JPH10275491A - 不揮発性メモリの温度検出装置 - Google Patents
不揮発性メモリの温度検出装置Info
- Publication number
- JPH10275491A JPH10275491A JP7999397A JP7999397A JPH10275491A JP H10275491 A JPH10275491 A JP H10275491A JP 7999397 A JP7999397 A JP 7999397A JP 7999397 A JP7999397 A JP 7999397A JP H10275491 A JPH10275491 A JP H10275491A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- voltage
- mos transistor
- sense amplifier
- temperature detecting
- bit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
Landscapes
- Read Only Memory (AREA)
- Microcomputers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 不揮発性メモリの書き込み精度を良好とす
る。 【解決手段】 1チップマイクロコンピュータの初期化
及びその後の所定周期毎に、EEPROMを構成する特
定のビットセルに書き込み電圧VHを印加して消去状態
とし、その後、当該ビットセルに読み出し電圧VLを印
加してセンスアンプ5の出力を判定する。センスアンプ
5の出力が論理値「0」の時は、ビットセルのフローテ
ィングゲートからゲートへの蓄積電子の移動が不十分で
ある為、書き込み電圧VHを高くしてセンスアンプ5の
出力を再度判定する。センスアンプ5の出力が論理値
「1」となった時の書き込み電圧VHがEEPROMの
消去の為の適切な電圧として選択される。
る。 【解決手段】 1チップマイクロコンピュータの初期化
及びその後の所定周期毎に、EEPROMを構成する特
定のビットセルに書き込み電圧VHを印加して消去状態
とし、その後、当該ビットセルに読み出し電圧VLを印
加してセンスアンプ5の出力を判定する。センスアンプ
5の出力が論理値「0」の時は、ビットセルのフローテ
ィングゲートからゲートへの蓄積電子の移動が不十分で
ある為、書き込み電圧VHを高くしてセンスアンプ5の
出力を再度判定する。センスアンプ5の出力が論理値
「1」となった時の書き込み電圧VHがEEPROMの
消去の為の適切な電圧として選択される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、不揮発性メモリ
(EEPROM等)の書き込み精度を良好とする為の、
不揮発性メモリの温度検出装置に関する。
(EEPROM等)の書き込み精度を良好とする為の、
不揮発性メモリの温度検出装置に関する。
【0002】
【従来の技術】最近の1チップマイクロコンピュータ
は、マスクROMの代わりにEEPROMを内蔵する傾
向が高くなりつつある。これは、EEPROMがプログ
ラムデータを容易に書き換えでき、開発期間の短縮及び
開発費用の低減等を可能とする特徴に起因する。
は、マスクROMの代わりにEEPROMを内蔵する傾
向が高くなりつつある。これは、EEPROMがプログ
ラムデータを容易に書き換えでき、開発期間の短縮及び
開発費用の低減等を可能とする特徴に起因する。
【0003】図3はEEPROMのセル部分(例えば2
ビット分)の構造を示す回路ブロック図である。図3に
おいて、(1)(2)はフローティングゲート付のMO
Sトランジスタである。当該トランジスタ(1)(2)
は、各々1ビットセルに相当し、ゲートはワードライン
WL1、WL2と接続され、ドレインはビットラインB
Lと共通接続され、ソースはソースラインSL(常時0
ボルト)と共通接続されている。ワードラインWL1、
WL2は各々選択用のMOSトランジスタ(3)(4)
を介して書き込み電圧VH及び読み出し電圧VLが各々
固定された電源Vと接続される。当該トランジスタ
(3)(4)はアドレスデータに従って相補的に動作す
るものであり、即ち、ワードラインWL1、WL2は相
補的に電源Vと接続される(選択される)。(5)はセ
ンスアンプであり、基準電流とビットラインBLの電流
(セル電流)とを比較し、論理値「1」又は「0」を出
力するものである。
ビット分)の構造を示す回路ブロック図である。図3に
おいて、(1)(2)はフローティングゲート付のMO
Sトランジスタである。当該トランジスタ(1)(2)
は、各々1ビットセルに相当し、ゲートはワードライン
WL1、WL2と接続され、ドレインはビットラインB
Lと共通接続され、ソースはソースラインSL(常時0
ボルト)と共通接続されている。ワードラインWL1、
WL2は各々選択用のMOSトランジスタ(3)(4)
を介して書き込み電圧VH及び読み出し電圧VLが各々
固定された電源Vと接続される。当該トランジスタ
(3)(4)はアドレスデータに従って相補的に動作す
るものであり、即ち、ワードラインWL1、WL2は相
補的に電源Vと接続される(選択される)。(5)はセ
ンスアンプであり、基準電流とビットラインBLの電流
(セル電流)とを比較し、論理値「1」又は「0」を出
力するものである。
【0004】例えば、ワードラインWL1に電圧VL
(データ読み出し時は例えば4ボルト)が印加された場
合、MOSトランジスタ(1)が選択される。この時、
MOSトランジスタ(1)が消去状態(論理値「1」)
であれば該MOSトランジスタ(1)はオンし、MOS
トランジスタ(1)に電流が流れてセル電流が基準電流
より大きくなる為、センスアンプ(5)の出力は論理値
「1」となる。一方、MOSトランジスタ(1)がプロ
グラム状態(論理値「0」)であれば該MOSトランジ
スタ(1)はオフし、MOSトランジスタ(1)に電流
が流れなくなってセル電流が基準電流より小さくなる
為、センスアンプ(5)の出力は論理値「0」となる。
尚、MOSトランジスタ(2)も同様に動作する。即
ち、MOSトランジスタ(1)(2)が相補的に選択さ
れ、選択された側のMOSトランジスタが消去状態の時
のビット値は論理値「1」となり、プログラム状態の時
のビット値は論理値「0」となる様に、EEPROMは
構成される。
(データ読み出し時は例えば4ボルト)が印加された場
合、MOSトランジスタ(1)が選択される。この時、
MOSトランジスタ(1)が消去状態(論理値「1」)
であれば該MOSトランジスタ(1)はオンし、MOS
トランジスタ(1)に電流が流れてセル電流が基準電流
より大きくなる為、センスアンプ(5)の出力は論理値
「1」となる。一方、MOSトランジスタ(1)がプロ
グラム状態(論理値「0」)であれば該MOSトランジ
スタ(1)はオフし、MOSトランジスタ(1)に電流
が流れなくなってセル電流が基準電流より小さくなる
為、センスアンプ(5)の出力は論理値「0」となる。
尚、MOSトランジスタ(2)も同様に動作する。即
ち、MOSトランジスタ(1)(2)が相補的に選択さ
れ、選択された側のMOSトランジスタが消去状態の時
のビット値は論理値「1」となり、プログラム状態の時
のビット値は論理値「0」となる様に、EEPROMは
構成される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】さて、EEPROMの
各ビットセルを消去状態とすることは、各ビットセルの
ゲートに書き込み電圧VH(例えば12ボルト)を印加
して論理値「1」を書き込むことである。即ち、フロー
ティングゲートに蓄積された電子をゲートへ移動させ、
ドレインソース間にチャネルを形成する必要がある。
各ビットセルを消去状態とすることは、各ビットセルの
ゲートに書き込み電圧VH(例えば12ボルト)を印加
して論理値「1」を書き込むことである。即ち、フロー
ティングゲートに蓄積された電子をゲートへ移動させ、
ドレインソース間にチャネルを形成する必要がある。
【0006】しかし、フローティングゲートからゲート
への蓄積電子の移動の強さは、EEPROMの周囲温度
の影響を受けてしまう。具体的には、EEPROMの周
囲温度が低いほど蓄積電子の移動は鈍くなる傾向にあ
る。特に、書き込み電圧VHが一定であると、EEPR
OMの周囲温度が低くなった時、各ビットセルに論理値
「1」を書き込めず各ビットセルを消去状態とできなく
なる問題があった。これは、EEPROMに誤プログラ
ムを書き込む原因となる。
への蓄積電子の移動の強さは、EEPROMの周囲温度
の影響を受けてしまう。具体的には、EEPROMの周
囲温度が低いほど蓄積電子の移動は鈍くなる傾向にあ
る。特に、書き込み電圧VHが一定であると、EEPR
OMの周囲温度が低くなった時、各ビットセルに論理値
「1」を書き込めず各ビットセルを消去状態とできなく
なる問題があった。これは、EEPROMに誤プログラ
ムを書き込む原因となる。
【0007】そこで、本発明は、不揮発性メモリの周囲
温度に応じて各ビットセルの書き込み電圧を可変とし、
書き込み精度(消去特性)を良好とできる不揮発性メモ
リの温度検出装置を提供することを目的とする。
温度に応じて各ビットセルの書き込み電圧を可変とし、
書き込み精度(消去特性)を良好とできる不揮発性メモ
リの温度検出装置を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記問題点を
解決する為に成されたものであり、既存データを電気消
去した後に新データに書き換えでき、各ビットのセル電
流と基準電流とを比較して「1」又は「0」の論理値を
出力するセンスアンプを有する不揮発性メモリにおい
て、前記不揮発性メモリの周囲温度に応じて前記各ビッ
トの制御電圧を可変とする可変手段を設けたことを特徴
とする。
解決する為に成されたものであり、既存データを電気消
去した後に新データに書き換えでき、各ビットのセル電
流と基準電流とを比較して「1」又は「0」の論理値を
出力するセンスアンプを有する不揮発性メモリにおい
て、前記不揮発性メモリの周囲温度に応じて前記各ビッ
トの制御電圧を可変とする可変手段を設けたことを特徴
とする。
【0009】また、前記可変手段は、電源電圧を分圧す
る複数の直列抵抗群と、一端が前記複数の直列抵抗群の
接続点に接続されると共に他端が前記各ビットのワード
ラインと共通接続され、何れか1つが閉成する複数のス
イッチ回路とから成ることを特徴とする。また、前記不
揮発性メモリは、マイクロコンピュータで制御されるこ
とを特徴とする。
る複数の直列抵抗群と、一端が前記複数の直列抵抗群の
接続点に接続されると共に他端が前記各ビットのワード
ラインと共通接続され、何れか1つが閉成する複数のス
イッチ回路とから成ることを特徴とする。また、前記不
揮発性メモリは、マイクロコンピュータで制御されるこ
とを特徴とする。
【0010】また、前記不揮発性メモリの周囲温度は、
少なくとも前記マイクロコンピュータの初期化時又は当
該初期化後の所定周期毎に検出され、この時の検出温度
に応じて前記複数のスイッチ回路の何れか1つが閉成す
ることを特徴とする。
少なくとも前記マイクロコンピュータの初期化時又は当
該初期化後の所定周期毎に検出され、この時の検出温度
に応じて前記複数のスイッチ回路の何れか1つが閉成す
ることを特徴とする。
【0011】
【発明の実施の形態】本発明の詳細を図面に従って具体
的に説明する。図1は本発明の不揮発性メモリの温度検
出装置を示す回路ブロック図である。尚、図1において
図3と同一素子には同一番号を記してその説明を省略す
る。図1において、(6)は直列抵抗群であり、電源V
Wと接地との間に直列接続されている。尚、電源VWは
通常温度における書き込み電圧VHより十分高い電圧と
する。(7−1)〜(7−n)は、ドレインが直列抵抗
群(6)の各接続点と接続され、ソースが共通接続され
ると共にワードラインWL1、WL2と接続されたMO
Sトランジスタである。該MOSトランジスタ(7−
1)〜(7−n)のゲートには、何れか1つを導通させ
る為のnビットの制御データA1〜Anが印加され、直
列抵抗群(6)と導通状態のMOSトランジスタとの接
続点電圧が書き込み電圧VHとしてワードラインWL
1、WL2に印加される。
的に説明する。図1は本発明の不揮発性メモリの温度検
出装置を示す回路ブロック図である。尚、図1において
図3と同一素子には同一番号を記してその説明を省略す
る。図1において、(6)は直列抵抗群であり、電源V
Wと接地との間に直列接続されている。尚、電源VWは
通常温度における書き込み電圧VHより十分高い電圧と
する。(7−1)〜(7−n)は、ドレインが直列抵抗
群(6)の各接続点と接続され、ソースが共通接続され
ると共にワードラインWL1、WL2と接続されたMO
Sトランジスタである。該MOSトランジスタ(7−
1)〜(7−n)のゲートには、何れか1つを導通させ
る為のnビットの制御データA1〜Anが印加され、直
列抵抗群(6)と導通状態のMOSトランジスタとの接
続点電圧が書き込み電圧VHとしてワードラインWL
1、WL2に印加される。
【0012】(8)はnビットの制御レジスタであり、
nビットの出力端子はMOSトランジスタ(7−1)〜
(7−n)のゲートと接続され、nビットデータの値に
応じてMOSトランジスタ(7−1)〜(7−n)の何
れか1つを導通させ、書き込み電圧VHを可変とするも
のである。(9)はROMであり、1チップマイクロコ
ンピュータの周囲温度を検出し、EEPROMを構成す
る各ビットの書き込み電圧VHを可変とする為のプログ
ラムデータが書き込まれている。
nビットの出力端子はMOSトランジスタ(7−1)〜
(7−n)のゲートと接続され、nビットデータの値に
応じてMOSトランジスタ(7−1)〜(7−n)の何
れか1つを導通させ、書き込み電圧VHを可変とするも
のである。(9)はROMであり、1チップマイクロコ
ンピュータの周囲温度を検出し、EEPROMを構成す
る各ビットの書き込み電圧VHを可変とする為のプログ
ラムデータが書き込まれている。
【0013】(10)はプログラムカウンタPCであ
り、EEPROM又はROM(9)をアドレス指定する
ものである。プログラムカウンタ(10)は、1チップ
マイクロコンピュータの初期化時及び1チップマイクロ
コンピュータの初期化後における割り込み要求の発生時
はROM(9)をアドレス指定し、それ以外の時はEE
PROMをアドレス指定してメインルーチンを実行させ
る。
り、EEPROM又はROM(9)をアドレス指定する
ものである。プログラムカウンタ(10)は、1チップ
マイクロコンピュータの初期化時及び1チップマイクロ
コンピュータの初期化後における割り込み要求の発生時
はROM(9)をアドレス指定し、それ以外の時はEE
PROMをアドレス指定してメインルーチンを実行させ
る。
【0014】(11)はインストラクションレジスタI
Rであり、ROM(9)の読み出しデータを保持するも
のである。(12)はインストラクションデコーダID
ECであり、インストラクションレジスタ(11)の保
持データを解読して1チップマイクロコンピュータを動
作させる為の制御信号を出力するものである。勿論、プ
ログラムカウンタ(10)がEEPROMをアドレス指
定している時は、インストラクションレジスタ(11)
及びインストラクションデコーダ(12)はEEPRO
Mの読み出しデータの保持及び解読を行う。
Rであり、ROM(9)の読み出しデータを保持するも
のである。(12)はインストラクションデコーダID
ECであり、インストラクションレジスタ(11)の保
持データを解読して1チップマイクロコンピュータを動
作させる為の制御信号を出力するものである。勿論、プ
ログラムカウンタ(10)がEEPROMをアドレス指
定している時は、インストラクションレジスタ(11)
及びインストラクションデコーダ(12)はEEPRO
Mの読み出しデータの保持及び解読を行う。
【0015】以下、図1の動作を図2のフローチャート
を用いて説明する。先ず、1チップマイクロコンピュー
タが初期化されると、プログラムカウンタ(10)がR
OM(9)をアドレス指定し、インストラクションデコ
ーダ(12)がROM(9)の読み出しデータを解読す
る。この結果、Am(A1<Am<An)のみが論理値
「1」の制御データA1〜Anが制御レジスタ(8)に
セットされ、制御データAmが印加されたMOSトラン
ジスタのみがオンし、直列抵抗群(6)と当該MOSト
ランジスタとの接続点電圧が書き込み電圧VH(m)と
してワードラインWL1、WL2に印加される。例え
ば、ワードラインWL1が選択されている場合、MOS
トランジスタ(1)はゲートに書き込み電圧VH(m)
が印加されて消去状態となる(S1)。
を用いて説明する。先ず、1チップマイクロコンピュー
タが初期化されると、プログラムカウンタ(10)がR
OM(9)をアドレス指定し、インストラクションデコ
ーダ(12)がROM(9)の読み出しデータを解読す
る。この結果、Am(A1<Am<An)のみが論理値
「1」の制御データA1〜Anが制御レジスタ(8)に
セットされ、制御データAmが印加されたMOSトラン
ジスタのみがオンし、直列抵抗群(6)と当該MOSト
ランジスタとの接続点電圧が書き込み電圧VH(m)と
してワードラインWL1、WL2に印加される。例え
ば、ワードラインWL1が選択されている場合、MOS
トランジスタ(1)はゲートに書き込み電圧VH(m)
が印加されて消去状態となる(S1)。
【0016】MOSトランジスタ(1)の消去動作が終
了すると、ワードラインWL1、WL2は読み出し電圧
VR(図示せず)と接続され、センスアンプ(5)にお
いてMOSトランジスタ(1)の読み出し時のセル電流
と基準電流とが比較される(S2)。MOSトランジス
タ(1)のセル電流が基準電流より小さく、センスアン
プ(5)の出力が論理値「0」となった場合(S2YE
S)、1チップマイクロコンピュータの周囲温度が低
く、現状の書き込み電圧VH(m)では、MOSトラン
ジスタ(1)のフローティングゲートからゲートへの蓄
積電子の移動が不十分であることを意味する。つまり、
書き込み電圧VH(m)を高くする必要がある。
了すると、ワードラインWL1、WL2は読み出し電圧
VR(図示せず)と接続され、センスアンプ(5)にお
いてMOSトランジスタ(1)の読み出し時のセル電流
と基準電流とが比較される(S2)。MOSトランジス
タ(1)のセル電流が基準電流より小さく、センスアン
プ(5)の出力が論理値「0」となった場合(S2YE
S)、1チップマイクロコンピュータの周囲温度が低
く、現状の書き込み電圧VH(m)では、MOSトラン
ジスタ(1)のフローティングゲートからゲートへの蓄
積電子の移動が不十分であることを意味する。つまり、
書き込み電圧VH(m)を高くする必要がある。
【0017】そこで、Am−1のみが論理値「1」の制
御データA1〜Anが制御レジスタ(8)にセットさ
れ、制御データAm−1が印加されたMOSトランジス
タのみがオンし、直列抵抗群(6)と当該MOSトラン
ジスタとの接続点電圧が書き込み電圧VH(m−1)
(>VH(m))としてワードラインWL1、WL2に
印加される。MOSトランジスタ(1)はゲートに書き
込み電圧VH(m−1)が印加されて消去状態となる
(S3)。
御データA1〜Anが制御レジスタ(8)にセットさ
れ、制御データAm−1が印加されたMOSトランジス
タのみがオンし、直列抵抗群(6)と当該MOSトラン
ジスタとの接続点電圧が書き込み電圧VH(m−1)
(>VH(m))としてワードラインWL1、WL2に
印加される。MOSトランジスタ(1)はゲートに書き
込み電圧VH(m−1)が印加されて消去状態となる
(S3)。
【0018】MOSトランジスタ(1)の消去動作が終
了すると、ワードラインWL1、WL2は読み出し電圧
VR(図示せず)と接続され、センスアンプ(5)にお
いてMOSトランジスタ(1)の読み出し時のセル電流
と基準電流とが再び比較される(S4)。MOSトラン
ジスタ(1)のセル電流が基準電流より小さく、センス
アンプ(5)の出力が論理値「0」となった場合(S4
YES)、現状の書き込み電圧VH(m−1)でも、M
OSトランジスタ(1)のフローティングゲートからゲ
ートへの蓄積電子の移動が不十分である為、書き込み電
圧VH(m−1)を更に高くする必要がある。この場
合、上記S3のステップを繰り返す。この結果、MOS
トランジスタ(1)のセル電流が基準電流より大きく、
センスアンプ(5)の出力が論理値「1」となった場合
(S4NO)、この時の書き込み電圧VHがEEPRO
Mの消去動作に適切な電圧として選択される(S5)。
了すると、ワードラインWL1、WL2は読み出し電圧
VR(図示せず)と接続され、センスアンプ(5)にお
いてMOSトランジスタ(1)の読み出し時のセル電流
と基準電流とが再び比較される(S4)。MOSトラン
ジスタ(1)のセル電流が基準電流より小さく、センス
アンプ(5)の出力が論理値「0」となった場合(S4
YES)、現状の書き込み電圧VH(m−1)でも、M
OSトランジスタ(1)のフローティングゲートからゲ
ートへの蓄積電子の移動が不十分である為、書き込み電
圧VH(m−1)を更に高くする必要がある。この場
合、上記S3のステップを繰り返す。この結果、MOS
トランジスタ(1)のセル電流が基準電流より大きく、
センスアンプ(5)の出力が論理値「1」となった場合
(S4NO)、この時の書き込み電圧VHがEEPRO
Mの消去動作に適切な電圧として選択される(S5)。
【0019】一方、MOSトランジスタ(1)のセル電
流が基準電流より大きく、センスアンプ(5)の出力が
初めから論理値「1」の場合(S2NO)、現状の書き
込み電圧VH(m)でEEPROMを十分消去できるこ
とを意味する。しかし、書き込み電圧VH(m)が本来
必要とされるEEPROMの消去動作の為の適切値より
大きい場合は、消費電力が増大する問題を生じてしま
う。それ故、EEPROMを十分消去できる最小の書き
込み電圧VHを求める必要がある。
流が基準電流より大きく、センスアンプ(5)の出力が
初めから論理値「1」の場合(S2NO)、現状の書き
込み電圧VH(m)でEEPROMを十分消去できるこ
とを意味する。しかし、書き込み電圧VH(m)が本来
必要とされるEEPROMの消去動作の為の適切値より
大きい場合は、消費電力が増大する問題を生じてしま
う。それ故、EEPROMを十分消去できる最小の書き
込み電圧VHを求める必要がある。
【0020】そこで、Am+1のみが論理値「1」の制
御データA1〜Anが制御レジスタ(8)にセットさ
れ、制御データAm+1が印加されたMOSトランジス
タのみがオンし、直列抵抗群(6)と当該MOSトラン
ジスタとの接続点電圧が書き込み電圧VH(m+1)
(<VH(m))としてワードラインWL1、WL2に
印加される。MOSトランジスタ(1)はゲートに書き
込み電圧VH(m+1)が印加されて消去状態となる
(S6)。
御データA1〜Anが制御レジスタ(8)にセットさ
れ、制御データAm+1が印加されたMOSトランジス
タのみがオンし、直列抵抗群(6)と当該MOSトラン
ジスタとの接続点電圧が書き込み電圧VH(m+1)
(<VH(m))としてワードラインWL1、WL2に
印加される。MOSトランジスタ(1)はゲートに書き
込み電圧VH(m+1)が印加されて消去状態となる
(S6)。
【0021】MOSトランジスタ(1)の消去動作が終
了すると、ワードラインWL1、WL2は読み出し電圧
VR(図示せず)と接続され、センスアンプ(5)にお
いてMOSトランジスタ(1)の読み出し時のセル電流
と基準電流とが再び比較される(S7)。MOSトラン
ジスタ(1)のセル電流が基準電流より大きく、センス
アンプ(5)の出力が論理値「1」となった場合(S7
YES)、現状の書き込み電圧VH(m+1)がEEP
ROMの消去動作の為の最小電圧であるかどうかが未だ
判定できない為、書き込み電圧VH(m+1)を更に低
くする必要がある。この場合、上記S6のステップを繰
り返す。この結果、MOSトランジスタ(1)のセル電
流が基準電流より小さく、センスアンプ(5)の出力が
論理値「0」となった場合(S7NO)、この直前の書
き込み電圧VHがEEPROMの消去動作に適切な電圧
として選択される(S8)。
了すると、ワードラインWL1、WL2は読み出し電圧
VR(図示せず)と接続され、センスアンプ(5)にお
いてMOSトランジスタ(1)の読み出し時のセル電流
と基準電流とが再び比較される(S7)。MOSトラン
ジスタ(1)のセル電流が基準電流より大きく、センス
アンプ(5)の出力が論理値「1」となった場合(S7
YES)、現状の書き込み電圧VH(m+1)がEEP
ROMの消去動作の為の最小電圧であるかどうかが未だ
判定できない為、書き込み電圧VH(m+1)を更に低
くする必要がある。この場合、上記S6のステップを繰
り返す。この結果、MOSトランジスタ(1)のセル電
流が基準電流より小さく、センスアンプ(5)の出力が
論理値「0」となった場合(S7NO)、この直前の書
き込み電圧VHがEEPROMの消去動作に適切な電圧
として選択される(S8)。
【0022】尚、S1〜S8のステップは、1チップマ
イクロコンピュータの初期化時及び初期化後のタイマ割
り込み要求により周期的に実行される。以上より、1チ
ップマイクロコンピュータの周囲温度が変動しても、E
EPROMの書き込み精度即ち消去特性を良好とできる
為、プログラムの誤書き込みを防止でき、消去の為の消
費電力を低減できる。
イクロコンピュータの初期化時及び初期化後のタイマ割
り込み要求により周期的に実行される。以上より、1チ
ップマイクロコンピュータの周囲温度が変動しても、E
EPROMの書き込み精度即ち消去特性を良好とできる
為、プログラムの誤書き込みを防止でき、消去の為の消
費電力を低減できる。
【0023】
【発明の効果】本発明によれば、不揮発性メモリの周囲
温度が変動しても、センスアンプの出力を基に各ビット
セルの書き込み電圧を制御できる為、書き込み精度即ち
消去特性を向上できると共に消去の為の消費電力を低減
できる等の利点が得られる。
温度が変動しても、センスアンプの出力を基に各ビット
セルの書き込み電圧を制御できる為、書き込み精度即ち
消去特性を向上できると共に消去の為の消費電力を低減
できる等の利点が得られる。
【図1】本発明の不揮発性メモリの温度検出装置を示す
回路ブロック図である。
回路ブロック図である。
【図2】図1の動作を示すフローチャートである。
【図3】従来の不揮発性メモリの構造の一部を示す回路
ブロック図である。
ブロック図である。
(1)(2) MOSトランジスタ (5) センスアンプ (6) 直列抵抗群 (7−1)〜(7−n) MOSトランジスタ
Claims (4)
- 【請求項1】 既存データを電気消去した後に新データ
に書き換えでき、各ビットのセル電流と基準電流とを比
較して「1」又は「0」の論理値を出力するセンスアン
プを有する不揮発性メモリにおいて、 前記不揮発性メモリの周囲温度に応じて前記各ビットの
制御電圧を可変とする可変手段を設けたことを特徴とす
る不揮発性メモリの温度検出装置。 - 【請求項2】 前記可変手段は、電源電圧を分圧する複
数の直列抵抗群と、一端が前記複数の直列抵抗群の接続
点に接続されると共に他端が前記各ビットのワードライ
ンと共通接続され、何れか1つが閉成する複数のスイッ
チ回路とから成ることを特徴とする請求項1記載の不揮
発性メモリの温度検出装置。 - 【請求項3】 前記不揮発性メモリは、マイクロコンピ
ュータで制御されることを特徴とする請求項2記載の不
揮発性メモリの温度検出装置。 - 【請求項4】 前記不揮発性メモリの周囲温度は、少な
くとも前記マイクロコンピュータの初期化時又は当該初
期化後の所定周期毎に検出され、この時の検出温度に応
じて前記複数のスイッチ回路の何れか1つが閉成するこ
とを特徴とする請求項3記載の不揮発性メモリの温度検
出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7999397A JPH10275491A (ja) | 1997-03-31 | 1997-03-31 | 不揮発性メモリの温度検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7999397A JPH10275491A (ja) | 1997-03-31 | 1997-03-31 | 不揮発性メモリの温度検出装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10275491A true JPH10275491A (ja) | 1998-10-13 |
Family
ID=13705839
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7999397A Pending JPH10275491A (ja) | 1997-03-31 | 1997-03-31 | 不揮発性メモリの温度検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10275491A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008177594A (ja) * | 2008-02-21 | 2008-07-31 | Canon Inc | 不揮発磁気薄膜メモリ装置および記録方法 |
| CN110073441A (zh) * | 2016-12-13 | 2019-07-30 | 赛普拉斯半导体公司 | 使用位线和选择栅极电压调节的编程干扰抑制 |
-
1997
- 1997-03-31 JP JP7999397A patent/JPH10275491A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008177594A (ja) * | 2008-02-21 | 2008-07-31 | Canon Inc | 不揮発磁気薄膜メモリ装置および記録方法 |
| CN110073441A (zh) * | 2016-12-13 | 2019-07-30 | 赛普拉斯半导体公司 | 使用位线和选择栅极电压调节的编程干扰抑制 |
| CN110073441B (zh) * | 2016-12-13 | 2020-06-26 | 赛普拉斯半导体公司 | 使用位线和选择栅极电压调节的编程干扰抑制 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6415352B1 (en) | One-chip microcomputer and method of refreshing its data | |
| US5898615A (en) | Semiconductor memory device having non-volatile memory cells connected in series | |
| JP2917924B2 (ja) | 不揮発性半導体記憶装置 | |
| US5337281A (en) | Non-volatile semiconductor memory device in which data can be erased on a block basis and method of erasing data on a block basis in non-volatile semiconductor memory device | |
| JP3132637B2 (ja) | 不揮発性半導体記憶装置 | |
| KR970051335A (ko) | 다수상태 불휘발성 반도체 메모리 및 그의 구동방법 | |
| JP3212396B2 (ja) | 不揮発性半導体記憶装置 | |
| JPH04243096A (ja) | 不揮発性半導体記憶装置 | |
| US7263022B2 (en) | No-precharge FAMOS cell and latch circuit in a memory device | |
| JP3542637B2 (ja) | 電流測定方法及びマイクロコントローラシステム | |
| JP3693504B2 (ja) | メモリデバイス | |
| JP3214395B2 (ja) | 不揮発性半導体記憶装置 | |
| JP4251717B2 (ja) | 不揮発性半導体記憶装置 | |
| US6115293A (en) | Non-volatile semiconductor memory device | |
| JPH09320300A (ja) | 半導体記憶装置 | |
| JP3561640B2 (ja) | 1チップマイクロコンピュータ | |
| JPH10334073A (ja) | 1チップマイクロコンピュータ | |
| JP3362661B2 (ja) | 不揮発性半導体記憶装置 | |
| JPH10255492A (ja) | 不揮発性メモリの温度検出装置 | |
| JP3561639B2 (ja) | 1チップマイクロコンピュータ | |
| KR100732633B1 (ko) | 비연속적인 비트라인 디코딩을 수행하는 플래시 메모리장치 | |
| JP2000173278A (ja) | 1チップマイクロコンピュータ | |
| RU2162254C2 (ru) | Программируемое постоянное запоминающее устройство с улучшенным временем выборки | |
| JPH10275492A (ja) | 不揮発性メモリを用いた温度検出装置 | |
| JP3667821B2 (ja) | 不揮発性半導体メモリ |