JPH10252683A - ドライ真空ポンプ - Google Patents
ドライ真空ポンプInfo
- Publication number
- JPH10252683A JPH10252683A JP5139597A JP5139597A JPH10252683A JP H10252683 A JPH10252683 A JP H10252683A JP 5139597 A JP5139597 A JP 5139597A JP 5139597 A JP5139597 A JP 5139597A JP H10252683 A JPH10252683 A JP H10252683A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rotor
- stator
- pump
- stage
- pump stage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Non-Positive Displacement Air Blowers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】渦流ポンプ段のロータ外径と対向する位置に非
金属の異種物質をステータに挿入し、ロータと異種物質
の隙間を小さくして、ポンプ性能を向上させるととも
に、ロータが異種物質に接触しても焼き付き防止ができ
る。 【解決手段】軸がり軸受７ａ，７ｂに支承されたシャフ
ト３の上部側に、多段の渦流ポンプ段４ｂと遠心ポンプ
段４ａのロータ１が圧入，締結されており、吸気口６と
排気口１２を有するハウジング内にステータ２が固定さ
れており、渦流ポンプ段のロータ２外径と対向する位置
に異種物質２ａが、金属製ステータ２よりも狭い隙間
で、ステータ２に挿入されている。
金属の異種物質をステータに挿入し、ロータと異種物質
の隙間を小さくして、ポンプ性能を向上させるととも
に、ロータが異種物質に接触しても焼き付き防止ができ
る。 【解決手段】軸がり軸受７ａ，７ｂに支承されたシャフ
ト３の上部側に、多段の渦流ポンプ段４ｂと遠心ポンプ
段４ａのロータ１が圧入，締結されており、吸気口６と
排気口１２を有するハウジング内にステータ２が固定さ
れており、渦流ポンプ段のロータ２外径と対向する位置
に異種物質２ａが、金属製ステータ２よりも狭い隙間
で、ステータ２に挿入されている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はドライ真空ポンプに
関する。
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のドライ真空ポンプとして、特願平
6−222969 号明細書「ドライターボ真空ポンプ」があ
る。本公知例のポンプの構造を図３の断面図に示す。図
３で、シャフト３の中間部及び下端部を転がり軸受７
ａ，７ｂで支承し、その軸受間に高周波モータロータ８
ａが圧入されている。シャフト３の上部側に多段の渦流
ポンプ段４ｂと遠心ポンプ段４ａのロータ１が圧入され
ている。ロータ１に対向してステータ２が配置され、ス
テータ２の上部にはポンプの吸気口６が形成された吸込
みケーシングが取り付けられている。ステータ２の外周
部に、ポンプ作用によって生じた熱を取り去るための冷
却ジャケット９がある。モータステータ８ｂはモータケ
ーシング１０に保持されている。ポンプは制御装置の司
令に基づいて高速駆動すると、吸気口６から吸入された
気体は、遠心ポンプ段４ａで分子流圧力域から中間流圧
力域まで圧縮され、渦流ポンプ段４ｂで粘性流圧力域ま
で圧縮され、排気口１２から大気へ排気される。
6−222969 号明細書「ドライターボ真空ポンプ」があ
る。本公知例のポンプの構造を図３の断面図に示す。図
３で、シャフト３の中間部及び下端部を転がり軸受７
ａ，７ｂで支承し、その軸受間に高周波モータロータ８
ａが圧入されている。シャフト３の上部側に多段の渦流
ポンプ段４ｂと遠心ポンプ段４ａのロータ１が圧入され
ている。ロータ１に対向してステータ２が配置され、ス
テータ２の上部にはポンプの吸気口６が形成された吸込
みケーシングが取り付けられている。ステータ２の外周
部に、ポンプ作用によって生じた熱を取り去るための冷
却ジャケット９がある。モータステータ８ｂはモータケ
ーシング１０に保持されている。ポンプは制御装置の司
令に基づいて高速駆動すると、吸気口６から吸入された
気体は、遠心ポンプ段４ａで分子流圧力域から中間流圧
力域まで圧縮され、渦流ポンプ段４ｂで粘性流圧力域ま
で圧縮され、排気口１２から大気へ排気される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、ポン
プのロータとステータは非接触で構成され、かつ、その
材質はロータ，ステータとも金属で構成されている。ポ
ンプ段は圧縮作用の効果を上げるため、ロータは高速に
回転されるが、遠心力によりロータが半径方向および軸
方向に変形するため、ロータとステータは隙間を設ける
必要がある。この隙間が大きくなると、圧縮作用が低下
するため所定の性能が得られなかった。また、半導体製
造装置の反応生成物を発生するプロセスでは、ポンプ内
に入り込んだ反応生成物がロータに付着し、ロータにア
ンバランスが生じ、ロータとステータが金属接触する場
合があった。
プのロータとステータは非接触で構成され、かつ、その
材質はロータ，ステータとも金属で構成されている。ポ
ンプ段は圧縮作用の効果を上げるため、ロータは高速に
回転されるが、遠心力によりロータが半径方向および軸
方向に変形するため、ロータとステータは隙間を設ける
必要がある。この隙間が大きくなると、圧縮作用が低下
するため所定の性能が得られなかった。また、半導体製
造装置の反応生成物を発生するプロセスでは、ポンプ内
に入り込んだ反応生成物がロータに付着し、ロータにア
ンバランスが生じ、ロータとステータが金属接触する場
合があった。
【０００４】本発明の目的は、ポンプ性能を上げるとと
もに、ロータとステータが金属接触することを回避でき
ることを可能とするドライ真空ポンプを提供することに
ある。
もに、ロータとステータが金属接触することを回避でき
ることを可能とするドライ真空ポンプを提供することに
ある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は渦流段ポンプロータの最外径に対向するス
テータ内径に、金属性ステータ内径よりもさらに内径の
小さい非金属性の異種物質をステータに挿入、もしく
は、コーティングし、ロータとその異種物質の隙間を最
小限にすることによってポンプ性能を向上する。また、
金属性ステータの内径は異種物質の内径よりも大きいの
で、ロータと金属接触することがない。
に、本発明は渦流段ポンプロータの最外径に対向するス
テータ内径に、金属性ステータ内径よりもさらに内径の
小さい非金属性の異種物質をステータに挿入、もしく
は、コーティングし、ロータとその異種物質の隙間を最
小限にすることによってポンプ性能を向上する。また、
金属性ステータの内径は異種物質の内径よりも大きいの
で、ロータと金属接触することがない。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施例を図１に
より説明する。
より説明する。
【０００７】垂直方向に配置されたシャフト３の中間部
及び下端部を転がり軸受７ａ、及び７ｂで支承し、その
間に高周波モータロータ８ａが圧入されている。シャフ
ト３の上部側に多段の渦流ポンプ段４ｂと、オープン形
状の後退羽根を有する遠心ポンプ段４ａのロータ１を圧
入，締結する。ロータ１と対向し、隙間をもってステー
タ２が配置されている。ステータ２には、図２に示すよ
うに、ロータ１の最外径に対向する位置にステータ２内
径より小さい径で異種物質、例えばテフロンやカーボン
等をステータ２に挿入されている。ステータ２の上部に
は、ポンプの吸気口６が形成された吸込みケーシング５
が機密性をもって取り付けられている。ステータ２の外
周部にはポンプ作用によって、生じた熱を取り去るため
の冷却ジャケット１１が形成されている。
及び下端部を転がり軸受７ａ、及び７ｂで支承し、その
間に高周波モータロータ８ａが圧入されている。シャフ
ト３の上部側に多段の渦流ポンプ段４ｂと、オープン形
状の後退羽根を有する遠心ポンプ段４ａのロータ１を圧
入，締結する。ロータ１と対向し、隙間をもってステー
タ２が配置されている。ステータ２には、図２に示すよ
うに、ロータ１の最外径に対向する位置にステータ２内
径より小さい径で異種物質、例えばテフロンやカーボン
等をステータ２に挿入されている。ステータ２の上部に
は、ポンプの吸気口６が形成された吸込みケーシング５
が機密性をもって取り付けられている。ステータ２の外
周部にはポンプ作用によって、生じた熱を取り去るため
の冷却ジャケット１１が形成されている。
【０００８】本実施例の動作について説明する。図示し
ない制御装置によって、高周波モータロータ８ａ及び高
周波モータステータ８ｂとからなるモータがシャフト３
及びロータ１を高速駆動すると、吸気口６から吸入され
た気体は、遠心ポンプ段４ａで分子流圧力域から中間流
圧力域まで圧縮され、渦流ポンプ段４ｂで粘性流圧力域
まで圧縮され、排気口１２から排気される。
ない制御装置によって、高周波モータロータ８ａ及び高
周波モータステータ８ｂとからなるモータがシャフト３
及びロータ１を高速駆動すると、吸気口６から吸入され
た気体は、遠心ポンプ段４ａで分子流圧力域から中間流
圧力域まで圧縮され、渦流ポンプ段４ｂで粘性流圧力域
まで圧縮され、排気口１２から排気される。
【０００９】ロータ１とステータ２間の隙間は狭ければ
狭い程、段間の漏れが小さくなり、圧縮比が上がりポン
プ性能がよくなる。しかし、ロータ１は高速で回転され
るため、例えば、半導体製造装置の反応生成物が発生す
るプロセスでは、ポンプ内部に反応生成物が侵入し、ロ
ータ１と、ステータ２の細隙部に入り込んだり、ロータ
に反応生成物が付着し、ロータ１のアンバランス量が増
加し、その結果、ロータ１の振動が大きくなり、振れ回
ってロータ１とステータ２の異種物質２ａ（例えば、テ
フロン樹脂，カーボン）と接触する。異種物質２ａは非
金属であるため、ロータ１が接触しても金属接触のよう
に焼き付くことがない。また、異種物質２ａはステータ
２に挿入しているので、ポンプの定期修理の時、新品と
交換することが可能である。
狭い程、段間の漏れが小さくなり、圧縮比が上がりポン
プ性能がよくなる。しかし、ロータ１は高速で回転され
るため、例えば、半導体製造装置の反応生成物が発生す
るプロセスでは、ポンプ内部に反応生成物が侵入し、ロ
ータ１と、ステータ２の細隙部に入り込んだり、ロータ
に反応生成物が付着し、ロータ１のアンバランス量が増
加し、その結果、ロータ１の振動が大きくなり、振れ回
ってロータ１とステータ２の異種物質２ａ（例えば、テ
フロン樹脂，カーボン）と接触する。異種物質２ａは非
金属であるため、ロータ１が接触しても金属接触のよう
に焼き付くことがない。また、異種物質２ａはステータ
２に挿入しているので、ポンプの定期修理の時、新品と
交換することが可能である。
【００１０】また、ロータ１とステータ２に設置した異
種物質２ａの隙間はロータ１と接する位まで小さいので
圧縮比が向上し、渦流ポンプ段４ｂの段数を低減するこ
とができ、ポンプ全体を小形化できる。
種物質２ａの隙間はロータ１と接する位まで小さいので
圧縮比が向上し、渦流ポンプ段４ｂの段数を低減するこ
とができ、ポンプ全体を小形化できる。
【００１１】
【発明の効果】本発明によれば、ロータとステータに挿
入した異種物質間の隙間を小さくできるので、段間の漏
れが小さくなり、ポンプ性能が向上する。また、異種物
質は非金属であり、ロータ（金属製）が接触しても、極
微量削れるだけで、ロータとステータの焼き付き防止が
できる。
入した異種物質間の隙間を小さくできるので、段間の漏
れが小さくなり、ポンプ性能が向上する。また、異種物
質は非金属であり、ロータ（金属製）が接触しても、極
微量削れるだけで、ロータとステータの焼き付き防止が
できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例の説明図。
【図２】図１の渦流ポンプ段の断面図。
【図３】従来例の断面図。
１…ロータ、２…ステータ、２ａ…異種物質、３…シャ
フト、４ａ…遠心ポンプ段、４ｂ…渦流ポンプ段、６…
吸込口、７ａ，７ｂ…軸受、１２…排気口。
フト、４ａ…遠心ポンプ段、４ｂ…渦流ポンプ段、６…
吸込口、７ａ，７ｂ…軸受、１２…排気口。
Claims (1)
- 【請求項１】排気口と吸気口を有するハウジングと前記
ハウジング内に固定されたステータと、前記ハウジング
内に回転自在に支承されたロータからなり、前記吸気口
から吸込まれた気体を前記排気口から直接大気に排気す
ることのできるドライ真空ポンプにおいて、前記吸気口
側に遠心ポンプ段、排気口側に渦流ポンプ段をそれぞれ
構成し、前記渦流ポンプ段に対面する、前記ステータ内
径側に異種物質を設けたことを特徴とするドライ真空ポ
ンプ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5139597A JPH10252683A (ja) | 1997-03-06 | 1997-03-06 | ドライ真空ポンプ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5139597A JPH10252683A (ja) | 1997-03-06 | 1997-03-06 | ドライ真空ポンプ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10252683A true JPH10252683A (ja) | 1998-09-22 |
Family
ID=12885764
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5139597A Pending JPH10252683A (ja) | 1997-03-06 | 1997-03-06 | ドライ真空ポンプ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10252683A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020241522A1 (ja) * | 2019-05-30 | 2020-12-03 | エドワーズ株式会社 | 真空ポンプ及び該真空ポンプに備えられた保護部 |
| US11946482B2 (en) | 2019-07-12 | 2024-04-02 | Edwards Japan Limited | Vacuum pump, rotor, and washer |
-
1997
- 1997-03-06 JP JP5139597A patent/JPH10252683A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020241522A1 (ja) * | 2019-05-30 | 2020-12-03 | エドワーズ株式会社 | 真空ポンプ及び該真空ポンプに備えられた保護部 |
| JP2020197129A (ja) * | 2019-05-30 | 2020-12-10 | エドワーズ株式会社 | 真空ポンプ及び該真空ポンプに備えられた保護部 |
| CN113795677A (zh) * | 2019-05-30 | 2021-12-14 | 埃地沃兹日本有限公司 | 真空泵及该真空泵具备的保护部 |
| US20220235777A1 (en) * | 2019-05-30 | 2022-07-28 | Edwards Japan Limited | Vacuum pump and protection member provided in vacuum pump |
| US11946482B2 (en) | 2019-07-12 | 2024-04-02 | Edwards Japan Limited | Vacuum pump, rotor, and washer |
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