JPH10261212A - 回路配線付き磁気ヘッド用サスペンションの製造法 - Google Patents
回路配線付き磁気ヘッド用サスペンションの製造法Info
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- JPH10261212A JPH10261212A JP8257006A JP25700696A JPH10261212A JP H10261212 A JPH10261212 A JP H10261212A JP 8257006 A JP8257006 A JP 8257006A JP 25700696 A JP25700696 A JP 25700696A JP H10261212 A JPH10261212 A JP H10261212A
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- G11B5/4806—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed specially adapted for disk drive assemblies, e.g. assembly prior to operation, hard or flexible disk drives
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
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- Supporting Of Heads In Record-Carrier Devices (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 回路配線を一体化した磁気ヘッド用サスペン
ションを能率的に製造できる方法。 【解決手段】 可撓性絶縁材の一方の面にバネ性金属層
5を有し、他方の一面に導電層6を有する積層板を用意
する。両面同時露光方式を含むフォトファブリケーショ
ン手法により、積層板における導電層に対して所望の回
路配線パターンを、またバネ性金属層に対してバネ形状
を形成し、回路配線パターンにボンディング用金属層を
メッキ処理にて形成し、ボンディング用金属層を覆うよ
うにカバーコート11層を形成する。この層上に表面金
属層12を形成し、表面金属層にエッチング処理を施す
か、あるいは該層上にマスクを載置して薄膜形成法によ
りメタルマスク層13を形成する。このメタルマスク層
を用いてカバーコート層および可撓性絶縁ベース材をエ
ッチング処理により除去し、メタルマスク層をエッチン
グ処理により除去し、バネ性金属層に曲げ成形加工を施
す。
ションを能率的に製造できる方法。 【解決手段】 可撓性絶縁材の一方の面にバネ性金属層
5を有し、他方の一面に導電層6を有する積層板を用意
する。両面同時露光方式を含むフォトファブリケーショ
ン手法により、積層板における導電層に対して所望の回
路配線パターンを、またバネ性金属層に対してバネ形状
を形成し、回路配線パターンにボンディング用金属層を
メッキ処理にて形成し、ボンディング用金属層を覆うよ
うにカバーコート11層を形成する。この層上に表面金
属層12を形成し、表面金属層にエッチング処理を施す
か、あるいは該層上にマスクを載置して薄膜形成法によ
りメタルマスク層13を形成する。このメタルマスク層
を用いてカバーコート層および可撓性絶縁ベース材をエ
ッチング処理により除去し、メタルマスク層をエッチン
グ処理により除去し、バネ性金属層に曲げ成形加工を施
す。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスクドライブ
などに用いられる磁気ヘッド用サスペンション組立体の
製造方法に係り、とくに磁気ヘッド素子をリードライト
アンプ部基板に電気的に接続するための配線部材とサス
ペンションとが一体的に形成された回路配線付き磁気ヘ
ッド用サスペンションの製造法に関する。
などに用いられる磁気ヘッド用サスペンション組立体の
製造方法に係り、とくに磁気ヘッド素子をリードライト
アンプ部基板に電気的に接続するための配線部材とサス
ペンションとが一体的に形成された回路配線付き磁気ヘ
ッド用サスペンションの製造法に関する。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】この
種の磁気ディスク装置は、データを磁気記録するための
少なくとも1枚の回転式ディスクと、このディスク上の
各トラックに対するデータの読み取りまたは書き込みを
行う磁気ヘッド素子と、この磁気ヘッド素子を所望のト
ラック位置に移動させ且つこの磁気ヘッド素子をそのト
ラック上方に保持するための位置決めアクチュエータと
をそなえている。
種の磁気ディスク装置は、データを磁気記録するための
少なくとも1枚の回転式ディスクと、このディスク上の
各トラックに対するデータの読み取りまたは書き込みを
行う磁気ヘッド素子と、この磁気ヘッド素子を所望のト
ラック位置に移動させ且つこの磁気ヘッド素子をそのト
ラック上方に保持するための位置決めアクチュエータと
をそなえている。
【0003】従来の磁気ヘッドサスペンション組立体の
一例が、特開昭63−113917号公報に開示されて
いる。この技術において、磁気ヘッド素子はエポキシ樹
脂によってフレキシャに取り付けられており、このフレ
キシャはロードビームレーザー溶接などの手法で接続さ
れている。
一例が、特開昭63−113917号公報に開示されて
いる。この技術において、磁気ヘッド素子はエポキシ樹
脂によってフレキシャに取り付けられており、このフレ
キシャはロードビームレーザー溶接などの手法で接続さ
れている。
【0004】磁気ヘッド素子上に形成された電極には、
ウレタン被覆などを施した金メッキ導線などが超音波接
合や半田などで接続されて信号の外部回路への引き出し
配線部材を形成している。この配線部材は、所定の回数
巻回されて可撓性絶縁チューブに納められ、サスペンシ
ョンの一部をかしめるなどの手法により、このサスペン
ション上に取り付けられている。
ウレタン被覆などを施した金メッキ導線などが超音波接
合や半田などで接続されて信号の外部回路への引き出し
配線部材を形成している。この配線部材は、所定の回数
巻回されて可撓性絶縁チューブに納められ、サスペンシ
ョンの一部をかしめるなどの手法により、このサスペン
ション上に取り付けられている。
【0005】このような磁気ヘッドサスペンション組立
体においては、磁気ヘッド素子上の電極と引出線との接
続が作業性の制約から極めて非能率的であって生産性を
向上させることは困難である。そして、近年における磁
気ヘッド素子の小型化とMR素子化による端子数の増加
は、この問題をさらに複雑なものにしている。また、引
出配線部材の持つ剛性が磁気ヘッド素子の浮上に影響を
与えて最適な浮上姿勢が得られないなどの問題もある。
さらに、この引出配線部材が記録媒体の回転が引き起こ
す空気の流れによりその風圧を受け、磁気ヘッド素子の
浮上姿勢に悪影響を与えるなどの問題がある。
体においては、磁気ヘッド素子上の電極と引出線との接
続が作業性の制約から極めて非能率的であって生産性を
向上させることは困難である。そして、近年における磁
気ヘッド素子の小型化とMR素子化による端子数の増加
は、この問題をさらに複雑なものにしている。また、引
出配線部材の持つ剛性が磁気ヘッド素子の浮上に影響を
与えて最適な浮上姿勢が得られないなどの問題もある。
さらに、この引出配線部材が記録媒体の回転が引き起こ
す空気の流れによりその風圧を受け、磁気ヘッド素子の
浮上姿勢に悪影響を与えるなどの問題がある。
【0006】このような問題に対して、特開昭53−7
4414号公報の技術では、引出配線部材とサスペンシ
ョン機構とを兼ねた可撓性回路基板を磁気ヘッド素子の
支持機構として用いることを開示している。
4414号公報の技術では、引出配線部材とサスペンシ
ョン機構とを兼ねた可撓性回路基板を磁気ヘッド素子の
支持機構として用いることを開示している。
【0007】しかし、この技術はサスペンション機構に
本来的に求められる事項である磁気ヘッド素子の正確な
位置決め、適正な荷重の付与や適正な浮上姿勢の確保と
いう点では問題が多く、近年の高密度化した磁気ディス
ク装置においては採用することが困難である。
本来的に求められる事項である磁気ヘッド素子の正確な
位置決め、適正な荷重の付与や適正な浮上姿勢の確保と
いう点では問題が多く、近年の高密度化した磁気ディス
ク装置においては採用することが困難である。
【0008】そこで、引出配線に関する問題に対して
は、可撓性回路基板を用いて一括配線し、サスペンショ
ンバネに粘着材などで貼着する手法が考えられる。
は、可撓性回路基板を用いて一括配線し、サスペンショ
ンバネに粘着材などで貼着する手法が考えられる。
【0009】しかし、シーク動作の高速化に伴い、サー
ボ系の機械要素としての機能を考えた場合、構成部材と
してはより軽量化が求められるのに対して、別体に構成
した可撓性基板とサスペンションバネとを貼り合わせる
手法は、作業性の観点から軽量化を犠牲にしなければな
らないという問題がある。
ボ系の機械要素としての機能を考えた場合、構成部材と
してはより軽量化が求められるのに対して、別体に構成
した可撓性基板とサスペンションバネとを貼り合わせる
手法は、作業性の観点から軽量化を犠牲にしなければな
らないという問題がある。
【0010】この対策として、特願平6−193662
号に示される、可撓性ベース材を介して所要の回路配線
パターンを一体的にそなえたサスペンションが提供され
ている。
号に示される、可撓性ベース材を介して所要の回路配線
パターンを一体的にそなえたサスペンションが提供され
ている。
【0011】本発明は上述の点を考慮してなされたもの
で、回路配線を一体化した磁気ヘッド用サスペンション
を能率的に製造できる方法を提供することを目的とす
る。
で、回路配線を一体化した磁気ヘッド用サスペンション
を能率的に製造できる方法を提供することを目的とす
る。
【0012】
【課題解決のための手段】上記目的達成のため、本発明
では、請求項1記載の、可撓性絶縁材を介して所要の回
路配線パターンを一体的に備える回路配線付き磁気ヘッ
ド用サスペンションの製造法であって、前記可撓性絶縁
材の一方の面にバネ性金属層を有し、他方の面に導電層
を有する積層板を用意し、両面同時露光方式を含むフォ
トファブリケーション手法により、前記積層板における
前記導電層に対して所望の回路配線パターンを、また前
記バネ性金属層に対してバネ形状を形成し、前記回路配
線パターンにボンディング用金属層をメッキ処理にて形
成し、前記ボンディング用金属層を覆うようにカバーコ
ート層を形成し、このカバーコート層上に所定の開口を
有するマスクを載置し、このマスクを用いて前記カバー
コート層上にメタルアスク層を形成し、このメタルマス
ク層を用いて前記カバーコート層および前記可撓性絶縁
材をエッチング処理により除去し、前記メタルマスク層
をエッチング処理により除去し、前記バネ性金属層に曲
げ成形加工を施して所望形状の磁気ヘッド用サスペンシ
ョンを形成する、回路配線付き磁気ヘッド用サスペンシ
ョンの製造法、請求項2記載の、可撓性絶縁材を介して
所要の回路配線パターンを一体的に備える回路配線付き
磁気ヘッド用サスペンションの製造法であって、前記可
撓性絶縁材の一方の面にバネ性金属層を有し、他方の面
に導電層を有する積層板を用意し、両面同時露光方式を
含むフォトファブリケーション手法により、前記積層板
における前記導電層に対して所望の回路配線パターン
を、また前記バネ性金属層に対してバネ形状を形成し、
前記回路配線パターンにボンディング用金属層をメッキ
処理にて形成し、前記ボンディング用金属層を覆うよう
にカバーコート層を形成し、このカバーコート層上に表
面金属層を形成し、前記表面金属層にメタルマスク層を
形成し、このメタルマスク層を用いて前記カバーコート
層および前記可撓性絶縁材をエッチング処理により除去
し、前記メタルマスク層をエッチング処理により除去
し、前記バネ性金属層に曲げ成形加工を施して所望形状
の磁気ヘッド用サスペンションを形成する、回路配線付
き磁気ヘッド用サスペンションの製造法、および請求項
3記載の、請求項1または2記載の回路配線付き磁気ヘ
ッド用サスペンションの製造法における前記メタルマス
ク層を用いたエッチング処理は、プラズマエッチング、
ケミカルエッチングおよびエキシマレーザアブレーショ
ンのいづれかによる回路配線付き磁気ヘッド用サスペン
ションの製造法、を提供する。
では、請求項1記載の、可撓性絶縁材を介して所要の回
路配線パターンを一体的に備える回路配線付き磁気ヘッ
ド用サスペンションの製造法であって、前記可撓性絶縁
材の一方の面にバネ性金属層を有し、他方の面に導電層
を有する積層板を用意し、両面同時露光方式を含むフォ
トファブリケーション手法により、前記積層板における
前記導電層に対して所望の回路配線パターンを、また前
記バネ性金属層に対してバネ形状を形成し、前記回路配
線パターンにボンディング用金属層をメッキ処理にて形
成し、前記ボンディング用金属層を覆うようにカバーコ
ート層を形成し、このカバーコート層上に所定の開口を
有するマスクを載置し、このマスクを用いて前記カバー
コート層上にメタルアスク層を形成し、このメタルマス
ク層を用いて前記カバーコート層および前記可撓性絶縁
材をエッチング処理により除去し、前記メタルマスク層
をエッチング処理により除去し、前記バネ性金属層に曲
げ成形加工を施して所望形状の磁気ヘッド用サスペンシ
ョンを形成する、回路配線付き磁気ヘッド用サスペンシ
ョンの製造法、請求項2記載の、可撓性絶縁材を介して
所要の回路配線パターンを一体的に備える回路配線付き
磁気ヘッド用サスペンションの製造法であって、前記可
撓性絶縁材の一方の面にバネ性金属層を有し、他方の面
に導電層を有する積層板を用意し、両面同時露光方式を
含むフォトファブリケーション手法により、前記積層板
における前記導電層に対して所望の回路配線パターン
を、また前記バネ性金属層に対してバネ形状を形成し、
前記回路配線パターンにボンディング用金属層をメッキ
処理にて形成し、前記ボンディング用金属層を覆うよう
にカバーコート層を形成し、このカバーコート層上に表
面金属層を形成し、前記表面金属層にメタルマスク層を
形成し、このメタルマスク層を用いて前記カバーコート
層および前記可撓性絶縁材をエッチング処理により除去
し、前記メタルマスク層をエッチング処理により除去
し、前記バネ性金属層に曲げ成形加工を施して所望形状
の磁気ヘッド用サスペンションを形成する、回路配線付
き磁気ヘッド用サスペンションの製造法、および請求項
3記載の、請求項1または2記載の回路配線付き磁気ヘ
ッド用サスペンションの製造法における前記メタルマス
ク層を用いたエッチング処理は、プラズマエッチング、
ケミカルエッチングおよびエキシマレーザアブレーショ
ンのいづれかによる回路配線付き磁気ヘッド用サスペン
ションの製造法、を提供する。
【0013】
【発明の実施の形態】図1および図2は、本発明により
製造すべき回路配線付き磁気ヘッド用サスペンションの
2つの構成例を示す斜視図である。これら両図に示すよ
うに、磁気ヘッド用サスペンションでは、磁気ヘッド素
子とリードライトアンプ部基板との接続のための配線部
材とサスペンションとが一体的に形成されている。
製造すべき回路配線付き磁気ヘッド用サスペンションの
2つの構成例を示す斜視図である。これら両図に示すよ
うに、磁気ヘッド用サスペンションでは、磁気ヘッド素
子とリードライトアンプ部基板との接続のための配線部
材とサスペンションとが一体的に形成されている。
【0014】そして、図1に示す回路配線付き磁気ヘッ
ド用サスペンションの構成例では、バネ性金属で形成さ
れたサスペンション1の上に、可撓性絶縁ベース材全体
と、この可撓性絶縁ベース材上に形成されて表面保護層
4で被覆された回路配線パターン3とが設けられてい
る。この回路配線パターン3は、磁気ヘッド素子とリー
ドライトアンプとの接続を行うもので、両端には端子
7、8が設けられている。
ド用サスペンションの構成例では、バネ性金属で形成さ
れたサスペンション1の上に、可撓性絶縁ベース材全体
と、この可撓性絶縁ベース材上に形成されて表面保護層
4で被覆された回路配線パターン3とが設けられてい
る。この回路配線パターン3は、磁気ヘッド素子とリー
ドライトアンプとの接続を行うもので、両端には端子
7、8が設けられている。
【0015】他方、図2に示す構成例では、可撓性絶縁
絶縁ベース材がサスペンション1からはみ出した部分、
つまり伸長部9を有し、この伸長部9の端部に図1にお
ける端子7に代わる端子7Aが形成されている。
絶縁ベース材がサスペンション1からはみ出した部分、
つまり伸長部9を有し、この伸長部9の端部に図1にお
ける端子7に代わる端子7Aが形成されている。
【0016】これら両図の構造において、磁気ヘッド素
子に対する接続端子部としては、表面保護層4の所定の
部位に孔が形成されて回路配線パターンの一部が露出さ
れている。この露出部には、半田または金メッキにより
表面処理層が形成されて端子7、8が形成される。図2
の構造における端子7Aは、表面保護層4をそこまで伸
ばさずに露出して表面処理を行うことにより形成する。
子に対する接続端子部としては、表面保護層4の所定の
部位に孔が形成されて回路配線パターンの一部が露出さ
れている。この露出部には、半田または金メッキにより
表面処理層が形成されて端子7、8が形成される。図2
の構造における端子7Aは、表面保護層4をそこまで伸
ばさずに露出して表面処理を行うことにより形成する。
【0017】図3は、図1および図2の各A−A線に沿
って切断した横断面図である。この図3に示すように、
板状のバネ性金属で形成され、図における左右両側部に
曲げ成形が成されているサスペンション1の上面には、
ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂あるいはアクリル樹脂か
らなる所定幅の可撓性絶縁ベース材2が被着形成されて
いる。この可撓性絶縁ベース材2の表面上の所定位置に
は、所望の回路配線パターン3が形成されており、この
回路配線パターン3の表面には金メッキ層10が設けら
れており、さらにその上に回路配線パターン3の部分だ
けでなく可撓性絶縁ベース材2を含めて覆うように表面
保護層4が設けられている。
って切断した横断面図である。この図3に示すように、
板状のバネ性金属で形成され、図における左右両側部に
曲げ成形が成されているサスペンション1の上面には、
ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂あるいはアクリル樹脂か
らなる所定幅の可撓性絶縁ベース材2が被着形成されて
いる。この可撓性絶縁ベース材2の表面上の所定位置に
は、所望の回路配線パターン3が形成されており、この
回路配線パターン3の表面には金メッキ層10が設けら
れており、さらにその上に回路配線パターン3の部分だ
けでなく可撓性絶縁ベース材2を含めて覆うように表面
保護層4が設けられている。
【0018】図4(a)ないし(f)は、本発明の一実
施例を示す工程図である。この工程図は、図3と同様に
図1および図2のA−A線に沿って切断した位置を断面
として示している。
施例を示す工程図である。この工程図は、図3と同様に
図1および図2のA−A線に沿って切断した位置を断面
として示している。
【0019】まず、図4(a)に示すように、3μm な
いし25μm 程度の厚みのシート状ポリイミド樹脂など
の可撓性絶縁ベース材2の一面に、サスペンションを形
成するための15μm ないし70μm 程度の厚みのステ
ンレススティールなどのバネ性金属層5が形成され、他
の一面には3μm ないし20μm 程度の厚みの銅箔など
の導電層6が設けられた積層板を用意する。
いし25μm 程度の厚みのシート状ポリイミド樹脂など
の可撓性絶縁ベース材2の一面に、サスペンションを形
成するための15μm ないし70μm 程度の厚みのステ
ンレススティールなどのバネ性金属層5が形成され、他
の一面には3μm ないし20μm 程度の厚みの銅箔など
の導電層6が設けられた積層板を用意する。
【0020】次に図4(b)に示すように、積層板の導
電層6およびバネ性金属層5に対して両面の露光マスク
が相互に正確に位置決めされる機構を有する両面露光装
置を用いた両面同時露光方式によるフォトファブリケー
ション手法による処理を行う。すなわち、導電層6には
所望の回路配線パターン3を形成し、バネ性金属層5に
はサスペンション部材1を形成する。そして、回路配線
パターン3には、磁気ヘッド素子とのボンディング性向
上のための金メッキ層10を形成する。
電層6およびバネ性金属層5に対して両面の露光マスク
が相互に正確に位置決めされる機構を有する両面露光装
置を用いた両面同時露光方式によるフォトファブリケー
ション手法による処理を行う。すなわち、導電層6には
所望の回路配線パターン3を形成し、バネ性金属層5に
はサスペンション部材1を形成する。そして、回路配線
パターン3には、磁気ヘッド素子とのボンディング性向
上のための金メッキ層10を形成する。
【0021】続いて図4(c)に示すように、金メッキ
層10を有する回路配線パターン3の上面に、絶縁性樹
脂からなるカバーコート層11を形成し、さらにその上
面に銅のスパッタ手法により金属薄膜層12を形成す
る。
層10を有する回路配線パターン3の上面に、絶縁性樹
脂からなるカバーコート層11を形成し、さらにその上
面に銅のスパッタ手法により金属薄膜層12を形成す
る。
【0022】次いで図4(d)に示すように、金属薄膜
層12に対してエッチング処理を施して所望の絶縁ベー
ス材形状のメタルマスク13を形成する。このメタルマ
スク13には、図示していないが接続端子7,8の位置
に孔が形成されている。
層12に対してエッチング処理を施して所望の絶縁ベー
ス材形状のメタルマスク13を形成する。このメタルマ
スク13には、図示していないが接続端子7,8の位置
に孔が形成されている。
【0023】次に、図4(e)に示すように、プラズマ
エッチング処理によってメタルマスク13によって保護
されていない部位のカバーコート層11および可撓性絶
縁ベース材2をエッチング除去する。
エッチング処理によってメタルマスク13によって保護
されていない部位のカバーコート層11および可撓性絶
縁ベース材2をエッチング除去する。
【0024】そして、図4(f)に示すように、メタル
マスク13をエッチング除去し、カバーコート層11を
表面保護層4とし、バネ形状にエッチングされたバネ性
金属からなるサスペンション部材1に所定の曲げ加工を
施し、所望の形状のサスペンション形状とすることによ
って回路配線を一体的に構成した磁気ヘッド用サスペン
ションを製作することができる。
マスク13をエッチング除去し、カバーコート層11を
表面保護層4とし、バネ形状にエッチングされたバネ性
金属からなるサスペンション部材1に所定の曲げ加工を
施し、所望の形状のサスペンション形状とすることによ
って回路配線を一体的に構成した磁気ヘッド用サスペン
ションを製作することができる。
【0025】図5(a)ないし(c)は、図4(d)に
示すメタルマスクBを形成するための他の方法を示した
ものである。図5(a)は、図4(c)の状態よりも1
段階前の状態を示しており、図4(d)の状態にカバー
コート層11を付加した状態を示している。つまり、図
4(c)の状態から金属薄膜層12を除いた状態であ
る。
示すメタルマスクBを形成するための他の方法を示した
ものである。図5(a)は、図4(c)の状態よりも1
段階前の状態を示しており、図4(d)の状態にカバー
コート層11を付加した状態を示している。つまり、図
4(c)の状態から金属薄膜層12を除いた状態であ
る。
【0026】この状態で、図5(b)に示すように、カ
バーコート層11の上にマスク14を載置する。マスク
14は、絶縁層エッチング用マスク13Aを作成する部
分に開口が形成されている。そして、マスク14を用い
てスパッタリングによりカバーコート層11上に絶縁層
エッチング用マスク13Aを形成する。マスク14の形
成は、レジスト法すなわちレジスト樹脂の混布、キュ
ア、露光、現像により行えばよく、使用後に剥離する。
スパッタリングに代えて他の薄膜形成法を用いてもよ
い。これにより図5(c)に示すように、図4(d)と
同様のマスク13Aを形成する。
バーコート層11の上にマスク14を載置する。マスク
14は、絶縁層エッチング用マスク13Aを作成する部
分に開口が形成されている。そして、マスク14を用い
てスパッタリングによりカバーコート層11上に絶縁層
エッチング用マスク13Aを形成する。マスク14の形
成は、レジスト法すなわちレジスト樹脂の混布、キュ
ア、露光、現像により行えばよく、使用後に剥離する。
スパッタリングに代えて他の薄膜形成法を用いてもよ
い。これにより図5(c)に示すように、図4(d)と
同様のマスク13Aを形成する。
【0027】このようにマスク13Aを形成すると、フ
ォトファブリケーション、エッチングの工程が削減でき
て製造工程全体の効率化を図ることができる。
ォトファブリケーション、エッチングの工程が削減でき
て製造工程全体の効率化を図ることができる。
【0028】
【発明の効果】本発明は上述のように、回路配線とサス
ペンションとを一体的に構成できるので、従来のように
別体としての可撓性回路基板とサスペンションとを貼り
合わせることがなく、作業性が向上する上に軽量化を阻
害することもなく製造することができる。
ペンションとを一体的に構成できるので、従来のように
別体としての可撓性回路基板とサスペンションとを貼り
合わせることがなく、作業性が向上する上に軽量化を阻
害することもなく製造することができる。
【0029】しかも高精度に位置決めされた両面マスク
によるフォトファブリケーション手法を採ったため、工
程数の削減効果および装置コストの低減が図られ、極め
て安価に回路配線一体型サスペンションを提供すること
ができる。
によるフォトファブリケーション手法を採ったため、工
程数の削減効果および装置コストの低減が図られ、極め
て安価に回路配線一体型サスペンションを提供すること
ができる。
【図1】本発明方法により製造すべき回路配線付き磁気
ヘッド用サスペンションの一例の斜視図。
ヘッド用サスペンションの一例の斜視図。
【図2】本発明方法により製造すべき回路配線付き磁気
ヘッド用サスペンションの他の例の斜視図。
ヘッド用サスペンションの他の例の斜視図。
【図3】図1および図2のA−A線に沿って切断した断
面図。
面図。
【図4】本発明方法の1実施例の工程を示す工程図。
【図5】本発明方法の他の実施例の部分工程を示す工程
図。
図。
1 サスペンション 2 可撓性絶縁ベース材 3 回路配線パターン 4 表面保護層 5 バネ性金属層 6 導電層 7,7A,8 端子 9 伸長部 10 金メッキ層 11 カバーコート層 12 金属薄膜層 13,13A メタルマスク
Claims (3)
- 【請求項1】可撓性絶縁材を介して所要の回路配線パタ
ーンを一体的に備える回路配線付き磁気ヘッド用サスペ
ンションの製造法であって、 前記可撓性絶縁材の一方の面にバネ性金属層を有し、他
方の面に導電層を有する積層板を用意し、 両面同時露光方式を含むフォトファブリケーション手法
により、前記積層板における前記導電層に対して所望の
回路配線パターンを、また前記バネ性金属層に対してバ
ネ形状を形成し、 前記回路配線パターンにボンディング用金属層をメッキ
処理にて形成し、 前記ボンディング用金属層を覆うようにカバーコート層
を形成し、 このカバーコート層上に表面金属層を形成し、 前記表面金属層にエッチング処理によりメタルマスク層
を形成し、 このメタルマスク層を用いて前記カバーコート層および
前記可撓性絶縁材をエッチング処理により除去し、 前記メタルマスク層をエッチング処理により除去し、 前記バネ性金属層に曲げ成形加工を施して所望形状の磁
気ヘッド用サスペンションを形成する、 回路配線付き磁気ヘッド用サスペンションの製造法。 - 【請求項2】可撓性絶縁材を介して所要の回路配線パタ
ーンを一体的に備える回路配線付き磁気ヘッド用サスペ
ンションの製造法であって、 前記可撓性絶縁材の一方の面にバネ性金属層を有し、他
方の面に導電層を有する積層板を用意し、 両面同時露光方式を含むフォトファブリケーション手法
により、前記積層板における前記導電層に対して所望の
回路配線パターンを、また前記バネ性金属層に対してバ
ネ形状を形成し、 前記回路配線パターンにボンディング用金属層をメッキ
処理にて形成し、 前記ボンディング用金属層を覆うようにカバーコート層
を形成し、 このカバーコート層上に所定の開口を有するマスクを載
置し、 このマスクを用いて前記カバーコート層上にメタルマス
ク層を形成し、 このメタルマスク層を用いて前記カバーコート層および
前記可撓性絶縁材をエッチング処理により除去し、 前記メタルマスク層をエッチング処理により除去し、 前記バネ性金属層に曲げ成形加工を施して所望形状の磁
気ヘッド用サスペンションを形成する、 回路配線付き磁気ヘッド用サスペンションの製造法。 - 【請求項3】請求項1または2記載の回路配線付き磁気
ヘッド用サスペンションの製造法において、 前記メタルマスク層を用いたエッチング処理は、プラズ
マエッチング、ケミカルエッチングおよびエキシマレー
ザアブレーションのいづれかによる回路配線付き磁気ヘ
ッド用サスペンションの製造法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8257006A JPH10261212A (ja) | 1996-09-27 | 1996-09-27 | 回路配線付き磁気ヘッド用サスペンションの製造法 |
| US08/858,461 US5857257A (en) | 1996-09-27 | 1997-05-19 | Method of manufacturing magnetic head suspension having circuit wiring pattern |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8257006A JPH10261212A (ja) | 1996-09-27 | 1996-09-27 | 回路配線付き磁気ヘッド用サスペンションの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10261212A true JPH10261212A (ja) | 1998-09-29 |
Family
ID=17300419
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8257006A Pending JPH10261212A (ja) | 1996-09-27 | 1996-09-27 | 回路配線付き磁気ヘッド用サスペンションの製造法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5857257A (ja) |
| JP (1) | JPH10261212A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014191853A (ja) * | 2013-03-28 | 2014-10-06 | Dainippon Printing Co Ltd | サスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、ハードディスクドライブおよびサスペンション用基板の製造方法 |
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| FR2782569B1 (fr) * | 1998-08-21 | 2000-09-15 | Commissariat Energie Atomique | Assemblage pour puce(s) a tete(s) magnetique(s) et procede de realisation |
| US6181527B1 (en) | 1999-04-23 | 2001-01-30 | International Business Machines Corporation | Transducer suspension system including a frequency dependent shunt |
| US6351354B1 (en) | 1999-05-07 | 2002-02-26 | Seagate Technology Llc | Head to flexure interconnection for disc drive microactuator |
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| JP2001209918A (ja) * | 1999-11-19 | 2001-08-03 | Nitto Denko Corp | 回路付サスペンション基板 |
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| JP4640802B2 (ja) | 2005-07-07 | 2011-03-02 | 日東電工株式会社 | 回路付サスペンション基板 |
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| WO2017003782A1 (en) | 2015-06-30 | 2017-01-05 | Hutchinson Technology Incorporated | Disk drive head suspension structures having improved gold-dielectric joint reliability |
| US9646638B1 (en) | 2016-05-12 | 2017-05-09 | Hutchinson Technology Incorporated | Co-located gimbal-based DSA disk drive suspension with traces routed around slider pad |
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| JPS5496775A (en) * | 1978-01-17 | 1979-07-31 | Hitachi Ltd | Method of forming circuit |
| JPS6346887Y2 (ja) * | 1980-07-11 | 1988-12-05 | ||
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1996
- 1996-09-27 JP JP8257006A patent/JPH10261212A/ja active Pending
-
1997
- 1997-05-19 US US08/858,461 patent/US5857257A/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
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