JPH10256116A - 基板処理装置の処理液供給ノズル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 先端部を超親水化することによって、ぼた落
ちが防止できるとともに先端部の洗浄を短時間で行うこ
とができる。 【解決手段】 基板の表面に現像液を吐出する基板処理
装置の処理液供給ノズルにおいて、現像液を吐出する吐
出孔７ｂが形成された先端部７を超親水性材料で形成し
た。つまり、先端部７の外周面および下面は、超親水性
層Ｓによって形成されている。したがって、それらの部
分は接触角がほぼ０°となり、現像液Ｄの一部が付着し
ても球状の液滴とならず薄い膜状に拡がるので『ぼた落
ち』が防止でき、洗浄液が先端部７と馴染みやすくなっ
ているので、付着した現像液Ｄを容易に離脱させること
ができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、フ
ォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基
板、光ディスク用の基板など（以下、単に基板と称す
る）に対して現像液、フォトレジスト液、ポリイミド樹
脂、シリカ系被膜形成材とも呼ばれるSOG(Spin On Glas
s ）液などの処理液を供給して基板に処理を施す基板処
理装置の処理液供給ノズルに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の基板処理装置の処理液供給ノズル
として、例えば、先端部の下面に形成された吐出孔か
ら、その下方に位置する基板に対して現像液を吐出する
ものが挙げられる。上記の処理液供給ノズルの先端部
は、PTFE（ポリテトラフルオロエチレン）や PTCFE（ポ
リクロロトリフルオロエチレン）などのフッ素樹脂で一
体的に形成されているのが一般的である。このような基
板処理装置では、処理液供給ノズルの先端部を基板の回
転中心上方に移動し、露光済みのフォトレジスト被膜を
有する基板を回転させつつ、吐出孔から所定量の現像液
を供給して現像処理を施すようになっている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、現像液は吐出孔から吐出されるが、基
板面で飛散した現像液の一部（液滴）が跳ね返って先端
部の外周面などに付着したり、吐出孔から先端部の外周
面に表面張力で回り込むなどして付着する。このように
液滴が先端部に付着すると、処理液供給ノズルを基板の
上方に移動した際に、基板の表面にその液滴が不意に落
下（いわゆる『ぼた落ち』）して現像ムラを生じる原因
となる。

【０００４】また、先端部に付着した液滴をそのまま放
置すると、乾燥してパーティクルを発生し、基板を汚染
するという不都合が生じる。そこで、例えば、１枚の基
板に対して現像液を供給し終えるごとに処理液供給ノズ
ルの先端部を吸引して液滴を除去する液滴吸引機構を設
けたり、先端部に気体を吹き付けて液滴を吹き飛ばして
除去する液滴除去機構を設けることが一般的に行われて
いる。しかしながら、液滴は先端部に強固に付着してい
る場合が多いため、残渣が生じることのないようにそれ
らの機構によって完全に液滴を除去するためには処理に
長時間を要するという問題点がある。このように液滴の
除去に時間がかかると、装置の稼働率が低下することに
なる。

【０００５】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、先端部を超親水化することによって、
ぼた落ちが防止できるとともに先端部の洗浄を短時間で
行うことができる基板処理装置の処理液供給ノズルを提
供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の基板処理装置の処理液供給ノズル
は、基板の表面に処理液を吐出する基板処理装置の処理
液供給ノズルにおいて、前記処理液を吐出する吐出孔が
形成された先端部を超親水性材料で形成したことを特徴
とするものである。

【０００７】また、請求項２に記載の基板処理装置の処
理液供給ノズルは、請求項１に記載の基板処理装置の処
理液供給ノズルにおいて、前記吐出孔は、前記先端部の
側面に形成されていることを特徴とするものである。

【０００８】また、請求項３に記載の基板処理装置の処
理液供給ノズルは、請求項１に記載の基板処理装置の処
理液供給ノズルにおいて、前記先端部は、前記吐出孔が
下面に開口した基部と、この基部の下面から下方に突出
形成されて、前記吐出孔から吐出された処理液が裾拡が
りの傾斜面を流下する流下部材とから構成されているこ
とを特徴とするものである。

【０００９】また、請求項４に記載の基板処理装置の処
理液供給ノズルは、請求項１ないし請求項３に記載の基
板処理装置の処理液供給ノズルにおいて、前記超親水性
材料は、接触角が１０°以下のものであることを特徴と
するものである。

【００１０】

【作用】請求項１に記載の発明の作用は次のとおりであ
る。処理液供給ノズルの先端部を超親水性材料で形成し
たので、先端部の表面は接触角が極めて小さくなり、付
着した処理液の液滴が表面で球状になることなく薄膜状
に拡がる。したがって、球状の液滴のように振動や自重
などにより次第に先端部の表面を流下してゆくことが防
止できる。また、親水化によって先端部の表面が処理液
よりも水溶液に極めて馴染みやすくなっているので、先
端部の洗浄時に、処理液と先端部表面との界面に洗浄液
が入り込みやすくなる。したがって、先端部に付着した
処理液を容易に離脱させることができる。

【００１１】また、請求項２に記載の発明によれば、吐
出孔を先端部の側面に形成しておき、この吐出孔から処
理液を基板に対して供給すると、処理液は側方から弧を
描くように基板に吐出されるので、先端部の下面に吐出
孔を有するノズルに比較して、処理液が基板に到達した
際の衝撃を和らげることができる。したがって、例え
ば、露光済みのフォトレジスト被膜に現像液を供給する
際に、フォトレジスト被膜にダメージが加わる不都合を
回避できる。その一方、先端部の側面の吐出孔付近には
処理液が付着残留しやすくなるが、先端部の表面は接触
角が極めて小さくなっているので、処理液は薄膜状に拡
がり、処理液が先端部表面を流下することが防止でき
る。また、先端部表面は処理液よりも水溶液に極めて馴
染みやすくなっているので、洗浄時に処理液の付着面に
洗浄液が入り込みやすく処理液を容易に離脱させること
ができる。

【００１２】また、請求項３に記載の発明によれば、基
部の下面に形成された吐出孔から吐出された処理液は、
その下面から下方に突出形成された流下部材の裾拡がり
の傾斜面を流下して基板に吐出される。したがって、先
端部下面に吐出孔を有するノズルに比較して、処理液が
基板に到達した際の衝撃をより和らげることができ、処
理液の吐出時の不都合を回避できる。その一方、処理液
を一旦受け止める流下部材には特に処理液が付着残留し
やすくなるが、流下部材を含む先端部の表面は接触角が
極めて小さくなっているので、処理液は薄膜状に拡が
り、先端部表面を処理液が流下することを防止できる。
また、先端部表面は親水化によって水溶液に極めて馴染
みやすくなっているので、先端部の洗浄時に、処理液と
流下部材表面との界面に洗浄液が入り込みやすくなる。
したがって、流下部材に付着した処理液を容易に離脱さ
せることができる。

【００１３】また、請求項４に記載の発明によれば、先
端部を形成する材料として一般的に使用されているPTFE
（ポリテトラフルオロエチレン）や PTCFE（ポリクロロ
トリフルオロエチレン）などのフッ素樹脂は、その接触
角が約１１０°と非常に大きく親水性の低いものであ
る。接触角が１０°以下になると水が全く弾かなくなる
ので、超親水性材料として接触角が１０°以下のものを
採用することにより、親水性を極めて高くすることがで
きる。よって、付着した処理液が非常に薄い膜状に拡が
り、処理液が先端部表面をほとんど流下しなくなるとと
もに、処理液と先端部表面との界面に非常に洗浄液が入
り込みやすくなる。

【００１４】なお、このように接触角が１０°以下の超
親水性材料としては、酸化チタン(TiO₂)光触媒に特殊な
組成を組み合わせた薄膜（以下、単に酸化チタン光触媒
薄膜と称する）が例示され、この被膜を先端部に形成し
た後に、紫外線を照射すると上記のような極めて小さな
接触角を有する先端部を得ることができる。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施例を説明する。 ＜第１実施例＞図１は、本発明に係る基板処理装置の処
理液供給ノズルを採用した回転式基板現像装置の概略構
成を示す縦断面図である。

【００１６】図中、符号Ｗは、所定のパターンが露光さ
れたフォトレジスト被膜を表面に有する基板である。こ
の基板Ｗは、その裏面をスピンチャック１によって真空
吸引されて水平姿勢で吸着支持される。スピンチャック
１は、電動モータ２の回転軸にその下面が連動連結され
ており、基板Ｗを水平面内で回転駆動する。スピンチャ
ック１の周囲には、基板Ｗの表面に吐出された現像液が
周囲に飛散することを防止するとともに、飛散した現像
液を回収するための飛散防止カップ３が配設されてい
る。なお、スピンチャック１と飛散防止カップ３は、未
処理の基板Ｗを搬入する際や処理済の基板Ｗを搬出する
際に、図示しない基板搬送機構とスピンチャック１との
間で基板Ｗの受け渡しができるように上下方向に相対昇
降するようになっている。つまり、現像処理を行う際に
は、図中に実線で示すようにスピンチャック１が飛散防
止カップ３内に移動し、基板Ｗの搬送時には、図中に二
点鎖線で示すようにスピンチャック１が飛散防止カップ
３の上方に突出するようになっている。

【００１７】飛散防止カップ３の上部中央に形成された
開口付近には、現像液を基板Ｗに吐出する処理液供給ノ
ズル５が配備されている。この処理液供給ノズル５は、
下方に向けられた部分に先端部７を備え、ここから基板
Ｗに現像液を吐出するようになっている。移動機構９
は、基板Ｗの上方にあたる供給位置（図中の実線）と、
基板Ｗの側方に離れた待機位置（図中の点線）とにわた
って処理液供給ノズル５を移動するとともに、さらに待
機位置では後述する洗浄位置と照射位置とにわたって移
動する。待機位置には処理液供給ノズル５の先端部７を
収納する待機ポット１１が配備されており、水銀ランプ
などの光源を含む紫外線照射部２０からの紫外線が光フ
ァイバ２１を介して導かれるとともに、洗浄液供給部２
２から洗浄液が供給されるようになっている。

【００１８】上述した電動モータ２によるスピンチャッ
ク１の回転数と、移動機構９による処理液供給ノズル５
の移動と、紫外線照射部２０からの紫外線照射と、洗浄
液供給部２２からの洗浄液の供給などは、制御部２５に
よって統括的に制御されるように構成されている。ま
た、この制御部２５は、処理液供給ノズル５を照射位置
にて紫外線照射処理した時点からの経過時間をタイマ２
７により参照できるようになっており、経過時間が予め
設定されている再親水化処理時間（後述する）に一致し
た場合には後述する紫外線照射処理を行うようになって
いる。

【００１９】次に図２および図３を参照して、処理液供
給ノズル５の先端部７について説明する。なお、図２は
その一部破断縦断面図であり、図３は図２を下方から見
た図である。

【００２０】下向き先細り形状を呈する先端部７は、現
像液が流通する１つの処理液流通路７ａをその内部に形
成され、この処理液流通路７ａに連通した１つの吐出孔
７ｂをその下面に形成されている。現像液が付着する恐
れのある先端部７の外周面は、超親水性層Ｓで形成され
ている。この例では、超親水性層Ｓを形成するために、
先端部の外周面に超親水性材料を被着してある。なお、
接触角が１０°以下になると水が全く弾かなくなるの
で、超親水性材料としては接触角が１０°以下のものが
好ましい。このような材料としては、例えば、酸化チタ
ン(TiO₂)光触媒薄膜があり、この被膜を先端部７に被着
した後に、紫外線を照射することによって接触角がほぼ
０°の超親水性層Ｓを得ることができる。

【００２１】次に、図４を参照して待機ポット１１につ
いて説明する。待機ポット１１は、先端部７に付着した
現像液を洗浄除去するためのすり鉢状の洗浄カップ１２
と、先端部７に形成された超親水性層Ｓに紫外線を照射
して超親水化するための照射カップ１６とを備え、これ
らが縦断面コの字状の外容器１９に収納されて構成され
ている。なお、洗浄カップ１２が配備された位置は上述
した洗浄位置ＣＰに、照射カップ１６が配備された位置
は上述した照射位置ＥＰに対応する。

【００２２】上記の洗浄カップ１２は、先端部７を収納
してその上部外周面から洗浄液を供給するとともに、現
像液を溶解した洗浄液を案内して回収するための収納部
１２ａが形成されており、その上部に環状の供給路１２
ｂが形成されている。供給路１２ｂの内周側には、収納
部１２ａの全周にわたって開口し、かつ、斜め上方に向
けられた洗浄ノズル１２ｃが形成されている。供給路１
２ｂには供給管１２ｄを介して洗浄液供給部２２から洗
浄液が供給され、この洗浄液は洗浄ノズル１２ｃから噴
射される。そして噴出された洗浄液は、収納部１２ａの
底面に案内されて排液口１２ｅを通して排出回収される
ようになっている。

【００２３】上記の照射カップ１６は、先端部７を収容
する凹面鏡部１６ａが形成されている。その上部内周面
にはゴムなどの弾性体でドーナツ状に形成された遮光部
材１６ｂが上下方向に間隔をおいて二重に配設され、そ
の底部には紫外線照射部２０からの紫外線を導くための
光ファイバ２１の端面が固着されている。光ファイバ２
１の端面上方には、先端部７の吐出孔７ｂを上面で当接
支持するとともに、下面で光ファイバ２１からの紫外線
を凹面鏡部１６ａに向けて反射散乱させる凸面鏡部１６
ｃが紫外線を透過する樹脂１６ｄによって固着されてい
る。

【００２４】照射位置ＥＰに配設されているこの照射カ
ップ１６は、先端部７を収納してその超親水性層Ｓに対
して一定量の紫外線を照射するものである。上述したよ
うに本実施例における超親水性層Ｓは、酸化チタン光触
媒薄膜に紫外線を照射して形成されているが、時間が経
過するにつれて次第に接触角が大きくなって親水性が低
下してゆく。そこで、例えば、数十時間ごとに定期的に
先端部７を照射位置ＥＰに移動して紫外線を照射し、接
触角を再びほぼ０°にして超親水化するための紫外線照
射処理を行うようになっている。なお、紫外線照射処理
は、制御部２５がタイマ２７を参照し、その経過時間が
予め設定されている再親水化処理時間に一致した場合に
行われる。

【００２５】次いで、上記のように構成されている回転
式基板現像装置の動作について説明する。なお、スピン
チャック１には所定パターンが露光されたフォトレジス
ト被膜を表面に有する基板Ｗが吸着支持されており、処
理液供給ノズル５は洗浄位置ＣＰにあるものとする。

【００２６】「現像処理」制御部２５は、移動機構９に
よって処理液供給ノズル５を洗浄位置ＣＰから移動し、
図１の実線で示す供給位置にまで移動する。次いで、電
動モータ２を制御して一定の速度で基板Ｗを回転させつ
つ処理液供給ノズル５の先端部７から一定温度の現像液
を供給する。所定量の現像液を供給し終えた後、図示し
ない供給ノズルからリンス液を供給してリンス処理を行
い、電動モータ２の回転を高速回転に切り換えて基板Ｗ
を振り切り乾燥させる。その後、上記のようにして処理
された基板Ｗを搬出して未処理の基板Ｗを搬入するが、
現像液の供給を完了した時点から未処理の基板Ｗを搬入
するまでの間、以下のようにして先端部７の洗浄処理を
行う。

【００２７】制御部２５は、現像液の供給を完了した時
点で、移動機構９によって処理液供給ノズル５を洗浄位
置ＣＰに移動する。なお、この状態では供給時における
基板Ｗ面での飛散や表面張力などにより、処理液流通路
７ａを通して吐出孔７ｂから供給された現像液の一部
が、図５に示すように先端部７の吐出孔７ｂ周辺部に付
着している。しかし、先端部７の外周面は超親水性層Ｓ
が形成されている関係上、接触角がほぼ０°になってお
り、現像液Ｄは球状の液滴とならず薄い膜状の液滴にな
って拡がって付着している。したがって、移動などによ
り生じる振動や自重によって、付着している現像液Ｄが
先端部７を次第に流下することが抑制でき、基板Ｗ面に
落下する『ぼた落ち』が防止できる。

【００２８】因みに、超親水性層Ｓが形成されていない
従来例の場合には、図６に示すように現像液Ｄの液滴が
球状となって吐出孔７ｂ周辺部に付着する。このように
球状の状態で付着している現像液Ｄは、自重や振動によ
って下向きに先細りの外周面を流下しやすく不意に落下
する『ぼた落ち』の原因となる。

【００２９】「洗浄処理」図７に示すように、洗浄位置
ＣＰでは処理液供給ノズル５の先端部７が洗浄カップ１
２の収納部１２ａに収納される。制御部２５は、洗浄液
供給部２２から洗浄液を圧送し、洗浄ノズル１２ｃから
洗浄液Ｃを先端部７の外周面に向けて噴出させる。これ
により先端部７の外周面には洗浄液Ｃが供給されるが、
超親水性層Ｓが形成されているので、付着している現像
液Ｄよりも洗浄液Ｃの方が先端部７の外周面に馴染みや
すくなっている。したがって、付着している現像液Ｄと
先端部７の外周面との界面に洗浄液Ｃが容易に入り込
み、付着している現像液Ｄを先端部７から容易に離脱さ
せることができる。したがって、先端部７の洗浄に要す
る時間が短縮化でき、次なる基板Ｗへの現像液供給を迅
速に行うことができて装置の稼働率を向上させることが
できる。

【００３０】また、噴出された洗浄液Ｃは超親水性層Ｓ
の作用により均一に先端部７の外周面に拡がるので、残
渣を生じることなく付着した現像液Ｄを完全に除去する
ことができる。なお、現像液Ｄを溶解した洗浄液Ｃは、
排液口１２ｅから排出されて回収される。

【００３１】以上のようにして先端部７の「洗浄処理」
を行った後、未処理の基板Ｗに対する「現像処理」を
「洗浄処理」と交互に順次行ってゆく。このようにして
「現像処理」を順次に行っていく際に、制御部２５はタ
イマ２７を参照して経過時間を読み出し、その時間が
『再親水化処理時間』に達している場合には、移動機構
９を制御して処理液供給ノズル５を照射位置ＥＰに移動
し、「紫外線照射処理」を行う。

【００３２】「紫外線照射処理」図８に示すように先端
部７が照射位置ＥＰに移動した後、制御部２５は紫外線
照射部２０に内蔵された図示しないシャッターを開放し
て、光ファイバ２１を介して照射カップ１６に紫外線を
導く。光ファイバ２１から放射された紫外線Ｖは、その
一部が樹脂１６ｄを透過して直接的に超親水性層Ｓに到
達し、大部分が樹脂１６ｄを透過して凸面鏡部１６ｃで
反射散乱された後に凹面鏡部１６ａで反射されて超親水
性層Ｓに到達する。このようにして紫外線Ｖの照射を一
定時間行って十分な量の紫外線Ｖを超親水性層Ｓに当て
ることによって、接触角を０°に回復させて再び超親水
化を図ることができる。なお、上方に向けて照射された
紫外線Ｖは、凹面鏡部１６ａの上部に配設された二重の
遮光部材１６ｂによって外部に漏れることが防止されて
いるので、露光後現像前の基板Ｗに対して悪影響を与え
ることはない。

【００３３】上記のようにして「紫外線照射処理」を定
期的に行いつつ、基板Ｗに対する「現像処理」および
「洗浄処理」を継続的に行ってゆくことにより、『ぼた
落ち』の防止および洗浄時間の短縮化を長期間にわたっ
て維持することができる。

【００３４】＜第２実施例＞次に、処理液供給ノズル５
に図９および図１０に示すような先端部７を備えた実施
例について説明する。なお、図９は先端部７の一部破断
縦断面図であり、図１０はそのＡ−Ａ矢視断面図であ
る。また、先端部７および待機ポット１１を除くその他
の構成は、上述した第１実施例と同一であるので、説明
については省略する。

【００３５】先端部７は円柱状の外観を呈しており、鉛
直方向に沿った１つの処理液流通路７ａと、この処理液
流通路７ａの下端部から側方に、平面視にて放射状に分
岐した５つの分岐流通路７ａ₁ をその内部に形成されて
いるとともに、これらの分岐流通路７ａ₁ に連通した５
つの吐出孔７ｂをその下方側面に形成されている。ま
た、現像液が付着する恐れのある先端部７の外周面およ
び円弧状の下面は、上記第１実施例と同様に超親水性層
Ｓが形成されている。

【００３６】図１１に示すように、待機ポット１１の洗
浄カップ１２は、円柱状の凹部に形成された収納部１２
ａを有し、その側面の一部位には先端部７の下面の形状
に類似の上部外形を有する下面ノズル部材１２ｆが突設
されている。下面ノズル部材１２ｆの頂部には、先端部
７の下面に洗浄液を噴射する下面ノズル１２ｆ₁ が形成
されており、ここには供給管１２ｄ₁ を介して洗浄液供
給部２２から洗浄液が供給される。したがって、先端部
７の上部には洗浄ノズル１２ｃから洗浄液が供給される
とともに、下面には下面ノズル１２ｆ₁ から洗浄液が供
給され、先端部７の全体に洗浄液が供給されるようにな
っている。

【００３７】照射カップ１６は、先端部７を収納する凹
面鏡部１６ａを有し、その底面に、光ファイバ２１から
の紫外線を反射散乱させる凸面鏡部１６ｃが先端部７の
下面から離間して樹脂１６ｄにより固着されている。光
ファイバ２１から照射された紫外線は、凸面鏡部１６ｃ
と凹面鏡部１６ａを経て先端部７の外周面に照射される
とともに、先端部７の円弧状の下面と凸面鏡部１６ｃの
上面との間で反射散乱して先端部７の全体にわたって均
一に照射されるようになっている。

【００３８】上述したような先端部７を備える洗浄液供
給ノズル５から基板Ｗに対して現像液を供給すると、処
理液流通路７ａおよび分岐流通路７ａ₁ を経て５つの吐
出孔７ｂから現像液が吐出される。現像液は、吐出孔７
ｂから側方に向けて吐出され、弧を描くようにして基板
Ｗの表面に到達する。したがって、上述した第１実施例
のように真上から現像液を供給するノズルに比較して、
基板Ｗの表面における衝撃を和らげることができる。よ
って、基板Ｗの表面に形成されている露光済みのフォト
レジスト被膜にダメージを与えることなく、適切に現像
処理を施すことができる。

【００３９】現像液の供給を停止した状態では、図１２
に示すように、５つの吐出孔７ｂ周辺部およびその直下
付近の下面に現像液Ｄの一部が付着する。しかし、先端
部７の外周面および下面には、超親水性層Ｓが形成され
ているので、現像液Ｄは薄い膜状の液滴となって拡がっ
て付着している。したがって、振動や自重により先端部
７の外周面や下面を次第に流下することが抑制でき、
『ぼた落ち』を防止することができる。

【００４０】因みに、超親水性層Ｓが形成されていない
従来例の場合には、図１３に示すように現像液Ｄの液滴
が球状となって吐出孔７ｂ周辺部および吐出孔７ｂ付近
の下面に著しく付着する。このように球状の状態で付着
している現像液Ｄは、自重や振動によって流下しやすく
『ぼた落ち』の原因となり、現像液の衝撃のダメージを
和らげることができる一方で現像不良を生じることにな
る。

【００４１】「洗浄処理」（図１１） 先端部７を洗浄処理するには、まず、先端部７を洗浄位
置ＣＰに移動し、次いで洗浄液供給部２２から洗浄液を
供給して、洗浄ノズル１２ｃおよび下面ノズル１２ｆ₁
から洗浄液を噴出させる。先端部７の外周面および下面
には超親水性層Ｓが形成されているので、付着している
現像液Ｄよりも洗浄液Ｃの方が馴染みやすく付着してい
る現像液Ｄを先端部７から容易に離脱させることができ
る。したがって、洗浄に要する時間を短縮化でき、装置
の稼働率を向上させることができる。また、洗浄液Ｃは
超親水性層Ｓの作用により先端部７の全体にわたって均
一に拡がるので、残渣を生じることなく付着した現像液
Ｄを完全に除去することができる。

【００４２】「紫外線照射処理」（図１１） 上記構成の先端部７から現像液を供給して「現像処理」
を行い、再親水化処理時間に達した場合には、先端部７
を照射位置ＥＰに移動して紫外線照射処理を行う。つま
り、光ファイバ２１から紫外線を照射して、凹面鏡部１
６ａ、凸面鏡部１６ｃ、先端部７の下面の反射散乱によ
り先端部７の全体に一定量の紫外線を照射する。これに
より接触角を０°に回復させて再び超親水化を図ること
ができ、長期間にわたって『ぼた落ち』防止および洗浄
時間の短縮化が維持できることは上述した第１実施例と
同じである。

【００４３】＜第３実施例＞次に、処理液供給ノズル５
に図１４および図１５に示すような先端部７を備えた実
施例について説明する。なお、図１４は図１５を下方か
ら見た図である。また、先端部７を除く構成は上述した
第２実施例と同一である。

【００４４】先端部７は、現像液が流通する５つの処理
液流通路７ａを内部に形成され、これらの処理液流通路
７ａのそれぞれに連通した吐出孔７ｂを下面に形成され
ている基部７ｃと、この基部７ｃの下面から下方に突設
された裾拡がりの傾斜面を有する流下部材７ｄとから構
成されている。流下部材７ｄは、５つの吐出孔７ｂから
吐出された現像液を一旦傾斜面で受け止めて、基板Ｗの
表面における現像液の衝撃を和らげるように作用する。
したがって、上述した第１実施例のように真上から現像
液を供給するノズルに比較して、基板Ｗ表面での衝撃を
和らげることができるとともに、上記の第２実施例に比
較して大量の現像液を基板Ｗに供給することができる。
よって、基板Ｗ表面のフォトレジスト被膜にダメージを
与えることなく、より適切に現像処理を施すことができ
る。

【００４５】なお、上述した各実施例と同様に、現像液
が付着する恐れのある部分は、超親水性層Ｓで形成され
ている。具体的には、先端部７の基部７ｃの外周面およ
び下面と、流下部材７ｄの外周面および下面が超親水性
層Ｓで形成されている。

【００４６】現像液の供給を停止した状態では、図１６
に示すように、５つの吐出孔７ｂ周辺部および流下部材
７ｄに現像液Ｄの一部が付着する。しかし、これらには
超親水性層Ｓが形成されているので、現像液Ｄは薄い膜
状の液滴となって拡がって付着している。したがって、
振動や自重により先端部７を次第に流下することが抑制
でき、『ぼた落ち』を防止することができる。

【００４７】因みに、超親水性層Ｓが形成されていない
従来例の場合には、図１７に示すように現像液Ｄの液滴
が球状となって吐出孔７ｂ周辺部および流下部材７ｄの
傾斜面／周縁／下面に顕著に付着する。このように球状
の状態で付着している現像液Ｄは、自重や振動によって
それらを流下しやすく『ぼた落ち』の原因となり、現像
液の衝撃のダメージを和らげることができる一方で現像
不良を生じることになる。

【００４８】上記のように構成された先端部７の「洗浄
処理」および「紫外線照射処理」は、上述した第２実施
例の待機ポット１１によって行うことができ、第２実施
例と同一の効果を奏することができる。

【００４９】なお、上述した各実施例では、現像液を供
給して現像処理を行う回転式基板現像装置の処理液供給
ノズルを例に採って説明したが、本発明は塗布液を供給
して被膜を形成する回転式基板塗布装置の処理液供給ノ
ズルであっても適用できることは言うまでもない。この
場合、上述した待機ポット１１の照射カップ１６におけ
る紫外線照射処理時に処理液流通路７ａ内に貯留してい
る塗布液が感光しないように、吐出孔７ｂから紫外線が
入射することを防止する遮光部材などを配設しておく必
要がある。

【００５０】また、上述した各実施例では、現像液が付
着する恐れのある部分に超親水性層Ｓを形成するように
したが、先端部７を超親水性材料で一体的に形成するよ
うにしてもよい。

【００５１】なお、上記各実施例では、制御部２５がタ
イマ２７により再親水化処理時間に到達したことを検出
し、移動機構９および紫外線照射部２０を制御して紫外
線照射処理を自動的に行うようにしたが、オペレータの
手作業により行うようにしてもよい。例えば、制御部２
５が再親水化処理時間に到達したことを検出した時点で
そのことを報知するとともに処理液供給ノズル５を待機
位置に移動して装置を一時的に停止する。そして、オペ
レータが先端部７を処理液供給ノズル５から取り外して
適宜の手法によって紫外線を照射する。

【００５２】また、上記の実施例装置では待機ポット１
１に照射カップ１６を設けて、再親水化処理時間が経過
した時点で紫外線照射処理を施すようにしたが、超親水
性層Ｓが経時変化を伴わない場合および上述した手作業
によりその処理を行う場合には、当然のことながら上記
構成は不要である。

【００５３】また、上記実施例では、先端部７の外周面
にのみ超親水性層Ｓを形成したが、処理液流通路７ａ
（または分岐流通路７ａ₁ ）内面にも超親水性層Ｓを形
成するようにしてもよい。これにより処理液がその内面
に極めて馴染みやすくなるので、処理液が内面に均一に
拡がって流下することになる。よって、処理液が内面の
一部位に付着して固化し、その固まりが基板面に落下し
て処理を不均一にしたり基板を汚染するような不都合を
回避することができる。また、例え、処理液が内面の一
部位に付着固化したとしても、ブラシなどを用いて物理
的に洗浄することなく先端部７を水溶液に漬けるなどす
るだけで処理液流通路７ａの内面を容易に洗浄すること
ができる。

【００５４】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明によれば、処理液供給ノズルの先端部を
超親水化することにより、付着した処理液が次第に流下
してゆくことを防止でき、『ぼた落ち』を防止すること
ができる。さらに、先端部の表面と処理液との界面に洗
浄液が入り込みやすく、先端部に付着した処理液を容易
に離脱させることができるので、短時間の洗浄で残渣を
生じることなく付着した処理液を完全に除去することが
できる。したがって、付着した液滴に起因するパーティ
クルの発生を防止できるとともに、洗浄に要する時間が
短縮化できて装置の稼働率を高めることができる。

【００５５】また、請求項２に記載の発明によれば、処
理液吐出時の衝撃を和らげつつも、『ぼた落ち』を防止
することができ、短時間の洗浄で残渣を生じることなく
付着した処理液を完全に除去することができる。したが
って、処理液吐出時の不都合を回避することができると
ともに、液滴に起因するパーティクルの発生を防止で
き、洗浄時間を短縮化できる。

【００５６】また、請求項３に記載の発明によれば、処
理液吐出時の衝撃をさらに和らげつつも、請求項２に記
載の発明と同様の効果を奏する。

【００５７】また、請求項４に記載の発明によれば、接
触角が１０°以下の超親水性材料を採用することで先端
部の親水性を極めて高くできるので、付着した処理液の
流下をほぼ完全に防止することができるとともに、付着
した処理液と先端部との界面に洗浄液が非常に入りやす
くなる。したがって、より効果的に『ぼた落ち』を防止
できるとともに、より短時間の洗浄で残渣を生じること
なく付着した処理液をほぼ完全に除去することができ
る。したがって、液滴に起因するパーティクルの発生を
さらに防止できるとともに、洗浄に要する時間がより短
縮化できて装置の稼働率をさらに高めることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る基板処理装置の処理液供給ノズル
を採用した回転式基板現像装置の概略構成を示す縦断面
図である。

【図２】第１実施例に係る処理液供給ノズルを示す一部
破断縦断面図である。

【図３】図２を下方から見た図である。

【図４】待機ポットの構成を示す縦断面図である。

【図５】液滴が付着した状態を示す図である。

【図６】液滴が付着した状態の従来例を示す図である。

【図７】処理液供給ノズルの洗浄処理を示す図である。

【図８】処理液供給ノズルの紫外線照射処理を示す図で
ある。

【図９】第２実施例に係る処理液供給ノズルを示す一部
破断縦断面図である。

【図１０】図９のＡ−Ａ矢視断面図である。

【図１１】待機ポットの構成を示す縦断面図である。

【図１２】液滴が付着した状態を示す図である。

【図１３】液滴が付着した状態の従来例を示す図であ
る。

【図１４】第２実施例に係る処理液供給ノズルを示す一
部破断縦断面図である。

【図１５】図１４を下方から見た図である。

【図１６】液滴が付着した状態を示す図である。

【図１７】液滴が付着した状態の従来例を示す図であ
る。

【符号の説明】

Ｗ … 基板 Ｓ … 超撥水性層 Ｄ … 現像液 １ … スピンチャック ２ … 電動モータ ３ … 飛散防止カップ ５ … 処理液供給ノズル ７ … 先端部 ７ａ … 処理液流通路 ７ａ₁ … 分岐流通路 ７ｂ … 吐出孔 ７ｃ … 基部 ７ｄ … 流下部材 １１ … 待機ポット １２ … 洗浄カップ Ｃ … 洗浄液 １６ … 照射カップ Ｖ … 紫外線 ２０ … 紫外線照射部 ２２ … 洗浄液供給部 ＣＰ … 洗浄位置 ＥＰ … 照射位置

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板の表面に処理液を吐出する基板処理
   装置の処理液供給ノズルにおいて、 前記処理液を吐出する吐出孔が形成された先端部を超親
   水性材料で形成したことを特徴とする基板処理装置の処
   理液供給ノズル。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の基板処理装置の処理液
   供給ノズルにおいて、前記吐出孔は、前記ノズル先端部
   の側面に形成されていることを特徴とする基板処理装置
   の処理液供給ノズル。
3. 【請求項３】 請求項１に記載の基板処理装置の処理液
   供給ノズルにおいて、前記先端部は、前記吐出孔が下面
   に開口した基部と、この基部の下面から下方に突出形成
   されて、前記吐出孔から吐出された処理液が裾拡がりの
   傾斜面を流下する流下部材とから構成されていることを
   特徴とする基板処理装置の処理液供給ノズル。
4. 【請求項４】 請求項１ないし請求項３に記載の基板処
   理装置の処理液供給ノズルにおいて、前記超親水性材料
   は、接触角が１０°以下のものであることを特徴とする
   基板処理装置の処理液供給ノズル。