JPH10255262A - Manufacturing method of magnetic recording medium - Google Patents

Manufacturing method of magnetic recording medium

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JPH10255262A
JPH10255262A JP5215897A JP5215897A JPH10255262A JP H10255262 A JPH10255262 A JP H10255262A JP 5215897 A JP5215897 A JP 5215897A JP 5215897 A JP5215897 A JP 5215897A JP H10255262 A JPH10255262 A JP H10255262A
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JP
Japan
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protective film
magnetic
carbon protective
recording medium
magnetic recording
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Withdrawn
Application number
JP5215897A
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Japanese (ja)
Inventor
Takahiro Kawana
隆宏 川名
Takao Mori
敬郎 森
Ryoichi Hiratsuka
亮一 平塚
Seiichi Onodera
誠一 小野寺
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 カーボン保護膜を薄膜化するとともに、更な
る耐久性の向上を図った磁気記録媒体を製造する方法を
提供する。 【解決手段】 非磁性支持体2上に形成された磁性層3
上に、カーボン保護膜4を形成し、上記カーボン保護膜
4上に、少なくとも窒素ガスを含む反応ガスをイオン化
し、加速電圧を40kV乃至100kVとして照射す
る。
(57) [Problem] To provide a method for manufacturing a magnetic recording medium in which a carbon protective film is made thinner and durability is further improved. SOLUTION: A magnetic layer 3 formed on a non-magnetic support 2
A carbon protective film 4 is formed thereon, and a reaction gas containing at least nitrogen gas is ionized on the carbon protective film 4 and irradiated with an acceleration voltage of 40 kV to 100 kV.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁性層上にカーボ
ン保護膜を形成する磁気記録媒体の製造方法に関するも
のである。詳しくは耐久性を向上した磁気記録媒体の製
造方法に係るものである。
The present invention relates to a method for manufacturing a magnetic recording medium in which a carbon protective film is formed on a magnetic layer. More specifically, the present invention relates to a method for manufacturing a magnetic recording medium with improved durability.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、磁気記録媒体としては、非磁
性支持体上に酸化物磁性粉末、あるいは合金磁性粉末等
の粉末磁性材料を塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、
ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ポリウレタン樹脂等
の有機バインダー中に分散した磁性塗料を塗布し、乾燥
することにより製造される塗布型の磁気記録媒体が広く
使用されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a magnetic recording medium, a powder magnetic material such as an oxide magnetic powder or an alloy magnetic powder has been coated on a non-magnetic support by a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer,
2. Description of the Related Art A coating type magnetic recording medium manufactured by applying a magnetic coating material dispersed in an organic binder such as a polyester resin, a urethane resin, and a polyurethane resin and drying the coating is widely used.

【0003】一方、情報信号等の高密度磁気記録への要
求の高まりにともない、ポリエステルフィルムやポリア
ミドポリイミドフィルム等の非磁性支持体上に、Co−
Ni合金、Co−Cr合金、Co−O等の金属磁性材料
を、メッキや真空薄膜形成方法(例えば、真空蒸着法や
スパッタリング法やイオンプレーティング法等)によっ
て直接被着した、いわゆる金属磁性薄膜型の磁気記録媒
体が実用化されている。金属磁性薄膜型の磁気記録媒体
は、抗磁力、角形比等に優れ、短波長での電磁変換特性
に優れるばかりでなく、磁性層の厚みをきわめて薄くす
ることができるため、記録減磁や再生時の厚み損失が著
しく小さいこと、磁性層中に非磁性材であるバインダー
を混入する必要が無いため、磁性材料の充填密度を高め
ることができること等、数々の利点を有している。
On the other hand, with the growing demand for high-density magnetic recording of information signals and the like, a non-magnetic support such as a polyester film or a polyamide-polyimide film is coated on a non-magnetic support.
A so-called metal magnetic thin film in which a metal magnetic material such as a Ni alloy, a Co-Cr alloy, or Co-O is directly applied by plating or a vacuum thin film forming method (for example, a vacuum evaporation method, a sputtering method, an ion plating method, etc.). Type magnetic recording media have been put to practical use. Metallic magnetic thin film type magnetic recording media have excellent coercive force, squareness ratio, etc., and excellent electromagnetic conversion characteristics at short wavelengths. There are many advantages, such as extremely small thickness loss at the time, and the fact that it is not necessary to mix a binder, which is a nonmagnetic material, in the magnetic layer, so that the packing density of the magnetic material can be increased.

【0004】上述した金属磁性薄膜型の磁気記録媒体に
おいては、電磁変換特性を向上させ、より大きな出力を
得ることが出来るようにするために、磁性層を成膜する
場合、この磁性層を斜めに蒸着する斜方蒸着法が提案さ
れ実用化されている。
In the above-described magnetic recording medium of the metal magnetic thin film type, when a magnetic layer is formed in order to improve the electromagnetic conversion characteristics and to obtain a larger output, the magnetic layer is obliquely formed. An oblique deposition method for vapor deposition on a substrate has been proposed and put to practical use.

【0005】近年、金属磁性薄膜型の磁気記録媒体は、
アナログ化からデジタル化への技術移行に伴って情報記
録手段としてより一層の高密度化が要求されている。こ
の更なる高密度化への要求から、金属磁性薄膜型の磁気
記録媒体は、スペーシング損失を少なくするために、そ
の表面が平滑化される傾向にある。
In recent years, magnetic recording media of the metal magnetic thin film type have
As the technology shifts from analogization to digitalization, higher density is required as information recording means. Due to this demand for higher density, the magnetic recording medium of the metal magnetic thin film type tends to have a smooth surface in order to reduce spacing loss.

【0006】ところが、磁気記録媒体の表面を平滑化す
ると、ヘッドと磁気記録媒体間の摩擦力が増大してしま
うため、磁気記録媒体に生じるせん断力も大きくなって
しまう。そのため、金属磁性薄膜型の磁気記録媒体は、
このような厳しい条件における摺動耐久性等の耐久性の
向上が必要とされる。
However, when the surface of the magnetic recording medium is smoothed, the frictional force between the head and the magnetic recording medium increases, so that the shear force generated on the magnetic recording medium also increases. Therefore, a magnetic recording medium of the metal magnetic thin film type
It is necessary to improve durability such as sliding durability under such severe conditions.

【0007】そこで、金属磁性薄膜型の磁気記録媒体
は、耐久性を付与する目的で、その磁性層上に保護膜を
形成することが検討され実用化されている。
In view of the above, the formation of a protective film on a magnetic layer of a magnetic recording medium of the metal magnetic thin film type for the purpose of imparting durability has been studied and put to practical use.

【0008】保護膜としては、カーボン膜、石英(Si
2)膜、ジルコニア(ZrO2)膜等が実用化されてい
る。特に、注目されているカーボン膜としては、より硬
度な膜であるダイヤモンド状カーボン膜(以下、DLC
膜と称する。)である。このDLC膜の膜形成方法は、
スパッタリング法、化学的気相成長(以下、CVD法と
称する。)等が用いられる。
As a protective film, a carbon film, quartz (Si
O 2 ) films, zirconia (ZrO 2 ) films and the like have been put to practical use. In particular, as a carbon film that has attracted attention, a diamond-like carbon film (hereinafter, DLC) which is a harder film is used.
It is called a film. ). The method of forming the DLC film is as follows.
A sputtering method, a chemical vapor deposition (hereinafter, referred to as a CVD method), or the like is used.

【0009】スパッタリング法は、まず電場や磁場を利
用してArガス等の不活性ガスの電離(プラズマ化)を
行う。次に、電離されたArイオンを加速して、その運
動エネルギーによりターゲットの原子をはじき出す。そ
して、そのはじき出された原子が、対向する基板上に堆
積して膜を形成する物理的プロセスである。このスパッ
タリング法は、DLC膜の膜形成速度が一般に遅いた
め、工業的見地から生産性に劣る。
In the sputtering method, first, an inert gas such as Ar gas is ionized (plasmaized) using an electric field or a magnetic field. Next, the ionized Ar ions are accelerated, and the atoms of the target are repelled by their kinetic energy. Then, the ejected atoms are a physical process in which the atoms are deposited on an opposing substrate to form a film. This sputtering method is generally inferior in productivity from an industrial point of view because the film formation rate of the DLC film is generally slow.

【0010】一方、CVD法は、電場や磁場を用いて発
生させたプラズマのエネルギーを利用して、原料となる
炭化水素ガス等の気体の分解、合成等の化学反応を起こ
し、膜を形成する化学的プロセスである。
On the other hand, in the CVD method, a chemical reaction such as decomposition or synthesis of a gas such as a hydrocarbon gas as a raw material is caused by utilizing the energy of plasma generated using an electric field or a magnetic field to form a film. It is a chemical process.

【0011】これら方法により形成されたカーボン保護
膜によって、金属磁性薄膜型の磁気記録媒体の摺動耐久
性は、著しく改善された。
With the carbon protective film formed by these methods, the sliding durability of the magnetic recording medium of the metal magnetic thin film type is remarkably improved.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年、
更なる高密度磁気記録への要求から、カーボン保護膜の
膜厚に起因するスペーシング損失が問題とされるように
なり、カーボン保護膜自体を薄膜化し、しかもカーボン
保護膜による磁気記録媒体の耐久性を確保することが必
要とされている。
However, in recent years,
Due to the demand for higher density magnetic recording, spacing loss due to the thickness of the carbon protective film has become a problem, and the carbon protective film itself has been made thinner. There is a need to ensure the quality.

【0013】そこで、本発明は、このような従来の実状
に鑑みて提案されたものであり、カーボン保護膜を薄膜
化し、しかも再生出力及び耐久性を向上することができ
る磁気記録媒体を提供することを目的とする。
Accordingly, the present invention has been proposed in view of such a conventional situation, and provides a magnetic recording medium capable of reducing the thickness of a carbon protective film and improving reproduction output and durability. The purpose is to:

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上述した目的を達成する
ために、本発明に係る磁気記録媒体の製造方法は、非磁
性支持体上に形成された磁性層上にカーボン保護膜を形
成し、上記カーボン保護膜上に、少なくとも窒素ガスを
含む反応ガスをイオン化し加速電圧を40kV乃至10
0kVとして照射することを特徴とする。
In order to achieve the above-mentioned object, a method of manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention comprises forming a carbon protective film on a magnetic layer formed on a non-magnetic support, On the carbon protective film, a reaction gas containing at least nitrogen gas is ionized to increase the acceleration voltage from 40 kV to 10 kV.
The irradiation is performed at 0 kV.

【0015】ここで、上記カーボン保護膜は、12nm
以下の厚さに形成されることが好ましい。また、このカ
ーボン保護膜は、CVD法により形成されると良い。
Here, the carbon protective film has a thickness of 12 nm.
Preferably, it is formed to the following thickness. This carbon protective film is preferably formed by a CVD method.

【0016】以上のような本発明に係る磁気記録媒体の
製造方法によれば、カーボン保護膜上に、少なくとも窒
素ガスを含む反応ガスがイオン化し、加速電圧を40k
V乃至100kVとして照射することによって、カーボ
ン保護膜を薄膜化し、しかも耐久性を向上することがで
きる磁気記録媒体を製造する。
According to the method for manufacturing a magnetic recording medium of the present invention as described above, the reaction gas containing at least nitrogen gas is ionized on the carbon protective film, and the acceleration voltage is reduced to 40 kV.
By irradiating with a voltage of V to 100 kV, a magnetic recording medium capable of reducing the thickness of the carbon protective film and improving the durability is manufactured.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る磁気記録媒体
の製造方法について、その実施の形態を図面を参照して
詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of a method for manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0018】本例の磁気記録媒体は、図1に示すよう
に、非磁性支持体2上に磁性層3が形成されてなる、金
属磁性薄膜型の磁気記録媒体1である。この金属磁性薄
膜型の磁気記録媒体1は、磁性層3上にカーボン保護膜
4が形成された後、このカーボン保護膜4上に、少なく
とも窒素ガスを含む反応ガスのイオンが照射される。
The magnetic recording medium of this embodiment is a metal magnetic thin film type magnetic recording medium 1 in which a magnetic layer 3 is formed on a non-magnetic support 2, as shown in FIG. In the magnetic recording medium 1 of the metal magnetic thin film type, after a carbon protective film 4 is formed on the magnetic layer 3, the carbon protective film 4 is irradiated with ions of a reaction gas containing at least nitrogen gas.

【0019】上記非磁性支持体2は、例えば、ポリエチ
レンテレフタレート等のポリエステル類、ポリエチレン
等のポリオレフィン類、セルローストリアセテート、セ
ルロースブチレート等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂、ポリアミ
ド等の高分子材料の他、アルミニウム合金、チタン合金
等の軽金属、アルミナガラス等のセラミック等が挙げら
れる。
The nonmagnetic support 2 is made of, for example, polyesters such as polyethylene terephthalate, polyolefins such as polyethylene, cellulose derivatives such as cellulose triacetate and cellulose butyrate, and vinyl resins such as polyvinyl chloride and polyvinylidene chloride. In addition to polymer materials such as polyamides, light metals such as aluminum alloys and titanium alloys, and ceramics such as alumina glass can be used.

【0020】なお、これら非磁性支持体2には、磁性層
3が形成される側の面に表面制御を目的として、複数の
微細な表面突起を形成するようにしても良い。これら表
面突起は、非磁性支持体2の原材料(チップ)内に所定
の大きさのフィラーを分散させ、フィラーをバインダー
樹脂等により定着させる方法等によって形成される。フ
ィラーとしては、SiO2粒子や水溶性ラテックス等が
挙げられる。
A plurality of fine surface projections may be formed on the surface of the non-magnetic support 2 on which the magnetic layer 3 is formed, for the purpose of controlling the surface. These surface protrusions are formed by a method in which a filler of a predetermined size is dispersed in a raw material (chip) of the nonmagnetic support 2 and the filler is fixed with a binder resin or the like. Examples of the filler include SiO 2 particles and water-soluble latex.

【0021】また、非磁性支持体2にアルミニウム合金
板やガラス板等の剛性を有する基板を用いた場合には、
基板表面にアルマイト処理等の酸化被膜やNi−P被膜
等を形成してその表面を硬くするようにしてもよい。
When a rigid substrate such as an aluminum alloy plate or a glass plate is used for the nonmagnetic support 2,
An oxide film such as alumite treatment or a Ni-P film may be formed on the substrate surface to make the surface hard.

【0022】磁性層3を構成する磁性材料としては、例
えば、Fe、Co、Niなどの強磁性金属、Fe−C
o、Co−Ni、Fe−Co−Ni、Fe−Cu、Co
−Cu、Co−Au、Co−Pt,Mn−Bi、Mn−
Al、Fe−Cr、Co−Cr、Ni−Cr、Fe−C
o−Cr、Co−Ni−Cr、Fe−Co−Ni−Cr
等の強磁性合金が挙げられる。磁性層3としては、これ
らの単層膜であってもよいし、多層膜であっても良い。
The magnetic material constituting the magnetic layer 3 is, for example, a ferromagnetic metal such as Fe, Co, or Ni;
o, Co-Ni, Fe-Co-Ni, Fe-Cu, Co
—Cu, Co—Au, Co—Pt, Mn—Bi, Mn—
Al, Fe-Cr, Co-Cr, Ni-Cr, Fe-C
o-Cr, Co-Ni-Cr, Fe-Co-Ni-Cr
And other ferromagnetic alloys. The magnetic layer 3 may be a single-layer film or a multilayer film.

【0023】磁性層3の形成手段としては、真空下で強
磁性材料を加熱蒸発させ非磁性支持体2上に沈着させる
真空蒸着法や、強磁性金属材料の蒸発を放電中で行うイ
オンプレーティング法、アルゴンを主成分とする雰囲気
中でグロー放電を起こし、生じたアルゴンイオンでター
ゲット表面の原子をたたき出すスパッタ法等のいわゆる
物理的蒸着法(以下、PVD法と称する。)が挙げられ
る。
The magnetic layer 3 may be formed by a vacuum evaporation method in which a ferromagnetic material is heated and evaporated under vacuum to deposit the ferromagnetic material on the nonmagnetic support 2, or an ion plating method in which the ferromagnetic metal material is evaporated during discharge. And a so-called physical vapor deposition method (hereinafter, referred to as a PVD method) such as a sputtering method in which glow discharge is caused in an atmosphere containing argon as a main component and atoms of the target surface are beaten by generated argon ions.

【0024】カーボン保護膜4としては、特に限定され
ないが、ダイヤモンド状カーボン膜(以下、DLC膜と
称する。)が好適である。なお、カーボンのラマン分光
スペクトルでは、ダイヤモンド構造に由来するピーク
と、グラファイト構造に由来するピークが観測される
が、後述するダイヤモンド状カーボンとは、このうちダ
イヤモンド構造に由来するピークを有するものである。
The carbon protective film 4 is not particularly limited, but a diamond-like carbon film (hereinafter, referred to as a DLC film) is preferable. In the Raman spectrum of carbon, a peak derived from a diamond structure and a peak derived from a graphite structure are observed, and a diamond-like carbon described later has a peak derived from a diamond structure among them. .

【0025】これらカーボン保護膜4は、材料の蒸発を
放電中で行うイオンプレーディング法、アルゴンを主成
分とする雰囲気中でグロー放電を起こし生じたアルゴン
イオンでターゲット表面の原子をたたき出すスパッタ法
等のPVD法や、プラズマCVD、アークジェットCV
D等のCVD技術によって成膜される。ここで、カーボ
ン保護膜4の膜厚が12nm以下に形成されているとよ
い。
The carbon protective film 4 can be formed by ion-plating, in which the material is evaporated during discharge, or sputtering, in which glow discharge is caused in an atmosphere containing argon as a main component, and atoms on the target surface are struck by argon ions generated. PVD method, plasma CVD, arc jet CV
The film is formed by a CVD technique such as D. Here, the thickness of the carbon protective film 4 is preferably formed to be 12 nm or less.

【0026】さらに、上記カーボン保護膜4の表面上
に、少なくとも窒素ガスを含む反応ガスをイオン源とし
てイオン化し、この反応ガスイオンを照射させる。この
時、加速電圧は、40kV乃至100kVが望ましい。
Further, the surface of the carbon protective film 4 is ionized by using a reaction gas containing at least nitrogen gas as an ion source, and irradiated with the reaction gas ions. At this time, the acceleration voltage is desirably 40 kV to 100 kV.

【0027】もちろん、本発明に係る磁気記録媒体1
は、これに限定されるものではなく、本発明の要旨を逸
脱しない範囲での変更、例えば磁性層3と反対側の非磁
性支持体2の主面上にバックコート層を形成したり、非
磁性支持体2上に下塗層を形成したり、潤滑剤等の層を
形成しても良い。この場合、バックコート層中に含まれ
る非磁性顔料、樹脂結合剤、あるいは潤滑剤に含まれる
材料としては、従来公知のものがいずれも使用できる。
Of course, the magnetic recording medium 1 according to the present invention
However, the present invention is not limited thereto, and may be modified without departing from the scope of the present invention. For example, a back coat layer may be formed on the main surface of the non-magnetic support 2 on the side opposite to the magnetic layer 3, An undercoat layer may be formed on the magnetic support 2, or a layer of a lubricant or the like may be formed. In this case, any conventionally known materials can be used as the material contained in the nonmagnetic pigment, the resin binder, or the lubricant contained in the back coat layer.

【0028】このように構成された磁気記録媒体1は、
例えば、図2に示したCVD装置5にて製造する。CV
D装置5は、図2に示すように、密閉された内部空間部
を構成する真空チャンバー6と、この真空チャンバー6
内に配置された保護膜形成ユニットとから構成されてい
る。真空チャンバー6は、その頭部に設けられた真空排
気系7によって、内部を高真空状態とされている。
The magnetic recording medium 1 configured as above is
For example, it is manufactured by the CVD apparatus 5 shown in FIG. CV
As shown in FIG. 2, the D apparatus 5 includes a vacuum chamber 6 forming a closed internal space, and a vacuum chamber 6.
And a protective film forming unit disposed therein. The inside of the vacuum chamber 6 is brought into a high vacuum state by a vacuum exhaust system 7 provided at the head thereof.

【0029】保護膜形成ユニットは、真空チャンバー6
内に配置され、非磁性支持体2上に、磁性層3が形成さ
れてなる磁気記録媒体中間体1aを送り出す送りロール
8と、その磁気記録媒体中間体1aを外周面に走行させ
るキャン9と、キャン9の外周部の近傍に配置されて磁
気記録媒体中間体1aの表面上にDLC膜5aを形成す
る手段となる反応管10と、カーボン保護膜4上に窒素
イオンを照射させるイオン照射室11と、形成された磁
気記録媒体1を巻き取る巻取りロール12とから構成さ
れる。
The protective film forming unit comprises a vacuum chamber 6
A feed roll 8 for feeding a magnetic recording medium intermediate 1a having the magnetic layer 3 formed on the non-magnetic support 2 and a can 9 for running the magnetic recording medium intermediate 1a on the outer peripheral surface; A reaction tube 10 arranged near the outer periphery of the can 9 and serving as a means for forming the DLC film 5a on the surface of the magnetic recording medium intermediate 1a; and an ion irradiation chamber for irradiating the carbon protective film 4 with nitrogen ions. And a take-up roll 12 for winding the formed magnetic recording medium 1.

【0030】キャン9は、真空チャンバー6内におい
て、送りロール8から巻取りロール12側に、非磁性支
持体2上に磁性層3が形成された磁気記録媒体中間体1
aが走行する中途部に、かつカーボン保護膜4の形成手
段となる反応管10と対向する位置に配置される。キャ
ン9は、非磁性支持体2の幅寸法よりもやや大きな幅寸
法を有する大径かつ円筒状のローラ体によって構成さ
れ、真空チャンバー6内に回転自在に支持されている。
そして、このキャン9は、図示しない駆動源によって、
上述の磁気記録媒体中間体1aを図中下方に引き出すよ
うに、図中時計方向に回転駆動する。しかも、このキャ
ン9は、カーボン保護膜4の形成時における加速電極1
3に対する図示しない対向電極を有するように構成され
ている。
The can 9 is a magnetic recording medium intermediate 1 having the magnetic layer 3 formed on the non-magnetic support 2 on the side of the take-up roll 12 from the feed roll 8 in the vacuum chamber 6.
It is arranged in the middle of the travel of “a” and at a position facing the reaction tube 10 serving as the means for forming the carbon protective film 4. The can 9 is composed of a large-diameter, cylindrical roller body having a width slightly larger than the width of the nonmagnetic support 2, and is rotatably supported in the vacuum chamber 6.
The can 9 is driven by a driving source (not shown).
The magnetic recording medium intermediate 1a is rotated clockwise in the drawing so as to be pulled out downward in the drawing. In addition, the can 9 serves as the acceleration electrode 1 when the carbon protective film 4 is formed.
3 has a counter electrode (not shown).

【0031】送りロール8及び巻取りロール12は、図
示しない駆動源によって図2に示したように、反時計方
向へと回転駆動される。これら送りロール8と巻取りロ
ール12とは、上記のキャン9と同期して回転駆動す
る。送りロール8には、非磁性支持体2上に磁性層3が
形成された磁気記録媒体中間体1aが巻回されてロール
体を構成する。また、巻取りロール12には、カーボン
保護膜4が形成され、窒素イオンが照射された磁気記録
媒体1が巻回される。
The feed roll 8 and the take-up roll 12 are driven to rotate counterclockwise by a drive source (not shown) as shown in FIG. The feed roll 8 and the take-up roll 12 are driven to rotate in synchronization with the can 9. A magnetic recording medium intermediate 1 a in which the magnetic layer 3 is formed on the non-magnetic support 2 is wound around the feed roll 8 to form a roll. The winding roll 12 has the carbon protective film 4 formed thereon, and the magnetic recording medium 1 irradiated with nitrogen ions is wound.

【0032】反応管10の材料としては、パイレックス
ガラスやプラスチック等が用いられる。また、反応管1
0内に導入される成膜ガスとしては、炭化水素系ガスを
主成分としたガスを用いると良い。
As a material of the reaction tube 10, Pyrex glass, plastic, or the like is used. In addition, reaction tube 1
As the film-forming gas introduced into 0, a gas containing a hydrocarbon-based gas as a main component is preferably used.

【0033】反応管10は、一方の端部に成膜ガス導入
管10aが接続されている。そして、この成膜ガス導入
管10aは、真空チャンバー6の底部を貫通している。
さらに、反応管10は、成膜ガス導入管10aの接続さ
れていない他方の開口端部が、キャン9と対向するよう
に配置される。ここで、この反応管10は、成膜ガス導
入管10aから炭化水素系の成膜ガスが反応管10内に
導入されるようになっている。
One end of the reaction tube 10 is connected to a film-forming gas introduction tube 10a. The film forming gas introduction pipe 10a penetrates the bottom of the vacuum chamber 6.
Furthermore, the reaction tube 10 is arranged such that the other open end of the film formation gas introduction tube 10 a that is not connected faces the can 9. Here, the reaction tube 10 is configured such that a hydrocarbon-based film formation gas is introduced into the reaction tube 10 from a film formation gas introduction tube 10a.

【0034】また、この反応管10は、その開口部近傍
の内部に、金メッシュ等よりなる加速電極13が取り付
けられ、この加速電極13とキャン9に配設された図示
しない対向電極との間にグロー放電が生じるようになさ
れている。反応管10内に導入された成膜ガスは、この
生じたグロー放電によって分解し、磁気記録媒体中間体
1aの磁性層3上に被着され、カーボン保護膜4が形成
されて磁気記録媒体中間体1bとなる。
An accelerating electrode 13 made of gold mesh or the like is attached to the inside of the reaction tube 10 in the vicinity of its opening, and the reaction tube 10 is disposed between the accelerating electrode 13 and a counter electrode (not shown) disposed on the can 9. Glow discharge occurs. The film-forming gas introduced into the reaction tube 10 is decomposed by the generated glow discharge, is deposited on the magnetic layer 3 of the magnetic recording medium intermediate 1a, and the carbon protective film 4 is formed. It becomes body 1b.

【0035】なお、この場合、キャン9が接地電位とな
り、加速電極13とこのキャン9に配設された対向電極
との間に生じる電位は、+500〜2000Vが適当で
ある。
In this case, the can 9 is at the ground potential, and the potential generated between the accelerating electrode 13 and the counter electrode provided on the can 9 is preferably +500 to 2000 V.

【0036】イオン照射室11は、一方の端部にイオン
照射ガス導入管11aが接続されている。そして、この
イオン照射ガス導入管11aは、真空チャンバー6の側
壁部を貫通している。さらに、イオン照射室11は、イ
オン照射ガス導入管11aの接続されていない他方の開
口端部が、キャン9と対向するように、キャン9と反応
管10との近傍に配置されている。ここで、イオン照射
室11は、隔壁14によって反応管10と隔離され、ま
た隔壁15によって送りロール8、巻取りロール12、
ガイドロール16、17、及びキャン9の一部と隔離さ
れている。
The ion irradiation chamber 11 is connected at one end to an ion irradiation gas introduction pipe 11a. The ion irradiation gas introduction pipe 11a penetrates the side wall of the vacuum chamber 6. Further, the ion irradiation chamber 11 is arranged near the can 9 and the reaction tube 10 such that the other open end of the ion irradiation gas introduction tube 11 a that is not connected faces the can 9. Here, the ion irradiation chamber 11 is isolated from the reaction tube 10 by a partition wall 14, and the feed roll 8, the take-up roll 12,
It is isolated from the guide rolls 16 and 17 and a part of the can 9.

【0037】このイオン照射室11は、少なくとも窒素
ガスを含む反応ガスが、イオン照射ガス導入管11aか
らイオン照射室11内に導入されるようになっている。
そして、この反応ガスが、高電圧下においてイオン化さ
れ、磁気記録媒体中間体1bのカーボン保護膜4上に加
速電圧により照射される。
In the ion irradiation chamber 11, a reaction gas containing at least nitrogen gas is introduced into the ion irradiation chamber 11 from an ion irradiation gas introduction pipe 11a.
Then, the reaction gas is ionized under a high voltage, and is irradiated on the carbon protective film 4 of the magnetic recording medium intermediate 1b by an acceleration voltage.

【0038】ここで、特に、上記の加速電圧は、40k
V乃至100kVであると良い。
Here, in particular, the acceleration voltage is 40 k
V to 100 kV is preferable.

【0039】送りロール8及び巻取りロール12とキャ
ン9との間には、それぞれガイドロール16、17が配
置される。このガイドロール16、17は、送りロール
8からキャン9及びキャン9から巻取りロール12に沿
って走行する磁気記録媒体中間体1a、1bや磁気記録
媒体1に所定のテンションをかけて円滑に走行するよう
になされている。
Guide rolls 16 and 17 are arranged between the feed roll 8 and the take-up roll 12 and the can 9, respectively. The guide rolls 16 and 17 smoothly move by applying a predetermined tension to the magnetic recording medium intermediates 1 a and 1 b and the magnetic recording medium 1 traveling along the feed roll 8 along the can 9 and the can 9 along the take-up roll 12. It has been made to be.

【0040】磁気記録媒体1の形状は、テープ状、シー
ト状、ドラム状等如何なる形態であってもよいが、ガイ
ド等の摺動部材によってダメージを受ける機会の多いテ
ープ状媒体に本発明を適用すると、耐久性の向上が著し
い。
The magnetic recording medium 1 may be in any form such as a tape, a sheet, a drum, etc., but the present invention is applied to a tape medium which is often damaged by a sliding member such as a guide. Then, the improvement in durability is remarkable.

【0041】以上のように構成されたCVD装置5にお
いては、まず、非磁性支持体2上に磁性層3が形成され
た磁気記録媒体中間体1aが、送りロール8に巻回され
る。次に、この磁気記録媒体中間体1aが、送りロール
8から送り出され、ガイドロール16を介して、キャン
9によって引き出される。そして、磁気記録媒体中間体
1aは、このキャン9の外周を走行するとともに、反応
管10内に導入された炭化水素系の成膜ガスが加速電極
13とキャン9の対向電極間で生じたグロー放電によっ
て分解され、上記磁性層3上に被着し、カーボン保護膜
4が形成されて磁気記録媒体中間体1bとなる。
In the CVD apparatus 5 configured as described above, first, the magnetic recording medium intermediate 1 a in which the magnetic layer 3 is formed on the non-magnetic support 2 is wound around the feed roll 8. Next, the magnetic recording medium intermediate 1a is sent out from the feed roll 8, and is pulled out by the can 9 via the guide roll 16. The magnetic recording medium intermediate 1 a travels around the outer periphery of the can 9, and the hydrocarbon-based film-forming gas introduced into the reaction tube 10 grows between the accelerating electrode 13 and the counter electrode of the can 9. The carbon protective film 4 is decomposed by the electric discharge and adheres on the magnetic layer 3 to form the carbon protective film 4, thereby forming the magnetic recording medium intermediate 1 b.

【0042】さらに、カーボン保護膜4が形成された磁
気記録媒体中間体1bは、キャン9の外周を走行すると
ともに、イオン照射室11内で高電圧によってイオン化
された少なくとも窒素ガスを含む反応ガスが、このイオ
ン照射室11からカーボン保護膜4上に照射される。
Further, the magnetic recording medium intermediate 1 b on which the carbon protective film 4 is formed travels around the outer periphery of the can 9, and the reaction gas containing at least nitrogen gas ionized by the high voltage in the ion irradiation chamber 11 is discharged. Then, the carbon protective film 4 is irradiated from the ion irradiation chamber 11.

【0043】そして、カーボン保護膜4上に窒素ガスを
含む反応ガスのイオンが照射された磁気記録媒体1は、
ガイドロール17を介して、巻取りロール12に巻き取
られる。
The magnetic recording medium 1 in which the carbon protective film 4 is irradiated with ions of a reaction gas containing nitrogen gas,
It is wound up by the winding roll 12 via the guide roll 17.

【0044】[0044]

【実施例】以下、本発明を適用した実施例について、具
体的な実験結果に基づいて詳細に説明する。
EXAMPLES Hereinafter, examples to which the present invention is applied will be described in detail based on specific experimental results.

【0045】実施例1 本実施例に用いた蒸着テープは、以下に示すように作製
した。ここで、蒸着テープは、非磁性支持体上に真空蒸
着法によって磁性層を被着形成した磁気記録媒体をさ
す。
Example 1 The vapor deposition tape used in this example was produced as follows. Here, the evaporation tape refers to a magnetic recording medium in which a magnetic layer is formed on a non-magnetic support by a vacuum evaporation method.

【0046】先ず、10mmの厚さのポリエチレンポリ
エチレンテレフタレートを非磁性支持体として用意し
た。この非磁性支持体上に、下記に示す条件の真空蒸着
法により、Co80/Ni20(数値は重量%を示す)
を単層として厚さ200nmに被着形成して磁性層を形
成した。
First, a polyethylene polyethylene terephthalate having a thickness of 10 mm was prepared as a nonmagnetic support. On this nonmagnetic support, Co80 / Ni20 (numerical values indicate% by weight) by a vacuum evaporation method under the following conditions.
Was formed as a single layer with a thickness of 200 nm to form a magnetic layer.

【0047】金属蒸気の入射角:45〜90° 導入ガス:酸素ガス 蒸着時真空度:2×10-2Pa 次に、上記の磁性層上に、カーボン保護膜を以下の条件
で形成した。
Incident angle of metal vapor: 45 to 90 ° Introduced gas: oxygen gas Vacuum degree during deposition: 2 × 10 -2 Pa Next, a carbon protective film was formed on the above magnetic layer under the following conditions.

【0048】原料ガス:エチレン 反応圧力:20Pa 導入電力:DC1.0kV 成膜速度:100nm/min カーボン保護膜(DLC膜)の膜厚:4nm 次に、上記のカーボン保護膜上に、以下の条件でイオン
照射室から窒素ガスをイオン化して照射した。
Raw material gas: ethylene Reaction pressure: 20 Pa Introduced power: DC 1.0 kV Deposition rate: 100 nm / min Thickness of carbon protective film (DLC film): 4 nm Next, the following conditions were formed on the above carbon protective film. Then, nitrogen gas was ionized from the ion irradiation chamber and irradiated.

【0049】加速電圧:80kV イオンドーズ量:1×10122 +イオン/cm2(1×
1010〜1×10202 +イオン/cm2が好ましい) テープ速度:1m/min そして、上述したように、窒素ガスをイオン化して照射
した後、さらにトップコート層としてフッ素カルボン酸
のアミン塩(C511(CH210COOH:N(C8
173)からなる潤滑剤を湿式塗布法により3nmの厚
さに形成した。この磁気記録媒体を長さ方向に沿って8
mm幅に裁断し、磁気テープを作製した。
Acceleration voltage: 80 kV Ion dose: 1 × 10 12 N 2 + ion / cm 2 (1 ×
(10 10 to 1 × 10 20 N 2 + ions / cm 2 are preferable) Tape speed: 1 m / min Then, as described above, after nitrogen gas is ionized and irradiated, an amine of fluorocarboxylic acid is further formed as a top coat layer. Salt (C 5 F 11 (CH 2 ) 10 COOH: N (C 8 H
17 ) The lubricant of 3 ) was formed to a thickness of 3 nm by a wet coating method. This magnetic recording medium is
It was cut to a width of mm to produce a magnetic tape.

【0050】実施例2 カーボン保護膜の膜厚を6nmにした以外は、実施例1
と同様にして磁気テープを作製した。
Example 2 Example 1 was repeated except that the thickness of the carbon protective film was changed to 6 nm.
A magnetic tape was produced in the same manner as described above.

【0051】実施例3 カーボン保護膜の膜厚を8nmにした以外は、実施例1
と同様にして磁気テープを作製した。
Example 3 Example 1 was repeated except that the thickness of the carbon protective film was changed to 8 nm.
A magnetic tape was produced in the same manner as described above.

【0052】実施例4 カーボン保護膜の膜厚を10nmにした以外は、実施例
1と同様にして磁気テープを作製した。
Example 4 A magnetic tape was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the carbon protective film was changed to 10 nm.

【0053】実施例5 カーボン保護膜の膜厚を12nmにした以外は、実施例
1と同様にして磁気テープを作製した。
Example 5 A magnetic tape was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the carbon protective film was changed to 12 nm.

【0054】実施例6 カーボン保護膜の膜厚を16nmにした以外は、実施例
1と同様にして磁気テープを作製した。
Example 6 A magnetic tape was produced in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the carbon protective film was changed to 16 nm.

【0055】実施例7 カーボン保護膜の膜厚を20nmにした以外は、実施例
1と同様にして磁気テープを作製した。
Example 7 A magnetic tape was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the carbon protective film was changed to 20 nm.

【0056】実施例8 窒素ガスをイオン化して照射する加速電圧を50kVに
した以外は、実施例1と同様にして磁気テープを作製し
た。
Example 8 A magnetic tape was produced in the same manner as in Example 1 except that the acceleration voltage for ionizing and irradiating nitrogen gas was set to 50 kV.

【0057】実施例9 窒素ガスをイオン化して照射する加速電圧を75kVに
した以外は、実施例1と同様にして磁気テープを作製し
た。
Example 9 A magnetic tape was produced in the same manner as in Example 1 except that the acceleration voltage for ionizing and irradiating nitrogen gas was 75 kV.

【0058】実施例10 窒素ガスをイオン化して照射する加速電圧を100kV
にした以外は、実施例1と同様にして磁気テープを作製
した。
Example 10 The acceleration voltage for ionizing and irradiating nitrogen gas was 100 kV.
A magnetic tape was produced in the same manner as in Example 1 except that the above procedure was adopted.

【0059】比較例1 窒素ガスイオンを照射せずに、カーボン保護膜上にトッ
プコート層を形成した以外は、実施例1と同様にして磁
気テープを作製した。
Comparative Example 1 A magnetic tape was produced in the same manner as in Example 1 except that a top coat layer was formed on a carbon protective film without irradiation with nitrogen gas ions.

【0060】比較例2 カーボン保護膜の膜厚を6nmにした以外は、比較例1
と同様にして磁気テープを作製した。
Comparative Example 2 Comparative Example 1 was conducted except that the thickness of the carbon protective film was changed to 6 nm.
A magnetic tape was produced in the same manner as described above.

【0061】比較例3 カーボン保護膜の膜厚を8nmにした以外は、比較例1
と同様にして磁気テープを作製した。
Comparative Example 3 Comparative Example 1 was conducted except that the thickness of the carbon protective film was changed to 8 nm.
A magnetic tape was produced in the same manner as described above.

【0062】比較例4 カーボン保護膜の膜厚を10nmにした以外は、比較例
1と同様にして磁気テープを作製した。
Comparative Example 4 A magnetic tape was produced in the same manner as in Comparative Example 1 except that the thickness of the carbon protective film was changed to 10 nm.

【0063】比較例5 カーボン保護膜の膜厚を12nmにした以外は、比較例
1と同様にして磁気テープを作製した。
Comparative Example 5 A magnetic tape was produced in the same manner as in Comparative Example 1 except that the thickness of the carbon protective film was changed to 12 nm.

【0064】比較例6 カーボン保護膜の膜厚を16nmにした以外は、比較例
1と同様にして磁気テープを作製した。
Comparative Example 6 A magnetic tape was produced in the same manner as in Comparative Example 1, except that the thickness of the carbon protective film was changed to 16 nm.

【0065】比較例7 窒素ガスをイオン化して照射する加速電圧を25kVに
した以外は、実施例1と同様にして磁気テープを作製し
た。
Comparative Example 7 A magnetic tape was produced in the same manner as in Example 1, except that the acceleration voltage for ionizing and irradiating nitrogen gas was 25 kV.

【0066】比較例8 窒素ガスをイオン化して照射する加速電圧を125kV
にした以外は、比較例7と同様にして磁気テープを作製
した。
Comparative Example 8 Acceleration voltage for ionizing and irradiating nitrogen gas was 125 kV
A magnetic tape was produced in the same manner as in Comparative Example 7, except that the above procedure was repeated.

【0067】比較例9 窒素ガスをイオン化して照射する加速電圧を150kV
にした以外は、比較例7と同様にして磁気テープを作製
した。
COMPARATIVE EXAMPLE 9 The acceleration voltage for ionizing and irradiating nitrogen gas was 150 kV.
A magnetic tape was produced in the same manner as in Comparative Example 7, except that the above procedure was repeated.

【0068】以上のようにして作製された実施例1〜実
施例6及び比較例1〜比較例6の磁気テープについて、
耐久性の評価としてスチルライフ、レベルダウン及び摩
擦係数を測定した。
With respect to the magnetic tapes of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 6 manufactured as described above,
Still life, level down, and coefficient of friction were measured for durability evaluation.

【0069】<スチルライフ特性>ポーズモードが解除
しないように改造した8mmVTRを用い、室温30
℃、湿度10%の条件下で、再生出力が3dB落ちるま
での時間を測定した。ただし、3時間で打ち切りとし
た。
<Still Life Characteristics> Using a modified 8 mm VTR so that the pause mode is not released, the
Under a condition of 10 ° C. and a humidity of 10%, the time until the reproduction output dropped by 3 dB was measured. However, it was terminated after 3 hours.

【0070】<レベルダウン特性>上記と同様な8mm
VTRを用い、室温30℃、湿度10%の条件下で、6
0分長の各磁気テープに映像信号を記録して、再生を1
00回繰り返した。ここで、1回目の再生出力を0dB
とし、100回目の再生出力を測定した。
<Level down characteristics> 8 mm as described above
Using a VTR at room temperature 30 ° C. and humidity 10%,
The video signal is recorded on each 0-minute magnetic tape, and the
Repeated 00 times. Here, the first reproduction output is 0 dB.
And the 100th reproduction output was measured.

【0071】<摩擦係数>直径3mm、表面粗さ0.2
Sのステンレス(SUS420J)円柱に磁気テープの
磁性層面が90°接触するようにし、重りとして30
g、テープ走行速度として0.5mm/sec、室温3
0℃、湿度80%の条件下で次式より求めた。
<Coefficient of friction> Diameter 3 mm, surface roughness 0.2
The surface of the magnetic layer of the magnetic tape is brought into contact with the stainless steel (SUS420J) column of S at 90 °, and the weight is 30
g, tape running speed 0.5 mm / sec, room temperature 3
It was obtained from the following equation under the conditions of 0 ° C. and 80% humidity.

【0072】 摩擦係数μk=(2/π)・log(x/30) ここで、xには、実測の荷重値を代入した。Friction coefficient μk = (2 / π) · log (x / 30) Here, a measured load value was substituted for x.

【0073】さらに、実施例1、実施例3、実施例5、
実施例6及び実施例7について、再生出力特性を測定し
た。
Further, Embodiments 1, 3, 5 and
For Example 6 and Example 7, the reproduction output characteristics were measured.

【0074】<再生出力特性:C/N値>各テープの最
適記録電流で7.6MHzの矩形波信号を記録し、スペ
クトラムアナライザーにより7.6MHzの出力レベル
を検出した。なお、テープとヘッド間の相対速度は、
3.8m/secとした。また、6.6MHzにおいて
のノイズと、7.6MHzでの出力レベルとの差をC/
Nとした。
<Reproduction Output Characteristics: C / N Value> A 7.6 MHz rectangular wave signal was recorded at the optimum recording current of each tape, and an output level of 7.6 MHz was detected by a spectrum analyzer. The relative speed between the tape and the head is
It was 3.8 m / sec. The difference between the noise at 6.6 MHz and the output level at 7.6 MHz is expressed by C /
N.

【0075】次に、実施例8〜実施例10及び比較例7
〜比較例9について、耐久性の評価として、摩擦係数及
びスチル時間を測定した。
Next, Examples 8 to 10 and Comparative Example 7
About Comparative Example 9, as a durability evaluation, a friction coefficient and a still time were measured.

【0076】<摩擦係数>直径3mm、表面粗さ0.2
Sのステンレス(SUS420J)円柱に磁気テープの
磁性層面が90°接触するようにし、重りとして30
g、テープ走行速度として0.5mm/sec、室温4
5℃、湿度80%の条件下で次式より求めた。
<Coefficient of friction> Diameter 3 mm, surface roughness 0.2
The surface of the magnetic layer of the magnetic tape is brought into contact with the stainless steel (SUS420J) column of S at 90 °, and the weight is 30
g, tape running speed 0.5 mm / sec, room temperature 4
It was determined from the following equation under the conditions of 5 ° C. and 80% humidity.

【0077】 摩擦係数μk=(2/π)・log(x/30) ここで、xには、実測の荷重値を代入した。Coefficient of friction μk = (2 / π) · log (x / 30) Here, a measured load value was substituted for x.

【0078】<スチル時間>常温の恒温槽内で行い、再
生出力が3dBまで低下するのに要する時間を測定し
た。
<Still time> A still time was measured in a thermostat at room temperature, and the time required for the reproduction output to decrease to 3 dB was measured.

【0079】[0079]

【表1】 [Table 1]

【0080】[0080]

【表2】 [Table 2]

【0081】以上の結果を、表1、表2及び図3に示
す。
The above results are shown in Tables 1 and 2 and FIG.

【0082】表1に示すように、カーボン保護膜上に窒
素イオンを照射した実施例1〜実施例6のほうが、窒素
イオンを照射していない比較例1〜比較例6よりも、ス
チルライフが長く、レベルダウンが少なく、摩擦係数が
小さいことがわかった。このことから、カーボン保護膜
上に窒素イオンを照射することによって、磁気テープの
耐久性が向上することが判明した。
As shown in Table 1, the still life of Examples 1 to 6 in which the carbon protective film was irradiated with nitrogen ions was higher than that of Comparative Examples 1 to 6 in which nitrogen ions were not irradiated. It was found that it was long, had little level down, and had a small coefficient of friction. From this, it was found that the durability of the magnetic tape was improved by irradiating the carbon protective film with nitrogen ions.

【0083】そこで、カーボン保護膜の膜厚について更
に検討すると、表2に示すように、カーボン膜厚が12
nm以下である実施例1、実施例3及び実施例5は、カ
ーボン保護膜が12nmよりも大きい実施例6及び実施
例7よりもC/N値が大きく、再生出力特性において優
れていることがわかった。このことから、カーボン保護
膜の膜厚は、12nm以下であることが好ましいと判明
した。
Then, the thickness of the carbon protective film was further examined.
In Examples 1, 3 and 5, which are not more than 10 nm, the carbon protective film has a larger C / N value than Examples 6 and 7 in which the carbon protective film is larger than 12 nm, and is excellent in reproduction output characteristics. all right. From this, it was found that the thickness of the carbon protective film was preferably 12 nm or less.

【0084】さらに、窒素イオンを照射する加速電圧に
ついて検討すると、図3に示すように、点線A及び点線
Bの範囲内である、実施例8〜実施例10は、上記範囲
外の比較例7〜比較例9よりも、スチル時間が長く、摩
擦係数が小さく、耐久性において優れていることがわか
った。また、加速電圧が大きすぎると、表面が粗くさ
れ、摩擦係数が上昇し、その結果スチル時間が著しく低
下する。一方、加速電圧が小さすぎると、十分窒素イオ
ンが照射されないため、薄膜のカーボン保護膜だけで
は、十分な耐久性を確保できないことから、摩擦係数が
上昇し、かつスチル時間が著しく低下してしまう。この
ことから、窒素イオンを照射する加速電圧は、点線A及
び点線Bの範囲内である、40kV〜100kVが好ま
しいと判明した。
Further, when examining the accelerating voltage for irradiating nitrogen ions, as shown in FIG. 3, Examples 8 to 10 which fall within the range of dotted line A and dotted line B show Comparative Example 7 outside the above range. -It was found that the still time was longer, the friction coefficient was smaller, and the durability was better than that of Comparative Example 9. On the other hand, if the acceleration voltage is too high, the surface is roughened, the coefficient of friction increases, and as a result, the still time is significantly reduced. On the other hand, if the accelerating voltage is too low, nitrogen ions are not sufficiently irradiated, so that a thin carbon protective film alone cannot secure sufficient durability, so that the friction coefficient increases and the still time significantly decreases. . From this, it was found that the acceleration voltage for irradiating nitrogen ions is preferably 40 kV to 100 kV, which is within the range of dotted line A and dotted line B.

【0085】したがって、カーボン保護膜上に窒素ガス
を含む反応ガスをイオン化し、加速電圧を40kV〜1
00kVにして照射することによって、カーボン保護膜
を薄膜化し、しかも耐久性を向上することができる。
Therefore, the reaction gas containing nitrogen gas is ionized on the carbon protective film, and the acceleration voltage is increased from 40 kV to 1 kV.
By irradiating the carbon protective film at 00 kV, the carbon protective film can be made thinner and the durability can be improved.

【0086】[0086]

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明に係
る磁気記録媒体の製造方法によれば、非磁性支持体上に
形成された磁性層上に、カーボン保護膜を形成し、上記
カーボン保護膜上に、少なくとも窒素ガスを含む反応ガ
スをイオン化し、加速電圧を40kV乃至100kVと
して照射することによって、更なる耐久性の向上を実現
した磁気記録媒体を製造することが可能となる。
As described above in detail, according to the method of manufacturing a magnetic recording medium of the present invention, a carbon protective film is formed on a magnetic layer formed on a non-magnetic support, By ionizing a reactive gas containing at least nitrogen gas on the protective film and irradiating the protective gas at an acceleration voltage of 40 kV to 100 kV, it is possible to manufacture a magnetic recording medium with further improved durability.

【0087】また、上記カーボン保護膜を12nm以下
することにより、カーボン保護膜を薄膜化するととも
に、再生出力及び耐久性を向上することができる。
Further, by making the carbon protective film 12 nm or less, the carbon protective film can be made thinner, and the reproduction output and durability can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る磁気記録媒体の一例を示す断面図
である。
FIG. 1 is a sectional view showing an example of a magnetic recording medium according to the present invention.

【図2】本発明に係るCVD装置の一例を示す模式図で
ある。
FIG. 2 is a schematic view showing an example of a CVD apparatus according to the present invention.

【図3】窒素イオンの加速電圧とスチル時間及び摩擦係
数との関係を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a relationship among an acceleration voltage of nitrogen ions, a still time, and a friction coefficient.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 磁気記録媒体、2 非磁性支持体、3 磁性層、4
カーボン保護膜、5CVD装置、11 イオン照射室
1 magnetic recording medium, 2 non-magnetic support, 3 magnetic layer, 4
Carbon protective film, 5 CVD equipment, 11 ion irradiation chamber

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小野寺 誠一 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────の Continuing from the front page (72) Inventor Seiichi Onodera 6-7-35 Kita Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Inside Sony Corporation

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 非磁性支持体上に形成された磁性層上
に、カーボン保護膜を形成し、 上記カーボン保護膜上に、少なくとも窒素ガスを含む反
応ガスをイオン化し、加速電圧を40kV乃至100k
Vとして照射することを特徴とする磁気記録媒体の製造
方法。
1. A carbon protective film is formed on a magnetic layer formed on a nonmagnetic support, and a reaction gas containing at least nitrogen gas is ionized on the carbon protective film, and an acceleration voltage is increased from 40 kV to 100 k.
A method for producing a magnetic recording medium, wherein the irradiation is performed as V.
【請求項2】 上記カーボン保護膜は、12nm以下の
厚さに形成されることを特徴とする請求項1記載の磁気
記録媒体の製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein the carbon protective film is formed to a thickness of 12 nm or less.
【請求項3】 上記カーボン保護膜は、化学的気相成長
により形成されることを特徴とする請求項1記載の磁気
記録媒体の製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein the carbon protective film is formed by chemical vapor deposition.
JP5215897A 1997-03-06 1997-03-06 Manufacturing method of magnetic recording medium Withdrawn JPH10255262A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7153441B2 (en) 2000-08-10 2006-12-26 Fuji Electric Co., Ltd. Method for manufacturing thin-film magnetic recording medium

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US7153441B2 (en) 2000-08-10 2006-12-26 Fuji Electric Co., Ltd. Method for manufacturing thin-film magnetic recording medium

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