JPH10265280A - セラミックス製品の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 窯入れ前の不可避的な停滞時間を有効に利用
して、リードタイムを従来よりも大幅に短縮できるセラ
ミックス製品の製造方法を提供する。 【解決手段】成形直後の碍子等のセラミックス製品を、
直結する乾燥炉で水分が２〜10％となるまで乾燥し、こ
の状態で表面に施釉する。その後、窯入れまでの停滞時
間を利用して水分が1.0 ％以下まで乾燥したうえ焼成す
る。高温、高水分で施釉できるので施釉し易く、また従
来は無駄であった窯入れ前の停滞時間を乾燥に利用でき
るため、リードタイムを半分にできる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、碍子等のセラミッ
クス製品の製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】碍子等のセラミックス製品を製造するに
は、成形、乾燥、施釉、焼成の各工程を経由させる必要
がある。成形工程ではセラミックス製品の水分は18％
(本明細書においては％はいずれもwt％) 程度である
が、焼成炉への窯入れ前には水分を1.0 ％以下まで低下
させておかないと、焼成炉内で爆砕のおそれがある。こ
のため、従来は図２に示すように30時間程度の長時間を
かけて水分が1.0 ％以下となるまで徐々に乾燥を行い、
その後に施釉し、窯入れを行っていた。なお、成形直後
の高水分の状態ではセラミックス製品の表面に所定の厚
みに釉薬をのせることは不可能であるから、施釉前の乾
燥は必須である。

【０００３】一般にセラミックス製品の乾燥工程は、恒
率域と減率域とに区分できる。恒率域は乾燥とともに製
品が収縮する領域であり、減率域は収縮が止まる領域で
ある。従来は同一の乾燥炉内でこれらの両方の領域を連
続させて乾燥を行っていたため、それぞれの領域の乾燥
条件が影響しあい、乾燥速度を限界速度まで引き上げる
ことは困難であった。これが乾燥に30時間という長時間
を要する原因である。

【０００４】しかも、施釉後の碍子等のセラミックス製
品は焼成台車への積込みに多くの時間がかかるため、窯
入れ前にかなりの停滞時間が不可避的に生ずる。従っ
て、図２に示した従来法では30時間の乾燥工程の前後に
それぞれ停滞時間が加わるため、成形から最終製品にな
るまでに全部で６日間という長いリードタイムを要して
いた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記した従来
の問題点を解決し、窯入れ前の不可避的な停滞時間を有
効に利用して、リードタイムを従来よりも大幅に短縮で
きるセラミックス製品の製造方法を提供するためになさ
れたものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めになされた本発明は、成形直後のセラミックス製品
を、水分が２〜10％となるまで乾燥した状態でその表面
に施釉し、その後、窯入れまでの停滞時間を利用して水
分が1.0 ％以下まで乾燥したうえ焼成することを特徴と
するものである。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下に図１を参照しつつ、本発明
の好ましい実施の形態を説明する。本発明では、成形さ
れた直後のセラミックス製品を、成形機に直結された乾
燥炉に搬入して直ちに乾燥させる。この乾燥は従来法と
は異なり、セラミックス製品の水分を２〜10％となるま
で乾燥させることを目的とした乾燥であり、前記した恒
率域の乾燥に相当する。このため、恒率域の乾燥のみに
炉内の乾燥条件を合わせることができ、好ましくは遠赤
外線乾燥炉を用いて迅速に乾燥させることができる。な
お、水分の下限を２％としたのは、２％から1 ％付近ま
での乾燥にはかなりの時間がかかり、成形機に直結され
た乾燥炉で２％未満まで乾燥させるためには乾燥炉を非
常に長くしなければならないとの実用上の問題を生じる
からである。

【０００８】次に本発明では、乾燥炉に直結された施釉
装置により連続して施釉を行う。このときのセラミック
ス製品の温度は40〜70℃程度であり、従来の施釉時のセ
ラミックス製品の温度が20〜40℃であったのと比較して
かなり高温で施釉される。このため、塗布した釉薬が速
やかに乾燥し、釉薬の乗りがよいという効果も得られ
る。なお、施釉時のセラミックス製品の水分が10％を越
えると、規格を満足する厚みに施釉することが困難とな
る。また、従来法では水分が１％程度となるまで乾燥さ
せた表面に施釉していたため、釉薬と製品表面とのなじ
みをよくするために施釉前に水霧掛けと呼ばれる水分供
給を行っていたのであるが、本発明では施釉時のセラミ
ックス製品の水分が従来法よりも多いため、水霧掛けを
行わなくてもなじみのよい施釉が可能である。

【０００９】施釉されたセラミックス製品は次に窯入れ
され焼成されるが、前記したように窯入れ前にはかなり
の停滞時間が不可避的に生ずる。従来法ではこの停滞時
間は全く無駄な時間であったが、本発明ではこの停滞時
間を利用してセラミックス製品を水分が1.0 ％以下まで
乾燥させる。この減率域の乾燥は製品内部の水分拡散速
度が低下するため、かなりの長い時間が必要であるが、
本発明では窯入れ前の停滞時間を利用するため、時間の
無駄がない。なお、前記したように製品の水分が1.0 ％
以下まで乾燥させたうえ焼成炉の窯入れしないと、焼成
炉内で爆砕のおそれがあるので必ずこの水分までの乾燥
を行うものとする。

【００１０】このように、本発明では成形、乾燥、施釉
までを連続的に行い、窯入れ前の停滞時間を有効に利用
してセラミックス製品を水分が1.0 ％以下まで乾燥させ
るようにしたので、従来のような時間の無駄がなくな
り、リードタイムを従来の６日間から３日間まで半減さ
せることができる利点がある。

【００１１】なお、懸垂碍子のような複雑な形状のセラ
ミックス製品は、部分的に製品水分がばらつくことは避
けられない。図３は施釉時における製品水分と、焼成後
の釉厚を示したグラフである。この図３に示されるよう
に、製品水分が２〜10％の範囲内でばらついても、焼成
後の釉厚を基準範囲内にコントロールすることが可能で
ある。

【００１２】

【発明の効果】本発明の効果を要約すると、下記の通り
である。 リードタイムを従来の６日間から３日間まで半減さ
せることができる。 乾燥炉の乾燥条件を恒率域の乾燥のみに合わせるこ
とができるので、効率のよい乾燥が可能となる。 従来よりもセラミックス製品の温度が高い状態で施
釉されるので、施釉が容易である。 従来よりもセラミックス製品の水分が高い状態で施
釉されるので、水霧掛けを行わなくてもなじみのよい施
釉が可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の工程を示すブロック図である。

【図２】従来の工程を示すブロック図である。

【図３】施釉時における製品水分と、焼成後の釉厚を示
したグラフである。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 成形直後のセラミックス製品を、水分が
   ２〜10％となるまで乾燥した状態でその表面に施釉し、
   その後、窯入れまでの停滞時間を利用して水分が1.0 ％
   以下まで乾燥したうえ焼成することを特徴とするセラミ
   ックス製品の製造方法。
2. 【請求項２】 セラミックス製品が碍子である請求項１
   に記載のセラミックス製品の製造方法。