JPH10253066A - 電磁波の誘導構造を備えた電子レンジ - Google Patents
電磁波の誘導構造を備えた電子レンジInfo
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- JPH10253066A JPH10253066A JP10000292A JP29298A JPH10253066A JP H10253066 A JPH10253066 A JP H10253066A JP 10000292 A JP10000292 A JP 10000292A JP 29298 A JP29298 A JP 29298A JP H10253066 A JPH10253066 A JP H10253066A
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- 230000000694 effects Effects 0.000 description 12
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B6/00—Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
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- H05B6/10—Induction heating apparatus, other than furnaces, for specific applications
- H05B6/12—Cooking devices
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B6/00—Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
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- H05B6/70—Feed lines
- H05B6/707—Feed lines using waveguides
-
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- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
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- H05B6/6402—Aspects relating to the microwave cavity
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- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 マグネトロンから発生した電磁波を電子レン
ジ内で最大の電界強度でもって分散させるための、電磁
波の誘導構造を備えた電子レンジを提供する。 【解決手段】 電子レンジのマグネトロンから発生した
電磁波は導波管を通って開口部から調理室内に分散す
る。調理室内の上側壁には最大球面電界強度を維持する
ために複数の環状電界階段が形成される。上側壁の各環
状電界階段は、大きな半径の環状階段の方が小さな半径
の環状階段より底面からの高さが低くなるように形成さ
れ、上側壁の開口部の形成された中心部が一番高くなる
ように形成される。上記上側壁の複数の電界階段と対称
をなす形態の複数の環状電界階段を調理室の底面にも形
成する。導波管内にも電磁波が最大電界強度を維持する
ように電界階段を形成する。これにより、調理室内で超
高周波が最大電界強度を維持しながら万遍なく分散さ
れ、調理効率が向上される。
ジ内で最大の電界強度でもって分散させるための、電磁
波の誘導構造を備えた電子レンジを提供する。 【解決手段】 電子レンジのマグネトロンから発生した
電磁波は導波管を通って開口部から調理室内に分散す
る。調理室内の上側壁には最大球面電界強度を維持する
ために複数の環状電界階段が形成される。上側壁の各環
状電界階段は、大きな半径の環状階段の方が小さな半径
の環状階段より底面からの高さが低くなるように形成さ
れ、上側壁の開口部の形成された中心部が一番高くなる
ように形成される。上記上側壁の複数の電界階段と対称
をなす形態の複数の環状電界階段を調理室の底面にも形
成する。導波管内にも電磁波が最大電界強度を維持する
ように電界階段を形成する。これにより、調理室内で超
高周波が最大電界強度を維持しながら万遍なく分散さ
れ、調理効率が向上される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は電磁波（電磁気波）
の誘導構造を備えた電子レンジに関し、特に、マグネト
ロンから発生した電磁波を電子レンジ内で最大の電界強
度でもって分散させるための構造を備えた電磁波の誘導
構造を備えた電子レンジに関する。
の誘導構造を備えた電子レンジに関し、特に、マグネト
ロンから発生した電磁波を電子レンジ内で最大の電界強
度でもって分散させるための構造を備えた電磁波の誘導
構造を備えた電子レンジに関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、電子レンジは超高周波を利用し
て食品を調理する装置であって、電子レンジの電場室に
は高周波を生成するマグネトロンと電気ヒータが備えら
れている。上記高周波は、主に電場室の底面板に取り付
けられた高圧トランスの第１次及び第２次誘導コイルが
相互誘導作用により生成された高電圧を安定的にマグネ
トロンに印加することにより生成される。この高周波は
導波管を通して電子レンジの調理室内部に照射される
が、これにより、調理室の内部に置かれた食品が加熱さ
れ調理がなされる。
て食品を調理する装置であって、電子レンジの電場室に
は高周波を生成するマグネトロンと電気ヒータが備えら
れている。上記高周波は、主に電場室の底面板に取り付
けられた高圧トランスの第１次及び第２次誘導コイルが
相互誘導作用により生成された高電圧を安定的にマグネ
トロンに印加することにより生成される。この高周波は
導波管を通して電子レンジの調理室内部に照射される
が、これにより、調理室の内部に置かれた食品が加熱さ
れ調理がなされる。
【０００３】以下、図１を参照しながら、従来の電子レ
ンジの構造を説明する。
ンジの構造を説明する。
【０００４】図１は従来の電子レンジの概略的な断面図
である。同図に示すように、マグネトロン１０は制御部
の回路素子によって電磁波を発生させる。このマグネト
ロン１０から発生した超高周波は導波管２０を通って伝
播する。この導波管２０を通って伝播した超高周波は調
理室６０内に流入する。上記導波管２０と調理室６０と
の境界には超高周波を調理室内に分散させるための開口
部３０が形成されている。この開口部３０の下方にはス
タラーファン４０が備えられている。
である。同図に示すように、マグネトロン１０は制御部
の回路素子によって電磁波を発生させる。このマグネト
ロン１０から発生した超高周波は導波管２０を通って伝
播する。この導波管２０を通って伝播した超高周波は調
理室６０内に流入する。上記導波管２０と調理室６０と
の境界には超高周波を調理室内に分散させるための開口
部３０が形成されている。この開口部３０の下方にはス
タラーファン４０が備えられている。
【０００５】このような従来の電子レンジの動作は次の
通りである。
通りである。
【０００６】マグネトロン１０に高圧の電気を印加すれ
ば、例えば２，４５０ＭＨｚ程度の超高周波が発生し
て、導波管２０に放出される。この放出された超高周波
は導波管２０を通って開口部３０に放射される。超高周
波はこの開口部３０の開口面によって調理室６０内に分
散する。開口部３０の下方のスタラーファン４０は、開
口面で回転しながら超高周波を調理室６０内の各部分に
効果的に分散させる役割をする。
ば、例えば２，４５０ＭＨｚ程度の超高周波が発生し
て、導波管２０に放出される。この放出された超高周波
は導波管２０を通って開口部３０に放射される。超高周
波はこの開口部３０の開口面によって調理室６０内に分
散する。開口部３０の下方のスタラーファン４０は、開
口面で回転しながら超高周波を調理室６０内の各部分に
効果的に分散させる役割をする。
【０００７】このように調理室６０内に分散した超高周
波は調理対象物に直接伝達されるか、あるいは調理室６
０内の側壁に衝突及び反射して調理対象物に伝達され
る。調理対象物に入射した超高周波は調理対象物を構成
している分子に１秒当り２４億５千万回程度の高速の分
子並進運動を伝達することで、調理対象物を分子運動に
より加熱するわけである。
波は調理対象物に直接伝達されるか、あるいは調理室６
０内の側壁に衝突及び反射して調理対象物に伝達され
る。調理対象物に入射した超高周波は調理対象物を構成
している分子に１秒当り２４億５千万回程度の高速の分
子並進運動を伝達することで、調理対象物を分子運動に
より加熱するわけである。
【０００８】かかる従来の電子レンジによれば、マグネ
トロン１０から放出される電磁波は一方向の進行性を有
するビーム形態を有し、導波管２０に沿って進行方向が
変化しながら調理室６０内に伝播する。
トロン１０から放出される電磁波は一方向の進行性を有
するビーム形態を有し、導波管２０に沿って進行方向が
変化しながら調理室６０内に伝播する。
【０００９】通常、調理室６０の内部構造は直方体に形
成される。超高周波は導波管２０の開口部３０から分散
されるため、超高周波はこの開口部３０を原点として球
形に伝播する。超高周波の電界強度は放射電力の平方根
と比例し、開口部３０から伝播した距離とは反比例す
る。また、放射電力及び伝播距離が同一の場合、球面電
界強度は超高周波の波長によってその強度が決まる。
成される。超高周波は導波管２０の開口部３０から分散
されるため、超高周波はこの開口部３０を原点として球
形に伝播する。超高周波の電界強度は放射電力の平方根
と比例し、開口部３０から伝播した距離とは反比例す
る。また、放射電力及び伝播距離が同一の場合、球面電
界強度は超高周波の波長によってその強度が決まる。
【００１０】従って、直方体の調理室の場合、各々の隅
より反射し伝播する電磁波は中央部に直接伝播する電磁
波に比べて電界強度が大幅に減少し調理効率が非常に低
下するばかりでなく、調理対象物の各部位に到達する電
磁波の電界強度がそれぞれ異なるため、各部位に対する
加熱強度も異なる。
より反射し伝播する電磁波は中央部に直接伝播する電磁
波に比べて電界強度が大幅に減少し調理効率が非常に低
下するばかりでなく、調理対象物の各部位に到達する電
磁波の電界強度がそれぞれ異なるため、各部位に対する
加熱強度も異なる。
【００１１】従来の構造を有する電子レンジによれば、
調理室の内部が直方体となっているため、電磁波の相互
干渉により超高周波が理想的に分散出来ず、最大の干渉
効果及び伝達効果を得ることができない。従って、調理
効率が低下し、調理時間が長くなり、また、超高周波の
損失により調理状態も不良となるという問題点があっ
た。
調理室の内部が直方体となっているため、電磁波の相互
干渉により超高周波が理想的に分散出来ず、最大の干渉
効果及び伝達効果を得ることができない。従って、調理
効率が低下し、調理時間が長くなり、また、超高周波の
損失により調理状態も不良となるという問題点があっ
た。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記のような
問題点に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、
マグネトロンから発生した電磁波を電子レンジ内で最大
の電界強度でもって分散させるための、電磁波の誘導構
造を備えた電子レンジを提供することにある。
問題点に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、
マグネトロンから発生した電磁波を電子レンジ内で最大
の電界強度でもって分散させるための、電磁波の誘導構
造を備えた電子レンジを提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記のような目的を達成
するために、本発明による電磁波の誘導構造を備えた電
子レンジは、電磁波を発生させるためのマグネトロン；
上記電磁波を誘導するための導波管；上記電磁波を用い
て調理対象物を調理するための調理室；を含み、上記調
理室は、その上側壁に配置され上記導波管を通って伝播
した電磁波が流入する開口部と、上記開口部の下方に形
成され電磁波を調理室内に分散させるための第１スタラ
ーファンを備えており、上記開口部を通過して調理室内
に分散される電磁波を最大電界強度の状態で誘導するた
めに、上記開口部を中心として放射状に第１の複数の環
状電界階段として形成された上側壁を有し、上記上側壁
の各環状電界階段は、大きな半径の環状階段の方が小さ
な半径の環状階段より底面からの高さが低くなるように
形成され、上側壁の開口部の形成された中心部が一番高
くなるように形成される。
するために、本発明による電磁波の誘導構造を備えた電
子レンジは、電磁波を発生させるためのマグネトロン；
上記電磁波を誘導するための導波管；上記電磁波を用い
て調理対象物を調理するための調理室；を含み、上記調
理室は、その上側壁に配置され上記導波管を通って伝播
した電磁波が流入する開口部と、上記開口部の下方に形
成され電磁波を調理室内に分散させるための第１スタラ
ーファンを備えており、上記開口部を通過して調理室内
に分散される電磁波を最大電界強度の状態で誘導するた
めに、上記開口部を中心として放射状に第１の複数の環
状電界階段として形成された上側壁を有し、上記上側壁
の各環状電界階段は、大きな半径の環状階段の方が小さ
な半径の環状階段より底面からの高さが低くなるように
形成され、上側壁の開口部の形成された中心部が一番高
くなるように形成される。
【００１４】上記の電界階段の開口面に平行な面の幅
は、超高周波の波長の１／４であるのが望ましい。
は、超高周波の波長の１／４であるのが望ましい。
【００１５】上記電磁波の誘導構造を備えた電子レンジ
における上記調理室は、上記開口部を通過して調理室内
に分散される電磁波を最大電界強度の状態で誘導するた
めに、上記開口部に対応する中心部の円形部及び第２の
複数の環状電界階段から形成された底面を有し、上記開
口部に対応する中心部の円形部を基準面とするとき、上
記底面の各環状電界階段は大きな半径の環状階段の方が
小さな半径の環状階段より基準面からの高さがより高く
なるように形成される。
における上記調理室は、上記開口部を通過して調理室内
に分散される電磁波を最大電界強度の状態で誘導するた
めに、上記開口部に対応する中心部の円形部及び第２の
複数の環状電界階段から形成された底面を有し、上記開
口部に対応する中心部の円形部を基準面とするとき、上
記底面の各環状電界階段は大きな半径の環状階段の方が
小さな半径の環状階段より基準面からの高さがより高く
なるように形成される。
【００１６】上記底面の電界階段の中心の円形部の上部
には第２スタラーファンが形成される。
には第２スタラーファンが形成される。
【００１７】また、上記電磁波の誘導構造を備えた電子
レンジにおいて、上記導波管を通過して調理室内に分散
される電磁波を最大電界強度の状態で誘導するために、
上記導波管の内側壁に第３の複数の電界階段を形成す
る。
レンジにおいて、上記導波管を通過して調理室内に分散
される電磁波を最大電界強度の状態で誘導するために、
上記導波管の内側壁に第３の複数の電界階段を形成す
る。
【００１８】上記のように本発明の電子レンジによれ
ば、マグネトロンから放出される超高周波が開口部から
調理室内に分散されるとき、上側壁に最大電界強度を維
持し得るように形成された複数の電界階段によって調理
室内での超高周波の干渉効果及び伝達効果を大幅に向上
させることができる。また、上記上側壁の複数の電界階
段と対称をなす形態の複数の電界階段を調理室の底面に
も形成して、調理室内での超高周波の干渉効果及び伝達
効果を向上させる。さらに、超高周波が導波管を通過す
る際、最大の電界強度を維持し得る電界階段を通過する
ことになり、導波管内での超高周波の干渉効果及び伝達
効果が最大となる。
ば、マグネトロンから放出される超高周波が開口部から
調理室内に分散されるとき、上側壁に最大電界強度を維
持し得るように形成された複数の電界階段によって調理
室内での超高周波の干渉効果及び伝達効果を大幅に向上
させることができる。また、上記上側壁の複数の電界階
段と対称をなす形態の複数の電界階段を調理室の底面に
も形成して、調理室内での超高周波の干渉効果及び伝達
効果を向上させる。さらに、超高周波が導波管を通過す
る際、最大の電界強度を維持し得る電界階段を通過する
ことになり、導波管内での超高周波の干渉効果及び伝達
効果が最大となる。
【００１９】このように、調理室内で超高周波が最大電
界強度を維持しながら万遍なく分散されるようにするこ
とで、調理効率の向上及び調理状態の最適化を図る。
界強度を維持しながら万遍なく分散されるようにするこ
とで、調理効率の向上及び調理状態の最適化を図る。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照しながら本
発明の一実施例による超高周波の誘導構造を備えた電子
レンジを詳しく説明する。
発明の一実施例による超高周波の誘導構造を備えた電子
レンジを詳しく説明する。
【００２１】図２は本発明の一実施例による超高周波の
誘導構造を備えた電子レンジの概略的な側断面図であ
り、図３は図２の電子レンジの平断面図である。
誘導構造を備えた電子レンジの概略的な側断面図であ
り、図３は図２の電子レンジの平断面図である。
【００２２】マグネトロン１００は制御部の回路素子に
よって電磁波を発生させる。
よって電磁波を発生させる。
【００２３】このマグネトロン１００から発生した超高
周波は導波管１２０を通って伝播する。この導波管１２
０の側壁には１つ以上の電界階段２１０が形成される。
周波は導波管１２０を通って伝播する。この導波管１２
０の側壁には１つ以上の電界階段２１０が形成される。
【００２４】この導波管１２０を通って伝播した超高周
波は調理室１６０内に流入する。上記調理室１６０の上
側壁には導波管１２０を通して誘導された超高周波を調
理室内に分散させる開口部１３０が形成されている。こ
の開口部１３０の下方には第１スタラーファン１４０が
備えられている。
波は調理室１６０内に流入する。上記調理室１６０の上
側壁には導波管１２０を通して誘導された超高周波を調
理室内に分散させる開口部１３０が形成されている。こ
の開口部１３０の下方には第１スタラーファン１４０が
備えられている。
【００２５】上記調理室１６０の上側壁の開口部１３０
を中心として放射状に複数の環状電界階段２２０が形成
される。上記上側壁の各環状電界階段は、大きな半径の
環状電界階段２２２の方が小さな半径の環状階段２２１
より底面からの高さが低くなるように形成される。調理
室１６０の上側壁は開口部１３０の設置された中心部が
一番高くなるように形成される。
を中心として放射状に複数の環状電界階段２２０が形成
される。上記上側壁の各環状電界階段は、大きな半径の
環状電界階段２２２の方が小さな半径の環状階段２２１
より底面からの高さが低くなるように形成される。調理
室１６０の上側壁は開口部１３０の設置された中心部が
一番高くなるように形成される。
【００２６】上記複数の環状電界階段２２０は、同一の
伝播距離で反射されるように環状の階段で形成される。
従って、電界階段の開口面と平行な面の幅、すなわち、
波動の進行方向に対して直交する平面上の幅を超高周波
の波長の１／４とする場合、電界強度を常に最大に維持
し得る球面最大電界強度を得ることができる。
伝播距離で反射されるように環状の階段で形成される。
従って、電界階段の開口面と平行な面の幅、すなわち、
波動の進行方向に対して直交する平面上の幅を超高周波
の波長の１／４とする場合、電界強度を常に最大に維持
し得る球面最大電界強度を得ることができる。
【００２７】（１）Ｌ＝λ／４（Ｌは波の水平球面電界
強度の最大値、λは波長） （２）λ＝Ｃ／ｆ（λは波長、Ｃは光速（３＊１０8ｍ
／ｓ）、ｆは周波数） ここで、Ｌは波の水平球面電界強度の最大値であって、
本発明では電界階段２２０の開口面と平行な面の幅に該
当する。例えば、周波数２，４５０ＭＨｚの電磁波が発
生する場合、各電界階段２２１、２２２の開口面と平行
な面の幅Ｌは約０．０３０６ｍ、即ち３．０６ｃｍであ
る。
強度の最大値、λは波長） （２）λ＝Ｃ／ｆ（λは波長、Ｃは光速（３＊１０8ｍ
／ｓ）、ｆは周波数） ここで、Ｌは波の水平球面電界強度の最大値であって、
本発明では電界階段２２０の開口面と平行な面の幅に該
当する。例えば、周波数２，４５０ＭＨｚの電磁波が発
生する場合、各電界階段２２１、２２２の開口面と平行
な面の幅Ｌは約０．０３０６ｍ、即ち３．０６ｃｍであ
る。
【００２８】また、調理室１６０の底面は、上記開口部
に対応する中心の円形部及び複数の環状電界階段２３０
で形成される。上記開口部に対応する中心の円形部を基
準面として、上記底面の各環状電界階段２３１、２３２
は大きな半径の環状階段２３２の方が小さな半径の環状
階段２３１より基準面からの高さがより高くなるように
形成される。
に対応する中心の円形部及び複数の環状電界階段２３０
で形成される。上記開口部に対応する中心の円形部を基
準面として、上記底面の各環状電界階段２３１、２３２
は大きな半径の環状階段２３２の方が小さな半径の環状
階段２３１より基準面からの高さがより高くなるように
形成される。
【００２９】上記調理室１６０の底面の電界階段の中心
円形部の上部には、底面の中心部に集まる電磁波を適切
に分散させるために回転駆動される第２スタラーファン
１５０が形成される。
円形部の上部には、底面の中心部に集まる電磁波を適切
に分散させるために回転駆動される第２スタラーファン
１５０が形成される。
【００３０】周波数が一定であるため、上記調理室１６
０の底面に形成された電界階段２３１、２３２及び導波
管に形成された電界階段２１１の開口面に平行な面の幅
も、上記調理室１６０の上側壁の電界階段２２１、２２
２の開口面に平行な面の幅と同一に設定される。
０の底面に形成された電界階段２３１、２３２及び導波
管に形成された電界階段２１１の開口面に平行な面の幅
も、上記調理室１６０の上側壁の電界階段２２１、２２
２の開口面に平行な面の幅と同一に設定される。
【００３１】以下、このように構成された本発明の超高
周波の誘導構造を備えた電子レンジの動作を説明する。
周波の誘導構造を備えた電子レンジの動作を説明する。
【００３２】まず、電子レンジを動作させると、マグネ
トロン１００に高圧の電気が印加される。マグネトロン
１００からは、例えば２，４５０ＭＨｚの超高周波ビー
ムが発生する。この超高周波ビームは導波管１２０に放
出される。導波管１２０内に放出された超高周波は金属
では反射し、ガラス及び磁器などの材料は透過する。従
って、金属材の導波管１２０を用いれば、導波管１２０
の折曲形状に沿って伝播する。超高周波は導波管１２０
を通過する間、当該超高周波の波長の１／４に該当する
平面幅を有する電界階段２１０によって球形電界強度を
最大に維持しながら開口部１３０に誘導される。２，４
５０ＭＨｚの超高周波ビームに該当する電界階段２１１
の平面幅は約３．０６ｃｍに形成される。
トロン１００に高圧の電気が印加される。マグネトロン
１００からは、例えば２，４５０ＭＨｚの超高周波ビー
ムが発生する。この超高周波ビームは導波管１２０に放
出される。導波管１２０内に放出された超高周波は金属
では反射し、ガラス及び磁器などの材料は透過する。従
って、金属材の導波管１２０を用いれば、導波管１２０
の折曲形状に沿って伝播する。超高周波は導波管１２０
を通過する間、当該超高周波の波長の１／４に該当する
平面幅を有する電界階段２１０によって球形電界強度を
最大に維持しながら開口部１３０に誘導される。２，４
５０ＭＨｚの超高周波ビームに該当する電界階段２１１
の平面幅は約３．０６ｃｍに形成される。
【００３３】上記のように最大電界強度を維持した超高
周波は開口部１３０から調理室１６０に放出される。開
口部１３０の開口面の下方に配置された第１スタラーフ
ァン１４０により超高周波は調理室１６０内に分散す
る。
周波は開口部１３０から調理室１６０に放出される。開
口部１３０の開口面の下方に配置された第１スタラーフ
ァン１４０により超高周波は調理室１６０内に分散す
る。
【００３４】調理室１６０内に分散する超高周波は当該
超高周波の波長の１／４に該当する平面幅を有する環状
の電界階段２２１、２２２により調理室１６０内で球形
電界強度を最大に維持しながら分散する。２，４５０Ｍ
Ｈｚの超高周波ビームに該当する環状の電界階段２２
１、２２２の平面幅は約３．０６ｃｍに形成される。
超高周波の波長の１／４に該当する平面幅を有する環状
の電界階段２２１、２２２により調理室１６０内で球形
電界強度を最大に維持しながら分散する。２，４５０Ｍ
Ｈｚの超高周波ビームに該当する環状の電界階段２２
１、２２２の平面幅は約３．０６ｃｍに形成される。
【００３５】一方、上記調理室１６０の開口部で分散さ
れかつ各環状の電界階段２２０によって反射された超高
周波は、この開口部１３０に対向する底面に向かって進
行する。上記超高周波はその波長の１／４に該当する平
面幅を有する底面の環状電界階段２３０によって調理室
１６０内で最大の球形電界強度を維持しながら分散す
る。２，４５０ＭＨｚの超高周波ビームに該当する環状
の電界階段２３１、２３２の平面幅は約３．０６ｃｍに
形成される。
れかつ各環状の電界階段２２０によって反射された超高
周波は、この開口部１３０に対向する底面に向かって進
行する。上記超高周波はその波長の１／４に該当する平
面幅を有する底面の環状電界階段２３０によって調理室
１６０内で最大の球形電界強度を維持しながら分散す
る。２，４５０ＭＨｚの超高周波ビームに該当する環状
の電界階段２３１、２３２の平面幅は約３．０６ｃｍに
形成される。
【００３６】このような伝播パターンを有する超高周波
は、調理室１６０内で均一に分布されるため、調理対象
物の各部位に対する調理状態が良好になり、また調理時
間も短縮される。
は、調理室１６０内で均一に分布されるため、調理対象
物の各部位に対する調理状態が良好になり、また調理時
間も短縮される。
【００３７】但し、上記の内容は電界階段の幅の値が理
論的な値として提示されたものであって、実際の適用時
には波の共振特性上、周波数の短縮率を考慮して電磁波
の最大電界強度をより効果的に維持し、またより効果的
に電磁波を分散させ得る値を選択するのが望ましい。例
えば、本実施例では周波数の短縮率を９５％とする場
合、電界階段の平面層の幅Ｌは３．０６＊０．９５＝
２．９０７ｃｍとするのが効果的である。
論的な値として提示されたものであって、実際の適用時
には波の共振特性上、周波数の短縮率を考慮して電磁波
の最大電界強度をより効果的に維持し、またより効果的
に電磁波を分散させ得る値を選択するのが望ましい。例
えば、本実施例では周波数の短縮率を９５％とする場
合、電界階段の平面層の幅Ｌは３．０６＊０．９５＝
２．９０７ｃｍとするのが効果的である。
【００３８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の電子レン
ジによれば、マグネトロンより放出される超高周波が開
口部から調理室内に分散される時、上側壁に最大電界強
度の維持のために形成された複数の電界階段によって調
理室内での超高周波の干渉効果及び伝達効果を大幅に向
上させることができる。また、上記上側壁の複数の電界
階段と対称をなす形態の複数の電界階段を調理室の底面
にも形成して、調理室内での超高周波の干渉及び伝達効
果を向上させる。さらに、超高周波が導波管を通過する
際、最大の電界強度を維持し得る電界階段を通るため、
導波管内での超高周波の干渉及び伝達効果が最大とな
る。
ジによれば、マグネトロンより放出される超高周波が開
口部から調理室内に分散される時、上側壁に最大電界強
度の維持のために形成された複数の電界階段によって調
理室内での超高周波の干渉効果及び伝達効果を大幅に向
上させることができる。また、上記上側壁の複数の電界
階段と対称をなす形態の複数の電界階段を調理室の底面
にも形成して、調理室内での超高周波の干渉及び伝達効
果を向上させる。さらに、超高周波が導波管を通過する
際、最大の電界強度を維持し得る電界階段を通るため、
導波管内での超高周波の干渉及び伝達効果が最大とな
る。
【００３９】これにより、調理室内で超高周波が最大の
電界強度を維持しながら均一に分散され、調理効率が大
幅に向上し、調理状態も最適の状態となる。
電界強度を維持しながら均一に分散され、調理効率が大
幅に向上し、調理状態も最適の状態となる。
【図１】従来の電子レンジの概略的な側断面図である。
【図２】本発明の一実施例による超高周波の誘導構造を
備えた電子レンジの概略的な側断面図である。
備えた電子レンジの概略的な側断面図である。
【図３】図２の電子レンジの平断面図である。
１００ マグネトロン １２０ 導波管 １３０ 開口部 １４０ 第１スタラーファン １５０ 第２スタラーファン １６０ 調理室 ２２０、２３０ 環状の電界階段
Claims (9)
- 【請求項１】 電磁波を発生させるためのマグネトロ
ン；上記電磁波を誘導するための導波管；上記電磁波を
用いて調理対象物を調理するための調理室；を含み、 上記調理室は、その上側壁に配置され上記導波管を通っ
て伝播した電磁波が流入する開口部と、上記調理室内の
上記開口部の近傍に形成され電磁波を調理室内に分散さ
せるための第１スタラーファンを備えており、上記開口
部を通過して調理室内に分散される電磁波を最大電界強
度の状態で誘導するために、上記開口部を中心として放
射状に第１の複数の環状電界階段として形成された上側
壁を有し、上記上側壁の各環状電界階段は、大きな半径
の環状階段の方が小さな半径の環状階段より底面からの
高さが低くなるように形成され、上側壁の開口部の形成
された中心部が一番高くなるように形成されることを特
徴とする電磁波の誘導構造を備えた電子レンジ。 - 【請求項２】 上記第１の電界階段の開口面に平行な面
の幅は、最大球面電界強度を得るために、電磁波の波長
の１／４であることを特徴とする請求項１に記載の電磁
波の誘導構造を備えた電子レンジ。 - 【請求項３】 上記電磁波の誘導構造を備えた電子レン
ジにおける上記調理室は、上記開口部を通過して調理室
内に分散される電磁波を最大電界強度の状態で誘導する
ために、上記開口部に対応する中心部の円形部及び第２
の複数の環状電界階段から形成された底面を有し、上記
開口部に対応する中心部の円形部を基準面とするとき、
上記底面の各環状電界階段は大きな半径の環状階段の方
が小さな半径の環状階段より基準面からの高さがより高
くなるように形成されることを特徴とする請求項１に記
載の電磁波の誘導構造を備えた電子レンジ。 - 【請求項４】 上記第２の電界階段の開口面に平行な面
の幅は、最大球面電界強度を得るために、電磁波の波長
の１／４であることを特徴とする請求項３に記載の電磁
波の誘導構造を備えた電子レンジ。 - 【請求項５】 上記底面の第２の電界階段の中心の円形
部の上部には第２スタラーファンが形成されることを特
徴とする請求項３に記載の電磁波の誘導構造を備えた電
子レンジ。 - 【請求項６】 電磁波を発生させるためのマグネトロ
ン；上記電磁波を誘導するための導波管；上記電磁波を
用いて調理対象物を調理するための調理室；を含み、上
記調理室は、その上側壁に配置され上記導波管を通って
伝播した電磁波が流入する開口部と、上記開口部の近傍
に形成され電磁波を調理室内に分散させるための第１ス
タラーファンとを備えており、 上記電磁波の誘導構造を備えた電子レンジにおいて、上
記導波管の内側壁に第３の複数の電界階段を形成するこ
とで、上記導波管を通過して調理室内に分散される電磁
波を最大電界強度の状態で誘導することを特徴とする電
磁波の誘導構造を備えた電子レンジ。 - 【請求項７】 上記調理室は、上記開口部を通過して調
理室内に分散される電磁波を最大電界強度の状態で誘導
するために、上記開口部を中心として放射状に第１の複
数の環状電界階段として形成された上側壁を有し、上記
上側壁の各環状電界階段は、大きな半径の環状階段の方
が小さな半径の環状階段より底面からの高さが低くなる
ように形成され、上側壁の開口部の形成された中心部が
一番高くなるように形成されることを特徴とする請求項
６に記載の電磁波の誘導構造を備えた電子レンジ。 - 【請求項８】 上記調理室は、上記開口部を通過して調
理室内に分散される電磁波を最大電界強度の状態で誘導
するために、上記開口部に対応する中心部の円形部及び
第２の複数の環状電界階段から形成された底面を有し、
上記開口部に対応する中心部の円形部を基準面とすると
き、上記底面の各環状電界階段は大きな半径の環状階段
の方が小さな半径の環状階段より基準面からの高さがよ
り高くなるように形成されることを特徴とする請求項６
に記載の電磁波の誘導構造を備えた電子レンジ。 - 【請求項９】 上記底面の第２の電界階段の中心の円形
部の上部には第２スタラーファンが形成されることを特
徴とする請求項８に記載の電磁波の誘導構造を備えた電
子レンジ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019970007878A KR100207276B1 (ko) | 1997-03-10 | 1997-03-10 | 전자렌지의 초고주파유도구조 |
| KR97-7878 | 1997-03-10 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10253066A true JPH10253066A (ja) | 1998-09-25 |
Family
ID=19499196
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10000292A Pending JPH10253066A (ja) | 1997-03-10 | 1998-01-05 | 電磁波の誘導構造を備えた電子レンジ |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5880442A (ja) |
| JP (1) | JPH10253066A (ja) |
| KR (1) | KR100207276B1 (ja) |
| FR (1) | FR2760589A1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100396765B1 (ko) * | 2000-08-23 | 2003-09-02 | 엘지전자 주식회사 | 전자렌지의 균일가열구조 |
| KR102304029B1 (ko) * | 2021-04-30 | 2021-09-23 | 주식회사 일진텍 | 열처리 챔버 및 인라인 열처리 장치 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SE513617C2 (sv) * | 1997-02-13 | 2000-10-09 | Whirlpool Europ | Mikrovågsmatning av ugnskavitet |
| US6624399B2 (en) * | 2000-11-15 | 2003-09-23 | Zenon Rypan | Space saving cooking appliance |
| KR20030096542A (ko) * | 2002-06-14 | 2003-12-31 | 삼성전자주식회사 | 전자렌지 |
| US6657171B1 (en) * | 2002-11-20 | 2003-12-02 | Maytag Corporation | Toroidal waveguide for a microwave cooking appliance |
| JP2004265616A (ja) * | 2003-02-05 | 2004-09-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | マイクロ波加熱装置 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3619536A (en) * | 1970-05-14 | 1971-11-09 | Bowmar Tic Inc | Microwave oven with separately driven antenna elements |
| US3764770A (en) * | 1972-05-03 | 1973-10-09 | Sage Laboratories | Microwave oven |
| JPS5211442A (en) * | 1975-07-17 | 1977-01-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | High frequency heating apparatus |
| US4140888A (en) * | 1976-12-01 | 1979-02-20 | Litton Systems, Inc. | Dual-feed microwave oven |
| DE3028009A1 (de) * | 1980-07-24 | 1982-02-18 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | Mikrowellenheizgeraet |
-
1997
- 1997-03-10 KR KR1019970007878A patent/KR100207276B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1997-12-30 US US09/000,612 patent/US5880442A/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-12-31 FR FR9716788A patent/FR2760589A1/fr not_active Withdrawn
-
1998
- 1998-01-05 JP JP10000292A patent/JPH10253066A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100396765B1 (ko) * | 2000-08-23 | 2003-09-02 | 엘지전자 주식회사 | 전자렌지의 균일가열구조 |
| KR102304029B1 (ko) * | 2021-04-30 | 2021-09-23 | 주식회사 일진텍 | 열처리 챔버 및 인라인 열처리 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5880442A (en) | 1999-03-09 |
| KR100207276B1 (ko) | 1999-07-15 |
| KR19980072876A (ko) | 1998-11-05 |
| FR2760589A1 (fr) | 1998-09-11 |
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