JPH10268002A - Noise filter relay circuit and noise filter relay board for semiconductor device measurement test - Google Patents
Noise filter relay circuit and noise filter relay board for semiconductor device measurement testInfo
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】秀れたノイズフィルタ能力を有し、プローブボ
ード上での占拠面積、消費電力およびメインテナンスコ
ストなどの増大を招くことなしに、32個取りのパラレ
ルテスト方式にも充分対応できる半導体素子測定試験技
術を提供する。
【解決手段】テスタ109に接続された電源側バスライ
ン105とグランド側バスライン107とに沿って2個
以上の単位リレー回路103を並列に接続し、各単位リ
レー回路には電源側バスラインに接続された電源側接触
子111とグランド側バスラインに接続されたグランド
側接触子113とを具え、電源側接触子とグランド側接
触子間にはバイパスコンデンサ119を介装し、グラン
ド側接触子とグランド側バスライン間にはグランド側リ
レー117を介装した。またノイズフィルタリレー回路
101をプローブボード133上に搭載し、この上に電
源側およびグランド側の接触子111、113を測定試
験時に対象となる半導体素子CP上の電源側およびグラ
ンド側パッドにそれぞれ接触可能に取り付けた。
(57) [Summary] (Modifications) [Problem] To have excellent noise filter capability and to increase the number of 32 parallel units without increasing the occupied area on the probe board, power consumption and maintenance cost. To provide a semiconductor device measurement and test technique which can sufficiently cope with a test method. A plurality of unit relay circuits are connected in parallel along a power supply side bus line and a ground side bus line connected to a tester, and each unit relay circuit is connected to a power supply side bus line. A power supply contact 111 connected to the ground bus line; a bypass capacitor 119 interposed between the power supply contact and the ground contact; A ground-side relay 117 was interposed between the ground-side bus line. Further, the noise filter relay circuit 101 is mounted on the probe board 133, and the power supply side and ground side contacts 111 and 113 are respectively brought into contact with the power supply side and ground side pads on the semiconductor element CP to be measured during the measurement test. Mounted as possible.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は半導体素子測定試験用
ノイズフィルタリレー回路とノイズフィルタリレーボー
ドに関するものであり、さらに詳しくはウエハ上の半導
体素子の電気的性能のパラレルテスト方式による測定試
験に際しての測定試験システムのノイズ低減能力および
諸コスト面の改良に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a noise filter relay circuit and a noise filter relay board for a semiconductor device measurement test, and more particularly to a noise test relay circuit for measuring the electrical performance of a semiconductor device on a wafer by a parallel test method. The present invention relates to improvement of noise reduction capability and various costs of a measurement test system.
【0002】通常、回路素子及び配線の形成工程を経た
シリコンウエハは、シリコン基層(サブストレート)上
に、スクライブラインによって区画されて同一回路構成
を有した複数の半導体集積回路がマトリックス状に並設
されている。これらの半導体集積回路は、ICテスタに
よる電気的性能測定試験において不良品はマーキングさ
れる。その後、スクライブラインに沿ってウエハから個
々に切り離されて半導体素子(例えばICチップ)とな
るとともに、良品のみが次のパッケージング工程へと進
む。尚、この明細書にあっては表現上の簡便のために、
上記のような切り離し前のウエハ上に形成された個々の
半導体集積回路を「半導体素子」と呼称することにす
る。このような半導体素子は「半導体デバイス」と呼ば
れることもある。Normally, a silicon wafer which has undergone a process of forming circuit elements and wirings is provided with a plurality of semiconductor integrated circuits having the same circuit configuration and arranged in a matrix on a silicon base layer (substrate) by scribe lines. Have been. Defective products of these semiconductor integrated circuits are marked in an electrical performance measurement test using an IC tester. Thereafter, the wafer is individually cut off from the wafer along the scribe line to become a semiconductor element (for example, an IC chip), and only non-defective products proceed to the next packaging step. In this specification, for convenience of expression,
The individual semiconductor integrated circuits formed on the wafer before separation as described above will be referred to as “semiconductor elements”. Such a semiconductor element is sometimes called a “semiconductor device”.
【0003】上述の電気的性能測定試験は、一般に、プ
ローバーにセットされた半導体ウエハをICテスタを用
いて試験するものであり、各半導体素子上に形成された
全てのパッドとICテスタとがプローブボード上のプロ
ーブニードルを介して電気的に接続され、半導体素子上
の所定の電源パッドに所定レベルの電源電位(電源側電
圧Vcc及びグランド側電圧Vss)が供給されるとと
もに、所定入力信号が所定のパッドに供給されることに
よって、半導体素子からの出力信号がICテスタに送り
込まれて、これにより半導体素子の電気的性能の良否が
判定される。The above-described electrical performance measurement test generally tests a semiconductor wafer set on a prober using an IC tester, and all pads and IC testers formed on each semiconductor element are probed. A predetermined level of power supply potential (power supply voltage Vcc and ground side voltage Vss) is supplied to a predetermined power supply pad on the semiconductor element, and a predetermined input signal is supplied to a predetermined power supply pad on the semiconductor element. , The output signal from the semiconductor element is sent to the IC tester, whereby the quality of the electrical performance of the semiconductor element is determined.
【0004】ところで上記のような半導体素子の電気的
性能の測定試験には、ウエハ上の複数の半導体素子を順
次測定試験するシリアルテスト方式と、ウエハ上の複数
の半導体素子を同時に測定試験するパラレルテスト方式
とがある。このうちこの発明が対象とするのはパラレル
テスト方式による測定試験であるが、この測定試験シス
テムにおいては現在では16個の半導体素子を同時に測
定試験するいわゆる「16個取り」が主流となってい
る。しかし技術の流れとしては近い将来に32個の半導
体素子を同時に測定試験する「32個取り」あるいはそ
れ以上の「多数個取り」に移行していく傾向にある。こ
の発明は特にこのような将来に亘る技術の流れを視野に
置いて提案されたものである。[0004] Incidentally, the above-described electrical performance measurement test of a semiconductor device includes a serial test system for sequentially measuring and testing a plurality of semiconductor devices on a wafer and a parallel test system for simultaneously measuring and testing a plurality of semiconductor devices on a wafer. There is a test method. Of these, the present invention is directed to a measurement test by the parallel test method, but currently, in this measurement test system, a so-called “16-cavity” for simultaneously measuring and testing 16 semiconductor elements is mainly used. . However, in the near future, there is a tendency for technology to shift to "32-cavity", in which 32 semiconductor elements are measured and tested at the same time, or to "multi-cavity", or more. The present invention has been proposed especially with a view to such a future technology flow.
【0005】かかるパラレルテスト方式の測定試験を行
う測定試験システムにおける従来のフィルタリレー回路
とフィルタリレーボードの構成およびそこに用いられる
リレーの役割などについては後に詳述するが、この発明
の趣旨概要の理解のため、以下に従来から知られる測定
試験システムの概略を説明する。The configuration of a conventional filter relay circuit and a conventional filter relay board in a measurement test system for performing such a parallel test type measurement test and the role of the relay used therein will be described in detail later. For better understanding, an outline of a conventionally known measurement test system will be described below.
【0006】上記の測定試験システムによる測定試験に
際しては、プローブボード上に配置された多数の接触子
を個々の半導体素子の全てのパッドに接触させることに
よって、テスターと半導体素子との信号の伝達を行うも
のである。それらの信号伝達のうち、電源電圧の伝達
(印加)については、プローブボード上に配置されたフ
ィルタリレー回路を介して電源側接触子とグランド側接
触子とを個々の半導体素子上のパッドに接触させること
によって伝達を行っている。また測定試験時にノイズが
発生すると半導体素子の真の電気的性能を判定すること
ができないので、電源側ラインに介装されたパラレルコ
ンデンサのノイズフィルタ機能によりノイズを低減して
いる。さらに不良品である半導体素子はシステムから切
り離さないと良品である半導体素子の測定試験上悪影響
が出る。そこで電源側接触子とパラレルコンデンサ間に
は電源側リレー(VCCリレー)がまたグランド側接触
子とグランド間にはグランド側リレー(VSSリレー)
がそれぞれ介装されており、これらのリレーを開くこと
により不良品半導体素子のシステムからの切離しを行っ
ている。[0006] In the measurement test by the above-described measurement test system, the signal transmission between the tester and the semiconductor element is performed by bringing a large number of contacts arranged on the probe board into contact with all the pads of the individual semiconductor elements. Is what you do. As for transmission (application) of the power supply voltage among those signal transmissions, the power supply side contact and the ground side contact are brought into contact with the pads on the individual semiconductor elements via the filter relay circuit arranged on the probe board. Communication is performed by causing Further, if noise occurs during the measurement test, the true electrical performance of the semiconductor element cannot be determined, so the noise is reduced by the noise filter function of the parallel capacitor interposed in the power supply line. Further, unless a defective semiconductor element is separated from the system, an adverse effect is exerted on a measurement test of a good semiconductor element. Therefore, a power supply side relay (VCC relay) is provided between the power supply side contact and the parallel capacitor, and a ground side relay (VSS relay) is provided between the ground side contact and the ground.
Each of these devices is interposed, and disconnecting the defective semiconductor element from the system is performed by opening these relays.
【0007】このように従来の測定試験システムにおい
ては1個の半導体素子当たり2個のリレー、すなわち
「16個取り」のシステムならば全部で32個のリレー
を設ける必要がある。このような多数のリレーの使用は
ノイズ低減能力、製造コスト、スペースおよびメインテ
ナンスコストなどの面で種々の問題を惹起している。特
に上記のように測定試験システムが「32個取り」に移
行していった場合には、そのような問題が一段と深刻な
ものとなってくる。かかる問題に対処すべく基本的には
リレー使用数を半減してフィルタリレー回路の構成を単
純化しようというのがこの発明提案の趣意である。As described above, in the conventional measurement test system, it is necessary to provide two relays per semiconductor element, that is, a total of 32 relays in a "16-cavity" system. The use of such a large number of relays causes various problems in terms of noise reduction capability, manufacturing cost, space and maintenance costs, and the like. In particular, when the measurement test system shifts to “32 pieces” as described above, such a problem becomes more serious. The idea of the present invention is to basically reduce the number of relays used and to simplify the configuration of the filter relay circuit in order to deal with such a problem.
【0008】図30に従来技術のノイズフィルタリレー
回路を、また図31および図32にそのようなノイズフ
ィルタリレー回路を搭載した従来技術のノイズフィルタ
リレーボードの一例を示す。図30に示すノイズフィル
タリレー回路1においては、テスタ9のバックバイアス
電源4に接続されたバックバイアスライン12と同じく
アース16に接続されたアースライン14とに沿って、
同一回路構成の単位リレー回路3が2個以上並列に接続
されている。通常この単位リレー回路3は半導体素子の
同時測定試験個数と等しい数だけ、例えば「16個取
り」のパラレルテスト方式なら16個が設けられてい
る。また各半導体素子CPとテスタ9との間には信号入
力ライン6と信号出力ライン8とが接続されており、こ
れらのラインを介して信号の伝送が行われる。これらの
ラインの本数は測定試験条件に応じて適宜増減されるも
のである。FIG. 30 shows an example of a conventional noise filter relay circuit, and FIGS. 31 and 32 show an example of a conventional noise filter relay board equipped with such a noise filter relay circuit. In the noise filter relay circuit 1 shown in FIG. 30, along the back bias line 12 connected to the back bias power supply 4 of the tester 9 and the ground line 14 also connected to the ground 16,
Two or more unit relay circuits 3 having the same circuit configuration are connected in parallel. Normally, the unit relay circuit 3 is provided with a number equal to the number of simultaneous measurement tests of the semiconductor elements, for example, 16 in the case of a "16-piece" parallel test system. A signal input line 6 and a signal output line 8 are connected between each semiconductor element CP and the tester 9, and a signal is transmitted through these lines. The number of these lines is appropriately increased or decreased according to the measurement test conditions.
【0009】各単位リレー回路3は、電源側接触子11
とグランド側接触子13とを具えており、これら接触子
の個数は測定試験条件に応じて適宜増減される。電源側
接触子11はテスタリレー10を介して電源2(例えば
5V)に接続されるとともに、バイパスコンデンサ19
にも接続されている。ここでバイパスコンデンサ19は
半導体素子の測定試験時におけるノイズを低減させるノ
イズフィルタとして機能するものである。Each unit relay circuit 3 has a power contact 11
And ground-side contacts 13. The number of these contacts is appropriately increased or decreased according to the measurement test conditions. The power supply side contact 11 is connected to the power supply 2 (for example, 5 V) via the tester relay 10 and has a bypass capacitor 19.
Is also connected. Here, the bypass capacitor 19 functions as a noise filter for reducing noise during a measurement test of the semiconductor device.
【0010】上記バイパスコンデンサ19は電源側リレ
ー15を介してアースライン14に接続されており、グ
ランド側接触子13はグランド側リレー17を介してや
はりアースライン14に接続されている。これらのリレ
ー15、17は後述するように測定試験時に不良半導体
素子をシステムすなわちノイズフィルタリレー回路1か
ら切り離すものである。またこれらとは別にバックバイ
アスライン12に接続されたバックバイアス接触子21
が設けられており、各半導体素子のバックバイアス接触
子21は図示しないサブストレートにより互いに接続さ
れている。ここで接触子21に掛かるバックバイアス電
圧は半導体素子の動作を安定させるためのものである。The bypass capacitor 19 is connected to the ground line 14 via the power supply side relay 15, and the ground contact 13 is also connected to the ground line 14 via the ground side relay 17. These relays 15 and 17 are used to separate defective semiconductor elements from the system, that is, the noise filter relay circuit 1 during a measurement test, as described later. A back bias contact 21 connected to the back bias line 12 separately from these.
Are provided, and the back bias contacts 21 of the respective semiconductor elements are connected to each other by a substrate (not shown). Here, the back bias voltage applied to the contact 21 stabilizes the operation of the semiconductor element.
【0011】図31および図32に示すノイズフィルタ
リレーボード31において、上記のノイズフィルタリレ
ー回路1を搭載したプローブボード33はそのほぼ中心
部を厚さ方向に透通する、測定試験作業時に作業員が接
触子11(13)の半導体素子への接触状態を確認する
ための、目視用窓35を有している。またこの目視用窓
35を同心状に囲んで接触子の挿通孔37を有してい
る。接触子透通孔37はパラレルテスト方式における半
導体素子の最大同時測定試験個数と等しい個数だけ形成
される。各接触子11(13)は対応する透通孔37を
通ってプローブボード33の表側から裏側に延在してい
る。プローブボード33の裏面には目視用窓35の両縁
部に沿ってアレンジボード39が取り付けられており、
各アレンジボード39の下面には接触子を指向させる溝
が刻設されている。すなわちこれらの溝はプローブボー
ド33の裏側に出た接触子11(13)に係合して、ウ
エハ上の半導体素子のパッドの配列に対応するように、
接触子11(13)先端を整列させるのである。In the noise filter relay board 31 shown in FIGS. 31 and 32, a probe board 33 on which the above-mentioned noise filter relay circuit 1 is mounted has a substantially central portion penetrated in the thickness direction. Have a viewing window 35 for checking the contact state of the contact 11 (13) with the semiconductor element. Further, a contact insertion hole 37 surrounds the viewing window 35 concentrically. The contact holes 37 are formed in a number equal to the maximum number of simultaneous measurement tests of the semiconductor device in the parallel test method. Each contact 11 (13) extends from the front side to the back side of the probe board 33 through the corresponding through hole 37. Arrangement boards 39 are attached to the back surface of the probe board 33 along both edges of the viewing window 35,
On the lower surface of each arrangement board 39, a groove for directing the contact is formed. That is, these grooves are engaged with the contacts 11 (13) protruding from the back side of the probe board 33, and correspond to the arrangement of the pads of the semiconductor elements on the wafer.
The tips of the contacts 11 (13) are aligned.
【0012】図30に示した各単位リレー回路3におい
ては2個のリレー15、17が用いられているが、その
理由を以下に説明する。2個の半導体素子CP1、CP
2についてパラレルテストを行うものとし、CP1が電
源側接触子11とサブストレート側接触子21間がショ
ートする不良品であるとする。電源側リレー15がない
ものとすると、第2の半導体素子CP2のサブストレー
ト側接触子21における出力レベルの測定試験におい
て、バックバイアス電源4から出力されたバックバイア
ス電圧はバックバイアスライン12〜接触子21〜半導
体素子CP1の図示せぬサブストレート〜電源側接触子
11の回路を経てバイパスコンデンサ19にチャージす
る。このように長い回路を経て流れることとバイパスコ
ンデンサ19のチャージとがあいまって、出力の立上り
が遅れてしまう。この結果測定試験のタイミングから外
れ、第2の半導体素子CP2が良品であるにも拘わらず
不良品と判定されてしまう。In each unit relay circuit 3 shown in FIG. 30, two relays 15, 17 are used. The reason will be described below. Two semiconductor elements CP1, CP
2, a parallel test is performed, and CP1 is a defective product in which the power supply contact 11 and the substrate contact 21 are short-circuited. Assuming that the power supply side relay 15 is not provided, in the measurement test of the output level at the substrate side contact 21 of the second semiconductor element CP2, the back bias voltage output from the back bias power supply 4 21 to charge the bypass capacitor 19 through a circuit from the substrate (not shown) to the power supply side contact 11 of the semiconductor element CP1. The flow through such a long circuit and the charging of the bypass capacitor 19 combine to delay the rise of the output. As a result, the timing of the measurement test is deviated, and the second semiconductor element CP2 is determined as a defective product although the second semiconductor device CP2 is a good product.
【0013】半導体素子の同時測定試験個数が2個なら
ば測定試験のタイミングを電圧の立上りの遅れに合せて
調整することにより、このような誤動作を回避すること
もできる。しかし半導体素子の同時測定試験個数が4
個、8個さらには16個と増加してくると、このように
内部ショートを持った半導体素子が同時測定試験個数内
にいくつ存在するかを特定することは困難となる。だか
らといって遅れを大きく見積もって、それに合せて測定
試験タイミングを調整する、すなわち待機時間を置いて
測定試験を行うのは作業効率上好ましくない。そこで図
示のように各半導体素子CPの電源側接触子11とバイ
パスコンデンサ19との間にリレー15を設け、不良品
と判定された半導体素子CPについては該リレー15を
開いてシステムからバイパスコンデンサ19を切り離せ
るようにしている。If the number of simultaneous measurement tests of the semiconductor device is two, such a malfunction can be avoided by adjusting the timing of the measurement test according to the delay of the rise of the voltage. However, the number of simultaneous measurement tests for semiconductor devices is 4
When the number of semiconductor elements increases to eight, or even sixteen, it becomes difficult to specify how many semiconductor elements having such an internal short-circuit exist in the number of simultaneous measurement tests. For this reason, it is not preferable in terms of work efficiency to estimate the delay largely and adjust the measurement test timing in accordance with the delay, that is, perform the measurement test after a waiting time. Therefore, as shown in the figure, a relay 15 is provided between the power supply side contact 11 of each semiconductor element CP and the bypass capacitor 19, and for a semiconductor element CP determined to be defective, the relay 15 is opened, and the bypass capacitor 19 Can be separated.
【0014】上記のような誤動作はグランド側接触子1
3についても発生する。すなわち第1の半導体素子CP
1がグランド側接触子13とサブストレート側接触子2
1間がショートする不良品であるとする。グランド側リ
レー17がないものとすると、第2の半導体素子CP2
のサブストレート側接触子21における出力レベルの測
定試験において、出力されたバックバイアス電圧は接触
子21〜図示せぬ半導体素子CP1のサブストレート〜
グランド側接触子13の回路を経てグランドに落ちる。
すなわち出力が0Vとなってしまうので、第2の半導体
素子CP2が良品であるにも拘わらず不良品と判定され
てしまう。この場合にも半導体素子の同時測定試験個数
が増加すると上記と同様な問題が出てくる。そこで図示
のように各半導体素子CPのグランド側接触子13とグ
ランドバスライン7との間にリレー17を設け、不良品
と判定された半導体素子CPについては該リレー17を
開いてシステムをグランドから切り離せるようにしてい
る。The above malfunction is caused by the ground contact 1
3 also occurs. That is, the first semiconductor element CP
1 is a ground contact 13 and a substrate contact 2
It is assumed that a defective product is short-circuited between them. Assuming that there is no ground side relay 17, the second semiconductor element CP2
In the test for measuring the output level at the substrate side contact 21 of FIG. 5, the output back bias voltage is changed to the contact 21 to the substrate of the semiconductor element CP1 (not shown).
It falls to the ground via the circuit of the ground contact 13.
That is, since the output becomes 0 V, it is determined that the second semiconductor element CP2 is defective, even though the second semiconductor element CP2 is good. Also in this case, when the number of simultaneous measurement tests of the semiconductor element increases, the same problem as described above appears. Therefore, as shown in the drawing, a relay 17 is provided between the ground contact 13 of each semiconductor element CP and the ground bus line 7, and for a semiconductor element CP determined to be defective, the relay 17 is opened to bring the system from ground. It is detachable.
【0015】以上のように各半導体素子CPについて2
個のリレー15、17を設けることにより、ある半導体
素子が不良品と判定されたときには、これらのリレーを
開くことにより該半導体素子を測定試験システム、すな
わちノイズフィルタリレー回路から切り離して、良品で
ある半導体素子の測定試験に悪影響を与えることを回避
しているのである。As described above, for each semiconductor element CP, 2
By providing the relays 15 and 17, when a certain semiconductor element is determined to be defective, the semiconductor element is separated from the measurement test system, that is, the noise filter relay circuit by opening these relays, and is a non-defective product. This avoids adverse effects on semiconductor device measurement tests.
【0016】上記のようなリレー15、17の開閉制御
は、作業員が不良品判定時に例えば手動スイッチなどで
行ってもよいし、適宜な公知の制御回路によって自動的
に行ってもよい。The opening / closing control of the relays 15 and 17 as described above may be performed by a worker when a defective product is determined, for example, by a manual switch, or automatically by an appropriate known control circuit.
【0017】[0017]
【発明が解決しようとする課題】ところで図30に示し
た従来のノイズフィルタリレー回路1においては、電源
側バスライン5は電源側リレー15を介してバイパスコ
ンデンサ19に接続されている。リレーはそれ自身イン
ピーダンスを構成する要素である。したがって電源側リ
レー15の存在により電源〜グランド間での回路インピ
ーダンスが高くなり、バイパスコンデンサ19によるノ
イズ低減効果が減殺されることになる。In the conventional noise filter relay circuit 1 shown in FIG. 30, the power supply side bus line 5 is connected to the bypass capacitor 19 via the power supply side relay 15. A relay is an element that constitutes impedance by itself. Therefore, the presence of the power supply side relay 15 increases the circuit impedance between the power supply and the ground, and the noise reduction effect of the bypass capacitor 19 is reduced.
【0018】同様にグランド側接触子13はグランド側
リレー17を介してグランド側バスライン7に接続され
ている。ここでもグランド側リレー17がインピーダン
ス要素となって接触子17〜グランド間の回路インピー
ダンスが高くなり、ノイズが発生することになる。Similarly, the ground contact 13 is connected to the ground bus line 7 via the ground relay 17. Also in this case, the ground-side relay 17 becomes an impedance element, and the circuit impedance between the contact 17 and the ground increases, thereby generating noise.
【0019】かかる問題を解決すべく、図33に示すよ
うに例えばグランド側リレー17を並列構造としてイン
ピーダンスを1/2にすることが考えられる。しかしこ
のようにすると1個の単位リレー回路3当たり3個のリ
レーを用いることになる。この結果(a)プローブボー
ド上でのリレーによる占拠スペースが増大する、(b)
製造コストが増大するおよび(c)リレーには寿命があ
り使用頻度も高いのでメインテナンスコストが増大する
などの問題があり、実務上採用するには無理がある。In order to solve such a problem, for example, as shown in FIG. 33, it is conceivable to make the ground side relay 17 a parallel structure to reduce the impedance by half. However, in this case, three relays are used for one unit relay circuit 3. As a result, (a) the space occupied by the relay on the probe board increases, (b)
There is a problem that the production cost increases and (c) the relay has a long service life and is frequently used, so that the maintenance cost increases.
【0020】すなわちパラレルテスト方式において現行
の「16個取り」から将来の「32個取り」へと移行し
た場合には、従来のノイズフィルタリレー回路には合計
64個のリレーを使用することになり、これに伴ないつ
ぎのような問題が出てくるのである。That is, in the parallel test system, when the current "16 pieces" is shifted to the future "32 pieces", a total of 64 relays are used in the conventional noise filter relay circuit. However, the following problems arise.
【0021】(a)リレーの使用によりバイパスコンデ
ンサのノイズ低減効果が減殺される。(b)リレーは長
手方向には半導体素子と同程度の寸法(10mm位)を
有している。したがってプローブボード上におけるリレ
ーの占拠面積がかなり大きなものとなる。(c)リレー
1個について200mAからの電流が流れるので、消費
電力もかなりのものとなる。(d)リレーの寿命による
交換回数多くなり、メインテナンスコストが増大する。(A) The use of a relay reduces the noise reduction effect of the bypass capacitor. (B) The relay has the same size (about 10 mm) as the semiconductor element in the longitudinal direction. Therefore, the area occupied by the relay on the probe board becomes considerably large. (C) Since a current of 200 mA flows per relay, the power consumption is also considerable. (D) The number of replacements increases due to the life of the relay, and the maintenance cost increases.
【0022】半導体素子の消費電力は最大で600mA
位である。32個取りとなるとこの32倍の電流がグラ
ンドに同時に流れることになり、グランドレベルがノイ
ズとして持ち上げられる。これに対処するには強力なノ
イズフィルタ能力が要求されるが、従来のノイズフィル
タリレー回路の構成、能力ではこれに応えることができ
ないのである。The power consumption of the semiconductor device is 600 mA at the maximum.
Rank. When 32 chips are taken, a current 32 times larger flows to the ground at the same time, and the ground level is raised as noise. To deal with this, a strong noise filter capability is required, but the configuration and capability of the conventional noise filter relay circuit cannot meet this requirement.
【0023】かかる従来技術の現状に鑑みて、この発明
の目的は秀れたノイズフィルタ能力を有し、しかもプロ
ーブボード上での占拠面積、消費電力およびメインテナ
ンスコストなどの増大を招くことなしに、32個取りの
パラレルテスト方式にも充分対応できる半導体素子測定
試験技術を提供することにある。In view of the current state of the prior art, an object of the present invention is to provide an excellent noise filter capability and without increasing an occupied area on a probe board, power consumption and maintenance cost. It is an object of the present invention to provide a semiconductor device measurement test technique which can sufficiently cope with a 32-test parallel test method.
【0024】[0024]
【課題を解決するための手段】このためこの出願の第1
の発明は、半導体ウエハ上にマトリックス状に配置され
た複数の半導体素子とテスタとの間で所定信号を伝送す
る半導体素子測定試験用ノイズフィルタリレー回路、に
係るものであって、該リレー回路はテスタから所定電源
電位が供給される電源側バスラインと、アース電圧が供
給されるグランド側バスラインと、前記電源側バスライ
ンに接続されるとともに前記半導体素子上に形成された
所定のパッドに当接可能な電源側接触子と前記グランド
側バスラインにリレーを介して接続されるとともに前記
半導体素子上に形成された所定のパッドに当接可能なグ
ランド側接触子との間に介装されたバイパスコンデンサ
を具えた複数の単位リレー回路とを有するものである。SUMMARY OF THE INVENTION For this reason, the first of this application is described.
The present invention relates to a noise filter relay circuit for semiconductor device measurement test that transmits a predetermined signal between a plurality of semiconductor devices arranged in a matrix on a semiconductor wafer and a tester, wherein the relay circuit is A power supply side bus line to which a predetermined power supply potential is supplied from a tester, a ground side bus line to which a ground voltage is supplied, and a predetermined pad formed on the semiconductor element connected to the power supply side bus line. A power supply contact that can be contacted and a ground contact that is connected to the ground bus line via a relay and that can contact a predetermined pad formed on the semiconductor element. And a plurality of unit relay circuits each having a bypass capacitor.
【0025】またこの出願の第2の発明は、半導体ウエ
ハ上にマトリックス状に配置された複数の半導体素子上
に形成されたパッドに当接可能な接触子とテスタとの間
で所定信号を伝送する半導体素子測定試験用ノイズフィ
ルタリレーボード、に係るものであって、該リレーボー
ドはテスタから所定電源電圧が供給される電源側バスラ
インと、アース電圧が供給されるグランド側バスライン
と、前記電源側バスラインに接続された電源側接触子と
前記グランド側バスラインにリレーを介して接続された
グランド側接触子と、両接触子間に介装されたバイパス
コンデンサを具えた複数の単位リレー回路とを有するも
のである。According to a second invention of this application, a predetermined signal is transmitted between a contactor capable of contacting pads formed on a plurality of semiconductor elements arranged in a matrix on a semiconductor wafer and a tester. A noise filter relay board for a semiconductor device measurement test, wherein the relay board includes a power supply side bus line to which a predetermined power supply voltage is supplied from a tester, a ground side bus line to which a ground voltage is supplied, A plurality of unit relays including a power supply contact connected to a power supply bus line, a ground contact connected to the ground bus line via a relay, and a bypass capacitor interposed between the two contacts. And a circuit.
【0026】接触子はプローブボードの下側において斜
行状に突出させてもよく、垂直状に突出させてもよい。
またノイズフィルタリレー回路の構成要素はプローブボ
ードの上面に配置してもよく、下面に配置してもよい。The contact may project obliquely below the probe board, or may project vertically.
The components of the noise filter relay circuit may be arranged on the upper surface of the probe board, or may be arranged on the lower surface.
【0027】さらにノイズフィルタリレー回路周りをモ
ジュール化したプローブブロックとして形成し、そのよ
うなプローブブロックを2個以上集合させてプローブボ
ードに搭載するようにしてもよい。Further, the periphery of the noise filter relay circuit may be formed as a modularized probe block, and two or more such probe blocks may be assembled and mounted on a probe board.
【0028】[0028]
【作用】ある半導体素子において電源側接触子とサブス
トレート側接触子との間がショートする不良が発生した
ものとする。この場合グランド側リレーを開けば回路そ
のものが存在しないことになるので、バックバイアス電
圧がグランドに落ちることはない。またグランド側接触
子とサブストレート側接触子との間がショートする不良
が発生した場合にも同様に回路が存在しないことにな
る。いずれにしてもグランド側リレーを開くことにより
バイパスコンデンサおよび該半導体素子がシステムから
切り離される。したがって不良品である半導体素子が良
品である半導体素子の測定試験に悪影響を及ぼすことは
ない。It is assumed that a short circuit has occurred between a power supply contact and a substrate contact in a certain semiconductor device. In this case, if the ground side relay is opened, the circuit itself does not exist, so that the back bias voltage does not drop to the ground. Similarly, when a failure occurs in which a short circuit occurs between the ground contact and the substrate contact, no circuit exists. In any case, opening the ground-side relay disconnects the bypass capacitor and the semiconductor device from the system. Therefore, the defective semiconductor element does not adversely affect the measurement test of the good semiconductor element.
【0029】[0029]
【実施例】図1にこの発明のノイズフィルタリレー回路
を、また図2および図3にそのようなノイズフィルタリ
レー回路を搭載したノイズフィルタリレーボードの一例
を示す。図1に示すノイズフィルタリレー回路101に
おいては、テスタ109のバックバイアス電源104に
接続されたバックバイアスライン112と同じくアース
116に接続されたアースライン114とに沿って、同
一回路構成の単位リレー回路103が2個以上並列に接
続されている。通常この単位リレー回路103は半導体
素子の同時測定試験個数と等しい数だけ、例えば「16
個取り」のパラレルテスト方式なら16個が設けられて
いる。また各半導体素子とテスタ109間は信号入力ラ
イン106と信号出力ライン108により接続されてお
り、これらのラインを介して信号の伝送が行われる。こ
れらのライン数は測定試験条件に応じて適宜増減され
る。1 shows an example of a noise filter relay circuit according to the present invention, and FIGS. 2 and 3 show an example of a noise filter relay board equipped with such a noise filter relay circuit. In the noise filter relay circuit 101 shown in FIG. 1, a unit relay circuit having the same circuit configuration is formed along a back bias line 112 connected to the back bias power supply 104 of the tester 109 and an earth line 114 similarly connected to the earth 116. 103 or more are connected in parallel. Usually, the unit relay circuit 103 has a number equal to the number of simultaneous measurement tests of the semiconductor element, for example, “16”.
In the case of the "individual" parallel test method, 16 test pieces are provided. Each semiconductor element and the tester 109 are connected by a signal input line 106 and a signal output line 108, and a signal is transmitted through these lines. The number of these lines is appropriately increased or decreased according to the measurement test conditions.
【0030】各単位リレー回路103は電源側接触子1
11とグランド側接触子113とを具えており、これら
の接触子の個数は測定試験条件に応じて適宜増減され
る。電源側接触子111はテスタリレー110を介して
電源102(例えば5V)に接続されるとともに、電源
側バスライン105を介してバイパスコンデンサ119
に接続されている。ここでバイパスコンデンサ119は
半導体素子Mの測定試験時におけるノイズを低減させる
ノイズフィルタとして機能するものである。Each unit relay circuit 103 includes a power supply side contact 1
11 and ground-side contacts 113, and the number of these contacts is appropriately increased or decreased according to measurement test conditions. The power supply side contact 111 is connected to the power supply 102 (for example, 5 V) via the tester relay 110 and is connected to the bypass capacitor 119 via the power supply side bus line 105.
It is connected to the. Here, the bypass capacitor 119 functions as a noise filter that reduces noise during the measurement test of the semiconductor device M.
【0031】上記バイパスコンデンサ119はグランド
側バスライン107およびリレー117を介してアース
ライン114に接続されている。グランド側接触子11
3は同じくグランド側バスライン107およびリレー1
17を介してアースライン114に接続されている。該
リレー117は後述するように測定試験時に不良半導体
素子をシステム、すなわちノイズフィルタリレー回路1
01から切り離すものである。またこれらとは別にバッ
クバイアスライン112に接続されたバックバイアス接
触子121が設けられており、各半導体素子のバックバ
イアス接触子121は図示しないサブストレートにより
互いに接続されている。ここで接触子121に掛かるバ
ックバイアス電圧は半導体素子の動作を安定させるため
のものである。The bypass capacitor 119 is connected to the ground line 114 via the ground-side bus line 107 and the relay 117. Ground contact 11
3 is the ground bus line 107 and the relay 1
17 is connected to the ground line 114. As will be described later, the relay 117 is used to replace a defective semiconductor device during a measurement test with the system, that is, the noise filter relay circuit 1.
It is separated from 01. In addition, a back bias contact 121 connected to the back bias line 112 is provided separately, and the back bias contacts 121 of each semiconductor element are connected to each other by a substrate (not shown). Here, the back bias voltage applied to the contact 121 is for stabilizing the operation of the semiconductor element.
【0032】図2および図3に示すノイズフィルタリレ
ーボード131において、上記のノイズフィルタリレー
回路101を搭載したプローブボード133はそのほぼ
中心部を厚さ方向に透通する、測定試験作業時に作業員
が接触子の半導体素子への接触状態を確認するための、
目視用窓135を有している。またこの目視用窓135
を同心状に囲んで信号転送用ワイヤ(図示せず)の挿通
孔138を有している。これらの接触子透通孔138は
パラレルテストにおける半導体素子の最大同時測定試験
個数と等しい個数だけ形成される。In the noise filter relay board 131 shown in FIGS. 2 and 3, the probe board 133 on which the above-described noise filter relay circuit 101 is mounted has a substantially central portion penetrated in the thickness direction. To confirm the contact state of the contact to the semiconductor element,
It has a viewing window 135. In addition, this viewing window 135
Are concentrically surrounded by an insertion hole 138 for a signal transfer wire (not shown). The number of the contact holes 138 is equal to the maximum number of simultaneous measurement tests of the semiconductor device in the parallel test.
【0033】目視用窓135を跨いでプローブボード1
33上にはフィルタリレーベース141が設けられてお
り、このフィルタリレーベース141上には電源側バス
ライン105、グランド側バスライン107およびグラ
ンド側リレー117がそれぞれの配置で載設されてい
る。またグランド側リレー117の下側には両バスライ
ン105、107に接続されてバイパスコンデンサ11
9が取り付けられている。The probe board 1 spans the viewing window 135
A filter relay base 141 is provided on the base 33, and the power supply side bus line 105, the ground side bus line 107, and the ground side relay 117 are mounted on the filter relay base 141 in respective arrangements. The bypass capacitor 11 is connected to both bus lines 105 and 107 below the ground side relay 117.
9 is attached.
【0034】さらに両バスライン105、107の外縁
に沿って接触子111、113の挿通孔137を有して
いる。これらの接触子透通孔137はパラレルテストに
おける半導体素子の最大同時測定試験個数と等しい個数
だけ形成される。各接触子111(113)は対応する
透通孔137を通ってプローブボード133の表側から
裏側に延在している。プローブボード133の下面には
目視用窓135の両縁部に沿ってアレンジボード139
が取り付けられており、各アレンジボード139の下面
には接触子を指向させる溝が刻設されている。すなわち
これらの溝はプローブボード133の裏側に出た接触子
111(113)に係合して、ウエハ上の半導体素子の
パッドの配列に対応するように、接触子111(11
3)先端を整列させるのである。Further, insertion holes 137 for the contacts 111 and 113 are provided along the outer edges of both bus lines 105 and 107. The number of the contact holes 137 is equal to the maximum number of simultaneous measurement tests of the semiconductor device in the parallel test. Each contact 111 (113) extends from the front side to the rear side of the probe board 133 through the corresponding through hole 137. An arrangement board 139 is provided on the lower surface of the probe board 133 along both edges of the viewing window 135.
Is attached, and a groove for directing the contactor is formed on the lower surface of each arrangement board 139. That is, these grooves are engaged with the contacts 111 (113) exposed on the back side of the probe board 133, and correspond to the arrangement of the pads of the semiconductor elements on the wafer.
3) Align the tips.
【0035】さて前記のようなこの発明のノイズフィル
タリレー回路において仮に2個の半導体素子CP1、C
P2についてパラレルテストを行うものとし、半導体素
子CP1が電源側接触子111とサブストレート側接触
子121間またはグランド側接触子と接触子113とサ
ブストレート側接触子121と間がショートする不良品
であるとする。不良が発生したときにグランド側リレー
117を開けば、いずれの場合にも回路そのものが存在
しないことになる。すなわち不良が発生した単位リレー
回路のバイパスコンデンサ119および半導体素子CP
1が全体のシステムから切り離されるので、良品である
半導体素子CP2の測定試験に悪影響を与えることがな
い。In the noise filter relay circuit of the present invention as described above, two semiconductor elements CP1 and CP
A parallel test is performed on P2, and the semiconductor element CP1 is a defective product in which a short circuit occurs between the power contact 111 and the substrate contact 121 or between the ground contact, the contact 113, and the substrate contact 121. Suppose there is. If the ground side relay 117 is opened when a failure occurs, the circuit itself does not exist in any case. That is, the bypass capacitor 119 and the semiconductor element CP of the unit relay circuit in which the failure has occurred.
Since 1 is separated from the entire system, the measurement test of the non-defective semiconductor element CP2 is not adversely affected.
【0036】以上のようにこの発明においては、各単位
リレー回路当たりのリレー使用個数を半減させたことお
よび最もフィルタ機能を発揮できる位置にバイパスコン
デンサを配置したこと、の両者があいまってシステムの
ノイズ低減能力が顕著に向上されたものであるが、以下
種々の実験データによりこの効果を証明する。As described above, in the present invention, the number of relays used for each unit relay circuit is reduced by half, and the bypass capacitor is arranged at the position where the filter function can be exhibited most, and the noise of the system is combined. Although the reduction ability is remarkably improved, this effect will be proved by various experimental data below.
【0037】まず図4および図5により接触子間電圧の
経時変化を示す。図4は従来のノイズフィルタリレー回
路についてのものであり、図5はこの発明のノイズフィ
ルタリレー回路についてのものである。両図中カーブI
は電源側接触子とサブストレート側接触子間の電位差、
カーブIIは電源側接触子とグランド側接触子間の電位
差を示す。また縦軸は電圧(1目盛り100mV)を、
横軸は時間を示す。First, FIGS. 4 and 5 show changes with time in the voltage between contacts. FIG. 4 shows a conventional noise filter relay circuit, and FIG. 5 shows a noise filter relay circuit of the present invention. Curve I in both figures
Is the potential difference between the power contact and the substrate contact,
Curve II shows the potential difference between the power contact and the ground contact. The vertical axis represents the voltage (100 mV per scale).
The horizontal axis indicates time.
【0038】まず図4の従来技術の場合において、カー
ブIのVPP(ピーク間電圧差)は190mVであり、
カーブIIのVPPは510mVである。これに対して
図5のこの発明の場合にはカーブIのVPPは120m
vであり、カーブIIのVPPは280mVである。First, in the case of the prior art shown in FIG. 4, VPP (peak-to-peak voltage difference) of curve I is 190 mV,
The VPP of curve II is 510 mV. On the other hand, in the case of the present invention shown in FIG. 5, the VPP of the curve I is 120 m.
v, and the VPP of curve II is 280 mV.
【0039】このように従来技術に比べてこの発明の場
合はVPP(ピーク間電圧差)が顕著に小さいのであ
る。このことは出力電圧がノイズにより乱される度合い
が少ないということであり、ひいてはこの発明のシステ
ムがノイズ低減能力において非常に秀れていることを示
している。このようにノイズを小さくすることにより、
半導体素子の真の性能を測定試験することができるので
ある。As described above, in the case of the present invention, VPP (peak-to-peak voltage difference) is remarkably small as compared with the prior art. This means that the output voltage is less disturbed by noise, and thus indicates that the system of the present invention is very excellent in noise reduction capability. By reducing the noise in this way,
The true performance of a semiconductor device can be measured and tested.
【0040】またノイズが少ないとそれだけ幅広い電圧
範囲に亘ってシステム、すなわちノイズフィルタリレー
回路がノイズに乱されることなく適正に作用することが
できる。表1のデータによりこの事実を証明する。The lower the noise, the more the system, that is, the noise filter relay circuit, can operate properly without being disturbed by noise over a wider voltage range. The data in Table 1 prove this fact.
【0041】[0041]
【表1】 [Table 1]
【0042】この表において「基準」とは従来技術のノ
イズフィルタリレー回路の場合に印加できる電圧をいう
のであって、その右に並ぶ数字はこの発明のノイズフィ
ルタリレー回路により測定試験した半導体素子サンプル
の番号である。またそれぞれのサンプルのセルに記入さ
れている数値は、半導体素子の適正な動作を保証しつ
つ、基準に比べて電圧を上下させることができる幅を示
している。つまりある基準仕様(例えば5V)から印加
電圧を上下させて(例えば8〜9V)もどこまで半導体
素子が適正に動作し得るかを示しているのである。なお
数値は0.1=100mVである。In this table, the "reference" means a voltage which can be applied in the case of the conventional noise filter relay circuit, and the numbers on the right thereof are semiconductor device samples measured and tested by the noise filter relay circuit of the present invention. Number. In addition, the numerical values written in the cells of each sample indicate a range in which the voltage can be increased or decreased as compared with the reference while ensuring proper operation of the semiconductor element. In other words, it shows how far the semiconductor element can operate properly even when the applied voltage is increased or decreased (for example, 8 to 9 V) from a certain reference specification (for example, 5 V). The numerical value is 0.1 = 100 mV.
【0043】例えばサンプル1の場合、最小は基準より
0.1(100mV)低く電圧を落としても半導体素子
は適正に作用し、逆に0.3(300mV)高く電圧を
上げても半導体素子は適正に動作するのである。実験に
供した16個の半導体素子の平均は最小−0.1で最大
0.2である。すなわちこの発明を採用することによ
り、従来技術のノイズフィルタリレー回路に比べて、平
均0.1(100mV)低く電圧を落としても半導体素
子は適正に作用し、逆に0.2(200mV)高く電圧
を上げても半導体素子は適正に動作するのである。For example, in the case of sample 1, the semiconductor element operates properly even when the voltage is lowered by 0.1 (100 mV) below the reference, and conversely, when the voltage is increased by 0.3 (300 mV), It works properly. The average of the 16 semiconductor devices used in the experiment is a minimum of -0.1 and a maximum of 0.2. That is, by adopting the present invention, the semiconductor element operates properly even if the voltage is lowered by an average of 0.1 (100 mV) lower than that of the conventional noise filter relay circuit, and conversely increases by 0.2 (200 mV). Even if the voltage is increased, the semiconductor device operates properly.
【0044】図6および図7に示すのはこの発明のノイ
ズフィルタリレーボードの第1の変化実施例であって、
図2および図3に示す基本実施例における屈曲斜行型の
接触子に代えて垂直型の接触子を用いたものである。す
なわちプローブボード133にはパラレルテスト方式に
おける半導体素子の最大同時測定試験個数と同数の信号
転送用ワイヤ透通孔138が同心状に形成されている。
またこれらの透通孔138に透通される信号転送用ワイ
ヤ136の引出しに影響を与えない位置において、プロ
ーブボード133上にはフィルタリレーベース141が
載設されており、さらにその上には電源側バスライン1
05、グランド側バスライン107およびグランド側リ
レー117が載設されている。各バスライン105(1
07)から外方に引き出された接触子111(113)
はバスライン105(107)のすぐ外側で垂直方向下
方に延在してプローブボード133の下側に突出してい
る。FIGS. 6 and 7 show a first modified embodiment of the noise filter relay board of the present invention.
A vertical contact is used in place of the bent oblique contact in the basic embodiment shown in FIGS. That is, the same number of signal transfer wire through holes 138 as the maximum number of simultaneous measurement tests of semiconductor elements in the parallel test method are formed concentrically on the probe board 133.
A filter relay base 141 is mounted on the probe board 133 at a position that does not affect the extraction of the signal transfer wire 136 penetrated through these through holes 138, and a power supply is further mounted thereon. Side bus line 1
05, a ground side bus line 107 and a ground side relay 117 are mounted. Each bus line 105 (1
07), the contact 111 (113) drawn outward.
Extends vertically downward just outside the bus line 105 (107) and projects below the probe board 133.
【0045】図8は接触子の配列の一例を示すものであ
って、接触子の先端がプローブボード133の目視用窓
135の内部において複列状に配置されている。また図
9は接触子の配列の他の例を示すものであって、接触子
の先端がプローブボード133の目視用窓135内にお
いて単列状に配列されている。もっとも接触子先端の配
列はこれらに限定されるものではなく、アレンジボード
139(図3参照)の仕様を適宜変更することにより、
パラレルテストの方式に応じて、自由に設定することが
できる。FIG. 8 shows an example of the arrangement of the contacts. The tips of the contacts are arranged in a double row inside the viewing window 135 of the probe board 133. FIG. 9 shows another example of the arrangement of the contacts, in which the tips of the contacts are arranged in a single line in the viewing window 135 of the probe board 133. However, the arrangement of the contact tips is not limited to these, but by appropriately changing the specifications of the arrangement board 139 (see FIG. 3),
It can be set freely according to the parallel test method.
【0046】図10には図2に示す基本的実施例におけ
る接触子の延在態様を、また図11には上記の第1の変
化実施例における接触子の延在態様を、それぞれ示すも
のである。この対比から明らかなように、基本的実施例
の場合には接触子は一旦外方に向かってから垂直方向下
方に延在し、さらに内方に向かって斜行延在している。
これに比べて第1の変化実施例の場合には接触子の長さ
が顕著に小さくなっている。ノイズフィルタリレー回路
にあっては接触子も一種のインピーダンス要素を形成す
るものであるから、接触子が短いということはそれだけ
回路インピーダンスが小さいことになり、バイパスコン
デンサのフィルタ機能を減殺する度合いが少ないという
ことになる。FIG. 10 shows the extension of the contact in the basic embodiment shown in FIG. 2, and FIG. 11 shows the extension of the contact in the first modified embodiment. is there. As is evident from this comparison, in the case of the basic embodiment, the contacts once extend outwardly, vertically downward, and further obliquely inwardly.
In contrast, in the case of the first variant, the length of the contact is significantly reduced. In a noise filter relay circuit, the contact also forms a kind of impedance element, so a short contact means a small circuit impedance, and the degree of diminishing the filter function of the bypass capacitor is small. It turns out that.
【0047】図12および図13に示すのはこの発明の
ノイズフィルタリレーボードの第2の変化実施例であっ
て、第1の変化実施例の場合と同様に、図2および図3
に示す基本実施例における屈曲斜行型の接触子に代えて
垂直型の接触子を用いたものである。すなわちプローブ
ボード133にはパラレルテストにおける半導体素子の
最大同時測定試験個数と同数の信号転送用ワイヤ透通孔
138が同心状に形成されている。またプローブボード
133上にはフィルタリレーベース141が載設されて
おり、さらにその上には電源側バスライン105、グラ
ンド側バスライン107およびグランド側リレー117
が載設されている。各バスライン105(107)から
外方に引き出された接触子111(113)はバスライ
ン105(107)のすぐ外側で垂直方向下方に延在
し、アレンジボード139に保持されてプローブボード
133の下側に突出している。FIGS. 12 and 13 show a second modified embodiment of the noise filter relay board of the present invention. As in the case of the first modified embodiment, FIGS.
In this embodiment, a vertical contact is used in place of the bent oblique contact in the basic embodiment shown in FIG. That is, in the probe board 133, the same number of signal transfer wire through holes 138 as the maximum simultaneous measurement test number of semiconductor elements in the parallel test are formed concentrically. On the probe board 133, a filter relay base 141 is mounted, and further thereon a power supply side bus line 105, a ground side bus line 107, and a ground side relay 117.
Is installed. The contacts 111 (113) drawn outward from each bus line 105 (107) extend vertically downward just outside the bus line 105 (107), are held by the arrangement board 139, and are It protrudes downward.
【0048】この変化実施例では信号転送用ワイヤ13
6はプローブボード133の上面に直接パターン配線に
より配置されている。このように信号転送用ワイヤ13
6をプローブボード133の上方に突出させないので、
前の変化実施例の場合に比べて全体的に薄型でフラット
な構造となり、収納・運搬性がよくなる。また取扱時や
運搬時に信号転送用ワイヤを損傷することがないので、
メインテナンス性もよくなる。さらに前の実施例の場合
と同様に接触子を垂直型としているのでそれだけ回路イ
ンピーダンスが小さいことになり、バイパスコンデンサ
のフィルタ機能を減殺する度合いが少ない。In this modified embodiment, the signal transfer wire 13 is used.
Reference numeral 6 is arranged directly on the upper surface of the probe board 133 by pattern wiring. Thus, the signal transfer wire 13
6 does not protrude above the probe board 133,
Compared to the previous modified embodiment, the overall structure is thin and flat, and the storage and transportability is improved. Also, since the signal transfer wire will not be damaged during handling or transportation,
Maintenance is also improved. Further, as in the case of the previous embodiment, the contact is of the vertical type, so that the circuit impedance is correspondingly small, and the degree of diminishing the filter function of the bypass capacitor is small.
【0049】図14および図15に示すのはこの発明の
ノイズフィルタリレーボードの第3の変化実施例であっ
て、薄膜(メンブレン)を用いてノイズフィルタリレー
回路をプローブボードの下側に配置したものである。す
なわちプローブボード113の下側にはホルダ145に
より薄膜143が取り付けられており、この薄膜143
によりフィルタリレーベース141を保持している。ま
た信号転送用ワイヤはプローブボード133の下面に直
接パターン配線により設けられている。フィルタリレー
ベース141上には電源側ベースライン105、グラン
ド側ベースライン107およびグランド側リレー117
などが配置されている。この実施例の場合にはバンプ
(bump)状の接触子111、113が用いられてお
り、そのフィルタリレーベース141から下方への突出
度は100μm程度の僅かなものである。FIGS. 14 and 15 show a third variation of the noise filter relay board according to the present invention, in which a noise filter relay circuit is disposed below the probe board using a thin film (membrane). Things. That is, the thin film 143 is attached to the lower side of the probe board 113 by the holder 145.
Holds the filter relay base 141. The signal transfer wires are provided directly on the lower surface of the probe board 133 by pattern wiring. On the filter relay base 141, the power supply side base line 105, the ground side base line 107, and the ground side relay 117
And so on. In the case of this embodiment, bump-shaped contacts 111 and 113 are used, and the degree of protrusion downward from the filter relay base 141 is as small as about 100 μm.
【0050】上記のバンプはフォトリゾグラフィ技術に
より薄膜143から一体に突出形成されるものである。
その一例を図16および図17に示す。まず薄膜(メン
ブレン)側の製造であるが、基板フィルム151上にマ
スクを作成し、フォトエッチングによりシグナルトレー
ス153とグランドトレース155を形成する。ついで
ビアホールを形成した後、グランドプレーン157を基
板フィルム151の裏側に形成し、最後にバンプ159
を基板フィルム151の裏側から僅かに突出して形成す
る。かくして得られた薄膜側を別途フィルタリレー回路
を搭載して製造したプローブボード側と組み立ててノイ
ズフィルタリレーボードとするのである。The above bumps are formed integrally with the thin film 143 by a photolithography technique.
One example is shown in FIG. 16 and FIG. First, in the manufacture of the thin film (membrane) side, a mask is formed on the substrate film 151, and the signal trace 153 and the ground trace 155 are formed by photoetching. Next, after forming a via hole, a ground plane 157 is formed on the back side of the substrate film 151, and finally a bump 159 is formed.
Is formed so as to slightly protrude from the back side of the substrate film 151. The thin film side thus obtained is assembled with a probe board side manufactured by separately mounting a filter relay circuit to form a noise filter relay board.
【0051】前記の実施例のように接触子としてニード
ルを用いたものに比べてバンプにすると、組み立て取付
けなどの複雑な手順を必要とせず全てのバンプを一斉に
製造できるので、製造コストが大幅に低減する。また1
00μm以下のピッチで500個以上のバンプを非常に
高い位置精度で製造でき、しかもパラレルテストの仕様
に応じて複雑なパターンを容易にかつ比較的安価に製造
することができる。さらにニードルの場合に比べて半導
体素子側のパッドの損傷が極めて少ないという利点があ
る。If bumps are used as compared with the case where needles are used as the contacts as in the above-described embodiment, all bumps can be manufactured at once without the need for complicated procedures such as assembly and mounting, so that the manufacturing cost is greatly reduced. To be reduced. Also one
500 or more bumps can be manufactured with extremely high positional accuracy at a pitch of 00 μm or less, and a complicated pattern can be easily and relatively inexpensively manufactured according to the specifications of the parallel test. Further, there is an advantage that damage to the pad on the semiconductor element side is extremely small as compared with the case of the needle.
【0052】前の実施例と同様にノイズフィルタリレー
回路をプローブボードの下面側に配置したこの発明のノ
イズフィルタリレーボードの第4の変化実施例を図18
および図19に示す。この実施例においては前の実施例
と同様にノイズフィルタリレー回路をプローブボードの
下面側に配置したものである。すなわちプローブボード
133の下面に取り付けられたフィルタリレーベース1
41上にはバスライン105、107およびグランド側
リレー117などが載設されている。またフィルタリレ
ーベース141からは次に述べるメサVLS法やSOI
法によりピン(接触子111、113)が一体に突出形
成されている。信号転送用ワイヤはプローブボード13
3の下面に直接パターン配線されている。FIG. 18 shows a fourth modified embodiment of the noise filter relay board according to the present invention in which the noise filter relay circuit is arranged on the lower surface side of the probe board as in the previous embodiment.
And FIG. In this embodiment, a noise filter relay circuit is arranged on the lower surface side of the probe board as in the previous embodiment. That is, the filter relay base 1 attached to the lower surface of the probe board 133
The bus lines 105 and 107, the ground-side relay 117, and the like are mounted on 41. From the filter relay base 141, the mesa VLS method and the SOI
The pins (contacts 111 and 113) are integrally formed so as to protrude by the method. Signal transfer wire is probe board 13
The pattern wiring is directly carried out on the lower surface of the reference numeral 3.
【0053】ピンを成長させる技術の一例としてメサV
LS法を図20〜図23により説明する。まず図20に
示すように、シリコン基板161上にフォトリゾグラフ
ィ技術によりAuバンプ162を形成する。ついでフォ
トエッチング技術によりAuバンプ162以外のシリコ
ン基板161の全面をエッチングして、図21に示すよ
うに成長の核163となる部分を形成する。ついで全体
を950℃に加熱したAuシリコン融液に浸漬して上記
の核163をシリコン基板161上に融着させる。これ
により図22に示すようにピン成長の核となるシリコン
を核とし表面をAuで被覆したバンプ164が形成され
る。このバンプ164をSiCl4−H2(四塩化ケイ
素)ガスに暴露して、図23に示すようなピン165に
成長させる。As an example of a technique for growing a pin, Mesa V
The LS method will be described with reference to FIGS. First, as shown in FIG. 20, an Au bump 162 is formed on a silicon substrate 161 by a photolithography technique. Next, the entire surface of the silicon substrate 161 other than the Au bumps 162 is etched by a photoetching technique to form a portion serving as a growth nucleus 163 as shown in FIG. Then, the whole is dipped in an Au silicon melt heated to 950 ° C. to fuse the core 163 on the silicon substrate 161. As a result, as shown in FIG. 22, a bump 164 having silicon as a nucleus for pin growth as a nucleus and covering the surface with Au is formed. The bump 164 is exposed to a SiCl4-H2 (silicon tetrachloride) gas to grow a pin 165 as shown in FIG.
【0054】ピンを成長させる技術の他の例としてSO
I法を図24〜図26により説明する。VLS法で用い
るシリコン基板161を図24に示すようなSi層16
1a、、SiO2層161bおよびSi層161cから
なる3層構造とする。ついでフォトエッチング技術によ
り、図25に示すようにSi層161a上に信号転送ワ
イヤのパターン166を形成する。その後メサVLS法
によりピン167を成長させ、ピン167とパターン1
67の表面にメッキを施す。最後に図26に示すように
ピン167の先端をトリミングする。Another example of a technique for growing pins is SO.
The method I will be described with reference to FIGS. A silicon substrate 161 used in the VLS method is replaced with a Si layer 16 as shown in FIG.
1a, a SiO 2 layer 161b and a Si layer 161c. Next, a pattern 166 of a signal transfer wire is formed on the Si layer 161a by a photo etching technique as shown in FIG. Thereafter, the pin 167 is grown by the mesa VLS method, and the pin 167 and the pattern 1 are formed.
The surface of 67 is plated. Finally, the tip of the pin 167 is trimmed as shown in FIG.
【0055】この実施例のように接触子としてピンを成
長させる場合も、先の実施例におけるバンプの形成され
ていると同様に、多数のピンを一斉に製造することがで
きるので、接触子としてニードルを用いる場合に比べて
製造コストが大幅に低減する。In the case where pins are grown as contacts as in this embodiment, a large number of pins can be manufactured simultaneously, as in the case of forming the bumps in the previous embodiment. The manufacturing cost is greatly reduced as compared with the case where a needle is used.
【0056】図27〜図29にこの発明のノイズフィル
タリレーボードの第5の変化実施例を示す。この実施例
にあっては、ノイズフィルタリレー回路を構成する回路
素子をプモジュール化してプローブブロックとし、この
モジュール化されたプローブブロックを所定個数だけ集
合させてプローブボードに搭載したものである。FIGS. 27 to 29 show a fifth embodiment of the noise filter relay board according to the present invention. In this embodiment, the circuit elements constituting the noise filter relay circuit are formed into modular modules to form probe blocks, and a predetermined number of the modularized probe blocks are assembled and mounted on a probe board.
【0057】図27および図28に示すのは上記のプロ
ーブブロックの一例である。このプローブブロック20
0は他の要素を保持するためのベースホルダ201を有
しており、このベースホルダ201は合成樹脂などの絶
縁体から構成されている。ベースホルダ201の前面に
はフィルタリレーベース241が取り付けられており、
その上には電源側バスライン205、グランド側バスラ
イン207およびバイパスコンデンサ219などが載設
されている。電源側バスライン205には電源側接触子
211が、グランド側バスライン297にはグランド側
接触子213が、それぞれ接続されている。グランド側
リレー217はバイパスコンデンサ219の上方の位置
においてフィルタリレーベース241上に直接載設され
ている。FIGS. 27 and 28 show an example of the above probe block. This probe block 20
0 has a base holder 201 for holding other elements, and this base holder 201 is made of an insulator such as a synthetic resin. A filter relay base 241 is attached to the front of the base holder 201,
A power supply side bus line 205, a ground side bus line 207, a bypass capacitor 219 and the like are mounted thereon. A power contact 211 is connected to the power bus line 205, and a ground contact 213 is connected to the ground bus line 297. The ground side relay 217 is mounted directly on the filter relay base 241 at a position above the bypass capacitor 219.
【0058】このようなプローブブロック200は所定
数が集合されて図29に示すようにプローブボード13
3に搭載される。なおここでは6個のプローブブロック
200が搭載されているが、プローブブロック200の
搭載個数はこれに限定されるものではなく、パラレルテ
ストの仕様に応じて適宜かつ自由にその個数を設定する
ことができる。A predetermined number of such probe blocks 200 are grouped together, and as shown in FIG.
3 Here, six probe blocks 200 are mounted, but the number of mounted probe blocks 200 is not limited to this, and the number can be set appropriately and freely according to the specifications of the parallel test. it can.
【0059】ノイズフィルリレー回路に用いられている
リレーは約5±1〜2mmの厚さを有しており、バイパ
スコンデンサは約0.8mmの厚さを有している。した
がって両者を重ねて配置した場合には合計5.8±1〜
2mmの厚さ方向空間を占拠することになる。ここでプ
ローブブロックの厚さT(図29参照)はウエハ上にお
ける半導体素子の短辺方向の寸法により制約される。す
なわち隣接するプローブブロック間のピッチは隣接する
半導体素子間のピッチに応じて設定されるものである。
したがってプローブブロックの厚さはなるべく大きくし
ないのが望ましい。この理由からこの実施例においては
バイパスコンデンサ上にリレーを載置することを避け
て、上方のフィルタリレーベース上に配置するようにし
たのである。The relay used in the noise fill relay circuit has a thickness of about 5 ± 1 to 2 mm, and the bypass capacitor has a thickness of about 0.8 mm. Therefore, when both are arranged in an overlapping manner, a total of 5.8 ± 1
It occupies a space in the thickness direction of 2 mm. Here, the thickness T (see FIG. 29) of the probe block is limited by the dimension of the semiconductor element on the wafer in the short side direction. That is, the pitch between adjacent probe blocks is set according to the pitch between adjacent semiconductor elements.
Therefore, it is desirable that the thickness of the probe block is not increased as much as possible. For this reason, in this embodiment, the relay is not mounted on the bypass capacitor, but is arranged on the upper filter relay base.
【0060】このようにノイズフィルタリレー回路素子
をモジュール化したことにより、使用中に接触子が破損
した場合には、その接触子が所属するプローブブロック
のみを交換すればよくノイズフィルタリレーボード全体
を交換する必要がない。このためメインテナンスコスト
が大幅に低減する。[0060] By modularizing the noise filter relay circuit element as described above, if a contact breaks during use, only the probe block to which the contact belongs needs to be replaced, and the entire noise filter relay board needs to be replaced. No need to replace. For this reason, maintenance costs are greatly reduced.
【0061】接触子の取付け作業を分割できるので作業
が迅速化し、厳しい納期要求にもスムーズに対処するこ
とができる。例えば64本の接触子を取り付けるには、
モジュール化してない場合には1本づつ順次取り付けて
いかなければならない。ところがモジュール化した場合
には例えば8個のプローブブロックに分割して、各プロ
ーブブロックにおける接触子の取付けを並行して行うこ
とができる。Since the work for mounting the contacts can be divided, the work can be sped up, and strict demands for delivery can be dealt with smoothly. For example, to attach 64 contacts,
If they are not modularized, they must be installed one by one. However, in the case of modularization, for example, the probe blocks are divided into eight probe blocks, and the mounting of the contacts on each probe block can be performed in parallel.
【0062】パラレルテストにおける同時測定試験個数
に変更があっても、プローブブロックを増減することに
より柔軟に対応することができる。すなわち仕様変更の
自由度が高くなる。Even if there is a change in the number of simultaneous measurement tests in the parallel test, it is possible to flexibly cope with it by increasing or decreasing the number of probe blocks. That is, the degree of freedom in changing the specifications is increased.
【0063】[0063]
【発明の効果】この発明のノイズフィルタリレー回路に
おいてはバイパスコンデンサを電源側接触子とグランド
側接触子との間に配置している。この故に両接触子とバ
イパスコンデンサとの間の距離が非常に小さくなり、そ
れだけ回路インピーダンスが小さくなるので、バイパス
コンデンサのフィルタ機能すなわちノイズ除去能力が減
殺される度合いが少なくなる。換言すればバイパスコン
デンサのフィルタ機能が最大限に発揮されることにな
る。これに比べて従来のノイズフィルタリレー回路にお
いては、接触子とバイパスコンデンサとの間にリレーを
配置している。リレーは寸法にして10mm近くあるの
でそれ自身かなりのインピーダンス要素となり、それだ
け回路インピーダンスが大きくなってバイパスコンデン
サのフィルタ機能が減殺されるのである。According to the noise filter relay circuit of the present invention, the bypass capacitor is disposed between the power contact and the ground contact. For this reason, the distance between both contacts and the bypass capacitor becomes very small, and the circuit impedance becomes small accordingly, so that the filtering function of the bypass capacitor, that is, the noise elimination ability is reduced less. In other words, the filter function of the bypass capacitor is maximized. In contrast, in a conventional noise filter relay circuit, a relay is arranged between a contact and a bypass capacitor. Since the relay is close to 10 mm in size, it becomes a considerable impedance element itself, which increases the circuit impedance and reduces the filtering function of the bypass capacitor.
【0064】またリレー個数が従来の場合に比べて半分
となる。リレーは長手方向には半導体素子レベルの寸法
があるので、これによりプローブボード上におけるリレ
ーの総占拠スペースが大幅に減少し、ノイズフィルタリ
レーボードの小型化に大きく寄与することができる。Further, the number of relays is reduced by half compared with the conventional case. Since the relay has a dimension at the level of a semiconductor element in the longitudinal direction, the total space occupied by the relay on the probe board is greatly reduced, which can greatly contribute to miniaturization of the noise filter relay board.
【0065】さらに製造コストが半減するのは勿論であ
るが、それに加えてシステムとしてみればリレーの交換
周期が倍になるので、メインテナンスコストも顕著に減
少する。Of course, the manufacturing cost is halved, but in addition, the replacement cycle of the relay is doubled as a system, so that the maintenance cost is also significantly reduced.
【0066】リレー1個当たりの消費電流は約200m
Aであるので、全体としてかなりの消費電力を節減する
ことができる。The current consumption per relay is about 200 m
Because of A, considerable power consumption can be saved as a whole.
【0067】32個取りのパラレルテストで仮に600
×32mAの電流が同時にグランドに流れてグランドレ
ベルがノイズとしても持ち上がった場合でも、バイパス
コンデンサのフィルタ機能が最大に発揮されるので充分
に対処することができる。In a parallel test of 32 pieces, tentatively 600
Even if a current of × 32 mA flows to the ground at the same time and the ground level rises as noise, the filter function of the bypass capacitor is fully exhibited, so that it is possible to sufficiently cope with it.
【図1】この発明のノイズフィルタリレー回路の構成を
示す回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a noise filter relay circuit of the present invention.
【図2】この発明のノイズフィルタリレーボードの基本
的実施例の構成を示す一部断面側面図である。FIG. 2 is a partial sectional side view showing a configuration of a basic embodiment of a noise filter relay board of the present invention.
【図3】この発明のノイズフィルタリレーボードの基本
的実施例の構成を示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing a configuration of a basic embodiment of a noise filter relay board of the present invention.
【図4】従来技術のノイズフィルタリレー回路における
接触子間電圧の経時変化を示すグラフである。FIG. 4 is a graph showing a temporal change of a voltage between contacts in a conventional noise filter relay circuit.
【図5】この発明のノイズフィルタリレー回路における
接触子間電圧の経時変化を示すグラフである。FIG. 5 is a graph showing a temporal change of a voltage between contacts in the noise filter relay circuit of the present invention.
【図6】この発明のノイズフィルタリレーボードの第1
の変化実施例の構成を示す一部断面側面図である。FIG. 6 shows a first embodiment of the noise filter relay board of the present invention.
FIG. 10 is a partial cross-sectional side view showing a configuration of a variation example.
【図7】この発明のノイズフィルタリレーボードの第1
の変化実施例の構成を示す斜視図である。FIG. 7 shows a first embodiment of the noise filter relay board of the present invention.
FIG. 9 is a perspective view showing a configuration of a variation example of FIG.
【図8】この発明における接触子の配列の一例を示す下
面図である。FIG. 8 is a bottom view showing an example of an arrangement of contacts according to the present invention.
【図9】この発明における接触子の配列の他の例を示す
下面図である。FIG. 9 is a bottom view showing another example of the arrangement of the contacts in the present invention.
【図10】この発明のノイズフィルタリレーボードの基
本的実施例における接触子の延在態様を示す一部断面側
面図である。FIG. 10 is a partial cross-sectional side view showing a manner in which a contact extends in a basic embodiment of the noise filter relay board of the present invention.
【図11】この発明の第1の実施例のノイズフィルタリ
レーボードにおける接触子の延在態様を示す一部断面側
面図である。FIG. 11 is a partial cross-sectional side view showing an extending mode of a contact in the noise filter relay board according to the first embodiment of the present invention.
【図12】この発明のノイズフィルタリレーボードの第
2の変化実施例の構成を示す一部断面側面図である。FIG. 12 is a partial cross-sectional side view showing a configuration of a second modified example of the noise filter relay board of the present invention.
【図13】この発明のノイズフィルタリレーボードの第
2の変化実施例の構成を示す斜視図である。FIG. 13 is a perspective view showing a configuration of a second modified embodiment of the noise filter relay board of the present invention.
【図14】この発明のノイズフィルタリレーボードの第
3の変化実施例の構成を示す一部断面側面図である。FIG. 14 is a partial cross-sectional side view showing a configuration of a third modified example of the noise filter relay board of the present invention.
【図15】この発明のノイズフィルタリレーボードの第
3の変化実施例の構成を示す斜視図である。FIG. 15 is a perspective view showing a configuration of a third modified example of the noise filter relay board of the present invention.
【図16】フォトリゾグラフィ技術によるバンプ(接触
子)の形成工程を示す断面側面である。FIG. 16 is a sectional side view showing a step of forming a bump (contact) by a photolithography technique.
【図17】フォトリゾグラフィ技術によるバンプ(接触
子)の形成工程を示すフローチャートである。FIG. 17 is a flowchart showing a step of forming a bump (contact) by a photolithography technique.
【図18】この発明のノイズフィルタリレーボードの第
4の変化実施例の構成を示す一部断面側面図である。FIG. 18 is a partial cross-sectional side view showing a configuration of a fourth modified example of the noise filter relay board of the present invention.
【図19】この発明のノイズフィルタリレーボードの第
3の変化実施例の構成を示す斜視図である。FIG. 19 is a perspective view showing a configuration of a third modified example of the noise filter relay board of the present invention.
【図20】メサVLS法によるピン(接触子)の形成工
程を示す斜視図である。FIG. 20 is a perspective view showing a step of forming a pin (contact) by a mesa VLS method.
【図21】メサVLS法によるピン(接触子)の形成工
程を示す斜視図である。FIG. 21 is a perspective view showing a step of forming a pin (contact) by a mesa VLS method.
【図22】メサVLS法によるピン(接触子)の形成工
程を示す斜視図である。FIG. 22 is a perspective view showing a step of forming pins (contacts) by a mesa VLS method.
【図23】メサVLS法によるピン(接触子)の形成工
程を示す斜視図である。FIG. 23 is a perspective view showing a step of forming pins (contacts) by a mesa VLS method.
【図24】SOI法によるピン(接触子)の形成工程を
示す断面側面図である。FIG. 24 is a cross-sectional side view showing a step of forming pins (contacts) by the SOI method.
【図25】SOI法によるピン(接触子)の形成工程を
示す断面側面図である。FIG. 25 is a sectional side view showing a step of forming pins (contacts) by the SOI method.
【図26】SOI法によるピン(接触子)の形成工程を
示す断面側面図である。FIG. 26 is a cross-sectional side view showing a step of forming a pin (contact) by the SOI method.
【図27】この発明のノイズフィルタリレーボードの第
5の実施例におけるプローブブロックの構成を示す断面
側面図である。FIG. 27 is a sectional side view showing a configuration of a probe block in a fifth embodiment of the noise filter relay board of the present invention.
【図28】この発明のノイズフィルタリレーボードの第
5の実施例におけるプローブブロックの構成を示す斜視
図である。FIG. 28 is a perspective view showing a configuration of a probe block in a fifth embodiment of the noise filter relay board of the present invention.
【図29】この発明のノイズフィルタリレーボードの第
5の実施例の構成を示す斜視図である。FIG. 29 is a perspective view showing the configuration of a fifth embodiment of the noise filter relay board of the present invention.
【図30】従来技術のノイズフィルタリレー回路の構成
を示す回路図である。FIG. 30 is a circuit diagram showing a configuration of a conventional noise filter relay circuit.
【図31】従来技術のノイズフィルタリレーボードの構
成を示す一部断面側面図である。FIG. 31 is a partial cross-sectional side view showing a configuration of a conventional noise filter relay board.
【図32】従来技術のノイズフィルタリレーボードの構
成を示す斜視図である。FIG. 32 is a perspective view showing a configuration of a conventional noise filter relay board.
【図33】従来技術の改良型ノイズフィルタリレー回路
の構成を示す回路図である。FIG. 33 is a circuit diagram showing a configuration of an improved noise filter relay circuit of the related art.
1、101 :ノイズフィルタリレー回路 3、103 :単位リレー回路 5、105 :電源側バスライン 7、107 :グランド側バスライン 9、109 :テスタ 10、110 :テスタリレー 11、111 :電源側接触子 13、113 :グランド側接触子 15 :電源側リレー 17、117 :グランド側リレー 19、119 :バイパスコンデンサ 21、121 :サブストレート側接触子 23、123 :サブストレート 31、131 :ノイズフィルタリレーボード 33、133 :プローブボード 35、135 :目視用窓 37、137 :接触子挿通孔 136 :信号転送用ワイヤ 138 :信号転送用ワイヤ挿通孔 39、139 :アレンジボード 141 :フィルタリレーベース 143 :薄膜(メンブレン) 145 :ホルダ 151 :基板フィルム 159 :バンプ 161 :シリコン基板 164 :バンプ 165 :ピン 167 :ピン 200 :プローブブロック 201 :ベースホルダ 203 :トップガード 205 :電源側バスライン 207 :グランド側バスライン 211 :電源側接触子 213 :グランド側接触子 217 :グランド側リレー 219 :バイパスコンデンサ 1, 101: noise filter relay circuit 3, 103: unit relay circuit 5, 105: power supply side bus line 7, 107: ground side bus line 9, 109: tester 10, 110: tester relay 11, 111: power supply contact 13, 113: ground side contact 15: power supply side relay 17, 117: ground side relay 19, 119: bypass capacitor 21, 121: substrate side contact 23, 123: substrate 31, 131: noise filter relay board 33 133: Probe board 35, 135: Visual window 37, 137: Contact insertion hole 136: Signal transfer wire 138: Signal transfer wire insertion hole 39, 139: Arrange board 141: Filter relay base 143: Thin film (membrane) ) 145: Holder 15 1: substrate film 159: bump 161: silicon substrate 164: bump 165: pin 167: pin 200: probe block 201: base holder 203: top guard 205: power supply side bus line 207: ground side bus line 211: power supply side contact 213: ground contact 217: ground relay 219: bypass capacitor
Claims (8)
れた複数の半導体素子とテスタとの間で所定信号を伝送
する半導体素子測定試験用ノイズフィルタリレー回路で
あって、テスタから所定電源電位が供給される電源側バ
スラインと、アース電圧が供給されるグランド側バスラ
インと、前記電源側バスラインに接続されるとともに前
記半導体素子上に形成された所定のパッドに当接可能な
電源側接触子と前記グランド側バスラインにリレーを介
して接続されるとともに前記半導体素子上に形成された
所定のパッドに当接可能なグランド側接触子との間に介
装されたバイパスコンデンサを具えた複数の単位リレー
回路とを有することを特徴とする半導体素子測定試験用
ノイズフィルタリレー回路。1. A noise filter relay circuit for measuring and testing a semiconductor device for transmitting a predetermined signal between a plurality of semiconductor devices arranged in a matrix on a semiconductor wafer and a tester, wherein a predetermined power supply potential is supplied from the tester. Power supply-side bus line, a ground-side bus line to which a ground voltage is supplied, and a power-side contact that is connected to the power-side bus line and can contact a predetermined pad formed on the semiconductor element. And a plurality of bypass capacitors connected to the ground-side bus line via a relay and a ground-side contact that can be in contact with a predetermined pad formed on the semiconductor element. A noise filter relay circuit for a semiconductor device measurement test, comprising: a unit relay circuit.
れた複数の半導体素子上に形成されたパッドに当接可能
な接触子とテスタとの間で所定信号を伝送する半導体素
子測定試験用ノイズフィルタリレーボードであって、テ
スタから所定電源電圧が供給される電源側バスライン
と、アース電圧が供給されるグランド側バスラインと、
前記電源側バスラインに接続された電源側接触子と前記
グランド側バスラインにリレーを介して接続されたグラ
ンド側接触子と、両接触子間に介装されたバイパスコン
デンサを具えた複数の単位リレー回路とを有することを
特徴とする半導体素子測定試験用ノイズフィルタリレー
ボード。2. A noise filter for a semiconductor device measurement test for transmitting a predetermined signal between a contactor capable of contacting pads formed on a plurality of semiconductor devices arranged in a matrix on a semiconductor wafer and a tester. A relay board, a power supply side bus line to which a predetermined power supply voltage is supplied from a tester, and a ground side bus line to which a ground voltage is supplied,
A plurality of units each including a power supply contact connected to the power supply bus line, a ground contact connected to the ground bus line via a relay, and a bypass capacitor interposed between the contacts. A noise filter relay board for a semiconductor device measurement test, comprising a relay circuit.
て斜行状に突出してプローブボードに取り付けられてい
ることを特徴とする請求項2に記載のノイズフィルタリ
レーボード。3. The noise filter relay board according to claim 2, wherein said contacts are attached to the probe board so as to project obliquely below the probe board.
て垂直状に突出してプローブボードに取り付けられてお
り、かつ信号転送用ワイヤがプローブボードの上面側に
突出して配置されていることを特徴とする請求項2に記
載のノイズフィルタリレーボード。4. The probe according to claim 1, wherein the contact is vertically attached to the lower side of the probe board and is attached to the probe board, and a signal transfer wire is arranged to project to the upper side of the probe board. The noise filter relay board according to claim 2.
て垂直状に突出してプローブボードに取り付けられてお
り、かつ信号転送用ワイヤがプローブボード上面に直接
パターンハイ繊維より配置されていることを特徴とする
請求項2に記載のノイズフィルタリレーボード。5. The probe according to claim 1, wherein the contact is vertically protruded from a lower side of the probe board and is attached to the probe board, and a signal transfer wire is directly arranged on the upper surface of the probe board from a pattern high fiber. The noise filter relay board according to claim 2, wherein
れており、この薄膜上面に取り付けられたフィルタリレ
ーベース上にノイズフィルタリレー回路の構成要素が載
設されており、プローブボードの下面には信号転送用ワ
イヤが直接パターン配線により配置されており、かつ薄
膜から一体に垂直状に突出形成されたバンプが接触子を
構成していることを特徴とする請求項2に記載のノイズ
フィルタリレーボード。6. A thin film is mounted on a lower side of the probe board, and components of a noise filter relay circuit are mounted on a filter relay base mounted on an upper surface of the thin film, and a lower surface of the probe board is mounted on a lower surface of the probe board. 3. The noise filter relay board according to claim 2, wherein the signal transfer wires are directly arranged by pattern wiring, and the bumps formed integrally and vertically projecting from the thin film constitute the contacts. .
ィルタリレーベース上にノイズフィルタリレー回路の構
成要素が取り付けられており、プローブボードの下面に
は信号転送用ワイヤが直接パターン配線により配置され
ており、かつフィルタリレーベースから一体に垂直状に
突出形成されたピンが前記接触子を構成していることを
特徴とする請求項2に記載のノイズフィルタリレーボー
ド。7. A component of a noise filter relay circuit is mounted on a filter relay base mounted on a lower surface of a probe board, and signal transfer wires are directly arranged on the lower surface of the probe board by pattern wiring. 3. The noise filter relay board according to claim 2, wherein pins formed integrally and vertically projecting from the filter relay base constitute the contact.
化されたプローブブロックが少なくとも2個並設状に搭
載されており、各プローブブロックにおいてはベースホ
ルダの前面にフィルタリレーベースが取り付けられてお
り、フィルタリレーベース上には少なくとも2組以上の
ノイズフィルタリレー回路の構成要素が配置されてお
り、かつ同一回路に属するリレーとバイパスコンデンサ
とが上下にずれて配置されていることを特徴とする請求
項2に記載のノイズフィルタリレーボード。8. At least two modularized probe blocks are mounted side by side on a probe board, and in each probe block, a filter relay base is attached to a front surface of a base holder. 3. The relay base according to claim 2, wherein at least two or more sets of components of the noise filter relay circuit are arranged on the relay base, and the relays belonging to the same circuit and the bypass capacitors are arranged vertically shifted. The noise filter relay board described in 1.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9091488A JPH10268002A (en) | 1997-03-26 | 1997-03-26 | Noise filter relay circuit and noise filter relay board for semiconductor device measurement test |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9091488A JPH10268002A (en) | 1997-03-26 | 1997-03-26 | Noise filter relay circuit and noise filter relay board for semiconductor device measurement test |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10268002A true JPH10268002A (en) | 1998-10-09 |
Family
ID=14027809
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9091488A Withdrawn JPH10268002A (en) | 1997-03-26 | 1997-03-26 | Noise filter relay circuit and noise filter relay board for semiconductor device measurement test |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10268002A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007147589A (en) * | 2005-11-24 | 2007-06-14 | Powerchip Semiconductor Corp | Probe apparatus and system |
| JP2010261748A (en) * | 2009-04-30 | 2010-11-18 | Ricoh Co Ltd | Semiconductor inspection apparatus and measuring method of semiconductor inspection apparatus |
-
1997
- 1997-03-26 JP JP9091488A patent/JPH10268002A/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007147589A (en) * | 2005-11-24 | 2007-06-14 | Powerchip Semiconductor Corp | Probe apparatus and system |
| JP2010261748A (en) * | 2009-04-30 | 2010-11-18 | Ricoh Co Ltd | Semiconductor inspection apparatus and measuring method of semiconductor inspection apparatus |
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