JPH10269340A - 指紋検知装置 - Google Patents
指紋検知装置Info
- Publication number
- JPH10269340A JPH10269340A JP9075356A JP7535697A JPH10269340A JP H10269340 A JPH10269340 A JP H10269340A JP 9075356 A JP9075356 A JP 9075356A JP 7535697 A JP7535697 A JP 7535697A JP H10269340 A JPH10269340 A JP H10269340A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fingerprint
- layer
- elastic layer
- light
- transparent substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 claims abstract description 46
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 40
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 20
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 6
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 5
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 4
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 3
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 3
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 2
- 230000005489 elastic deformation Effects 0.000 description 2
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- NCGICGYLBXGBGN-UHFFFAOYSA-N 3-morpholin-4-yl-1-oxa-3-azonia-2-azanidacyclopent-3-en-5-imine;hydrochloride Chemical compound Cl.[N-]1OC(=N)C=[N+]1N1CCOCC1 NCGICGYLBXGBGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000010137 moulding (plastic) Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 210000004243 sweat Anatomy 0.000 description 1
Landscapes
- Image Input (AREA)
- Measurement Of The Respiration, Hearing Ability, Form, And Blood Characteristics Of Living Organisms (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 明瞭な指紋パターンを長期的に得ることがで
きるとともに、汚れを容易にクリーニング可能とする。 【解決手段】 弾性層2の表面に撥水性を有する潤滑層
11を設ける。潤滑層11としては、フッ素系樹脂やシ
リコーン系の離型剤が適しており、特に、弾性層表面に
予めシラン系のカップリング剤を塗布した後に形成して
もよい。また、潤滑層1を5μmであって、好ましくは
0.5〜3μmの膜厚で形成し、弾性層2を50μm以
下であって、好ましくは10〜20μmの膜厚で形成す
る。
きるとともに、汚れを容易にクリーニング可能とする。 【解決手段】 弾性層2の表面に撥水性を有する潤滑層
11を設ける。潤滑層11としては、フッ素系樹脂やシ
リコーン系の離型剤が適しており、特に、弾性層表面に
予めシラン系のカップリング剤を塗布した後に形成して
もよい。また、潤滑層1を5μmであって、好ましくは
0.5〜3μmの膜厚で形成し、弾性層2を50μm以
下であって、好ましくは10〜20μmの膜厚で形成す
る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、指紋検知装置に関
し、特に透明基体を介して指の指紋に光を照射し、その
反射光から指紋パターンを検出する指紋検知装置に関す
るものである。
し、特に透明基体を介して指の指紋に光を照射し、その
反射光から指紋パターンを検出する指紋検知装置に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、透明基体に押し当てられた指の
指紋に対して光を照射し、その反射光から指紋パターン
を検出する場合、図5に示すような、光学的性質が利用
されている。図5は、境界面における光の振る舞いを示
す説明図であり、1は光学ガラスなどの透明基体、1S
は透明基体1の表面、8は空気である。例えば、透明基
体1の下部gから、透明基体表面1Sの垂直軸jkと入
射角θbを持って、透明基体表面1Sの点bに入射され
た光は、透明基体表面1Sの垂直軸jkと屈折角θaを
なして空気8中のcに向けて出射される。
指紋に対して光を照射し、その反射光から指紋パターン
を検出する場合、図5に示すような、光学的性質が利用
されている。図5は、境界面における光の振る舞いを示
す説明図であり、1は光学ガラスなどの透明基体、1S
は透明基体1の表面、8は空気である。例えば、透明基
体1の下部gから、透明基体表面1Sの垂直軸jkと入
射角θbを持って、透明基体表面1Sの点bに入射され
た光は、透明基体表面1Sの垂直軸jkと屈折角θaを
なして空気8中のcに向けて出射される。
【0003】このとき、透明基体1および空気8の屈折
率をそれぞれnb,naとすると、入射角θbと屈折角
θaとの関係は、スネルの法則により、 na sinθa=nb sinθb となる。なお、通常、空気8の屈折率naは例えば光学
ガラスなどの透明基体1の屈折率nbより小さい(na
<nb)ことから、屈折角θaは入射角θbより大きく
(θa>θb)なる。
率をそれぞれnb,naとすると、入射角θbと屈折角
θaとの関係は、スネルの法則により、 na sinθa=nb sinθb となる。なお、通常、空気8の屈折率naは例えば光学
ガラスなどの透明基体1の屈折率nbより小さい(na
<nb)ことから、屈折角θaは入射角θbより大きく
(θa>θb)なる。
【0004】ここで、 sinθb>na/nbとなるよう
なもっと大きな入射角θbを選択した場合、スネルの法
則を満たす屈折角θaが存在しなくなり、入射された光
は透明基体表面1Sにて全反射するものとなる。この全
反射が起こる入射角すなわち臨界角θcは、 θc=sin-1(na/nb) で求められる。
なもっと大きな入射角θbを選択した場合、スネルの法
則を満たす屈折角θaが存在しなくなり、入射された光
は透明基体表面1Sにて全反射するものとなる。この全
反射が起こる入射角すなわち臨界角θcは、 θc=sin-1(na/nb) で求められる。
【0005】図5において、∠gbk=θc(=∠hb
k)とすると、gbf(hbi)で示される角度領域か
ら入射された光は、光路dbe(ebd)により透明基
体1側へ全反射される。また、角度領域gbhから入射
された光は、 sinθa>na/nbが成立しないことか
ら、光路abcにより空気8に出射される。なお、空気
8側から入射される光も同様であり、透明基体1側に出
射される光は、角度領域gbhにしか出射されない。
k)とすると、gbf(hbi)で示される角度領域か
ら入射された光は、光路dbe(ebd)により透明基
体1側へ全反射される。また、角度領域gbhから入射
された光は、 sinθa>na/nbが成立しないことか
ら、光路abcにより空気8に出射される。なお、空気
8側から入射される光も同様であり、透明基体1側に出
射される光は、角度領域gbhにしか出射されない。
【0006】このような、光学的特性において、透明基
体1側から全反射が発生するような所定入射角にて光を
指紋に照射するようにしたものが、図6に示す従来の指
紋検知装置である。図6において、1は透明基体、3は
指紋3Aを有する指、4は光源、5は画像検出部であ
り、光源4からの光が透明基体1を介して指紋3Aに照
射され、その反射光が画像検出部5により検出される。
体1側から全反射が発生するような所定入射角にて光を
指紋に照射するようにしたものが、図6に示す従来の指
紋検知装置である。図6において、1は透明基体、3は
指紋3Aを有する指、4は光源、5は画像検出部であ
り、光源4からの光が透明基体1を介して指紋3Aに照
射され、その反射光が画像検出部5により検出される。
【0007】通常、指紋の稜線部(凸部)の屈折率は、
空気の屈折率naより大きく、光学ガラスなどの透明基
体の屈折率nbに近いことから、指紋のうち空気が存在
する谷間部(凹部)に接する透明基体表面でのみ全反射
が発生し、透明基体の屈折率nbに近い屈折率を有する
指紋3Aの稜線部では全反射が発生せず、通過した光は
指に吸収され、あるいは乱反射する。
空気の屈折率naより大きく、光学ガラスなどの透明基
体の屈折率nbに近いことから、指紋のうち空気が存在
する谷間部(凹部)に接する透明基体表面でのみ全反射
が発生し、透明基体の屈折率nbに近い屈折率を有する
指紋3Aの稜線部では全反射が発生せず、通過した光は
指に吸収され、あるいは乱反射する。
【0008】したがって、画像検出部5では、指紋3A
の谷間部が明るく、稜線部が暗い指紋パターンが得られ
る。ここで、従来の指紋検知装置では、図6に示すよう
に、透明基体1の表面に弾性層2を設けて、指紋3Aの
稜線部の密着性を改善している(例えば、特開平1−1
45785号公報など)。
の谷間部が明るく、稜線部が暗い指紋パターンが得られ
る。ここで、従来の指紋検知装置では、図6に示すよう
に、透明基体1の表面に弾性層2を設けて、指紋3Aの
稜線部の密着性を改善している(例えば、特開平1−1
45785号公報など)。
【0009】稜線部には、図7に示すように、微細な凹
凸35が存在しており、この凹凸35に空気が存在する
と稜線部31において谷間部32と同様に全反射が発生
し、稜線部と谷間部との区別が付きにくくなる。したが
って、弾性層2を設けて稜線部の密着性を改善すること
により、稜線部31では全反射が発生せず、通過した光
は指に吸収され、あるいは乱反射するものとなり、鮮明
な画像が得られるものとなる。
凸35が存在しており、この凹凸35に空気が存在する
と稜線部31において谷間部32と同様に全反射が発生
し、稜線部と谷間部との区別が付きにくくなる。したが
って、弾性層2を設けて稜線部の密着性を改善すること
により、稜線部31では全反射が発生せず、通過した光
は指に吸収され、あるいは乱反射するものとなり、鮮明
な画像が得られるものとなる。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の指紋検知装置では、透明基体1の表面に設け
た弾性層2をシリコーンゴムなどの弾性材などから形成
していたことから、埃や指の汚れなどが付着しやすく、
弾性層2の表面を常にクリーニングする必要があり、実
用性に欠けるという問題点があった。これは、弾性層2
としては、細かな指紋の稜線部との密着性を高めるた
め、弾性係数の大きな膜を透明基体1の表面に形成する
必要があり、弾性層2として適切と思われる弾性係数の
大きな膜は、埃や指の汚れなどが付着しやすいという性
質を合わせ持っているからである。
うな従来の指紋検知装置では、透明基体1の表面に設け
た弾性層2をシリコーンゴムなどの弾性材などから形成
していたことから、埃や指の汚れなどが付着しやすく、
弾性層2の表面を常にクリーニングする必要があり、実
用性に欠けるという問題点があった。これは、弾性層2
としては、細かな指紋の稜線部との密着性を高めるた
め、弾性係数の大きな膜を透明基体1の表面に形成する
必要があり、弾性層2として適切と思われる弾性係数の
大きな膜は、埃や指の汚れなどが付着しやすいという性
質を合わせ持っているからである。
【0011】したがって、乾燥した指については皮膚な
どのカスや埃が、指紋パターンに沿って弾性層2の表面
に付着し、また湿った指については、脂分や汗が弾性層
2の表面に付着し、その表面をこすっても容易に除去す
ることができなくなる。特に、シリコーンゴムやシリコ
ーンゲルは、表面に物を密着させる性質が顕著であり、
当初においては明瞭な指紋パターンが得られるものの、
短時間でその表面に視認可能な汚れが付着し、不明瞭な
指紋パターンしか得られなくなるという問題点があっ
た。本発明はこのような課題を解決するためのものであ
り、明瞭な指紋パターンを長期的に得ることができると
ともに、汚れを容易にクリーニングできる指紋検知装置
を提供することを目的としている。
どのカスや埃が、指紋パターンに沿って弾性層2の表面
に付着し、また湿った指については、脂分や汗が弾性層
2の表面に付着し、その表面をこすっても容易に除去す
ることができなくなる。特に、シリコーンゴムやシリコ
ーンゲルは、表面に物を密着させる性質が顕著であり、
当初においては明瞭な指紋パターンが得られるものの、
短時間でその表面に視認可能な汚れが付着し、不明瞭な
指紋パターンしか得られなくなるという問題点があっ
た。本発明はこのような課題を解決するためのものであ
り、明瞭な指紋パターンを長期的に得ることができると
ともに、汚れを容易にクリーニングできる指紋検知装置
を提供することを目的としている。
【0012】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明による指紋検知装置は、請求項1とし
て、透明基体上に形成された光透過性を有する薄膜から
なり指紋稜線部の押圧によりわずかに弾性変形する弾性
層と、この弾性層上に形成された光透過性を有する薄膜
からなり撥水性を有し指紋稜線部の押圧により変形する
潤滑層とを備えるものである。したがって、指紋稜線部
が押圧された場合には、その稜線部の微細な凹凸が潤滑
層を介して弾性層で吸収されるとともに、弾性層に対す
る汚れの付着が潤滑層により抑止される。
るために、本発明による指紋検知装置は、請求項1とし
て、透明基体上に形成された光透過性を有する薄膜から
なり指紋稜線部の押圧によりわずかに弾性変形する弾性
層と、この弾性層上に形成された光透過性を有する薄膜
からなり撥水性を有し指紋稜線部の押圧により変形する
潤滑層とを備えるものである。したがって、指紋稜線部
が押圧された場合には、その稜線部の微細な凹凸が潤滑
層を介して弾性層で吸収されるとともに、弾性層に対す
る汚れの付着が潤滑層により抑止される。
【0013】また、請求項2として、請求項1記載の指
紋検知装置において、潤滑層を、フッ素系樹脂またはシ
リコーン系離型剤から形成したものである。したがっ
て、光透過性と撥水性とが得られる。また、請求項3と
して、請求項2記載の指紋検知装置において、潤滑層
を、弾性層表面に予めシラン系のカップリング剤を塗布
した後に形成するようにしたものである。したがって、
シラン系のカップリング剤により、弾性層と潤滑層とが
密着される。
紋検知装置において、潤滑層を、フッ素系樹脂またはシ
リコーン系離型剤から形成したものである。したがっ
て、光透過性と撥水性とが得られる。また、請求項3と
して、請求項2記載の指紋検知装置において、潤滑層
を、弾性層表面に予めシラン系のカップリング剤を塗布
した後に形成するようにしたものである。したがって、
シラン系のカップリング剤により、弾性層と潤滑層とが
密着される。
【0014】また、請求項4として、請求項1記載の指
紋検知装置において、潤滑層を、5μm以下であって、
好ましくは0.5〜3μmの膜厚で形成したものであ
る。したがって、指紋稜線部の微細な凹凸が潤滑層を介
して弾性層に伝達される。また、請求項5として、請求
項1記載の指紋検知装置において、弾性層を、50μm
以下であって、好ましくは10〜20μmの膜厚で形成
したものである。したがって、潤滑層を介して伝達され
た指紋稜線部の微細な凹凸が吸収される。
紋検知装置において、潤滑層を、5μm以下であって、
好ましくは0.5〜3μmの膜厚で形成したものであ
る。したがって、指紋稜線部の微細な凹凸が潤滑層を介
して弾性層に伝達される。また、請求項5として、請求
項1記載の指紋検知装置において、弾性層を、50μm
以下であって、好ましくは10〜20μmの膜厚で形成
したものである。したがって、潤滑層を介して伝達され
た指紋稜線部の微細な凹凸が吸収される。
【0015】
【発明の実施の形態】次に、本発明について図面を参照
して説明する。図1は本発明の一実施の形態である指紋
検知装置を示す説明図であり、同図において、前述の説
明(図6参照)と同じまたは同等部分には同一符号を付
してあり、1は光学ガラスなどの三角プリズムからなる
透明基体、2は指3の指紋3Aを密着させるための弾性
層、5は光源4から透明基体1を介して得られた指紋パ
ターンを画像として検出する画像検出部である。
して説明する。図1は本発明の一実施の形態である指紋
検知装置を示す説明図であり、同図において、前述の説
明(図6参照)と同じまたは同等部分には同一符号を付
してあり、1は光学ガラスなどの三角プリズムからなる
透明基体、2は指3の指紋3Aを密着させるための弾性
層、5は光源4から透明基体1を介して得られた指紋パ
ターンを画像として検出する画像検出部である。
【0016】特に、本発明では、前述の説明(図6参
照)と比較して、弾性層2の表面に撥水性を有する潤滑
層11を設けたものである。まず、弾性層2には、透明
性のある弾性材としてシリコーンゴムやシリコーンゲル
が適している。これらシリコーンゴムやシリコーンゲル
の原料形態としては、一液型や二液型で加熱効果型のも
のが良く知られており、硬化前は液状で粘度が小さいも
のが適している。
照)と比較して、弾性層2の表面に撥水性を有する潤滑
層11を設けたものである。まず、弾性層2には、透明
性のある弾性材としてシリコーンゴムやシリコーンゲル
が適している。これらシリコーンゴムやシリコーンゲル
の原料形態としては、一液型や二液型で加熱効果型のも
のが良く知られており、硬化前は液状で粘度が小さいも
のが適している。
【0017】弾性層2を形成する場合、まず液状の原料
を透明基体表面に適量垂らし、ローラーコートや回転塗
布などにより、透明基体1の表面に薄く塗布した後、常
温から150゜Cくらいまでの温度範囲にある所定温度
により加熱硬化させる。弾性層2の膜厚は50μm以下
とすることにより良好な密着性が得られ、特に10〜2
0μmが最適である。なお、指紋3Aの稜線部31の高
さ(谷間部32の深さ)は約50〜100μm、また稜
線部31のピッチは約100μmであり、弾性層2の膜
厚が薄過ぎると弾性変形が小さくなって指紋との密着性
が得られなくなるとともに、膜厚が厚過ぎると弾性変形
が大きくなって指紋に歪みが生じる。
を透明基体表面に適量垂らし、ローラーコートや回転塗
布などにより、透明基体1の表面に薄く塗布した後、常
温から150゜Cくらいまでの温度範囲にある所定温度
により加熱硬化させる。弾性層2の膜厚は50μm以下
とすることにより良好な密着性が得られ、特に10〜2
0μmが最適である。なお、指紋3Aの稜線部31の高
さ(谷間部32の深さ)は約50〜100μm、また稜
線部31のピッチは約100μmであり、弾性層2の膜
厚が薄過ぎると弾性変形が小さくなって指紋との密着性
が得られなくなるとともに、膜厚が厚過ぎると弾性変形
が大きくなって指紋に歪みが生じる。
【0018】一方、潤滑層11には、フッ素系樹脂やシ
リコーン系の離型剤が適しており、特に、薄膜成形に適
したフッ素系の樹脂として、ハーフルオロ溶媒に溶解さ
せたものが知られている。潤滑層11の膜厚は5μm以
下とすることにより、指紋稜線部の微細な凹凸が潤滑層
を介して弾性層に伝達され、指紋稜線部と弾性層とが確
実に密着される。特に、非晶質特性を有するフッ素樹脂
は、溶解しやすく、また透明性も優れており、回転塗
布、浸漬引き上げ、またはスプレーなどの方法により、
膜厚が約5μm以下の薄膜を形成することができるが、
膜厚0.5μm未満ではピンホールなどが発生しやす
く、膜厚5μmを越えるとその表面の凹凸により潤滑層
11として不適当となる。
リコーン系の離型剤が適しており、特に、薄膜成形に適
したフッ素系の樹脂として、ハーフルオロ溶媒に溶解さ
せたものが知られている。潤滑層11の膜厚は5μm以
下とすることにより、指紋稜線部の微細な凹凸が潤滑層
を介して弾性層に伝達され、指紋稜線部と弾性層とが確
実に密着される。特に、非晶質特性を有するフッ素樹脂
は、溶解しやすく、また透明性も優れており、回転塗
布、浸漬引き上げ、またはスプレーなどの方法により、
膜厚が約5μm以下の薄膜を形成することができるが、
膜厚0.5μm未満ではピンホールなどが発生しやす
く、膜厚5μmを越えるとその表面の凹凸により潤滑層
11として不適当となる。
【0019】なお、潤滑層11を形成する場合、弾性層
2表面に、予めシラン系のカップリング剤を塗布してお
くことにより、潤滑層11と弾性層2との密着性を高め
ることができ、塗布後、180゜Cくらいまでの温度範
囲で加熱し、溶媒を乾燥させることにより、潤滑層11
が形成される。シリコーン系の離型剤としては、溶液型
やエマルジョン型が知られており、前述した塗布方法に
より薄膜を形成でき、150〜200゜Cの加熱により
潤滑層11が形成される。この場合にも、シラン系のカ
ップリング剤を利用することにより、弾性層2との密着
性を高めることができる。
2表面に、予めシラン系のカップリング剤を塗布してお
くことにより、潤滑層11と弾性層2との密着性を高め
ることができ、塗布後、180゜Cくらいまでの温度範
囲で加熱し、溶媒を乾燥させることにより、潤滑層11
が形成される。シリコーン系の離型剤としては、溶液型
やエマルジョン型が知られており、前述した塗布方法に
より薄膜を形成でき、150〜200゜Cの加熱により
潤滑層11が形成される。この場合にも、シラン系のカ
ップリング剤を利用することにより、弾性層2との密着
性を高めることができる。
【0020】このように、弾性層2上に撥水性のある潤
滑層11を設けたので、従来のように数回の指紋検知と
いう短時間に汚れが発生するものと比較して、数10回
の指紋検知を行った場合でも表面の汚れは目立つほどで
はなく、明瞭な指紋パターンが得られた。また、さらに
指紋検知を実施して視認可能な汚れが付着した場合で
も、柔らかい綿布やティッシュペーパーなどで潤滑層表
面11Sの汚れをふき取ることができ、容易にクリーニ
ングできる。
滑層11を設けたので、従来のように数回の指紋検知と
いう短時間に汚れが発生するものと比較して、数10回
の指紋検知を行った場合でも表面の汚れは目立つほどで
はなく、明瞭な指紋パターンが得られた。また、さらに
指紋検知を実施して視認可能な汚れが付着した場合で
も、柔らかい綿布やティッシュペーパーなどで潤滑層表
面11Sの汚れをふき取ることができ、容易にクリーニ
ングできる。
【0021】次に、図2を参照して、本発明の動作とし
て、光源4から透明基体1に入射された光の振る舞いに
ついて説明する。光源4から透明基体1に入射された光
は、弾性層2を通過して潤滑層11の表面11Sに所定
入射角θdで照射される。この場合、この入射角θd
は、潤滑層表面11Sに空気8が接している場合に全反
射が発生する臨界角θcより大きな角度を有している。
て、光源4から透明基体1に入射された光の振る舞いに
ついて説明する。光源4から透明基体1に入射された光
は、弾性層2を通過して潤滑層11の表面11Sに所定
入射角θdで照射される。この場合、この入射角θd
は、潤滑層表面11Sに空気8が接している場合に全反
射が発生する臨界角θcより大きな角度を有している。
【0022】潤滑層表面11S上には指3の指紋が押し
当てられており、前述と同様に、指紋3Aの稜線部(凸
部)31と谷間部(凹部)32とでは、その光の振る舞
いが異なる。まず、谷間部32の部分では、空気8が潤
滑層表面11Sに接していることから、全反射が発生す
る。一方、稜線部31では、微細な凹凸35が潤滑層1
1を介して弾性層2に吸収されており、潤滑層表面11
Sと密着している。
当てられており、前述と同様に、指紋3Aの稜線部(凸
部)31と谷間部(凹部)32とでは、その光の振る舞
いが異なる。まず、谷間部32の部分では、空気8が潤
滑層表面11Sに接していることから、全反射が発生す
る。一方、稜線部31では、微細な凹凸35が潤滑層1
1を介して弾性層2に吸収されており、潤滑層表面11
Sと密着している。
【0023】これにより、稜線部31では、指紋の稜線
部(凸部)の屈折率nrが、空気8の屈折率naより大
きく、光学ガラスなどの透明基体の屈折率nbに近いこ
とから、全反射が発生せず、その部分に照射された光
は、指3に吸収され、あるいは乱反射する。したがっ
て、画像検出部5では、稜線部31が暗く谷間部32が
明るい指紋パターンが得られる。
部(凸部)の屈折率nrが、空気8の屈折率naより大
きく、光学ガラスなどの透明基体の屈折率nbに近いこ
とから、全反射が発生せず、その部分に照射された光
は、指3に吸収され、あるいは乱反射する。したがっ
て、画像検出部5では、稜線部31が暗く谷間部32が
明るい指紋パターンが得られる。
【0024】弾性層2および潤滑層11の屈折率na,
njは、透明基体1の屈折率nbとほぼ等しいものが用
いられる。なお、潤滑層11の膜厚は、弾性層2と比較
して5μm以下と薄く、その中を通過する光の光路長も
極端に短いことから、潤滑層11における屈折は無視で
きる程度となるため、その屈折率についてはあまり限定
されるものではない。
njは、透明基体1の屈折率nbとほぼ等しいものが用
いられる。なお、潤滑層11の膜厚は、弾性層2と比較
して5μm以下と薄く、その中を通過する光の光路長も
極端に短いことから、潤滑層11における屈折は無視で
きる程度となるため、その屈折率についてはあまり限定
されるものではない。
【0025】また、弾性層2の屈折率ndについては、
透明基体1の屈折率naとの差により、図3に示すよう
に、透明基体1に入射された光は、透明基体1と弾性層
2との間の境界面1Sにて屈折する。この場合、潤滑層
表面11Sへの入射角θdが得られれば良いことから、
nb sinθb=nd sinθdを満足する入射角θbに
て、光源4から光を入射すれば良いことがわかる。
透明基体1の屈折率naとの差により、図3に示すよう
に、透明基体1に入射された光は、透明基体1と弾性層
2との間の境界面1Sにて屈折する。この場合、潤滑層
表面11Sへの入射角θdが得られれば良いことから、
nb sinθb=nd sinθdを満足する入射角θbに
て、光源4から光を入射すれば良いことがわかる。
【0026】この場合、上述した式が満足されることが
前提であり、光源4から入射された光が境界面1Sにて
全反射しないような入射角θb、屈折率nb,ndを選
択する必要がある。なお、以上の説明において、透明基
体1として光学ガラスなどからなる三角プリズムを用い
た場合を例に説明したが、これに限定されるものではな
く、例えば、図5に示すように、マイクロプリズムプレ
ートを用いても良い。
前提であり、光源4から入射された光が境界面1Sにて
全反射しないような入射角θb、屈折率nb,ndを選
択する必要がある。なお、以上の説明において、透明基
体1として光学ガラスなどからなる三角プリズムを用い
た場合を例に説明したが、これに限定されるものではな
く、例えば、図5に示すように、マイクロプリズムプレ
ートを用いても良い。
【0027】図5において、1Aはマイクロプリズムプ
レートからなる透明基体である。この透明基体1Aは、
弾性層2が形成される面とは反対側の面に、多数のマイ
クロプリズムが、射出成形などのプラスチック成形技術
により形成されたものであり、厚さが薄いにもかかわら
ず三角プリズムと同等の光学特性を有している。したが
って、前述と同様の作用効果が得られるとともに、装置
の小型化を実現できる。
レートからなる透明基体である。この透明基体1Aは、
弾性層2が形成される面とは反対側の面に、多数のマイ
クロプリズムが、射出成形などのプラスチック成形技術
により形成されたものであり、厚さが薄いにもかかわら
ず三角プリズムと同等の光学特性を有している。したが
って、前述と同様の作用効果が得られるとともに、装置
の小型化を実現できる。
【0028】なお、以上の説明において、図2に示すよ
うに、例えば指紋3Aの谷間部32に存在する空気8と
接する部分でのみ全反射が生じるように光を照射する方
式を例に説明したが、これに限定されるものではなく、
他の方式の指紋検知装置にも本発明を適用することがで
きる。例えば、前述した図5に示すように、全反射を発
生させない入射角、すなわち角度領域gbh内から光を
照射し、角度領域hbiに反射した光を映像として検出
しても良い。
うに、例えば指紋3Aの谷間部32に存在する空気8と
接する部分でのみ全反射が生じるように光を照射する方
式を例に説明したが、これに限定されるものではなく、
他の方式の指紋検知装置にも本発明を適用することがで
きる。例えば、前述した図5に示すように、全反射を発
生させない入射角、すなわち角度領域gbh内から光を
照射し、角度領域hbiに反射した光を映像として検出
しても良い。
【0029】この場合、谷間部32と接する部分では、
光が潤滑層表面11Sを透過して谷間部32に吸収さ
れ、あるいは角度領域gbhに反射され、稜線部31と
接する部分において乱反射した光のみが角度領域hbi
で検出される。また、角度領域hbi内から光を照射
し、同じく角度領域hbiに反射した光を映像として検
出しても良く、この場合、谷間部32と接する部分で
は、角度領域dbfへ全反射し、稜線部31と接する部
分において乱反射した光のみが角度領域hbiで検出さ
れる。このように、いずれの方式であっても、弾性層2
上に潤滑層11を設けることができ、前述と同様の作用
効果を奏することができる。
光が潤滑層表面11Sを透過して谷間部32に吸収さ
れ、あるいは角度領域gbhに反射され、稜線部31と
接する部分において乱反射した光のみが角度領域hbi
で検出される。また、角度領域hbi内から光を照射
し、同じく角度領域hbiに反射した光を映像として検
出しても良く、この場合、谷間部32と接する部分で
は、角度領域dbfへ全反射し、稜線部31と接する部
分において乱反射した光のみが角度領域hbiで検出さ
れる。このように、いずれの方式であっても、弾性層2
上に潤滑層11を設けることができ、前述と同様の作用
効果を奏することができる。
【0030】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、請求項
1として、透明基体上に弾性を有する薄膜からなる弾性
層を形成するとともに、この弾性層上に撥水性を有する
薄膜からなる潤滑層を設けて、指紋稜線部の押圧時に
は、その稜線部の微細な凹凸を潤滑層を介して弾性層で
吸収するとともに、弾性層に対する汚れの付着を潤滑層
により抑止するようにしたので、従来のように数回の指
紋検知という短時間に汚れが発生するものと比較して、
数10回の指紋検知を行った場合でも表面の汚れは目立
つほどではなく、明瞭な指紋パターンを得ることができ
るまた、さらに指紋検知を実施して視認可能な汚れが付
着した場合でも、柔らかい綿布やティッシュペーパーな
どで潤滑層表面の汚れをふき取ることができ、容易にク
リーニングできる。
1として、透明基体上に弾性を有する薄膜からなる弾性
層を形成するとともに、この弾性層上に撥水性を有する
薄膜からなる潤滑層を設けて、指紋稜線部の押圧時に
は、その稜線部の微細な凹凸を潤滑層を介して弾性層で
吸収するとともに、弾性層に対する汚れの付着を潤滑層
により抑止するようにしたので、従来のように数回の指
紋検知という短時間に汚れが発生するものと比較して、
数10回の指紋検知を行った場合でも表面の汚れは目立
つほどではなく、明瞭な指紋パターンを得ることができ
るまた、さらに指紋検知を実施して視認可能な汚れが付
着した場合でも、柔らかい綿布やティッシュペーパーな
どで潤滑層表面の汚れをふき取ることができ、容易にク
リーニングできる。
【0031】また、請求項2として、請求項1記載の指
紋検知装置において、潤滑層を、フッ素系樹脂またはシ
リコーン系離型剤から形成したので、良好な光透過性と
撥水性とが得られるものとなり、さらに低い反応性とあ
る程度高い沸点を有していることから、長期間にわたり
安定した効果が得られる。また、請求項3として、請求
項2記載の指紋検知装置において、潤滑層を、弾性層表
面に予めシラン系のカップリング剤を塗布した後に形成
するようにしたので、潤滑層として比較的反応性の低い
材料を用いた場合でも、弾性層と潤滑層との間で良好な
密着が得られる。
紋検知装置において、潤滑層を、フッ素系樹脂またはシ
リコーン系離型剤から形成したので、良好な光透過性と
撥水性とが得られるものとなり、さらに低い反応性とあ
る程度高い沸点を有していることから、長期間にわたり
安定した効果が得られる。また、請求項3として、請求
項2記載の指紋検知装置において、潤滑層を、弾性層表
面に予めシラン系のカップリング剤を塗布した後に形成
するようにしたので、潤滑層として比較的反応性の低い
材料を用いた場合でも、弾性層と潤滑層との間で良好な
密着が得られる。
【0032】また、請求項4として、請求項1記載の指
紋検知装置において、潤滑層を、5μm以下であって、
好ましくは0.5〜3μmの膜厚で形成したので、指紋
稜線部の微細な凹凸が潤滑層を介して弾性層に伝達さ
れ、指紋稜線部と弾性層とが確実に密着される。また、
請求項5として、請求項1記載の指紋検知装置におい
て、弾性層を、50μm以下であって、好ましくは10
〜20μmの膜厚で形成したので、指紋パターンに歪み
を生じることなく、潤滑層を介して伝達された指紋稜線
部の微細な凹凸を弾性層により確実に吸収できる。
紋検知装置において、潤滑層を、5μm以下であって、
好ましくは0.5〜3μmの膜厚で形成したので、指紋
稜線部の微細な凹凸が潤滑層を介して弾性層に伝達さ
れ、指紋稜線部と弾性層とが確実に密着される。また、
請求項5として、請求項1記載の指紋検知装置におい
て、弾性層を、50μm以下であって、好ましくは10
〜20μmの膜厚で形成したので、指紋パターンに歪み
を生じることなく、潤滑層を介して伝達された指紋稜線
部の微細な凹凸を弾性層により確実に吸収できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施の形態による指紋検知装置を
示す説明図である。
示す説明図である。
【図2】 潤滑層表面における光の振る舞いを示す説明
図である。
図である。
【図3】 透明基体と弾性層との境界面における光の振
る舞いを示す説明図である。
る舞いを示す説明図である。
【図4】 本発明の他の実施の形態による指紋検知装置
を示す説明図である。
を示す説明図である。
【図5】 透明基体と空気との境界面における光の振る
舞いを示す説明図である。
舞いを示す説明図である。
【図6】 従来の指紋検知装置を示す説明図である。
【図7】 従来の弾性層表面を示す説明図である。
1,1A…透明基体、1S…透明基体表面、2…弾性
層、3…指、3A…指紋、31…稜線部(凸部)、32
…谷間部(凹部)、35…稜線部の微細な凹凸、4…光
源、5…画像検出部、8…空気、11…潤滑層、11S
…潤滑層表面。
層、3…指、3A…指紋、31…稜線部(凸部)、32
…谷間部(凹部)、35…稜線部の微細な凹凸、4…光
源、5…画像検出部、8…空気、11…潤滑層、11S
…潤滑層表面。
Claims (5)
- 【請求項1】 透明基体を介して指の指紋に光を照射
し、その反射光から指紋パターンを検出する指紋検知装
置において、 透明基体上に形成された光透過性を有する薄膜からなり
指紋稜線部の押圧によりわずかに弾性変形する弾性層
と、 この弾性層上に形成された光透過性を有する薄膜からな
り撥水性を有し指紋稜線部の押圧により変形する潤滑層
とを備えることを特徴とする指紋検知装置。 - 【請求項2】 請求項1記載の指紋検知装置において、 潤滑層は、フッ素系樹脂またはシリコーン系離型剤から
なることを特徴とする指紋検知装置。 - 【請求項3】 請求項2記載の指紋検知装置において、 潤滑層は、弾性層表面に予めシラン系のカップリング剤
を塗布した後に形成されることを特徴とする指紋検知装
置。 - 【請求項4】 請求項1記載の指紋検知装置において、 潤滑層は、5μm以下であって、好ましくは0.5〜3
μmの膜厚を有することを特徴とする指紋検知装置。 - 【請求項5】 請求項1記載の指紋検知装置において、
弾性層は、50μm以下であって、好ましくは10〜2
0μmの膜厚を有する ことを特徴とする指紋検知装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09075356A JP3132411B2 (ja) | 1997-03-27 | 1997-03-27 | 指紋検知装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09075356A JP3132411B2 (ja) | 1997-03-27 | 1997-03-27 | 指紋検知装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10269340A true JPH10269340A (ja) | 1998-10-09 |
| JP3132411B2 JP3132411B2 (ja) | 2001-02-05 |
Family
ID=13573879
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09075356A Expired - Fee Related JP3132411B2 (ja) | 1997-03-27 | 1997-03-27 | 指紋検知装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3132411B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6844744B2 (en) | 2002-02-08 | 2005-01-18 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Surface shape recognition sensor and method of manufacturing the same |
| US7660447B2 (en) * | 2005-10-04 | 2010-02-09 | Fujitsu Limited | Detection of fingerprint distortion by deformation of elastic film or displacement of transparent board |
| KR20150108030A (ko) * | 2015-03-13 | 2015-09-24 | 주식회사 유니온커뮤니티 | 이중 탄성구조를 구비한 패턴 이미지 획득장치 및 그 방법 |
| JP5788128B1 (ja) * | 2014-04-22 | 2015-09-30 | シャープ株式会社 | 殺菌作用を備えた表面を有する合成高分子膜、合成高分子膜を有する積層体、合成高分子膜の表面を用いた殺菌方法および合成高分子膜の表面の再活性化方法 |
| JP2021111383A (ja) * | 2020-01-10 | 2021-08-02 | ベクフン リ | 鮮明度とクッション感が優れた印鑑映像獲得装置 |
-
1997
- 1997-03-27 JP JP09075356A patent/JP3132411B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6844744B2 (en) | 2002-02-08 | 2005-01-18 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Surface shape recognition sensor and method of manufacturing the same |
| US7660447B2 (en) * | 2005-10-04 | 2010-02-09 | Fujitsu Limited | Detection of fingerprint distortion by deformation of elastic film or displacement of transparent board |
| JP5788128B1 (ja) * | 2014-04-22 | 2015-09-30 | シャープ株式会社 | 殺菌作用を備えた表面を有する合成高分子膜、合成高分子膜を有する積層体、合成高分子膜の表面を用いた殺菌方法および合成高分子膜の表面の再活性化方法 |
| JP2016120478A (ja) * | 2014-04-22 | 2016-07-07 | シャープ株式会社 | 殺菌作用を備えた表面を有する合成高分子膜、合成高分子膜を有する積層体、合成高分子膜の表面を用いた殺菌方法、合成高分子膜の表面の再活性化方法、合成高分子膜を製造するための型および型の製造方法 |
| JP2018183996A (ja) * | 2014-04-22 | 2018-11-22 | シャープ株式会社 | 合成高分子膜を有するフィルム、合成高分子膜を有する積層体、フィルムの表面を用いた殺菌方法およびフィルムの表面の再活性化方法 |
| JP2019007022A (ja) * | 2014-04-22 | 2019-01-17 | シャープ株式会社 | 合成高分子膜の表面処理方法 |
| JP2019035081A (ja) * | 2014-04-22 | 2019-03-07 | シャープ株式会社 | 合成高分子膜、合成高分子膜を有する積層体、合成高分子膜の表面を用いた殺菌方法および合成高分子膜の表面の再活性化方法 |
| KR20150108030A (ko) * | 2015-03-13 | 2015-09-24 | 주식회사 유니온커뮤니티 | 이중 탄성구조를 구비한 패턴 이미지 획득장치 및 그 방법 |
| JP2021111383A (ja) * | 2020-01-10 | 2021-08-02 | ベクフン リ | 鮮明度とクッション感が優れた印鑑映像獲得装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3132411B2 (ja) | 2001-02-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3011126B2 (ja) | 指紋検知装置 | |
| AU619479B2 (en) | Apparatus for imaging surface pattern such as fingerprint | |
| US5177353A (en) | Finger surface image enhancement having liquid layer on finger touching surface of the plate | |
| US6115483A (en) | Fingerprint detecting device and method | |
| KR0155034B1 (ko) | 요철면 판독장치 | |
| KR101911568B1 (ko) | 광학 소자, 표시 장치 및 입력 장치 | |
| KR100306293B1 (ko) | 판독장치 | |
| RU2480340C1 (ru) | Водоотталкивающая пленка и деталь для транспортного средства, включающая пленку | |
| KR20110025141A (ko) | 광학 소자 및 그 제조 방법 | |
| AU4257197A (en) | Front light extraction film for light guiding systems and method of manufacture | |
| JP7530115B2 (ja) | 液晶と液晶保護フィルム部とを備えた超音波式の指紋認識システム | |
| JP3132411B2 (ja) | 指紋検知装置 | |
| KR101594114B1 (ko) | 이중 탄성구조를 구비한 패턴 이미지 획득장치 및 그 방법 | |
| US5051576A (en) | Finger surface image enhancement having a liquid layer on the finger touching surface of the platen | |
| JP7498935B2 (ja) | 光センサ | |
| JPH0798754A (ja) | 指紋検出装置 | |
| EP0514182A1 (en) | Apparatus for imaging a fingerprint | |
| JPH0610686B2 (ja) | ジオデツジツク光学部品 | |
| JPH11144032A (ja) | 指紋読取装置 | |
| JPH079492B2 (ja) | 光回路板の製法 | |
| JPH0657206B2 (ja) | 弾性体薄膜形成方法 | |
| CN102313927B (zh) | 光波导路的制造方法 | |
| JP2010101645A (ja) | 屈折率整合シート一体型spr計測用チップ | |
| JP2025099348A (ja) | 構造体、構造体モジュール、および構造体の製造方法 | |
| JP2000090235A (ja) | 指紋読取センサ、指紋読取用フィルム及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |