JPH10272459A - 環境浄化体、環境浄化方法及び環境浄化装置 - Google Patents
環境浄化体、環境浄化方法及び環境浄化装置Info
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- JPH10272459A JPH10272459A JP8078597A JP8078597A JPH10272459A JP H10272459 A JPH10272459 A JP H10272459A JP 8078597 A JP8078597 A JP 8078597A JP 8078597 A JP8078597 A JP 8078597A JP H10272459 A JPH10272459 A JP H10272459A
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- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
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- B01D—SEPARATION
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- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
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- Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 放射線を利用し、湖沼や大気などの幅広い環
境要素を大量に浄化処理できる環境浄化体及び環境浄化
装置を提供する。 【解決手段】 浄化体38は、放射線を発する内部線源
層40と、前記内部線源層40を被覆する外部触媒層4
2が備えられている。この外部触媒層42は、内部線源
層40からの放射線を受けて前記汚染物質を分解する活
性種を生成する。ここで、生成された活性種には、外部
触媒層で形成される電子正孔対の正孔や、この正孔によ
り周囲の水分子等が酸化されて形成される水酸化ラジカ
ル等の活性酸化体が含まれる。これら活性種は、強い酸
化力を有し、この酸化力により汚染物質は酸化分解さ
れ、環境要素が浄化される。
境要素を大量に浄化処理できる環境浄化体及び環境浄化
装置を提供する。 【解決手段】 浄化体38は、放射線を発する内部線源
層40と、前記内部線源層40を被覆する外部触媒層4
2が備えられている。この外部触媒層42は、内部線源
層40からの放射線を受けて前記汚染物質を分解する活
性種を生成する。ここで、生成された活性種には、外部
触媒層で形成される電子正孔対の正孔や、この正孔によ
り周囲の水分子等が酸化されて形成される水酸化ラジカ
ル等の活性酸化体が含まれる。これら活性種は、強い酸
化力を有し、この酸化力により汚染物質は酸化分解さ
れ、環境要素が浄化される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、環境要素中の汚染
物質を分解し、環境要素の浄化を行う環境浄化体、及び
この環境浄化体を用いた環境浄化方法並びに環境浄化装
置に関する。
物質を分解し、環境要素の浄化を行う環境浄化体、及び
この環境浄化体を用いた環境浄化方法並びに環境浄化装
置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より土壌、大気、水等の環境要素の
汚染が大きな問題になっている。例えば、湖沼や内湾な
どでは、有機物質等の発ガン性の有害物質あるいは栄養
分を含んだ排水が排出されることにより富栄養化が引き
起こされている。この富栄養化により湖沼などに生息す
る生物の成育が促され過剰に増殖し、これが水質の汚濁
の原因となっている。
汚染が大きな問題になっている。例えば、湖沼や内湾な
どでは、有機物質等の発ガン性の有害物質あるいは栄養
分を含んだ排水が排出されることにより富栄養化が引き
起こされている。この富栄養化により湖沼などに生息す
る生物の成育が促され過剰に増殖し、これが水質の汚濁
の原因となっている。
【0003】また、大気においては、自動車等などから
排出される排気ガスや種々の工場からの排気が主な汚染
の原因となっている。これらの排気ガスなどの主な成分
には、炭酸ガス(CO2)、窒素高酸化物(NOX )や
二酸化硫黄(SO2 )などが含まれている。これらの物
質は、地球温暖化の主要因となり、また一方では、雨水
に溶解して酸性雨を降らせ森林破壊を引き起こしてい
る。
排出される排気ガスや種々の工場からの排気が主な汚染
の原因となっている。これらの排気ガスなどの主な成分
には、炭酸ガス(CO2)、窒素高酸化物(NOX )や
二酸化硫黄(SO2 )などが含まれている。これらの物
質は、地球温暖化の主要因となり、また一方では、雨水
に溶解して酸性雨を降らせ森林破壊を引き起こしてい
る。
【0004】このような環境要素中の汚染因子を除去す
るために、種々の手段が講じられている。
るために、種々の手段が講じられている。
【0005】その主な浄化手段としては、フィルタ、ス
クラバー及び吸着塔などの吸着体を用い汚染因子を吸着
除去して環境要素を浄化するものである。しかし、この
ように汚染因子を吸着して除去する方法では、汚染因子
が吸着した吸着体が汚染因子により飽和した場合、多く
はこれら吸着体は廃棄され、これが二次廃棄物として大
量に発生することになる。また、廃棄しない場合でも、
その汚染因子を吸着体から除去し、吸着体を再生させる
必要がある。
クラバー及び吸着塔などの吸着体を用い汚染因子を吸着
除去して環境要素を浄化するものである。しかし、この
ように汚染因子を吸着して除去する方法では、汚染因子
が吸着した吸着体が汚染因子により飽和した場合、多く
はこれら吸着体は廃棄され、これが二次廃棄物として大
量に発生することになる。また、廃棄しない場合でも、
その汚染因子を吸着体から除去し、吸着体を再生させる
必要がある。
【0006】そこで、近年では、汚染因子を吸着させて
浄化する手段とは異なり、この汚染因子を分解して浄化
する光触媒が開発されている。
浄化する手段とは異なり、この汚染因子を分解して浄化
する光触媒が開発されている。
【0007】この光触媒とは、酸化チタン(TiO2 )
が有する価電子帯と伝導帯との間のバンドギャップを利
用して、光照射により酸化チタン上に電子−正孔対が形
成され酸化還元触媒として機能するものである。
が有する価電子帯と伝導帯との間のバンドギャップを利
用して、光照射により酸化チタン上に電子−正孔対が形
成され酸化還元触媒として機能するものである。
【0008】詳細には、酸化チタンに太陽光又は紫外ラ
ンプの光を照射すると、通常価電子帯に存在する電子が
伝導帯に励起し、この励起により同時に価電子帯に正孔
が形成し、酸化チタン内で電子正孔対(e- −h+ )が
形成される。この電子正孔対は酸化チタンの表面に移動
し、これにより酸化還元作用が発揮される。このように
酸化還元作用が引き出された酸化チタンは、環境中の酸
素や水分と接触してO2 - 、O- 、OH- などの活性酸
素体を生成する。ここで生成された活性酸素体は強い酸
化力を有し、環境中の汚染因子を酸化分解することにな
る。例えば、NOX やSO2 は、これら活性酸素体によ
り最終的に硝酸や硫酸まで酸化されることになる。
ンプの光を照射すると、通常価電子帯に存在する電子が
伝導帯に励起し、この励起により同時に価電子帯に正孔
が形成し、酸化チタン内で電子正孔対(e- −h+ )が
形成される。この電子正孔対は酸化チタンの表面に移動
し、これにより酸化還元作用が発揮される。このように
酸化還元作用が引き出された酸化チタンは、環境中の酸
素や水分と接触してO2 - 、O- 、OH- などの活性酸
素体を生成する。ここで生成された活性酸素体は強い酸
化力を有し、環境中の汚染因子を酸化分解することにな
る。例えば、NOX やSO2 は、これら活性酸素体によ
り最終的に硝酸や硫酸まで酸化されることになる。
【0009】実際に、この光触媒を用いて大気の浄化を
行うために以下のような手段が講じられている。すなわ
ち、酸化チタンが、大気と接触するもの、例えば外壁材
などの外部建築材料、ガードレールなどの構造物の表面
に被覆される。この表面に被覆された酸化チタンに太陽
光が照射されると、酸化チタン上で電子正孔対が形成さ
れ酸化還元触媒として作用することになる。そして、こ
の酸化還元作用が引き出された酸化チタンが大気中の酸
素や水分と接触すると、上述したようにこれらから活性
酸素体が生成される。酸化チタン上に生成された活性酸
素体が、大気中の汚染因子、例えばNOX 及びSO2 な
どと接触すると、これらは硝酸及び硫酸に酸化分解され
ることになる。最終的に、酸化チタンの表面に付着した
分解産物を水などを用いて洗い流すことにより完全に汚
染因子が除去されることになる。
行うために以下のような手段が講じられている。すなわ
ち、酸化チタンが、大気と接触するもの、例えば外壁材
などの外部建築材料、ガードレールなどの構造物の表面
に被覆される。この表面に被覆された酸化チタンに太陽
光が照射されると、酸化チタン上で電子正孔対が形成さ
れ酸化還元触媒として作用することになる。そして、こ
の酸化還元作用が引き出された酸化チタンが大気中の酸
素や水分と接触すると、上述したようにこれらから活性
酸素体が生成される。酸化チタン上に生成された活性酸
素体が、大気中の汚染因子、例えばNOX 及びSO2 な
どと接触すると、これらは硝酸及び硫酸に酸化分解され
ることになる。最終的に、酸化チタンの表面に付着した
分解産物を水などを用いて洗い流すことにより完全に汚
染因子が除去されることになる。
【0010】以上の通り、光触媒を用いて大気の浄化を
行うことにより、従来のフィルタなどによる浄化方法と
は異なり汚染因子を根本的に分解し除去することが可能
となる。
行うことにより、従来のフィルタなどによる浄化方法と
は異なり汚染因子を根本的に分解し除去することが可能
となる。
【0011】近年では、この光触媒は、上水道中に微量
に含まれる毒性物資である有機ハロゲン化合物の分解に
も応用することができることが明らかになっている(久
永ら、DENNKI KAGAKU vol.60,p
107−111)。
に含まれる毒性物資である有機ハロゲン化合物の分解に
も応用することができることが明らかになっている(久
永ら、DENNKI KAGAKU vol.60,p
107−111)。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、この
光触媒酸化チタンを用いて環境を浄化する方法は、浄化
手段として有効であるが、この浄化方法は光が十分に得
られる条件下で行われることが必要になるため、浄化で
きる環境要素または浄化可能な量などにおいて種々の制
限がある。
光触媒酸化チタンを用いて環境を浄化する方法は、浄化
手段として有効であるが、この浄化方法は光が十分に得
られる条件下で行われることが必要になるため、浄化で
きる環境要素または浄化可能な量などにおいて種々の制
限がある。
【0013】すなわち、光触媒の場合、原則的には光が
透過できる環境要素や浄化対象物に限られることにな
る。従って、光の透過を遮るような浄化対象物、例えば
汚濁した湖沼などを大量に浄化する場合には適さないこ
とになる。
透過できる環境要素や浄化対象物に限られることにな
る。従って、光の透過を遮るような浄化対象物、例えば
汚濁した湖沼などを大量に浄化する場合には適さないこ
とになる。
【0014】また、上述したように大気の浄化を行う場
合には、その処理量を上げるために酸化チタンを建築材
料などに塗布することが有効であるが、この場合光源と
して太陽光を利用することになる。この太陽光は、無償
で大量の光源が得られるという利点を有する一方、この
光は常に得られるものではなく日中に限られ、また、こ
の日中においても天候などに左右されることになる。ま
た、太陽光に代えて紫外線ランプなどの人口の光源を利
用する場合には、浄化処理を行う費用が莫大となり現実
性に欠けることになる。
合には、その処理量を上げるために酸化チタンを建築材
料などに塗布することが有効であるが、この場合光源と
して太陽光を利用することになる。この太陽光は、無償
で大量の光源が得られるという利点を有する一方、この
光は常に得られるものではなく日中に限られ、また、こ
の日中においても天候などに左右されることになる。ま
た、太陽光に代えて紫外線ランプなどの人口の光源を利
用する場合には、浄化処理を行う費用が莫大となり現実
性に欠けることになる。
【0015】一方、近年、この酸化チタンは、光照射だ
けでなく放射線照射により酸化還元触媒として作用する
ことが明らかになった(特許01842102号、特開
平2−95440号公報、特開平8−184689号公
報、特開平8−183602号公報)。
けでなく放射線照射により酸化還元触媒として作用する
ことが明らかになった(特許01842102号、特開
平2−95440号公報、特開平8−184689号公
報、特開平8−183602号公報)。
【0016】そこで、本発明は、上記課題に鑑みてなさ
れたものであり、その目的は、放射線を利用し、湖沼や
大気などの幅広い環境要素を大量に浄化処理できる環境
浄化体、環境浄化方法及び環境浄化装置を提供すること
である。
れたものであり、その目的は、放射線を利用し、湖沼や
大気などの幅広い環境要素を大量に浄化処理できる環境
浄化体、環境浄化方法及び環境浄化装置を提供すること
である。
【0017】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の環境浄化体は、環境要素中の汚染物質を分
解して環境を浄化するための環境浄化体であって、放射
線を発する内部線源層と、前記内部線源層を被覆し、前
記内部線源層からの放射線を受けて前記汚染物質を分解
する活性種を生成する外部触媒層と、を備えたことを特
徴とする。
に、本発明の環境浄化体は、環境要素中の汚染物質を分
解して環境を浄化するための環境浄化体であって、放射
線を発する内部線源層と、前記内部線源層を被覆し、前
記内部線源層からの放射線を受けて前記汚染物質を分解
する活性種を生成する外部触媒層と、を備えたことを特
徴とする。
【0018】上記発明によれば、外部触媒層は、内部線
源層からの放射線を受けて前記汚染物質を分解する活性
種を生成する。ここで、生成された活性種には、外部触
媒層で形成される電子正孔対の正孔や、この正孔により
周囲の水分子等が酸化されて形成される水酸化ラジカル
等が含まれる。これら活性種は、強い酸化力を有し、こ
の酸化力により汚染物質は酸化分解され、環境要素から
除去される。
源層からの放射線を受けて前記汚染物質を分解する活性
種を生成する。ここで、生成された活性種には、外部触
媒層で形成される電子正孔対の正孔や、この正孔により
周囲の水分子等が酸化されて形成される水酸化ラジカル
等が含まれる。これら活性種は、強い酸化力を有し、こ
の酸化力により汚染物質は酸化分解され、環境要素から
除去される。
【0019】従って、上記の通り構成された環境浄化体
を環境要素と混合することにより、環境要素中の汚染物
質が除去され、環境要素が浄化されることになる。
を環境要素と混合することにより、環境要素中の汚染物
質が除去され、環境要素が浄化されることになる。
【0020】本発明において、前記外部線源層として
は、上述したように放射線照射を受けて電子正孔対を形
成し得るもの、すなわち、放射線照射により価電帯と伝
導帯との間に所定のバンドギャップを越えて励起し得る
ものから構成することができる。具体的には、前記外部
線源層として、半導体を利用することが好ましく、特
に、酸等に対して安定な酸化チタン(TiO2)が好ま
しい。従って、酸化チタンを用いた場合には、NOX や
有機物質等の汚染物質を酸化分解した際に形成される硝
酸等の酸性物質により腐食することがなく、環境浄化体
を長期に堅牢な状態に維持することができる。
は、上述したように放射線照射を受けて電子正孔対を形
成し得るもの、すなわち、放射線照射により価電帯と伝
導帯との間に所定のバンドギャップを越えて励起し得る
ものから構成することができる。具体的には、前記外部
線源層として、半導体を利用することが好ましく、特
に、酸等に対して安定な酸化チタン(TiO2)が好ま
しい。従って、酸化チタンを用いた場合には、NOX や
有機物質等の汚染物質を酸化分解した際に形成される硝
酸等の酸性物質により腐食することがなく、環境浄化体
を長期に堅牢な状態に維持することができる。
【0021】なお、本発明においては、通常、紫外線で
は電子正孔対を形成し得ない絶縁体でも、放射線のよう
に高いエネルギーを受けて電子正孔対を形成し得る場合
には、前記外部触媒層として使用することができる。こ
の絶縁体として、具体的には、ガラスセラミック(結晶
化ガラス)等を利用することができる。
は電子正孔対を形成し得ない絶縁体でも、放射線のよう
に高いエネルギーを受けて電子正孔対を形成し得る場合
には、前記外部触媒層として使用することができる。こ
の絶縁体として、具体的には、ガラスセラミック(結晶
化ガラス)等を利用することができる。
【0022】前記環境浄化体の線源層としては、α線、
β線またはγ線のいずれかを発するものでもよい。例え
ば、α線核種としてアメリシウム(Am)-241等が
挙げられる。また、β線核種としては、ストロンチウム
(Sr)-90等が挙げられる。また、γ線核種として
は、セシウム(Cs)-137等が挙げられる。
β線またはγ線のいずれかを発するものでもよい。例え
ば、α線核種としてアメリシウム(Am)-241等が
挙げられる。また、β線核種としては、ストロンチウム
(Sr)-90等が挙げられる。また、γ線核種として
は、セシウム(Cs)-137等が挙げられる。
【0023】これら核種を用いた場合には、これら核種
を、例えば、ガラス等と混同し固化させ、これを内部線
源層として、その周囲に外部触媒層を被覆することによ
り浄化体を構成することができる。
を、例えば、ガラス等と混同し固化させ、これを内部線
源層として、その周囲に外部触媒層を被覆することによ
り浄化体を構成することができる。
【0024】また、線源層として、再処理施設などから
の高レベル放射性廃棄物のガラス固化体を利用すること
が好ましい。再処理施設などからの高レベル放射性廃棄
物は、通常、ガラス固化体とした後、減衰させるために
地下に貯蔵される。すなわち、この高レベル放射性廃棄
物は、廃棄された後は通常は使用されていなかった。
の高レベル放射性廃棄物のガラス固化体を利用すること
が好ましい。再処理施設などからの高レベル放射性廃棄
物は、通常、ガラス固化体とした後、減衰させるために
地下に貯蔵される。すなわち、この高レベル放射性廃棄
物は、廃棄された後は通常は使用されていなかった。
【0025】しかし、この再処理施設からの高レベル放
射性廃棄物中に本発明の環境浄化体に使用し得る放射線
各種、例えば、上述したAm-241やセシウムCs-1
37等が含有している。そのため、この高レベル放射性
廃棄物を本発明に利用することにより、環境要素浄化を
行うとともに、従来利用されていなかった高レベル放射
性廃棄物の有効利用を図ることができる。
射性廃棄物中に本発明の環境浄化体に使用し得る放射線
各種、例えば、上述したAm-241やセシウムCs-1
37等が含有している。そのため、この高レベル放射性
廃棄物を本発明に利用することにより、環境要素浄化を
行うとともに、従来利用されていなかった高レベル放射
性廃棄物の有効利用を図ることができる。
【0026】本発明の他の環境浄化体は、環境要素中の
汚染物質を分解して環境を浄化するための環境浄化体で
あって、放射線を受けて前記汚染物質を分解する活性種
を生成する触媒物質を少なくとも表面に備え、前記触媒
物質の構成要素として少なくとも一種類の放射性同位元
素を含むことを特徴とする。
汚染物質を分解して環境を浄化するための環境浄化体で
あって、放射線を受けて前記汚染物質を分解する活性種
を生成する触媒物質を少なくとも表面に備え、前記触媒
物質の構成要素として少なくとも一種類の放射性同位元
素を含むことを特徴とする。
【0027】上記構成によれば、触媒物質の構成要素と
して放射性同位元素が含まれているため、この放射性同
位元素からの放射線を受けて触媒物質が活性種を生成す
る。この活性種は、上記した活性種と同様であり、電子
正孔対の正孔やこの正孔により周囲の水分子等が酸化さ
れて形成される水酸化ラジカル等が含まれる。これら活
性種は、いずれも強い酸化力を有し、この強い酸化力に
より汚染物質は酸化分解され、環境要素から除去され
る。
して放射性同位元素が含まれているため、この放射性同
位元素からの放射線を受けて触媒物質が活性種を生成す
る。この活性種は、上記した活性種と同様であり、電子
正孔対の正孔やこの正孔により周囲の水分子等が酸化さ
れて形成される水酸化ラジカル等が含まれる。これら活
性種は、いずれも強い酸化力を有し、この強い酸化力に
より汚染物質は酸化分解され、環境要素から除去され
る。
【0028】従って、上記の通り構成された環境浄化体
を環境要素と混合することにより、環境要素中の汚染物
質が除去され、環境要素が浄化されることになる。
を環境要素と混合することにより、環境要素中の汚染物
質が除去され、環境要素が浄化されることになる。
【0029】上記触媒物質としては、例えば、90SrT
iO3を利用することができる。
iO3を利用することができる。
【0030】上記環境浄化体を構成する場合、少なくと
も周囲の環境要素と接触する表面に触媒物質を備えてい
ればよく、触媒物質単独で構成しても、また、強度を有
する支持体の表面に触媒物質を被覆して構成してもよ
い。
も周囲の環境要素と接触する表面に触媒物質を備えてい
ればよく、触媒物質単独で構成しても、また、強度を有
する支持体の表面に触媒物質を被覆して構成してもよ
い。
【0031】本発明の環境浄化装置は、環境要素中の汚
染物質を分解して環境を浄化する環境浄化装置であっ
て、注入された環境要素に含まれる汚染物質を分解する
ための浄化槽と、前記浄化槽の外部に設け、放射線を浄
化槽に対して発する外部線源と、を備え、前記浄化槽内
には、外部線源からの放射線を受けて前記汚染物質を分
解する活性種を生成する触媒物質を表面に備えた環境浄
化体が充填されていることを特徴とする。
染物質を分解して環境を浄化する環境浄化装置であっ
て、注入された環境要素に含まれる汚染物質を分解する
ための浄化槽と、前記浄化槽の外部に設け、放射線を浄
化槽に対して発する外部線源と、を備え、前記浄化槽内
には、外部線源からの放射線を受けて前記汚染物質を分
解する活性種を生成する触媒物質を表面に備えた環境浄
化体が充填されていることを特徴とする。
【0032】上記構成によれば、浄化槽内に汚染物質を
含む環境要素を注入した状態で、外部線源から浄化槽に
対して放射線を照射することにより、浄化槽内の環境浄
化体が上述した活性種を形成し、汚染物質を酸化分解し
て、環境要素を浄化する。
含む環境要素を注入した状態で、外部線源から浄化槽に
対して放射線を照射することにより、浄化槽内の環境浄
化体が上述した活性種を形成し、汚染物質を酸化分解し
て、環境要素を浄化する。
【0033】従って、上記の通り構成された環境浄化装
置に環境要素を注入することにより、浄化槽内で環境要
素中の汚染物質が除去され、環境要素が浄化されること
になる。
置に環境要素を注入することにより、浄化槽内で環境要
素中の汚染物質が除去され、環境要素が浄化されること
になる。
【0034】本発明において、環境浄化体に備えられた
触媒物質は、上述したように放射線照射を受けて電子正
孔対を形成し得るもの、すなわち、放射線照射により価
電子帯の電子が所定のバンドギャップを越えて伝導帯に
励起し得るものから構成することができる。具体的に
は、前記触媒物質として、半導体を利用することが好ま
しく、特に、酸等に対して安定な酸化チタン(Ti
O2)を好適に利用できる。
触媒物質は、上述したように放射線照射を受けて電子正
孔対を形成し得るもの、すなわち、放射線照射により価
電子帯の電子が所定のバンドギャップを越えて伝導帯に
励起し得るものから構成することができる。具体的に
は、前記触媒物質として、半導体を利用することが好ま
しく、特に、酸等に対して安定な酸化チタン(Ti
O2)を好適に利用できる。
【0035】なお、本発明において、ガラスセラミック
(結晶化ガラス)のような絶縁体をも利用することもで
きる。
(結晶化ガラス)のような絶縁体をも利用することもで
きる。
【0036】一方、前記外部線源としては、α線、β
線、γ線またはX線のいずれかを発するものを使用する
ことができる。ここで、α線核種、β線核種、γ線核種
としては、上述したアメリシウム(Am)-241等、
ストロンチウム(Sr)-90等、セシウム(Cs)-1
37等をそれぞれ使用することができる。また、X線を
外部線源とする場合には、任意のX線照射装置を利用す
ることができる。
線、γ線またはX線のいずれかを発するものを使用する
ことができる。ここで、α線核種、β線核種、γ線核種
としては、上述したアメリシウム(Am)-241等、
ストロンチウム(Sr)-90等、セシウム(Cs)-1
37等をそれぞれ使用することができる。また、X線を
外部線源とする場合には、任意のX線照射装置を利用す
ることができる。
【0037】これら外部線源を設置する際には、好まし
くは浄化槽内部に均質に放射線が照射されることが好ま
しい。例えば、γ線核種を外部線源として利用する場合
には、浄化槽を覆うカバー等にこれら核種のいずれかを
含有させることにより、浄化槽内に均質に放射線が照射
されることになる。
くは浄化槽内部に均質に放射線が照射されることが好ま
しい。例えば、γ線核種を外部線源として利用する場合
には、浄化槽を覆うカバー等にこれら核種のいずれかを
含有させることにより、浄化槽内に均質に放射線が照射
されることになる。
【0038】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態を図
面を用いて示す。
面を用いて示す。
【0039】[第一の実施の形態]第一の実施の形態の浄
化体を図1に示す。
化体を図1に示す。
【0040】浄化体38は、内部に放射線を放出する線
源層40が設けられ、その外側には該線源層40を包み
込む中間層44が設けられている。この中間層44の周
囲には、中間層44を透過した放射線により電子正孔対
を形成する外部触媒層42が被覆するように設けられて
いる。
源層40が設けられ、その外側には該線源層40を包み
込む中間層44が設けられている。この中間層44の周
囲には、中間層44を透過した放射線により電子正孔対
を形成する外部触媒層42が被覆するように設けられて
いる。
【0041】この浄化体38は、表面積を高め、かつ、
加工を容易にするために粒状に構成することが望まし
い。しかし、使用目的、使用環境等に応じて、板形状、
ハニカム形状等の任意の形状に構成することもでき、ま
た、中空フィルターとして構成することもできる。
加工を容易にするために粒状に構成することが望まし
い。しかし、使用目的、使用環境等に応じて、板形状、
ハニカム形状等の任意の形状に構成することもでき、ま
た、中空フィルターとして構成することもできる。
【0042】前記線源層40に包含される放射線源とし
て、α線核種、β線核種、γ線核種のいずれかを単独で
または組合わせて用いることができる。例えば、α線核
種としてAm-241等が挙げられる。また、β線核種
としては、Sr-90等が挙げられる。さらに、γ線核
種としては、Cs-137等が挙げられる。これら線源
は、ガラス等を用いて密封固化された後、必要であれば
所定の形状に整えられて、線源層40として使用され
る。
て、α線核種、β線核種、γ線核種のいずれかを単独で
または組合わせて用いることができる。例えば、α線核
種としてAm-241等が挙げられる。また、β線核種
としては、Sr-90等が挙げられる。さらに、γ線核
種としては、Cs-137等が挙げられる。これら線源
は、ガラス等を用いて密封固化された後、必要であれば
所定の形状に整えられて、線源層40として使用され
る。
【0043】また、これら放射線源は、例えば、再処理
施設からの高レベル放射性廃棄物中に大量に含まれてい
ることから、この高レベル放射性廃棄物を放射線源とし
て利用することもできる。この高レベル放射性廃棄物
は、通常、その後使用されることなく、ガラスを用いて
固化体として金属容器などに封入された後、減衰させる
ために地下に貯蔵されている。従って、この高レベル放
射性廃棄物のガラス固化体を本実施の形態の線源層40
に用いることにより、高レベル放射性廃棄物を有効に利
用することができるとともに、減衰用の地下スペースを
節約することもできる。
施設からの高レベル放射性廃棄物中に大量に含まれてい
ることから、この高レベル放射性廃棄物を放射線源とし
て利用することもできる。この高レベル放射性廃棄物
は、通常、その後使用されることなく、ガラスを用いて
固化体として金属容器などに封入された後、減衰させる
ために地下に貯蔵されている。従って、この高レベル放
射性廃棄物のガラス固化体を本実施の形態の線源層40
に用いることにより、高レベル放射性廃棄物を有効に利
用することができるとともに、減衰用の地下スペースを
節約することもできる。
【0044】なお、この線源層は、高レベル放射性廃棄
物に限らず、高レベルに至らない放射性廃棄物を濃縮
し、これを固化体として前記線源層40として利用する
こともできる。
物に限らず、高レベルに至らない放射性廃棄物を濃縮
し、これを固化体として前記線源層40として利用する
こともできる。
【0045】前記中間層44は、線源層40と外部触媒
層42との直接接触を防止するために設けられている。
具体的には、この中間層44は、例えば線源層40がガ
ラス固化体から構成されている場合ガラス体のNaなど
の含有物が触媒層を劣化させることを防止する。また線
源が触媒層に漏出することを防止する。この目的を達成
するために、中間層44は、例えば、銅のような安定な
金属を利用することができる。
層42との直接接触を防止するために設けられている。
具体的には、この中間層44は、例えば線源層40がガ
ラス固化体から構成されている場合ガラス体のNaなど
の含有物が触媒層を劣化させることを防止する。また線
源が触媒層に漏出することを防止する。この目的を達成
するために、中間層44は、例えば、銅のような安定な
金属を利用することができる。
【0046】触媒層42は、電子正孔対(e-−h+)が
生成される材質、即ち、放射線照射により価電帯の電子
が、バンドギャップを越えて伝導体に励起し得る材質を
用いて構成する。即ち、この材質として、半導体を好適
に利用することができる。半導体は、紫外線や放射線の
照射により価電帯の電子は比較的大きなバンドギャップ
(3〜4eV程度のバンドギャップ)を越えて伝導帯に
励起し、電子正孔対が生成される。ここで生成された正
孔は、強い酸化力を有し、この酸化力により、環境中の
有機物質などの汚染物質を直接酸化分解する。または、
前記正孔が周囲の水分子などを酸化分解して、OHラジ
カルなどの活性酸化体を生成し、この活性酸化体が汚染
物質を酸化分解する。
生成される材質、即ち、放射線照射により価電帯の電子
が、バンドギャップを越えて伝導体に励起し得る材質を
用いて構成する。即ち、この材質として、半導体を好適
に利用することができる。半導体は、紫外線や放射線の
照射により価電帯の電子は比較的大きなバンドギャップ
(3〜4eV程度のバンドギャップ)を越えて伝導帯に
励起し、電子正孔対が生成される。ここで生成された正
孔は、強い酸化力を有し、この酸化力により、環境中の
有機物質などの汚染物質を直接酸化分解する。または、
前記正孔が周囲の水分子などを酸化分解して、OHラジ
カルなどの活性酸化体を生成し、この活性酸化体が汚染
物質を酸化分解する。
【0047】上記酸化分解により、有機有害物質等は例
えば、硫酸、硝酸、などの酸性物質が生成されるため、
好ましくは、前記触媒層として、酸等に耐性な酸化チタ
ン(TiO2)などを用いることが好ましい。酸化チタ
ンのように酸に耐性な材質を採用することにより、外部
触媒層42は腐食することがなく、長期に堅牢な状態を
維持することができる。
えば、硫酸、硝酸、などの酸性物質が生成されるため、
好ましくは、前記触媒層として、酸等に耐性な酸化チタ
ン(TiO2)などを用いることが好ましい。酸化チタ
ンのように酸に耐性な材質を採用することにより、外部
触媒層42は腐食することがなく、長期に堅牢な状態を
維持することができる。
【0048】外部触媒層42を中間層に被覆する場合に
は、その厚みを薄くすることが望ましい。具体的には、
外部触媒層42の厚みを、例えば、約10μmとする。
この外部触媒層による汚染物質の酸化分解反応は、電子
正孔対が形成されている触媒分子と汚染物質とが接触す
ることにより生じる。または、電子正孔対が形成されて
いる触媒分子と周囲の水分子とが接触してOHラジカル
等の活性酸化体が生成され、この活性酸化体を介して汚
染物質が分解される。すなわち、汚染物質を効率的に分
解するためには、外部触媒層の表面付近において効率的
に電子正孔対が形成される必要がある。そのため、上記
の通り、外部触媒層の厚みを薄くすることにより、外部
触媒層の表面付近における電子正孔対の形成頻度を高め
ることができる。その結果、汚染物質の分解浄化効率を
高めることができる。
は、その厚みを薄くすることが望ましい。具体的には、
外部触媒層42の厚みを、例えば、約10μmとする。
この外部触媒層による汚染物質の酸化分解反応は、電子
正孔対が形成されている触媒分子と汚染物質とが接触す
ることにより生じる。または、電子正孔対が形成されて
いる触媒分子と周囲の水分子とが接触してOHラジカル
等の活性酸化体が生成され、この活性酸化体を介して汚
染物質が分解される。すなわち、汚染物質を効率的に分
解するためには、外部触媒層の表面付近において効率的
に電子正孔対が形成される必要がある。そのため、上記
の通り、外部触媒層の厚みを薄くすることにより、外部
触媒層の表面付近における電子正孔対の形成頻度を高め
ることができる。その結果、汚染物質の分解浄化効率を
高めることができる。
【0049】なお、上記外部触媒層として、ガラスセラ
ミック(結晶化ガラス)のように絶縁体に分類されるも
のも使用することができる。すなわち、実施の形態で
は、高いエネルギーを有する放射線を用いているため、
従来の紫外光ではバンドギャップを越えて、励起し得な
い絶縁体でも、電子正孔対を形成させることが可能とな
る。
ミック(結晶化ガラス)のように絶縁体に分類されるも
のも使用することができる。すなわち、実施の形態で
は、高いエネルギーを有する放射線を用いているため、
従来の紫外光ではバンドギャップを越えて、励起し得な
い絶縁体でも、電子正孔対を形成させることが可能とな
る。
【0050】上記の通り構成された環境浄化体38を用
いて、環境要素を浄化する場合には、任意の浄化槽、例
えば、図2に示すようなカラム状の浄化槽26に前記浄
化体38を充填して使用することができる。
いて、環境要素を浄化する場合には、任意の浄化槽、例
えば、図2に示すようなカラム状の浄化槽26に前記浄
化体38を充填して使用することができる。
【0051】カラム26内に充填された環境浄化体38
では、内部の線源層40からの放射線により外部触媒層
42において多数の電子正孔対が形成されている。この
ようにカラム内の各環境浄化体38において多数の電子
正孔対が形成されている状態で、カラム内に廃液や排気
ガスなどの汚染物質を含む環境要素が注入される。この
環境要素に含まれる汚染物質は、環境浄化体38の電子
正孔対の正孔の酸化力により、または、正孔により酸化
され生成されたOHラジカル等の活性酸化体により、有
機有害物質は二酸化炭素等にまで酸化分解されて除去さ
れる。よって、汚染物質が除去された浄化済み環境要素
がカラムから排出されることになる。
では、内部の線源層40からの放射線により外部触媒層
42において多数の電子正孔対が形成されている。この
ようにカラム内の各環境浄化体38において多数の電子
正孔対が形成されている状態で、カラム内に廃液や排気
ガスなどの汚染物質を含む環境要素が注入される。この
環境要素に含まれる汚染物質は、環境浄化体38の電子
正孔対の正孔の酸化力により、または、正孔により酸化
され生成されたOHラジカル等の活性酸化体により、有
機有害物質は二酸化炭素等にまで酸化分解されて除去さ
れる。よって、汚染物質が除去された浄化済み環境要素
がカラムから排出されることになる。
【0052】[第二の実施の形態]上記第一の実施形態で
は、放射線を放出する線源層と放射線照射により電子正
孔対を形成する触媒層とが別々の層として設けられてい
たが、本実施の形態では、同一の層に放射線を放出する
線源と放射線照射により電子正孔対を形成する触媒物質
とが包含されている。
は、放射線を放出する線源層と放射線照射により電子正
孔対を形成する触媒層とが別々の層として設けられてい
たが、本実施の形態では、同一の層に放射線を放出する
線源と放射線照射により電子正孔対を形成する触媒物質
とが包含されている。
【0053】図3に本実施の形態の浄化体45を示す。
この浄化体45は、内部の支持層46の表面に触媒機能
と放射線源とを兼ね備えた放射性触媒層47が設けられ
ている。この放射性触媒層47は、放射線源を含む触媒
物質から構成されている。
この浄化体45は、内部の支持層46の表面に触媒機能
と放射線源とを兼ね備えた放射性触媒層47が設けられ
ている。この放射性触媒層47は、放射線源を含む触媒
物質から構成されている。
【0054】ここで放射線源としては、上述した第一の
実施の形態と同様に、α線核種、β線核種、γ線核種の
いずれを用いることもできる。例えば、β線核種として
は、Sr-90等が挙げられ、このSr-90を含む触媒
物質としては90SrTiO3が挙げられる。
実施の形態と同様に、α線核種、β線核種、γ線核種の
いずれを用いることもできる。例えば、β線核種として
は、Sr-90等が挙げられ、このSr-90を含む触媒
物質としては90SrTiO3が挙げられる。
【0055】また、支持層46は、放射性触媒層47を
支持可能な材質から構成すればよく、具体的には、ガラ
ス等から構成することができる。なお、放射性触媒層4
7単独で構成することもできるが、浄化体45に強度を
持たせ、また、安価に構成するためには、支持層46を
設けることが望ましい。
支持可能な材質から構成すればよく、具体的には、ガラ
ス等から構成することができる。なお、放射性触媒層4
7単独で構成することもできるが、浄化体45に強度を
持たせ、また、安価に構成するためには、支持層46を
設けることが望ましい。
【0056】ここで構成された浄化体45は、上述した
第一の実施の形態におけるカラム26に充填し、同様に
環境要素の浄化に使用することができる。
第一の実施の形態におけるカラム26に充填し、同様に
環境要素の浄化に使用することができる。
【0057】本実施の形態では、支持層と放射性触媒層
とからなり、第一の実施の形態の浄化体に比して、簡便
な構成で同様の効果を得ることができる。
とからなり、第一の実施の形態の浄化体に比して、簡便
な構成で同様の効果を得ることができる。
【0058】なお、前記浄化体45は、放射性触媒層4
7の周囲をさらに酸化チタンなどの触媒層で被覆し、放
射性触媒層47を密閉することもできる。このように触
媒層により放射性触媒層47を被覆密閉することによ
り、環境要素と線源との直接接触を防止することができ
る。
7の周囲をさらに酸化チタンなどの触媒層で被覆し、放
射性触媒層47を密閉することもできる。このように触
媒層により放射性触媒層47を被覆密閉することによ
り、環境要素と線源との直接接触を防止することができ
る。
【0059】[第3の実施の形態]図4には、環境浄化装
置50の概略図を示す。
置50の概略図を示す。
【0060】この環境浄化装置50は、浄化槽であるカ
ラム52が設けられ、その周囲には、放射線源を含有す
るカラム内に放射線を照射する外筒54とが備えられて
いる。
ラム52が設けられ、その周囲には、放射線源を含有す
るカラム内に放射線を照射する外筒54とが備えられて
いる。
【0061】前記カラム52は、例えば、SUSなどの
放射線を透過する材質から構成されて、その内部には、
浄化体56が充填されている。この浄化体56は、図4
に示す通り、ガラスからなる支持層58の表面に触媒層
60が被覆されている。
放射線を透過する材質から構成されて、その内部には、
浄化体56が充填されている。この浄化体56は、図4
に示す通り、ガラスからなる支持層58の表面に触媒層
60が被覆されている。
【0062】この触媒層60は、第一の実施の形態と同
様に、放射線照射を受けて電子正孔対を形成する触媒物
質から構成されいる。すなわち、半導体のように、価電
子体と伝導帯との間に3〜4eV程度のバンドギャップ
を有するものを好適に使用することができ、また、ここ
では高いエネルギーを有する放射線を利用することか
ら、通常紫外光ではバンドギャップを越え励起し得ない
絶縁体も利用することができる。この絶縁体としては、
例えばガラスセラミックを利用することができる。
様に、放射線照射を受けて電子正孔対を形成する触媒物
質から構成されいる。すなわち、半導体のように、価電
子体と伝導帯との間に3〜4eV程度のバンドギャップ
を有するものを好適に使用することができ、また、ここ
では高いエネルギーを有する放射線を利用することか
ら、通常紫外光ではバンドギャップを越え励起し得ない
絶縁体も利用することができる。この絶縁体としては、
例えばガラスセラミックを利用することができる。
【0063】前記半導体として、好適には、酸化チタン
を用いることができる。酸化チタンは、酸等に耐性であ
り、浄化した際に生成される酸性物質により劣化するこ
とがない。
を用いることができる。酸化チタンは、酸等に耐性であ
り、浄化した際に生成される酸性物質により劣化するこ
とがない。
【0064】外筒54に含有されている放射線源は、γ
線を放出する線源を好適に使用することができる。この
γ線核種としては、例えばCs−137を利用すること
ができる。このCs−137は、核燃料廃棄物中に含有
されており、この核燃料廃棄物中に含まれるCs−13
7を本実施の形態の線源として有効に再利用することが
できる。この核燃料廃棄物中のCs−137を再利用す
ることにより、核燃料廃棄物の削減をも図ることができ
る。
線を放出する線源を好適に使用することができる。この
γ線核種としては、例えばCs−137を利用すること
ができる。このCs−137は、核燃料廃棄物中に含有
されており、この核燃料廃棄物中に含まれるCs−13
7を本実施の形態の線源として有効に再利用することが
できる。この核燃料廃棄物中のCs−137を再利用す
ることにより、核燃料廃棄物の削減をも図ることができ
る。
【0065】線源は、外筒54に均質に包含させて、カ
ラム内の浄化体に均質に放射線を照射するように構成す
ることが好ましい。
ラム内の浄化体に均質に放射線を照射するように構成す
ることが好ましい。
【0066】上記の通り構成された環境浄化装置の作用
について説明する。
について説明する。
【0067】外筒54に覆われたカラム52内の浄化体
56は、外筒54から照射される放射線を受ける。放射
線を受けた浄化体56では、触媒層60を構成する触媒
物質において電子正孔対が形成される。
56は、外筒54から照射される放射線を受ける。放射
線を受けた浄化体56では、触媒層60を構成する触媒
物質において電子正孔対が形成される。
【0068】この状態で、カラムの一端から環境要素が
注入されると、電子正孔対の正孔がその強い酸化力によ
り直接、または、この正孔により酸化されて生成された
酸化体(ラジカル分子)により、環境要素中の汚染物質
が酸化分解される。
注入されると、電子正孔対の正孔がその強い酸化力によ
り直接、または、この正孔により酸化されて生成された
酸化体(ラジカル分子)により、環境要素中の汚染物質
が酸化分解される。
【0069】従って、このカラム中を通過することによ
り、汚染物質は分解除去され、環境要素が浄化されるこ
とになる。
り、汚染物質は分解除去され、環境要素が浄化されるこ
とになる。
【0070】なお、本実施の形態では、外部線源を外筒
に設けたが、この構成には限らず、任意の位置に外部線
源を設け、浄化槽内に放射線を照射するように構成する
こともできる。
に設けたが、この構成には限らず、任意の位置に外部線
源を設け、浄化槽内に放射線を照射するように構成する
こともできる。
【0071】また、この線源としては、γ線に限らず、
X線などを利用することもできる。X線を線源として利
用する場合には、任意のX線照射装置を外部線源として
浄化槽の外部に設置して、浄化槽へのX線照射を実行す
ることができる。このX線は、γ線等の線源に比べ、大
量の浄化処理には適していないが、その取扱いは容易で
あるため、少量の浄化処理や、γ線を利用する場合の条
件検討を行う場合に好適に使用することができる。
X線などを利用することもできる。X線を線源として利
用する場合には、任意のX線照射装置を外部線源として
浄化槽の外部に設置して、浄化槽へのX線照射を実行す
ることができる。このX線は、γ線等の線源に比べ、大
量の浄化処理には適していないが、その取扱いは容易で
あるため、少量の浄化処理や、γ線を利用する場合の条
件検討を行う場合に好適に使用することができる。
【0072】以下に、実施例を用いてより詳細に説明す
るが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。
るが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。
【0073】[実施例1]図5には、本実施例の環境浄
化システムの全体構成を示す。なお、この実施例は、第
一の実施の形態の浄化体38を用いて大量の排水を浄化
する場合を示す。
化システムの全体構成を示す。なお、この実施例は、第
一の実施の形態の浄化体38を用いて大量の排水を浄化
する場合を示す。
【0074】図5において環境浄化システム10は、廃
水を収容する廃水タンク12と、廃水タンク12から供
給される廃水の分解除去を行う処理セル室18と、処理
セル室18において浄化された浄化水が送りまれる浄化
水タンクから構成されている。
水を収容する廃水タンク12と、廃水タンク12から供
給される廃水の分解除去を行う処理セル室18と、処理
セル室18において浄化された浄化水が送りまれる浄化
水タンクから構成されている。
【0075】前記給廃水タンク12には、廃水を処理セ
ル室内の浄化槽26に供給するための供給配管14の一
端が接続されている。この供給配管14は、処理セル室
18の重コンクリートからなる遮蔽壁16を貫通し、処
理セル室18内で複数の小管24に分岐し、この小管2
4が浄化槽26に接続されている。また、前記供給配管
14には、その内部を流通する廃水を制御するコック2
0が複数設けられている。また、各小管に接続された浄
化槽26は、下端から第一、第二、第三浄化槽というよ
うに、上方に向かって直列に複数連結されている。な
お、この浄化槽26の構成は後に詳述する。
ル室内の浄化槽26に供給するための供給配管14の一
端が接続されている。この供給配管14は、処理セル室
18の重コンクリートからなる遮蔽壁16を貫通し、処
理セル室18内で複数の小管24に分岐し、この小管2
4が浄化槽26に接続されている。また、前記供給配管
14には、その内部を流通する廃水を制御するコック2
0が複数設けられている。また、各小管に接続された浄
化槽26は、下端から第一、第二、第三浄化槽というよ
うに、上方に向かって直列に複数連結されている。な
お、この浄化槽26の構成は後に詳述する。
【0076】この直列連結された浄化槽26の上端は、
排水小管32に接続されている。各排水小管の一端は、
すべて排水本管33に接続され、この排水本管33は処
理セル室18の遮蔽壁16を貫通し、処理セル室18の
外部の浄化水タンク34に接続されている。
排水小管32に接続されている。各排水小管の一端は、
すべて排水本管33に接続され、この排水本管33は処
理セル室18の遮蔽壁16を貫通し、処理セル室18の
外部の浄化水タンク34に接続されている。
【0077】図6には、前記浄化槽26の一部破断図を
示す。
示す。
【0078】浄化槽26は、内部に球状の浄化体38が
充填され、浄化槽26の上下は、蓋体27で密封されて
いる。この蓋体27には、上述した浄化槽26を直列に
接続するための連結管28が蓋体27を貫通して設けら
れている。この連結管28には、液体の流通を制御する
バルブ29が備えられている。また、蓋体27には、こ
の蓋体27と連結管28との接続部を補強するために金
属ポーラス隔壁30が設けられている。
充填され、浄化槽26の上下は、蓋体27で密封されて
いる。この蓋体27には、上述した浄化槽26を直列に
接続するための連結管28が蓋体27を貫通して設けら
れている。この連結管28には、液体の流通を制御する
バルブ29が備えられている。また、蓋体27には、こ
の蓋体27と連結管28との接続部を補強するために金
属ポーラス隔壁30が設けられている。
【0079】前記浄化体38は図1に示すうように3層
構造から構成されている。すなわち、内部には線源層4
0が設けられ、外周面には触媒層42が設けられてい
る。そして、この線源層40と触媒層42との直接接触
を防止するために中間層44が設けられている。
構造から構成されている。すなわち、内部には線源層4
0が設けられ、外周面には触媒層42が設けられてい
る。そして、この線源層40と触媒層42との直接接触
を防止するために中間層44が設けられている。
【0080】ここで、線源層40は核燃料廃棄物のガラ
ス固化体を有効利用して、ガラス固化体を直径約100
μmの球状に整形して構成されている。中間層44は、
放射線を透過可能な材質を厚さ数μmで線源層を被覆す
ることにより構成されている。触媒層42は、酸化チタ
ンを用いて10μmの厚みで中間層を被覆することによ
り構成されている。
ス固化体を有効利用して、ガラス固化体を直径約100
μmの球状に整形して構成されている。中間層44は、
放射線を透過可能な材質を厚さ数μmで線源層を被覆す
ることにより構成されている。触媒層42は、酸化チタ
ンを用いて10μmの厚みで中間層を被覆することによ
り構成されている。
【0081】次に、上記の通り構成された環境浄化シス
テム10により、排水を浄化する場合を説明する。
テム10により、排水を浄化する場合を説明する。
【0082】まず、浄化したい廃水等を廃水タンク12
に収容する。廃水タンク12に収容された廃水は、供給
本管14のコック20を開口することにより、供給配管
14を通り処理セル室18の内部の小管24に送り込ま
れる。小管24に送り込まれた廃水は、浄化槽26の下
端に注入される。
に収容する。廃水タンク12に収容された廃水は、供給
本管14のコック20を開口することにより、供給配管
14を通り処理セル室18の内部の小管24に送り込ま
れる。小管24に送り込まれた廃水は、浄化槽26の下
端に注入される。
【0083】浄化槽26内の浄化体38では、線源層4
0からの放射線(hν)が中間層44を通過して触媒層
42に到達し、これにより触媒層42の各酸化チタン分
子において電子−正孔対(e- −h+ )が形成されてい
る。この浄化体38の触媒層42上に形成された電子正
孔対の正孔は、浄化槽26の内部を通過する廃水中の有
機物などの汚染物質と接触してこれを直接酸化分解す
る。または、この電子正孔対の正孔が、周囲の水分子を
酸化してO2 - 、O- 、OH- などの活性酸化体を形成
し、これを介して汚染物質が酸化分解される。
0からの放射線(hν)が中間層44を通過して触媒層
42に到達し、これにより触媒層42の各酸化チタン分
子において電子−正孔対(e- −h+ )が形成されてい
る。この浄化体38の触媒層42上に形成された電子正
孔対の正孔は、浄化槽26の内部を通過する廃水中の有
機物などの汚染物質と接触してこれを直接酸化分解す
る。または、この電子正孔対の正孔が、周囲の水分子を
酸化してO2 - 、O- 、OH- などの活性酸化体を形成
し、これを介して汚染物質が酸化分解される。
【0084】本実施例では、3本の浄化槽26が直列連
結されていることから、第一浄化槽で除去できず、残存
する汚染物質を第二浄化槽、第三浄化槽において分解除
去することにより、環境要素は完全に浄化されることに
なる。この3本の浄化槽を通過した浄化水は、浄化槽2
6の上端から排水小管32に送り出され、排水本管33
を介して浄化水タンク34に回収される。
結されていることから、第一浄化槽で除去できず、残存
する汚染物質を第二浄化槽、第三浄化槽において分解除
去することにより、環境要素は完全に浄化されることに
なる。この3本の浄化槽を通過した浄化水は、浄化槽2
6の上端から排水小管32に送り出され、排水本管33
を介して浄化水タンク34に回収される。
【0085】なお、本実施例は、第一の実施の形態の浄
化体を用いたが、これに代えて第二の実施の形態の浄化
体を用いることもできる。また、本実施例の浄化槽を第
三の実施の形態の環境浄化装置に置換することもでき
る。
化体を用いたが、これに代えて第二の実施の形態の浄化
体を用いることもできる。また、本実施例の浄化槽を第
三の実施の形態の環境浄化装置に置換することもでき
る。
【0086】すなわち、図7に示すように、浄化槽26
の外部に外部線源、例えば、外筒54を設けることもで
きる。この場合浄化槽26の内部の浄化体は、内部線源
層を備えたものでも、また、備えていないものでも任意
に選択して使用することができる。
の外部に外部線源、例えば、外筒54を設けることもで
きる。この場合浄化槽26の内部の浄化体は、内部線源
層を備えたものでも、また、備えていないものでも任意
に選択して使用することができる。
【0087】また、上記環境浄化システムは水を浄化す
る場合を示したが、この構成を改変して、空気や土壌の
浄化システムにも利用することができる。空気を浄化す
る場合には上記環境浄化システムに送風機等を設けるこ
とができる。また、土壌を浄化する場合には、土壌を浄
化する場合には、土壌を水に懸濁した上記環境浄化シス
テムに適用する必要がある。
る場合を示したが、この構成を改変して、空気や土壌の
浄化システムにも利用することができる。空気を浄化す
る場合には上記環境浄化システムに送風機等を設けるこ
とができる。また、土壌を浄化する場合には、土壌を浄
化する場合には、土壌を水に懸濁した上記環境浄化シス
テムに適用する必要がある。
【0088】[実施例2]次に、上述した環境浄化シス
テム10を用いてテトラクロロエチレン(CCl2 =C
Cl2 )を分解除去する例を示す。
テム10を用いてテトラクロロエチレン(CCl2 =C
Cl2 )を分解除去する例を示す。
【0089】テトラクロロエチレンは、金属の脱脂洗浄
や農薬の駆虫剤として用いられているが、これは有害物
質であることから、水道水の水質検査の一項目として含
まれ、また公共水域への排出制限も設けられている。
や農薬の駆虫剤として用いられているが、これは有害物
質であることから、水道水の水質検査の一項目として含
まれ、また公共水域への排出制限も設けられている。
【0090】厚生省環境衛生局水道環境部長通知(昭和
59年)によれば、テトラクロロエチレンの水道水の水
質基準は、暫定的に0.01mg/L(0.01pp
m;6.0×10-8)以下とされている。また、公共水
域への排出制限に関する管理目標は、前記水道水の水質
基準の10倍とされている。
59年)によれば、テトラクロロエチレンの水道水の水
質基準は、暫定的に0.01mg/L(0.01pp
m;6.0×10-8)以下とされている。また、公共水
域への排出制限に関する管理目標は、前記水道水の水質
基準の10倍とされている。
【0091】そこで、上記環境浄化装置を用いてテトラ
クロロエチレンを分解除去する場合を定量的に示す。
クロロエチレンを分解除去する場合を定量的に示す。
【0092】(1)分解反応 酸化チタンに放射線照射を行うことにより電子を励起さ
せ、電子−正孔対が形成される。この酸化チタン上で形
成された電子−正孔対が、酸素や水と接触するとOHラ
ジカルが形成され、これによりテトラクロロエチレン
(CCl2 =CCl2 )が酸化分解されて、以下の反応
式に示すように二酸化炭素と塩酸が生じる。
せ、電子−正孔対が形成される。この酸化チタン上で形
成された電子−正孔対が、酸素や水と接触するとOHラ
ジカルが形成され、これによりテトラクロロエチレン
(CCl2 =CCl2 )が酸化分解されて、以下の反応
式に示すように二酸化炭素と塩酸が生じる。
【0093】
【化1】 CCl2 =CCl2 +4OH- →2CO2 +4HCl 以上の通り、有害な有機塩素系物質であるテトラクロロ
エチレンを無機物質の二酸化炭素と塩酸とに分解するこ
と可能となる。
エチレンを無機物質の二酸化炭素と塩酸とに分解するこ
と可能となる。
【0094】(2)分解反応の定量化 1本の浄化槽中に含まれる浄化体の内部線源層、すなわ
ち高放射性廃液のガラス固化体の総体積を150lとす
る。
ち高放射性廃液のガラス固化体の総体積を150lとす
る。
【0095】仮に、この高放射性廃液のガラス固化体か
らの放射線がCs−137にのみ由来するものとし、こ
のCs−137が100KCi含まれているとする。
らの放射線がCs−137にのみ由来するものとし、こ
のCs−137が100KCi含まれているとする。
【0096】また、前記Cs−137から放出されるγ
線エネルギーが500KeVとすると、以下の計算式
(1)により、1秒間に放出される1本の浄化槽当たり
のエネルギー総量は1.85×1021eVとなる。
線エネルギーが500KeVとすると、以下の計算式
(1)により、1秒間に放出される1本の浄化槽当たり
のエネルギー総量は1.85×1021eVとなる。
【0097】
【数1】 100×10×3.7×1010(/秒)×500×103 (eV) =1.85×1021eV/秒 (1) また、触媒層の一分子の酸化チタン上で電子−正孔対を
形成させるのに必要なエネルギーが5eVとすると、以
下の計算式(2)の通り、一本の浄化槽内で形成される
電子正孔対の総数は6.15×10-4molとなる。
形成させるのに必要なエネルギーが5eVとすると、以
下の計算式(2)の通り、一本の浄化槽内で形成される
電子正孔対の総数は6.15×10-4molとなる。
【0098】
【数2】 1.85×1021(eV/秒)/5eV・6.02×1023 =6.15×10-4mol/秒 (2) また、上述した反応式により、一つの電子−正孔対から
一分子のOH- ラジカルが形成されるとすると、一分子
のテトラクロロエチレン(CCl2 =CCl2)を酸化
分解する場合に4分子の電子−正孔対が必要となる。よ
って、一本の浄化槽において1秒間に分解できるテトラ
クロロエチレンの総量は、電子−正孔対の生成総領の1
/4倍である約1.54×10-4molとなる。
一分子のOH- ラジカルが形成されるとすると、一分子
のテトラクロロエチレン(CCl2 =CCl2)を酸化
分解する場合に4分子の電子−正孔対が必要となる。よ
って、一本の浄化槽において1秒間に分解できるテトラ
クロロエチレンの総量は、電子−正孔対の生成総領の1
/4倍である約1.54×10-4molとなる。
【0099】従って、廃液に含まれるテトラクロロエチ
レンの総量に応じて、浄化槽中に必要な線源層の総量
や、浄化槽の本数などを決定することができる。
レンの総量に応じて、浄化槽中に必要な線源層の総量
や、浄化槽の本数などを決定することができる。
【0100】
【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、大気、土
壌、水などのいかなる環境要素の浄化にも対応すること
ができるとともに、大量の環境要素を浄化処理すること
も可能となる。
壌、水などのいかなる環境要素の浄化にも対応すること
ができるとともに、大量の環境要素を浄化処理すること
も可能となる。
【0101】さらには、内部線源層に核燃料廃液などの
ガラス固化体を用いることにより、核燃料廃液を有効利
用することが可能となる。このことから、核燃料廃液の
処理問題をも解決する手段を提供することができる。
ガラス固化体を用いることにより、核燃料廃液を有効利
用することが可能となる。このことから、核燃料廃液の
処理問題をも解決する手段を提供することができる。
【図1】 第一の実施の形態の浄化体の断面図である。
【図2】 第一の実施の形態の浄化体を用いた環境浄化
方法を示す模式図である。
方法を示す模式図である。
【図3】 第二の実施の形態の浄化体の断面図である。
【図4】 第三の実施の形態の環境浄化装置の断面図で
ある。
ある。
【図5】 実施例1の環境浄化システムの全体構成図で
ある。
ある。
【図6】 実施例1の環境浄化システムに用いられる浄
化槽の一部破断図である。
化槽の一部破断図である。
【図7】 実施例1の環境浄化システムに用いられる他
の浄化槽の一部破断図である。
の浄化槽の一部破断図である。
10 環境浄化装置、26、52 浄化槽(カラム)、
38、45、56 浄化体、40 線源層、42、60
触媒層、47 放射性触媒層、54 外筒。
38、45、56 浄化体、40 線源層、42、60
触媒層、47 放射性触媒層、54 外筒。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 笹尾 信之 東京都港区赤坂1丁目9番13号 動力炉・ 核燃料開発事業団本社内
Claims (14)
- 【請求項1】 環境要素中の汚染物質を分解して環境を
浄化するための環境浄化体であって、 放射線を発する内部線源層と、 前記内部線源層を被覆し、前記内部線源層からの放射線
を受けて前記汚染物質を分解する活性種を生成する外部
触媒層と、を備えたことを特徴とする環境浄化体。 - 【請求項2】 前記線源層がα線、β線またはγ線のい
ずれかを発することを特徴とする請求項1に記載の環境
浄化体。 - 【請求項3】 前記線源層が高レベル放射性廃棄物のガ
ラス固化体から構成されていることを特徴とする請求項
1に記載の環境浄化体。 - 【請求項4】 前記外部触媒層が半導体から構成されて
いることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の
環境浄化体。 - 【請求項5】 前記半導体が酸化チタンであることを特
徴とする請求項4に記載の環境浄化体。 - 【請求項6】 環境要素中の汚染物質を分解して環境を
浄化するための環境浄化方法であって、内部線源層と前
記内部線源層を被覆し前記内部線源層からの放射線を受
けて活性種を生成する外部触媒層とを備えた環境浄化体
を環境要素に混合することを特徴とする環境浄化方法。 - 【請求項7】 環境要素中の汚染物質を分解して環境を
浄化するための環境浄化体であって、 放射線を受けて前記汚染物質を分解する活性種を生成す
る触媒物質を少なくとも表面に備え、 前記触媒物質の構成要素として少なくとも一種類の放射
性同位元素を含むことを特徴とする環境浄化体。 - 【請求項8】 前記触媒物質が90SrTiO3であるこ
とを特徴とする請求項7に記載の環境浄化体。 - 【請求項9】 環境要素中の汚染物質を分解して環境を
浄化するための環境浄化方法であって、 構成要素として少なとも一種類の放射性同位元素を含む
触媒物質であって、該放射性同位元素からの放射線を受
けて前記汚染物質を分解する活性種を生成する触媒物質
からなる環境浄化体を環境要素と混合することを特徴と
する環境浄化方法。 - 【請求項10】 環境要素中の汚染物質を分解して環境
を浄化する環境浄化装置であって、 注入された環境要素に含まれる汚染物質を分解するため
の浄化槽と、 前記浄化槽の外部に設け、放射線を浄化槽に対して発す
る外部線源と、を備え、 前記浄化槽内には、外部線源からの放射線を受けて前記
汚染物質を分解する活性種を生成する触媒物質を表面に
備えた環境浄化体が充填されていることを特徴とする環
境浄化装置。 - 【請求項11】 前記外部線源が、α線、β線、γ線ま
たはX線のいずれかを発することを特徴とする請求項1
0に記載の環境浄化装置。 - 【請求項12】 前記触媒物質が半導体であることを特
徴とする請求項10または11に記載の環境浄化装置。 - 【請求項13】 前記半導体が酸化チタンであることを
特徴とする請求項12に記載の環境浄化装置。 - 【請求項14】 環境要素中の汚染物質を分解して環境
を浄化する触媒物質を少なくとも表面に備えた環境浄化
方法であって、 放射線を受けて前記汚染物質を分解する活性種を生成す
る触媒物質を表面に備えた環境浄化体に外部から放射線
を照射しながら、該環境浄化体と環境要素とを混合する
ことを特徴とする環境浄化方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8078597A JPH10272459A (ja) | 1997-03-31 | 1997-03-31 | 環境浄化体、環境浄化方法及び環境浄化装置 |
| DE1998114112 DE19814112C2 (de) | 1997-03-31 | 1998-03-30 | Umweltreiniger |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8078597A JPH10272459A (ja) | 1997-03-31 | 1997-03-31 | 環境浄化体、環境浄化方法及び環境浄化装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10272459A true JPH10272459A (ja) | 1998-10-13 |
Family
ID=13728112
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8078597A Pending JPH10272459A (ja) | 1997-03-31 | 1997-03-31 | 環境浄化体、環境浄化方法及び環境浄化装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10272459A (ja) |
| DE (1) | DE19814112C2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006248821A (ja) * | 2005-03-09 | 2006-09-21 | Japan Atomic Energy Agency | 高レベル放射性廃棄物を線源とする放射線誘起触媒反応による水素製造法 |
| CN116409850A (zh) * | 2023-05-04 | 2023-07-11 | 西安航空学院 | 一种内置光源降解有机物的光催化反应装置 |
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|---|---|---|---|---|
| WO2003016222A1 (en) * | 2001-08-17 | 2003-02-27 | Trojan Technologies Inc. | Energy-based process for fluid treatment and system therefor |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5919757B2 (ja) * | 1976-08-10 | 1984-05-08 | 大阪瓦斯株式会社 | 廃水の処理方法 |
| IL54316A (en) * | 1977-04-04 | 1982-01-31 | Macedo Pedro B | Fixation of radioactive materials in a glass matrix |
| US4323055A (en) * | 1980-04-08 | 1982-04-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Radioactive iodine seed |
| DE8102667U1 (de) * | 1981-02-03 | 1982-12-30 | Nukem Gmbh, 6450 Hanau | "Mehrschichtiger Behälter zur sicheren Langzeitlagerung von radioaktivem Material" |
| JPS57197500A (en) * | 1981-05-29 | 1982-12-03 | Hitachi Ltd | Method of solidifying radioactive waste pellet |
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| DE3404053A1 (de) * | 1984-02-06 | 1985-09-19 | Tabasaran Oktay | Verfahren zur dekontaminierung von anorganischen und/oder organischen medien, welche mit umweltrelevanten und toxischen polyhalogenierten kohlenwasserstoffen verunreinigt sind |
| WO1987005738A1 (fr) * | 1986-03-13 | 1987-09-24 | Zahnradfabrik Friedrichshafen Ag | Systeme pour irradier des liquides au moyen de faisceaux radioactifs |
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| US4861484A (en) * | 1988-03-02 | 1989-08-29 | Synlize, Inc. | Catalytic process for degradation of organic materials in aqueous and organic fluids to produce environmentally compatible products |
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| DE3907703A1 (de) * | 1989-03-10 | 1990-09-13 | Badenwerk Ag | Verfahren zum abscheiden von stickoxiden aus rauchgasen und vorrichtung hierzu |
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| DE29607581U1 (de) * | 1996-04-26 | 1996-12-05 | Frank, Andreas, 76227 Karlsruhe | UV-Flanschreaktor zur Einstrahlung von ultraviolettem Licht in ein Reaktionsmedium |
-
1997
- 1997-03-31 JP JP8078597A patent/JPH10272459A/ja active Pending
-
1998
- 1998-03-30 DE DE1998114112 patent/DE19814112C2/de not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| CN116409850A (zh) * | 2023-05-04 | 2023-07-11 | 西安航空学院 | 一种内置光源降解有机物的光催化反应装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE19814112C2 (de) | 2003-01-02 |
| DE19814112A1 (de) | 1998-10-15 |
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