JPH10269525A - 薄膜磁気ヘッド及び磁気記録装置 - Google Patents
薄膜磁気ヘッド及び磁気記録装置Info
- Publication number
- JPH10269525A JPH10269525A JP7131397A JP7131397A JPH10269525A JP H10269525 A JPH10269525 A JP H10269525A JP 7131397 A JP7131397 A JP 7131397A JP 7131397 A JP7131397 A JP 7131397A JP H10269525 A JPH10269525 A JP H10269525A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- terminals
- head
- magnetic head
- magnetic
- coil
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【課題】引出線と導体コイルの間の浮遊容量が高周波励
磁を行う際の記録ヘッドの効率の低下につながる。 【解決手段】上記導体コイルの内周側の端部から引出線
を経ず直接端子を形成する。
磁を行う際の記録ヘッドの効率の低下につながる。 【解決手段】上記導体コイルの内周側の端部から引出線
を経ず直接端子を形成する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、単層或は奇数層の
平面スパイラルコイルを用いて磁気コアを励起するとこ
ろの薄膜磁気ヘッド、さらに、それを記録ヘッドとして
備える磁気記録装置に関する。
平面スパイラルコイルを用いて磁気コアを励起するとこ
ろの薄膜磁気ヘッド、さらに、それを記録ヘッドとして
備える磁気記録装置に関する。
【0002】
【従来の技術】磁気記録装置の、小型化、高速アクセス
化の傾向はますます著しくなり、それに伴って磁気ヘッ
ドの小型化、高周波対応化が要求されている。特に近年
は記録と再生の機能を分離した録再分離型ヘッドが、例
えば、従来の誘導型ヘッドを記録ヘッドに持ち磁気抵抗
効果型ヘッドを再生ヘッドとして備えたものなどが、主
流となり、小型化を要求されるヘッドスライダ上に4つ
以上の端子を設ける事が必要となっている。また、デー
タ転送速度の高速化、及び、信号処理方式にPRMLと
d=0コードを用いる為、物理的に媒体上に記録する信
号の周波数は急激に増加し100MHzに達しようとし
ている。今後も増加の傾向が続く。
化の傾向はますます著しくなり、それに伴って磁気ヘッ
ドの小型化、高周波対応化が要求されている。特に近年
は記録と再生の機能を分離した録再分離型ヘッドが、例
えば、従来の誘導型ヘッドを記録ヘッドに持ち磁気抵抗
効果型ヘッドを再生ヘッドとして備えたものなどが、主
流となり、小型化を要求されるヘッドスライダ上に4つ
以上の端子を設ける事が必要となっている。また、デー
タ転送速度の高速化、及び、信号処理方式にPRMLと
d=0コードを用いる為、物理的に媒体上に記録する信
号の周波数は急激に増加し100MHzに達しようとし
ている。今後も増加の傾向が続く。
【0003】従来の薄膜磁気ヘッドは、例えば、図3の
示すように、下地膜1上に、(或は、複合型ヘッドの場
合はMRヘッドのシールドギャップ上に、)第1の磁性
体2、磁気ギャップ材3,1層又は奇数層の平面スパイ
ラルコイルを形成する導体コイル5と層間絶縁層4、そ
して、第2の磁性層6を順次成膜、パターニングして形
成される。該導体コイル5と外部回路との接続は、通常
薄膜磁気ヘッドの磁気コアや該導体コイル5と平面的に
重ならない適当な位置と該導体コイル5の端部を引出線
8で接続、その後、例えば、メッキを用いて該下部端子
10を大きく成長させ、保護膜12を形成した後に機械
加工を行ってスライダ表面に端子を露出する(特開昭5
8−179922号)。
示すように、下地膜1上に、(或は、複合型ヘッドの場
合はMRヘッドのシールドギャップ上に、)第1の磁性
体2、磁気ギャップ材3,1層又は奇数層の平面スパイ
ラルコイルを形成する導体コイル5と層間絶縁層4、そ
して、第2の磁性層6を順次成膜、パターニングして形
成される。該導体コイル5と外部回路との接続は、通常
薄膜磁気ヘッドの磁気コアや該導体コイル5と平面的に
重ならない適当な位置と該導体コイル5の端部を引出線
8で接続、その後、例えば、メッキを用いて該下部端子
10を大きく成長させ、保護膜12を形成した後に機械
加工を行ってスライダ表面に端子を露出する(特開昭5
8−179922号)。
【0004】該引出線8による接続は、該導体コイル5
形成後に成膜される該層間絶縁体4にスルーホール7を
あけて行われるが、例えば、図4にあるように、該導体
コイル5の2つの端部、外周側の端部と内周側の端部の
うち、導体コイル内周側の端部9から該下部端子10へ
の引出線8は該導体コイル5中央から該導体コイル5を
交差するように形成されるため、該層間絶縁層4を介し
て浮遊容量を持つ。
形成後に成膜される該層間絶縁体4にスルーホール7を
あけて行われるが、例えば、図4にあるように、該導体
コイル5の2つの端部、外周側の端部と内周側の端部の
うち、導体コイル内周側の端部9から該下部端子10へ
の引出線8は該導体コイル5中央から該導体コイル5を
交差するように形成されるため、該層間絶縁層4を介し
て浮遊容量を持つ。
【0005】端子や引出線8に関する公知例としては、
特に、端子とリード線の密着力の向上に関するもの(特
開平1−73518他)、スライダの小型化に対応した
端子や引出線8の配置や構造に関するもの(特開平2−
239413:引出線8の立体交差させスペースを稼
ぐ、USP5001591:端子の配置)は見られる
が、高周波特性の向上に関連して構造を検討したものは
報告されていない。
特に、端子とリード線の密着力の向上に関するもの(特
開平1−73518他)、スライダの小型化に対応した
端子や引出線8の配置や構造に関するもの(特開平2−
239413:引出線8の立体交差させスペースを稼
ぐ、USP5001591:端子の配置)は見られる
が、高周波特性の向上に関連して構造を検討したものは
報告されていない。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】まず、上述のように、
従来の薄膜ヘッドにおいては、該導体コイル内周側の端
部9から該下部端子10への該引出線8は該導体コイル
5中央から該導体コイル5を横断して形成されるため、
該引出線8と該導体コイル5の間に浮遊容量が生じる。
特に、高周波記録を考えるとき、記録ヘッドの低抵抗化
は重要な要因であり、必然的に、該導体コイル5の幅や
該引出線8の幅はなるべく広くして抵抗をさげる事が必
要となるが、これによって、該導体コイル5と該引出線
8の間の浮遊容量は更に増えてしまう。
従来の薄膜ヘッドにおいては、該導体コイル内周側の端
部9から該下部端子10への該引出線8は該導体コイル
5中央から該導体コイル5を横断して形成されるため、
該引出線8と該導体コイル5の間に浮遊容量が生じる。
特に、高周波記録を考えるとき、記録ヘッドの低抵抗化
は重要な要因であり、必然的に、該導体コイル5の幅や
該引出線8の幅はなるべく広くして抵抗をさげる事が必
要となるが、これによって、該導体コイル5と該引出線
8の間の浮遊容量は更に増えてしまう。
【0007】或は、高TPIを考えたヘッドでは記録ト
ラックの幅を狭く形成する必要があり、この狭トラック
を精度よく加工する為には、例えば、該導体コイル5の
高さや該層間絶縁層4の厚みを薄くして、ヘッドの段差
を小さくする事が効果的である。ところが、該層間絶縁
層4を薄くする事は上記の浮遊容量を増やしてしまう。
また、該導体コイル5の高さを薄くする事はヘッドの抵
抗が増加してしまうので避けたい方法である。
ラックの幅を狭く形成する必要があり、この狭トラック
を精度よく加工する為には、例えば、該導体コイル5の
高さや該層間絶縁層4の厚みを薄くして、ヘッドの段差
を小さくする事が効果的である。ところが、該層間絶縁
層4を薄くする事は上記の浮遊容量を増やしてしまう。
また、該導体コイル5の高さを薄くする事はヘッドの抵
抗が増加してしまうので避けたい方法である。
【0008】すなわち、従来の構造のままでは、高周波
記録が進んだ場合に該引出線8と該導体コイル5の間の
浮遊容量による効率の低下が問題となり、更に、これを
対策することが高TPI化、ヘッドの低抵抗化に対して
トレードオフとなってしまう。
記録が進んだ場合に該引出線8と該導体コイル5の間の
浮遊容量による効率の低下が問題となり、更に、これを
対策することが高TPI化、ヘッドの低抵抗化に対して
トレードオフとなってしまう。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記問題点は、一層或は
奇数層の平面スパイラル状の導体コイル5を持つ薄膜磁
気ヘッドで、該導体コイル内周側の端部9と該下部端子
10とを結ぶ該引出線8が該導体コイル5との間に浮遊
容量を生じて高周波特性を損ねるというものであり、こ
の不具合点を改良するためには、本発明では、例えば、
図1に示すように、該導体コイル内周側の端部9を適当
に広く取り、そこを該下部端子10として直接そこから
端子を成長させる。これによって、従来構造で問題とな
る該引出線8自体が存在しなくなるので、浮遊容量も生
じない。
奇数層の平面スパイラル状の導体コイル5を持つ薄膜磁
気ヘッドで、該導体コイル内周側の端部9と該下部端子
10とを結ぶ該引出線8が該導体コイル5との間に浮遊
容量を生じて高周波特性を損ねるというものであり、こ
の不具合点を改良するためには、本発明では、例えば、
図1に示すように、該導体コイル内周側の端部9を適当
に広く取り、そこを該下部端子10として直接そこから
端子を成長させる。これによって、従来構造で問題とな
る該引出線8自体が存在しなくなるので、浮遊容量も生
じない。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図を用い
て説明する。
て説明する。
【0011】図1は、本発明における薄膜ヘッドの実施
例の断面図である。図2は、本発明における薄膜ヘッド
の実施例の正面図である。
例の断面図である。図2は、本発明における薄膜ヘッド
の実施例の正面図である。
【0012】図1に示すように、薄膜ヘッドは、例え
ば、下地層1上に、第1の磁性体2、磁気ギャップ材
3、層間絶縁層4、導体コイル5、第2の磁性体6を順
次堆積、パターニングして形成するが、通常、例えば、
第2の磁性体6を成膜する前に層間絶縁層4の該導体コ
イル5の両端部にスルーホール7をあけておき第2の磁
性体6の形成時に同時に引出線8を形成する。この時、
該導体コイル内周側の端部9は、図2に示すように、そ
のままの位置で下部端子10を持つため、該導体コイル
5を交差するような引出線8は形成せず、直径40〜6
0ミクロン程度のメッキの下地となる部分のみパターン
を残す。更に、上述のパターンにメッキ用下地膜11を
形成後、エレクトロフォーミングにより該下部端子10
を形成する。該下部端子10には電気抵抗の小さい金、
銀、銅及びそれらの合金膜が厚さ30〜60ミクロン形
成され、保護膜12を積層した後、機械加工で該下部端
子10が露出してくるまで該保護膜12を平滑に削りと
る。この時の該下部端子10の露出面積は、この後形成
される上部端子13との電気伝導が確保されればよく、
好ましくは、40〜60ミクロン程度としたい。この露
出部の露出面積は、該下部端子10をエレクトロフォー
ミングする場合のフォトレジスト膜パターンを形成する
フォトマスクで調整できる。これによって、該導体コイ
ル5との間に浮遊容量を持つような引出線8を持たない
構造が形成され、従って、高周波記録において損失の少
ない薄膜ヘッドが出来る。
ば、下地層1上に、第1の磁性体2、磁気ギャップ材
3、層間絶縁層4、導体コイル5、第2の磁性体6を順
次堆積、パターニングして形成するが、通常、例えば、
第2の磁性体6を成膜する前に層間絶縁層4の該導体コ
イル5の両端部にスルーホール7をあけておき第2の磁
性体6の形成時に同時に引出線8を形成する。この時、
該導体コイル内周側の端部9は、図2に示すように、そ
のままの位置で下部端子10を持つため、該導体コイル
5を交差するような引出線8は形成せず、直径40〜6
0ミクロン程度のメッキの下地となる部分のみパターン
を残す。更に、上述のパターンにメッキ用下地膜11を
形成後、エレクトロフォーミングにより該下部端子10
を形成する。該下部端子10には電気抵抗の小さい金、
銀、銅及びそれらの合金膜が厚さ30〜60ミクロン形
成され、保護膜12を積層した後、機械加工で該下部端
子10が露出してくるまで該保護膜12を平滑に削りと
る。この時の該下部端子10の露出面積は、この後形成
される上部端子13との電気伝導が確保されればよく、
好ましくは、40〜60ミクロン程度としたい。この露
出部の露出面積は、該下部端子10をエレクトロフォー
ミングする場合のフォトレジスト膜パターンを形成する
フォトマスクで調整できる。これによって、該導体コイ
ル5との間に浮遊容量を持つような引出線8を持たない
構造が形成され、従って、高周波記録において損失の少
ない薄膜ヘッドが出来る。
【0013】該導体コイル5の外周側の端部に結合する
引出線8及び端子部については本発明では特に言及しな
い。また、複合型ヘッドの記録ヘッドとして用いられる
場合、本発明の薄膜ヘッドは再生ヘッドの上に形成され
ることが考えられ、特に、該再生ヘッドがシールド型ヘ
ッドである場合は、上記第1の磁性体2が該再生ヘッド
のシールドの片方と兼用であることもある。
引出線8及び端子部については本発明では特に言及しな
い。また、複合型ヘッドの記録ヘッドとして用いられる
場合、本発明の薄膜ヘッドは再生ヘッドの上に形成され
ることが考えられ、特に、該再生ヘッドがシールド型ヘ
ッドである場合は、上記第1の磁性体2が該再生ヘッド
のシールドの片方と兼用であることもある。
【0014】
【発明の効果】以上の説明により、本発明によって、高
周波記録において薄膜ヘッドの劣化の要因となる引出線
と導体コイル間の浮遊容量を解消する事ができ、従っ
て、効率の高い高周波記録がおこなわれる。
周波記録において薄膜ヘッドの劣化の要因となる引出線
と導体コイル間の浮遊容量を解消する事ができ、従っ
て、効率の高い高周波記録がおこなわれる。
【0015】加えて、本発明では端子をヘッド素子と平
面的に重なるように配置する事により、小型スライダ上
の端子実装が楽になる。
面的に重なるように配置する事により、小型スライダ上
の端子実装が楽になる。
【図1】本発明の1実施例の薄膜磁気ヘッドの断面模式
図。
図。
【図2】本発明の1実施例の薄膜磁気ヘッドの正面模式
図。
図。
【図3】従来の薄膜磁気ヘッドの断面図。
【図4】従来の薄膜磁気ヘッドの正面図。
1…下地層、 2…第1の磁性体、 3…磁気ギ
ャップ層、4…層間絶縁層、 5…導体コイル、
6…第2の磁性体、7…スルーホール、8…引出線、
9…導体コイル内周側の端部、10…下部端
子、 11…メッキ用下地膜、12…保護膜、13…上
部端子。
ャップ層、4…層間絶縁層、 5…導体コイル、
6…第2の磁性体、7…スルーホール、8…引出線、
9…導体コイル内周側の端部、10…下部端
子、 11…メッキ用下地膜、12…保護膜、13…上
部端子。
Claims (4)
- 【請求項1】第1の磁性体、第2の磁性体を積層するこ
とによって形成される1端に磁気ギャップを持つリング
型コアと、 該磁気コアを励起する1層或は奇数層の平面スパイラル
コイルと、 該磁気コアと該平面スパイラルコイルとを電気的に絶縁
する為の層間絶縁層と、 該平面スパイラルコイルの外周側及び内周側の端部を外
部回路と接続するための端子部を持つ薄膜磁気ヘッドに
おいて、 該平面スパイラルコイル上を絶縁層を介して交差するよ
うな引出線を持たず、該平面スパイラルコイルの内周側
の端部から直に端子部が形成されている事を特徴とする
薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項2】請求項1の薄膜磁気ヘッドを記録ヘッドと
して用いる録再分離型磁気ヘッド。 - 【請求項3】請求項2の薄膜磁気ヘッドを記録ヘッドと
して用いる磁気記録装置。 - 【請求項4】請求項1の薄膜磁気ヘッドで外部回路と結
線されるところの上部端子が薄膜素子と平面的に重なっ
ていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7131397A JPH10269525A (ja) | 1997-03-25 | 1997-03-25 | 薄膜磁気ヘッド及び磁気記録装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7131397A JPH10269525A (ja) | 1997-03-25 | 1997-03-25 | 薄膜磁気ヘッド及び磁気記録装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10269525A true JPH10269525A (ja) | 1998-10-09 |
Family
ID=13457003
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7131397A Pending JPH10269525A (ja) | 1997-03-25 | 1997-03-25 | 薄膜磁気ヘッド及び磁気記録装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10269525A (ja) |
-
1997
- 1997-03-25 JP JP7131397A patent/JPH10269525A/ja active Pending
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