JPH10263376A - フッ素化合物の分離濃縮方法 - Google Patents
フッ素化合物の分離濃縮方法Info
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- JPH10263376A JPH10263376A JP9073793A JP7379397A JPH10263376A JP H10263376 A JPH10263376 A JP H10263376A JP 9073793 A JP9073793 A JP 9073793A JP 7379397 A JP7379397 A JP 7379397A JP H10263376 A JPH10263376 A JP H10263376A
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- 238000000926 separation method Methods 0.000 title claims abstract description 65
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 title claims description 58
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims abstract description 71
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 71
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 45
- TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N tetrafluoromethane Chemical compound FC(F)(F)F TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 claims abstract description 11
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 10
- 239000012466 permeate Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 claims abstract description 7
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 11
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 abstract description 11
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 abstract description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 11
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 7
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 abstract description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract description 3
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 abstract description 3
- 238000005057 refrigeration Methods 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 83
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 51
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 30
- XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N Fluoroform Chemical compound FC(F)F XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 10
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 8
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 7
- LVGUZGTVOIAKKC-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2-tetrafluoroethane Chemical compound FCC(F)(F)F LVGUZGTVOIAKKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 5
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 5
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000012510 hollow fiber Substances 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N nitrogen oxide Inorganic materials O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 NF 3 Chemical class 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UBAZGMLMVVQSCD-UHFFFAOYSA-N carbon dioxide;molecular oxygen Chemical compound O=O.O=C=O UBAZGMLMVVQSCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 238000009841 combustion method Methods 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- WMIYKQLTONQJES-UHFFFAOYSA-N hexafluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)F WMIYKQLTONQJES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004341 Octafluorocyclobutane Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229910018503 SF6 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940026110 carbon dioxide / nitrogen Drugs 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- KYKAJFCTULSVSH-UHFFFAOYSA-N chloro(fluoro)methane Chemical compound F[C]Cl KYKAJFCTULSVSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- QKCGXXHCELUCKW-UHFFFAOYSA-N n-[4-[4-(dinaphthalen-2-ylamino)phenyl]phenyl]-n-naphthalen-2-ylnaphthalen-2-amine Chemical compound C1=CC=CC2=CC(N(C=3C=CC(=CC=3)C=3C=CC(=CC=3)N(C=3C=C4C=CC=CC4=CC=3)C=3C=C4C=CC=CC4=CC=3)C3=CC4=CC=CC=C4C=C3)=CC=C21 QKCGXXHCELUCKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCCOBQSFUDVTJQ-UHFFFAOYSA-N octafluorocyclobutane Chemical compound FC1(F)C(F)(F)C(F)(F)C1(F)F BCCOBQSFUDVTJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019407 octafluorocyclobutane Nutrition 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000003883 substance clean up Methods 0.000 description 1
- SFZCNBIFKDRMGX-UHFFFAOYSA-N sulfur hexafluoride Chemical compound FS(F)(F)(F)(F)F SFZCNBIFKDRMGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000909 sulfur hexafluoride Drugs 0.000 description 1
- XTQHKBHJIVJGKJ-UHFFFAOYSA-N sulfur monoxide Chemical class S=O XTQHKBHJIVJGKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052815 sulfur oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 冷媒や、半導体製造工程におけるエッチン
グ、半導体製造装置のクリーニングなど、その他多くの
用途に広く用いられているフッ素化合物を、これらを含
む混合物から効率良く分離濃縮する方法を提供するこ
と。 【解決手段】 ポリ(4−メチルペンテン−1)または
ポリスルホンを主体とする高分子から成る気体分離膜に
NF3 、SF6 、ハイドロフルオロカーボン、パーフル
オロカーボンなどのフッ素化合物を含む気体混合物を接
触させて、このフッ素化合物は上記膜を透過させず、残
りの気体成分を選択的に上記膜を透過させ、上記気体混
合物からフッ素化合物を分離する。
グ、半導体製造装置のクリーニングなど、その他多くの
用途に広く用いられているフッ素化合物を、これらを含
む混合物から効率良く分離濃縮する方法を提供するこ
と。 【解決手段】 ポリ(4−メチルペンテン−1)または
ポリスルホンを主体とする高分子から成る気体分離膜に
NF3 、SF6 、ハイドロフルオロカーボン、パーフル
オロカーボンなどのフッ素化合物を含む気体混合物を接
触させて、このフッ素化合物は上記膜を透過させず、残
りの気体成分を選択的に上記膜を透過させ、上記気体混
合物からフッ素化合物を分離する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、フッ素化合物の分
離濃縮方法に関し、詳しくは、例えば冷媒や、半導体製
造工程におけるエッチング、半導体製造装置のクリーニ
ングなど、その他多くの用途に広く用いられているフッ
素化合物を、これらを含む混合物から効率良く分離濃縮
する方法に関するものである。
離濃縮方法に関し、詳しくは、例えば冷媒や、半導体製
造工程におけるエッチング、半導体製造装置のクリーニ
ングなど、その他多くの用途に広く用いられているフッ
素化合物を、これらを含む混合物から効率良く分離濃縮
する方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】NF3 、SF6 、ハイドロフルオロカー
ボン、パーフルオロカーボンなどのフッ素化合物は、そ
の特異な性質を利用して、種々の用途に用いられてい
る。これらのフッ素化合物は、例えば、冷凍機や空調機
器の冷媒として、また、半導体製造工程におけるエッチ
ングや半導体製造装置のクリーニングなどの溶剤として
利用されている。
ボン、パーフルオロカーボンなどのフッ素化合物は、そ
の特異な性質を利用して、種々の用途に用いられてい
る。これらのフッ素化合物は、例えば、冷凍機や空調機
器の冷媒として、また、半導体製造工程におけるエッチ
ングや半導体製造装置のクリーニングなどの溶剤として
利用されている。
【0003】このように、フッ素化合物は極めて有用な
化学物質であるが、一度、大気に放出されると空気中に
蓄積され、地表からの大気中への熱の放散を妨げること
により温室効果を引き起こし、地球上の生態系全体に有
害な影響を与える恐れがあることが指摘されている。
化学物質であるが、一度、大気に放出されると空気中に
蓄積され、地表からの大気中への熱の放散を妨げること
により温室効果を引き起こし、地球上の生態系全体に有
害な影響を与える恐れがあることが指摘されている。
【0004】そこで最近、フッ素化合物の分解除去技
術、または、分離回収技術を確立する要請が高まり、種
々の方法が提案、あるいは実用化されている。そして、
現在までに、フッ素化合物の分離方法として、燃焼法、
触媒法、還元法、プラズマ法、超臨界法あるいは光分解
法などが検討されている。また、フッ素化合物の分離回
収方法としては、活性炭による吸着方式や蒸留方式が実
用化されている。
術、または、分離回収技術を確立する要請が高まり、種
々の方法が提案、あるいは実用化されている。そして、
現在までに、フッ素化合物の分離方法として、燃焼法、
触媒法、還元法、プラズマ法、超臨界法あるいは光分解
法などが検討されている。また、フッ素化合物の分離回
収方法としては、活性炭による吸着方式や蒸留方式が実
用化されている。
【0005】しかしながら、活性炭による吸着方式で
は、吸着したフッ素化合物を脱着する際に加熱し、さら
に回収時に冷却するために、大型の設備と、大量のエネ
ルギーを必要とし、経済性の点で不利である。また、蒸
留方式では、十分な分離性能を得るためには、蒸留塔の
理論段数を大きくとる必要があるため、装置が大型化す
る。さらに、分離しようとする混合物が近沸点混合物
[たとえば、NF3 とテトラフルオロメタン(FC−1
4)]、あるいは共沸点混合物[たとえば、トリフルオ
ロメタン(HFC−23)とヘキサフルオロエタン(F
C−116)]である場合には、蒸留方式による分離は
困難である。
は、吸着したフッ素化合物を脱着する際に加熱し、さら
に回収時に冷却するために、大型の設備と、大量のエネ
ルギーを必要とし、経済性の点で不利である。また、蒸
留方式では、十分な分離性能を得るためには、蒸留塔の
理論段数を大きくとる必要があるため、装置が大型化す
る。さらに、分離しようとする混合物が近沸点混合物
[たとえば、NF3 とテトラフルオロメタン(FC−1
4)]、あるいは共沸点混合物[たとえば、トリフルオ
ロメタン(HFC−23)とヘキサフルオロエタン(F
C−116)]である場合には、蒸留方式による分離は
困難である。
【0006】気体分離膜を用いて、フッ素化合物を含む
気体混合物から、フッ素化合物を分離する方法が試みら
れている。たとえば、特開平1−42444号公報に
は、ポリイミドまたはポリスルホンからなる多孔質支持
膜上に架橋性シリコーン樹脂が架橋されてなる活性薄膜
が形成された選択透過性複合膜にフロン(塩素、フッ
素、炭素からなるフロン)を含む気体混合物を接触さ
せ、フロンを選択的に上記膜を透過させ、これを分離す
る方法が提案されている。また、特開平1−17642
2号公報と特開平2−144131号公報では、それぞ
れ、フマル酸エステルの重合体、共重合体を主体とする
高分子とエチルセルロースを主体とする高分子気体分離
膜を用いて、フロンガスを含む混合気体中より特定気体
を選択的に分離する方法を提案している。
気体混合物から、フッ素化合物を分離する方法が試みら
れている。たとえば、特開平1−42444号公報に
は、ポリイミドまたはポリスルホンからなる多孔質支持
膜上に架橋性シリコーン樹脂が架橋されてなる活性薄膜
が形成された選択透過性複合膜にフロン(塩素、フッ
素、炭素からなるフロン)を含む気体混合物を接触さ
せ、フロンを選択的に上記膜を透過させ、これを分離す
る方法が提案されている。また、特開平1−17642
2号公報と特開平2−144131号公報では、それぞ
れ、フマル酸エステルの重合体、共重合体を主体とする
高分子とエチルセルロースを主体とする高分子気体分離
膜を用いて、フロンガスを含む混合気体中より特定気体
を選択的に分離する方法を提案している。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の膜によ
る分離方法では、フッ素化合物を含む混合気体の分離濃
縮性能は不十分であり、実用上効果的な分離方法は知ら
れていない。一方、半導体産業の急速な成長に伴って、
大気中に放出されるフッ素化合物の量は増加の一途をた
どっている。本発明は、上記した問題を解決するもの
で、フッ素化合物を含む気体混合物を所定の気体分離膜
にて処理することにより、効率良くフッ素化合物を分離
濃縮する方法を提供するものである。
る分離方法では、フッ素化合物を含む混合気体の分離濃
縮性能は不十分であり、実用上効果的な分離方法は知ら
れていない。一方、半導体産業の急速な成長に伴って、
大気中に放出されるフッ素化合物の量は増加の一途をた
どっている。本発明は、上記した問題を解決するもの
で、フッ素化合物を含む気体混合物を所定の気体分離膜
にて処理することにより、効率良くフッ素化合物を分離
濃縮する方法を提供するものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者等はかかる問題
について鋭意研究した結果、ポリ(4−メチルペンテン
−1)あるいはポリスルホンを主体とする高分子からな
る気体分離膜にフッ素化合物[NF3 、SF6 などや、
フッ素と炭素からなるフロン(パーフルオロカーボ
ン)、水素とフッ素と炭素からなるフロン(ハイドロフ
ルオロカーボン)など]を含む気体混合物を接触させ
て、このフッ素化合物は上記気体分離膜を透過させず、
残りの気体成分を選択的に上記気体分離膜を透過させる
ことにより効率良くこのフッ素化合物を分離濃縮するこ
とができることを見いだし、本発明を成すに至った。
について鋭意研究した結果、ポリ(4−メチルペンテン
−1)あるいはポリスルホンを主体とする高分子からな
る気体分離膜にフッ素化合物[NF3 、SF6 などや、
フッ素と炭素からなるフロン(パーフルオロカーボ
ン)、水素とフッ素と炭素からなるフロン(ハイドロフ
ルオロカーボン)など]を含む気体混合物を接触させ
て、このフッ素化合物は上記気体分離膜を透過させず、
残りの気体成分を選択的に上記気体分離膜を透過させる
ことにより効率良くこのフッ素化合物を分離濃縮するこ
とができることを見いだし、本発明を成すに至った。
【0009】すなわち、本発明の請求項1の発明は、ポ
リ(4−メチルペンテン−1)あるいはポリスルホンを
主体とする高分子から成る気体分離膜にフッ素化合物を
含む気体混合物を接触させて、フッ素化合物は上記膜を
透過させず、残りの気体成分を選択的に上記膜を透過さ
せ、上記気体混合物からフッ素化合物を分離することを
特徴とするフッ素化合物の分離濃縮方法である。
リ(4−メチルペンテン−1)あるいはポリスルホンを
主体とする高分子から成る気体分離膜にフッ素化合物を
含む気体混合物を接触させて、フッ素化合物は上記膜を
透過させず、残りの気体成分を選択的に上記膜を透過さ
せ、上記気体混合物からフッ素化合物を分離することを
特徴とするフッ素化合物の分離濃縮方法である。
【0010】本発明の請求項2の発明は、請求項1記載
のフッ素化合物の分離濃縮方法において、上記フッ素化
合物が、NF3 、SF6 、ハイドロフルオロカーボンお
よびパーフルオロカーボンからなる群から選択される少
なくとも1つのフッ素化合物であることを特徴とする。
のフッ素化合物の分離濃縮方法において、上記フッ素化
合物が、NF3 、SF6 、ハイドロフルオロカーボンお
よびパーフルオロカーボンからなる群から選択される少
なくとも1つのフッ素化合物であることを特徴とする。
【0011】
【発明の実施の形態】本発明において、フッ素化合物を
含む気体混合物とは、気体状のフッ素化合物と共に、そ
の他の任意のガス、たとえば、窒素、酸素、二酸化炭
素、種々の炭化水素などのガスおよび水蒸気などのガス
の一種または二種以上を含む気体混合物をいい、本発明
は、任意の濃度のフッ素化合物を含む気体混合物からフ
ッ素化合物を分離濃縮するのに有効である。
含む気体混合物とは、気体状のフッ素化合物と共に、そ
の他の任意のガス、たとえば、窒素、酸素、二酸化炭
素、種々の炭化水素などのガスおよび水蒸気などのガス
の一種または二種以上を含む気体混合物をいい、本発明
は、任意の濃度のフッ素化合物を含む気体混合物からフ
ッ素化合物を分離濃縮するのに有効である。
【0012】本発明の方法において用いるポリ(4−メ
チルペンテン−1)膜は、下記式(1)で表される繰り
返し単位を有する重合体を主体とする高分子膜である
が、ポリ(4−メチルペンテン−1)の特性を損なわな
い範囲で、4−メチルペンテン−1とエチレンあるいは
スチレン、ブタジエンなどの他のモノマーとの2次元以
上の重合体も使用することができる。
チルペンテン−1)膜は、下記式(1)で表される繰り
返し単位を有する重合体を主体とする高分子膜である
が、ポリ(4−メチルペンテン−1)の特性を損なわな
い範囲で、4−メチルペンテン−1とエチレンあるいは
スチレン、ブタジエンなどの他のモノマーとの2次元以
上の重合体も使用することができる。
【0013】
【化1】
【0014】かかる膜の製造方法、薄膜化方法および表
面改質方法は、例えば、特開昭54−146277号公
報、特開昭55−41808号公報、特開昭56−40
415号公報、特開昭57−91708号、特開平5−
329342号公報に記載されているように、広く研究
されており、気体分離膜として空気からの酸素富化空気
の製造、窒素富化空気の製造に応用されている。また、
かかる膜は、その他、二酸化炭素/窒素の分離、メタン
/二酸化炭素の分離、水素/一酸化炭素の分離、排ガス
からの窒素酸化物や硫黄酸化物の除去に利用されている
が、本発明の方法においては、市販されている分離膜モ
ジュールをそのまま利用することができる。
面改質方法は、例えば、特開昭54−146277号公
報、特開昭55−41808号公報、特開昭56−40
415号公報、特開昭57−91708号、特開平5−
329342号公報に記載されているように、広く研究
されており、気体分離膜として空気からの酸素富化空気
の製造、窒素富化空気の製造に応用されている。また、
かかる膜は、その他、二酸化炭素/窒素の分離、メタン
/二酸化炭素の分離、水素/一酸化炭素の分離、排ガス
からの窒素酸化物や硫黄酸化物の除去に利用されている
が、本発明の方法においては、市販されている分離膜モ
ジュールをそのまま利用することができる。
【0015】また、本発明の方法において用いるポリス
ルホンとは、高分子鎖中に、少なくとも芳香族環と、−
O−、−SO2 −が結合した高分子で、例えば、下記式
(2)、式(3)、式(4)で表される繰り返し単位を
有する、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、および
ポリアリルスルホンなどがあげられるが、それに限定さ
れるものではない。
ルホンとは、高分子鎖中に、少なくとも芳香族環と、−
O−、−SO2 −が結合した高分子で、例えば、下記式
(2)、式(3)、式(4)で表される繰り返し単位を
有する、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、および
ポリアリルスルホンなどがあげられるが、それに限定さ
れるものではない。
【0016】
【化2】
【0017】
【化3】
【0018】
【化4】
【0019】かかる膜の製造方法は、例えば、特開昭5
7−35906号公報、特開昭57−94304号公
報、特開昭57−50507号公報、特開平7−328
401号公報に記載されているように、既に知られてお
り、本発明の方法においては、市販の分離膜モジュール
をそのまま用いることができる。
7−35906号公報、特開昭57−94304号公
報、特開昭57−50507号公報、特開平7−328
401号公報に記載されているように、既に知られてお
り、本発明の方法においては、市販の分離膜モジュール
をそのまま用いることができる。
【0020】本発明の方法は、上述したような気体分離
膜にフッ素化合物を含む気体混合物を接触させ、フッ素
化合物は上記膜を透過させず、フッ素化合物以外の残り
の成分(窒素、酸素、二酸化炭素、種々の炭化水素およ
び水蒸気など)を選択的に上記膜を透過させ、それによ
って、上記膜の透過側にはフッ素化合物が除去された気
体混合物を得るかまたはフッ素化合物濃度が低減された
気体混合物を得て、そして上記膜の供給側にはフッ素化
合物に富む気体混合物を得る。
膜にフッ素化合物を含む気体混合物を接触させ、フッ素
化合物は上記膜を透過させず、フッ素化合物以外の残り
の成分(窒素、酸素、二酸化炭素、種々の炭化水素およ
び水蒸気など)を選択的に上記膜を透過させ、それによ
って、上記膜の透過側にはフッ素化合物が除去された気
体混合物を得るかまたはフッ素化合物濃度が低減された
気体混合物を得て、そして上記膜の供給側にはフッ素化
合物に富む気体混合物を得る。
【0021】次いで、上記膜の供給側に濃縮されたフッ
素化合物は、圧縮・冷却によって液化させて回収する
か、吸収または吸着などの手段によって分離、回収する
ことができる。
素化合物は、圧縮・冷却によって液化させて回収する
か、吸収または吸着などの手段によって分離、回収する
ことができる。
【0022】上記膜を介しての透過側と供給側のフッ素
化合物を含む気体混合物の圧力差が大きいほど、上記膜
の供給側において高濃度のフッ素化合物を得ることがで
きるので、通常は、上記膜の供給側を1気圧以上に加圧
するが、さらに必要に応じて上記膜の透過側を1気圧以
下に減圧してもよい。
化合物を含む気体混合物の圧力差が大きいほど、上記膜
の供給側において高濃度のフッ素化合物を得ることがで
きるので、通常は、上記膜の供給側を1気圧以上に加圧
するが、さらに必要に応じて上記膜の透過側を1気圧以
下に減圧してもよい。
【0023】また、濃縮したフッ素化合物を上述した燃
焼法、触媒法などにより分解除去することも可能であ
り、この場合には、本発明の方法により、気体混合物中
に含まれるフッ素化合物を分離濃縮することによって、
分解除去効率を大きく向上することができる。
焼法、触媒法などにより分解除去することも可能であ
り、この場合には、本発明の方法により、気体混合物中
に含まれるフッ素化合物を分離濃縮することによって、
分解除去効率を大きく向上することができる。
【0024】このようにして、本発明の方法によれば、
前述のように、任意の濃度のフッ素化合物を含む気体混
合物を処理して、上記膜の供給側にフッ素化合物を分離
濃縮するが、具体的には、たとえば、フッ素化合物濃度
が5体積%程度の気体混合物を処理することによって、
上記膜の供給側に約50〜95体積%まで濃縮すること
ができる。
前述のように、任意の濃度のフッ素化合物を含む気体混
合物を処理して、上記膜の供給側にフッ素化合物を分離
濃縮するが、具体的には、たとえば、フッ素化合物濃度
が5体積%程度の気体混合物を処理することによって、
上記膜の供給側に約50〜95体積%まで濃縮すること
ができる。
【0025】また、気体混合物中に二種または三種以上
のフッ素化合物が含まれ、これを分離しようとする場
合、気体混合物が近沸点混合物あるいは共沸点混合物で
あっても、各フッ素化合物の膜透過率の差を利用して、
特定のフッ素化合物を分離濃縮することも可能である。
のフッ素化合物が含まれ、これを分離しようとする場
合、気体混合物が近沸点混合物あるいは共沸点混合物で
あっても、各フッ素化合物の膜透過率の差を利用して、
特定のフッ素化合物を分離濃縮することも可能である。
【0026】本発明の方法においては、用いる気体分離
膜の形態、すなわち、膜モジュールの形態としては、通
常、中空糸状膜を備えた膜モジュールが、耐圧性などの
利点から好ましく用いられる。しかし、本発明の方法に
おいては、膜とモジュールの形態には何ら限定されるも
のではなく、たとえば、シート状の膜を巻回して内蔵さ
せたスパイラル型モジュールや、その他の構造形態のモ
ジュールも用いることができる。
膜の形態、すなわち、膜モジュールの形態としては、通
常、中空糸状膜を備えた膜モジュールが、耐圧性などの
利点から好ましく用いられる。しかし、本発明の方法に
おいては、膜とモジュールの形態には何ら限定されるも
のではなく、たとえば、シート状の膜を巻回して内蔵さ
せたスパイラル型モジュールや、その他の構造形態のモ
ジュールも用いることができる。
【0027】
【作用】ポリ(4−メチルペンテン−1)あるいはポリ
スルホンを主体とする高分子から成る気体分離膜は、フ
ッ素化合物(NF3 、SF6 などや、フッ素と炭素から
なるフロン、水素とフッ素と炭素からなるフロンなど)
の透過率が、その他の気体成分(窒素、酸素、二酸化炭
素、種々の炭化水素および水蒸気など)の透過率に比べ
て著しく小さいため、フッ素化合物を含む気体混合物を
上記膜に接触させることによって、大きな分離係数(透
過率の比)が得られ、上記膜の供給側にフッ素化合物を
分離濃縮することができる。前述のように、ポリスルホ
ンからなる多孔質支持膜上に架橋性シリコーン樹脂が架
橋されてなる活性薄膜が形成された複合膜にフロン(塩
素、フッ素、炭素からなるフロン)を含む混合物を接触
させ、このフロンを選択的に前記複合膜を透過させて分
離する方法が開示(特開平1−42444号公報)され
ている。この従来技術は、ポリスルホンが多孔質支持膜
を形成するために用いられている点、この多孔質支持膜
上に架橋シリコーンからなる活性薄膜を形成した複合膜
を気体分離膜として用いる点、および前記フロン(塩
素、フッ素、炭素からなるフロン)を選択的に前記複合
膜を透過させて分離する点などにおいて本発明と相違す
る。
スルホンを主体とする高分子から成る気体分離膜は、フ
ッ素化合物(NF3 、SF6 などや、フッ素と炭素から
なるフロン、水素とフッ素と炭素からなるフロンなど)
の透過率が、その他の気体成分(窒素、酸素、二酸化炭
素、種々の炭化水素および水蒸気など)の透過率に比べ
て著しく小さいため、フッ素化合物を含む気体混合物を
上記膜に接触させることによって、大きな分離係数(透
過率の比)が得られ、上記膜の供給側にフッ素化合物を
分離濃縮することができる。前述のように、ポリスルホ
ンからなる多孔質支持膜上に架橋性シリコーン樹脂が架
橋されてなる活性薄膜が形成された複合膜にフロン(塩
素、フッ素、炭素からなるフロン)を含む混合物を接触
させ、このフロンを選択的に前記複合膜を透過させて分
離する方法が開示(特開平1−42444号公報)され
ている。この従来技術は、ポリスルホンが多孔質支持膜
を形成するために用いられている点、この多孔質支持膜
上に架橋シリコーンからなる活性薄膜を形成した複合膜
を気体分離膜として用いる点、および前記フロン(塩
素、フッ素、炭素からなるフロン)を選択的に前記複合
膜を透過させて分離する点などにおいて本発明と相違す
る。
【0028】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明
するが、本発明の主旨を逸脱しない限り、本発明は実施
例に限定されるものではない。 (実施例1)気体分離膜として、ポリ(4−メチルペン
テン−1)不均質膜から成る、中空糸膜モジュール[大
日本インキ化学工業株式会社製、製品名:MJ−G50
2、モジュール寸法:60φ×500mmL、ベッセ
ル:硬質塩化ビニル(JISK6742)、エンドキャ
ップ:硬質塩化ビニル]を用いた。この気体分離膜モジ
ュールを用いて、テトラフルオロメタン[FC−14
(CF4 )]を含有する気体混合物の分離性能を評価し
た。結果を表1に示す。ここで、気体混合物の組成は、
窒素:98.73%、酸素:0.12%、FC−14:
1.15%である。
するが、本発明の主旨を逸脱しない限り、本発明は実施
例に限定されるものではない。 (実施例1)気体分離膜として、ポリ(4−メチルペン
テン−1)不均質膜から成る、中空糸膜モジュール[大
日本インキ化学工業株式会社製、製品名:MJ−G50
2、モジュール寸法:60φ×500mmL、ベッセ
ル:硬質塩化ビニル(JISK6742)、エンドキャ
ップ:硬質塩化ビニル]を用いた。この気体分離膜モジ
ュールを用いて、テトラフルオロメタン[FC−14
(CF4 )]を含有する気体混合物の分離性能を評価し
た。結果を表1に示す。ここで、気体混合物の組成は、
窒素:98.73%、酸素:0.12%、FC−14:
1.15%である。
【0029】
【表1】
【0030】表1から明らかなように、窒素および酸素
の透過率は、FC−14に比べて非常に大きいため、十
分に大きな分離係数が得られ、FC−14を効率よく分
離濃縮することができた。
の透過率は、FC−14に比べて非常に大きいため、十
分に大きな分離係数が得られ、FC−14を効率よく分
離濃縮することができた。
【0031】(実施例2)気体分離膜モジュールは、実
施例1と同様のものを用いた。これを用いて、ヘキサフ
ルオロエタン[FC−116(C2 F6 )]を含有する
気体混合物の分離性能を評価した。結果を表2に示す。
ここで、気体混合物の組成は、窒素:79.65%、酸
素:13.78%、FC−116:6.57%である。
施例1と同様のものを用いた。これを用いて、ヘキサフ
ルオロエタン[FC−116(C2 F6 )]を含有する
気体混合物の分離性能を評価した。結果を表2に示す。
ここで、気体混合物の組成は、窒素:79.65%、酸
素:13.78%、FC−116:6.57%である。
【0032】
【表2】
【0033】表2から明らかなように、窒素および酸素
の透過率は、FC−116に比べて非常に大きく、十分
に大きな分離係数が得られている。
の透過率は、FC−116に比べて非常に大きく、十分
に大きな分離係数が得られている。
【0034】(実施例3)気体分離膜モジュールは、実
施例1と同様のものを用いた。これにより、オクタフル
オロシクロブタン[FC−c318(C4 F8 )]を含
有する気体混合物の分離性能を評価した。結果を表3に
示す。ここで、気体混合物の組成は、窒素:2.05
%、FC−c318:97.95%であり、分離膜の透
過側を真空ポンプを用いて減圧した。
施例1と同様のものを用いた。これにより、オクタフル
オロシクロブタン[FC−c318(C4 F8 )]を含
有する気体混合物の分離性能を評価した。結果を表3に
示す。ここで、気体混合物の組成は、窒素:2.05
%、FC−c318:97.95%であり、分離膜の透
過側を真空ポンプを用いて減圧した。
【0035】
【表3】
【0036】表3から明らかなように、窒素の透過率
は、FC−c318に比べて大きく、分離係数は実用
上、十分に大きい。
は、FC−c318に比べて大きく、分離係数は実用
上、十分に大きい。
【0037】(実施例4)気体分離膜モジュールは、実
施例1と同様のものを用いた。これにより、トリフルオ
ロメタン[HFC−23(CHF3 )]を含有する気体
混合物の分離性能を評価した。結果を表4に示す。ここ
で、気体混合物の組成は、窒素:98.95%、HFC
−23:1.05%である。
施例1と同様のものを用いた。これにより、トリフルオ
ロメタン[HFC−23(CHF3 )]を含有する気体
混合物の分離性能を評価した。結果を表4に示す。ここ
で、気体混合物の組成は、窒素:98.95%、HFC
−23:1.05%である。
【0038】
【表4】
【0039】表4から明らかなように、窒素の透過率
は、HFC−23に比べて大きいためHFC−23の分
離が可能であった。
は、HFC−23に比べて大きいためHFC−23の分
離が可能であった。
【0040】(実施例5)気体分離膜モジュールは、実
施例1と同様のものを用いた。これにより、テトラフル
オロエタン[HFC−134a(C2 H2 F4 )]を含
有する気体混合物の分離性能を評価した。結果を表5に
示す。ここで、気体混合物の組成は、窒素:98.40
%、HFC−134a:1.60%である。
施例1と同様のものを用いた。これにより、テトラフル
オロエタン[HFC−134a(C2 H2 F4 )]を含
有する気体混合物の分離性能を評価した。結果を表5に
示す。ここで、気体混合物の組成は、窒素:98.40
%、HFC−134a:1.60%である。
【0041】
【表5】
【0042】表5から明らかなように、窒素の透過率
は、HFC−134aに比べて非常に大きく、十分に大
きな分離係数が得られた。
は、HFC−134aに比べて非常に大きく、十分に大
きな分離係数が得られた。
【0043】(実施例6)気体分離膜モジュールは、実
施例1と同様のものを用いた。これを用いて、三フッ化
窒素(NF3 )を含有する気体混合物の分離性能を評価
した。結果を表6に示す。ここで、気体混合物の組成
は、窒素:98.94%、NF3 :1.06%である。
施例1と同様のものを用いた。これを用いて、三フッ化
窒素(NF3 )を含有する気体混合物の分離性能を評価
した。結果を表6に示す。ここで、気体混合物の組成
は、窒素:98.94%、NF3 :1.06%である。
【0044】
【表6】
【0045】表6から明らかなように、窒素の透過率
は、NF3 に比べて大きいためNF3の分離濃縮が可能
であった。
は、NF3 に比べて大きいためNF3の分離濃縮が可能
であった。
【0046】(実施例7)気体分離膜モジュールは、実
施例1と同様のものを用いた。これにより、六フッ化硫
黄(SF6 )を含有する気体混合物の分離性能を評価し
た。結果を表7に示す。ここで、気体混合物の組成は、
窒素:98.71%、SF6 :1.29%である。
施例1と同様のものを用いた。これにより、六フッ化硫
黄(SF6 )を含有する気体混合物の分離性能を評価し
た。結果を表7に示す。ここで、気体混合物の組成は、
窒素:98.71%、SF6 :1.29%である。
【0047】
【表7】
【0048】表7から明らかなように、窒素の透過率
は、SF6 に比べて非常に大きく、十分に大きな分離係
数が得られた。
は、SF6 に比べて非常に大きく、十分に大きな分離係
数が得られた。
【0049】(実施例8)気体分離膜として、ポリスル
ホン膜から成る、中空糸膜モジュール[パーミア社製、
製品名:プリズム・アルファ・セパレーターPPA−2
2A、モジュール寸法:54φ×670mmL、ベッセ
ル:アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン(AB
S)樹脂、エンドキャップ:アルミニウム]を用いた。
この気体分離膜モジュールを用いて、FC−14を含有
する気体混合物の分離性を評価した。結果を8表に示
す。ここで、気体混合物の組成は、窒素:98.56
%、酸素:0.18%、FC−14:1.26%であ
る。
ホン膜から成る、中空糸膜モジュール[パーミア社製、
製品名:プリズム・アルファ・セパレーターPPA−2
2A、モジュール寸法:54φ×670mmL、ベッセ
ル:アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン(AB
S)樹脂、エンドキャップ:アルミニウム]を用いた。
この気体分離膜モジュールを用いて、FC−14を含有
する気体混合物の分離性を評価した。結果を8表に示
す。ここで、気体混合物の組成は、窒素:98.56
%、酸素:0.18%、FC−14:1.26%であ
る。
【0050】
【表8】
【0051】表8から明らかなように、窒素および酸素
の透過率は、FC−14に比べて非常に大きく、十分に
大きな分離係数が得られた。
の透過率は、FC−14に比べて非常に大きく、十分に
大きな分離係数が得られた。
【0052】(実施例9)気体分離膜モジュールは、実
施例8と同様のものを用いた。これを用いて、FC−1
16を含有する気体混合物の分離性能を評価した。結果
を表9に示す。ここで、気体混合物の組成は、窒素:8
0.06%、酸素:13.89%、FC−116:6.
05%である。
施例8と同様のものを用いた。これを用いて、FC−1
16を含有する気体混合物の分離性能を評価した。結果
を表9に示す。ここで、気体混合物の組成は、窒素:8
0.06%、酸素:13.89%、FC−116:6.
05%である。
【0053】
【表9】
【0054】表9から明らかなように、窒素および酸素
の透過率は、FC−116に比べて非常に大きく、極め
て大きな分離係数が得られた。
の透過率は、FC−116に比べて非常に大きく、極め
て大きな分離係数が得られた。
【0055】(実施例10)気体分離膜モジュールは、
実施例8と同様のものを用いた。これにより、HFC−
23を含有する気体混合物の分離性能を評価した。結果
を表10に示す。ここで、気体混合物の組成は、窒素:
98.95%、HFC−23:1.05%である。
実施例8と同様のものを用いた。これにより、HFC−
23を含有する気体混合物の分離性能を評価した。結果
を表10に示す。ここで、気体混合物の組成は、窒素:
98.95%、HFC−23:1.05%である。
【0056】
【表10】
【0057】表10から明らかなように、窒素の透過率
は、HFC−23に比べて大きく、分離係数は十分に大
きかった。
は、HFC−23に比べて大きく、分離係数は十分に大
きかった。
【0058】(実施例11)気体分離膜モジュールは、
実施例8と同様のものを用いた。これにより、HFC−
134aを含有する気体混合物の分離性能を評価した。
結果を表11に示す。ここで、気体混合物の組成は、窒
素:99.11%、HFC−134a:0.89%であ
る。
実施例8と同様のものを用いた。これにより、HFC−
134aを含有する気体混合物の分離性能を評価した。
結果を表11に示す。ここで、気体混合物の組成は、窒
素:99.11%、HFC−134a:0.89%であ
る。
【0059】
【表11】
【0060】表11から明らかなように、窒素の透過率
は、HFC−134aに比べて非常に大きく、十分に大
きな分離係数が得られた。
は、HFC−134aに比べて非常に大きく、十分に大
きな分離係数が得られた。
【0061】(実施例12)気体分離膜モジュールは、
実施例8と同様のものを用いた。これを用いて、NF3
を含有する気体混合物の分離性能を評価した。結果を表
12に示す。ここで、気体混合物の組成は、窒素:9
8.82%、NF3 :1.18%である。
実施例8と同様のものを用いた。これを用いて、NF3
を含有する気体混合物の分離性能を評価した。結果を表
12に示す。ここで、気体混合物の組成は、窒素:9
8.82%、NF3 :1.18%である。
【0062】
【表12】
【0063】表12から明らかなように、窒素の透過率
は、NF3 に比べて大きいため、NF3 の分離が可能で
あった。
は、NF3 に比べて大きいため、NF3 の分離が可能で
あった。
【0064】(実施例13)気体分離膜モジュールは、
実施例8と同様のものを用いた。これを用いて、SF6
を含有する気体混合物の分離性能を評価した。結果を表
13に示す。ここで、気体混合物の組成は、窒素:9
8.78%、SF6 :1.22%である。
実施例8と同様のものを用いた。これを用いて、SF6
を含有する気体混合物の分離性能を評価した。結果を表
13に示す。ここで、気体混合物の組成は、窒素:9
8.78%、SF6 :1.22%である。
【0065】
【表13】
【0066】表13から明らかなように、窒素の透過率
は、SF6 に比べて非常に大きく、十分に大きな分離係
数が得られた。
は、SF6 に比べて非常に大きく、十分に大きな分離係
数が得られた。
【0067】
【発明の効果】本発明の方法によれば、上記した吸着方
式による分離濃縮方法と異なり、脱着工程など操作上の
サイクルを必要とせず、フッ素化合物を含む気体混合物
を連続的に処理することができ、何ら熱エネルギーを必
要としない。また、蒸留方式とは異なり、装置を大型化
する必要がなく、さらに近沸点混合物、共沸点混合物の
分離が可能である。しかも、本発明の方法による分離濃
縮性能は、処理時間に伴う経時劣化がないため、装置の
再生または交換を必要としない。加えて、本発明による
分離濃縮方法は、任意の濃度のフッ素化合物を含有する
気体混合物に適用できるため、フッ素化合物製造工程に
おける、フッ素化合物の精製技術としても利用すること
ができる。以上の理由から、本発明の実用的効果は大な
るものがある。
式による分離濃縮方法と異なり、脱着工程など操作上の
サイクルを必要とせず、フッ素化合物を含む気体混合物
を連続的に処理することができ、何ら熱エネルギーを必
要としない。また、蒸留方式とは異なり、装置を大型化
する必要がなく、さらに近沸点混合物、共沸点混合物の
分離が可能である。しかも、本発明の方法による分離濃
縮性能は、処理時間に伴う経時劣化がないため、装置の
再生または交換を必要としない。加えて、本発明による
分離濃縮方法は、任意の濃度のフッ素化合物を含有する
気体混合物に適用できるため、フッ素化合物製造工程に
おける、フッ素化合物の精製技術としても利用すること
ができる。以上の理由から、本発明の実用的効果は大な
るものがある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C07C 19/08 B01D 53/34 134C (72)発明者 鳥巣 純一 神奈川県川崎市川崎区扇町5−1 昭和電 工株式会社川崎工場内
Claims (2)
- 【請求項1】 ポリ(4−メチルペンテン−1)あるい
はポリスルホンを主体とする高分子から成る気体分離膜
にフッ素化合物を含む気体混合物を接触させて、フッ素
化合物は上記膜を透過させず、残りの気体成分を選択的
に上記膜を透過させ、上記気体混合物からフッ素化合物
を分離することを特徴とするフッ素化合物の分離濃縮方
法。 - 【請求項2】 上記フッ素化合物が、NF3 、SF6 、
ハイドロフルオロカーボンおよびパーフルオロカーボン
からなる群から選択される少なくとも1つのフッ素化合
物であることを特徴とする請求項1記載のフッ素化合物
の分離濃縮方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07379397A JP3470180B2 (ja) | 1997-03-26 | 1997-03-26 | フッ素化合物の分離濃縮方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07379397A JP3470180B2 (ja) | 1997-03-26 | 1997-03-26 | フッ素化合物の分離濃縮方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10263376A true JPH10263376A (ja) | 1998-10-06 |
| JP3470180B2 JP3470180B2 (ja) | 2003-11-25 |
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ID=13528430
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07379397A Expired - Fee Related JP3470180B2 (ja) | 1997-03-26 | 1997-03-26 | フッ素化合物の分離濃縮方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3470180B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007055934A (ja) * | 2005-08-24 | 2007-03-08 | Showa Denko Kk | ペンタフルオロエタンの製造方法 |
| JP2007319811A (ja) * | 2006-06-02 | 2007-12-13 | Hitachi Ltd | Pfcガスの濃縮方法 |
| JP2008088190A (ja) * | 1997-05-02 | 2008-04-17 | E I Du Pont De Nemours & Co | 半透膜による不飽和フッ素化化合物からのco2の分離 |
| JP2008115191A (ja) * | 1997-05-02 | 2008-05-22 | E I Du Pont De Nemours & Co | 半透膜によるフルオロカーボンからのco2の除去 |
| KR20160036153A (ko) * | 2014-09-24 | 2016-04-04 | 오씨아이 주식회사 | Nf3 가스 분리농축 방법, 장치 및 시스템 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4846293B2 (ja) | 2005-07-28 | 2011-12-28 | 昭和電工株式会社 | ペンタフルオロエタンの回収方法および該方法を含むペンタフルオロエタンの製造方法 |
| KR101275774B1 (ko) * | 2011-07-21 | 2013-06-17 | 한국화학연구원 | 불화가스 분리농축장치 및 이를 이용한 불화가스의 분리농축방법 |
| KR101395092B1 (ko) * | 2012-07-23 | 2014-05-27 | 한국화학연구원 | 불화가스 분리 및 회수장치, 및 이를 이용한 불화가스 분리 및 회수방법 |
-
1997
- 1997-03-26 JP JP07379397A patent/JP3470180B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JP2008088190A (ja) * | 1997-05-02 | 2008-04-17 | E I Du Pont De Nemours & Co | 半透膜による不飽和フッ素化化合物からのco2の分離 |
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| JP2007055934A (ja) * | 2005-08-24 | 2007-03-08 | Showa Denko Kk | ペンタフルオロエタンの製造方法 |
| JP2007319811A (ja) * | 2006-06-02 | 2007-12-13 | Hitachi Ltd | Pfcガスの濃縮方法 |
| KR20160036153A (ko) * | 2014-09-24 | 2016-04-04 | 오씨아이 주식회사 | Nf3 가스 분리농축 방법, 장치 및 시스템 |
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|---|---|
| JP3470180B2 (ja) | 2003-11-25 |
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