,J=9.0Hz),6.99-6.92(4H,m),6.6
5(2H,d,J=8.5Hz),6.28(1H,s),4.23(2H,t,J=5.5Hz),2.95
(2H,t,J=5.4Hz),2.91-2.81(2H,m),2.73-2.57(6H,m),2.5
5-2.45(2H,m),2.05-1.99(1H,m),1.72-1.63(4H,m),1.55-
1.49(2H,m) マススペクトル：４８７（Ｍ+ ） Ｒｆ値＝０．２８（塩化メチレン／メタノール＝５／
１）
【０２７７】
【実施例４１】３−（４−ヒドロキシフェニル）−６，８−ジヒドロキ
シ−５−［４−（ヘキサメチレンイミノ）エチルオキシ
ベンジル］−１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン
【０２７８】
【実施例４１（ａ）】４−［２，４−ビスメトキシメトキシ−７−（４−メト
キシメトキシフェニル）−５，６，７，８−テトラヒド
ロナフタレン−１−イルメチル］フェノキシ−tert−ブ
チルジメチルシラン 実施例３８（ｃ）で得られた、［２，４−ビスメトキシ
メトキシ−７−（４−メトキシメトキシフェニル）−
５，６，７，８−テトラヒドロナフタレン−１−イル］
＝［４−（tert−ブチルジメチルシリルオキシ）フェニ
ル］＝メタノール６２１mg（０．９９mmol）を、メタノ
ール１００mlに溶解し、水酸化パラジウム２０８mgを加
え、反応系中を水素置換して、室温にて、３時間攪拌し
た。セライトを使用してろ過し、ろ液を、減圧下、溶媒
留去した。得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／
８）にて分離精製し、標記化合物４９７mg（８２％）を
得た。 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：7.09(d,2H,J=8.8Hz),6.96(d,2H,J=8.7Hz),
6.93(d,2H,J=8.4Hz),6.81(s,1H),6.66(d,2H,J=8.4Hz),
5.20(s,2H),5.15(s,2H),5.11(s,2H),3.91(s,2H),3.50
(s,3H),3.48(s,3H),3.36(s,3H),3.00-2.92(m,2H),2.85-
2.74(m,1H),2.70-2.50(m,2H),2.09-2.03(m,1H),1.79-1.
70(m,1H),0.96(s,9H),0.14(s,6H)
【０２７９】
【実施例４１（ｂ）】４−［２，４−ビスメトキシメトキシ−７−（４−メト
キシメトキシフェニル）−５，６，７，８−テトラヒド
ロナフタレン−１−イルメチル］フェノール 実施例４１（ａ）で得られた、４−［２，４−ビスメト
キシメトキシ−７−（４−メトキシメトキシフェニル）
−５，６，７，８−テトラヒドロナフタレン−１−イル
メチル］フェノキシ−tert−ブチルジメチルシラン４９
７mg（０．８２mmol）を、無水テトラヒドロフラン５０
mlに溶解し、０℃、窒素雰囲気下で、１．０Ｍのテトラ
ブチルアンモニウムフルオリドのテトラヒドロフラン溶
液を１．０ml滴下した。０℃にて、３０分間攪拌した
後、酢酸エチルで希釈し、有機層を、水、飽和食塩水で
順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を、
減圧下、留去した。得られた残渣を、シリカゲルカラム
クロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン
＝１／２）にて、分離精製し、標記化合物３８０mg（９
４％）を得た。 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ3 ）：7.10(d,2H,J=8.7Hz),6.96(d,2H,J=8.5Hz),
6.94(d,2H,J=8.3Hz),6.81(s,1H),6.66(d,2H,J=8.5Hz),
5.20(s,2H),5.15(s,2H),5.12(s,2H),3.91(s,2H),3.50
(s,3H),3.48(s,3H),3.38(s,3H),2.99-2.92(m,2H),2.86-
2.76(m,1H),2.70-2.49(m,2H),2.11-2.02(m,1H),1.85-1.
70(m,1H)
【０２８０】
【実施例４１（ｃ）】３−（４−ヒドロキシフェニル）−６，８−ジヒドロキ
シ−５−［４−（ヘキサメチレンイミノ）エチルオキシ
ベンジル］−１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン 実施例４１（ｂ）で得られた、４−［２，４−ビスメト
キシメトキシ−７−（４−メトキシメトキシフェニル）
−５，６，７，８−テトラヒドロナフタレン−１−イル
メチル］フェノール５０mg（０．１０mmol）、２−（ヘ
キサメチレンイミノ）エチルクロリド３３mg（０．２０
mmol）、１８−クラウン−６少量を、トルエンで共沸さ
せた後、塩化メチレン２mlに溶解し、炭酸カリウム２８
mg（０．２０mmol）を加え、室温で、２時間半攪拌し
た。反応終了後、酢酸エチルを加え、水洗し、酢酸エチ
ル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去し
た。残渣を、メタノール４mlに溶解し、塩酸−メタノー
ル溶液２mlを加えて、室温で、１６．５時間攪拌した。
反応終了後、溶媒を留去し、酢酸エチルを加え、炭酸水
素ナトリウム水溶液で洗浄し、酢酸エチル層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。残渣を、薄層
クロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン／メタノ
ール＝５／１）で精製し、標記化合物４．１mg（８％）
を得た。 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
Ｄ3 ＯＤ）：7.03(2H,d,J=8.5Hz),6.94(2H,d,J=8.5Hz),
6.81(2H,d,J=8.6Hz),6.66(2H,d,J=8.5Hz),6.30(1H,s),
4.21(2H,t,J=5.3Hz),3.85(2H,s),3.37-3.35(2H,m),3.25
-3.21(4H,m),2.86-2.63(4H,m),2.54-2.39(2H,m),1.96-
1.95(1H,m),1.91-1.84(4H,m),1.72-1.65(4H,m) マススペクトル：４８７（Ｍ+ ） Ｒｆ値＝０．２１（塩化メチレン／メタノール＝５／
１）
【０２８１】
【実施例４２】３−（４−ヒドロキシフェニル）−６，８−ジヒドロキ
シ−５−［４−（ピペリジノエトキシ）ベンジル］−
１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン 実施例４１（ｂ）で得られた、４−［２，４−ビスメト
キシメトキシ−７−（４−メトキシメトキシフェニル）
−５，６，７，８−テトラヒドロナフタレン−１−イル
メチル］フェノール５０mg（０．１０mmol）、２−クロ
ロエチルピペリジン塩酸塩３０mg（０．２０mmol）、１
８−クラウン−６少量を、トルエンで共沸させた後、塩
化メチレン２mlに溶解し、炭酸カリウム２８mg（０．２
０mmol）を加え、室温で、２４時間攪拌した。反応終了
後、酢酸エチルを加え、水で洗浄し、酢酸エチル層を無
水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。残渣
を、メタノール４mlに溶解し、塩酸−メタノール溶液２
mlを加え、室温で、１６時間攪拌した。反応終了後、溶
媒を留去し、酢酸エチルを加え、炭酸水素ナトリウム水
溶液で洗浄し、酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、溶媒を留去した。残渣を、薄層クロマトグラフ
ィー（塩化メチレン／メタノール＝５／１）で精製し、
標記化合物２８．１mg（５９％）を得た。 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
Ｄ3 ＯＤ）：7.02(2H,d,J=8.5Hz),6.93(2H,d,J=8.5Hz),
6.78(2H,d,J=8.6Hz),6.66(2H,d,J=8.4Hz),6.31(1H,s),
4.18(2H,t,J=5.1Hz),3.84(2H,s),3.23(2H,t,J=5.2Hz),
3.07-3.03(4H,m),2.86-2.70(2H,m),2.66-2.38(4H,m),1.
97-1.92(1H,m),1.82-1.70(4H,m),1.68-1.59(2H,m). マススペクトル：４７３（Ｍ+ ） Ｒｆ値＝０．３４（塩化メチレン／メタノール＝５／
１）
【０２８２】
【実施例４３】５−｛４−［２−（１，３，３−トリメチル−６−アザ
ビシクロ［３．２．１］オクタン−６−イル）エトキ
シ］フェニル｝メチル−６，８−ジヒドロキシ−３−
（４−ヒドロキシフェニル）−３，４−ジヒドロ−２Ｈ
−ナフタレン−１−オン 実施例６（ｇ）で得た、６，８−ジベンジルオキシ−５
−（４−ヒドロキシフェニル）メチル−３−（４−ベン
ジルオキシフェニル）−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
タレン−１−オン５０mg（0.08mmol )及び６−（クロロ
エチル）−１，３，３−トリメチル−６−アザビシクロ
［３．２．１］オクタン塩酸塩３９mg (0.15mmol )を、
ジメチルホルムアミド2ml に溶解させ、窒素気流下、炭
酸カリウム43mg (0.30mmol )を加え、120 ℃にて、４時
間撹拌した。溶媒を留去し、水及び酢酸エチルを加え、
有機層を抽出し、減圧下溶媒を留去し、残査にエタノ−
ル：テトラヒドロフラン＝１：１の混合溶媒4ml に溶解
し、10% Pd-C 90mg を加え水素雰囲気下、室温で６時間
撹拌した。セライトろ過の後、溶媒を留去し分取薄層ク
ロマトグラフィ−に付し（塩化メチレン：メタノ−ル＝
8 ：1 ）の展開溶媒を用い精製し所望の化合物 11.8mg
( 25%)を得た。 Ｒｆ値＝０．４１（塩化メチレン：メタノ−ル＝８：
１） 核磁気共鳴スペクトル δｐｐｍ （２７０ＭＨｚ，Ｃ
Ｄ3 ＯＤ）：7.00-6.96(4H,m),6.76-6.67(4H,m),6.26(1
H,s),3.98(2H,t,J=5.9Hz),3.87(2H,s),3.15-3.04(4H,
m),3.02-2.93(1H,m),2.78-2.61(3H,m),2.46-2.42(1H,
m),1.71-1.64(2H,m),1.49-1.23(5H,m),1.20(3H,s),1.04
(3H,s),0.90(3H,s) マススペクトル（ｍ／ｚ）：５５６（Ｍ＋Ｈ）+
【０２８３】
【実施例４４】6,8-ジヒドロキシ-3-(4-ヒドロキシフェニル)-5-{4-[2-
(3,3,5- トリメチルヘプタメチレンイミノ) エトキシ]
フェニル} メチル-3,4- ジヒドロ-2H-ナフタレン-1- オ
ン 実施例6(g)で得た，6,8-ジベンジルオキシ-5-(4-ヒドロ
キシフェニル) メチル-3-(4-ベンジルオキシフェニル)-
3,4-ジヒドロ-2H-ナフタレン-1- オン50mg(0.08mmol)お
よびN-（クロロエチル）-3,3,5- トリメチルヘプタメチ
レンイミン塩酸塩93mg(0.39mmol)をジメチルホルムアミ
ド2ml に溶解させ，窒素気流下，炭酸カリウム107mg を
加え，１４０℃にて，2.5 時間攪拌した。溶媒を留去
し，水及び酢酸エチルを加え，有機層を抽出した後，減
圧下，溶媒を留去した。得られた残渣を，エタノール：
テトラヒドロフラン＝１：１の混合溶媒4ml に溶解さ
せ，10%Pd-C 84.8mgを加え，水素雰囲気下，室温で3.5
時間攪拌した。
【０２８４】セライトを用いて濾過した後，溶媒を留去
し，分取用薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：ジクロ
ロメタン/ メタノール＝8/1 ）を用いて精製し，粗生成
物29.9mg(68.8%) を得た。このものを再度分取用薄層ク
ロマトグフィー（展開溶媒：ジクロロメタン/ メタノー
ル＝ 5/1）を用いて精製し，標記化合物10.5mg(25%)を
得た。 薄層クロマトグラフィー： Rf値（展開溶媒：ジクロロメタン/ メタノール＝ 8/1）
＝0.47 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3 ) :7.08-6.
98(4H, m), 6.85(2H, d, J= 8.7Hz), 6.69(2H, d, J=
8.5Hz), 4.43-4.37(2H, m), 3.92(2H, s), 3.73-3.45(5
H, m), 2.91-2.85(2H, m), 2.80-2.67(4H,m), 1.96-1.9
3(1H, m), 1.53-1.48(2H, m), 1.39-1.29(2H, m), 1.03
-0.96(9H,m). マススペクトル m/z: 543(M+)
【０２８５】
【実施例４５】6,8-ジヒドロキシ-3-(4-ヒドロキシフェニル)-5-{4-[2-
(4- メチルピペラジノ)エトキシ] フェニル} メチル-3,
4- ジヒドロ-2H-ナフタレン-1- オン 実施例6(g)で得た，6,8-ジベンジルオキシ-5-(4-ヒドロ
キシフェニル) メチル-3-(4-ベンジルオキシフェニル)-
3,4-ジヒドロ-2H-ナフタレン-1- オン50mg(0.08mmol)お
よびN-（クロロエチル）-4- メチルピペラジン塩酸塩77
mg(0.39mmol)をジメチルホルムアミド2ml に溶解させ，
窒素気流下，炭酸カリウム107mg を加え，120-135 ℃に
て，5.5 時間攪拌した。溶媒を留去し，水及び酢酸エチ
ルを加え，有機層を抽出した後，減圧下，溶媒を留去し
た。得られた残渣を，エタノール：テトラヒドロフラン
＝１：１の混合溶媒4ml に溶解させ，10%Pd-C 99.6mgを
加え，水素雰囲気下，室温で9 時間攪拌した。
【０２８６】セライトを用いて濾過した後，溶媒を留去
し，分取用薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：ジクロ
ロメタン/ メタノール＝5/1 ）を用いて精製し, 標記化
合物19.1mg(49%) を得た。 薄層クロマトグラフィー： Rf値（展開溶媒：ジクロロメタン/ メタノール＝ 8/1）
＝0.33 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3 ):7.00-6.9
5(4H, m), 6.77(2H, d, J= 8.6Hz), 6.68(2H, d, J= 8.
5Hz), 6.26(1H,s), 4.09(2H, t, J= 5.5Hz), 3.87(2H,
s), 3.30-3.08(4H, m), 2.90(2H, t, J= 5.5Hz), 2.76-
2.68(2H, m), 2.36-2.27(2H, m), 1.72-1.67(2H, m),
1.38-1.28(4H, m), 0.94(3H, d, J= 6.4Hz). マススペクトル ｍ／ｚ： ５０１（Ｍ＋）
【０２８７】
【実施例４６】６，８−ジヒドロキシ-3-(4-ヒドロキシフェニル)-5-{4
-[2-(3,3- ジメチルピペラジノ) エトキシ] フェニル}
メチル-3,4- ジヒドロ-2H-ナフタレン-1- オン 実施例6(g)で得た，6,8-ジベンジルオキシ-5-(4-ヒドロ
キシフェニル) メチル-3-(4-ベンジルオキシフェニル)-
3,4-ジヒドロ-2H-ナフタレン-1- オン50mg(0.08mmol)お
よびN-（クロロエチル）-3,3- ジメチルピペラジン塩酸
塩82mg(0.39mmol)をジメチルホルムアミド2ml に溶解さ
せ，窒素気流下，炭酸カリウム107mg を加え，１２０℃
にて，2.5 時間攪拌した。溶媒を留去し，水及び酢酸エ
チルを加え，有機層を抽出した後，減圧下，溶媒を留去
した。得られた残渣を，エタノール：テトラヒドロフラ
ン＝１：１の混合溶媒4ml に溶解させ，10%Pd-C 90.5mg
を加え，水素雰囲気下，室温で4 時間攪拌した。セライ
トを用いて濾過した後，溶媒を留去し，分取用薄層クロ
マトグラフィー（展開溶媒：ジクロロメタン/ メタノー
ル＝8/1 ）を用いて精製し，標記化合物27.9mg(70%) を
得た。 薄層クロマトグラフィー： Rf値（展開溶媒：ジクロロメタン/ メタノール＝ 8/1）
＝0.40 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3 ) :6.99-6.
96(4H, m), 6.75(2H, d, J= 8.6Hz), 6.68(2H, d, J=
8.5Hz), 6.26(1H,s), 4.04(2H, t, J= 5.8Hz), 3.87(2
H, s), 3.11-3.05(2H, m), 2.76-2.71(5H,m), 2.50-2.4
1(2H, m), 1.67-1.59(2H, m), 1.28-1.24(2H, m), 0.94
(6H, s). マススペクトル m/z: 516[(M+H)+]
【０２８８】
【実施例４７】6,8-ジヒドロキシ-3-(4-ヒドロキシフェニル)-5-{4-(3-
ジメチルアミノプロポキシ) フェニル} メチル-3,4- ジ
ヒドロ-2H-ナフタレン-1- オン 実施例6(g)で得た，6,8-ジベンジルオキシ-5-(4-ヒドロ
キシフェニル) メチル-3-(4-ベンジルオキシフェニル)-
3,4-ジヒドロ-2H-ナフタレン-1- オン50mg(0.08mmol)お
よびN-（クロロプロピル）ジメチルアミン塩酸塩61mg
(0.39mmol)をジメチルホルムアミド2ml に溶解させ，窒
素気流下，炭酸カリウム107mg を加え，１００℃にて，
23.5時間攪拌した。溶媒を留去し，水及び酢酸エチルを
加え，有機層を抽出した後，減圧下，溶媒を留去した。
得られた残渣を，エタノール：テトラヒドロフラン＝
１：１の混合溶媒4ml に溶解させ，10%Pd-C 90mgを加
え，水素雰囲気下，室温で4 時間攪拌した。セライトを
用いて濾過した後，溶媒を留去し，分取用薄層クロマト
グラフィー（展開溶媒：ジクロロメタン/ メタノール＝
5/1 ）を用いて精製し，標記化合物15.3mg(43%) を得
た。 薄層クロマトグラフィー： Rf値（展開溶媒：ジクロロメタン/ メタノール＝ 5/1,
２回展開）＝0.21 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3) :7.00-6.9
8(4H, d, J= 8.5Hz), 6.77-6.67(4H, m), 6.26(1H, s),
3.96(2H, t, J= 6.1Hz), 3.88(2H, s), 3.18-3.07(2H,
m), 2.78(1H, s), 2.74-2.65(4H, m),2.43(6H, s), 2.
01-1.95(2H, m). マススペクトル m/z: 462[(M+H)+]
【０２８９】
【実施例４８】6,8-ジヒドロキシ-3-(4-ヒドロキシフェニル)-5-{4-[2-
(N- メチル-2- アダマンチルアミノ) エトキシ] フェニ
ル} メチル-3,4- ジヒドロ-2H-ナフタレン-1- オン 実施例6(g)で得た，6,8-ジベンジルオキシ-5-(4-ヒドロ
キシフェニル) メチル-3-(4-ベンジルオキシフェニル)-
3,4-ジヒドロ-2H-ナフタレン-1- オン30mg(0.05mmol)お
よびN-（クロロエチル）-N- メチル-2- アダマンチルア
ミン塩酸塩60mg(0.25mmol)をジメチルホルムアミド2ml
に溶解させ，窒素気流下，炭酸カリウム63mgを加え，１
１０℃にて，28時間攪拌した。溶媒を留去し，水及び酢
酸エチルを加え，有機層を抽出した後，減圧下，溶媒を
留去した。得られた残渣を，エタノール：テトラヒドロ
フラン＝１：１の混合溶媒4ml に溶解させ，10%Pd-C 54
mgを加え，水素雰囲気下，室温で3.5 時間攪拌した。セ
ライトを用いて濾過した後，溶媒を留去し，分取用薄層
クロマトグラフィー（展開溶媒：ジクロロメタン/ メタ
ノール＝8/1 ）を用いて精製し，標記化合物12.9mg(49
%) を得た。 薄層クロマトグラフィー： Rf値（展開溶媒：ジクロロメタン/ メタノール＝ 8/1）
＝0.36 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3) :7.00-6.9
7(4H, m), 6.76-6.67(4H, m), 6.26(1H, s), 4.06(2H,
t, J= 5.7Hz),3.88(2H, s), 3.13-3.06(2H, m), 2.98(2
H, t, J= 5.7Hz), 2.77(1H, s), 2.73-2.66(2H, m), 2.
51(1H, s), 2.41(3H, s), 2.12-2.01(4H, m), 1.92-1.8
7(2H, m), 1.80-1.69(6H, m), 1.51-1.46(2H, m). マススペクトル m/z: 568[(M+H)+]
【０２９０】
【実施例４９】6,8-ジヒドロキシ-3-(4-ヒドロキシフェニル)-5-{4-(4-
ヘキサメチレンイミノブトキシ) フェニル} メチル-3,4
- ジヒドロ-2H-ナフタレン-1- オン 実施例6(g)で得た，6,8-ジベンジルオキシ-5-(4-ヒドロ
キシフェニル) メチル-3-(4-ベンジルオキシフェニル)-
3,4-ジヒドロ-2H-ナフタレン-1- オン50mg(0.08mmol)お
よびN-（4-クロロブチル）ヘキサメチレンイミン塩酸塩
87mg(0.39mmol)をジメチルホルムアミド2ml に溶解さ
せ，窒素気流下，炭酸カリウム107mg を加え，１１０℃
にて，21.5時間攪拌した。溶媒を留去し，水及び酢酸エ
チルを加え，有機層を抽出した後，減圧下，溶媒を留去
した。得られた残渣を，エタノール：テトラヒドロフラ
ン＝１：１の混合溶媒4ml に溶解させ，10%Pd-C 87.6mg
を加え，水素雰囲気下，室温で3.5 時間攪拌した。
【０２９１】セライトを用いて濾過した後，溶媒を留去
し，分取用薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：ジクロ
ロメタン/ メタノール＝5/1 ）を用いて精製し，標記化
合物8.3mg(20%)を得た。 薄層クロマトグラフィー： Rf値（展開溶媒：ジクロロメタン/ メタノール＝ 8/1）
＝0.23 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3) :7.00-6.9
7(4H, m), 6.78-6.67(4H, m), 6.26(1H, s), 3.98(2H,
t, J= 5.6Hz),3.89(3H, s), 3.32-3.26(4H, m), 3.20-
3.09(4H, m), 2.85(1H, s), 2.79-2.70(2H, m), 1.92-
1.79(8H, m), 1.74-1.69(4H, m). マススペクトル m/z: 530[(M+H)+]
【０２９２】
【実施例５０】6,8-ジヒドロキシ-3-(4-ヒドロキシフェニル)-5-{4-(3-
ヘキサメチレンイミノプロポキシ) フェニル} メチル-
3,4- ジヒドロ-2H-ナフタレン-1- オン 実施例6(g)で得た，6,8-ジベンジルオキシ-5-(4-ヒドロ
キシフェニル) メチル-3-(4-ベンジルオキシフェニル)-
3,4-ジヒドロ-2H-ナフタレン-1- オン50mg(0.08mmol)お
よびN-（3-クロロプロピル）ヘキサメチレンイミン塩酸
塩82mg(0.39mmol)をジメチルホルムアミド2ml に溶解さ
せ，窒素気流下，炭酸カリウム107mg を加え，１１０℃
にて，2.5 時間攪拌した。溶媒を留去し，水及び酢酸エ
チルを加え，有機層を抽出した後，減圧下，溶媒を留去
した。得られた残渣を，エタノール：テトラヒドロフラ
ン＝１：１の混合溶媒4ml に溶解させ，10%Pd-C 78.3mg
を加え，水素雰囲気下，室温で5 時間攪拌した。セライ
トを用いて濾過した後，溶媒を留去し，分取用薄層クロ
マトグラフィー（展開溶媒：ジクロロメタン/ メタノー
ル＝5/1 ）を用いて精製し，標記化合物6mg(15%)を得
た。 薄層クロマトグラフィー： Rf値（展開溶媒：ジクロロメタン/ メタノール＝ 5/1）
＝0.20 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3) :7.00-6.9
7(4H, m), 6.77-6.67(4H, m), 6.24(1H, s), 3.97(2H,
t, J= 6.0Hz),3.89(2H, s), 3.13(1H, s), 2.91-2.83
(6H, m), 2.75-2.65(4H, m), 2.03-1.97(2H, m), 1.75-
1.66(8H, m). マススペクトル m/z: 516[(M+H)+]
【０２９３】
【実施例５１】6,8-ジヒドロキシ-3-(4-ヒドロキシフェニル)-5-{4-(2-
シクロヘキシルアミノエトキシ) フェニル} メチル-3,4
- ジヒドロ-2H-ナフタレン-1- オン 実施例6(g)で得た，6,8-ジベンジルオキシ-5-(4-ヒドロ
キシフェニル) メチル-3-(4-ベンジルオキシフェニル)-
3,4-ジヒドロ-2H-ナフタレン-1- オン50mg(0.08mmol)お
よびN-ベンジルオキシカルボニルN-クロロエチルシクロ
ヘキシルアミン114mg(0.39mmol) をジメチルホルムアミ
ド2ml に溶解させ，窒素気流下，炭酸カリウム53mgを加
え，１００℃にて，16.5時間攪拌した。溶媒を留去し，
水及び酢酸エチルを加え，有機層を抽出した後，減圧
下，溶媒を留去した。得られた残渣を，エタノール：テ
トラヒドロフラン＝１：１の混合溶媒2ml に溶解させ，
10%Pd-C 35mgを加え，水素雰囲気下，室温で5 時間攪拌
した。セライトを用いて濾過した後，溶媒を留去し，分
取用薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：ジクロロメタ
ン/ メタノール＝8/1 ）を用いて精製し，標記化合物6.
8mg(18%)を得た。 薄層クロマトグラフィー： Rf値（展開溶媒：ジクロロメタン/ メタノール＝ 8/1）
＝0.23 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3) :7.00(4H,
t, J=8.1Hz), 6.81(2H, d, J=8.6Hz), 6.69(2H, d, J=
8.6Hz), 6.25(1H, s), 4.11(2H, t, J= 5.2Hz), 3.90
(2H, s), 3.18(2H, t, J= 5.2Hz), 3.13-3.06(2H, m),
2.84-2.68(4H, m), 2.05-2.01(2H, m), 1.89-1.79(2H,
m), 1.32-1.22(6H, m).マススペクトル m/z: 502[(M+
H)+]
【０２９４】
【実施例５２】6,8-ジヒドロキシ-3- フェニル-5-{4-(2- ヘキサメチレ
ンイミノエトキシ) フェニル} メチル-3,4- ジヒドロ-2
H-ナフタレン-1- オン
【０２９５】
【実施例５２（ａ）】3,5-ジメトキシデオキシベンゾイン 3,5-ジメトキシフェニル酢酸 5g (25.5mmol ) をベン
ゼン 70ml に懸濁させ氷冷下、オキザリルクロリド 3.4
g ( 26.8mmol )、DMF 5 滴を加え4 時間攪拌した。溶媒
を留去した後ジクロロメタン 5ml, ベンゼン 10g及び塩
化アルミ 6.8g( 51.0mmol )加え、室温で2 時間攪拌し
た。稀塩酸、酢酸エチルを加え抽出し有機層を水及び飽
和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下溶
媒を留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付し（酢酸エチル：ヘキサン＝1 ：3 ）の展開溶媒を
用い精製し所望の化合物1.99g(30%)を得た。 TLC:Rf=0.59 （酢酸エチル：ヘキサン＝1 ：3 ） 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3) :8.01-7.9
8(2H, m ),7.7-7.4(3H, m), 6.5-6.3(3H,m), 4.21(2H,
s), 3.76(6H, s).
【０２９６】
【実施例５２（ｂ）】4-(3,5- ジメトキシフェニル)-3-フェニルブタン酸エチ
ル トリエチルフォスフォノアセテート 17.4g ( 77.7mmol
) に氷冷下ナトリウムヒドリド1.9g (38.9mmol )を加
え 30 分攪拌した後、 3,5- ジメトキシデオキシベンゾ
イン 1.99g (7.8mmol ) を加え120 ℃で1.5 時間攪拌し
た。酢酸エチルを加え水及び飽和食塩水で洗浄し乾燥後
溶媒を留去し、残渣1.68g をエタノール100ml に溶解し
10% Pd-C 360mgを加え水素気流下室温にて2 時間、接触
水素添加をした。セライト濾過後溶媒を留去し残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーに付し（酢酸エチ
ル：ヘキサン＝1 ：8 ）の展開溶媒を用い精製し所望の
化合物1.54g(60%)を得た。 TLC:Rf=0.73 （酢酸エチル：ヘキサン＝1 ：10） 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3) :7.4-7.1
(5H, m ),6.29-6.25(1H, m), 6.20-6.18(2H,m), 3.99(2
H,q, J= 7.1Hz),3.70(6H, s), 3.50-3.30(1H, m), 2.95
-2.79(2H, m), 2.75-2.50(2H, m) 1.11(3H, t, J= 7.1H
z)
【０２９７】
【実施例５２（ｃ）】４−｛３、５−ジメトキシ−６−（４−メシルオキシフ
ェニルメチル）フェニル｝−３−フェニルブタン酸エチ
ル エステル体 1.54g ( 4.7mmol) をジクロロメタン 30ml
に溶解し氷冷下、p-メシルオキシベンジルブロミド 1.3
g ( 5.2mmol)及び過塩素酸銀 975mg ( 4.7mmol) を加え
4 時間撹拌した。セライトろ過後、水洗、飽和食塩水で
洗浄後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下溶媒
を留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
付し（ヘキサン：酢酸エチル＝3 ：1 ）の系を用いて精
製し所望の化合物780mg(33%)を得た。 TLC:Rf=0.17 ( ヘキサン：酢酸エチル＝3 ：1 ）
【０２９８】
【実施例５２（ｄ）】６、８−ジヒドロキシ−３−フェニル−５−｛（４ーメ
シルオキシフェニル）メチル｝−３、４−ジヒドロ−２
H −ナフタレン−１−オン エステル体 780mg ( 1.6mmol)を塩化エチレン 60ml に
溶解し-78 ℃冷却下1MBBr3 ジクロロメタン溶液 9.5ml
( 9.5mmol) を加え、室温で一昼夜撹拌した。溶液を氷
冷した後メタノール10mlを加え溶媒を留去し酢酸エチル
を加え水洗、飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグネ
シウムで乾燥し減圧下溶媒を留去し残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付し（ヘキサン：酢酸エチル
＝3 ：1）の系を用いて精製し所望の化合物480mg(70%)
を得た。 TLC:Rf=0.58 ( ヘキサン：酢酸エチル＝3 ：1 ） 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CD3OD) :7079(1H,
s), 7.50-7.10(9H, m) 6.34(1H, s),4.1-3.8(2H, m),
3.4-2.9(3H, m) 3.07(3H, s), 2.9-2.7(3H, m).
【０２９９】
【実施例５２（ｅ）】６ーベンジルオキシ−８−ヒドロキシ−３−フェニル−
５−｛（４ーヒドロキシフェニル）メチル｝−３、４−
ジヒドロ−２H −ナフタレン−１−オン ジフェノール体 480mg ( 1.1mmol) をジクロロメタン 6
0ml に懸濁させ氷冷下ベンジルブロミド 562mg ( 3.3mm
ol) 、炭酸カリウム 756mg ( 5.5mmol) 及び触媒量の18
- クラウン-6を加え室温で20.5時間撹拌した。反応液に
水、飽和重層水を順次加え洗浄し有機層を硫酸マグネシ
ウムで乾燥し減圧下溶媒を留去し残渣をエタノール：TH
F=1:1 の溶媒 80ml に溶解し1N NaOH 30ml ( 30mmol )
を加え１００℃で３時間攪拌した。溶媒を留去し酢酸エ
チルを加え水洗、飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マ
グネシウムで乾燥し減圧下溶媒を留去し残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付し（ジクロロメタン：
酢酸エチル＝50：1 ）の系を用いて精製し所望の化合物
240mg(40%)を得た。 TLC:Rf=0.52 ( ジクロロメタン：酢酸エチル＝50：1 ） 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3) :7.5-7.1
(10H, m), 6.89(2H, d, J= 8.5Hz) 6.68(2H, d, J= 8.5
Hz), 6.44(1H, s), 5.48(1H, s), 5.06(2H, s), 4.05-
3.8(2H, m), 3.45-3.15(2H, m), 3.15-2.95( 1H, m),
2.95-2.7(3H, m).
【０３００】
【実施例５２（ｆ）】6,8- ジヒドロキシ-3- フェニル-5-{4-(2- ヘキサメチ
レンイミノエトキシ) フェニル} メチル-3,4- ジヒドロ
-2H-ナフタレン-1- オン ジオール50mg(0.09mmol)および2-クロロエチルヘキサメ
チレンイミン塩酸塩98mg(0.46mmol)をジメチルホルムア
ミド2ml に溶解させ，窒素気流下，炭酸カリウム128mg
を加え，１００℃にて，4.5 時間攪拌した。溶媒を留去
し，水及び酢酸エチルを加え，有機層を抽出した後，減
圧下，溶媒を留去した。得られた残渣を，エタノール：
テトラヒドロフラン＝１：１の混合溶媒20mlに溶解さ
せ，10%Pd-C 100mg を加え，水素雰囲気下，室温で4 時
間攪拌した。
【０３０１】セライトを用いて濾過した後，溶媒を留去
し，分取用薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：ジクロ
ロメタン/ メタノール＝8/1 ）を用いて精製し，標記化
合物30.4mg(69.6%) を得た。 薄層クロマトグラフィー： Rf値（展開溶媒：ジクロロメタン/ メタノール＝ 8/1）
＝0.4 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3) :7.30-7.1
6(5H, m), 7.02(2H, d, J=8.6Hz), 6.81(2H, d, J=8.6H
z), 6.27(1H, s), 4.16(2H, t, J= 5.4Hz), 3.90(2H,
s), 3.35(2H, s), 3.32-3.30(2H, m), 3.25(2H, t, J=
5.4Hz), 3.16-3.12(2H, m), 2.83-2.74(3H, m), 1.81-
1.72(4H, m), 1.69-1.67(4H, m). マススペクトル m/z: 486[(M+H)+]
【０３０２】
【実施例５３】6,8-ジヒドロキシ-3- （４−ヒドロキシ−３−メチルフ
ェニル）-5-{4-(2- ヘキサメチレンイミノエトキシ) フ
ェニル} メチル-3,4- ジヒドロ-2H-ナフタレン-1- オン
【０３０３】
【実施例５３（ａ）】3 ‘,5’,4- トリメトキシ−３−メチルデオキシベンゾ
イン 3,5-ジメトキシフェニル酢酸 7g (35.7mmol ) をベン
ゼン 100mlに懸濁させ氷冷下、オキザリルクロリド 4.8
g ( 37.5mmol )、DMF 7 滴を加え2 時間攪拌した。溶媒
を留去した後ジクロロメタン 5ml,2- メチルアニソール
22g及び塩化アルミ 9.5g ( 71.4mmol )加え、室温で3
時間攪拌した。稀塩酸、酢酸エチルを加え抽出し有機層
を水及び飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥
し減圧下溶媒を留去し残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーに付し（酢酸エチル：ヘキサン＝1 ：5 ）の
展開溶媒を用い精製し所望の化合物7.28g(70%)を得た。
【０３０４】TLC:Rf=0.46 （酢酸エチル：ヘキサン＝1
：5 ） 核磁気共鳴スペクトルδｐｐｍ（２７０ＭＨｚ， ＣＤ
Ｃｌ３） ：７．９５−７．８０（２Ｈ， ｍ），６．
８３（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝ ８．５Ｈｚ）， ６．５−
６．３（３Ｈ， ｍ）， ， ４．１５（２Ｈ，ｓ），
３．８８（３Ｈ， ｓ）， ３．７６（６Ｈ，
ｓ）， ２．２３（３Ｈ， ｓ）．
【０３０５】
【実施例５３（ｂ）】４−（３，５− ジメトキシフェニル)-3-(4- メトキシ
−３−メチルフェニル）ブタン酸エチル トリエチルフォスフォノアセテート 54.4g ( 242.7mmol
)に氷冷下ナトリウムヒドリド4.6g (121.3mmol ) を加
え 30 分攪拌した後、 3',5',4- トリメトキシ-3- メチ
ルデオキシベンゾイン 7.28g (24.3mmol )を加え120 ℃
で2 時間攪拌した。酢酸エチルを加え水及び飽和食塩水
で洗浄し乾燥後溶媒を留去し、残渣7.16g をエタノール
167ml に溶解し10% Pd-C 1.53gを加え水素気流下室温に
て3 時間、接触水素添加をした。セライト濾過後溶媒を
留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
し（酢酸エチル：ヘキサン＝1 ：8 ）の展開溶媒を用い
精製し所望の化合物1.54g(60%)を得た。 TLC:Rf=0.6（酢酸エチル：ベンゼン＝１：１０） 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3) :7.05-6.9
(2H, m),6.71(1H, d, J= 8.7Hz),6.35-6.20(3H, m), 3.
99(2H,q, J= 7.1Hz), 3.79(3H, s), 3.72(6H, s), 3.45
-3.25(1H, m), 2.95-2.70(2H, m), 2.70-2.45(2H, m),
2.18(3H, s), 1.12(3H, t, J= 7.1Hz)
【０３０６】
【実施例５３（ｃ）】４−｛３、５−ジメトキシ−６−（４−メシルオキシフ
ェニルメチル）フェニル｝−３−(4- メトキシ−３−メ
チルフェニル）ブタン酸エチル エステル体 2.49g ( 6.7mmol) をジクロロメタン 60ml
に溶解し氷冷下、p-メシルオキシベンジルブロミド 1.9
g ( 7.4mmol)及び過塩素酸銀 1.4g ( 6.7mmol)を加え4
時間撹拌した。セライトろ過後、水洗、飽和食塩水で洗
浄後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下溶媒を
留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
し（ヘキサン：酢酸エチル＝3 ：1 ）の系を用いて精製
し所望の化合物1.56g(42%)を得た。 TLC:Rf=0.17 ( ヘキサン：酢酸エチル＝3 ：1 ）
【０３０７】
【実施例５３（ｄ）】６、８−ジヒドロキシ−３−(4- ヒドロキシ−３−メチ
ルフェニル）−５−｛（４ーメシルオキシフェニル）メ
チル｝−３、４−ジヒドロ−２H −ナフタレン−１−オ
ン エステル体 1.56g ( 2.9mmol)を塩化エチレン 100mlに
溶解し-78 ℃冷却下1MBBr3 ジクロロメタン溶液 22.9ml
( 22.9mmol) を加え、室温で一昼夜撹拌した。溶液を
氷冷した後メタノール10mlを加え溶媒を留去し酢酸エチ
ルを加え水洗、飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグ
ネシウムで乾燥し減圧下溶媒を留去し残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーに付し（ヘキサン：酢酸エチ
ル＝2 ：1 ）の系を用いて精製し所望の化合物800mg(59
%)を得た。 TLC:Rf=0.32 ( ヘキサン：酢酸エチル＝ 1：1 ） 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CD3OD) :7.5-6.0
(8H, m), ,4.1-3.8(2H, m), 3.4-2.9(3H, m) 3.11(3H,
s), 2.9-2.7(3H,m), 2.21(3H, m).
【０３０８】
【実施例５３（ｅ）】６ーベンジルオキシ−８−ヒドロキシ−３−(4- ベンジ
ルオキシ−３−メチルフェニル）−５−｛（４ーヒドロ
キシフェニル）メチル｝−３、４−ジヒドロ−２H −ナ
フタレン−１−オン トリフェノール体 800mg ( 1.7mmol) をジクロロメタン
100mlに懸濁させ氷冷下ベンジルブロミド 877mg ( 5.1
mmol) 、炭酸カリウム 1.2g ( 8.5mmol)及び触媒量の18
- クラウン-6を加え室温で21.5時間撹拌した。反応液に
水、飽和重層水を順次加え洗浄し有機層を硫酸マグネシ
ウムで乾燥し減圧下溶媒を留去し残渣をエタノール：TH
F=1:1 の溶媒 80ml に溶解し1N NaOH 30ml ( 30mmol )
を加え１００℃で３時間攪拌した。溶媒を留去し酢酸エ
チルを加え水洗、飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マ
グネシウムで乾燥し減圧下溶媒を留去し残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付し（酢酸エチル）の系
を用いて精製し所望の化合物300mg(26%)を得た。 TLC:Rf=0.30 ( 酢酸エチル） 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3) :7.5-6.7
(17H, m), 6.45(1H, s),5.06(2H, s), 4.05-3.8(2H,
m), 3.40-3.0(3H,m), 3.0-2.70( 3H, m),2.27(3H, s).
【０３０９】
【実施例５３（ｆ）】6,8- ジヒドロキシ-3- フェニル-5-{4-(2- ヘキサメチ
レンイミノエトキシ) フェニル} メチル-3,4- ジヒドロ
-2H-ナフタレン-1- オン ジオール300mg(0.45mmol) および2-クロロエチルヘキサ
メチレンイミン塩酸塩110mg(0.68mmol) をジクロロメタ
ン50mlに溶解させ，触媒量の１８ークラウンー６を加え
た。窒素気流下，炭酸カリウム1.0gを加え，室温にて，
３時間攪拌した。水及びジクロロメタンを加え，有機層
を抽出した後，減圧下，溶媒を留去した。得られた残渣
を，エタノール：テトラヒドロフラン＝１：１の混合溶
媒20mlに溶解させ，10%Pd-C 150mg を加え，水素雰囲気
下，室温で2 時間攪拌した。セライトを用いて濾過した
後，溶媒を留去し，分取用薄層クロマトグラフィー（展
開溶媒：ジクロロメタン/ メタノール＝8/1 ）を用いて
精製し，標記化合物48.6mg(21%) を得た。 薄層クロマトグラフィー： Rf値（展開溶媒：ジクロロメタン/ メタノール＝ 8/1）
＝0.16 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3 ) :7.03-7.
00(2H, m), 6.85-6.76(4H, m), 6.26(1H, s), 4.21(2H,
t, J= 5.2Hz),3.88(2H, s), 3.39(2H, t, J= 5.2Hz),
3.27-3.23(4H, m), 3.09-3.00(2H, m),2.79-2.59(3H,
m), 2.12(3H, s), 2.00-1.83(4H, m), 1.71-1.69(4H,
m). マススペクトル m/z: 516[(M+H)+]
【０３１０】
【実施例５４】6,8-ジヒドロキシ-3- （４−ヒドロキシ−３, ５−ジメ
チルフェニル）-5-{4-(2- ヘキサメチレンイミノエトキ
シ) フェニル} メチル-3,4- ジヒドロ-2H-ナフタレン-1
- オン
【０３１１】
【実施例５４（ａ）】3 ‘,5’,4- トリメトキシ−３, ５−ジメチルデオキシ
ベンゾイン 3,5-ジメトキシフェニル酢酸 5g (25.5mmol ) をベン
ゼン 70ml に懸濁させ氷冷下、オキザリルクロリド 3.4
g ( 26.8mmol )、DMF 5 滴を加え3 時間攪拌した。溶媒
を留去した後ジクロロメタン 5ml,2,6- ジメチルアニソ
ール 17.3g及び塩化アルミ 6.8g ( 51.0mmol )加え、室
温で2.5 時間攪拌した。稀塩酸、酢酸エチルを加え抽出
し有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥し減圧下溶媒を留去し残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーに付し（酢酸エチル：ヘキサン＝1
：5 ）の展開溶媒を用い精製し所望の化合物1.7g(21%)
を得た。 TLC:Rf=0.31 （酢酸エチル：ヘキサン＝1 ：5 ） 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3 ) :7.69(2
H, s), 6.5-6.3(3H, m), , 4.15(2H,s), 3.76(6H, s),
3.75(3H, s), 2.31(6H, s).
【０３１２】
【実施例５４（ｂ）】4-(3,5- ジメトキシフェニル)-3-(4- メトキシ−３, ５
−ジメチルフェニル）ブタン酸エチル トリエチルフォスフォノアセテート 12.1g ( 54.1mmol
) に氷冷下ナトリウムヒドリド1.0g (27.1mmol )を加
え 30 分攪拌した後、 3',5',4- トリメトキシ-3,5- ジ
メチルデオキシベンゾイン 1.7g (5.4mmol )を加え120
℃で19時間攪拌した。酢酸エチルを加え水及び飽和食塩
水で洗浄し乾燥後溶媒を留去し、残渣をエタノール50ml
に溶解し10% Pd-C 350mgを加え水素気流下室温にて2 時
間、接触水素添加をした。セライト濾過後溶媒を留去し
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し（酢
酸エチル：ヘキサン＝1 ：8 ）の展開溶媒を用い精製し
所望の化合物1.69g(81%)を得た。 TLC:Rf=0.43 （酢酸エチル：ベンゼン＝１：10） 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3 ) :6.81(2
H, s), 6.35-6.20(3H, m), 3.99(2H,q, J= 7.0Hz), 3.7
3(6H, s), 3.68(3H, s), 3.4-3.2 (1H, m), 2.95-2.70
(2H, m), 2.70-2.45(2H, m), 2.23(6H, s),1.11(3H, t,
J= 7.0Hz)
【０３１３】
【実施例５４（ｃ）】４−｛３、５−ジメトキシ−６−（４−メシルオキシフ
ェニルメチル）フェニル｝−３−(4- メトキシ−３、５
−ジメチル−フェニル）ブタン酸エチル エステル体 1.69g ( 4.4mmol) をジクロロメタン 30ml
に溶解し氷冷下、p-メシルオキシベンジルブロミド 1.2
g ( 4.8mmol)及び過塩素酸銀 907mg ( 4.4mmol) を加え
8 時間撹拌した。セライトろ過後、水洗、飽和食塩水で
洗浄後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下溶媒
を留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
付し（ヘキサン：酢酸エチル＝3 ：1 ）の系を用いて精
製し所望の化合物1.18g(48%)を得た。 TLC:Rf=0.16 ( ヘキサン：酢酸エチル＝3 ：1 ）
【０３１４】
【実施例５４（ｄ）】６、８−ジヒドロキシ−３−(4- ヒドロキシ−３,5−ジ
メチルフェニル）−５−｛（４ーメシルオキシフェニ
ル）メチル｝−３、４−ジヒドロ−２H −ナフタレン−
１−オン エステル体 1.18g ( 2.1mmol)を塩化エチレン 100mlに
溶解し-78 ℃冷却下1MBBr3 ジクロロメタン溶液 16.9ml
( 16.9mmol) を加え、室温で一昼夜撹拌した。溶液を
氷冷した後メタノール10mlを加え溶媒を留去し酢酸エチ
ルを加え水洗、飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグ
ネシウムで乾燥し減圧下溶媒を留去し残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーに付し（ヘキサン：酢酸エチ
ル＝1 ：2 ）の系を用いて精製し所望の化合物627.9mg
(62%)を得た。 TLC:Rf=0.77 ( ヘキサン：酢酸エチル＝ 1：2 ） 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CD3OD ) :7.2-7.0
(3H, m), 6.93(2H, d, J= 8.4Hz), 6.44(1H, S), 6.28
(1H, s), 3.4-2.9(2H, m) 3.10(3H, s), 2.8-2.6(3H,
m), 2.52(6H, s), 2.4-1.9(2H, m).
【０３１５】
【実施例５４（ｅ）】６,8ージベンジルオキシ−３−(4- ベンジルオキシ−
３,5−ジメチルフェニル）−５−｛（４ーヒドロキシフ
ェニル）メチル｝−３、４−ジヒドロ−２H −ナフタレ
ン−１−オン トリフェノール体 627.9mg ( 1.3mmol) をジクロロメタ
ン 20ml に懸濁させ氷冷下ベンジルブロミド 1.3g ( 7.
8mmol)、炭酸カリウム 900mg ( 6.5mmol) 及び触媒量の
18- クラウン-6を加え室温で22時間撹拌した。反応液に
水、飽和重層水を順次加え洗浄し有機層を硫酸マグネシ
ウムで乾燥し減圧下溶媒を留去し残渣をエタノール：TH
F=1:1 の溶媒 40ml に溶解し1N NaOH 20ml ( 20mmol )
を加え１００℃で３時間攪拌した。溶媒を留去し酢酸エ
チルを加え水洗、飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マ
グネシウムで乾燥し減圧下溶媒を留去し残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付し（ジクロロメタン：
酢酸エチル＝ 50:1）の系を用いて精製し所望の化合物
377.3mg(43%)を得た。 TLC:Rf=0.24 ( ジクロロメタン：酢酸エチル＝ 50:1） 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3 ) :7.7-7.2
(15H, m), 6.92(2H, d, J= 8.5Hz), 6.83(1H, s), 6.70
(2H, d, J= 8.5Hz), 6.53(1H, s), 5.16(2H, s), 5.05
(2H, s), 4.79(2H, s),3.99(2H, s), 3.40-3.0(2H, m),
3.0-2.6( 3H, m), 2.28(6H, s).
【０３１６】
【実施例５４（ｆ）】6,8- ジヒドロキシ-3- フェニル-5-{4-(2- ヘキサメチ
レンイミノエトキシ) フェニル} メチル-3,4- ジヒドロ
-2H-ナフタレン-1- オン フェノール377.3mg(0.56mmol) および2-クロロエチルヘ
キサメチレンイミン塩酸塩99mg(0.62mmol)をジクロロメ
タン20mlに溶解させ，触媒量の１８ークラウンー６を加
えた。窒素気流下，炭酸カリウム1.0gを加え，室温に
て，３.5時間攪拌した。水及びジクロロメタンを加え，
有機層を抽出した後，減圧下，溶媒を留去した。得られ
た残渣を，エタノール：テトラヒドロフラン＝1 ：１の
混合溶媒8ml に溶解させ，10%Pd-C 100mg を加え，水素
雰囲気下，室温で4 時間攪拌した。セライトを用いて濾
過した後，溶媒を留去し，分取用薄層クロマトグラフィ
ー（展開溶媒：ジクロロメタン/ メタノール＝8/1 ）を
用いて精製し，標記化合物30.9mg(10%) を得た。 薄層クロマトグラフィー： Rf値（展開溶媒：ジクロロメタン/ メタノール＝ 8/1）
＝0.26 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3 ) :7.02(2
H, d, J= 8.6Hz), 6.82(2H, d, J= 8.6Hz), 6.72(2H,
s), 6.26(2H, s),4.20(2H, t, J= 5.2Hz), 3.89(2H,
s), 3.38-3.35(2H, m), 3.24-3.20(4H, m),3.11-2.98(2
H, m), 2.75-2.60(3H, m), 2.15(6H, s), 1.84-1.71(4
H, m), 1.70-1.69(4H, m). マススペクトル m/z: 530[(M+H)+]
【０３１７】
【実施例５５】6,8-ジヒドロキシ-3- （４−ヒドロキシ−３−エチルフ
ェニル）-5-{4-(2- ヘキサメチレンイミノエトキシ) フ
ェニル} メチル-3,4- ジヒドロ-2H-ナフタレン-1- オン
【０３１８】
【実施例５５（ａ）】3 ‘,5’,4- トリメトキシ−３−エチルデオキシベンゾ
イン 3,5-ジメトキシフェニル酢酸 5g (25.5mmol ) をベン
ゼン 70ml に懸濁させ氷冷下、オキザリルクロリド 3.4
g ( 26.8mmol )、DMF 5 滴を加え５時間攪拌した。溶媒
を留去した後ジクロロメタン 5ml,2−エメチルアニソー
ル 14.8g及び塩化アルミ 6.8g ( 51.0mmol )加え、室温
で3 時間攪拌した。稀塩酸、酢酸エチルを加え抽出し有
機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで
乾燥し減圧下溶媒を留去し残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付し（酢酸エチル：ヘキサン＝1 ：5
）の展開溶媒を用い精製し所望の化合物6.15g(77%)を
得た。 TLC:Rf=0.26 （酢酸エチル：ヘキサン＝1 ：5 ） 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3 ) :8.0-7.8
(2H, m), 6.84(2H, d, J= 8.3Hz), 6.5-6.4(2H, m), 6.
4-6.3(1H, m), 4.15(2H,s), 3.87(3H, s), 3.77(6H,
s),2.64(2H, q, J= 7.5Hz), 1.19(3H, t, J= 7.5Hz).
【０３１９】
【実施例５５（ｂ）】4-(3,5- ジメトキシフェニル)-3-(4- メトキシ−３−エ
チルフェニル）ブタン酸エチル トリエチルフォスフォノアセテート 43.9g ( 196.9mmol
)に氷冷下ナトリウムヒドリド3.7g (97.9mmol )を加え
30 分攪拌した後、 3',5',4- トリメトキシ-3- エチル
デオキシベンゾイン 6.15g (19.6mmol )を加え120 ℃で
3.5 時間攪拌した。酢酸エチルを加え水及び飽和食塩水
で洗浄し乾燥後溶媒を留去し、残渣をエタノール70mlに
溶解し10% Pd-C 1.0g を加え水素気流下室温にて2.5 時
間、接触水素添加をした。セライト濾過後溶媒を留去し
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し（酢
酸エチル：ヘキサン＝1 ：10）の展開溶媒を用い精製し
所望の化合物4.65g(62%)を得た。 TLC:Rf=0.58 （酢酸エチル：ベンゼン＝１：20） 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3 ) :7.0-6.9
(2H, m), 6.73(1H, d, J= 8.0Hz), 6.35-6.25(1H, m),
6.25-6.15(2H, m), 3.99(2H,q, J= 7.1Hz), 3.78(3H,
s), 3.71(6H, s), 3.45-3.25 (1H, m), 2.95-2.70(2H,
m), 2.70-2.45(4H, m), 1.14(3H, t, J= 7.3Hz), 1.12
(3H, t, J=7.1Hz).
【０３２０】
【実施例５５（ｃ）】４−｛３、５−ジメトキシ−６−（４−メシルオキシフ
ェニルメチル）フェニル｝−３−(4- メトキシ−３−エ
チルフェニル）ブタン酸エチル エステル体 4.65g ( 12.1mmol)をジクロロメタン 60ml
に溶解し氷冷下、p-メシルオキシベンジルブロミド 3.4
g ( 13.3mmol) 及び過塩素酸銀 2.5g ( 12.1mmol) を加
え4.5 時間撹拌した。セライトろ過後、水洗、飽和食塩
水で洗浄後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下
溶媒を留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し（ヘキサン：酢酸エチル＝2 ：1 ）の系を用い
て精製し所望の化合物1.18g(48%)を得た。 TLC:Rf=0.42 ( ヘキサン：酢酸エチル＝2 ：1 ）
【０３２１】
【実施例５５（ｄ）】６、８−ジヒドロキシ−３−(4- ヒドロキシ−３−エチ
ルフェニル）−５−｛（４ーメシルオキシフェニル）メ
チル｝−３、４−ジヒドロ−２H −ナフタレン−１−オ
ン エステル体 2.76g ( 4.9mmol)を塩化エチレン 100mlに
溶解し-78 ℃冷却下1MBBr3 ジクロロメタン溶液 39.5ml
( 39.5mmol) を加え、室温で一昼夜撹拌した。溶液を
氷冷した後メタノール10mlを加え溶媒を留去し酢酸エチ
ルを加え水洗、飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグ
ネシウムで乾燥し減圧下溶媒を留去し残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーに付し（ヘキサン：酢酸エチ
ル＝1 ：2 ）の系を用いて精製し所望の化合物627.9mg
(62%)を得た。 TLC:Rf=0.43 ( ヘキサン：酢酸エチル＝ 1：1 ） 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CD3OD ) :7.5-6.6
(7H, m), 6.30(1H, s), 4.1-3.9(2H, m), 3.4-2.9(3H,
m) 3.12(3H, s),2.9-2.7(3H, m), 2.63(2H, q, J= 7.4H
z), 1.21(3H, t, J= 7.4Hz).
【０３２２】
【実施例５５（ｅ）】６, ８ージベンジルオキシ−３−(4- ベンジルオキシ−
３−エチルフェニル）−５−｛（４ーヒドロキシフェニ
ル）メチル｝−３、４−ジヒドロ−２H −ナフタレン−
１−オン トリフェノール体 1.25mg ( 2.6mmol)をジクロロメタン
40ml に懸濁させ氷冷下ベンジルブロミド 2.7g ( 15.6
mmol) 、炭酸カリウム 1.8g ( 13.0mmol) 及び触媒量の
18- クラウン-6を加え40℃で72時間撹拌した。反応液に
水、飽和重層水を順次加え洗浄し有機層を硫酸マグネシ
ウムで乾燥し減圧下溶媒を留去し残渣をエタノール：TH
F=1:1 の溶媒 80ml に溶解し1N NaOH 60ml ( 60mmol )
を加え１００℃で5 時間攪拌した。溶媒を留去し酢酸エ
チルを加え水洗、飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マ
グネシウムで乾燥し減圧下溶媒を留去し残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付し（ジクロロメタン：
酢酸エチル＝ 50:1）の系を用いて精製し所望の化合物
1.0652g(60%)を得た。 TLC:Rf=0.33 ( ジクロロメタン：酢酸エチル＝ 50:1）
【０３２３】
【実施例５５（ｆ）】6,8- ジヒドロキシ-3-(4-ヒドロキシ−３−エチルフェ
ニル）-5-{4-(2- ヘキサメチレンイミノエトキシ) フェ
ニル} メチル-3,4- ジヒドロ-2H-ナフタレン-1-オン フェノール300mg(0.45mmol) および2-クロロエチルヘキ
サメチレンイミン塩酸塩79mg(0.49mmol)をジクロロメタ
ン5ml に溶解させ，触媒量の１８ークラウンー６を加え
た。窒素気流下，炭酸カリウム1.0gを加え，室温にて，
5 時間攪拌した。水及びジクロロメタンを加え，有機層
を抽出した後，減圧下，溶媒を留去した。得られた残渣
を，エタノール：テトラヒドロフラン＝1 ：１の混合溶
媒8ml に溶解させ，10%Pd-C 110mg を加え，水素雰囲気
下，室温で1.5 時間攪拌した。
【０３２４】セライトを用いて濾過した後，溶媒を留去
し，分取用薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：ジクロ
ロメタン/ メタノール＝8/1 ）を用いて精製し，標記化
合物41.7mg(17.5%) を得た。 薄層クロマトグラフィー： Rf値（展開溶媒：ジクロロメタン/ メタノール＝ 8/1）
＝0.22 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3 ) :7.01(2
H, d, J= 8.6Hz), 6.86(2H, s), 6.85-6.79(3H, m), 6.
65(1H, d, J= 8.1Hz), 6.26(2H, s), 4.18(2H, t, J=
5.3Hz), 3.87(2H, s), 3.35(1H, s), 3.20-3.16(4H,
m), 3.12-3.02(2H, m), 2.80-2.60(4H, m), 2.59-2.50
(2H, m), 1.82-1.68(8H, m), 1.13(3H, t, J= 7.6Hz). マススペクトル m/z: 530[(M+H)+]
【０３２５】
【実施例５６】6,8-ジヒドロキシ-3- （４−ヒドロキシ−３−t −ブチ
ルフェニル）-5-{4-(2-ヘキサメチレンイミノエトキシ)
フェニル} メチル-3,4- ジヒドロ-2H-ナフタレン-1-
オン
【０３２６】
【実施例５６（ａ）】3 ‘,5’,4- トリメトキシ−３−t −ブチルデオキシベ
ンゾイン 3,5-ジメトキシフェニル酢酸 7.06g (35.98mmol ) を
ベンゼン 100mlに懸濁させ氷冷下、オキザリルクロリド
3.3ml、DMF 6 滴を加え4.5 時間攪拌した。溶媒を留去
した後ジクロロメタン 7ml,2−t −ブチルアニソール 1
0.71g 及び塩化アルミ 9.52g ( 71.39mmol )加え、室温
で2 時間攪拌した。稀塩酸、酢酸エチルを加え抽出し有
機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで
乾燥し減圧下溶媒を留去し残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付し（酢酸エチル：ヘキサン＝1 ：1
0）の展開溶媒を用い精製し所望の化合物5.70g(46%)を
得た。 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3 ) :8.00(1
H, s), 8.00-7.80(1H, m), 6.88(1H, d, J= 8.6Hz), 6.
5-6.3(3H, m), 4.15(2H,s), 3.89(3H, s), 3.76(6H,
s), 1.37(9H, s).
【０３２７】
【実施例５６（ｂ）】4-(3,5- ジメトキシフェニル)-3-(4- メトキシ−３−ｔ
−ブチルフェニル）ブタン酸エチル トリエチルフォスフォノアセテート 66.3ml に氷冷下ナ
トリウムヒドリド4.09mg (93.7mmol )を加え30分攪拌し
た後 3',5',4- トリメトキシ-3-t- ブチルデオキシベン
ゾイン 5.95g (17.4mmol )を加え120 ℃で4.5 時間攪拌
した。酢酸エチルを加え水及び飽和食塩水で洗浄し乾燥
後溶媒を留去し、残渣をエタノール400ml に溶解し10%
Pd-C 2.37gを加え水素気流下室温にて6 時間、接触水素
添加をした。セライト濾過後溶媒を留去し残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付し（酢酸エチル：ヘ
キサン＝1 ：5 ）の展開溶媒を用い精製し所望の化合物
4.48g(62%)を得た。 TLC:Rf=0.14 （酢酸エチル：ベンゼン＝１：3 ） 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3 ) :7.05-6.
9(2H, m), 6.77(1H, d, J= 8.9Hz), 6.30-6.25(1H, m),
6.25-6.15(2H,m), 4.01(2H,q, J= 7.2Hz), 3.80(3H,
s), 3.70(6H, s), 3.45-3.25 (1H, m), 2.81(2H, d, J=
7.4Hz), 2.70-2.55(2H, m), 1.31(9H, s), 1.13(3H,
t, J= 7.4Hz).
【０３２８】
【実施例５６（ｃ）】４−｛３、５−ジメトキシ−６−（４−メシルオキシフ
ェニルメチル）フェニル｝−３−(4- メトキシ−３−ｔ
−ブチル−５−メチルフェニル）ブタン酸エチル エステル体 4.67g ( 11.3mmol)をジクロロメタン 47ml
に溶解し氷冷下、p-メシルオキシベンジルブロミド 2.9
7g ( 11.3mmol)及び過塩素酸銀 2.79g ( 13.5mmol)を加
え6 時間撹拌した。セライトろ過後、水洗、飽和食塩水
で洗浄後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下溶
媒を留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付し（ヘキサン：酢酸エチル＝3 ：1 ）の系を用いて
精製し所望の化合物2.90g(43%)を得た。 TLC:Rf=0.15 ( ヘキサン：酢酸エチル＝3 ：1 ）
【０３２９】
【実施例５６（ｄ）】６、８−ジヒドロキシ−３−(4- ヒドロキシ−３−t −
ブチルフェニル）−５−｛（４ーメシルオキシフェニ
ル）メチル｝−３、４−ジヒドロ−２H −ナフタレン−
１−オン エステル体 2.90g ( 4.84mmol) を塩化エチレン 50ml
に溶解し-78 ℃冷却下1M BBr3 ジクロロメタン溶液 31m
l ( 31mmol) を加え、室温で一昼夜撹拌した。溶液を氷
冷した後メタノール10mlを加え溶媒を留去し酢酸エチル
を加え水洗、飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグネ
シウムで乾燥し減圧下溶媒を留去し残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付し（ヘキサン：酢酸エチル
＝1 ：1）の系を用いて精製し所望の化合物692.9mg(28
%)を得た。 TLC:Rf=0.40 ( ヘキサン：酢酸エチル＝ 2：1 ） 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CD3OD ) :7.5-6.6
(7H, m), 6.35-6.20(1H, m), 4.1-3.8(2H, m), 3.4-2.6
(4H, m) 3.12(3H, s), 1.33(9H, s).
【０３３０】
【実施例５６（ｅ）】６, ８ージベンジルオキシ−３−(4- ベンジルオキシ−
３−ｔ−ブチルフェニル）−５−｛（４ーヒドロキシフ
ェニル）メチル｝−３、４−ジヒドロ−２H −ナフタレ
ン−１−オン トリフェノール体 692.9mg ( 1.36mmol)をジクロロメタ
ン 50ml に懸濁させ氷冷下ベンジルブロミド 1.3ml、炭
酸カリウム約5g及び触媒量の18- クラウン-6を加え40℃
で20時間撹拌した。反応液に水、飽和重層水を順次加え
洗浄し有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下溶媒を
留去し残渣をメタノール 32ml に溶解し1N NaOH 7.2ml
( 7.2mmol ) を加え１００℃で4 時間攪拌した。溶媒を
留去し酢酸エチルを加え水洗、飽和食塩水で洗浄後、有
機層を硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下溶媒を留去し残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し（ジク
ロロメタン：メタノール＝ 50:1）の系を用いて精製し
所望の化合物631.6mg(66%)を得た。 TLC:Rf=0.30 ( ジクロロメタン：メタノール＝ 50:1）
【０３３１】
【実施例５６（ｆ）】6,8- ジヒドロキシ-3-(4-ヒドロキシ−３−t −ブチル
フェニル）-5-{4-(2- ヘキサメチレンイミノエトキシ)
フェニル} メチル-3,4- ジヒドロ-2H-ナフタレン-1- オ
ン フェノール140.3mg(0.20mmol) および2-クロロエチルヘ
キサメチレンイミン塩酸塩82.2mg(0.51mmol)をジクロロ
メタン2ml に溶解させ，触媒量の１８ークラウンー６を
加えた。窒素気流下，炭酸カリウム1.0gを加え，室温に
て，3.5 時間攪拌した。水及びジクロロメタンを加え，
有機層を抽出した後，減圧下，溶媒を留去した。得られ
た残渣を，エタノール：テトラヒドロフラン＝1 ：１の
混合溶媒8ml に溶解させ，10%Pd-C 150mg を加え，水素
雰囲気下，室温で4.5 時間攪拌した。
【０３３２】セライトを用いて濾過した後，溶媒を留去
し，分取用薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：ジクロ
ロメタン/ メタノール＝8/1 ）を用いて精製し，標記化
合物49.4mg(44%) を得た。 薄層クロマトグラフィー： Rf値（展開溶媒：ジクロロメタン/ メタノール＝ 8/1）
＝0.10 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3) :7.1-6.9
(3H, m), 6.9-6.7(3H, m), 6.63 (1H, d, J= 8.3Hz),
6.26(1H, s), 4.09(2H, t, J= 5.5Hz), 4.0-3.8(2H,
m), 3.4-3.3(1H, m), 3.20-3.05(4H, m), 3.05-2.9(4H,
m), 2.80-2.60(4H, m), 1.9-1.55(8H, m), 1.33(9H,
s). マススペクトル m/z: 558[(M+H)+] 赤外線吸収スペクトル(CHCl3) cm-1:3604.43, 2957.23,
2938.91, 1604.01, 1509.48.
【０３３３】
【実施例５７】6,8-ジヒドロキシ-3- （４−ヒドロキシ−３−t −ブチ
ルフェニル）-5-{4-(2-ピペリジノエトキシ) フェニル}
メチル-3,4- ジヒドロ-2H-ナフタレン-1- ンン 実施例５６（ｅ）で得たフェノール144.0mg(0.21mmol)
および2-クロロエチルピペラジン塩酸塩81.7mg(0.55mmo
l)をジクロロメタン4ml に溶解させ，触媒量の１８ーク
ラウンー６を加えた。窒素気流下，炭酸カリウム1.0gを
加え，室温にて，6.5 時間攪拌した。水及びジクロロメ
タンを加え，有機層を抽出した後，減圧下，溶媒を留去
した。得られた残渣を，エタノール：テトラヒドロフラ
ン＝1 ：１の混合溶媒8ml に溶解させ，10%Pd-C 150mg
を加え，水素雰囲気下，室温で5 時間攪拌した。セライ
トを用いて濾過した後，溶媒を留去し，分取用薄層クロ
マトグラフィー（展開溶媒：ジクロロメタン/ メタノー
ル＝8/1 ）を用いて精製し，標記化合物16.8mg(15%) を
得た。 薄層クロマトグラフィー： Rf値（展開溶媒：ジクロロメタン/ メタノール＝ 8/1）
＝0.10 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3 ) :7.15-6.
9(3H, m), 6.8-6.5(4H, m), 6.27(1H, s), 4.07(2H, t,
J= 5.7Hz), 4.05-3.7(2H, m), 3.35-3.1(2H, m), 3.20
-3.05(4H, m), 3.05-2.6(8H, m), 1.8-1.6(4H, m), 1.6
-1.4(2H, m), 1.35(9H, s). マススペクトル m/z: 544[(M+H)+] 赤外線吸収スペクトル (Kbr pellet) cm-1:3231.16, 29
47.59, 2865.60, 1610.76, 1509.48.
【０３３４】
【実施例５８】6,8-ジヒドロキシ-3- （４−ヒドロキシ−３−t −ブチ
ル−５−メチルフェニル）-5-{4-(2- ヘキサメチレンイ
ミノエトキシ) フェニル} メチル-3,4- ジヒドロ-2H-ナ
フタレン-1- オン
【０３３５】
【実施例５８（ａ）】3 ‘,5’,4- トリメトキシ−３−t −ブチル−２−メチ
ルデオキシベンゾイン 3,5-ジメトキシフェニル酢酸 10.01g (51.01mmol ) を
ベンゼン 100mlに懸濁させ氷冷下、オキザリルクロリド
4.7ml、DMF 6 滴を加え4.5 時間攪拌した。溶媒を留去
した後ジクロロメタン 10ml, 2−t −ブチル-6- メチル
アニソール 14.37g 及び塩化アルミ 9.52g ( 71.39mmol
)加え、室温で4.5 時間攪拌した。稀塩酸、酢酸エチル
を加え抽出し有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、硫酸
マグネシウムで乾燥し減圧下溶媒を留去し残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付し（酢酸エチル：ヘ
キサン＝1 ：8 ）の展開溶媒を用い精製し所望の化合物
3.58g(20%)を得た。 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3 ) :7.9-7.8
5(1H, m), 7.8-7.65(1H, m), 6.5-6.4(2H, m), 6.4-6.3
(1H, m), 4.16(2H,s), 3.80(3H, s), 3.76(6H, s), 2.3
5(3H, s), 1.33(9H, s).
【０３３６】
【実施例５８（ｂ）】4-(3,5- ジメトキシフェニル)-3-(4- メトキシ−３−ｔ
−ブチル−５−メチルフェニル）ブタン酸エチル トリエチルフォスフォノアセテート 80ml に氷冷下ナト
リウムヒドリド5.02g(115mmol )を加え30分攪拌した後
3',5',4- トリメトキシ-3-t- ブチル-2- メチルデオキ
シベンゾイン 6.53g (18.3mmol )を加え120 ℃で6 時間
攪拌した。酢酸エチルを加え水及び飽和食塩水で洗浄し
乾燥後溶媒を留去し、残渣をエタノール300ml に溶解し
10% Pd-C 3.39gを加え水素気流下室温にて6 時間、接触
水素添加をした。セライト濾過後溶媒を留去し残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーに付し（酢酸エチ
ル：ヘキサン＝1 ：7 ）の展開溶媒を用い精製し所望の
化合物4.86g(62%)を得た。 TLC:Rf=0.55 （酢酸エチル：ヘキサン＝１：3 ） 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3 ) :6.83(2
H, s), 6.35-6.25(1H, m), 6.25-6.15(2H, m), 4.01(2
H,q, J= 7.2Hz), 3.73(3H, s), 3.70(6H, s), 3.40-3.2
5 (1H, m), 2.80(2H, d, J= 7.4Hz), 2.70-2.50(2H,
m), 2.28(3H, s), 1.33(9H, s), 1.12(3H, t, J= 7.4H
z).
【０３３７】
【実施例５８（ｃ）】４−｛３、５−ジメトキシ−６−（４−メシルオキシフ
ェニルメチル）フェニル｝−３−(4- メトキシ−３−ｔ
−ブチル−５−メチルフェニル）ブタン酸エチル エステル体 6.16g ( 14.38mmol) をジクロロメタン 62m
l に溶解し氷冷下、p-メシルオキシベンジルブロミド
3.82g ( 14.47mmol) 及び過塩素酸銀 3.57g ( 17.22mmo
l) を加え5 時間撹拌した。セライトろ過後、水洗、飽
和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し
減圧下溶媒を留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーに付し（ヘキサン：酢酸エチル＝3 ：1 ）の系
を用いて精製し所望の化合物3.69g(42%)を得た。 TLC:Rf=0.20 ( ヘキサン：酢酸エチル＝3 ：1 ）
【０３３８】
【実施例５８（ｄ）】６、８−ジヒドロキシ−３−(4- ヒドロキシ−３−t −
ブチル−５−メチルフェニル）−５−｛（４ーメシルオ
キシフェニル）メチル｝−３、４−ジヒドロ−２H −ナ
フタレン−１−オン エステル体 3.39g ( 6.02mmol) を塩化エチレン 50ml
に溶解し-78 ℃冷却下1M BBr3 ジクロロメタン溶液 41m
l ( 41mmol) を加え、室温で一昼夜撹拌した。溶液を氷
冷した後メタノール20mlを加え溶媒を留去し酢酸エチル
を加え水洗、飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸マグネ
シウムで乾燥し減圧下溶媒を留去し残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付し（ヘキサン：酢酸エチル
＝1 ：1）の系を用いて精製し所望の化合物968.5mg(31
%)を得た。 TLC:Rf=0.40 ( ヘキサン：酢酸エチル＝ 2：1 ） 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CD3OD ) :7.5-6.7
(7H, m), 6.32(1H, s), 4.1-3.9(2H, m), 3.4-2.9(3H,
m) 3.10(3H, s),2.23(3H, s), 1.39(9H, s).
【０３３９】
【実施例５８（ｅ）】６,8ージベンジルオキシ−３−(4- ベンジルオキシ−３
−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−５−｛（４ーヒ
ドロキシフェニル）メチル｝−３、４−ジヒドロ−２H
−ナフタレン−１−オン トリフェノール体 890.4mg ( 1.70mmol)をジクロロメタ
ン 60ml に懸濁させ氷冷下ベンジルブロミド 1.63ml 、
炭酸カリウム約5g及び触媒量の18- クラウン-6を加え40
℃で20時間撹拌した。反応液に水、飽和重層水を順次加
え洗浄し有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下溶媒
を留去し残渣をメタノール 44ml に溶解し1N NaOH 13.1
ml ( 13.1mmol ) を加え１００℃で9 時間攪拌した。溶
媒を留去し酢酸エチルを加え水洗、飽和食塩水で洗浄
後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下溶媒を留
去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し
（ジクロロメタン：酢酸エチル＝ 50:1）の系を用いて
精製し所望の化合物803.7mg(66%)を得た。 TLC:Rf=0.40 ( ジクロロメタン：酢酸エチル＝ 50:1）
【０３４０】
【実施例５８（ｆ）】6,8- ジヒドロキシ-3-(4-ヒドロキシ−３−t −ブチル
−５−メチルフェニル）-5-{4-(2- ヘキサメチレンイミ
ノエトキシ) フェニル} メチル-3,4- ジヒドロ-2H-ナフ
タレン-1- オン フェノール89.5mg(0.125mmol) および2-クロロエチルヘ
キサメチレンイミン塩酸塩48.2mg(0.298mmol) をジクロ
ロメタン2ml に溶解させ，触媒量の１８ークラウンー６
を加えた。窒素気流下，炭酸カリウム1.0gを加え，室温
にて，3.5 時間攪拌した。水及びジクロロメタンを加
え，有機層を抽出した後，減圧下，溶媒を留去した。得
られた残渣を，エタノール：テトラヒドロフラン＝1 ：
１の混合溶媒6ml に溶解させ，10%Pd-C 154mg を加え，
水素雰囲気下，室温で4.5 時間攪拌した。セライトを用
いて濾過した後，溶媒を留去し，分取用薄層クロマトグ
ラフィー（展開溶媒：ジクロロメタン/ メタノール＝8/
1 ）を用いて精製し，標記化合物25.5mg(36%) を得た。 薄層クロマトグラフィー： Rf値（展開溶媒：ジクロロメタン/ メタノール＝ 8/1）
＝0.10 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3 ) :6.99(2
H, d, J= 8.6Hz), 6.9-6.7(4H, m), 6.25(1H, s), 4.08
(2H, t, J= 5.7Hz), 4.0-3.8(2H, m), 3.4-3.25(2H,
m), 3.20-3.0 (4H, m), 3.0-2.85(4H, m), 2.85-2.55(4
H, m), 2.16(3H, s), 1.85-1.55(8H, m), 1.35(9H, s). マススペクトル ｍ／ｚ： ５７２［（Ｍ＋Ｈ）＋］ 赤外線吸収スペクトル（ＣＨＣｌ３） ｃｍ−１：３４
０２．８５， ２９３２．１６， ２８６９．４６１，
１６１２．６９， １５０９．４８．
【０３４１】
【実施例５９】6,8-ジヒドロキシ-3- （４−ヒドロキシ−３−t −ブチ
ル−５−メチルフェニル）-5-{4-(2- ピペリジノエトキ
シ) フェニル} メチル-3,4- ジヒドロ-2H-ナフタレン-1
- オン 実施例５８（ｅ）で得たフェノール120.8mg(0.17mmol)
および2-クロロエチルピペラジン塩酸塩63.2mg(0.42mmo
l)をジクロロメタン3ml に溶解させ，触媒量の１８ーク
ラウンー６を加えた。窒素気流下，炭酸カリウム1.0gを
加え，室温にて，3.5 時間攪拌した。水及びジクロロメ
タンを加え，有機層を抽出した後，減圧下，溶媒を留去
した。得られた残渣を，エタノール：テトラヒドロフラ
ン＝1 ：１の混合溶媒6ml に溶解させ，10%Pd-C 225mg
を加え，水素雰囲気下，室温で5 時間攪拌した。セライ
トを用いて濾過した後，溶媒を留去し，分取用薄層クロ
マトグラフィー（展開溶媒：ジクロロメタン/ メタノー
ル＝8/1 ）を用いて精製し，標記化合物18.4mg(19%) を
得た。 薄層クロマトグラフィー： Rf値（展開溶媒：ジクロロメタン/ メタノール＝ 8/1）
＝0.25 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3 ) :7.05-6.
9(3H, m), 6.85-6.75(1H, m), 6.60(2H, d, J= 8.6Hz),
6.27(1H, s), 4.05(2H, t, J= 5.4Hz), 4.0-3.8(2H,
m), 3.3-3.05(2H, m), 3.05-2.9(2H, m),2.9-2.6(6H,
m), 2.20(3H, s), 1.8-1.6(4H, m), 1.6-1.4(2H, m),
1.38(9H, s). マススペクトル m/z: 544[(M+H)+] 赤外線吸収スペクトル （Ｋｂｒ ｐｅｌｌｅｔ） ｃ
ｍ−１：３２３１．１６， ２９４７．５９， ２８６
５．６０， １６１０．７６， １５０９．４８ ．
【０３４２】
【実施例６０】６，８―ジヒドロキシー３―（４―ヒドロキシフェニ
ル）−７−メチルー５―［４―（２―ピペリジニル）エ
トキシベンジル] ―３、４―ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレ
ンー１―オン
【０３４３】
【実施例６０（ａ）】３、５−ジメトキシー４−メチルフェニル酢酸 ３、５ージメトキシー４ーメチル安息香酸１．０ｇ(5.0
mmole)をクロロホルム100ml に溶解し、塩化チオニル0.
6ml(8.2mmole) を滴下し、触媒量のジメチルホルムアミ
ドを加え、１時間加熱還流した。反応終了後溶媒を留去
し、粗酸クロリドを得た。一方、ＮーメチルーＮーニト
ロソウレア5.6g(53mmole) を40mlのエーテルに懸濁し、
０℃で４０％水酸化カリウム水溶液を滴下し激しく攪拌
した。得られた黄色のエーテル層を水酸化カリウムで乾
燥してジアゾメタンのエーテル溶液とした。先に得られ
た酸クロリドをエーテル２０ｍｌに溶解し、これに０℃
で上で作製したジアゾメタンのエーテル溶液を滴下し
た。０℃にて２時間攪拌し、反応終了後溶媒を留去して
粗ジアゾケトン体を得た。酸化銀（２００ｍｇ）、炭酸
カリウム（６００ｍｇ）、次亜硫酸ナトリウム（３００
ｍｇ）を２０ｍｌの水に懸濁し、この懸濁液に先に得た
粗ジアゾケトンを２０ｍｌのジオキサンに溶解した溶液
を室温で滴下した。滴下終了後、反応液を９０℃に加熱
し、２時間攪拌した。反応終了後、水で希釈し、１規定
水酸化ナトリウム水溶液にて反応液を塩基性にした後、
エーテルにて洗浄。ついで水層を濃塩酸で酸性とし酢酸
エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、標記化合物８３
７ｍｇ（％）を得た。 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3 ) :6.46 (2
H, s), 3.81(6H, s), 3.61(2H,s), 2.06(3H,s)
【０３４４】
【実施例６０（ｂ）】２−（３，５−ジメトキシー４−メチルフェニル）−１
−（４−メトキシフェニル）エチルケトン ３、５ージメトキシー４ーメチルフェニル酢酸２．３ｇ
（１１ｍｍｏｌｅ）をクロロホルム１００ｍｌに懸濁
し、塩化チオニル（１３．７ｍｍｏｌｅ）を滴下し、触
媒量のジメチルホルムアミドを加え１時間加熱還流し
た。反応終了後、溶媒を留去し、粗酸クロリドを得た。
これをアニソール２０ｍｌに溶解し、細かく粉砕した三
塩化アルミ（１８．７ｍｍｏｌｅ）を０℃で加えた。添
加終了後、室温まで昇温し、２時間攪拌した。反応終了
後、０℃にて水を加えて反応を停止し、反応液に酢酸エ
チルを加えて、抽出した。有機層を水、飽和重曹水、飽
和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶
媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝８：１）を用い
て、精製し標記化合物１．６ｇ（４７％）を得た。 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3 ) :8.06(2
H, d, J=8.8), 6.92(2H, d, J=8.8), 6.43(2H, s), 4.1
8(2H, s), 3.86(3H, s), 3.79(6H, s), 2.04(3H, s)
【０３４５】
【実施例６０（ｃ）】４−（３，５−ジメトキシー４−メチルフェニル）−３
−（４−メトキシフェニル）ブタン酸エチルエステル ２−（３，５−ジメトキシー４−メチルフェニル）−１
−（４−メトキシフェニル）エチルケトン１．５５ｇ
（５．１ｍｍｏｌｅ）をジエチルホスホノ酢酸エチルエ
ステル１４ｍｌに溶解し、水素化ナトリウム１．７７ｇ
（含量７０％）を加えた。添加終了後、反応液を１２０
℃まで昇温し２時間攪拌した。冷後、水を滴下した反応
を停止し、酢酸エチルで希釈し抽出した。有機層を飽和
食塩水にて洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を留
去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）
で精製後、メタノール１００ｍｌに溶解し、これに１０
％パラジウム炭素１３０ｍｇを加え、常圧室温にて水素
添加を行なった。２時間攪拌後、反応液をセライトを用
いて濾過し、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢
酸エチル＝１０：１）にて精製し、標記化合物１．７３
ｇ（９０％）を得た。 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3 ) :7.07(2
H, d, J=8.7), 6.80(2H, d, J=8.7), 6.17(2H, s), 4.0
0(2H, q, J=7.0),3.77(3H, s), 3,71(6H, s), 3.41-3.3
0(1H,m), 2.85-2.82(2H, m), 2.70-2.51(2H, m), 2.02
(3H, s), 1.12(3H, t, J=7.0)
【０３４６】
【実施例６０（ｄ）】４−[ ３、５―ジメトキシー２―（４―メタンスルフォ
ニルオキシベンジル）―４―メチルフェニル] ―３―
（４―メトキシフェニル）ブタン酸エチルエステル ４−（３，５−ジメトキシー４−メチルフェニル）−３
−（４−メトキシフェニル）ブタン酸エチルエステル
６１１ｍｇ（１．６ｍｍｏｌｅ）をジクロロメタン６０
ｍｌに溶解し、これに、４ーメタンスルフォニルオキシ
ベンジルブロミド６６３ｍｇ（２．５ｍｍｏｌｅ）、過
塩素酸銀１．７４ｇを加え、０℃にて４時間攪拌した。
反応終了後、反応液を酢酸エチルで希釈し、有機層を
水、飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムを用いて
乾燥後溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル
＝３：１）で精製し標記化合物４０８．９ｍｇ（４４
％）を得た。 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3 ) :7.19-7.
03(4H, m), 6.93(2H, d, J=8.7), 6.77(2H, d, J=8.7),
4.05-3.85(4H,m), 3.75(3H, s), 3.66(3H, s), 3.52(3
H, s), 3.30-3.14(1H,m ), 3.07(3H, s), 2.90-2.45(4
H,m ), 2.11(3H, s), 1.09(3H, t, J=7.1)
【０３４７】
【実施例６０（ｅ）】６、８―ジヒドロキシー３―（４―ヒドロキシフェニ
ル）―５―（４―メタンスルフォニルオキシベンジル）
―７―メチルー３、４―ジヒドロー２Ｈ−ナフタレン−
１−オン ４−[ ３、５−ジメトキシ−２−（４−メタンスルフォ
ニルオキシベンジル）−４−メチルフェニル] −３−
（４−メトキシフェニル）ブタン酸エチルエステル408.
9mg(0.73mmole)をジクロロメタン40mlに溶解し-78 ℃に
て三臭化ホウ素の1.0Mジクロロメタン溶液14mlを滴下し
た。滴下終了後、室温まで昇温し、１２時間攪拌した。
再び−７８℃に冷却し、メタノールを滴下して反応を停
止した。室温まで昇温後、酢酸エチルで希釈し、有機層
を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した
後、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル
＝２：１）で精製し、標記化合物282.3mg(82%)を得た。 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3 ) :7.12(4
H, s), 6.97(2H, d, J=8.5), 6.69(2H, d, J=8.5), 4.0
0(2H, s), 3.12(3H, s), 3.09-3.00(2H, m), 2.82-2.61
(3H, m), 2.09(3H, s)
【０３４８】
【実施例６０（ｆ）】6、8-ビスベンジルオキシ−３−（４−ベンジルオキシフ
ェニル）−５−（４−メタンスルフォニルオキシベンジ
ル）−７−メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレ
ン−１−オン ６、８―ジヒドロキシー３―（４―ヒドロキシフェニ
ル）―５―（４―メトキシベンジル）―７―メチルー
３、４―ジヒドロー２Ｈ−ナフタレン−１−オン104mg
(0.22mmole)をジクロロメタン10mlに溶解し、18-6クラ
ウンエーテル358mg(1.35mmole)を加え、０℃にて炭酸カ
リウム167.5mg(1.2mmole) 、ベンジルブロミド(4.2mmol
e)を加えた。添加終了後、室温まで昇温し、１０時間攪
拌した。反応終了後、酢酸エチルで希釈し、有機層を
水、飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し
溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝
３：１）で精製し、標記化合物75mg(46%) を得た。 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3 ) :7.58-7.
28(15H, m), 7.14(2H, d, J=8.6), 7.07-7.03(4H, m),
6.91(2H, d, J=8.6), 5.04-4.91(4H, m), 4.71(2H, s),
4.06(2H, s), 3.28-3.10(2H, m), 3.07(3H, s), 2.91-
2.69(3H, m), 2.26(3H, s) ．
【０３４９】
【実施例６０（ｇ）】6、8-ビスベンジルオキシ−３−（４−ベンジルオキシフ
ェニル）−５−（４−ヒドロキシベンジル）−７−メチ
ル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オン 6、8-ビスベンジルオキシ−３−（４−ベンジルオキシフ
ェニル）−５−（４−メタンスルフォニルオキシベンジ
ル）−７−メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレ
ン−１−オン75mg(0.1mmole)をエタノール10mlに懸濁
し、１規定水酸化ナトリウム水溶液4ml を滴下した後、
４時間加熱還流した。反応終了後、反応液を酢酸エチル
で希釈し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：
酢酸エチル＝４：１）で精製し、標記化合物60.5mg(89
%) を得た。 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3 ) :7.57-7.
23(15H, m), 7.06(2H, d, J=8.6), 6.92-6.86(4H, m),
6.69(2H, d, J=8.6), 5.03-4.91(4H, m), 4.67(3H, s),
4.02(2H, s), 3.29-3.04(2H, m), 2.94-2.66(2H, m),
2.24(3H, s) ．
【０３５０】
【実施例６０（ｈ）】６、８−ビスベンジルオキシ−３−（４−ベンジルオキ
シフェニル）−７−メチル−５−[ ４−（２−ピペリジ
ニルエトキシ）ベンジル] −３，４−ジヒロ−２Ｈ−１
−オン 6、8-ビスベンジルオキシ−３−（４−ベンジルオキシフ
ェニル）−５−（４−ヒドロキシベンジル）−７−メチ
ル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オン6
0.5mg(0.091mmole)をジクロロメタン10mlに懸濁し、１
８ー６クラウンエーテル(63.1mg)、炭酸カリウム(66.9m
g)、Ｎー（２ークロルエチル）ーピペリジン(300mg) を
加え、室温にて４時間攪拌した。反応終了後、反応液を
酢酸エチルで希釈し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥ご、溶媒を留去した。得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開
溶媒；クロロホルム：メタノール＝２５：１）で精製
し、標記化合物60.7mg(86%) を得た。 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3 ) :7.58-7.
23(15H, m), 7.07(2H, d , J=8.7), 6.95-6.89(4H, m),
6.78(2H, d, J=8.7), 5.04-4.91(4H, m), 4.67(2H,
s), 4.17-3.95(4H, m), 3.30-3.11(2H, m),2.91-2.63(5
H, m), 2.57-2.37(4H, m), 2.25(3H, s), 1.66-1.51(4
H, m), 1.47-1.35(2H, m) ．
【０３５１】
【実施例６０（ｉ）】６，８―ジヒドロキシー３―（４―ヒドロキシフェニ
ル）−７−メチルー５―[４―（２―ピペリジニル）エ
トキシベンジル] ―３、４―ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレ
ンー１―オン ６、８−ビスベンジルオキシ−３−（４−ベンジルオキ
シフェニル）−７−メチル−５−[ ４−（２−ピペリジ
ニルエトキシ）ベンジル] −３，４−ジヒロ−２Ｈ−１
−オン74.6mg(0.096mmole)を酢酸エチル5ml に溶解し、
これにメタノール5ml を加えた。この溶液に１０％パラ
ジウム炭素20mgを加え、常温常圧で加水素分解を行なっ
た。反応終了後、反応液をセライトを用いて濾過し、濾
液を濃縮した。得られた残渣を分取薄層クロマトグフィ
ー（展開溶媒；クロロホルム：メタノール＝２０：１）
で精製し、標記化合物、30.2mg(49%) を得た。 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3 ) :6.97(4
H, d, J=8.6), 6.76(2H, d, J=8.6), 6.68(2H, d, J=8.
6), 4.07(3H, t,J=5.6), 3.93(2H,s), 3.16-3.05(2H,
m), 2.84-2.65(5H, m), 2.62-2.50(4H, m), 2.09(3H,
s), 1.68-1.52(4H, m), 1.52-1.32(2H,m) .
【０３５２】
【実施例６１】６、８ージヒドロキシー３ー（４ーヒドロキシフェニ
ル）ー５ー｛２ー［４ー（２ーピペリジニルエトキシ）
フェニル］エチル｝ー３、４ージヒドロー２Ｈーナフタ
レンー１ーオン
【０３５３】
【実施例６１（ａ）】１ー［５ー（ｔブチルジメチルシラノキシ）ー２、４ー
ビスメトキシメトキシー７ー（４ーメトキシメトキシフ
ェニル）ー７、８ージヒドローナフタレンー１ーイル］
−２−［４ー（ｔブチルジメチルシラノキシ）フェニ
ル］エタノール ５ーブロモー６、８ービスメトキシメトキシー３ー（４
ーメトキシメトキシーフェニル）ー３、４ージヒドロー
２Ｈーナフタレンー１ーオン２０５ｍｇ（０．４２ｍｍ
ｏｌｅ）をテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解し、０
℃、窒素雰囲気下で、リチウムビストリメチルシリルア
ミドの１．０Ｍテトラヒドロフラン溶液２．１ｍｌ
（２．１ｍｍｏｌｅ）を滴下、滴下後０℃にて１０分間
攪拌し、ＴＢＤＭＳＯＴｆ０．４９ｍｌ（２．１ｍｍｏ
ｌｅ）を滴下した。０℃で１時間攪拌後、エーテルで希
釈し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、溶媒を留去し、粗シリルエノールエーテ
ルを得た。これを無水エーテル２０ｍｌに溶解し、窒素
雰囲気下、ー７８℃にてブチルリチウムの１．６Ｍヘキ
サン溶液２．６ｍｌ（４．１６ｍｍｏｌｅ）を滴下し
た。ー７８℃にて１０分間攪拌後、（４ーｔブチルジメ
チルシラノキシーフェニル）ーアセトアルデヒド１ｇ
（４．１ｍｍｏｌｅ）をエーテル５ｍｌに溶解した溶液
を滴下した。ー７８℃にて３時間攪拌し、飽和食塩水を
滴下して反応を停止した。エーテルで反応液を希釈し、
有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥
し溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝
１０：１）で精製し、標記化合物を２１３．９ｍｇ（６
５％）得た。 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3 ) :7.14-7.
01 2H(2H,m), 7.00-6.89(3H,m), 6.88-6.72(m,2H), 6.6
8-6.58(m,2H), 5.30-4.93(m,7H), 3.65-3.87(m,1H), 3.
55-3.40(10H,m), 3.14-2.80(3H,m), 2.45-2.33(1H,m),
1.00-0.85(18H,m),.0.20-0.06(12H,m)
【０３５４】
【実施例６１（ｂ）】５ー｛２ー［４ー（ｔブチルジメチルシラノキシ）フェ
ニル］ビニル｝ー６、８ービスメトキシメトキシー３ー
（４ーメトキシメトキシフェニル）ー３、４ージヒドロ
ー２Ｈ−ナフタレンー１ーオン １ー［５ー（ｔブチルジメチルシラノキシ）ー２、４ー
ビスメトキシメトキシー７ー（４ーメトキシメトキシフ
ェニル）ー７、８ージヒドロナフタレンー１ーイル］−
２−［４ー（ｔブチルジメチルシラノキシ）フェニル］
エタノール１６２．９ｍｇ（０．２１ｍｍｏｌｅ）をメ
タノール２０ｍｌに溶解し、ピリジニウムパラトルエン
スルフォン酸２９．１ｍｇを０℃、窒素雰囲気下で加
え、室温に昇温し、１時間攪拌した。反応液を酢酸エチ
ルで希釈し、有機層を飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄
後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。得ら
れた残渣をクロロホルム１６ｍｌに溶解し、トリエチル
アミン１ｍｌ、メタンスルフォニルクロリド４０μｌを
窒素雰囲気下０℃で滴下した。滴下終了後、５０℃まで
昇温し、１時間攪拌。反応液を酢酸エチルで希釈し、有
機層を水、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄したのち、硫
酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；
ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製し、標記化合物
４８．１ｍｇ（３５％）を得た。核磁気共鳴スペクトル
δppm(270MHz, CDCl3 ) :7.32(2H, d, J=8.5), 7.18(2
H, d, J=8.6), 7.00(2H, d, J=8.6), 6.92(1H,s),6.86
(1H, d, J=16.5), 6.80(2H, d, J=8.5), 6.74(1H, d, J
=16.5), 5.28(2H, s), 5.25(2H,s), 5.15(2H,s), 3.55
(3H,s), 3.48(3H,s),. 3.47(3H,s), 3.45-3.12(2H,m),
3.01-2.76(3H, m), 0.98(9H,s), 0.19(6H,s)
【０３５５】
【実施例６１（ｃ）】５ー［２ー（４ーヒドロキシフェニル）エチル］ー６、
８ービスメトキシメトキシー３ー（４ーメトキシメトキ
シフェニル）ー３、４ージヒドロー２Ｈ−ナフタレンー
１ーオン ５ー｛２ー［４ー（ｔブチルジメチルシラノキシ）フェ
ニル］ビニル｝ー６、８ービスメトキシメトキシー３ー
（４ーメトキシメトキシフェニル）ー３、４ージヒドロ
ー２Ｈ−ナフタレンー１ーオン４８．１ｍｇ（０．０７
６ｍｍｏｌｅ）を酢酸エチル２０ｍｌに溶解し、１０％
パラジウム炭素３５．９ｍｇを加え、水素に置換した。
室温で１時間攪拌後、セライトを用いて濾過し、溶媒を
留去した。得られた残渣をテトラヒドロフラン１０ｍｌ
に溶解し、トリブチルアンモニウムフルオライドの１．
０Ｍテトラヒドロフラン溶液０．１ｍｌを滴下後、室温
で数分間攪拌した。酢酸エチルで反応液を希釈し、有機
層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒を留去し得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝
２：１）で精製して、標記化合物２７．２ｍｇ（６９
％）を得た。 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3 ) :7.11(2
H, d, J=8.8), 7.01(2H,d,J=8.8), 6.90(2H,d,J=8.4),
6.88(1H,s), 6.71(2H,d,J=8.4), 5.25(2H,s), 5.23(2H,
s), 5.17(2H,s), 3.53(3H,s), 3.49(6H,s), 3.18-2.94
(2H,m), 2.93-2.43(7H,m)
【０３５６】
【実施例６１（ｄ）】６、８ービスメトキシメトキシー３ー（４ーメトキシメ
トキシフェニル）ー５ー｛２ー［４ー（２ーピペリジニ
ルエトキシ）フェニル］エチル｝ー３、４ージヒドロー
２Ｈーナフタレンー１ーオン ５ー［２ー（４ーヒドロキシフェニル）エチル］ー６、
８ービスメトキシメトキシー３ー（４ーメトキシメトキ
シフェニル）ー３、４ージヒドロー２Ｈ−ナフタレンー
１ーオン２７．２ｍｇ（０．０５２ｍｍｏｌｅ）をジメ
チルホルムアミド２ｍｌに溶解し、炭酸カリウム５９ｍ
ｇ（０．４３ｍｍｏｌｅ）、Ｎー（２ークロルエチル）
ピペリジン塩酸塩２６．４ｍｇ（０．１４ｍｍｏｌｅ）
を加え、窒素雰囲気下８０℃にて５時間攪拌した。反応
液を酢酸エチルで希釈し、有機層を飽和食塩水で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。得ら
れた残渣を分取薄層クロマトグフィー（展開溶媒；クロ
ロホルム：メタノール＝１０：１）で精製し、標記化合
物２５．５ｍｇ（７７％）得た。 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3 ) :7.10(2
H,d,J=8.6), 7.00(2H,d,J=8.6), 6.98(2H,d,J=8.6), 6.
88(1H,s), 6.78(2H, d,J=8.6), 5.25(2H,s), 5.23(2H,
s), 5.18(2H,s), 4.07(1H,t,J=6.1), 3.55(3H,s), 3.49
(6H,s), 3.20-2.97(2H,m), 2.95-2.63(9H,m), 2.61-2.4
5(4H,m), 1.70-1.54(4H,m), 1.48-1.40(2H,m)
【０３５７】
【実施例６１（ｅ）】６、８ージヒドロキシー３ー（４ーヒドロキシフェニ
ル）ー５ー｛２ー［４ー（２ーピペリジニルエトキシ）
フェニル］エチル｝ー３、４ージヒドロー２Ｈーナフタ
レンー１ーオン ６、８ービスメトキシメトキシー３ー（４ーメトキシメ
トキシフェニル）ー５ー｛２ー［４ー（２ーピペリジニ
ルエトキシ）フェニル］エチル｝ー３、４ージヒドロー
２Ｈーナフタレンー１ーオン２５．５ｍｇ（０．０４ｍ
ｍｏｌｅ）をメタノール４ｍｌに溶解し、これに塩化水
素メタノール溶液２ｍｌを滴下し、室温にて２４時間攪
拌した。反応終了後溶媒を留去し、得られた残渣を分取
薄層クロマトグフィー（展開溶媒；クロロホルム：メタ
ノール＝１０：１）で精製し、標記化合物１６．４ｍｇ
（８１％）を得た。 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CD3OD ) :6.97(2
H,d, J=8.5), 6.96(2H,d, J=8.5), 6.83(2H, d, J=8.
5), 6.73(2H,d,j=8.5), 6.22(1H,s), 4.27(2H,m), 3.67
-3.44(4H,m), 3.32-2.91(2H,m), 2.89-2.55(2H,m), 2.5
3-2.29(1H,m), 1.94-1.74(4H,m), 1.73-1.44(2H,m)
【０３５８】
【実施例６２】６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−｛２−［４−２−ピペリジニルエトキシ）フ
ェニル］ビニル｝−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１−オン
【０３５９】
【実施例６２（ａ）】６、８ービスメトキシメトキシー３ー（４ーメトキシメ
トキシフェニル）ー５ー｛２ー［４ー（２ーピペリジニ
ルエトキシ）フェニル］ビニル｝−３，４−ジヒドロ−
２Ｈ−ナフタレン−１−オン ５ー｛２ー［４ー（ｔブチルジメチルシラノキシ）フェ
ニル］ビニル｝ー６、８ービスメトキシメトキシー３ー
（４ーメトキシメトキシフェニル）ー３、４ージヒドロ
ー２Ｈ−ナフタレンー１ーオン１７．７ｍｇ（０．０２
７ｍｍｏｌｅ）をテトラヒドロフラン４ｍｌに溶解し、
テトラブチルアンモニウムフルオライドの１．０Ｍテト
ラヒドロフラン溶液０．２ｍｌを室温、窒素雰囲気下で
滴下した。滴下後、室温にて１０分間攪拌し、酢酸エチ
ルで反応液を希釈し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。得ら
れた残渣をジメチルホルムアミド４ｍｌに溶解し、炭酸
カリウム５３．９ｍｇ（０．３８ｍｍｏｌｅ）、Ｎ−
（２−クロロエチル）ピペリジン塩酸塩２３．７ｍｇ
（０．１２ｍｍｏｌｅ）を加え、窒素雰囲気下８０℃に
て３時間攪拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、有機
層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥
し溶媒を留去した。得られた残渣を分取薄層クロマトグ
フィー（展開溶媒；クロロホルム：メタノール＝１０：
１）にて精製し、標記化合物１１．５ｍｇ（６５％）を
得た。 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CDCl3 ) :7.38(2
H,d, J=8.6), 7.18(2H,d, J=8.6), 7.00(2H, d, J=8.
6), 6.92(1H,s), 6.88(2H,d,J=8.6), 6.86(1H, d, J=1
6.5), 6.74(1H, d, J=16.5), 5.28(2H,s), 5.25(2H,s),
5.15(2H,s), 4.13(2H,t,J=6.0), 3.56(3H,s), 3.48(3
H,s), 3.47(3H,s), 3.44-3.16(2H,m), 3.00-2.88(1H,
m), 2.84-2.76(4H,m), 2.61-2.46(4H,m),1.67-1.58(4H,
m), 1.51-1.39(2H,m)
【０３６０】
【実施例６２（ｂ）】６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−５−｛２−［４−２−ピペリジニルエトキシ）フ
ェニル］ビニル｝−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１−オン ６、８ービスーメトキシメトキシー３ー（４ーメトキシ
メトキシフェニル）ー５ー｛２ー［４ー（２ーピペリジ
ニルエトキシ）フェニル］ビニル｝−３，４−ジヒドロ
−２Ｈ−ナフタレン−１−オン１１．６ｍｇ（０．０１
８ｍｍｏｌｅ）をメタノール４ｍｌに溶解し、塩化水素
メタノール溶液４ｍｌを滴下して、窒素雰囲気下で１０
時間攪拌した。溶媒を留去し得られた残渣を分取薄層ク
ロマトグフィー（展開溶媒；クロロホルム：メタノール
＝５：１）で精製し、標記化合物８．７ｍｇ（９５％）
を得た。 核磁気共鳴スペクトルδppm(270MHz, CD3OD ) :7.36(2
H,d,J=8.6), 7.11(2H, d, J=8.6), 6.93(1H, d, J=16.
5), 6.86(2H, d, J=8.6), 6.85(1H, d, J=16.5), 6.73
(2H, d, J=8.6), 6.23(1H,s), 4.16-4.05(2H,m), 3.26-
3.12(2H,m), 3.05-2.77(4H,m), 2.75-2.61(5H, m), 1.7
1-1.61(4H, m), 1.57-1.43(2H,m) 上記の実施例に記載した方法と同様にして、以下の表に
挙げた化合物を製造することができる。
【０３６１】下記表中、Ｍｅは、メチル基を、Ｅｔは、
エチル基を、Ｐｒは、ｎ−プロピル基を、ｉＰｒは、イ
ソプロピル基を、Ｂｕは、ｎ−ブチル基を、ｉＢｕは、
イソブチル基を、ｓＢｕは、ｓ−ブチル基を、ｔＢｕ
は、tert−ブチル基を、基１は、ピロリジル基を、基２
は、ピペリジル基を、基３は、ペルヒドロアゼピニル基
を、基４は、ペルヒドロアゾシニル基を、基５は、ペル
ヒドロアゾニル基を、基６は、ペルヒドロアゼシニル基
を、基７は、アザウンデカニル基を、基２Ｍ１（ａ）
は、ａ−メチルピペリジル基を、基２Ｍ２（ａ，ｂ）
は、ａ，ｂ−ジメチルピペリジル基を、基２Ｍ３（ａ，
ｂ，ｃ）は、ａ，ｂ，ｃ−トリメチルピペリジル基を、
基２Ｅ１（ａ）は、ａ−エチルピペリジル基を、基２Ｅ
２（ａ，ｂ）は、ａ，ｂ−ジエチルピペリジル基を、基
３Ｍ１（ａ）は、ａ−メチルペルヒドロアゼピニル基
を、基３Ｍ２（ａ，ｂ）は、ａ，ｂ−ジメチルペルヒド
ロアゼピニル基を、基３Ｍ３（ａ，ｂ，ｃ）は、ａ，
ｂ，ｃ−トリメチルペルヒドロアゼピニル基を、基２Ｂ
ｚ（ａ）は、ａ−ベンジルピペリジル基を、ＰＩｎは、
ペルヒドロインドリル基を、ＰＩＱは、ペルヒドロイソ
キノリル基を、基２Ｐｈ（ａ）は、ａ−フェニルピペリ
ジル基を、ＤＨＱは、ジヒドロキノリル基を、ＡＳＵ
は、３ーアザスピロ［５，５］ウンデカニルを、Ｉｎｄ
は、インドリニル基を、ＭＡｎは、メチルアニリル基
を、ＡＢＮは、３ーアザビシクロ[3,2,2] ノニル基を示
す。
【０３６２】
【化２０】
【０３６３】
【表１】上記式中、Ｅはメチレン基を示し、Ｊはメチレ
ン基、エチレン基、エテニレン基、カルボニル基又はカ
ルボニルメチレン基を示す。
【０３６４】 ─────────────────────────────────── 化合物番号 Ｒ1 Ｒ2 Ｒ6 Ａ ｎ ─────────────────────────────────── 1 ＯＨ Ｈ Ｈ Ｏ １ 2 ＣＯＯＭｅ Ｈ Ｈ Ｏ １ 3 ＣＯＮＢｕＭｅ Ｈ Ｈ Ｏ １ 4 ＣＯＯＨ Ｈ Ｈ Ｏ １ 5 ＮＨ2 Ｈ Ｈ Ｏ １ 6 ＮＭｅ2 Ｈ Ｈ Ｏ １ 7 ＮＥｔ2 Ｈ Ｈ Ｏ １ 8 Ｎ（ｉＰｒ）2 Ｈ Ｈ Ｏ １ 9 基１ Ｈ Ｈ Ｏ １ 10 基２ Ｈ Ｈ Ｏ １ 11 基３ Ｈ Ｈ Ｏ １ 12 ＯＨ ＯＨ Ｈ Ｏ １ 13 ＣＯＯＭｅ ＯＨ Ｈ Ｏ １ 14 ＣＯＮＢｕＭｅ ＯＨ Ｈ Ｏ １ 15 ＣＯＯＨ ＯＨ Ｈ Ｏ １ 16 ＮＨ2 ＯＨ Ｈ Ｏ １ 17 ＮＭｅ2 ＯＨ Ｈ Ｏ １ 18 ＮＥｔ2 ＯＨ Ｈ Ｏ １ 19 Ｎ（ｉＰｒ）2 ＯＨ Ｈ Ｏ １ 20 基１ ＯＨ Ｈ Ｏ １ 21 基２ ＯＨ Ｈ Ｏ １ 22 基３ ＯＨ Ｈ Ｏ １ 23 ＯＨ ＯＨ ＯＨ Ｏ １ 24 ＣＯＯＭｅ ＯＨ ＯＨ Ｏ １ 25 ＣＯＮＢｕＭｅ ＯＨ ＯＨ Ｏ １ 26 ＣＯＯＨ ＯＨ ＯＨ Ｏ １ 27 ＮＨ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ １ 28 ＮＭｅ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ １ 29 ＮＥｔ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ １ 30 Ｎ（ｉＰｒ）2 ＯＨ ＯＨ Ｏ １ 31 基１ ＯＨ ＯＨ Ｏ １ 32 基２ ＯＨ ＯＨ Ｏ １ 33 基３ ＯＨ ＯＨ Ｏ １ 34 ＯＨ Ｈ Ｈ Ｏ ２ 35 ＣＯＯＭｅ Ｈ Ｈ Ｏ ２ 36 ＣＯＯＥｔ Ｈ Ｈ Ｏ ２ 37 ＣＯＯＨ Ｈ Ｈ Ｏ ２ 38 ＣＯＮＢｕＭｅ Ｈ Ｈ Ｏ ２ 39 ＣＯＮＢｕＥｔ Ｈ Ｈ Ｏ ２ 40 ＣＯＮＭｅ2 Ｈ Ｈ Ｏ ２ 41 ＮＨ2 Ｈ Ｈ Ｏ ２ 42 ＮＨＭｅ Ｈ Ｈ Ｏ ２ 43 ＮＭｅ2 Ｈ Ｈ Ｏ ２ 44 ＮＥｔ2 Ｈ Ｈ Ｏ ２ 45 ＮＨＰｒ Ｈ Ｈ Ｏ ２ 46 ＮＰｒ2 Ｈ Ｈ Ｏ ２ 47 Ｎ（ｉＰｒ）2 Ｈ Ｈ Ｏ ２ 48 ＮＢｕ2 Ｈ Ｈ Ｏ ２ 49 Ｎ（ｉＢｕ）2 Ｈ Ｈ Ｏ ２ 50 Ｎ（ｓＢｕ）2 Ｈ Ｈ Ｏ ２ 51 Ｎ（ｔＢｕ）2 Ｈ Ｈ Ｏ ２ 52 基１ Ｈ Ｈ Ｏ ２ 53 基２ Ｈ Ｈ Ｏ ２ 54 基２Ｍ１(2) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 55 基２Ｍ１(3) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 56 基２Ｍ１(4) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 57 基２Ｍ２(2,2) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 58 基２Ｍ２(2,3) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 59 基２Ｍ２(2,4) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 60 基２Ｍ２(2,5) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 61 基２Ｍ２(2,6) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 62 基２Ｍ２(3,3) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 63 基２Ｍ２(3,4) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 64 基２Ｍ２(3,5) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 65 基２Ｍ２(4,4) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 66 基２Ｍ３(2,3,4) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 67 基２Ｍ３(2,4,6) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 68 基２Ｅ１(2) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 69 基２Ｅ１(3) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 70 基２Ｅ１(4) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 71 基２Ｅ２(2,2) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 72 基２Ｅ２(2,4) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 73 基２Ｅ２(2,5) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 74 基２Ｅ２(2,6) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 75 基３ Ｈ Ｈ Ｏ ２ 76 基４ Ｈ Ｈ Ｏ ２ 77 基５ Ｈ Ｈ Ｏ ２ 78 基６ Ｈ Ｈ Ｏ ２ 79 ＯＨ ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 80 ＣＯＯＭｅ ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 81 ＣＯＯＥｔ ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 82 ＣＯＯＨ ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 83 ＣＯＮＢｕＭｅ ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 84 ＣＯＮＢｕＥｔ ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 85 ＣＯＮＭｅ2 ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 86 ＮＨ2 ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 87 ＮＨＭｅ ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 88 ＮＭｅ2 ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 89 ＮＥｔ2 ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 90 ＮＨＰｒ ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 91 ＮＰｒ2 ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 92 Ｎ（ｉＰｒ）2 ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 93 ＮＢｕ2 ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 94 Ｎ（ｉＢｕ）2 ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 95 Ｎ（ｓＢｕ）2 ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 96 Ｎ（ｔＢｕ）2 ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 97 基１ ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 98 基２ ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 99 基２Ｍ１(2) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 100 基２Ｍ１(3) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 101 基２Ｍ１(4) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 102 基２Ｍ２(2,2) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 103 基２Ｍ２(2,3) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 104 基２Ｍ２(2,4) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 105 基２Ｍ２(2,5) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 106 基２Ｍ２(2,6) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 107 基２Ｍ２(3,3) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 108 基２Ｍ２(3,4) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 109 基２Ｍ２(3,5) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 110 基２Ｍ２(4,4) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 111 基２Ｍ３(2,3,4) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 112 基２Ｍ３(2,4,6) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 113 基２Ｅ１(2) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 114 基２Ｅ１(3) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 115 基２Ｅ１(4) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 116 基２Ｅ２(2,2) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 117 基２Ｅ２(2,4) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 118 基２Ｅ２(2,5) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 119 基２Ｅ２(2,6) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 120 基３ ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 121 基３Ｍ１(2) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 122 基３Ｍ１(3) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 123 基３Ｍ１(4) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 124 基３Ｍ２(2,2) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 125 基３Ｍ２(2,3) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 126 基３Ｍ２(2,4) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 127 基３Ｍ２(2,5) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 128 基３Ｍ２(2,6) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 129 基３Ｍ２(2,7) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 130 基３Ｍ３(2,2,3) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 131 基３Ｍ３(2,3,4) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 132 基３Ｍ３(2,3,3) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 133 基３Ｍ３(2,4,4) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 134 基３Ｍ３(2,3,5) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 135 基３Ｍ３(2,3,6) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 136 基３Ｍ３(2,3,7) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 137 基４ ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 138 基５ ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 139 基６ ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 140 基７ ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 141 ＯＨ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 142 ＣＯＯＭｅ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 143 ＣＯＯＥｔ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 144 ＣＯＯＨ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 145 ＣＯＮＢｕＭｅ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 146 ＣＯＮＢｕＥｔ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 147 ＣＯＮＭｅ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 148 ＮＨ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 149 ＮＨＭｅ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 150 ＮＭｅ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 151 ＮＥｔ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 152 ＮＨＰｒ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 153 ＮＰｒ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 154 Ｎ（ｉＰｒ）2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 155 ＮＢｕ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 156 Ｎ（ｉＢｕ）2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 157 Ｎ（ｓＢｕ）2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 158 Ｎ（ｔＢｕ）2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 159 基１ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 160 基２ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 161 基２Ｍ１(2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 162 基２Ｍ１(3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 163 基２Ｍ１(4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 164 基２Ｍ２(2,2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 165 基２Ｍ２(2,3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 166 基２Ｍ２(2,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 167 基２Ｍ２(2,5) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 168 基２Ｍ２(2,6) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 169 基２Ｍ２(3,3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 170 基２Ｍ２(3,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 171 基２Ｍ２(3,5) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 172 基２Ｍ２(4,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 173 基２Ｍ３(2,3,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 174 基２Ｍ３(2,4,6) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 175 基２Ｅ１(2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 176 基２Ｅ１(3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 177 基２Ｅ１(4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 178 基２Ｅ２(2,2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 179 基２Ｅ２(2,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 180 基２Ｅ２(2,5) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 181 基２Ｅ２(2,6) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 182 基３ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 183 基３Ｍ１(2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 184 基３Ｍ１(3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 185 基３Ｍ１(4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 186 基３Ｍ２(2,2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 187 基３Ｍ２(2,3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 188 基３Ｍ２(2,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 189 基３Ｍ２(2,5) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 190 基３Ｍ２(2,6) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 191 基３Ｍ２(2,7) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 192 基３Ｍ３(2,2,3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 193 基３Ｍ３(2,3,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 194 基３Ｍ３(2,3,3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 195 基３Ｍ３(2,4,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 196 基３Ｍ３(2,3,5) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 197 基３Ｍ３(2,3,6) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 198 基３Ｍ３(3,3,5) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 199 基４ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 200 基５ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 201 基６ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 202 基７ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 203 基２Ｂｚ(2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 204 基２Ｂｚ(3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 205 基２Ｂｚ(4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 206 ＰＩｎ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 207 ＰＩＱ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 208 基２Ｐｈ(2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 209 基２Ｐｈ(3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 210 基２Ｐｈ(4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 211 ＤＨＱ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 212 ＡＳＵ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 213 Ｉｎｄ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 214 ＭＡｎ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 215 ＡＢＮ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 216 ＮＨＭｅ Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 217 ＮＭｅ2 Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 218 ＮＥｔ2 Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 219 ＮＨＰｒ Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 220 ＮＰｒ2 Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 221 Ｎ（ｉＰｒ）2 Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 222 ＮＢｕ2 Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 223 Ｎ（ｉＢｕ）2 Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 224 Ｎ（ｓＢｕ）2 Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 225 Ｎ（ｔＢｕ）2 Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 226 基１ Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 227 基２ Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 229 基２Ｍ１(3) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 230 基２Ｍ１(4) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 231 基２Ｍ２(2,2) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 232 基２Ｍ２(2,3) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 233 基２Ｍ２(2,4) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 234 基２Ｍ２(2,5) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 235 基２Ｍ２(2,6) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 236 基２Ｍ２(3,3) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 237 基２Ｍ２(3,4) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 238 基２Ｍ２(3,5) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 239 基２Ｍ２(4,4) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 240 基２Ｍ３(2,3,4) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 241 基２Ｍ３(2,4,6) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 242 基２Ｅ１(2) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 243 基２Ｅ１(3) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 244 基２Ｅ１(4) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 245 基２Ｅ２(2,2) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 246 基２Ｅ２(2,4) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 247 基２Ｅ２(2,5) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 248 基２Ｅ２(2,6) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 249 基３ Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 250 基３Ｍ１(2) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 251 基３Ｍ１(3) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 252 基３Ｍ１(4) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 253 基３Ｍ２(2,2) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 254 基３Ｍ２(2,3) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 255 基３Ｍ２(2,4) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 256 基３Ｍ２(2,5) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 257 基３Ｍ２(2,6) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 258 基３Ｍ２(2,7) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 259 基３Ｍ３(2,2,3) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 260 基３Ｍ３(2,3,4) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 261 基３Ｍ３(2,3,3) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 262 基３Ｍ３(2,4,4) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 263 基３Ｍ３(2,3,5) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 264 基３Ｍ３(2,3,6) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 265 基３Ｍ３(3,3,5) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 266 基４ Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 267 基５ Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 268 基６ Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 269 基７ Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 270 基２Ｂｚ(2) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 271 基２Ｂｚ(3) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 272 基２Ｂｚ(4) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 273 ＰＩｎ Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 274 ＰＩＱ Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 275 基２Ｐｈ(2) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 276 基２Ｐｈ(3) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 277 基２Ｐｈ(4) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 278 ＤＨＱ Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 279 ＡＳＵ Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 280 Ｉｎｄ Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 281 ＭＡｎ Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 282 ＡＢＮ Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 283 ＮＨＭｅ ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 284 ＮＭｅ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 285 ＮＥｔ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 287 ＮＰｒ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 288 Ｎ（ｉＰｒ）2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 289 Ｎ（Ｂｕ）2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 290 Ｎ（ｉＢｕ）2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 291 Ｎ（ｓＢｕ）2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 292 Ｎ（ｔＢｕ）2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 293 基１ ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 294 基２Ｍ ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 295 基２Ｍ１(2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 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基２Ｍ２(2,6) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 437 基２Ｍ２(3,3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 438 基２Ｍ２(3,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 439 基２Ｍ２(3,5) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 440 基２Ｍ２(4,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 441 基２Ｍ３(2,3,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 442 基２Ｍ３(2,4,6) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 443 基２Ｅ１(2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 444 基２Ｅ１(3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 445 基２Ｅ１(4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 446 基２Ｅ２(2,2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 447 基２Ｅ２(2,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 448 基２Ｅ２(2,5) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 449 基２Ｅ２(2,6) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 450 基３ ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 451 基３Ｍ１(2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 452 基３Ｍ１(3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 453 基３Ｍ１(4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 454 基３Ｍ２(2,2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 455 基３Ｍ２(2,3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 456 基３Ｍ２(2,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 457 基３Ｍ２(2,5) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 458 基３Ｍ２(2,6) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 459 基３Ｍ２(2,7) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 460 基３Ｍ３(2,2,3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 461 基３Ｍ３(2,3,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 462 基３Ｍ３(2,3,3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 463 基３Ｍ３(2,4,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 464 基３Ｍ３(2,3,5) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 465 基３Ｍ３(2,3,6) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 466 基３Ｍ３(3,3,5) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 467 基４ ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 468 基５ ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 469 基６ ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 470 基７ ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 471 基２Ｂｚ(2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 472 基２Ｂｚ(3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 473 基２Ｂｚ(4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 474 ＰＩｎ ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 475 ＰＩＱ ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 476 基２Ｐｈ(2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 477 基２Ｐｈ(3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 478 基２Ｐｈ(4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 479 ＤＨＱ ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 480 ＡＳＵ ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 481 Ｉｎｄ ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 482 ＭＡｎ ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 483 ＡＢＮ ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 484 ＯＨ Ｈ Ｈ Ｈ ４ 485 ＣＯＯＭｅ Ｈ Ｈ Ｏ ５ 486 ＣＯＮＢｕＭｅ Ｈ Ｈ Ｏ ５ 487 ＣＯＯＨ Ｈ Ｈ Ｏ ５ 488 ＮＨ2 Ｈ Ｈ Ｏ ５ 489 ＮＭｅ2 Ｈ Ｈ Ｏ ５ 490 ＮＥｔ2 Ｈ Ｈ Ｏ ５ 491 Ｎ（ｉＰｒ）2 Ｈ Ｈ Ｏ ５ 492 基１ Ｈ Ｈ Ｏ ５ 493 基２ Ｈ Ｈ Ｏ ５ 494 基３ Ｈ Ｈ Ｏ ５ 495 ＯＨ ＯＨ Ｈ Ｏ ５ 496 ＣＯＯＭｅ ＯＨ Ｈ Ｏ ５ 497 ＣＯＮＢｕＭｅ ＯＨ Ｈ Ｏ ５ 498 ＣＯＯＨ ＯＨ Ｈ Ｏ ５ 499 ＮＨ2 ＯＨ Ｈ Ｏ ５ 500 ＮＭｅ2 ＯＨ Ｈ Ｏ ５ 501 ＮＥｔ2 ＯＨ Ｈ Ｏ ５ 502 Ｎ（ｉＰｒ）2 ＯＨ Ｈ Ｏ ５ 503 基１ ＯＨ Ｈ Ｏ ５ 504 基２ ＯＨ Ｈ Ｏ ５ 505 基３ ＯＨ Ｈ Ｏ ５ 506 ＯＨ ＯＨ ＯＨ Ｏ ５ 507 ＣＯＯＭｅ ＯＨ ＯＨ Ｏ ５ 508 ＣＯＮＢｕＭｅ ＯＨ ＯＨ Ｏ ５ 509 ＣＯＯＨ ＯＨ ＯＨ Ｏ ５ 510 ＮＨ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ５ 511 ＮＭｅ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ５ 512 ＮＥｔ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ５ 513 Ｎ（ｉＰｒ）2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ５ 514 基１ ＯＨ ＯＨ Ｏ ５ 515 基２ ＯＨ ＯＨ Ｏ ５ 516 基３ ＯＨ ＯＨ Ｏ ５ 517 ＯＨ Ｈ Ｈ Ｏ ７ 518 ＣＯＯＭｅ Ｈ Ｈ Ｏ ７ 519 ＣＯＮＢｕＭｅ Ｈ Ｈ Ｏ ７ 520 ＣＯＯＨ Ｈ Ｈ Ｏ ７ 521 ＮＨ2 Ｈ Ｈ Ｏ ７ 522 ＮＭｅ2 Ｈ Ｈ Ｏ ７ 523 ＮＥｔ2 Ｈ Ｈ Ｏ ７ 524 Ｎ（ｉＰｒ）2 Ｈ Ｈ Ｏ ７ 525 基１ Ｈ Ｈ Ｏ ７ 526 基２ Ｈ Ｈ Ｏ ７ 527 基３ Ｈ Ｈ Ｏ ７ 528 ＯＨ ＯＨ Ｈ Ｏ ７ 529 ＣＯＯＭｅ ＯＨ Ｈ Ｏ ７ 530 ＣＯＮＢｕＭｅ ＯＨ Ｈ Ｏ ７ 531 ＣＯＯＨ ＯＨ Ｈ Ｏ ７ 532 ＮＨ2 ＯＨ Ｈ Ｏ ７ 533 ＮＭｅ2 ＯＨ Ｈ Ｏ ７ 534 ＮＥｔ2 ＯＨ Ｈ Ｏ ７ 535 Ｎ（ｉＰｒ）2 ＯＨ Ｈ Ｏ ７ 536 基１ ＯＨ Ｈ Ｏ ７ 537 基２ ＯＨ Ｈ Ｏ ７ 538 基３ ＯＨ Ｈ Ｏ ７ 539 ＯＨ ＯＨ ＯＨ Ｏ ７ 540 ＣＯＯＭｅ ＯＨ ＯＨ Ｏ ７ 541 ＣＯＮＢｕＭｅ ＯＨ ＯＨ Ｏ ７ 542 ＣＯＯＨ ＯＨ ＯＨ Ｏ ７ 543 ＮＨ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ７ 544 ＮＭｅ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ７ 545 ＮＥｔ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ７ 546 Ｎ（ｉＰｒ）2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ７ 547 基１ ＯＨ ＯＨ Ｏ ７ 548 基２ ＯＨ ＯＨ Ｏ ７ 549 基３ ＯＨ ＯＨ Ｏ ７ 550 ＯＨ Ｈ Ｈ Ｏ ９ 551 ＣＯＯＭｅ Ｈ Ｈ Ｏ ９ 552 ＣＯＮＢｕＭｅ Ｈ Ｈ Ｏ ９ 553 ＣＯＯＨ Ｈ Ｈ Ｏ ９ 554 ＮＨ2 Ｈ Ｈ Ｏ ９ 555 ＮＭｅ2 Ｈ Ｈ Ｏ ９ 556 ＮＥｔ2 Ｈ Ｈ Ｏ ９ 557 Ｎ（ｉＰｒ）2 Ｈ Ｈ Ｏ ９ 558 基１ Ｈ Ｈ Ｏ ９ 559 基２ Ｈ Ｈ Ｏ ９ 560 基３ Ｈ Ｈ Ｏ ９ 561 ＯＨ ＯＨ Ｈ Ｏ ９ 562 ＣＯＯＭｅ ＯＨ Ｈ Ｏ ９ 563 ＣＯＯＮＢｕＭｅＯＨ Ｈ Ｏ ９ 564 ＣＯＯＨ ＯＨ Ｈ Ｏ ９ 565 ＮＨ2 ＯＨ Ｈ Ｏ ９ 566 ＮＭｅ2 ＯＨ Ｈ Ｏ ９ 567 ＮＥｔ2 ＯＨ Ｈ Ｏ ９ 568 Ｎ（ｉＰｒ）2 ＯＨ Ｈ Ｏ ９ 569 基１ ＯＨ Ｈ Ｏ ９ 570 基２ ＯＨ Ｈ Ｏ ９ 571 基３ ＯＨ Ｈ Ｏ ９ 572 ＯＨ ＯＨ ＯＨ Ｏ ９ 573 ＣＯＯＭｅ ＯＨ ＯＨ Ｏ ９ 574 ＣＯＮＢｕＭｅ ＯＨ ＯＨ Ｏ ９ 575 ＣＯＯＨ ＯＨ ＯＨ Ｏ ９ 576 ＮＨ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ９ 577 ＮＭｅ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ９ 578 ＮＥｔ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ９ 579 Ｎ（ｉＰｒ）2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ９ 580 基１ ＯＨ ＯＨ Ｏ ９ 581 基２ ＯＨ ＯＨ Ｏ ９ 582 基３ ＯＨ ＯＨ Ｏ ９ 583 ＯＨ Ｈ Ｈ Ｏ １１ 584 ＣＯＯＭｅ Ｈ Ｈ Ｏ １１ 585 ＣＯＮＢｕＭｅ Ｈ Ｈ Ｏ １１ 586 ＣＯＯＨ Ｈ Ｈ Ｏ １１ 587 ＮＨ2 Ｈ Ｈ Ｏ １１ 588 ＮＭｅ2 Ｈ Ｈ Ｏ １１ 589 ＮＥｔ2 Ｈ Ｈ Ｏ １１ 590 Ｎ（ｉＰｒ）2 Ｈ Ｈ Ｏ １１ 591 基１ Ｈ Ｈ Ｏ １１ 592 基２ Ｈ Ｈ Ｏ １１ 593 基３ Ｈ Ｈ Ｏ １１ 594 ＯＨ ＯＨ Ｈ Ｏ １１ 595 ＣＯＯＭｅ ＯＨ Ｈ Ｏ １１ 596 ＣＯＮＢｕＭｅ ＯＨ Ｈ Ｏ １１ 597 ＣＯＯＨ ＯＨ Ｈ Ｏ １１ 598 ＮＨ2 ＯＨ Ｈ Ｏ １１ 599 ＮＭｅ2 ＯＨ Ｈ Ｏ １１ 600 ＮＥｔ2 ＯＨ Ｈ Ｏ １１ 601 Ｎ（ｉＰｒ）2 ＯＨ Ｈ Ｏ １１ 602 基１ ＯＨ Ｈ Ｏ １１ 603 基２ ＯＨ Ｈ Ｏ １１ 604 基３ ＯＨ Ｈ Ｏ １１ 605 ＯＨ ＯＨ ＯＨ Ｏ １１ 606 ＣＯＯＭｅ ＯＨ ＯＨ Ｏ １１ 607 ＣＯＮＢｕＭｅ ＯＨ ＯＨ Ｏ １１ 608 ＣＯＯＨ ＯＨ ＯＨ Ｏ １１ 609 ＮＨ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ １１ 610 ＮＭｅ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ １１ 611 ＮＥｔ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ １１ 612 Ｎ（ｉＰｒ）2 ＯＨ ＯＨ Ｏ １１ 613 基１ ＯＨ ＯＨ Ｏ １１ 614 基２ ＯＨ ＯＨ Ｏ １１ 615 基３ ＯＨ ＯＨ Ｏ １１ 616 ＯＨ ＯＨ ＯＨ ＮＨ ２ 617 ＣＯＯＭｅ ＯＨ ＯＨ ＮＨ ２ 618 ＣＯＮＢｕＭｅ ＯＨ ＯＨ ＮＨ ２ 619 ＣＯＯＨ ＯＨ ＯＨ ＮＨ ２ 620 ＮＨ2 ＯＨ ＯＨ ＮＨ ２ 621 ＮＭｅ2 ＯＨ ＯＨ ＮＨ ２ 622 ＮＥｔ2 ＯＨ ＯＨ ＮＨ ２ 623 Ｎ（ｉＰｒ）2 ＯＨ ＯＨ ＮＨ ２ 624 基１ ＯＨ ＯＨ ＮＨ ２ 625 基２ ＯＨ ＯＨ ＮＨ ２ 626 基３ ＯＨ ＯＨ ＮＨＣＯ ２ 627 ＯＨ ＯＨ ＯＨ ＮＨＣＯ ２ 628 ＣＯＯＭｅ ＯＨ ＯＨ ＮＨＣＯ ２ 629 ＣＯＮＢｕＭｅ ＯＨ ＯＨ ＮＨＣＯ ２ 630 ＣＯＯＨ ＯＨ ＯＨ ＮＨＣＯ ２ 631 ＮＨ2 ＯＨ ＯＨ ＮＨＣＯ ２ 632 ＮＭｅ2 ＯＨ ＯＨ ＮＨＣＯ ２ 633 ＮＥｔ2 ＯＨ ＯＨ ＮＨＣＯ ２ 634 Ｎ（ｉＰｒ）2 ＯＨ ＯＨ ＮＨＣＯ ２ 635 基１ ＯＨ ＯＨ ＮＨＣＯ ２ 636 基２ ＯＨ ＯＨ ＮＨＣＯ ２ 637 基３ ＯＨ ＯＨ ＮＨＣＯ ２ ────────────────────────────────────
【０３６５】
【表２】前記式中、Ｅは酸素原子を示し、Ｊはメチレン
基、エチレン基、エテニレン基、カルボニル基又はカル
ボニルメチレン基を示す。
【０３６６】 ──────────────────────────────────── 化合物番号 Ｒ1 Ｒ2 Ｒ6 Ａ ｎ ──────────────────────────────────── 638 ＯＨ Ｈ Ｈ Ｏ １ 639 ＣＯＯＭｅ Ｈ Ｈ Ｏ １ 640 ＣＯＮＢｕＭｅ Ｈ Ｈ Ｏ １ 641 ＣＯＯＨ Ｈ Ｈ Ｏ １ 642 ＮＨ2 Ｈ Ｈ Ｏ １ 643 ＮＭｅ2 Ｈ Ｈ Ｏ １ 644 ＮＥｔ2 Ｈ Ｈ Ｏ １ 645 Ｎ（ｉＰｒ）2 Ｈ Ｈ Ｏ １ 646 基１ Ｈ Ｈ Ｏ １ 647 基２ Ｈ Ｈ Ｏ １ 648 基３ Ｈ Ｈ Ｏ １ 649 ＯＨ ＯＨ Ｈ Ｏ １ 650 ＣＯＯＭｅ ＯＨ Ｈ Ｏ １ 651 ＣＯＮＢｕＭｅ ＯＨ Ｈ Ｏ １ 652 ＣＯＯＨ ＯＨ Ｈ Ｏ １ 653 ＮＨ2 ＯＨ Ｈ Ｏ １ 654 ＮＭｅ2 ＯＨ Ｈ Ｏ １ 655 ＮＥｔ2 ＯＨ Ｈ Ｏ １ 656 Ｎ（ｉＰｒ）2 ＯＨ Ｈ Ｏ １ 657 基１ ＯＨ Ｈ Ｏ １ 658 基２ ＯＨ Ｈ Ｏ １ 659 基３ ＯＨ Ｈ Ｏ １ 660 ＯＨ ＯＨ ＯＨ Ｏ １ 661 ＣＯＯＭｅ ＯＨ ＯＨ Ｏ １ 662 ＣＯＮＢｕＭｅ ＯＨ ＯＨ Ｏ １ 663 ＣＯＯＨ ＯＨ ＯＨ Ｏ １ 664 ＮＨ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ １ 665 ＮＭｅ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ １ 666 ＮＥｔ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ １ 667 Ｎ（ｉＰｒ）2 ＯＨ ＯＨ Ｏ １ 668 基１ ＯＨ ＯＨ Ｏ １ 669 基２ ＯＨ ＯＨ Ｏ １ 670 基３ ＯＨ ＯＨ Ｏ １ 671 ＯＨ Ｈ Ｈ Ｏ ２ 672 ＣＯＯＭｅ Ｈ Ｈ Ｏ ２ 673 ＣＯＯＥｔ Ｈ Ｈ Ｏ ２ 674 ＣＯＯＨ Ｈ Ｈ Ｏ ２ 675 ＣＯＮＢｕＭｅ Ｈ Ｈ Ｏ ２ 676 ＣＯＮＢｕＥｔ Ｈ Ｈ Ｏ ２ 677 ＣＯＮＭｅ2 Ｈ Ｈ Ｏ ２ 678 ＮＨ2 Ｈ Ｈ Ｏ ２ 679 ＮＨＭｅ Ｈ Ｈ Ｏ ２ 680 ＮＭｅ2 Ｈ Ｈ Ｏ ２ 681 ＮＥｔ2 Ｈ Ｈ Ｏ ２ 682 ＮＨＰｒ Ｈ Ｈ Ｏ ２ 683 ＮＰｒ2 Ｈ Ｈ Ｏ ２ 684 Ｎ（ｉＰｒ）2 Ｈ Ｈ Ｏ ２ 685 ＮＢｕ2 Ｈ Ｈ Ｏ ２ 686 Ｎ（ｉＢｕ）2 Ｈ Ｈ Ｏ ２ 687 Ｎ（ｓＢｕ）2 Ｈ Ｈ Ｏ ２ 688 Ｎ（ｔＢｕ）2 Ｈ Ｈ Ｏ ２ 689 基１ Ｈ Ｈ Ｏ ２ 690 基２ Ｈ Ｈ Ｏ ２ 691 基２Ｍ１(2) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 692 基２Ｍ１(3) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 693 基２Ｍ１(4) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 694 基２Ｍ２(2,2) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 695 基２Ｍ２(2,3) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 696 基２Ｍ２(2,4) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 697 基２Ｍ２(2,5) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 698 基２Ｍ２(2,6) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 699 基２Ｍ２(3,3) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 700 基２Ｍ２(3,4) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 701 基２Ｍ２(3,5) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 702 基２Ｍ２(4,4) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 703 基２Ｍ３(2,3,4) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 704 基２Ｍ３(2,4,6) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 705 基２Ｅ１(2) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 706 基２Ｅ１(3) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 707 基２Ｅ１(4) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 708 基２Ｅ２(2,2) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 709 基２Ｅ２(2,4) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 710 基２Ｅ２(2,5) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 711 基２Ｅ２(2,6) Ｈ Ｈ Ｏ ２ 712 基３ Ｈ Ｈ Ｏ ２ 713 基４ Ｈ Ｈ Ｏ ２ 714 基５ Ｈ Ｈ Ｏ ２ 715 基６ Ｈ Ｈ Ｏ ２ 716 ＯＨ ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 717 ＣＯＯＭｅ ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 718 ＣＯＯＥｔ ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 719 ＣＯＯＨ ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 720 ＣＯＮＢｕＭｅ ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 721 ＣＯＮＢｕＥｔ ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 722 ＣＯＮＭｅ2 ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 723 ＮＨ2 ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 724 ＮＨＭｅ ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 725 ＮＭｅ2 ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 726 ＮＥｔ2 ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 727 ＮＨＰｒ ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 728 ＮＰｒ2 ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 729 Ｎ（ｉＰｒ）2 ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 730 ＮＢｕ2 ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 731 Ｎ（ｉＢｕ）2 ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 732 Ｎ（ｓＢｕ）2 ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 733 Ｎ（ｔＢｕ）2 ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 734 基１ ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 735 基２ ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 736 基２Ｍ１(2) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 737 基２Ｍ１(3) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 738 基２Ｍ１(4) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 739 基２Ｍ２(2,2) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 740 基２Ｍ２(2,3) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 742 基２Ｍ２(2,5) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 743 基２Ｍ２(2,6) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 744 基２Ｍ２(3,3) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 745 基２Ｍ２(3,4) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 746 基２Ｍ２(3,5) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 747 基２Ｍ２(4,4) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 748 基２Ｍ３(2,3,4) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 749 基２Ｍ３(2,4,6) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 750 基２Ｅ１(2) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 751 基２Ｅ１(3) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 752 基２Ｅ１(4) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 753 基２Ｅ２(2,2) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 754 基２Ｅ２(2,4) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 755 基２Ｅ２(2,5) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 756 基２Ｅ２(2,6) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 757 基３ ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 758 基３Ｍ１(2) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 759 基３Ｍ１(3) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 760 基３Ｍ１(4) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 761 基３Ｍ２(2,2) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 762 基３Ｍ２(2,3) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 763 基３Ｍ２(2,4) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 764 基３Ｍ２(2,5) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 765 基３Ｍ２(2,6) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 766 基３Ｍ２(2,7) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 767 基３Ｍ３(2,2,3) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 768 基３Ｍ３(2,3,4) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 769 基３Ｍ３(2,3,3) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 771 基３Ｍ３(2,3,5) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 772 基３Ｍ３(2,3,6) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 773 基３Ｍ３(2,3,7) ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 774 基４ ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 775 基５ ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 776 基６ ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 777 基７ ＯＨ Ｈ Ｏ ２ 778 ＯＨ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 779 ＣＯＯＭｅ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 780 ＣＯＯＥｔ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 781 ＣＯＯＨ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 782 ＣＯＮＢｕＭｅ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 783 ＣＯＮＢｕＥｔ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 784 ＣＯＮＭｅ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 785 ＮＨ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 786 ＮＨＭｅ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 787 ＮＭｅ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 788 ＮＥｔ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 789 ＮＨＰｒ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 790 ＮＰｒ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 791 Ｎ（ｉＰｒ）2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 792 ＮＢｕ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 793 Ｎ（ｉＢｕ）2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 794 Ｎ（ｓＢｕ）2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 795 Ｎ（ｔＢｕ）2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 796 基１ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 797 基２ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 798 基２Ｍ１(2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 799 基２Ｍ１(3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 800 基２Ｍ１(4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 801 基２Ｍ２(2,2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 802 基２Ｍ２(2,3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 803 基２Ｍ２(2,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 804 基２Ｍ２(2,5) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 805 基２Ｍ２(2,6) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 806 基２Ｍ２(3,3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 807 基２Ｍ２(3,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 808 基２Ｍ２(3,5) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 809 基２Ｍ２(4,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 810 基２Ｍ３(2,3,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 811 基２Ｍ３(2,4,6) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 812 基２Ｅ１(2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 813 基２Ｅ１(3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 814 基２Ｅ１(4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 815 基２Ｅ２(2,2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 816 基２Ｅ２(2,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 817 基２Ｅ２(2,5) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 818 基２Ｅ２(2,6) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 819 基３ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 820 基３Ｍ１(2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 821 基３Ｍ１(3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 822 基３Ｍ１(4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 823 基３Ｍ２(2,2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 824 基３Ｍ２(2,3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 825 基３Ｍ２(2,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 826 基３Ｍ２(2,5) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 827 基３Ｍ２(2,6) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 829 基３Ｍ３(2,2,3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 830 基３Ｍ３(2,3,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 831 基３Ｍ３(2,3,3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 832 基３Ｍ３(2,4,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 833 基３Ｍ３(2,3,5) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 834 基３Ｍ３(2,3,6) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 835 基３Ｍ３(3,3,5) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 836 基４ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 837 基５ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 838 基６ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 839 基７ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 840 基２Ｂｚ(2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 841 基２Ｂｚ(3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 842 基２Ｂｚ(4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 843 ＰＩｎ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 844 ＰＩＱ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 845 基２Ｐｈ(2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 846 基２Ｐｈ(3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 847 基２Ｐｈ(4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 848 ＤＨＱ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 849 ＡＳＵ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 850 Ｉｎｄ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 851 ＭＡｎ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 852 ＡＢＮ ＯＨ ＯＨ Ｏ ２ 853 ＮＨＭｅ Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 854 ＮＭｅ2 Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 855 ＮＥｔ2 Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 856 ＮＨＰｒ Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 857 ＮＰｒ2 Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 858 Ｎ（ｉＰｒ）2 Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 859 ＮＢｕ2 Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 860 Ｎ（ｉＢｕ）2 Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 861 Ｎ（ｓＢｕ）2 Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 862 Ｎ（ｔＢｕ）2 Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 863 基１ Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 864 基２ Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 865 基２Ｍ１(2) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 866 基２Ｍ１(3) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 867 基２Ｍ１(4) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 868 基２Ｍ２(2,2) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 869 基２Ｍ２(2,3) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 870 基２Ｍ２(2,4) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 871 基２Ｍ２(2,5) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 872 基２Ｍ２(2,6) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 873 基２Ｍ２(3,3) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 874 基２Ｍ２(3,4) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 875 基２Ｍ２(3,5) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 876 基２Ｍ２(4,4) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 877 基２Ｍ３(2,3,4) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 878 基２Ｍ３(2,4,6) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 879 基２Ｅ１(2) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 880 基２Ｅ１(3) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 881 基２Ｅ１(4) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 882 基２Ｅ２(2,2) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 883 基２Ｅ２(2,4) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 884 基２Ｅ２(2,5) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 885 基２Ｅ２(2,6) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 887 基３Ｍ１(2) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 888 基３Ｍ１(3) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 889 基３Ｍ１(4) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 890 基３Ｍ２(2,2) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 891 基３Ｍ２(2,3) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 892 基３Ｍ２(2,4) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 893 基３Ｍ２(2,5) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 894 基３Ｍ２(2,6) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 895 基３Ｍ２(2,7) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 896 基３Ｍ３(2,2,3) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 897 基３Ｍ３(2,3,4) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 898 基３Ｍ３(2,3,3) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 899 基３Ｍ３(2,4,4) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 900 基３Ｍ３(2,3,5) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 901 基３Ｍ３(2,3,6) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 902 基３Ｍ３(3,3,5) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 903 基４ Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 904 基５ Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 905 基６ Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 906 基７ Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 907 基２Ｂｚ(2) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 908 基２Ｂｚ(3) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 909 基２Ｂｚ(4) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 910 ＰＩｎ Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 911 ＰＩＱ Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 912 基２Ｐｈ(2) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 913 基２Ｐｈ(3) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 914 基２Ｐｈ(4) Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 916 ＡＳＵ Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 917 Ｉｎｄ Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 918 ＭＡｎ Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 919 ＡＢＮ Ｈ ＯＨ Ｏ ３ 920 ＮＨＭｅ ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 921 ＮＭｅ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 922 ＮＥｔ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 923 ＮＨＰｒ ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 924 ＮＰｒ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 925 Ｎ（ｉＰｒ）2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 926 Ｎ（Ｂｕ）2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 927 Ｎ（ｉＢｕ）2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 928 Ｎ（ｓＢｕ）2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 929 Ｎ（ｔＢｕ）2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 930 基１ ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 931 基２Ｍ ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 932 基２Ｍ１(2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 933 基２Ｍ１(3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 934 基２Ｍ１(4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 935 基２Ｍ２(2,2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 936 基２Ｍ２(2,3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 937 基２Ｍ２(2,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 938 基２Ｍ２(2,5) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 939 基２Ｍ２(2,6) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 940 基２Ｍ２(3,3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 941 基２Ｍ２(3,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 942 基２Ｍ２(3,5) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 943 基２Ｍ２(4,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 944 基２Ｍ３(2,3,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 945 基２Ｍ３(2,4,6) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 946 基２Ｅ１(2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 947 基２Ｅ１(3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 948 基２Ｅ１(4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 949 基２Ｅ２(2,2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 950 基２Ｅ２(2,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 951 基２Ｅ２(2,5) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 952 基２Ｅ２(2,6) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 953 基３ ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 954 基３Ｍ１(2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 955 基３Ｍ１(3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 956 基３Ｍ１(4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 957 基３Ｍ２(2,2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 958 基３Ｍ２(2,3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 959 基３Ｍ２(2,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 960 基３Ｍ２(2,5) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 961 基３Ｍ２(2,6) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 962 基３Ｍ２(2,7) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 963 基３Ｍ３(2,2,3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 964 基３Ｍ３(2,3,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 965 基３Ｍ３(2,3,3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 966 基３Ｍ３(2,4,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 967 基３Ｍ３(2,3,5) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 968 基３Ｍ３(2,3,6) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 969 基３Ｍ３(3,3,5) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 970 基４ ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 971 基５ ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 972 基６ ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 973 基７ ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 974 基２Ｂｚ(2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 975 基２Ｂｚ(3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 976 基２Ｂｚ(4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 977 ＰＩｎ ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 978 ＰＩＱ ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 979 基２Ｐｈ(2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 980 基２Ｐｈ(3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 981 基２Ｐｈ(4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 982 ＤＨＱ ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 983 ＡＳＵ ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 984 Ｉｎｄ ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 985 ＭＡｎ ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 986 ＡＢＮ ＯＨ ＯＨ Ｏ ３ 987 ＮＨＭｅ Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 988 ＮＭｅ2 Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 989 ＮＥｔ2 Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 990 ＮＨＰｒ Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 991 ＮＰｒ2 Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 992 Ｎ（ｉＰｒ）2 Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 993 Ｎ（Ｂｕ）2 Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 994 Ｎ（ｉＢｕ）2 Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 995 Ｎ（ｓＢｕ）2 Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 996 Ｎ（ｔＢｕ）2 Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 997 基１ Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 998 基２ Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 999 基２Ｍ１(2) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1000 基２Ｍ１(3) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1001 基２Ｍ１(4) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1002 基２Ｍ２(2,2) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1003 基２Ｍ２(2,3) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1004 基２Ｍ２(2,4) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1005 基２Ｍ２(2,5) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1006 基２Ｍ２(2,6) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1007 基２Ｍ２(3,3) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1008 基２Ｍ２(3,4) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1009 基２Ｍ２(3,5) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1010 基２Ｍ２(4,4) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1011 基２Ｍ３(2,3,4) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1012 基２Ｍ３(2,4,6) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1013 基２Ｅ１(2) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1014 基２Ｅ１(3) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1015 基２Ｅ１(4) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1016 基２Ｅ２(2,2) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1017 基２Ｅ２(2,4) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1018 基２Ｅ２(2,5) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1019 基２Ｅ２(2,6) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1020 基３ Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1021 基３Ｍ１(2) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1022 基３Ｍ１(3) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1023 基３Ｍ１(4) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1024 基３Ｍ２(2,2) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1025 基３Ｍ２(2,3) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1026 基３Ｍ２(2,4) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1027 基３Ｍ２(2,5) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1028 基３Ｍ２(2,6) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1029 基３Ｍ２(2,7) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1030 基３Ｍ３(2,2,3) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1031 基３Ｍ３(2,3,4) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1032 基３Ｍ３(2,3,3) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1033 基３Ｍ３(2,4,4) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1034 基３Ｍ３(2,3,5) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1035 基３Ｍ３(2,3,6) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1036 基３Ｍ３(3,3,5) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1037 基４ Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1038 基５ Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1039 基６ Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1040 基７ Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1041 基２Ｂｚ(2) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1042 基２Ｂｚ(3) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1043 基２Ｂｚ(4) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1044 ＰＩｎ Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1045 ＰＩＱ Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1046 基２Ｐｈ(2) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1047 基２Ｐｈ(3) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1048 基２Ｐｈ(4) Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1049 ＤＨＱ Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1050 ＡＳＵ Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1051 Ｉｎｄ Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1052 ＭＡｎ Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1053 ＡＢＮ Ｈ ＯＨ Ｏ ４ 1054 ＮＨＭｅ ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1055 ＮＭｅ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1056 ＮＥｔ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1057 ＮＨＰｒ ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1058 ＮＰｒ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1059 Ｎ（ｉＰｒ）2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1060 ＮＢｕ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1061 Ｎ（ｉＢｕ）2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1062 Ｎ（ｓＢｕ）2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1063 Ｎ（ｔＢｕ）2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1064 基１ ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1065 基２ ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1066 基２Ｍ１(2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1067 基２Ｍ１(3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1068 基２Ｍ１(4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1069 基２Ｍ２(2,2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1070 基２Ｍ２(2,3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1071 基２Ｍ２(2,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1072 基２Ｍ２(2,5) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1073 基２Ｍ２(2,6) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1074 基２Ｍ２(3,3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1075 基２Ｍ２(3,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1076 基２Ｍ２(3,5) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1077 基２Ｍ２(4,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1078 基２Ｍ３(2,3,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1079 基２Ｍ３(2,4,6) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1080 基２Ｅ１(2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1081 基２Ｅ１(3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1082 基２Ｅ１(4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1083 基２Ｅ２(2,2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1084 基２Ｅ２(2,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1085 基２Ｅ２(2,5) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1086 基２Ｅ２(2,6) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1087 基３ ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1088 基３Ｍ１(2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1089 基３Ｍ１(3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1090 基３Ｍ１(4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1091 基３Ｍ２(2,2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1092 基３Ｍ２(2,3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1093 基３Ｍ２(2,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1094 基３Ｍ２(2,5) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1095 基３Ｍ２(2,6) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1096 基３Ｍ２(2,7) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1097 基３Ｍ３(2,2,3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1098 基３Ｍ３(2,3,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1099 基３Ｍ３(2,3,3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1100 基３Ｍ３(2,4,4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1101 基３Ｍ３(2,3,5) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1102 基３Ｍ３(2,3,6) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1103 基３Ｍ３(3,3,5) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1104 基４ ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1105 基５ ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1106 基６ ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1107 基７ ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1108 基２Ｂｚ(2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1109 基２Ｂｚ(3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1110 基２Ｂｚ(4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1111 ＰＩｎ ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1112 ＰＩＱ ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1113 基２Ｐｈ(2) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1114 基２Ｐｈ(3) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1115 基２Ｐｈ(4) ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1116 ＤＨＱ ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1117 ＡＳＵ ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1118 Ｉｎｄ ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1119 ＭＡｎ ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1120 ＡＢＮ ＯＨ ＯＨ Ｏ ４ 1121 ＯＨ Ｈ Ｈ Ｈ ４ 1122 ＣＯＯＭｅ Ｈ Ｈ Ｏ ５ 1123 ＣＯＮＢｕＭｅ Ｈ Ｈ Ｏ ５ 1124 ＣＯＯＨ Ｈ Ｈ Ｏ ５ 1125 ＮＨ2 Ｈ Ｈ Ｏ ５ 1126 ＮＭｅ2 Ｈ Ｈ Ｏ ５ 1127 ＮＥｔ2 Ｈ Ｈ Ｏ ５ 1128 Ｎ（ｉＰｒ）2 Ｈ Ｈ Ｏ ５ 1129 基１ Ｈ Ｈ Ｏ ５ 1130 基２ Ｈ Ｈ Ｏ ５ 1131 基３ Ｈ Ｈ Ｏ ５ 1132 ＯＨ ＯＨ Ｈ Ｏ ５ 1133 ＣＯＯＭｅ ＯＨ Ｈ Ｏ ５ 1134 ＣＯＮＢｕＭｅ ＯＨ Ｈ Ｏ ５ 1135 ＣＯＯＨ ＯＨ Ｈ Ｏ ５ 1136 ＮＨ2 ＯＨ Ｈ Ｏ ５ 1137 ＮＭｅ2 ＯＨ Ｈ Ｏ ５ 1138 ＮＥｔ2 ＯＨ Ｈ Ｏ ５ 1139 Ｎ（ｉＰｒ）2 ＯＨ Ｈ Ｏ ５ 1140 基１ ＯＨ Ｈ Ｏ ５ 1141 基２ ＯＨ Ｈ Ｏ ５ 1142 基３ ＯＨ Ｈ Ｏ ５ 1143 ＯＨ ＯＨ ＯＨ Ｏ ５ 1144 ＣＯＯＭｅ ＯＨ ＯＨ Ｏ ５ 1145 ＣＯＮＢｕＭｅ ＯＨ ＯＨ Ｏ ５ 1146 ＣＯＯＨ ＯＨ ＯＨ Ｏ ５ 1148 ＮＭｅ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ５ 1149 ＮＥｔ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ５ 1150 Ｎ（ｉＰｒ）2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ５ 1151 基１ ＯＨ ＯＨ Ｏ ５ 1152 基２ ＯＨ ＯＨ Ｏ ５ 1153 基３ ＯＨ ＯＨ Ｏ ５ 1154 ＯＨ Ｈ Ｈ Ｏ ７ 1155 ＣＯＯＭｅ Ｈ Ｈ Ｏ ７ 1156 ＣＯＮＢｕＭｅ Ｈ Ｈ Ｏ ７ 1157 ＣＯＯＨ Ｈ Ｈ Ｏ ７ 1158 ＮＨ2 Ｈ Ｈ Ｏ ７ 1159 ＮＭｅ2 Ｈ Ｈ Ｏ ７ 1160 ＮＥｔ2 Ｈ Ｈ Ｏ ７ 1161 Ｎ（ｉＰｒ）2 Ｈ Ｈ Ｏ ７ 1162 基１ Ｈ Ｈ Ｏ ７ 1163 基２ Ｈ Ｈ Ｏ ７ 1164 基３ Ｈ Ｈ Ｏ ７ 1165 ＯＨ ＯＨ Ｈ Ｏ ７ 1166 ＣＯＯＭｅ ＯＨ Ｈ Ｏ ７ 1167 ＣＯＮＢｕＭｅ ＯＨ Ｈ Ｏ ７ 1168 ＣＯＯＨ ＯＨ Ｈ Ｏ ７ 1169 ＮＨ2 ＯＨ Ｈ Ｏ ７ 1170 ＮＭｅ2 ＯＨ Ｈ Ｏ ７ 1171 ＮＥｔ2 ＯＨ Ｈ Ｏ ７ 1172 Ｎ（ｉＰｒ）2 ＯＨ Ｈ Ｏ ７ 1173 基１ ＯＨ Ｈ Ｏ ７ 1174 基２ ＯＨ Ｈ Ｏ ７ 1175 基３ ＯＨ Ｈ Ｏ ７ 1177 ＣＯＯＭｅ ＯＨ ＯＨ Ｏ ７ 1178 ＣＯＮＢｕＭｅ ＯＨ ＯＨ Ｏ ７ 1179 ＣＯＯＨ ＯＨ ＯＨ Ｏ ７ 1180 ＮＨ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ７ 1181 ＮＭｅ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ７ 1182 ＮＥｔ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ７ 1183 Ｎ（ｉＰｒ）2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ７ 1184 基１ ＯＨ ＯＨ Ｏ ７ 1185 基２ ＯＨ ＯＨ Ｏ ７ 1186 基３ ＯＨ ＯＨ Ｏ ７ 1187 ＯＨ Ｈ Ｈ Ｏ ９ 1188 ＣＯＯＭｅ Ｈ Ｈ Ｏ ９ 1189 ＣＯＮＢｕＭｅ Ｈ Ｈ Ｏ ９ 1190 ＣＯＯＨ Ｈ Ｈ Ｏ ９ 1191 ＮＨ2 Ｈ Ｈ Ｏ ９ 1192 ＮＭｅ2 Ｈ Ｈ Ｏ ９ 1193 ＮＥｔ2 Ｈ Ｈ Ｏ ９ 1194 Ｎ（ｉＰｒ）2 Ｈ Ｈ Ｏ ９ 1195 基１ Ｈ Ｈ Ｏ ９ 1196 基２ Ｈ Ｈ Ｏ ９ 1197 基３ Ｈ Ｈ Ｏ ９ 1198 ＯＨ ＯＨ Ｈ Ｏ ９ 1199 ＣＯＯＭｅ ＯＨ Ｈ Ｏ ９ 1200 ＣＯＯＮＢｕＭｅＯＨ Ｈ Ｏ ９ 1201 ＣＯＯＨ ＯＨ Ｈ Ｏ ９ 1202 ＮＨ2 ＯＨ Ｈ Ｏ ９ 1203 ＮＭｅ2 ＯＨ Ｈ Ｏ ９ 1204 ＮＥｔ2 ＯＨ Ｈ Ｏ ９ 1205 Ｎ（ｉＰｒ）2 ＯＨ Ｈ Ｏ ９ 1206 基１ ＯＨ Ｈ Ｏ ９ 1207 基２ ＯＨ Ｈ Ｏ ９ 1208 基３ ＯＨ Ｈ Ｏ ９ 1209 ＯＨ ＯＨ ＯＨ Ｏ ９ 1210 ＣＯＯＭｅ ＯＨ ＯＨ Ｏ ９ 1211 ＣＯＮＢｕＭｅ ＯＨ ＯＨ Ｏ ９ 1212 ＣＯＯＨ ＯＨ ＯＨ Ｏ ９ 1213 ＮＨ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ９ 1214 ＮＭｅ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ９ 1215 ＮＥｔ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ９ 1216 Ｎ（ｉＰｒ）2 ＯＨ ＯＨ Ｏ ９ 1217 基１ ＯＨ ＯＨ Ｏ ９ 1218 基２ ＯＨ ＯＨ Ｏ ９ 1219 基３ ＯＨ ＯＨ Ｏ ９ 1220 ＯＨ Ｈ Ｈ Ｏ １１ 1221 ＣＯＯＭｅ Ｈ Ｈ Ｏ １１ 1222 ＣＯＮＢｕＭｅ Ｈ Ｈ Ｏ １１ 1223 ＣＯＯＨ Ｈ Ｈ Ｏ １１ 1224 ＮＨ2 Ｈ Ｈ Ｏ １１ 1225 ＮＭｅ2 Ｈ Ｈ Ｏ １１ 1226 ＮＥｔ2 Ｈ Ｈ Ｏ １１ 1227 Ｎ（ｉＰｒ）2 Ｈ Ｈ Ｏ １１ 1228 基１ Ｈ Ｈ Ｏ １１ 1229 基２ Ｈ Ｈ Ｏ １１ 1230 基３ Ｈ Ｈ Ｏ １１ 1231 ＯＨ ＯＨ Ｈ Ｏ １１ 1232 ＣＯＯＭｅ ＯＨ Ｈ Ｏ １１ 1233 ＣＯＮＢｕＭｅ ＯＨ Ｈ Ｏ １１ 1235 ＮＨ2 ＯＨ Ｈ Ｏ １１ 1236 ＮＭｅ2 ＯＨ Ｈ Ｏ １１ 1237 ＮＥｔ2 ＯＨ Ｈ Ｏ １１ 1238 Ｎ（ｉＰｒ）2 ＯＨ Ｈ Ｏ １１ 1239 基１ ＯＨ Ｈ Ｏ １１ 1240 基２ ＯＨ Ｈ Ｏ １１ 1241 基３ ＯＨ Ｈ Ｏ １１ 1242 ＯＨ ＯＨ ＯＨ Ｏ １１ 1243 ＣＯＯＭｅ ＯＨ ＯＨ Ｏ １１ 1244 ＣＯＮＢｕＭｅ ＯＨ ＯＨ Ｏ １１ 1245 ＣＯＯＨ ＯＨ ＯＨ Ｏ １１ 1246 ＮＨ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ １１ 1247 ＮＭｅ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ １１ 1248 ＮＥｔ2 ＯＨ ＯＨ Ｏ １１ 1249 Ｎ（ｉＰｒ）2 ＯＨ ＯＨ Ｏ １１ 1250 基１ ＯＨ ＯＨ Ｏ １１ 1251 基２ ＯＨ ＯＨ Ｏ １１ 1252 基３ ＯＨ ＯＨ Ｏ １１ 1253 ＯＨ ＯＨ ＯＨ ＮＨ ２ 1254 ＣＯＯＭｅ ＯＨ ＯＨ ＮＨ ２ 1255 ＣＯＮＢｕＭｅ ＯＨ ＯＨ ＮＨ ２ 1256 ＣＯＯＨ ＯＨ ＯＨ ＮＨ ２ 1257 ＮＨ2 ＯＨ ＯＨ ＮＨ ２ 1258 ＮＭｅ2 ＯＨ ＯＨ ＮＨ ２ 1259 ＮＥｔ2 ＯＨ ＯＨ ＮＨ ２ 1260 Ｎ（ｉＰｒ）2 ＯＨ ＯＨ ＮＨ ２ 1261 基１ ＯＨ ＯＨ ＮＨ ２ 1262 基２ ＯＨ ＯＨ ＮＨ ２ 1263 基３ ＯＨ ＯＨ ＮＨＣＯ ２ 1264 ＯＨ ＯＨ ＯＨ ＮＨＣＯ ２ 1265 ＣＯＯＭｅ ＯＨ ＯＨ ＮＨＣＯ ２ 1266 ＣＯＮＢｕＭｅ ＯＨ ＯＨ ＮＨＣＯ ２ 1267 ＣＯＯＨ ＯＨ ＯＨ ＮＨＣＯ ２ 1268 ＮＨ2 ＯＨ ＯＨ ＮＨＣＯ ２ 1269 ＮＭｅ2 ＯＨ ＯＨ ＮＨＣＯ ２ 1270 ＮＥｔ2 ＯＨ ＯＨ ＮＨＣＯ ２ 1271 Ｎ（ｉＰｒ）2 ＯＨ ＯＨ ＮＨＣＯ ２ 1272 基１ ＯＨ ＯＨ ＮＨＣＯ ２ 1273 基２ ＯＨ ＯＨ ＮＨＣＯ ２ 1274 基３ ＯＨ ＯＨ ＮＨＣＯ ２ ──────────────────────────────────── 尚、上記化合物のうち、好適な化合物としては、１６
（ａ）（ｂ）（ｃ）乃至２２（ａ）（ｂ）（ｃ）、２７
（ａ）（ｂ）（ｃ）乃至３３（ａ）（ｂ）（ｃ）、４１
（ａ）（ｂ）（ｃ）乃至７８（ａ）（ｂ）（ｃ）、８６
（ａ）（ｂ）（ｃ）乃至１４０（ａ）（ｂ）（ｃ）、１
４８（ａ）（ｂ）（ｃ）乃至２１５（ａ）（ｂ）
（ｃ）、２８３（ａ）（ｂ）（ｃ）乃至３４９（ａ）
（ｂ）（ｃ）、４２２（ａ）（ｂ）（ｃ）乃至４８３
（ａ）（ｂ）（ｃ）、５１３（ａ）（ｂ）（ｃ）乃至５
１６（ａ）（ｂ）（ｃ）、５３５（ａ）（ｂ）（ｃ）乃
至５３８（ａ）（ｂ）（ｃ）、５６７（ａ）（ｂ）
（ｃ）乃至５７１（ａ）（ｂ）（ｃ）、５７４（ａ）
（ｂ）（ｃ）、５８５（ａ）（ｂ）（ｃ）、５９６
（ａ）（ｂ）（ｃ）、６００（ａ）（ｂ）（ｃ）乃至６
０４（ａ）（ｂ）（ｃ）、６０７（ａ）（ｂ）（ｃ）、
６１２（ａ）（ｂ）（ｃ）乃至６１５（ａ）（ｂ）
（ｃ）、６２３（ａ）（ｂ）（ｃ）乃至６２６（ａ）
（ｂ）（ｃ）、６３４（ａ）（ｂ）（ｃ）乃至６３７
（ａ）（ｂ）（ｃ）、６６７（ａ）（ｂ）（ｃ）乃至６
７０（ａ）（ｂ）（ｃ）、６８４（ａ）（ｂ）（ｃ）乃
至７０２（ａ）（ｂ）（ｃ）、７１２（ａ）（ｂ）
（ｃ）乃至７１５（ａ）（ｂ）（ｃ）、７２３（ａ）
（ｂ）（ｃ）乃至７７７（ａ）（ｂ）（ｃ）、７８５
（ａ）（ｂ）（ｃ）乃至８５２（ａ）（ｂ）（ｃ）、８
８６（ａ）（ｂ）（ｃ）、９２５（ａ）（ｂ）（ｃ）乃
至９８６（ａ）（ｂ）（ｃ）、１０５９（ａ）（ｂ）
（ｃ）乃至１０７７（ａ）（ｂ）（ｃ）、１０８７
（ａ）（ｂ）（ｃ）乃至１０９０（ａ）（ｂ）（ｃ）、
１１３４（ａ）（ｂ）（ｃ）、１１３９（ａ）（ｂ）
（ｃ）乃至１１４２（ａ）（ｂ）（ｃ）、１１４５
（ａ）（ｂ）（ｃ）、１１５０（ａ）（ｂ）（ｃ）乃至
１１５３（ａ）（ｂ）（ｃ）、１１６７（ａ）（ｂ）
（ｃ）、１１７２（ａ）（ｂ）（ｃ）乃至１１７５
（ａ）（ｂ）（ｃ）の化合物を挙げることができる。
【０３６７】更に、好適な化合物としては、１９（ａ）
（ｂ）（ｃ）、２１（ａ）（ｂ）（ｃ）、２２（ａ）
（ｂ）（ｃ）、３０（ａ）（ｂ）（ｃ）、３２（ａ）
（ｂ）（ｃ）、３３（ａ）（ｂ）（ｃ）、９２（ａ）
（ｂ）（ｃ）乃至１３８（ａ）（ｂ）（ｃ）、１５４
（ａ）（ｂ）（ｃ）乃至２０１（ａ）（ｂ）（ｃ）、２
０３（ａ）（ｂ）（ｃ）乃至２１５（ａ）（ｂ）
（ｃ）、２８８（ａ）（ｂ）（ｃ）乃至３０６（ａ）
（ｂ）（ｃ）、３１６（ａ）（ｂ）（ｃ）乃至３１９
（ａ）（ｂ）（ｃ）、３３３（ａ）（ｂ）（ｃ）、３３
４（ａ）（ｂ）（ｃ）、３４６（ａ）（ｂ）（ｃ）乃至
３４９（ａ）（ｂ）（ｃ）、４２８（ａ）（ｂ）（ｃ）
乃至４４０（ａ）（ｂ）（ｃ）、４５０（ａ）（ｂ）
（ｃ）乃至４５３（ａ）（ｂ）（ｃ）、４６７（ａ）
（ｂ）（ｃ）、４６８（ａ）（ｂ）（ｃ）、４７４
（ａ）（ｂ）（ｃ）乃至４８３（ａ）（ｂ）（ｃ）、６
７０（ａ）（ｂ）（ｃ）、７２８（ａ）（ｂ）（ｃ）乃
至７４７（ａ）（ｂ）（ｃ）、７５７（ａ）（ｂ）
（ｃ）乃至７６０（ａ）（ｂ）（ｃ）、７７４（ａ）
（ｂ）（ｃ）、７７５（ａ）（ｂ）（ｃ）、７９１
（ａ）（ｂ）（ｃ）乃至８０９（ａ）（ｂ）（ｃ）、８
１９（ａ）（ｂ）（ｃ）乃至８２２（ａ）（ｂ）
（ｃ）、８３６（ａ）（ｂ）（ｃ）、８３７（ａ）
（ｂ）（ｃ）、９３１（ａ）（ｂ）（ｃ）乃至９４４
（ａ）（ｂ）（ｃ）、９５３（ａ）（ｂ）（ｃ）乃至９
５６（ａ）（ｂ）（ｃ）、９７０（ａ）（ｂ）（ｃ）、
９７１（ａ）（ｂ）（ｃ）の化合物を挙げることができ
る。
【０３６８】
【試験例】
【０３６９】
【試験例１】エストロゲンレセプターへの親和性 エストロゲンレセプターへの親和性は、Thibodeau,S.N.
らの方法（Clin. Chem., 27, 678-691 (1981) ）を一部
改変し、用いることにより測定した。即ち、ウシ子宮を
摩砕し、100,000Gで、１時間超遠心して得られる細胞可
溶画分中のエストロゲンリセプター（エストロゲン結合
蛋白質）を用いて試験を行なった。最終濃度が、１ｎＭ
となるように希釈した〔3 Ｈ〕エストラジオール（１３
６Ｃｉ／mmol）溶液１０μl 、検体溶液（若しくは溶媒
のみ）１０μl 、前記細胞可溶画分２００μl を含む反
応液を混和した後に、４℃の状態で一晩保存した。反応
液中の遊離の〔3 Ｈ〕エストラジオールをデキストラン
（Dextran Ｔ７０、ファルマシア社製）被覆活性炭（Ｃ
４３８６、シグマ社製）で吸着除去した後、エストロゲ
ンリセプターに結合した〔3 Ｈ〕エストラジオール量
を、液体シンチレーションカウンターで測定することに
より、エストロゲンリセプターに結合した〔3 Ｈ〕エス
トラジオール量を求めた。非特異的結合測定のために
は、検体溶液の代わりに、〔3 Ｈ〕エストラジオールの
５００倍過剰のエストラジオールを添加し、同様の処理
をした。検体のエストロゲンレセプターへの親和性は、
〔3 Ｈ〕エストラジオールのエストロゲンリセプターに
対する結合の阻害率として、次式で求めた。 結合阻害率＝１００−（ａ／ｂ×１００） ａ：検体添加のｄｐｍ−非特異的結合のｄｐｍ ｂ：検体非添加のｄｐｍ−非特異的結合のｄｐｍ 本発明の化合物が、〔3 Ｈ〕エストラジオールのエスト
ロゲンリセプターに対する結合を５０％阻害する濃度
（ＩＣ50）を表２に記した。なお、エストラジオール拮
抗作用を示す対照化合物として、ゲニステインを用い
た。
【０３７０】
【化２１】
【０３７１】
【試験例２】エストロゲン活性：培養細胞に対する効果 エストロゲンにより増殖が促進されるヒト乳癌由来細胞
Ｔ４７Ｄ（Reddel, R.R. ＆ Sutherland, R. L., Eur.
J. Clin. Oncol., 20, 1419-1424 (1984)）を用いて、
本発明化合物のエストロゲン様活性を試験した。即ち、
Ｔ４７Ｄ細胞３０００個を、９６穴のマイクロテストプ
レートの各穴に播種し、細胞が接着した後に、２００Ｉ
Ｕ／Ｉのインスリン及び内在性のエストロゲンを活性炭
で除去したウシ胎児血清を１０％含むＲＰＭＩ１６４０
培地に代えた。ここに、検体溶液（又は溶媒のみ）を加
え、３７℃で４日間培養した。
【０３７２】また、エストラジオール細胞増殖効果に、
本発明の化合物が拮抗するか否かを確認するために、
０．１ｎＭエストラジオール溶液と検体溶液（又は０．
１ｎＭエストラジオール溶液のみ）を同時に加えた実験
も行った。培養後、Ｔ４７Ｄ細胞の増殖の度合いを、Ca
rmichael, J.らの方法（Cancer Res., 47, 936-942 (19
87) ）に従い、ＭＴＴ〔(3-(4,5-dimethyl-2-thiazoly
l)-2,5-diphenyl-2H-tetrazolium bromide)〕を用い
て、波長５５０ｎｍにおける吸光度を指標として検出し
た。増殖促進率は以下の式により求めた。 増殖促進率＝ａ／ｂ×１００ ａ：検体添加時の吸光度 ｂ：検体非添加時の吸光度 各検体の種々の濃度での増殖促進率をプロットして、各
検体の最大効果のエストラジオールの最大効果に対する
割合（Ｅmax ）、Ｅmax の１／２の効果を与える濃度
（ＥＣ50）及び０．１ｎＭエストラジオールの作用に５
０％拮抗する濃度（ＩＣ50（Ｔ４７Ｄ））を求めた。な
お、対照化合物として、ゲニステインを用いた。
【０３７３】本発明の化合物は、ＥＣ50の結果から分か
るように、細胞増殖促進効果を有するが、Ｅmax の結果
から分かるように、ゲニステインのようなフルアゴニス
トではなく、パーシャルアゴニストであり、ＩＣ50の結
果から分かるように、ゲニステインにはない、エストロ
ゲンアンタゴニスト活性を有することから、子宮癌や乳
癌の増殖をもたらさない、骨粗鬆症の予防剤又は治療剤
となる。
【０３７４】
【表２】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ６１Ｋ 31/215 Ａ６１Ｋ 31/215 31/235 31/235 31/35 ＡＤＵ 31/35 ＡＤＵ 31/38 ＡＣＶ 31/38 ＡＣＶ 31/445 ＡＥＤ 31/445 ＡＥＤ 31/535 ＡＤＤ 31/535 ＡＤＤ 31/55 ＡＢＪ 31/55 ＡＢＪ Ｃ０７Ｃ 49/20 8114−4Ｈ Ｃ０７Ｃ 49/20 49/587 8114−4Ｈ 49/587 Ｚ 49/76 8114−4Ｈ 49/76 69/712 69/712 Ｂ 69/76 69/76 Ａ 69/94 69/94 211/43 8828−4Ｈ 211/43 215/64 7457−4Ｈ 215/64 217/14 7457−4Ｈ 217/14 219/14 7457−4Ｈ 219/14 225/06 7457−4Ｈ 225/06 235/06 9547−4Ｈ 235/06 325/04 7106−4Ｈ 325/04 Ｃ０７Ｄ 211/14 Ｃ０７Ｄ 211/14 295/08 295/08 Ｚ 311/32 311/32 335/06 335/06 487/08 487/08 (72)発明者 御子芝 勇 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 飯島 康輝 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 瀧 基彦 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 齋藤 昭一 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】一般式 【化１】 （式中、 Ｒ1 は、水酸基、カルボキシ基、低級アルキル基で置換
    されていてもよいカルバモイル基、又は、アミン残基を
    示し、 Ｒ2 は、水素原子、水酸基又はハロゲン原子を示し、 Ｒ3 は、水素原子又は低級アルキル基を示し、 Ｒ4 及びＲ6 は、同一又は異なって、水素原子又は水酸
    基を示し、 Ｒ5 は、水素原子、低級アルキル基又は水酸基を示し、 Ａは、酸素原子、低級アルキル基で置換されていてもよ
    いイミノ基、オキシカルボニル基又はカルバモイル基を
    示し、 Ｅは、酸素原子、硫黄原子又はメチレン基を示し、 Ｇは、酸素原子、硫黄原子又は２個の水素原子を示し、 Ｊは、カルボニル基又はカルボニル基を有していてもよ
    い炭素数１乃至６個のアルキレン基若しくは炭素数２乃
    至６個のアルケニレン基を示し、 ｎは、１乃至２０の整数を表す。）で表わされる化合
    物、その薬理上許容される塩又はそのエステル。
  2. 【請求項２】請求項１において、Ｒ1 が、低級アルキル
    基で置換されていてもよいカルバモイル基又はアミン残
    基である化合物、その薬理上許容される塩又はそのエス
    テル。
  3. 【請求項３】請求項１において、Ｒ1 が、アミン残基で
    ある化合物、その薬理上許容される塩又はそのエステ
    ル。
  4. 【請求項４】請求項１乃至請求項３より選択される１項
    において、Ｒ2 が、水酸基である化合物、その薬理上許
    容される塩又はそのエステル。
  5. 【請求項５】請求項１乃至請求項４より選択される１項
    において、Ｒ3 が、水素原子又はメチル基である化合
    物、その薬理上許容される塩又はそのエステル。
  6. 【請求項６】請求項１乃至請求項５より選択される１項
    において、Ｒ3 が、Ｒ2 に対して、オルト位に結合して
    いる化合物、その薬理上許容される塩又はそのエステ
    ル。
  7. 【請求項７】請求項１乃至請求項６より選択される１項
    において、Ａが、酸素原子、低級アルキル基で置換され
    ていてもよいイミノ基又はカルバモイル基である化合
    物、その薬理上許容される塩又はそのエステル。
  8. 【請求項８】請求項１乃至請求項６より選択される１項
    において、Ａが、酸素原子である化合物、その薬理上許
    容される塩又はそのエステル。
  9. 【請求項９】請求項１乃至請求項８より選択される１項
    において、Ｅが、メチレン基である化合物、その薬理上
    許容される塩又はそのエステル。
  10. 【請求項１０】請求項１乃至請求項９より選択される１
    項において、Ｇが、酸素原子又は２個の水素原子である
    化合物、その薬理上許容される塩又はそのエステル。
  11. 【請求項１１】請求項１乃至請求項１０より選択される
    １項において、Ｊが、メチレン基又はエチレン基である
    化合物、その薬理上許容される塩又はそのエステル。
  12. 【請求項１２】請求項１乃至請求項１１より選択される
    １項において、ｎが、１乃至６の整数である化合物、そ
    の薬理上許容される塩又はそのエステル。
  13. 【請求項１３】請求項１において、以下で表される化合
    物、その薬理上許容される塩又はそのエステル。 ・７，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
    ル）−５−〔４−（２−アゼパン−１−イルエトキシ）
    フェニル〕メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレ
    ン−１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
    ル）−５−〔４−（２−ピペリジノエトキシ）フェニ
    ル〕メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１
    −オン ・５−〔４−（２−アゼパン−１−イルエトキシ）フェ
    ニル〕メチル−６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒド
    ロキシフェニル）−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレ
    ン−１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
    ル）−５−〔４−（２−ヘプタメチレンイミン−１−イ
    ルエトキシ）フェニル〕メチル−３，４−ジヒドロ−２
    Ｈ−ナフタレン−１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
    ル）−５−｛４−〔２−（３−メチルピペリジノ）エト
    キシ〕フェニル｝メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナ
    フタレン−１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
    ル）−５−｛４−〔２−（２−メチルピペリジノ）エト
    キシ〕フェニル｝メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナ
    フタレン−１−オン ・５−｛４−〔２−（３−アザビシクロ［３，２，２］
    ノナン−３−イル）エトキシ〕フェニル｝メチル−６，
    ８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニル）−
    ３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
    ル）−５−｛４−〔２−（２，６−ジメチルピペリジ
    ノ）エトキシ〕フェニル｝メチル−３，４−ジヒドロ−
    ２Ｈ−ナフタレン−１−オン ・５，７−ジヒドロキシ−８−〔４−（２−ピペリジノ
    エトキシ）フェニル〕メチル−２−（４−ヒドロキシフ
    ェニル）−クロマン−４−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
    ル）−５−｛４−〔２−（４−メチルピペリジノ）エト
    キシ〕フェニル｝メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナ
    フタレン−１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
    ル）−５−｛４−〔２−（３，３−ジメチルピペリジ
    ノ）エトキシ〕フェニル｝メチル−３，４−ジヒドロ−
    ２Ｈ−ナフタレン−１−オン ・５−｛４−〔２−（１，３，３−トリメチル−６−ア
    ザビシクロ［３．２．１］オクタン−６−イル）エトキ
    シ〕フェニル｝メチル−６，８−ジヒドロキシ−３−
    （４−ヒドロキシフェニル）−３，４−ジヒドロ−２Ｈ
    −ナフタレン−１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
    ル）−５−〔４−（３−ピペリジノプロポキシ）フェニ
    ル〕メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１
    −オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
    ル）−５−｛４−［２−（３，３，５−トリメチルヘプ
    タメチレンイミノ) エトキシ] フェニル} メチル−３，
    ４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
    ル）−５−｛４−［２−（４−メチルピペラジノ）エト
    キシ] フェニル} メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナ
    フタレン−１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
    ル）−５−｛４−［２−（３，３−ジメチルピペラジ
    ノ）エトキシ] フェニル} メチル−３，４−ジヒドロ−
    ２Ｈ−ナフタレン−１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
    ル）−５−｛４−（３−ジメチルアミノプロポキシ）フ
    ェニル} メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン
    −１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
    ル）−５−｛４−（４−ヘキサメチレンイミノブトキ
    シ）フェニル} メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
    タレン−１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
    ル）−５−｛４−（３−ヘキサメチレンイミノプロポキ
    シ）フェニル} メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
    タレン−１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
    ル）−５−｛４−（２−シクロヘキシルアミノエトキ
    シ）フェニル} メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフ
    タレン−１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシ−３−
    メチルフェニル）−５−｛４−（２−ヘキサメチレンイ
    ミノエトキシ）フェニル} メチル−３，４−ジヒドロ−
    ２Ｈ−ナフタレン−１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
    ル）−７−メチル−５−[ ４−（２−ピペリジニル）エ
    トキシベンジル] −３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレ
    ン−１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
    ル）−５−｛２−［４−（２−ピペリジニルエトキシ）
    フェニル］エチル｝−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタ
    レン−１−オン ・６，８−ジヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
    ル）−５−｛２−［４−２−ピペリジニルエトキシ）フ
    ェニル］ビニル｝−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレ
    ン−１−オン
  14. 【請求項１４】請求項１乃至１３より選択される１項に
    おいて、「そのエステル」の残基が、「低級アルキル
    基」；「アルケニル基」；「アルキニル基」；「ハロゲ
    ノ低級アルキル基」；ヒドロキシ「低級アルキル基」；
    「脂肪族アシル」−「低級アルキル基」；「アラルキル
    基」；「シリル基」；「アルコキシ低級アルキル基」：
    「低級アルコキシ」カルボニル「低級アルキル基」；シ
    アノ「低級アルキル基」；「低級アルキル」チオメチル
    基；「アリール」チオメチル基；「低級アルキル」スル
    ホニル「低級アルキル基」；「アリール」スルホニル
    「低級アルキル基」；アシルオキシ「低級アルキル
    基」；（アルコキシカルボニルオキシ）アルキル基；
    「カルボニルオキシアルキル基」；「フタリジル基」；
    「アリール基」；「カルボキシアルキル基」；又は；
    「アミノ酸のアミド形成残基」である誘導体。
  15. 【請求項１５】請求項１乃至１４より選択される１項に
    記載された化合物、その薬理上許容される塩又はそのエ
    ステルを有効成分として含有する、子宮又は乳腺癌の予
    防剤又は治療剤。
  16. 【請求項１６】請求項１乃至１４より選択される１項に
    記載された化合物、その薬理上許容される塩又はそのエ
    ステルを有効成分として含有する、エストロゲンの減少
    に起因する疾患の予防剤又は治療剤
  17. 【請求項１７】請求項１乃至１４より選択される１項に
    記載された化合物、その薬理上許容される塩又はそのエ
    ステルを有効成分として含有する、骨粗鬆症の予防剤又
    は治療剤。
  18. 【請求項１８】請求項１乃至１４より選択される１項に
    記載された化合物、その薬理上許容される塩又はそのエ
    ステルを有効成分として含有する、コレステロ−ル低下
    剤。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20000017101A (ko) * 1998-08-06 2000-03-25 실버스타인 아써 에이. 에스트로겐 작용물질 및 길항물질

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