JPH10264246A - インフレーションフィルムおよび該フィルムの製造方法 - Google Patents
インフレーションフィルムおよび該フィルムの製造方法Info
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- JPH10264246A JPH10264246A JP9325897A JP9325897A JPH10264246A JP H10264246 A JPH10264246 A JP H10264246A JP 9325897 A JP9325897 A JP 9325897A JP 9325897 A JP9325897 A JP 9325897A JP H10264246 A JPH10264246 A JP H10264246A
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- film
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＬＬＤＰＥやＶＬＤＰＥの成形加工性の向
上、溶融張力を高くしてインフレーション成形のバブル
の安定化、並びに高い強度と縦・横方向の強度バランス
に優れ、低温ヒートシール特性に優れたフィルムおよび
該フィルムの製造方法の提供。 【解決手段】 ｄ：０. ８６ 〜０. ９７ｇ／ｃｍ
3 、ＭＦＲ：０．０１〜１００ｇ／１０分、Ｍｗ／
Ｍｎ：１．５〜５．０、Ｃｂ：２．００以下の図１の
ようなＴＲＥＦ曲線を有するエチレン（共）重合体から
なるフィルムであって、横方向の結晶ラメラに起因する
長周期Ｌが１７５〜２１５Å、ＴＤの結晶ラメラの厚み
が５９〜９６Å、ＴＤの非晶部の厚みが１０６〜１２９
Å、引裂強度が、ＭＤで２０Ｋｇｆ／ｃｍ以上、ＴＤで
６０Ｋｇｆ／ｃｍ以上、ヒートシール温度が１１０℃以
下、強度が０．６Ｋｇ／ｍｍ幅以上であるインフレーシ
ョンフィルム及びその製法。
上、溶融張力を高くしてインフレーション成形のバブル
の安定化、並びに高い強度と縦・横方向の強度バランス
に優れ、低温ヒートシール特性に優れたフィルムおよび
該フィルムの製造方法の提供。 【解決手段】 ｄ：０. ８６ 〜０. ９７ｇ／ｃｍ
3 、ＭＦＲ：０．０１〜１００ｇ／１０分、Ｍｗ／
Ｍｎ：１．５〜５．０、Ｃｂ：２．００以下の図１の
ようなＴＲＥＦ曲線を有するエチレン（共）重合体から
なるフィルムであって、横方向の結晶ラメラに起因する
長周期Ｌが１７５〜２１５Å、ＴＤの結晶ラメラの厚み
が５９〜９６Å、ＴＤの非晶部の厚みが１０６〜１２９
Å、引裂強度が、ＭＤで２０Ｋｇｆ／ｃｍ以上、ＴＤで
６０Ｋｇｆ／ｃｍ以上、ヒートシール温度が１１０℃以
下、強度が０．６Ｋｇ／ｍｍ幅以上であるインフレーシ
ョンフィルム及びその製法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、各種包装袋や包装
材料として使用し得るインフレーションフィルムおよび
そのフィルム製造方法に関し、特に高強度と縦横の強度
バランスが良く低温ヒートシール性に優れたインフレー
ションフィルムおよびその製造方法に関する。
材料として使用し得るインフレーションフィルムおよび
そのフィルム製造方法に関し、特に高強度と縦横の強度
バランスが良く低温ヒートシール性に優れたインフレー
ションフィルムおよびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、各種包装袋や包装材料として使用
し得るインフレーションフィルムとして高圧ラジカル法
低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）が汎用されている。し
かしＬＤＰＥは、透明性等の光学的性質に優れるもの
の、耐衝撃性、引裂強度等の機械的性質に劣るという欠
点を有している。一方、チーグラー系触媒等のイオン重
合で得られる直鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰ
Ｅ）、超低密度ポリエチレン（ＶＬＤＰＥ）は直鎖状の
分子構造を有し、前記ＬＤＰＥと比較すると耐衝撃性、
引裂強度等の機械的性質に優れるという利点を有してい
る。特に密度０．９４ｇ／ｃｍ3 以下のＬＬＤＰＥは、
エチレンとコモノマーである炭素数３〜２０のαーオレ
フインとの共重合体からなり、前記ＨＤＰＥと比較して
柔軟性、耐衝撃性、耐クリープ性等に優れ、またＬＤＰ
Ｅと比較して耐衝撃性、耐クリープ性等に優れるため、
包装材料、特にフィルム、ラミネーションなどの分野で
広く用いられている。
し得るインフレーションフィルムとして高圧ラジカル法
低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）が汎用されている。し
かしＬＤＰＥは、透明性等の光学的性質に優れるもの
の、耐衝撃性、引裂強度等の機械的性質に劣るという欠
点を有している。一方、チーグラー系触媒等のイオン重
合で得られる直鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰ
Ｅ）、超低密度ポリエチレン（ＶＬＤＰＥ）は直鎖状の
分子構造を有し、前記ＬＤＰＥと比較すると耐衝撃性、
引裂強度等の機械的性質に優れるという利点を有してい
る。特に密度０．９４ｇ／ｃｍ3 以下のＬＬＤＰＥは、
エチレンとコモノマーである炭素数３〜２０のαーオレ
フインとの共重合体からなり、前記ＨＤＰＥと比較して
柔軟性、耐衝撃性、耐クリープ性等に優れ、またＬＤＰ
Ｅと比較して耐衝撃性、耐クリープ性等に優れるため、
包装材料、特にフィルム、ラミネーションなどの分野で
広く用いられている。
【０００３】しかしながら、フィルム材料としてのＬＬ
ＤＰＥは、ＬＤＰＥと比較して溶融時における流動性が
悪く、成形加工性に劣るという問題を有している。すな
わち、ＬＬＤＰＥは、流動時のニュートン性が極めて高
く、高せん断速度領域において、せん断応力が大きく、
かつ成形時にメルトフラクチャーを生じ易いため高速成
形性に劣るとともに、成形加工時に流動のための所要エ
ネルギーが大きいという問題がある。また、ＬＬＤＰＥ
は、溶融伸張変形時の抵抗力、すなわち、溶融張力（メ
ルトテンション）が極めて小さく、このためインフレー
ション成形時にバブルを安定的に膨張することができな
いという欠点を有している。 このような問題点を解決
するためにＬＬＤＰＥに１０〜３０重量％のＬＤＰＥを
配合してフィルム成形が行なわれている。しかしなが
ら、ＬＬＤＰＥにＬＤＰＥを配合すると流動性あるいは
メルトテンションは多少改善されるものの、流動方向へ
の結晶配向が著しく進行することおよび両ポリエチレン
分子の混和性、分散性の低下により、ＬＬＤＰＥが本来
有している機械的強度や、縦・横方向の強度バランスが
得られないという新たな問題点が生じる。また、自動製
袋機等に使用するフィルムでは、より高速化が要求さ
れ、一層の低温ヒートシール特性に優れるフィルムが要
望されている。
ＤＰＥは、ＬＤＰＥと比較して溶融時における流動性が
悪く、成形加工性に劣るという問題を有している。すな
わち、ＬＬＤＰＥは、流動時のニュートン性が極めて高
く、高せん断速度領域において、せん断応力が大きく、
かつ成形時にメルトフラクチャーを生じ易いため高速成
形性に劣るとともに、成形加工時に流動のための所要エ
ネルギーが大きいという問題がある。また、ＬＬＤＰＥ
は、溶融伸張変形時の抵抗力、すなわち、溶融張力（メ
ルトテンション）が極めて小さく、このためインフレー
ション成形時にバブルを安定的に膨張することができな
いという欠点を有している。 このような問題点を解決
するためにＬＬＤＰＥに１０〜３０重量％のＬＤＰＥを
配合してフィルム成形が行なわれている。しかしなが
ら、ＬＬＤＰＥにＬＤＰＥを配合すると流動性あるいは
メルトテンションは多少改善されるものの、流動方向へ
の結晶配向が著しく進行することおよび両ポリエチレン
分子の混和性、分散性の低下により、ＬＬＤＰＥが本来
有している機械的強度や、縦・横方向の強度バランスが
得られないという新たな問題点が生じる。また、自動製
袋機等に使用するフィルムでは、より高速化が要求さ
れ、一層の低温ヒートシール特性に優れるフィルムが要
望されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記課題を
解決するためになされたもので、高い強度と縦・横方向
の強度バランスに優れ、低温ヒートシール特性に優れた
フィルムおよび該フィルムの製造方法を提供するもので
ある。
解決するためになされたもので、高い強度と縦・横方向
の強度バランスに優れ、低温ヒートシール特性に優れた
フィルムおよび該フィルムの製造方法を提供するもので
ある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、 （１）下記（イ）〜（ニ）の要件を満足するエチレン
（共）重合体からなるインフレーションフィルムであっ
て、フィルム中の横方向（ＴＤ）に沿って形成された結
晶ラメラに起因する長周期Ｌ（ラメラ間距離）が１７５
〜２１５オングストローム（Å）、フィルム中のＴＤに
沿って形成された結晶ラメラの厚みが５９〜９６オング
ストローム（Å）、フィルム中のＴＤに沿って形成され
た非晶部の厚みが１０６〜１２９オングストローム
（Å）、フィルムの引裂強度が、縦方向（ＭＤ）で２０
Ｋｇｆ／ｃｍ以上、ＴＤで６０Ｋｇｆ／ｃｍ以上、フィ
ルムのヒートシール温度が１１０℃以下、ヒートシール
強度が０．６Ｋｇ／ｍｍ幅以上であるインフレーション
フィルム、 （イ）密度（ｄ）：０. ８６ 〜０. ９７ｇ／ｃｍ3 、 （ロ）メルトフローレート（ＭＦＲ）：０．０１〜１０
０ｇ／１０分、 （ハ）分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）：１．５〜５．０、 （ニ）組成分布パラメーターＣｂ：２．００以下。 （２）下記（イ）〜（ヘ）の要件を満足するエチレン
（共）重合体からなるインフレーションフィルムであっ
て、フィルム中のＴＤに沿って形成された結晶ラメラに
起因する長周期Ｌ（ラメラ間距離）が１７５〜２１５オ
ングストローム（Å）、フィルム中のＴＤに沿って形成
された結晶ラメラの厚みが５９〜９６オングストローム
（Å）、フィルム中のＴＤに沿って形成された非晶部の
厚みが１０６〜１２９オングストローム（Å）、フィル
ムの引裂強度が、縦方向（ＭＤ）で２０Ｋｇｆ／ｃｍ以
上、ＴＤで６０Ｋｇｆ／ｃｍ以上、フィルムのヒートシ
ール温度が１１０℃以下、ヒートシール強度が０．６Ｋ
ｇ／１５ｍｍ幅以上であることを特徴とするインフレー
ションフィルム、 （イ）密度（ｄ）：０. ８６ 〜０. ９７ｇ／ｃｍ3 、 （ロ）メルトフローレート（ＭＦＲ）：０．０１〜１０
０ｇ／１０分、 （ハ）分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）：１．５〜５．０、 （ニ）組成分布パラメーターＣｂ：１．０８〜２．０
０、 （ホ）連続昇温溶出分別法（ＴＲＥＦ）による溶出温度
−溶出量曲線のピークが実質的に複数個存在すること、 （ヘ）２５℃におけるオルソジクロロベンゼン（ＯＤＣ
Ｂ）可溶分量Ｘ（wt％）と密度（ｄ）及びメルトフロー
レート（ＭＦＲ）が次の関係を満足すること、 ａ）ｄ−０. ００８logMFR≧０. ９３の場合 Ｘ＜２. ０、 ｂ）ｄ−０. ００８logMFR＜０. ９３の場合 Ｘ＜９. ８×１０3 ×( ０. ９３００−ｄ＋０. ００８
logMFR)2＋２. ０、 （３）前記エチレン（共）重合体が、少なくとも共役二
重結合を持つ有機環状化合物と周期律表第IV族の遷移金
属化合物を含む触媒の存在下にエチレンまたはエチレン
とα−オレフィンを（共）重合させて得られるエチレン
（共）重合体である（１）または（２）に記載のインフ
レーションフィルム、 （４）前記エチレン（共）重合体が、エチレンと１−ヘ
キセンを共重合させて得られるエチレン共重合体である
（１）〜（３）のいずれかに記載のインフレーションフ
ィルム、 （５）前記エチレン（共）重合体からなるインフレーシ
ョンフィルムが１２０〜１８０℃の範囲で成形してなる
（１）〜（４）のいずれかに記載のインフレーションフ
イルム、
（共）重合体からなるインフレーションフィルムであっ
て、フィルム中の横方向（ＴＤ）に沿って形成された結
晶ラメラに起因する長周期Ｌ（ラメラ間距離）が１７５
〜２１５オングストローム（Å）、フィルム中のＴＤに
沿って形成された結晶ラメラの厚みが５９〜９６オング
ストローム（Å）、フィルム中のＴＤに沿って形成され
た非晶部の厚みが１０６〜１２９オングストローム
（Å）、フィルムの引裂強度が、縦方向（ＭＤ）で２０
Ｋｇｆ／ｃｍ以上、ＴＤで６０Ｋｇｆ／ｃｍ以上、フィ
ルムのヒートシール温度が１１０℃以下、ヒートシール
強度が０．６Ｋｇ／ｍｍ幅以上であるインフレーション
フィルム、 （イ）密度（ｄ）：０. ８６ 〜０. ９７ｇ／ｃｍ3 、 （ロ）メルトフローレート（ＭＦＲ）：０．０１〜１０
０ｇ／１０分、 （ハ）分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）：１．５〜５．０、 （ニ）組成分布パラメーターＣｂ：２．００以下。 （２）下記（イ）〜（ヘ）の要件を満足するエチレン
（共）重合体からなるインフレーションフィルムであっ
て、フィルム中のＴＤに沿って形成された結晶ラメラに
起因する長周期Ｌ（ラメラ間距離）が１７５〜２１５オ
ングストローム（Å）、フィルム中のＴＤに沿って形成
された結晶ラメラの厚みが５９〜９６オングストローム
（Å）、フィルム中のＴＤに沿って形成された非晶部の
厚みが１０６〜１２９オングストローム（Å）、フィル
ムの引裂強度が、縦方向（ＭＤ）で２０Ｋｇｆ／ｃｍ以
上、ＴＤで６０Ｋｇｆ／ｃｍ以上、フィルムのヒートシ
ール温度が１１０℃以下、ヒートシール強度が０．６Ｋ
ｇ／１５ｍｍ幅以上であることを特徴とするインフレー
ションフィルム、 （イ）密度（ｄ）：０. ８６ 〜０. ９７ｇ／ｃｍ3 、 （ロ）メルトフローレート（ＭＦＲ）：０．０１〜１０
０ｇ／１０分、 （ハ）分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）：１．５〜５．０、 （ニ）組成分布パラメーターＣｂ：１．０８〜２．０
０、 （ホ）連続昇温溶出分別法（ＴＲＥＦ）による溶出温度
−溶出量曲線のピークが実質的に複数個存在すること、 （ヘ）２５℃におけるオルソジクロロベンゼン（ＯＤＣ
Ｂ）可溶分量Ｘ（wt％）と密度（ｄ）及びメルトフロー
レート（ＭＦＲ）が次の関係を満足すること、 ａ）ｄ−０. ００８logMFR≧０. ９３の場合 Ｘ＜２. ０、 ｂ）ｄ−０. ００８logMFR＜０. ９３の場合 Ｘ＜９. ８×１０3 ×( ０. ９３００−ｄ＋０. ００８
logMFR)2＋２. ０、 （３）前記エチレン（共）重合体が、少なくとも共役二
重結合を持つ有機環状化合物と周期律表第IV族の遷移金
属化合物を含む触媒の存在下にエチレンまたはエチレン
とα−オレフィンを（共）重合させて得られるエチレン
（共）重合体である（１）または（２）に記載のインフ
レーションフィルム、 （４）前記エチレン（共）重合体が、エチレンと１−ヘ
キセンを共重合させて得られるエチレン共重合体である
（１）〜（３）のいずれかに記載のインフレーションフ
ィルム、 （５）前記エチレン（共）重合体からなるインフレーシ
ョンフィルムが１２０〜１８０℃の範囲で成形してなる
（１）〜（４）のいずれかに記載のインフレーションフ
イルム、
【０００６】（６）下記（イ）〜（ニ）の要件を満足す
るエチレン（共）重合体を用いて、引取速度を２０〜１
２０ｍ／分、ブローアップ比２〜４、フロストライン１
００〜７００ｍｍでインフレーションフィルム成形を行
なうインフレーションフィルムの成形方法、 （イ）密度（ｄ）：０. ８６ 〜０. ９７ｇ／ｃｍ3 、 （ロ）メルトフローレート（ＭＦＲ）：０．０１〜１０
０ｇ／１０分、 （ハ）分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）：１．５〜５．０、 （ニ）組成分布パラメーターＣｂ：２．００以下。 （７）下記（イ）〜（ヘ）の要件を満足するエチレン
（共）重合体を用いて、引取速度を２０〜１２０ｍ／
分、ブローアップ比２〜４、フロストライン１００〜７
００ｍｍでインフレーションフィルム成形を行なうイン
フレーションフィルムの成形方法、 （イ）密度（ｄ）：０. ８６ 〜０. ９７ｇ／ｃｍ3 、 （ロ）メルトフローレート（ＭＦＲ）：０．０１〜１０
０ｇ／１０分、 （ハ）分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）：１．５〜５．０、 （ニ）組成分布パラメーターＣｂ：１．０８〜２．０
０、 （ホ）連続昇温溶出分別法（ＴＲＥＦ）による溶出温度
−溶出量曲線のピークが実質的に複数個存在すること、 （ヘ）２５℃におけるオルソジクロロベンゼン（ＯＤＣ
Ｂ）可溶分量Ｘ（wt％）と密度ｄ及びＭＦＲ（メルトフ
ローレート）が次の関係を満足すること、 ａ）ｄ−０. ００８logMFR≧０. ９３の場合 Ｘ＜２. ０、 ｂ）ｄ−０. ００８logMFR＜０. ９３の場合 Ｘ＜９. ８×１０3 ×( ０. ９３００−ｄ＋０. ００８
logMFR)2＋２．０。 （８）前記エチレン（共）重合体が、少なくとも共役二
重結合を持つ有機環状化合物と周期律表第IV族の遷移金
属化合物を含む触媒の存在下にエチレンまたはエチレン
とα−オレフィンを（共）重合させて得られるエチレン
（共）重合体である（６）または（７）に記載のインフ
レーションフィルムの製造方法、 （９）前記エチレン（共）重合体が、エチレンと１−ヘ
キセンを共重合させて得られるエチレン共重合体である
（６）〜（８）のいずれかに記載のインフレーションフ
ィルムの製造方法、及び （１０）前記エチレン（共）重合体からなるインフレー
ションフィルムが１２０〜１８０℃の範囲で成形してな
る（６）〜（９）のいずれかに記載のインフレーション
フイルムの製造方法を開発することにより上記の課題を
解決した。
るエチレン（共）重合体を用いて、引取速度を２０〜１
２０ｍ／分、ブローアップ比２〜４、フロストライン１
００〜７００ｍｍでインフレーションフィルム成形を行
なうインフレーションフィルムの成形方法、 （イ）密度（ｄ）：０. ８６ 〜０. ９７ｇ／ｃｍ3 、 （ロ）メルトフローレート（ＭＦＲ）：０．０１〜１０
０ｇ／１０分、 （ハ）分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）：１．５〜５．０、 （ニ）組成分布パラメーターＣｂ：２．００以下。 （７）下記（イ）〜（ヘ）の要件を満足するエチレン
（共）重合体を用いて、引取速度を２０〜１２０ｍ／
分、ブローアップ比２〜４、フロストライン１００〜７
００ｍｍでインフレーションフィルム成形を行なうイン
フレーションフィルムの成形方法、 （イ）密度（ｄ）：０. ８６ 〜０. ９７ｇ／ｃｍ3 、 （ロ）メルトフローレート（ＭＦＲ）：０．０１〜１０
０ｇ／１０分、 （ハ）分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）：１．５〜５．０、 （ニ）組成分布パラメーターＣｂ：１．０８〜２．０
０、 （ホ）連続昇温溶出分別法（ＴＲＥＦ）による溶出温度
−溶出量曲線のピークが実質的に複数個存在すること、 （ヘ）２５℃におけるオルソジクロロベンゼン（ＯＤＣ
Ｂ）可溶分量Ｘ（wt％）と密度ｄ及びＭＦＲ（メルトフ
ローレート）が次の関係を満足すること、 ａ）ｄ−０. ００８logMFR≧０. ９３の場合 Ｘ＜２. ０、 ｂ）ｄ−０. ００８logMFR＜０. ９３の場合 Ｘ＜９. ８×１０3 ×( ０. ９３００−ｄ＋０. ００８
logMFR)2＋２．０。 （８）前記エチレン（共）重合体が、少なくとも共役二
重結合を持つ有機環状化合物と周期律表第IV族の遷移金
属化合物を含む触媒の存在下にエチレンまたはエチレン
とα−オレフィンを（共）重合させて得られるエチレン
（共）重合体である（６）または（７）に記載のインフ
レーションフィルムの製造方法、 （９）前記エチレン（共）重合体が、エチレンと１−ヘ
キセンを共重合させて得られるエチレン共重合体である
（６）〜（８）のいずれかに記載のインフレーションフ
ィルムの製造方法、及び （１０）前記エチレン（共）重合体からなるインフレー
ションフィルムが１２０〜１８０℃の範囲で成形してな
る（６）〜（９）のいずれかに記載のインフレーション
フイルムの製造方法を開発することにより上記の課題を
解決した。
【０００７】以下本発明を更に詳述する。本発明のエチ
レン（共）重合体とは、エチレン単独重合体またはエチ
レン・α−オレフィン共重合体であって、エチレンまた
はエチレンと炭素数３〜２０のα−オレフィンとの
（共）重合させることにより得られる下記（イ）〜
（ニ）の要件、 （イ）密度が０. ８６ 〜０. ９７ｇ／ｃｍ3 （ロ）メルトフローレート０．０１〜１００ｇ／１０分 （ハ）分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．５〜５．０ （ニ）組成分布パラメーターＣｂが２．００以下 を満足するエチレン（共）重合体である。
レン（共）重合体とは、エチレン単独重合体またはエチ
レン・α−オレフィン共重合体であって、エチレンまた
はエチレンと炭素数３〜２０のα−オレフィンとの
（共）重合させることにより得られる下記（イ）〜
（ニ）の要件、 （イ）密度が０. ８６ 〜０. ９７ｇ／ｃｍ3 （ロ）メルトフローレート０．０１〜１００ｇ／１０分 （ハ）分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．５〜５．０ （ニ）組成分布パラメーターＣｂが２．００以下 を満足するエチレン（共）重合体である。
【０００８】上記本発明のエチレン（共）重合体のα−
オレフィンとは、炭素数が３〜２０、好ましくは３〜１
２のものであり、具体的にはプロピレン、１−ブテン、
１−ペンテン、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘキセ
ン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセンなどが挙
げられ、とりわけ１ーヘキセンとの共重合体は、低温ヒ
ートシール性、機械的強度、光学特性等のバランスが良
好であり、最も好ましいものである。また、これらのα
−オレフィンの含有量は、合計で通常３０モル％以下、
好ましくは３〜２０モル％以下の範囲で選択されること
が望ましい。
オレフィンとは、炭素数が３〜２０、好ましくは３〜１
２のものであり、具体的にはプロピレン、１−ブテン、
１−ペンテン、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘキセ
ン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセンなどが挙
げられ、とりわけ１ーヘキセンとの共重合体は、低温ヒ
ートシール性、機械的強度、光学特性等のバランスが良
好であり、最も好ましいものである。また、これらのα
−オレフィンの含有量は、合計で通常３０モル％以下、
好ましくは３〜２０モル％以下の範囲で選択されること
が望ましい。
【０００９】また本発明のエチレン（共）重合体の
（イ）密度は０．８６〜０．９７ｇ／ｃｍ3 、好ましく
は０．８９〜０．９５ｇ／ｃｍ3 、さらに好ましくは
０．９ 〜０．９４ｇ／ｃｍ3 の範囲であり、（ロ）メ
ルトフロレート（以下ＭＦＲと称す）は０．０１〜１０
０ｇ／分、好ましくは０．１〜５０ｇ／分、さらに好ま
しくは０．５〜４０ｇ／１０分の範囲である。密度が
０．８６ｇ／ｃｍ３未満のものは柔らかすぎて、剛性、
耐熱性が不良となり、抗ブロッキング性が劣るものとな
る。また０．９７ｇ／ｃｍ3 を超えると硬すぎて、引裂
強度、衝撃強度等が低くなる。ＭＦＲが０．０１ｇ／１
０分未満では加工性が不良となり、１００ｇ／１０分を
越えると強度が弱いものとなる。
（イ）密度は０．８６〜０．９７ｇ／ｃｍ3 、好ましく
は０．８９〜０．９５ｇ／ｃｍ3 、さらに好ましくは
０．９ 〜０．９４ｇ／ｃｍ3 の範囲であり、（ロ）メ
ルトフロレート（以下ＭＦＲと称す）は０．０１〜１０
０ｇ／分、好ましくは０．１〜５０ｇ／分、さらに好ま
しくは０．５〜４０ｇ／１０分の範囲である。密度が
０．８６ｇ／ｃｍ３未満のものは柔らかすぎて、剛性、
耐熱性が不良となり、抗ブロッキング性が劣るものとな
る。また０．９７ｇ／ｃｍ3 を超えると硬すぎて、引裂
強度、衝撃強度等が低くなる。ＭＦＲが０．０１ｇ／１
０分未満では加工性が不良となり、１００ｇ／１０分を
越えると強度が弱いものとなる。
【００１０】本発明のエチレン（共）重合体の（ハ）Ｍ
ｗ／Ｍｎは、１．５〜５．０の範囲、好ましくは１．６
〜４．５、さらに好ましくは１．７〜４．０の範囲であ
る。上記Ｍｗ／Ｍｎが１．５未満では成形加工性が劣
り、５．０を超えるものは耐衝撃性が劣る。一般にエチ
レン（共）重合体の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、ゲル
パーミエイションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により
重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）を求
め、それらの比（Ｍｗ／Ｍｎ）を算出することにより求
めることができる。
ｗ／Ｍｎは、１．５〜５．０の範囲、好ましくは１．６
〜４．５、さらに好ましくは１．７〜４．０の範囲であ
る。上記Ｍｗ／Ｍｎが１．５未満では成形加工性が劣
り、５．０を超えるものは耐衝撃性が劣る。一般にエチ
レン（共）重合体の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、ゲル
パーミエイションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により
重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）を求
め、それらの比（Ｍｗ／Ｍｎ）を算出することにより求
めることができる。
【００１１】本発明のエチレン（共）重合体の（ニ）組
成分布パラメーター（Ｃｂ）は２．００以下であり、組
成分布パラメーター（Ｃｂ）が２. ００より大きいとブ
ロッキングしやすく、ヒートシール性も不良となり、ま
た低分子量あるいは高分岐度成分の樹脂表面へのにじみ
出しが多く衛生上の問題が生じる。
成分布パラメーター（Ｃｂ）は２．００以下であり、組
成分布パラメーター（Ｃｂ）が２. ００より大きいとブ
ロッキングしやすく、ヒートシール性も不良となり、ま
た低分子量あるいは高分岐度成分の樹脂表面へのにじみ
出しが多く衛生上の問題が生じる。
【００１２】本発明のエチレン（共）重合体の（ニ）組
成分布パラメーター（Ｃｂ）の測定法は下記の通りであ
る。すなわち、酸化防止剤を加えたオルソジクロルベン
ゼン（ＯＤＣＢ）に試料を濃度が０．２重量％となるよ
うに１３５℃で加熱溶解した後、けい藻土（セライト５
４５）を充填したカラムに移送した後、０．１℃／min
の冷却速度で２５℃まで冷却し、共重合体試料をセライ
ト表面に沈着する。次に、この試料が沈着されているカ
ラムにＯＤＣＢを一定流量で流しながら、カラム温度を
５℃きざみに１２０℃まで段階的に昇温して行く。する
と各温度に対応した溶出成分を含んだ溶液が採取され
る。この溶液にメタノールを加え、試料を沈澱後、ろ
過、乾燥し、各温度における溶出試料を得る。各試料
の、重量分率および分岐度（炭素数１０００個あたりの
分岐数）を測定する。分岐度は13Ｃ−ＮＭＲで測定し求
める。
成分布パラメーター（Ｃｂ）の測定法は下記の通りであ
る。すなわち、酸化防止剤を加えたオルソジクロルベン
ゼン（ＯＤＣＢ）に試料を濃度が０．２重量％となるよ
うに１３５℃で加熱溶解した後、けい藻土（セライト５
４５）を充填したカラムに移送した後、０．１℃／min
の冷却速度で２５℃まで冷却し、共重合体試料をセライ
ト表面に沈着する。次に、この試料が沈着されているカ
ラムにＯＤＣＢを一定流量で流しながら、カラム温度を
５℃きざみに１２０℃まで段階的に昇温して行く。する
と各温度に対応した溶出成分を含んだ溶液が採取され
る。この溶液にメタノールを加え、試料を沈澱後、ろ
過、乾燥し、各温度における溶出試料を得る。各試料
の、重量分率および分岐度（炭素数１０００個あたりの
分岐数）を測定する。分岐度は13Ｃ−ＮＭＲで測定し求
める。
【００１３】このような方法で３０℃から９０℃で採取
した各フラクションについては次のような、分岐度の補
正を行う。すなわち、溶出温度に対して測定した分岐度
をプロットし、相関関係を最小自乗法で直線に近似し、
検量線を作成する。この近似の相関係数は十分大きい。
この検量線により求めた値を各フラクションの分岐度と
する。なお、溶出温度９５℃以上で採取したフラクショ
ンについては溶出温度と分岐度に必ずしも直線関係が成
立しないのでこの補正は行わない。
した各フラクションについては次のような、分岐度の補
正を行う。すなわち、溶出温度に対して測定した分岐度
をプロットし、相関関係を最小自乗法で直線に近似し、
検量線を作成する。この近似の相関係数は十分大きい。
この検量線により求めた値を各フラクションの分岐度と
する。なお、溶出温度９５℃以上で採取したフラクショ
ンについては溶出温度と分岐度に必ずしも直線関係が成
立しないのでこの補正は行わない。
【００１４】次にそれぞれのフラクションの重量分率ｗ
i を、溶出温度５℃当たりの分岐度ｂi の変化量（ｂi
−ｂiー1 ）で割って相対濃度ｃi を求め、分岐度に対し
て相対濃度をプロットし、組成分布曲線を得る。この組
成分布曲線を一定の幅で分割し、次式より組成分布パラ
メーターＣｂを算出する。
i を、溶出温度５℃当たりの分岐度ｂi の変化量（ｂi
−ｂiー1 ）で割って相対濃度ｃi を求め、分岐度に対し
て相対濃度をプロットし、組成分布曲線を得る。この組
成分布曲線を一定の幅で分割し、次式より組成分布パラ
メーターＣｂを算出する。
【００１５】
【数１】Ｃｂ＝［ΣＣj ｂj 2／Σｃj ｂj ］×［Σｃj
／Σｃj ｂj ］
／Σｃj ｂj ］
【００１６】ここで、ｃj とｂj はそれぞれｊ番目の区
分の相対濃度と分岐度である。組成分布パラメーターＣ
ｂは試料の組成が均一である場合に１．０となり、組成
分布が広がるに従って値が大きくなる。
分の相対濃度と分岐度である。組成分布パラメーターＣ
ｂは試料の組成が均一である場合に１．０となり、組成
分布が広がるに従って値が大きくなる。
【００１７】なお、エチレン・α−オレフィン共重合体
の組成分布を表現する方法は多くの提案がなされてい
る。例えば特開昭６０−８８０１６号では、試料を溶剤
分別して得た各分別試料の分岐数に対して、累積重量分
率が特定の分布（対数正規分布）をすると仮定して数値
処理を行い、重量平均分岐度（Ｃｗ）と数平均分岐度
（Ｃｎ）の比を求めている。この近似計算は、試料の分
岐数と累積重量分率が対数正規分布からずれると精度が
下がり、市販のＬＬＤＰＥについて測定を行うと相関係
数Ｒ２はかなり低く、値の精度は充分でない。また、こ
のＣｗ／Ｃｎの測定法および数値処理法は、本発明のＣ
ｂのそれと異なるが、あえて数値の比較を行えば、Ｃｗ
／Ｃｎの値は、Ｃｂよりかなり大きくなる。
の組成分布を表現する方法は多くの提案がなされてい
る。例えば特開昭６０−８８０１６号では、試料を溶剤
分別して得た各分別試料の分岐数に対して、累積重量分
率が特定の分布（対数正規分布）をすると仮定して数値
処理を行い、重量平均分岐度（Ｃｗ）と数平均分岐度
（Ｃｎ）の比を求めている。この近似計算は、試料の分
岐数と累積重量分率が対数正規分布からずれると精度が
下がり、市販のＬＬＤＰＥについて測定を行うと相関係
数Ｒ２はかなり低く、値の精度は充分でない。また、こ
のＣｗ／Ｃｎの測定法および数値処理法は、本発明のＣ
ｂのそれと異なるが、あえて数値の比較を行えば、Ｃｗ
／Ｃｎの値は、Ｃｂよりかなり大きくなる。
【００１８】本発明のエチレン（共）重合体は、前記
（イ）〜（ニ）のパラメータを満足することにより、本
発明の目的とするインフレーションフイルムとして良好
な性能を発揮するが、より好ましくは、下記（イ）〜
（ヘ）の要件 （イ）密度が０. ８６ 〜０. ９６ｇ／ｃｍ3 （ロ）メルトフローレート０．０１〜１００ｇ／１０分 （ハ）分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．５〜５．０ （ニ）組成分布パラメーターＣｂが１．０８〜２．００ （ホ）連続昇温溶出分別法（ＴＲＥＦ）による溶出温度
−溶出量曲線のピークが実質的に複数個存在すること （ヘ）２５℃におけるオルソジクロロベンゼン（ＯＤＣ
Ｂ）可溶分量Ｘ（wt％）と密度ｄ及びＭＦＲ（メルトフ
ローレート）が次の関係を満足足すること ａ）ｄ−０. ００８logMFR≧０. ９３の場合 Ｘ＜２. ０ ｂ）ｄ−０. ００８logMFR＜０. ９３の場合 Ｘ＜９. ８×１０3 ×( ０. ９３００−ｄ＋０. ００８
logMFR)2＋２０を満足するエチレン（共）重合体を使用
することが望ましい。
（イ）〜（ニ）のパラメータを満足することにより、本
発明の目的とするインフレーションフイルムとして良好
な性能を発揮するが、より好ましくは、下記（イ）〜
（ヘ）の要件 （イ）密度が０. ８６ 〜０. ９６ｇ／ｃｍ3 （ロ）メルトフローレート０．０１〜１００ｇ／１０分 （ハ）分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．５〜５．０ （ニ）組成分布パラメーターＣｂが１．０８〜２．００ （ホ）連続昇温溶出分別法（ＴＲＥＦ）による溶出温度
−溶出量曲線のピークが実質的に複数個存在すること （ヘ）２５℃におけるオルソジクロロベンゼン（ＯＤＣ
Ｂ）可溶分量Ｘ（wt％）と密度ｄ及びＭＦＲ（メルトフ
ローレート）が次の関係を満足足すること ａ）ｄ−０. ００８logMFR≧０. ９３の場合 Ｘ＜２. ０ ｂ）ｄ−０. ００８logMFR＜０. ９３の場合 Ｘ＜９. ８×１０3 ×( ０. ９３００−ｄ＋０. ００８
logMFR)2＋２０を満足するエチレン（共）重合体を使用
することが望ましい。
【００１９】本発明のこの特殊なエチレン（共）重合体
は、前記エチレン（共）重合体の（イ）〜（ハ）の要件
にさらに（ニ）〜（ヘ）の要件を満足するものである。
該特殊なエチレン（共）重合体の（ニ）組成分布パラメ
ーターＣｂは、１．０８〜２．００の範囲であり、好ま
しくは1 ．１０〜1 ．８０、より好ましくは 1．１５〜
1 ．７０の範囲であることが望ましい。
は、前記エチレン（共）重合体の（イ）〜（ハ）の要件
にさらに（ニ）〜（ヘ）の要件を満足するものである。
該特殊なエチレン（共）重合体の（ニ）組成分布パラメ
ーターＣｂは、１．０８〜２．００の範囲であり、好ま
しくは1 ．１０〜1 ．８０、より好ましくは 1．１５〜
1 ．７０の範囲であることが望ましい。
【００２０】また、（ホ）連続昇温溶出分別法（ＴＲＥ
Ｆ）による溶出温度−溶出量曲線のピークが実質的に複
数個存在し、この複数のピークは望ましくは８５℃から
１００℃の間に存在することが特に望ましい。このピー
クが存在するエチレン（共）重合体の場合には一般メタ
ロセン系触媒で得られるものより製品の耐熱性が向上す
る。
Ｆ）による溶出温度−溶出量曲線のピークが実質的に複
数個存在し、この複数のピークは望ましくは８５℃から
１００℃の間に存在することが特に望ましい。このピー
クが存在するエチレン（共）重合体の場合には一般メタ
ロセン系触媒で得られるものより製品の耐熱性が向上す
る。
【００２１】上記本発明のエチレン（共）重合体は 図
１に示されるような連続昇温溶出分別法（ＴＲＥＦ）に
より求めた溶出温度−溶出量曲線において実質的にピー
クが複数個の特殊な新規エチレン（共）重合体であり、
図２に示されるような一般メタロセン系触媒、すなわ
ち、シクロペンタジエニル骨格を有する配位子と周期律
表第IV族の遷移金属化合物を含む少なくとも１種の触媒
下の存在下で得られるエチレン（共）重合体である連続
昇温溶出分別法（ＴＲＥＦ）により求めた溶出温度−溶
出量曲線において実質的にピークを１個有するエチレン
（共）重合体とは明確に区別される。
１に示されるような連続昇温溶出分別法（ＴＲＥＦ）に
より求めた溶出温度−溶出量曲線において実質的にピー
クが複数個の特殊な新規エチレン（共）重合体であり、
図２に示されるような一般メタロセン系触媒、すなわ
ち、シクロペンタジエニル骨格を有する配位子と周期律
表第IV族の遷移金属化合物を含む少なくとも１種の触媒
下の存在下で得られるエチレン（共）重合体である連続
昇温溶出分別法（ＴＲＥＦ）により求めた溶出温度−溶
出量曲線において実質的にピークを１個有するエチレン
（共）重合体とは明確に区別される。
【００２２】本発明に関わるＴＲＥＦの測定方法は下記
の通りである。試料を酸化防止剤（例えば、ブチルヒド
ロキシトルエン）を加えたＯＤＣＢに試料濃度が０. ０
５重量％となるように加え、１３５℃で加熱溶解する。
この試料溶液５mlを、ガラスビーズを充填したカラムに
注入し、０. １℃／分の冷却速度で２５℃まで冷却し、
試料をガラスビーズ表面に沈着する。次に、このカラム
にＯＤＣＢを一定流量で流しながら、カラム温度を５０
℃／hrの一定速度で昇温しながら、試料を順次溶出させ
る。この際、溶剤中に溶出する試料の濃度は、メチレン
の非対称伸縮振動の波数２９２５cm-1に対する吸収を赤
外検出機で測定することにより連続的に検出される。こ
の値から、溶液中のエチレン・α−オレフィン共重合体
の濃度を定量分析し、溶出温度と溶出速度の関係を求め
る。ＴＲＥＦ分析によれば、極少量の試料で、温度変化
に対する溶出速度の変化を連続的に分析出来るため、分
別法では検出できない比較的細かいピークの検出が可能
である。
の通りである。試料を酸化防止剤（例えば、ブチルヒド
ロキシトルエン）を加えたＯＤＣＢに試料濃度が０. ０
５重量％となるように加え、１３５℃で加熱溶解する。
この試料溶液５mlを、ガラスビーズを充填したカラムに
注入し、０. １℃／分の冷却速度で２５℃まで冷却し、
試料をガラスビーズ表面に沈着する。次に、このカラム
にＯＤＣＢを一定流量で流しながら、カラム温度を５０
℃／hrの一定速度で昇温しながら、試料を順次溶出させ
る。この際、溶剤中に溶出する試料の濃度は、メチレン
の非対称伸縮振動の波数２９２５cm-1に対する吸収を赤
外検出機で測定することにより連続的に検出される。こ
の値から、溶液中のエチレン・α−オレフィン共重合体
の濃度を定量分析し、溶出温度と溶出速度の関係を求め
る。ＴＲＥＦ分析によれば、極少量の試料で、温度変化
に対する溶出速度の変化を連続的に分析出来るため、分
別法では検出できない比較的細かいピークの検出が可能
である。
【００２３】本発明のエチレン（共）重合体の（ヘ）２
５℃におけるオルソジクロロベンゼン（ＯＤＣＢ）可溶
分量Ｘ（wt% ）と密 度ｄおよびＭＦＲ（メルトフロー
レート）の関係は、ｄおよびＭＦＲの値が、ｄ−０. ０
０８logMFR≧０. ９３の場合は、Ｘは２重量％未満、好
ましくは１重量％未満、ｄ−０. ００８logMFR＜０. ９
３の場合は、 Ｘ＜９. ８×１０3 ×( ０. ９３００−ｄ＋０. ００８
logMFR)2＋２. ０ 好ましくは、 Ｘ＜７. ４×１０3 ×( ０. ９３００−ｄ＋０. ００８
logMFR)2＋１. ０ より好ましくは、 Ｘ＜５. ６×１０3 ×( ０. ９３００−ｄ＋０. ００８
logMFR)2＋０. ５ の関係を満足していることが望ましい。
５℃におけるオルソジクロロベンゼン（ＯＤＣＢ）可溶
分量Ｘ（wt% ）と密 度ｄおよびＭＦＲ（メルトフロー
レート）の関係は、ｄおよびＭＦＲの値が、ｄ−０. ０
０８logMFR≧０. ９３の場合は、Ｘは２重量％未満、好
ましくは１重量％未満、ｄ−０. ００８logMFR＜０. ９
３の場合は、 Ｘ＜９. ８×１０3 ×( ０. ９３００−ｄ＋０. ００８
logMFR)2＋２. ０ 好ましくは、 Ｘ＜７. ４×１０3 ×( ０. ９３００−ｄ＋０. ００８
logMFR)2＋１. ０ より好ましくは、 Ｘ＜５. ６×１０3 ×( ０. ９３００−ｄ＋０. ００８
logMFR)2＋０. ５ の関係を満足していることが望ましい。
【００２４】上記２５℃におけるＯＤＣＢ可溶分の量
は、下記の方法により測定する。試料０. ５ｇを２０ml
のＯＤＣＢにて１３５℃で２時間加熱し、試料を完全に
溶解した後、２５℃まで冷却する。この溶液を２５℃で
一晩放置後、テフロン製フィルターでろ過してろ液を採
取する。このろ液のメチレンの非対称伸縮振動の波数２
９２５cm-1付近の吸収ピーク面積を求め、予め作成した
検量線により試料濃度を算出する。この値より、２５℃
におけるＯＤＣＢ可溶分量が求まる。
は、下記の方法により測定する。試料０. ５ｇを２０ml
のＯＤＣＢにて１３５℃で２時間加熱し、試料を完全に
溶解した後、２５℃まで冷却する。この溶液を２５℃で
一晩放置後、テフロン製フィルターでろ過してろ液を採
取する。このろ液のメチレンの非対称伸縮振動の波数２
９２５cm-1付近の吸収ピーク面積を求め、予め作成した
検量線により試料濃度を算出する。この値より、２５℃
におけるＯＤＣＢ可溶分量が求まる。
【００２５】２５℃におけるＯＤＣＢ可溶分は、エチレ
ン・α−オレフィン共重合体に含まれる高分岐度成分お
よび低分子量成分であり、衛生性の問題や成形品内面の
ブロッキングの原因となる為、この含有量は少ないこと
が望ましい。ＯＤＣＢ可溶分の量は、コモノマーの含有
量および分子量に影響される。従ってこれらの指標であ
る密度およびＭＦＲとＯＤＣＢ可溶分の量が上記の関係
を満たすことは、共重合体全体に含まれるα−オレフィ
ンの偏在が少ないことを示す。
ン・α−オレフィン共重合体に含まれる高分岐度成分お
よび低分子量成分であり、衛生性の問題や成形品内面の
ブロッキングの原因となる為、この含有量は少ないこと
が望ましい。ＯＤＣＢ可溶分の量は、コモノマーの含有
量および分子量に影響される。従ってこれらの指標であ
る密度およびＭＦＲとＯＤＣＢ可溶分の量が上記の関係
を満たすことは、共重合体全体に含まれるα−オレフィ
ンの偏在が少ないことを示す。
【００２６】上記本発明のエチレン（共）重合体は、前
記特定のパラメーターを満足すれば触媒、製造方法等に
特に限定されるものではないが、好ましくは少なくとも
共役二重結合を持つ有機環状化合物と周期律表第IV族の
遷移金属化合物を含む触媒の存在下にエチレンまたはエ
チレンと炭素数３〜２０のα−オレフィンを（共）重合
させて得られるエチレン（共）重合体であることが望ま
しい。
記特定のパラメーターを満足すれば触媒、製造方法等に
特に限定されるものではないが、好ましくは少なくとも
共役二重結合を持つ有機環状化合物と周期律表第IV族の
遷移金属化合物を含む触媒の存在下にエチレンまたはエ
チレンと炭素数３〜２０のα−オレフィンを（共）重合
させて得られるエチレン（共）重合体であることが望ま
しい。
【００２７】本発明のエチレン（共）重合体は、特に以
下のａ1 〜ａ４の化合物を混合して得られる触媒で重合
することにより得ることができる。 ａ1 ：一般式Ｍｅ1 Ｒ1 pＲ2 q（ＯＲ3 ）r Ｘ1 4-p-q-rで
表される化合物（式中Ｍｅ1 はジルコニウム、チタン、
ハフニウムを示し、Ｒ1 およびＲ3 はそれぞれ炭素数１
〜２４の炭化水素基、Ｒ2 は、２，４- ペンタンジオナ
ト配位子またはその誘導体、ベンゾイルメタナト配位子
またはその誘導体、ベンゾイルアセトナト配位子または
その誘導体、Ｘ1 はハロゲン原子を示し、ｐ、ｑおよび
ｒはそれぞれ０≦ｐ≦４、０≦ｑ≦４、０≦ｒ≦４、０
≦p+q+ｒ≦４の範囲を満たす数である） ａ2 ：一般式Ｍｅ2 Ｒ4 m（ＯＲ5 ）n Ｘ2 z-m-nで表され
る化合物（式中Ｍｅ2は周期律表第Ｉ〜III 族元素、Ｒ4
およびＲ5 はそれぞれ炭素数１〜２４の炭化水素基、
Ｘ2 はハロゲン原子または水素原子（ただし、Ｘ2 が水
素原子の場合Ｍｅ2 は周期律表第IV族元素の場合に限
る）を示し、ｚはＭｅ2 の価数を示し、ｍおよびｎはそ
れぞれ０≦ｍ≦ｚ、０≦ｎ≦ｚの範囲を満たす整数であ
り、かつ、０≦ｍ＋ｎ≦ｚである） ａ3 ：共役二重結合を持つ有機環状化合物 ａ4 ：Ａｌ−Ｏ−Ａｌ結合を含む変性有機アルミニウム
オキシ化合物および／またはホウ素化合物。
下のａ1 〜ａ４の化合物を混合して得られる触媒で重合
することにより得ることができる。 ａ1 ：一般式Ｍｅ1 Ｒ1 pＲ2 q（ＯＲ3 ）r Ｘ1 4-p-q-rで
表される化合物（式中Ｍｅ1 はジルコニウム、チタン、
ハフニウムを示し、Ｒ1 およびＲ3 はそれぞれ炭素数１
〜２４の炭化水素基、Ｒ2 は、２，４- ペンタンジオナ
ト配位子またはその誘導体、ベンゾイルメタナト配位子
またはその誘導体、ベンゾイルアセトナト配位子または
その誘導体、Ｘ1 はハロゲン原子を示し、ｐ、ｑおよび
ｒはそれぞれ０≦ｐ≦４、０≦ｑ≦４、０≦ｒ≦４、０
≦p+q+ｒ≦４の範囲を満たす数である） ａ2 ：一般式Ｍｅ2 Ｒ4 m（ＯＲ5 ）n Ｘ2 z-m-nで表され
る化合物（式中Ｍｅ2は周期律表第Ｉ〜III 族元素、Ｒ4
およびＲ5 はそれぞれ炭素数１〜２４の炭化水素基、
Ｘ2 はハロゲン原子または水素原子（ただし、Ｘ2 が水
素原子の場合Ｍｅ2 は周期律表第IV族元素の場合に限
る）を示し、ｚはＭｅ2 の価数を示し、ｍおよびｎはそ
れぞれ０≦ｍ≦ｚ、０≦ｎ≦ｚの範囲を満たす整数であ
り、かつ、０≦ｍ＋ｎ≦ｚである） ａ3 ：共役二重結合を持つ有機環状化合物 ａ4 ：Ａｌ−Ｏ−Ａｌ結合を含む変性有機アルミニウム
オキシ化合物および／またはホウ素化合物。
【００２８】以下、更に詳説する。上記触媒成分ａ1 の
一般式Ｍｅ1 Ｒ1 pＲ2 q（ＯＲ3 ）r Ｘ1 4-p-q-rで表され
る化合物の式中、Ｍｅ1 はジルコニウム、チタン、ハフ
ニウムを示し、これらの遷移金属の種類は限定されるも
のではなく、複数を用いることもできるが、共重合体の
耐候性の優れるジルコニウムが含まれることが特に好ま
しい。Ｒ1 およびＲ3 はそれぞれ炭素数１〜２４の炭化
水素基で、好ましくは炭素数１〜１２、さらに好ましく
は１〜８である。具体的にはメチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基、ブチル基などのアルキル基；
ビニル基、アリル基などのアルケニル基；フェニル基、
トリル基、キシリル基、メシチル基、インデニル基、ナ
フチル基などのアリール基；ベンジル基、トリチル基、
フェネチル基、スチリル基、ベンズヒドリル基、フェニ
ルブチル基、ネオフイル基などのアラルキル基などが挙
げられる。これらは分岐があってもよい。Ｒ2 は、２．
４−ペンタンジオナト配位子またはその誘導体、ベンゾ
イルメタナト配位子、ベンゾイルアセトナト配位子また
はその誘導体を示す。Ｘ1 はフッ素、ヨウ素、塩素およ
び臭素などのハロゲン原子を示す。ｐおよびｑはそれぞ
れ、０≦ｐ≦４、０≦ｑ≦４、０≦ｒ≦４、０≦ｐ＋ｑ
+ ｒ≦４の条件を満たす数である。
一般式Ｍｅ1 Ｒ1 pＲ2 q（ＯＲ3 ）r Ｘ1 4-p-q-rで表され
る化合物の式中、Ｍｅ1 はジルコニウム、チタン、ハフ
ニウムを示し、これらの遷移金属の種類は限定されるも
のではなく、複数を用いることもできるが、共重合体の
耐候性の優れるジルコニウムが含まれることが特に好ま
しい。Ｒ1 およびＲ3 はそれぞれ炭素数１〜２４の炭化
水素基で、好ましくは炭素数１〜１２、さらに好ましく
は１〜８である。具体的にはメチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基、ブチル基などのアルキル基；
ビニル基、アリル基などのアルケニル基；フェニル基、
トリル基、キシリル基、メシチル基、インデニル基、ナ
フチル基などのアリール基；ベンジル基、トリチル基、
フェネチル基、スチリル基、ベンズヒドリル基、フェニ
ルブチル基、ネオフイル基などのアラルキル基などが挙
げられる。これらは分岐があってもよい。Ｒ2 は、２．
４−ペンタンジオナト配位子またはその誘導体、ベンゾ
イルメタナト配位子、ベンゾイルアセトナト配位子また
はその誘導体を示す。Ｘ1 はフッ素、ヨウ素、塩素およ
び臭素などのハロゲン原子を示す。ｐおよびｑはそれぞ
れ、０≦ｐ≦４、０≦ｑ≦４、０≦ｒ≦４、０≦ｐ＋ｑ
+ ｒ≦４の条件を満たす数である。
【００２９】上記触媒成分ａ1 の一般式で示される化合
物の例としては、テトラメチルジルコニウム、テトラエ
チルジルコニウム、テトラベンジルジルコニウム、テト
ラプロポキシジルコニウム、トリプロポキシモノクロロ
ジルコニウム、テトラブトキシジルコニウム、テトラブ
トキシチタン、テトラブトキシハフニウムなどが挙げら
れ、特にテトラプロポキシジルコニウム、テトラブトキ
シジルコニウムなどのＺｒ（ＯＲ）4 化合物が好まし
く、これらを２種以上混合して用いても差し支えない。
また、前記２, ４−ペンタンジオナト配位子またはその
誘導 体、ベンゾイルメタナト配位子、ベンゾイルアセ
トナト配位子またはその誘導体の具体例としたは、テト
ラ（２, ４−ペンタンジオナト）ジルコニウム、トリ
（２, ４−ペンタンジオナト）クロライドジルコニウ
ム、ジ（２, ４−ペンタンジオナト）ジクロライドジル
コニウム、（２, ４−ペンタンジオナト）トリクロライ
ドジルコニウム、ジ（２, ４−ペンタンジオナト）ジエ
トキサイドジルコニウム、ジ（２, ４−ペンタンジオナ
ト）ジ- ｎ- プロポキサイドジルコニウム、ジ（２, ４
ーペンタンジオナト）ジ- ｎ- ブトキサイドジルコニウ
ム、ジ（２, ４−ペンタンジオナト）ジベンジルジルコ
ニウム、ジ（２, ４−ペンタンジオナト）ジネオフイル
ジルコニウム、テトラ（ジベンゾイルメタナト）ジルコ
ニウム、ジ（ジベンゾイルメタナト）ジエトキサイドジ
ルコニウム、ジ（ジベンゾイルメタナト）ジ−ｎ−プロ
ポキサイドジルコニウム、ジ（ジベンゾイルメタナト）
ジ−ｎ−ブトキサイドジルコニウム、ジ（ベンゾイルア
セトナト）ジエトキサイドジルコニウム、ジ（ベンゾイ
ルアセトナト）ジ−ｎ−プロポキサイドジルコニウム、
ジ（ベンゾイルアセトナト）ジ−ｎ−ブトキサイドジル
コニウム等があげられる。
物の例としては、テトラメチルジルコニウム、テトラエ
チルジルコニウム、テトラベンジルジルコニウム、テト
ラプロポキシジルコニウム、トリプロポキシモノクロロ
ジルコニウム、テトラブトキシジルコニウム、テトラブ
トキシチタン、テトラブトキシハフニウムなどが挙げら
れ、特にテトラプロポキシジルコニウム、テトラブトキ
シジルコニウムなどのＺｒ（ＯＲ）4 化合物が好まし
く、これらを２種以上混合して用いても差し支えない。
また、前記２, ４−ペンタンジオナト配位子またはその
誘導 体、ベンゾイルメタナト配位子、ベンゾイルアセ
トナト配位子またはその誘導体の具体例としたは、テト
ラ（２, ４−ペンタンジオナト）ジルコニウム、トリ
（２, ４−ペンタンジオナト）クロライドジルコニウ
ム、ジ（２, ４−ペンタンジオナト）ジクロライドジル
コニウム、（２, ４−ペンタンジオナト）トリクロライ
ドジルコニウム、ジ（２, ４−ペンタンジオナト）ジエ
トキサイドジルコニウム、ジ（２, ４−ペンタンジオナ
ト）ジ- ｎ- プロポキサイドジルコニウム、ジ（２, ４
ーペンタンジオナト）ジ- ｎ- ブトキサイドジルコニウ
ム、ジ（２, ４−ペンタンジオナト）ジベンジルジルコ
ニウム、ジ（２, ４−ペンタンジオナト）ジネオフイル
ジルコニウム、テトラ（ジベンゾイルメタナト）ジルコ
ニウム、ジ（ジベンゾイルメタナト）ジエトキサイドジ
ルコニウム、ジ（ジベンゾイルメタナト）ジ−ｎ−プロ
ポキサイドジルコニウム、ジ（ジベンゾイルメタナト）
ジ−ｎ−ブトキサイドジルコニウム、ジ（ベンゾイルア
セトナト）ジエトキサイドジルコニウム、ジ（ベンゾイ
ルアセトナト）ジ−ｎ−プロポキサイドジルコニウム、
ジ（ベンゾイルアセトナト）ジ−ｎ−ブトキサイドジル
コニウム等があげられる。
【００３０】上記触媒成分ａ２の一般式Ｍｅ2 Ｒ4 m（Ｏ
Ｒ5 ）n Ｘ2 z-m-nで表される化合物の式中Ｍｅ2 は周期
律表第Ｉ〜III 族元素を示し、リチウム、ナトリウム、
カリウム、マグネシウム、カルシウム、亜鉛、ホウ素、
アルミニウムなどである。Ｒ4 およびＲ5 はそれぞれ炭
素数１〜２４の炭化水素基、好ましくは炭素数１〜１
２、更に好ましくは１〜８であり、具体的にはメチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基
などのアルキル基；ビニル基、アリル基などのアルケニ
ル基；フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル
基、インデニル基、ナフチル基などのアリール基；ベン
ジル基、トリチル基、フェネチル基、スチリル基、ベン
ズヒドリル基、フェニルブチル基、ネオフイル基などの
アラルキル基などが挙げられる。これらは分岐があって
もよい。Ｘ2 はフッ素、ヨウ素、塩素および臭素 など
のハロゲン原子または水素原子を示すものである。ただ
し、Ｘ2が水素原子の場合はＭｅ２はホウ素、アルミニ
ウムなどに例示される周期律表第■族元素の場合に限る
ものである。また、ｚはＭｅ 2の価数を示し、ｍおよび
ｎはそれぞれ、０≦ｍ≦ｚ、０≦ｎ≦ｚの範囲を満たす
整数であり、かつ、０≦ｍ＋ｎ≦ｚである。
Ｒ5 ）n Ｘ2 z-m-nで表される化合物の式中Ｍｅ2 は周期
律表第Ｉ〜III 族元素を示し、リチウム、ナトリウム、
カリウム、マグネシウム、カルシウム、亜鉛、ホウ素、
アルミニウムなどである。Ｒ4 およびＲ5 はそれぞれ炭
素数１〜２４の炭化水素基、好ましくは炭素数１〜１
２、更に好ましくは１〜８であり、具体的にはメチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基
などのアルキル基；ビニル基、アリル基などのアルケニ
ル基；フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル
基、インデニル基、ナフチル基などのアリール基；ベン
ジル基、トリチル基、フェネチル基、スチリル基、ベン
ズヒドリル基、フェニルブチル基、ネオフイル基などの
アラルキル基などが挙げられる。これらは分岐があって
もよい。Ｘ2 はフッ素、ヨウ素、塩素および臭素 など
のハロゲン原子または水素原子を示すものである。ただ
し、Ｘ2が水素原子の場合はＭｅ２はホウ素、アルミニ
ウムなどに例示される周期律表第■族元素の場合に限る
ものである。また、ｚはＭｅ 2の価数を示し、ｍおよび
ｎはそれぞれ、０≦ｍ≦ｚ、０≦ｎ≦ｚの範囲を満たす
整数であり、かつ、０≦ｍ＋ｎ≦ｚである。
【００３１】上記触媒成分ａ２の一般式で示される化合
物の例としては、メチルリチウム、エチルリチウムなど
の有機リチウム化合物；ジメチルマグネシウム、ジエチ
ルマグネシウム、メチルマグネシウムクロライド、エチ
ルマグネシウムクロライドなどの有機マグネシウム化合
物；ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛などの有機亜鉛化合
物；トリメチルボロン、トリエチルボロンなどの有機ボ
ロン化合物；トリメチルアルミニウム、トリエチルアル
ミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシル
アルミニウム、トリデシルアルミニウム、ジエチルアル
ミニウムクロライド、エチルアルミニウムジクロライ
ド、エチルアルミニウムセスキクロライド、ジエチルア
ルミニウムエトキサイド、ジエチルアルミニウムハイド
ライドなどの有機アルミニウム化合物等の誘導体が挙げ
られる。
物の例としては、メチルリチウム、エチルリチウムなど
の有機リチウム化合物；ジメチルマグネシウム、ジエチ
ルマグネシウム、メチルマグネシウムクロライド、エチ
ルマグネシウムクロライドなどの有機マグネシウム化合
物；ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛などの有機亜鉛化合
物；トリメチルボロン、トリエチルボロンなどの有機ボ
ロン化合物；トリメチルアルミニウム、トリエチルアル
ミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシル
アルミニウム、トリデシルアルミニウム、ジエチルアル
ミニウムクロライド、エチルアルミニウムジクロライ
ド、エチルアルミニウムセスキクロライド、ジエチルア
ルミニウムエトキサイド、ジエチルアルミニウムハイド
ライドなどの有機アルミニウム化合物等の誘導体が挙げ
られる。
【００３２】上記触媒成分ａ3 の共役二重結合を持つ有
機環状化合物は、環状でそれぞれが共役する二重結合を
２個以上、好ましくは２〜４個、更に好ましくは２〜３
個有する環を１個または２個以上もち、全炭素数が４〜
２４、好ましくは４〜１２である環状炭化水素化合物；
前記環状炭化水素化合物が部分的に１〜６個の炭化水素
残基（典型的には、炭素数１〜１２のアルキル基または
アラルキル基）で置換された環状炭化水素化合物；それ
ぞれが共役する二重結合を２個以上、好ましくは２〜４
個、更に好ましくは２〜３個有する環を１個または２個
以上もち、全炭素数が４〜２４、好ましくは４〜１２で
ある環状炭化水素基を有する有機ケイ素化合物；前記環
状炭化水素基が部分的に１〜６個の炭化水素残基または
アルカリ金属塩（ナトリウムまたはリチウム塩）で置換
された有機ケイ素化合物が含まれる。特に好ましくは分
子中のいずれかにシクロペンタジエン構造をもつものが
望ましい。
機環状化合物は、環状でそれぞれが共役する二重結合を
２個以上、好ましくは２〜４個、更に好ましくは２〜３
個有する環を１個または２個以上もち、全炭素数が４〜
２４、好ましくは４〜１２である環状炭化水素化合物；
前記環状炭化水素化合物が部分的に１〜６個の炭化水素
残基（典型的には、炭素数１〜１２のアルキル基または
アラルキル基）で置換された環状炭化水素化合物；それ
ぞれが共役する二重結合を２個以上、好ましくは２〜４
個、更に好ましくは２〜３個有する環を１個または２個
以上もち、全炭素数が４〜２４、好ましくは４〜１２で
ある環状炭化水素基を有する有機ケイ素化合物；前記環
状炭化水素基が部分的に１〜６個の炭化水素残基または
アルカリ金属塩（ナトリウムまたはリチウム塩）で置換
された有機ケイ素化合物が含まれる。特に好ましくは分
子中のいずれかにシクロペンタジエン構造をもつものが
望ましい。
【００３３】上記の環状炭化水素化合物の好適な化合物
としては、シクロペンタジエン、インデン、アズレンま
たはこれらのアルキル、アリール、アラルキル、アルコ
キシまたはアリールオキシ誘導体などが挙げられる。ま
た、これらの化合物がアルキレン基（その炭素数は通常
２〜８、好ましくは２〜３）を介して結合（架橋）した
化合物も好適に用いられる。
としては、シクロペンタジエン、インデン、アズレンま
たはこれらのアルキル、アリール、アラルキル、アルコ
キシまたはアリールオキシ誘導体などが挙げられる。ま
た、これらの化合物がアルキレン基（その炭素数は通常
２〜８、好ましくは２〜３）を介して結合（架橋）した
化合物も好適に用いられる。
【００３４】環状炭化水素基を有する有機ケイ素化合物
は、下記一般式で表示することができる。ＡL ＳｉＲ
4-Lここで、Ａはシクロペンタジエニル基、置換シクロ
ペンタジエニル基、インデニル基、置換インデニル基で
例示される前記環状水素基を示し、Ｒはメチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基などのア
ルキル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブ
トキシ基などのアルコキシ基；フェニル基などのアリー
ル基；フェノキシ基などのアリールオキシ基；ベンジル
基などのアラルキル基で示され、炭素数１〜２４、好ま
しくは１〜１２の炭化水素残基または水素を示し、Ｌは
１≦Ｌ≦４、好ましくは１≦Ｌ≦３である。
は、下記一般式で表示することができる。ＡL ＳｉＲ
4-Lここで、Ａはシクロペンタジエニル基、置換シクロ
ペンタジエニル基、インデニル基、置換インデニル基で
例示される前記環状水素基を示し、Ｒはメチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基などのア
ルキル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブ
トキシ基などのアルコキシ基；フェニル基などのアリー
ル基；フェノキシ基などのアリールオキシ基；ベンジル
基などのアラルキル基で示され、炭素数１〜２４、好ま
しくは１〜１２の炭化水素残基または水素を示し、Ｌは
１≦Ｌ≦４、好ましくは１≦Ｌ≦３である。
【００３５】上記成分ａ3 の有機環状炭化水素化合物の
具体例として、シクロペンタジエン、メチルシクロペン
タジエン、エチルシクロペンタジエン、１, ３−ジメチ
ルシクロペンタジエン、インデン、４−メチル−１−イ
ンデン、４, ７−ジメチルインデン、シクロヘプタトリ
エン、メチルシクロヘプタトリエン、シクロオクタテト
ラエン、アズレン、フルオレン、メチルフルオレンのよ
うな炭素数５〜２４のシクロポリエンまたは置換シクロ
ポリエンが挙げられ、また環状炭化水素基を有するケイ
素化合物の具体例としては、モノシクロペンタジエニル
シラン、ビスシクロペンタジエニルシラン、トリスシモ
ロペンタジエニルシラン、モノインデニルシラン、ビス
インデニルシラン、トリスインデニルシランなどが挙げ
られる。
具体例として、シクロペンタジエン、メチルシクロペン
タジエン、エチルシクロペンタジエン、１, ３−ジメチ
ルシクロペンタジエン、インデン、４−メチル−１−イ
ンデン、４, ７−ジメチルインデン、シクロヘプタトリ
エン、メチルシクロヘプタトリエン、シクロオクタテト
ラエン、アズレン、フルオレン、メチルフルオレンのよ
うな炭素数５〜２４のシクロポリエンまたは置換シクロ
ポリエンが挙げられ、また環状炭化水素基を有するケイ
素化合物の具体例としては、モノシクロペンタジエニル
シラン、ビスシクロペンタジエニルシラン、トリスシモ
ロペンタジエニルシラン、モノインデニルシラン、ビス
インデニルシラン、トリスインデニルシランなどが挙げ
られる。
【００３６】触媒成分ａ４のＡｌ−Ｏ−Ａｌ結合を含む
変性有機アルミニウムオキシ化合物とは、アルキルアル
ミニウム化合物と水とを反応させることにより、通常ア
ルミノキサンと称される変性有機アルミニウムオキシ化
合物が得られ、分子中に通常１〜１００個、好ましくは
１〜５０個のＡｌ−Ｏ−Ａｌ結合を含有する。また、変
性有機アルミニウムオキシ化合物は線状でも環状でもい
ずれでもよい。
変性有機アルミニウムオキシ化合物とは、アルキルアル
ミニウム化合物と水とを反応させることにより、通常ア
ルミノキサンと称される変性有機アルミニウムオキシ化
合物が得られ、分子中に通常１〜１００個、好ましくは
１〜５０個のＡｌ−Ｏ−Ａｌ結合を含有する。また、変
性有機アルミニウムオキシ化合物は線状でも環状でもい
ずれでもよい。
【００３７】変性有機アルミニウムオキシ化合物製造の
ため、有機アルミニウムと水との反応は通常不活性炭化
水素中で行われる。該不活性炭化水素としては、ペンタ
ン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、ベンゼン、
トルエン、キシレン等の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水
素が好ましい。水と有機アルミニウム化合物との反応比
（水／Ａｌモル比）は通常０. ２５／１〜１. ２／１、
好ましくは０. ５／１〜１／１であることが望ましい。
ため、有機アルミニウムと水との反応は通常不活性炭化
水素中で行われる。該不活性炭化水素としては、ペンタ
ン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、ベンゼン、
トルエン、キシレン等の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水
素が好ましい。水と有機アルミニウム化合物との反応比
（水／Ａｌモル比）は通常０. ２５／１〜１. ２／１、
好ましくは０. ５／１〜１／１であることが望ましい。
【００３８】また触媒成分ａ4 のホウ素化合物として
は、テトラ（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸トリエチ
ルアルミニウム（トリエチルアンモニウムテトラ（ペン
タフルオロフェニル）ボレート、テトラ（ペンタフルオ
ロフェニル）ホウ酸ジメチルアニリニウム（ジメチルア
ニリニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、ブチルアンモニウムテトラ（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート、Ｎ, Ｎージメチルアニリニウムテトラ
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ, Ｎージメチ
ルアニリニウムテトラ（３, ５ージフルオロフェニル）
ボレート等が挙げられる。
は、テトラ（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸トリエチ
ルアルミニウム（トリエチルアンモニウムテトラ（ペン
タフルオロフェニル）ボレート、テトラ（ペンタフルオ
ロフェニル）ホウ酸ジメチルアニリニウム（ジメチルア
ニリニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、ブチルアンモニウムテトラ（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート、Ｎ, Ｎージメチルアニリニウムテトラ
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ, Ｎージメチ
ルアニリニウムテトラ（３, ５ージフルオロフェニル）
ボレート等が挙げられる。
【００３９】上記触媒はａ１〜ａ４を混合接触させて使
用することもできるが、好ましくは無機担体および／ま
たは粒子状ポリマー担体（ａ５）に担持させて使用する
ことが望ましい。該無機物担体としては、炭素質物、金
属、金属酸化物、金属塩化物、金属炭酸塩またはこれら
の混合物が、また粒子状ポリマー担体としては熱可塑性
樹脂、熱硬化性樹脂等が挙げられる。該無機物担体に用
いることができる好適な金属としては、鉄、アルミニウ
ム、ニッケルなどが挙げられる。具体的には、ＳｉＯ
2 、Ａｌ2 Ｏ3 、ＭｇＯ、ＺｒＯ2 、ＴｉＯ2 、Ｂ2 Ｏ
3 、ＣａＯ、ＺｎＯ、ＢａＯ、ＴｈＯ2 等またはこれら
の混合物が挙げられ、ＳｉＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2
−Ｖ2 Ｏ5 、ＳｉＯ2 −ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 −Ｖ2 Ｏ
5 、ＳｉＯ2 −ＭｇＯ、ＳｉＯ2 −Ｃｒ2 Ｏ3 等が挙げ
られる。これらの中でもＳｉＯ2 およびＡｌ2 Ｏ3 から
なる群から選択された少なくとも１種の成分を主成分と
するものが好ましい。また、粒子状ポリマー担体として
は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂のいずれも使用でき、
具体的には、粒子状のポリオレフィン、ポリエステル、
ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリ（メタ）アクリル酸
メチル、ポリスチレン、ポリノルボルネン、各種天然高
分子およびこれらの混合物等が挙げられる。
用することもできるが、好ましくは無機担体および／ま
たは粒子状ポリマー担体（ａ５）に担持させて使用する
ことが望ましい。該無機物担体としては、炭素質物、金
属、金属酸化物、金属塩化物、金属炭酸塩またはこれら
の混合物が、また粒子状ポリマー担体としては熱可塑性
樹脂、熱硬化性樹脂等が挙げられる。該無機物担体に用
いることができる好適な金属としては、鉄、アルミニウ
ム、ニッケルなどが挙げられる。具体的には、ＳｉＯ
2 、Ａｌ2 Ｏ3 、ＭｇＯ、ＺｒＯ2 、ＴｉＯ2 、Ｂ2 Ｏ
3 、ＣａＯ、ＺｎＯ、ＢａＯ、ＴｈＯ2 等またはこれら
の混合物が挙げられ、ＳｉＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2
−Ｖ2 Ｏ5 、ＳｉＯ2 −ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 −Ｖ2 Ｏ
5 、ＳｉＯ2 −ＭｇＯ、ＳｉＯ2 −Ｃｒ2 Ｏ3 等が挙げ
られる。これらの中でもＳｉＯ2 およびＡｌ2 Ｏ3 から
なる群から選択された少なくとも１種の成分を主成分と
するものが好ましい。また、粒子状ポリマー担体として
は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂のいずれも使用でき、
具体的には、粒子状のポリオレフィン、ポリエステル、
ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリ（メタ）アクリル酸
メチル、ポリスチレン、ポリノルボルネン、各種天然高
分子およびこれらの混合物等が挙げられる。
【００４０】上記無機物担体および／または粒子状ポリ
マー担体は、このまま使用することもできるが、好まし
くは予備処理としてこれらの担体を有機アルミニウム化
合物やＡｌ−Ｏ−Ａｌ結合を含む変性有機アルミニウム
化合物などに接触処理させた後に成分ａ5 として用いる
こともできる。
マー担体は、このまま使用することもできるが、好まし
くは予備処理としてこれらの担体を有機アルミニウム化
合物やＡｌ−Ｏ−Ａｌ結合を含む変性有機アルミニウム
化合物などに接触処理させた後に成分ａ5 として用いる
こともできる。
【００４１】上記本発明のエチレン（共）重合体は分子
量分布および組成分布が比較的狭いため、機械的強度が
強く、ヒートシール性、抗ブロッキング性に優れ、しか
も耐熱性の良い重合体であり、重合時の触媒成分を実質
的に塩素等のハロゲンを含まないものとすると、得られ
る重合体にもこれらハロゲンが含まれず、したがって化
学的安定性、衛生性が優れ、特に食品包装材、医療用包
装材等に好適なものである。
量分布および組成分布が比較的狭いため、機械的強度が
強く、ヒートシール性、抗ブロッキング性に優れ、しか
も耐熱性の良い重合体であり、重合時の触媒成分を実質
的に塩素等のハロゲンを含まないものとすると、得られ
る重合体にもこれらハロゲンが含まれず、したがって化
学的安定性、衛生性が優れ、特に食品包装材、医療用包
装材等に好適なものである。
【００４２】本発明に使用するエチレン（共）重合体
は、前記触媒の存在下、実質的に溶媒の存在しない気相
重合法、スラリー重合法、溶液重合法等で製造すれば得
られ、実質的に酸素、水等を断った状態で、ブタン、ペ
ンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、シクロ
ヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環族炭化水素等
に例示される不活性炭化水素溶媒の存在下または不存在
下で製造される。重合条件は特に限定されないが、重合
温度は通常１５〜３５０℃、好ましくは２０〜２００
℃、更に好ましくは５０〜１１０℃であり、重合圧力は
低中圧法の場合通常常圧〜７０ｋｇ／ｃｍ2 Ｇ、好まし
くは常圧〜２０ｋｇ／ｃｍ2 Ｇであり、高圧法の場合通
常１５００ｋｇ／ｃｍ2 Ｇ以下が望ましい。重合時間は
低中圧法の場合通常３分〜１０時間、好ましくは５分〜
５時間程度が望ましい。高圧法の場合、通常１分〜３０
分、好ましくは２分〜２０分程度が望ましい。また、重
合は一段重合法はもちろん、水素濃度、モノマー濃度、
重合圧力、重合温度、触媒等の重合条件が互いに異なる
２段階以上の多段重合法など特に限定されるものではな
い。
は、前記触媒の存在下、実質的に溶媒の存在しない気相
重合法、スラリー重合法、溶液重合法等で製造すれば得
られ、実質的に酸素、水等を断った状態で、ブタン、ペ
ンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、シクロ
ヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環族炭化水素等
に例示される不活性炭化水素溶媒の存在下または不存在
下で製造される。重合条件は特に限定されないが、重合
温度は通常１５〜３５０℃、好ましくは２０〜２００
℃、更に好ましくは５０〜１１０℃であり、重合圧力は
低中圧法の場合通常常圧〜７０ｋｇ／ｃｍ2 Ｇ、好まし
くは常圧〜２０ｋｇ／ｃｍ2 Ｇであり、高圧法の場合通
常１５００ｋｇ／ｃｍ2 Ｇ以下が望ましい。重合時間は
低中圧法の場合通常３分〜１０時間、好ましくは５分〜
５時間程度が望ましい。高圧法の場合、通常１分〜３０
分、好ましくは２分〜２０分程度が望ましい。また、重
合は一段重合法はもちろん、水素濃度、モノマー濃度、
重合圧力、重合温度、触媒等の重合条件が互いに異なる
２段階以上の多段重合法など特に限定されるものではな
い。
【００４３】本発明のフイルムは、上記新規なエチレン
（共）重合体からなるインフレーションフィルムであっ
て、該フィルム中のＴＤに沿って形成される結晶ラメラ
にする起因する長周期Ｌ（ラメラ間距離）１７５〜２１
５（Å）、より好ましくは１８０〜２１０（Å）、更に
好ましくは１８５〜２０５（Å）の範囲である。フイル
ム中のＴＤ方向に沿って形成された結晶ラメラの厚みが
５９〜９６（Å）、より好ましくは６４〜８６（Å）、
更に好ましくは６９〜８６（Å）の範囲である。フイル
ム中のＴＤ方向に沿って形成された非晶部の厚みが１０
６〜１２９（Å）、より好ましくは１１１〜１２４
（Å）、更に好ましくは１１６〜１１９（Å）の範囲で
ある。この範囲であれば強度が高く、フイルムのＭＤの
引裂強度が２０Ｋｇｆ／ｃｍ以上、ＴＤの引裂強度が６
０Ｋｇｆ／ｃｍ以上の強度バランスのよいフイルムがで
き、かつ低温ヒートシール性に優れ、フイルムのヒート
シール温度が、１１０℃以下、ヒートシール強度を０．
６Ｋｇ／１５ｍｍ幅以上であるフイルムを得ることが可
能である。上記のエチレン（共）重合体を用いて、長周
期Ｌが１７５（Å）以下のものを生成するためには、急
冷却が必要となり、既存のインフレーション成形装置で
製造方法することは難しく、とりわけ生産速度が極端に
低下し実用的でない。長周期L が２１５（Å）以上では
結晶ラメラ間に挿入されるタイ分子の数が減少し強度が
弱くなる。
（共）重合体からなるインフレーションフィルムであっ
て、該フィルム中のＴＤに沿って形成される結晶ラメラ
にする起因する長周期Ｌ（ラメラ間距離）１７５〜２１
５（Å）、より好ましくは１８０〜２１０（Å）、更に
好ましくは１８５〜２０５（Å）の範囲である。フイル
ム中のＴＤ方向に沿って形成された結晶ラメラの厚みが
５９〜９６（Å）、より好ましくは６４〜８６（Å）、
更に好ましくは６９〜８６（Å）の範囲である。フイル
ム中のＴＤ方向に沿って形成された非晶部の厚みが１０
６〜１２９（Å）、より好ましくは１１１〜１２４
（Å）、更に好ましくは１１６〜１１９（Å）の範囲で
ある。この範囲であれば強度が高く、フイルムのＭＤの
引裂強度が２０Ｋｇｆ／ｃｍ以上、ＴＤの引裂強度が６
０Ｋｇｆ／ｃｍ以上の強度バランスのよいフイルムがで
き、かつ低温ヒートシール性に優れ、フイルムのヒート
シール温度が、１１０℃以下、ヒートシール強度を０．
６Ｋｇ／１５ｍｍ幅以上であるフイルムを得ることが可
能である。上記のエチレン（共）重合体を用いて、長周
期Ｌが１７５（Å）以下のものを生成するためには、急
冷却が必要となり、既存のインフレーション成形装置で
製造方法することは難しく、とりわけ生産速度が極端に
低下し実用的でない。長周期L が２１５（Å）以上では
結晶ラメラ間に挿入されるタイ分子の数が減少し強度が
弱くなる。
【００４４】結晶ラメラの厚みが５９（Å）以下ではフ
イルムの弾性率が低下し腰がなくなる。また、抗ブロッ
キング性が低下し、フイルムチューブの開口性が低下す
る。結晶ラメラの厚みが９６（Å）以上では、低温ヒー
トシール性が低下する（ヒートシール温度が高くな
る）。非晶部の厚みが１０６（Å）以下では耐衝撃強度
が低下し、非晶部の厚みが１２９（Å）以上では、引張
伸び（伸度）が大きくなり、袋等の包装材料として実用
的でない。本発明の長周期Ｌは、一般に用いられている
小角Ｘ線回析装置（リガク社製）を用いて測定すること
ができる。長周期Ｌは上記装置を用い、出力４０Ｋｖ、
４０ｍＡ、測定時間０．０１゜／ｍｉｎの条件で２θが
０．１５゜〜１．０゜まで５回測定した（一試料の所要
時間は約７時間である）。長周期Ｌは以下の式で計算さ
れる。 長周期Ｌ＝λ／２ｓｉｎθ、（θ＝長周期回折ピークに
対応する角度、λ＝０．１５４ｎｍで、Ｘ線の波長であ
る） 結晶ラメラの厚さは、結晶ラメラの厚さをＬｃ、非晶部
の厚さをＬａ、断面積Ｓとすると結晶、非晶の２相構造
を仮定した場合の結晶化度Ｘｃは次式で表される（図３
参照）。 Ｘｃ＝ｄｃＬｃＳ／（ｄｃＬｃＳ＋ｄａＬａＳ）・・・・・式（１） 式（１）より Ｌｃ＝ＸｃｄａＬ／（（１ーＸｃ）ｄｃ＋Ｘｃｄａ）・・・・式（２） で計算される。ここで長周期Ｌ＝Ｌｃ＋Ｌａ、結晶化度
Ｘｃはそれぞれ小角と広角Ｘ線回折で測定される。ｄｃ
＝１．０、ｄａ＝０．８６はそれぞれ結晶と非晶の密度
である。
イルムの弾性率が低下し腰がなくなる。また、抗ブロッ
キング性が低下し、フイルムチューブの開口性が低下す
る。結晶ラメラの厚みが９６（Å）以上では、低温ヒー
トシール性が低下する（ヒートシール温度が高くな
る）。非晶部の厚みが１０６（Å）以下では耐衝撃強度
が低下し、非晶部の厚みが１２９（Å）以上では、引張
伸び（伸度）が大きくなり、袋等の包装材料として実用
的でない。本発明の長周期Ｌは、一般に用いられている
小角Ｘ線回析装置（リガク社製）を用いて測定すること
ができる。長周期Ｌは上記装置を用い、出力４０Ｋｖ、
４０ｍＡ、測定時間０．０１゜／ｍｉｎの条件で２θが
０．１５゜〜１．０゜まで５回測定した（一試料の所要
時間は約７時間である）。長周期Ｌは以下の式で計算さ
れる。 長周期Ｌ＝λ／２ｓｉｎθ、（θ＝長周期回折ピークに
対応する角度、λ＝０．１５４ｎｍで、Ｘ線の波長であ
る） 結晶ラメラの厚さは、結晶ラメラの厚さをＬｃ、非晶部
の厚さをＬａ、断面積Ｓとすると結晶、非晶の２相構造
を仮定した場合の結晶化度Ｘｃは次式で表される（図３
参照）。 Ｘｃ＝ｄｃＬｃＳ／（ｄｃＬｃＳ＋ｄａＬａＳ）・・・・・式（１） 式（１）より Ｌｃ＝ＸｃｄａＬ／（（１ーＸｃ）ｄｃ＋Ｘｃｄａ）・・・・式（２） で計算される。ここで長周期Ｌ＝Ｌｃ＋Ｌａ、結晶化度
Ｘｃはそれぞれ小角と広角Ｘ線回折で測定される。ｄｃ
＝１．０、ｄａ＝０．８６はそれぞれ結晶と非晶の密度
である。
【００４５】上述のように、本発明のインフレーション
フイルムは、従来のＬＬＤＰＥに比較して結晶ラメラ間
距離が小さく、ラメラ間を結ぶタイ分子（ｔｉｅ ｍｏ
ｕｌｅｃｕｌｅｓ）の密度が高くなり、縦・横の強度バ
ランスもよくなるものと考察している。更に、結晶厚み
（サイズ）が小さくなることにより目的とする低温ヒー
トシール性の良好なフイルムの提供を可能とするもので
ある。また、本発明のフイルムの特徴は抗酸化剤、熱安
定剤等の添加剤を必要とせずに成形することが可能であ
り、不純物のないフイルムが提供でき、医薬、包装等の
分野に活用がされるが、本発明の目的を損なわない範囲
で、必要に応じて高圧ラジカル重合による低密度ポリエ
チレンなどの他の合成樹脂、帯電防止剤、酸化防止剤、
滑剤、抗ブロッキング剤、防曇剤、有機あるいは無機系
顔料、紫外線防止剤、分散剤などの公知の添加剤を添加
することができる。本発明のインフレーションフィルム
は、一般的にはその扱い易さから厚さが１０〜２００μ
ｍ、好ましくは３０〜１００μｍの範囲で選択される。
フイルムは、従来のＬＬＤＰＥに比較して結晶ラメラ間
距離が小さく、ラメラ間を結ぶタイ分子（ｔｉｅ ｍｏ
ｕｌｅｃｕｌｅｓ）の密度が高くなり、縦・横の強度バ
ランスもよくなるものと考察している。更に、結晶厚み
（サイズ）が小さくなることにより目的とする低温ヒー
トシール性の良好なフイルムの提供を可能とするもので
ある。また、本発明のフイルムの特徴は抗酸化剤、熱安
定剤等の添加剤を必要とせずに成形することが可能であ
り、不純物のないフイルムが提供でき、医薬、包装等の
分野に活用がされるが、本発明の目的を損なわない範囲
で、必要に応じて高圧ラジカル重合による低密度ポリエ
チレンなどの他の合成樹脂、帯電防止剤、酸化防止剤、
滑剤、抗ブロッキング剤、防曇剤、有機あるいは無機系
顔料、紫外線防止剤、分散剤などの公知の添加剤を添加
することができる。本発明のインフレーションフィルム
は、一般的にはその扱い易さから厚さが１０〜２００μ
ｍ、好ましくは３０〜１００μｍの範囲で選択される。
【００４６】本発明におけるインフレーション成形と
は、一般には１２０〜２５０℃、好ましくは１２０〜１
８０℃の範囲の温度で、押出機によりサーキュラーダイ
を通して押し出し、空冷式エアーリングより吹き出す空
気に接触させて急冷し、固化させてピンチロールで引き
取った後、枠に巻き取ることにより行なわれる。特に抗
酸化剤・安定剤等の添加剤を使用しない場合には、１２
０〜１８０℃の温度範囲の低温成形することが望まし
い。該成形条件としては、フィルムの引取速度２０〜１
２０ｍ／分とし、ブローアップ比は２．０〜４．０、好
ましくは２．２〜３．０の範囲で選択される。ブローア
ップ比が２．０未満ではフィルム中のＴＤに沿って形成
される結晶ラメラにする起因する長周期Ｌ（ラメラ間距
離）１７５〜２１５（Å）の範囲に制御することが難し
い。特にフィルム中のＴＤに沿って形成される結晶ラメ
ラにする起因する長周期Ｌ（ラメラ間距離）が２１５
（Å）以上となり、優れた強度、縦・横の強度バランス
を発現することができない。一方、ブローアップ比が
４．０を超えると成形時にバブルの振動が大きくなり、
成形安定性が失われる。
は、一般には１２０〜２５０℃、好ましくは１２０〜１
８０℃の範囲の温度で、押出機によりサーキュラーダイ
を通して押し出し、空冷式エアーリングより吹き出す空
気に接触させて急冷し、固化させてピンチロールで引き
取った後、枠に巻き取ることにより行なわれる。特に抗
酸化剤・安定剤等の添加剤を使用しない場合には、１２
０〜１８０℃の温度範囲の低温成形することが望まし
い。該成形条件としては、フィルムの引取速度２０〜１
２０ｍ／分とし、ブローアップ比は２．０〜４．０、好
ましくは２．２〜３．０の範囲で選択される。ブローア
ップ比が２．０未満ではフィルム中のＴＤに沿って形成
される結晶ラメラにする起因する長周期Ｌ（ラメラ間距
離）１７５〜２１５（Å）の範囲に制御することが難し
い。特にフィルム中のＴＤに沿って形成される結晶ラメ
ラにする起因する長周期Ｌ（ラメラ間距離）が２１５
（Å）以上となり、優れた強度、縦・横の強度バランス
を発現することができない。一方、ブローアップ比が
４．０を超えると成形時にバブルの振動が大きくなり、
成形安定性が失われる。
【００４７】また、インフレーション成形時のフロスト
ライン高さは１００ｍｍ〜７００ｍｍ、好ましくは３０
０ｍｍ〜６００ｍｍの範囲である。フロストライン高さ
が、１００ｍっ未満では強い風量の冷却エアーが必要と
なり、成形時のバブルの振動が大きくなり、成形安定性
が失われる。フロストライン高さが７００ｍｍを超える
と弱い風量の冷却エアーでバブルを徐冷されるため、フ
イルム中のＴＤ方向に沿って形成された結晶ラメラに起
因する長周期Ｌを１７５〜２１５（Å）の範囲にするこ
とが困難となる。特に徐冷する時は長周期Ｌが２１５
（Å）以上の粒径となり、優れた強度を発現することが
できない。
ライン高さは１００ｍｍ〜７００ｍｍ、好ましくは３０
０ｍｍ〜６００ｍｍの範囲である。フロストライン高さ
が、１００ｍっ未満では強い風量の冷却エアーが必要と
なり、成形時のバブルの振動が大きくなり、成形安定性
が失われる。フロストライン高さが７００ｍｍを超える
と弱い風量の冷却エアーでバブルを徐冷されるため、フ
イルム中のＴＤ方向に沿って形成された結晶ラメラに起
因する長周期Ｌを１７５〜２１５（Å）の範囲にするこ
とが困難となる。特に徐冷する時は長周期Ｌが２１５
（Å）以上の粒径となり、優れた強度を発現することが
できない。
【００４８】上記抗酸化剤、熱安定剤などの添加剤を使
用しない低温成形においては、１２０〜１８０℃、好ま
しくは１４０〜１７０℃、より好ましくは１５０〜１６
０の温度範囲で成形することが望ましい。該成形温度１
２０℃以下ではメルトフラクチャーやサージング（押出
変動）が発生する。一方１８０℃以上では抗酸化剤・熱
安定剤等の添加剤を使用しないと酸化劣化等を主因とす
るゲル、フィッシュアイが発生する。
用しない低温成形においては、１２０〜１８０℃、好ま
しくは１４０〜１７０℃、より好ましくは１５０〜１６
０の温度範囲で成形することが望ましい。該成形温度１
２０℃以下ではメルトフラクチャーやサージング（押出
変動）が発生する。一方１８０℃以上では抗酸化剤・熱
安定剤等の添加剤を使用しないと酸化劣化等を主因とす
るゲル、フィッシュアイが発生する。
【００４９】
（本発明のエチレン共重合体の製造） （固体触媒の調製）窒素下で電磁誘導撹拌機付き触媒調
製器（Ｎｏ．１）に精製トルエンを加え、ついでジプロ
ポキシジクロロジルコニウム（Ｚｒ（ＯＰｒ）2 Ｃｌ
2 ）２８ｇおよびメチルシクロペンタジエン４８ｇを加
え、０℃に系を保持しながらトリデシルアルミニウムを
４５ｇを滴下し、滴下終了後、反応系を５０℃に保持し
て１６時間撹拌した。この溶液をＡ液とする。次に窒素
下で別の撹拌器付き触媒調製器（Ｎｏ．２）に精製トル
エンを加え、前記Ａ溶液と、ついでメチルアルミノキサ
ン６．４ｍｏｌのトルエン溶液を添加し反応させた。こ
れをＢ液とする。次に窒素下で撹拌器付き調製器（Ｎ
ｏ．１）に精製トルエンを加え、ついであらかじめ４０
０℃で所定時間焼成処理したシリカ（富士デビソン社
製、グレード＃９５２、表面積３００ｍ2 ／ｇ）１４０
０ｇを加えた後、前記Ｂ溶液の全量を添加し、室温で撹
拌した。ついで窒素ブローにて溶媒を除去して流動性の
良い固体触媒粉末を得た。これを触媒Ｃとする。
製器（Ｎｏ．１）に精製トルエンを加え、ついでジプロ
ポキシジクロロジルコニウム（Ｚｒ（ＯＰｒ）2 Ｃｌ
2 ）２８ｇおよびメチルシクロペンタジエン４８ｇを加
え、０℃に系を保持しながらトリデシルアルミニウムを
４５ｇを滴下し、滴下終了後、反応系を５０℃に保持し
て１６時間撹拌した。この溶液をＡ液とする。次に窒素
下で別の撹拌器付き触媒調製器（Ｎｏ．２）に精製トル
エンを加え、前記Ａ溶液と、ついでメチルアルミノキサ
ン６．４ｍｏｌのトルエン溶液を添加し反応させた。こ
れをＢ液とする。次に窒素下で撹拌器付き調製器（Ｎ
ｏ．１）に精製トルエンを加え、ついであらかじめ４０
０℃で所定時間焼成処理したシリカ（富士デビソン社
製、グレード＃９５２、表面積３００ｍ2 ／ｇ）１４０
０ｇを加えた後、前記Ｂ溶液の全量を添加し、室温で撹
拌した。ついで窒素ブローにて溶媒を除去して流動性の
良い固体触媒粉末を得た。これを触媒Ｃとする。
【００５０】（試料の重合）連続式の流動床気相法重合
装置を用い、重合温度７０℃、全圧２０ｋｇｆ／ｃｍ2
Ｇでエチレンと１−ブテンあるいは１−ヘキセンの共重
合を行った。前記触媒Ｃを連続的に供給して重合を行な
い、系内のガス組成を一定に保つため、各ガスを連続的
に供給しながら重合を行った。
装置を用い、重合温度７０℃、全圧２０ｋｇｆ／ｃｍ2
Ｇでエチレンと１−ブテンあるいは１−ヘキセンの共重
合を行った。前記触媒Ｃを連続的に供給して重合を行な
い、系内のガス組成を一定に保つため、各ガスを連続的
に供給しながら重合を行った。
【００５１】（樹脂成分） （Ａ）エチレン・１−ヘキセン共重合体 密度＝０. ９１２ｇ／ｃｍ3 、ＭＦＲ＝０. ７ｇ／１０
分 分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝２．６ 組成分布パラメーターＣｂ＝１．２３ ｄ−0.008logMFR ＝０．９１３ ODCB可溶分（％）＝２．８＜9.8 ×103 ×(0.9300-d+0.
008logMFR)2+2.0 ＴＲＥＦピーク温度＝６９．７℃、９２．１℃ （Ｂ）市販のエチレンー１ーヘキセン共重合体（気相
法：ＵＣＣ法） 密度０．９１７ｇ／ｃｍ3 、ＭＦＲ＝０. ８ｇ／１０分
分 分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝２．６ 組成分布パラメーターＣｂ＝１．２３ ｄ−0.008logMFR ＝０．９１３ ODCB可溶分（％）＝２．８＜9.8 ×103 ×(0.9300-d+0.
008logMFR)2+2.0 ＴＲＥＦピーク温度＝６９．７℃、９２．１℃ （Ｂ）市販のエチレンー１ーヘキセン共重合体（気相
法：ＵＣＣ法） 密度０．９１７ｇ／ｃｍ3 、ＭＦＲ＝０. ８ｇ／１０分
【００５２】上記樹脂を使用して空冷式インフレーショ
ン成形法により下記及び表１に示す条件でフィルムを成
形した。 〈成形条件〉 プラコー製押出機：スクリュー径５５ｍｍφ、ダイス：
７０ｍｍφ、成形温度：１７０℃、フィルム幅：３００
ｍｍ、厚み：３０μｍ
ン成形法により下記及び表１に示す条件でフィルムを成
形した。 〈成形条件〉 プラコー製押出機：スクリュー径５５ｍｍφ、ダイス：
７０ｍｍφ、成形温度：１７０℃、フィルム幅：３００
ｍｍ、厚み：３０μｍ
【００５３】
【表１】
【００５４】得られたフィルムの長周期Ｌ、結晶ラメラ
の厚み、非晶分の厚み、引裂強度、ヒートシール温度等
を測定した結果を表２に示した。 （試験法）長周期Ｌ、結晶ラメラの厚み及び非晶分の厚
み：小角Ｘ線回折装置（リガク社製） 引裂強度：ＪＩＳ Ｐ８１１６ 低温ヒートシール性：テスター産業（株）製ヒートシー
ラーを用い、適宜選択された数点の温度で圧力２Ｋｇ／
ｃｍ2 、シール時間１秒間でヒートシールした。このフ
イルムを試験片の幅１５ｍｍとし、剥離試験速度３００
ｍｍ／ｍｉｎで剥離試験を行った。この際の試験片の剥
離強度が５００ｇとなる温度を内挿により求めた値で表
した。この温度が低い方が低温ヒートシール性に優れる
ものである。
の厚み、非晶分の厚み、引裂強度、ヒートシール温度等
を測定した結果を表２に示した。 （試験法）長周期Ｌ、結晶ラメラの厚み及び非晶分の厚
み：小角Ｘ線回折装置（リガク社製） 引裂強度：ＪＩＳ Ｐ８１１６ 低温ヒートシール性：テスター産業（株）製ヒートシー
ラーを用い、適宜選択された数点の温度で圧力２Ｋｇ／
ｃｍ2 、シール時間１秒間でヒートシールした。このフ
イルムを試験片の幅１５ｍｍとし、剥離試験速度３００
ｍｍ／ｍｉｎで剥離試験を行った。この際の試験片の剥
離強度が５００ｇとなる温度を内挿により求めた値で表
した。この温度が低い方が低温ヒートシール性に優れる
ものである。
【００５５】
【表２】
【００５６】
【発明の効果】本発明のインフレーションフィルムは、
特定の新規エチレン（共）重合体を使用し、フィルム中
の結晶ラメラに起因する長周期Ｌ、結晶ラメラの厚み、
非晶部の厚みを制御することにより、高い強度と縦・横
方向の強度バランスに優れ、低温ヒートシール性に優れ
たフィルムおよび該フィルムの製造方法を提供すること
ができたものである。
特定の新規エチレン（共）重合体を使用し、フィルム中
の結晶ラメラに起因する長周期Ｌ、結晶ラメラの厚み、
非晶部の厚みを制御することにより、高い強度と縦・横
方向の強度バランスに優れ、低温ヒートシール性に優れ
たフィルムおよび該フィルムの製造方法を提供すること
ができたものである。
【図１】本発明に使用するエチレン（共）重合体のＴＲ
ＥＦ曲線。
ＥＦ曲線。
【図２】従来のメタロセン触媒を使用したエチレン系重
合体のＴＲＥＦ曲線の一例。
合体のＴＲＥＦ曲線の一例。
【図３】本発明フィルムの結晶、非晶の２相構造模式
図。
図。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｂ２９Ｋ 23:00 Ｂ２９Ｌ 7:00 Ｃ０８Ｌ 23:04 (72)発明者 茂木 義博 神奈川県川崎市川崎区夜光２−３−２ 日 本ポリオレフィン株式会社川崎研究所内
Claims (10)
- 【請求項１】 下記（イ）〜（ニ）の要件を満足するエ
チレン（共）重合体からなるインフレーションフィルム
であって、フィルム中の横方向（ＴＤ）に沿って形成さ
れた結晶ラメラに起因する長周期Ｌ（ラメラ間距離）が
１７５〜２１５オングストローム（Å）、フィルム中の
ＴＤに沿って形成された結晶ラメラの厚みが５９〜９６
オングストローム（Å）、フィルム中のＴＤに沿って形
成された非晶部の厚みが１０６〜１２９オングストロー
ム（Å）、フィルムの引裂強度が、縦方向（ＭＤ）で２
０Ｋｇｆ／ｃｍ以上、ＴＤで６０Ｋｇｆ／ｃｍ以上、フ
ィルムのヒートシール温度が１１０℃以下、ヒートシー
ル強度が０．６Ｋｇ／ｍｍ幅以上であることを特徴とす
るインフレーションフィルム。 （イ）密度（ｄ）：０. ８６ 〜０. ９７ｇ／ｃｍ3 、 （ロ）メルトフローレート（ＭＦＲ）：０．０１〜１０
０ｇ／１０分、 （ハ）分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）：１．５〜５．０、 （ニ）組成分布パラメーターＣｂ：２．００以下。 - 【請求項２】 下記（イ）〜（ヘ）の要件を満足するエ
チレン（共）重合体からなるインフレーションフィルム
であって、フィルム中のＴＤに沿って形成された結晶ラ
メラに起因する長周期Ｌ（ラメラ間距離）が１７５〜２
１５オングストローム（Å）、フィルム中のＴＤに沿っ
て形成された結晶ラメラの厚みが５９〜９６オングスト
ローム（Å）、フィルム中のＴＤに沿って形成された非
晶部の厚みが１０６〜１２９オングストローム（Å）、
フィルムの引裂強度が、縦方向（ＭＤ）で２０Ｋｇｆ／
ｃｍ以上、ＴＤで６０Ｋｇｆ／ｃｍ以上、フィルムのヒ
ートシール温度が１１０℃以下、ヒートシール強度が
０．６Ｋｇ／１５ｍｍ幅以上であることを特徴とするイ
ンフレーションフィルム。 （イ）密度（ｄ）：０. ８６ 〜０. ９７ｇ／ｃｍ3 、 （ロ）メルトフローレート（ＭＦＲ）：０．０１〜１０
０ｇ／１０分、 （ハ）分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）：１．５〜５．０、 （ニ）組成分布パラメーターＣｂ：１．０８〜２．０
０、 （ホ）連続昇温溶出分別法（ＴＲＥＦ）による溶出温度
−溶出量曲線のピークが実質的に複数個存在すること、 （ヘ）２５℃におけるオルソジクロロベンゼン（ＯＤＣ
Ｂ）可溶分量Ｘ（wt％）と密度（ｄ）及びメルトフロー
レート（ＭＦＲ）が次の関係を満足すること、 ａ）ｄ−０. ００８logMFR≧０. ９３の場合 Ｘ＜２. ０、 ｂ）ｄ−０. ００８logMFR＜０. ９３の場合 Ｘ＜９. ８×１０3 ×( ０. ９３００−ｄ＋０. ００８
logMFR)2＋２. ０、 - 【請求項３】 前記エチレン（共）重合体が、少なくと
も共役二重結合を持つ有機環状化合物と周期律表第IV族
の遷移金属化合物を含む触媒の存在下にエチレンまたは
エチレンとα−オレフィンを（共）重合させて得られる
エチレン（共）重合体である請求項１または２に記載の
インフレーションフィルム。 - 【請求項４】 前記エチレン（共）重合体が、エチレン
と１−ヘキセンを共重合させて得られるエチレン共重合
体である請求項１〜３のいずれかに記載のインフレーシ
ョンフィルム。 - 【請求項５】 前記エチレン（共）重合体からなるイン
フレーションフィルムが１２０〜１８０℃の範囲で成形
してなる請求項１〜４のいずれかに記載のインフレーシ
ョンフイルム。 - 【請求項６】 下記（イ）〜（ニ）の要件を満足するエ
チレン（共）重合体を用いて、引取速度を２０〜１２０
ｍ／分、ブローアップ比２〜４、フロストライン１００
〜７００ｍｍでインフレーションフィルム成形を行なう
ことを特徴とするインフレーションフィルムの成形方
法。 （イ）密度（ｄ）：０. ８６ 〜０. ９７ｇ／ｃｍ3 、 （ロ）メルトフローレート（ＭＦＲ）：０．０１〜１０
０ｇ／１０分、 （ハ）分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）：１．５〜５．０、 （ニ）組成分布パラメーターＣｂ：２．００以下。 - 【請求項７】 下記（イ）〜（ヘ）の要件を満足するエ
チレン（共）重合体を用いて、引取速度を２０〜１２０
ｍ／分、ブローアップ比２〜４、フロストライン１００
〜７００ｍｍでインフレーションフィルム成形を行なう
ことを特徴とするインフレーションフィルムの成形方
法。 （イ）密度（ｄ）：０. ８６ 〜０. ９７ｇ／ｃｍ3 、 （ロ）メルトフローレート（ＭＦＲ）：０．０１〜１０
０ｇ／１０分、 （ハ）分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）：１．５〜５．０、 （ニ）組成分布パラメーターＣｂ：１．０８〜２．０
０、 （ホ）連続昇温溶出分別法（ＴＲＥＦ）による溶出温度
−溶出量曲線のピークが実質的に複数個存在すること、 （ヘ）２５℃におけるオルソジクロロベンゼン（ＯＤＣ
Ｂ）可溶分量Ｘ（wt％）と密度ｄ及びＭＦＲ（メルトフ
ローレート）が次の関係を満足すること、 ａ）ｄ−０. ００８logMFR≧０. ９３の場合 Ｘ＜２. ０、 ｂ）ｄ−０. ００８logMFR＜０. ９３の場合 Ｘ＜９. ８×１０3 ×( ０. ９３００−ｄ＋０. ００８
logMFR)2＋２．０。 - 【請求項８】 前記エチレン（共）重合体が、少なくと
も共役二重結合を持つ有機環状化合物と周期律表第IV族
の遷移金属化合物を含む触媒の存在下にエチレンまたは
エチレンとα−オレフィンを（共）重合させて得られる
エチレン（共）重合体である請求項６または７に記載の
インフレーションフィルムの製造方法。 - 【請求項９】 前記エチレン（共）重合体が、エチレン
と１−ヘキセンを共重合させて得られるエチレン共重合
体である請求項６〜８のいずれかに記載のインフレーシ
ョンフィルムの製造方法。 - 【請求項１０】 前記エチレン（共）重合体からなるイ
ンフレーションフィルムが１２０〜１８０℃の範囲で成
形してなる請求項６〜９のいずれかに記載のインフレー
ションフイルムの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9325897A JPH10264246A (ja) | 1997-03-27 | 1997-03-27 | インフレーションフィルムおよび該フィルムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9325897A JPH10264246A (ja) | 1997-03-27 | 1997-03-27 | インフレーションフィルムおよび該フィルムの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10264246A true JPH10264246A (ja) | 1998-10-06 |
Family
ID=14077475
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9325897A Pending JPH10264246A (ja) | 1997-03-27 | 1997-03-27 | インフレーションフィルムおよび該フィルムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10264246A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003016366A1 (en) * | 2001-08-17 | 2003-02-27 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | Ethylenic copolymer and film comprising the same |
| JP2004300297A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Mitsui Chemicals Inc | 燃料タンク用ポリエチレン系樹脂およびそれを用いた燃料タンク |
| JP2009241323A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Kuraray Co Ltd | 二軸延伸フィルム |
-
1997
- 1997-03-27 JP JP9325897A patent/JPH10264246A/ja active Pending
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