JPH10275575A - Spacer and image forming apparatus - Google Patents

Spacer and image forming apparatus

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Publication number
JPH10275575A
JPH10275575A JP7738297A JP7738297A JPH10275575A JP H10275575 A JPH10275575 A JP H10275575A JP 7738297 A JP7738297 A JP 7738297A JP 7738297 A JP7738297 A JP 7738297A JP H10275575 A JPH10275575 A JP H10275575A
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JP
Japan
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spacer
present
electron
manufactured
image forming
Prior art date
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Pending
Application number
JP7738297A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroki Kisu
浩樹 木須
Rie Ueno
理恵 上野
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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  • Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高さを高くし、低コストなスペーサーを得る
のが困難。 【解決手段】 対向する基板間の間隔を保持するスペー
サーにおいて、高さをdとし、その上部から見た形状を
囲む、四角が直角な四角形の面積が最小になるときの縦
辺の長さをL1、横辺の長さをL2としたとき、L1>
L2の場合はL=L2、L1<L2の場合はL=L1、
L1=L2の場合はL=L1=L2としたときに、d≦
Lの条件を満たし、モールド法で製造されてなる。断面
形状の上底の長さをa、下底の長さをbとしたときに0
≦a≦b(ただし、a=b=0の場合を除く)の条件を
満たし、モールド法で製造されてなる。
(57) [Summary] [Problem] It is difficult to increase the height and obtain a low-cost spacer. SOLUTION: In a spacer for holding a space between opposing substrates, the height is d, and the length of a vertical side surrounding a shape viewed from the top when the area of a quadrangle that is a quadrangle is the minimum is set as the length. When L1 and the length of the side are L2, L1>
L = L2 for L2, L = L1 for L1 <L2,
When L1 = L2, when L = L1 = L2, d ≦
It satisfies the condition of L and is manufactured by a molding method. When the length of the upper base of the cross-sectional shape is a and the length of the lower base is b, 0
It satisfies the condition of ≦ a ≦ b (except when a = b = 0) and is manufactured by a molding method.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はスペーサー及びスペ
ーサーを応用した画像形成装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a spacer and an image forming apparatus using the spacer.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、電子放出素子を利用した画像形成
装置として、冷陰極電子放出素子を多数形成した電子源
基板と、透明電極および蛍光体を具備した陽極基板とを
平行に対向させ、真空に排気した平面型の電子線表示パ
ネルが知られている。このような画像形成装置におい
て、電界放出型電子放出素子を用いたものは、例えば、
I.Brodie,“Advanced techno
logy:flat cold−cathode CR
Ts”,Information Display,1
/89,17(1989)に開示されたものがある。ま
た、表面伝導型電子放出素子を用いたものは、例えば、
米国特許第5066883号等に開示されている。平面
型の電子線表示パネルは、現在広く用いられている陰極
線管(cathode ray tube:CRT)表
示装置に比べ、軽量化、大画面化を図ることができ、ま
た、液晶を利用した平面型表示パネルやプラズマ・ディ
スプレイ、エレクトロルミネッセント・ディスプレイ等
の他の平面型表示パネルに比べて、より高輝度、高品質
な画像を提供することができる。図49、図50に、電
子放出素子を利用した画像形成装置の一例として、従来
の平面型電子線表示パネルの概略構成図を示す。ここ
で、図50は、図49におけるA−A′断面図である。
2. Description of the Related Art Conventionally, as an image forming apparatus using an electron-emitting device, an electron source substrate on which a large number of cold cathode electron-emitting devices are formed and an anode substrate provided with a transparent electrode and a phosphor are opposed in parallel to each other. 2. Description of the Related Art A flat-type electron beam display panel that has been exhausted is known. In such an image forming apparatus, the one using a field emission type electron emitting element is, for example,
I. Brodie, “Advanced techno
logy: flat cold-cathode CR
Ts ", Information Display, 1
/ 89, 17 (1989). Also, those using the surface conduction electron-emitting device, for example,
It is disclosed in U.S. Pat. No. 5,066,883 and the like. A flat-type electron beam display panel can achieve a lighter weight and a larger screen than a cathode ray tube (CRT) display device which is widely used at present, and a flat-type display using liquid crystal. As compared with other flat display panels such as a panel, a plasma display, and an electroluminescent display, an image with higher brightness and higher quality can be provided. FIGS. 49 and 50 show schematic configuration diagrams of a conventional flat-type electron beam display panel as an example of an image forming apparatus using an electron-emitting device. Here, FIG. 50 is a sectional view taken along the line AA ′ in FIG.

【0003】図49、図50に示される従来の平面型電
子線表示パネルの構成について説明すると、図中、10
1は電子源基板であるリアプレート、102は陽極基板
であるフェースプレート、103は外枠であり、これら
により真空外囲器を構成している。104はリアプレー
トの基体であるガラス基板、105は電子放出素子であ
り、106aおよび106bは、電子放出素子105に
電圧を印加するための電極である。107a(走査電
極)及び107b(信号電極)は電極配線であり、それ
ぞれ、電極106a,106bに接続されている。10
8はフェースプレートの基体であるガラス基板、109
は透明電極、110は蛍光体である。111はスペーサ
ーで、リアプレート101とフェースプレート102を
所定間隔に保持するとともに、大気圧に対する支持部材
として配置されている。
The structure of the conventional flat type electron beam display panel shown in FIGS. 49 and 50 will be described.
1 is a rear plate which is an electron source substrate, 102 is a face plate which is an anode substrate, 103 is an outer frame, and these constitute a vacuum envelope. 104 is a glass substrate which is a base of the rear plate, 105 is an electron-emitting device, and 106a and 106b are electrodes for applying a voltage to the electron-emitting device 105. 107a (scanning electrode) and 107b (signal electrode) are electrode wirings, which are connected to the electrodes 106a and 106b, respectively. 10
8 is a glass substrate which is a base of the face plate, 109
Is a transparent electrode, and 110 is a phosphor. Reference numeral 111 denotes a spacer which holds the rear plate 101 and the face plate 102 at a predetermined interval and is arranged as a support member for atmospheric pressure.

【0004】この電子線表示パネルにおいて画像を形成
するには、マトリックス状に配置された走査配線107
aと信号配線107bに所定の電圧を順次印加すること
で、マトリックスの交点に位置する所定の電子放出素子
105を選択的に駆動し、放出された電子を蛍光体11
0に照射して所定の位置に輝点を得る。なお、透明電極
109は、放出電子を加速してより高い輝度の輝点を得
るために、素子105に対して正電位となるように高電
圧が印加される。ここで、印加される電圧は、蛍光体の
性能にもよるが、数百Vから数十kV程度の電圧であ
る。従って、リアプレート101とフェースプレート1
02間の距離(正確には配線107bと透明電極109
との距離)dは、この印加電圧によって真空の絶縁破壊
(すなわち放電)が生じないようにするため、百μmか
ら数mm程度に設定されるのが一般的である。
In order to form an image on this electron beam display panel, scanning lines 107 arranged in a matrix are used.
a, a predetermined voltage is sequentially applied to the signal wiring 107b to selectively drive a predetermined electron-emitting device 105 located at the intersection of the matrix, and emit the emitted electrons to the phosphor 11
By irradiating 0, a bright point is obtained at a predetermined position. Note that a high voltage is applied to the transparent electrode 109 so that the transparent electrode 109 has a positive potential with respect to the element 105 in order to accelerate the emitted electrons and obtain a bright spot having higher luminance. Here, the applied voltage is a voltage of several hundred V to several tens kV, depending on the performance of the phosphor. Therefore, the rear plate 101 and the face plate 1
02 (more precisely, the wiring 107b and the transparent electrode 109)
Is generally set to about 100 μm to several mm in order to prevent vacuum breakdown (ie, discharge) from occurring due to the applied voltage.

【0005】表示パネルの表示面積が大きくなるに従
い、外囲器内部の真空と外部の大気圧差による基板の変
形を抑えるためには、リアプレート基板104およびフ
ェースプレート基板108を厚くする必要がでてきた。
基板を厚くすることは表示パネルの重量を増加させるだ
けでなく、斜め方向から見た時に歪みを生ずる。そこ
で、スペーサー111を配置することにより、基板10
4,108の強度負担を軽減でき、軽量化、低コスト
化、大画面化が可能となるので、平面型電子線表示パネ
ルの利点を十分に発揮することができる様になる。
[0005] As the display area of the display panel increases, the rear plate substrate 104 and the face plate substrate 108 need to be thickened in order to suppress the deformation of the substrate due to the difference between the vacuum inside the envelope and the atmospheric pressure outside. Have been.
Increasing the thickness of the substrate not only increases the weight of the display panel, but also causes distortion when viewed from an oblique direction. Therefore, by disposing the spacer 111, the substrate 10
4,108 can reduce the strength load, and can reduce the weight, cost, and size of the screen, so that the advantages of the flat-type electron beam display panel can be fully exhibited.

【0006】このスペーサー111に使用される材質と
しては、 ・十分な耐大気圧強度(圧縮強度)を有すること、 ・製造工程及び高真空形成工程における加熱工程に耐え
うる耐熱性を有し、表示パネルの基板、外枠等との熱膨
張係数の整合が取れていること、 ・高電圧印加に耐えうる絶縁耐圧を有する高抵抗体(絶
縁体)であること、 ・高真空を維持するために、ガス放出レートが小さいこ
と、 ・寸法の精度良く加工でき、量産性に優れること、 等が要求され、一般的にはガラス材料が用いられる。
[0006] The material used for the spacer 111 is to have sufficient atmospheric pressure resistance (compressive strength), and to have heat resistance enough to withstand the heating process in the manufacturing process and the high vacuum forming process. The thermal expansion coefficient of the panel must be matched with that of the panel frame, outer frame, etc.-It must be a high-resistance body (insulator) with a withstand voltage that can withstand high voltage application.-To maintain a high vacuum , A low gas release rate, and a requirement for processing with high dimensional accuracy and excellent mass productivity. Generally, a glass material is used.

【0007】一方、『Advanced techno
logy:flat cold−cathode CR
Ts』(Information Display 1
/89の17〜19頁)や米国特許第5,063,32
7号において、Ivor Brodie氏は、ポリイミ
ドを用いたスペーサーを開示している。これは、感光性
のポリイミドをスピン法で基板に塗布し、前ベークした
後、フォトリソグラフィ(マスク露光、現像、洗浄)の
工程を経て真空ベークを行う手法であり、最終的に陰極
基板表面に100ミクロンの高さのポリイミドスペーサ
ーを作っている。さらに感光性のポリイミドを利用した
例として米国特許第5,371,433号等も挙げるこ
とができる。
[0007] On the other hand, "Advanced technology"
logy: flat cold-cathode CR
Ts "(Information Display 1
/ 89, pp. 17-19) and U.S. Patent No. 5,063,32.
In No. 7, Ivor Brodie discloses a spacer using polyimide. In this method, a photosensitive polyimide is applied to a substrate by a spin method, pre-baked, and then vacuum baked through a photolithography (mask exposure, development, washing) process, and finally applied to the cathode substrate surface. A 100 micron high polyimide spacer is being made. U.S. Pat. No. 5,371,433 can also be cited as an example utilizing photosensitive polyimide.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ようなスペーサー材料を使用した場合、以下に述べるよ
うな問題がある。
However, when the above-mentioned spacer material is used, there are the following problems.

【0009】一般的なガラス材料は、機械強度、熱物
性、放出ガス特性については比較的良好な材料である。
また、加工性、量産性もよいので、スペーサーとして使
用しやすい材料である。しかし、絶縁耐圧については、
特に表面の帯電(二次電子放出が原因と考えられる。)
により沿面放電を生じやすいので、あまり大きな高電圧
を印加することはできず、十分な明るさの表示を行うこ
とは困難である。
[0009] General glass materials are relatively good in mechanical strength, thermophysical properties and outgassing properties.
In addition, the material is easy to use as a spacer because of good workability and mass productivity. However, regarding the dielectric strength,
In particular, charging of the surface (probably due to secondary electron emission)
, A creeping discharge is likely to occur, so that a very high voltage cannot be applied, and it is difficult to display with sufficient brightness.

【0010】一方、ポリイミド樹脂をフォトリソグラフ
ィの手法でスペーサー形成する場合、機械強度はガラス
材料に劣るものの、配置するスペーサーの個数を増やす
ことが容易なので、耐大気圧強度を得ることができる。
耐熱性、放出ガス特性については、ガラス材料に比べて
若干劣る場合があるが、適当なアニーリング処理等を施
すことで、ガラス製の外囲器中で問題なく用いることが
できる。電気物性については、絶縁耐性は良好で、沿面
耐圧も高い。しかしながら、加工性については、以下の
ような問題がある。
On the other hand, when a spacer is formed from a polyimide resin by photolithography, mechanical strength is inferior to that of a glass material, but it is easy to increase the number of spacers to be arranged, so that atmospheric pressure resistance can be obtained.
Although heat resistance and outgassing characteristics may be slightly inferior to those of glass materials, they can be used in glass envelopes without any problem by performing appropriate annealing treatment or the like. Regarding the electrical properties, the insulation resistance is good and the creepage withstand voltage is high. However, the workability has the following problems.

【0011】上述のフォトリソグラフィ加工によると、
一回の工程でできるポリイミドスペーサーの高さは、せ
いぜい数〜数十ミクロンで、数ミリの高さを作るには、
何回も工程を繰り返す必要があった。
According to the photolithography process described above,
The height of the polyimide spacer that can be made in one process is at most several to several tens of microns, to make a height of several millimeters,
The process had to be repeated many times.

【0012】一方、上述したように、ディスプレイ内を
効率良く高真空に引くためや、放電防止のためには、ス
ペーサーの高さはある程度必要である。従って、何回も
工程を繰り返すことは、コストアップにつながり、問題
になっていた。
On the other hand, as described above, the height of the spacer is required to some extent in order to efficiently evacuate the inside of the display to a high vacuum and to prevent discharge. Therefore, repeating the process many times leads to an increase in cost, which has been a problem.

【0013】そして、この工程の際、dを大きくするに
従いこのスペーサーが倒れたり、折れたりすることがあ
り、工程の歩留まり低下につながっていた。
In this step, the spacers may fall or break as d increases, leading to a reduction in the yield of the step.

【0014】さらに、この歩留まり低下を防ぐために
は、スペーサー自身の幅を大きくとる必要がでてくる
が、スペーサーの幅が大きくなると高精細な画像形成装
置が作成できなくなる。
Further, in order to prevent the yield from decreasing, it is necessary to increase the width of the spacer itself. However, if the width of the spacer is increased, it becomes impossible to produce a high-definition image forming apparatus.

【0015】また、ポリイミドを基板または前面ガラス
にコートする場合は、必ずベークの工程が必要であり、
基板または前面ガラスの製造工程(順番)が拘束される
ことになる。
Further, when coating the substrate or the front glass with polyimide, a baking step is always required,
The manufacturing process (order) of the substrate or the front glass is restricted.

【0016】ポリイミドスペーサー作成工程途中で失敗
した場合は、ポリイミドスペーサーとガラス基板両方を
破棄せざるを得ず、コストの上昇、資源の無駄使いにな
っていた。
If a failure occurs during the step of preparing the polyimide spacer, both the polyimide spacer and the glass substrate have to be discarded, resulting in an increase in cost and waste of resources.

【0017】従って、現実的に利用可能なスペーサー高
さは精々数百ミクロン程度以下となり、フェースプレー
トに印加できる電圧は制限されてしまう。このため、現
行のCRTで用いられている性能の高い高加速蛍光体
(加速電圧数kV〜数十kV程度)は使用しにくく、輝
度、色純度等の性能の劣る低加速蛍光体を用いなければ
ならなかった。
Accordingly, the height of the spacer which can be actually used is at most several hundred microns or less, and the voltage which can be applied to the face plate is limited. For this reason, high-acceleration phosphors with high performance (acceleration voltage of several kV to several tens of kV) used in current CRTs are difficult to use, and low-acceleration phosphors with inferior performance such as luminance and color purity must be used. I had to.

【0018】さらに、スペーサー形成工程はリアプレー
トまたはフェースプレート上で行われるために、ポリイ
ミドの残渣がリアプレートまたはフェースプレート上に
残ったり、該工程中に、電子放出素子にダメージを与え
てしまうといった心配もあった。
Further, since the spacer forming step is performed on the rear plate or the face plate, a residue of polyimide may remain on the rear plate or the face plate or damage the electron-emitting device during the step. I was worried.

【0019】従って、本発明では、ガラス材料に比べ、
機械的強度は劣るが絶縁耐圧、及び沿面耐圧の優れた樹
脂を用いたスペーサーに着目し、樹脂スペーサーの前記
フォトリソグラフィー法に代わる、高さを高く形成で
き、かつ、大量生産に向いた低コストなスペーサー及び
画像形成装置を提供することを目的とする。また同時
に、機械強度が劣るため多数のスペーサーを配置するこ
とが求められるプロセスの煩雑さを解消するスペーサー
及び画像形成装置を提供することを目的とする。
Therefore, in the present invention, compared with the glass material,
Focusing on spacers using resin with poor mechanical strength but excellent dielectric strength and creepage strength, alternative to the photolithography method of resin spacers, height can be formed higher, and low cost suitable for mass production It is an object to provide a simple spacer and an image forming apparatus. At the same time, it is another object of the present invention to provide a spacer and an image forming apparatus which eliminate the complexity of a process in which a large number of spacers are required due to poor mechanical strength.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】上記目的は以下の本発明
のスペーサー及び画像形成装置によって達成される。
The above object is achieved by the following spacer and image forming apparatus of the present invention.

【0021】本願の第1の発明のスペーサーは、対向す
る基板間の間隔を保持するスペーサーにおいて、高さを
dとし、その上部から見た形状を囲む、四角が直角な四
角形の面積が最小になるときの縦辺の長さをL1、横辺
の長さをL2としたとき、L1>L2の場合はL=L
2、L1<L2の場合はL=L1、L1=L2の場合は
L=L1=L2としたときに、d≦Lの条件を満たすと
ともに、モールド法で製造されてなることを特徴とする
ものである。
The spacer according to the first aspect of the present invention is a spacer for maintaining a space between opposing substrates, wherein the height is d, and the area of a square having a rectangular shape surrounding a shape viewed from above is minimized. When the length of the vertical side is L1 and the length of the horizontal side is L2, when L1> L2, L = L
2. L = L1 when L1 <L2, L = L1 = L2 when L1 = L2, and satisfy the condition of d ≦ L and are manufactured by a molding method. It is.

【0022】また本願の第2の発明のスペーサーは、対
向する基板間の間隔を保持するスペーサーにおいて、断
面形状の上底の長さをa、下底の長さをbとしたときに
0≦a≦b(ただし、a=b=0の場合を除く)の条件
を満たし、モールド法で製造されてなることを特徴とす
るものである。
The spacer according to the second aspect of the present invention is a spacer for maintaining a space between opposing substrates, wherein a is 0 ≦≦ a when the length of the upper base is a and the length of the lower base is b. It satisfies the condition of a ≦ b (except when a = b = 0) and is manufactured by a molding method.

【0023】本願の第3の発明のスペーサーは、上記第
1又は第2のスペーサーが、ポリイミド(polyimide)
又はポリベンゾイミダゾール(polybenzimidazoles)か
らなることを特徴とするものである。
According to a third aspect of the present invention, the first or second spacer is made of a polyimide.
Or it consists of polybenzimidazoles (polybenzimidazoles).

【0024】本願の第4,5,6の発明のスペーサー
は、それぞれ上記第3のスペーサーが、射出成形法,圧
縮成形法,注型法で製造されてなることを特徴とするも
のである。
The spacers according to the fourth, fifth and sixth aspects of the present invention are characterized in that the third spacer is manufactured by an injection molding method, a compression molding method or a casting method.

【0025】本願の第1の画像形成装置は、複数の電子
放出素子を形成した基板と画像形成部材を形成した基板
とをスペーサーを介して対向させた構造を有する画像形
成装置において、前記スペーサーは上記第1〜第6のい
ずれかのスペーサーであることを特徴とするものであ
る。
A first image forming apparatus according to the present invention is an image forming apparatus having a structure in which a substrate on which a plurality of electron-emitting devices are formed and a substrate on which an image forming member is formed are opposed to each other via a spacer. The spacer is any one of the first to sixth spacers.

【0026】本願の第2の画像形成装置は、上記第1の
画像形成装置の電子放出素子が表面伝導型電子放出素子
であることを特徴とするものである。
The second image forming apparatus of the present invention is characterized in that the electron-emitting device of the first image forming device is a surface conduction electron-emitting device.

【0027】上記本発明により、スペーサーがそれ自身
で自立し、倒れたり折れたりすることなく、製造可能で
かつ、耐熱性があり、放出ガス量が少なく、ギャップ高
さも大きく取れ、強度があり、量産性に優れたコストの
安いスペーサーの生産が可能になると同時に、これを用
いた表示装置の性能向上にもつながる。
According to the present invention, the spacer is self-supporting, can be manufactured without falling down or breaking, can be manufactured, has heat resistance, has a small amount of released gas, has a large gap height, and has strength. This makes it possible to produce a low-cost spacer excellent in mass productivity, and also to improve the performance of a display device using the spacer.

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】図1に本発明のスペーサーの一例
を示す。
FIG. 1 shows an example of the spacer of the present invention.

【0029】図1(A)はL字タイプのスペーサーであ
る。以下、図1(B)は波型タイプ、図1(C)は矩形
波タイプ、図1(D)は波型プラス矩形波タイプ、図1
(E)は田の字タイプを示している。このスペーサーを
自立させた状態で、スペーサーが支える面内にある四角
形(長方形又は正方形)のスペーサーを囲む面積が最小
になる時、四角形の縦の辺をL1、横の辺をL2とす
る。このL1とL2の内、短い方をL(正方形すなわち
L1=L2の場合は、L=L1=L2)とし、スペーサ
ーの高さをdとしたときに、このスペーサーは次の関係
を満たしている。
FIG. 1A shows an L-shaped spacer. Hereinafter, FIG. 1 (B) is a wave type, FIG. 1 (C) is a rectangular wave type, FIG. 1 (D) is a wave type plus rectangular wave type, FIG.
(E) shows a cross type. When the area surrounding the square (rectangular or square) spacer in the plane supported by the spacer is minimized in a state where the spacer is self-standing, the vertical side of the square is defined as L1 and the horizontal side is defined as L2. When the shorter one of L1 and L2 is L (square, ie, L1 = L2, L = L1 = L2), and the height of the spacer is d, this spacer satisfies the following relationship. .

【0030】d≦L この条件を満たすことにより、スペーサーは自立が可能
になる。この条件は以下の方法で求めた。上記に挙げ
た、スペーサーのLとdの値を振って、スペーサーを作
成し、実際に、くわしくは後述する表示パネルの組み立
てに使用したときの自立性、組み立てやすさを○、×で
示したのが図2のグラフである。図2において、縦軸
は、上記に示すスペーサーのLを示し、横軸はスペーサ
ーの高さを示す。○は表示装置組立作業中も倒れること
なく、ハンドリングの際にも問題のなかった場合を示
す。×は表示装置組み立て作業中に倒れたり、ずれた
り、折れたりした場合を示す。この結果よりd≦Lの条
件を満たせば、スペーサーは自立性を満たすことが解
る。
D ≦ L By satisfying this condition, the spacer becomes self-supporting. This condition was determined by the following method. The spacers were prepared by varying the values of L and d of the spacers described above, and indeed, independence and ease of assembling when used for assembling a display panel described later were indicated by 、 and ×. This is the graph of FIG. In FIG. 2, the vertical axis indicates L of the spacer shown above, and the horizontal axis indicates the height of the spacer. The symbol “場合” indicates a case where the display device did not fall down during the assembling work and there was no problem in handling. × indicates a case where the display device has fallen, shifted, or broken during the display device assembling work. From this result, it can be seen that if the condition of d ≦ L is satisfied, the spacer satisfies autonomy.

【0031】図27に本発明のスペーサーの他の例を示
す。図28は図27の形状のスペーサーを画像表示装置
に適用した図である。
FIG. 27 shows another example of the spacer of the present invention. FIG. 28 is a diagram in which a spacer having the shape shown in FIG. 27 is applied to an image display device.

【0032】図27(A)は台形タイプのスペーサーで
ある。図27(B)は三角タイプのスペーサーを示して
いる。スペーサーの断面形状の上底の長さをa、下底の
長さをbとしたとき、0≦a≦b(ただし、a=b=0
の場合を除く)の条件を満たすようにする。スペーサー
はすこしでもテーパー気味になっていれば、簡単に型か
ら抜くことができるためである。また、スペーサーをパ
ネルに組み立てる時にも、断面が台形又は三角形をして
いれば、組み立て途中の振動で倒れることも少ないとい
うメリットもあるためである。
FIG. 27A shows a trapezoid type spacer. FIG. 27B shows a triangular type spacer. When the length of the upper base is a and the length of the lower base is b, 0 ≦ a ≦ b (where a = b = 0)
). If the spacer is slightly tapered, it can be easily removed from the mold. Also, when assembling the spacer to the panel, if the cross section is trapezoidal or triangular, there is an advantage that the spacer is less likely to fall down due to vibration during assembly.

【0033】なお、本発明のスペーサーは特に表示装置
等の画像形成装置に限定されるものではなく、対向する
基板間の間隔を保持するスペーサーであれば適用可能で
ある。電子放出素子を用いた画像形成装置においては基
板間は真空に保持するのでスペーサーは大気圧に耐える
ものが求められるが、かならずしも真空状態ではなく、
例えばプラズマディスプレイのように大気圧より基板間
が低い圧力の場合にも本発明のスペーサーを用いること
ができる。さらに基板間を大気圧以下にしなくても、基
板に外力がかかるような用途にも用いることができる。
The spacer of the present invention is not particularly limited to an image forming apparatus such as a display device, but can be applied to any spacer that maintains a space between opposing substrates. In an image forming apparatus using an electron-emitting device, since the space between the substrates is maintained in a vacuum, the spacer must be capable of withstanding atmospheric pressure, but is not necessarily in a vacuum state.
For example, the spacer of the present invention can be used even when the pressure between the substrates is lower than the atmospheric pressure as in a plasma display. Further, the present invention can be used for an application in which an external force is applied to the substrates even if the pressure between the substrates is not lower than the atmospheric pressure.

【0034】以下、図面に沿って、本発明の実施形態に
ついて具体的に説明する。 (実施形態1)図3は本実施形態に用いた表示パネルの
斜視図である。スペーサーは、図1(C)に示した形状
のスペーサーを用いた。図3では内部構造を示すために
パネルの一部を切り欠いて示している。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be specifically described with reference to the drawings. Embodiment 1 FIG. 3 is a perspective view of a display panel used in the present embodiment. As the spacer, a spacer having the shape shown in FIG. 1C was used. In FIG. 3, a part of the panel is cut away to show the internal structure.

【0035】図中、2はフェースプレート、2−1はガ
ラス基板、2−2は蛍光体、2−3はアノード電極、5
はリアプレート、6は側壁であり、フェースプレート
2,リアプレート5,側壁6により表示パネルの内部を
真空に維持するための気密容器を形成している。気密容
器を組み立てるにあたっては、各部材の接合部に十分な
強度と気密性を保持させるため封着する必要があるが、
たとえばフリットガラスを接合部に塗布し、大気中ある
いは窒素雰囲気中で、摂氏400〜500度で10分以
上焼成することにより封着を達成した。
In the figure, 2 is a face plate, 2-1 is a glass substrate, 2-2 is a phosphor, 2-3 is an anode electrode,
Is a rear plate, and 6 is a side wall. The face plate 2, the rear plate 5, and the side wall 6 form an airtight container for maintaining the inside of the display panel in a vacuum. When assembling the airtight container, it is necessary to seal the joint of each member to maintain sufficient strength and airtightness,
For example, sealing was achieved by applying frit glass to the joint and baking it in the air or in a nitrogen atmosphere at 400 to 500 degrees Celsius for 10 minutes or more.

【0036】リアプレート5には、基板7が固定されて
いるが、該基板上には電子放出素子3がN×M個形成さ
れている。本実施形態ではN=160、M=780とし
た(N,Mは2以上の正の整数であり、目的とする表示
画素数に応じて適宜設定される。たとえば、高品位テレ
ビジョンの表示を目的とした表示装置においては、N=
3000、M=1000以上の数を設定することが望ま
しい。)。
A substrate 7 is fixed to the rear plate 5, and N × M electron-emitting devices 3 are formed on the substrate. In the present embodiment, N = 160 and M = 780 (N and M are positive integers of 2 or more, and are appropriately set according to the target number of display pixels. For example, display of a high-definition television is performed. In the intended display device, N =
It is desirable to set the number to 3000, M = 1000 or more. ).

【0037】電子放出素子は、M本の行方向配線(下配
線4−2)とN本の列方向配線(上配線4−1)により
単純配線されている。前記、行方向配線(下配線4−
2)と列方向配線(上配線4−1)によって構成される
部分をマルチ電子ビーム源と呼ぶ。
The electron-emitting devices are simply wired by M row-directional wirings (lower wiring 4-2) and N column-directional wirings (upper wiring 4-1). The row wiring (lower wiring 4-
The portion constituted by 2) and the column direction wiring (upper wiring 4-1) is called a multi-electron beam source.

【0038】また、D0x1〜D0xmおよびD0y1
〜D0ynおよびHvは、当該表示パネルと不図示の電
気回路とを電気的に接続するために設けた気密構造の電
気接続用端子である。D0x1〜D0xmはマルチ電子
ビーム源の行方向配線(下配線4−2)と、D0y1〜
D0ynはマルチ電子ビーム源の列方向配線(上配線4
−1)と、Hvはフェースプレートのアノード電極と電
気的に接続している。本実施形態の電子放出素子3は、
例えば前記特開平7−45221号公報に記載されてい
る表面伝導型電子放出素子を用いたが、先端の尖った、
円錐状、角錐状あるいは針状の金属やシリコン、もしく
はダイヤモンドを含むカーボン材料等からなる電界放出
型電子放出素子やMIM型素子等を用いることもでき
る。
D0x1 to D0xm and D0y1
D0yn and Hv are electric connection terminals having an airtight structure provided for electrically connecting the display panel to an electric circuit (not shown). D0x1 to D0xm are wirings in the row direction of the multi-electron beam source (lower wiring 4-2), and D0y1 to D0y1.
D0yn is a column-directional wiring (upper wiring 4) of the multi-electron beam source.
-1), Hv is electrically connected to the anode electrode of the face plate. The electron-emitting device 3 of the present embodiment includes:
For example, a surface conduction electron-emitting device described in JP-A-7-45221 was used.
A field-emission electron-emitting device, a MIM-type device, or the like made of a carbon material containing a conical, pyramidal or acicular metal, silicon, or diamond can also be used.

【0039】本実施形態においては、気密容器のリアプ
レート5にマルチ電子ビーム源の基板7を固定する構成
としたが、マルチ電子ビーム源の基板7が十分な強度を
有するものである場合には、気密容器のリアプレートと
してマルチ電子ビーム源の基板7自体を用いてもよい。
In this embodiment, the substrate 7 of the multi-electron beam source is fixed to the rear plate 5 of the airtight container. However, if the substrate 7 of the multi-electron beam source has a sufficient strength, Alternatively, the substrate 7 of the multi-electron beam source may be used as the rear plate of the airtight container.

【0040】図4(A)は図3のA−A′の断面模式図
であり、各部の番号は図3に対応している。スペーサー
1はフリットガラス等の接合材(不図示)を介して上配
線4−1およびフェースプレート2と接続し、フェース
プレート2とリアプレート5が受ける大気圧を支えてい
る。4−1−1は上配線電極、4−2−1は下配線電極
である。
FIG. 4A is a schematic sectional view taken along the line AA 'of FIG. 3, and the numbers of the respective parts correspond to those of FIG. The spacer 1 is connected to the upper wiring 4-1 and the face plate 2 via a bonding material (not shown) such as frit glass, and supports the atmospheric pressure received by the face plate 2 and the rear plate 5. 4-1-1 is an upper wiring electrode, and 4-2-1 is a lower wiring electrode.

【0041】図4(B)はB−B′の断面模式図であ
り、スペーサー1は下配線4−2の上に配置されてい
る。1−2は表示装置内部のガスを排気する際に効率よ
く行うための排気孔であるが、本表示装置を真空中で組
み立てる場合には、なくても良い。
FIG. 4B is a schematic cross-sectional view taken along line BB ', and the spacer 1 is disposed on the lower wiring 4-2. Reference numeral 1-2 denotes an exhaust hole for efficiently exhausting the gas inside the display device, but may not be provided when assembling the display device in a vacuum.

【0042】またスペーサーのフェースプレート2もし
くはリアプレート5との接続は、接合材を用いる場合の
みでなくスペーサーに突起または凹み部を設けそれに対
応する加工を前記プレートに行うことでも可能である。
さらにスペーサーは両プレートに対し、上下で固定され
る必要はなく、片方のみの固定でもよい。
The connection of the spacer to the face plate 2 or the rear plate 5 can be performed not only by using a bonding material but also by providing a protrusion or a concave portion on the spacer and performing a corresponding process on the plate.
Furthermore, the spacer does not need to be fixed up and down with respect to both plates, and only one may be fixed.

【0043】また、スペーサーの本数はスペーサーの強
度を考慮して、大気圧を十分支持しうる数に設計されて
いる。
The number of spacers is designed to be sufficient to support the atmospheric pressure in consideration of the strength of the spacers.

【0044】さらに、ガラス基板2−1の下面には、蛍
光体2−2、メタルバック(アノード電極)2−3が形
成されている。本実施形態はカラー表示装置であるた
め、蛍光体2−2の部分にはCRTの分野で用いられる
赤、緑、青の3原色の蛍光体が塗り分けられている。各
色の蛍光体は、たとえば図5(A)に示すようにストラ
イプ状に塗り分けられ、蛍光体のストライプの間には黒
色の光吸収体2−4が設けてある。黒色の光吸収体2−
4を設ける目的は、電子ビームの照射位置に多少のずれ
があっても表示色にずれが生じないようにすることや、
外光の反射を防止して表示コントラストの低下を防ぐこ
と、又、上記黒色の光吸収体が導電性の場合には、電子
ビームによる蛍光体のチャージアップを防止することな
どである。黒色の光吸収体2−4には、黒鉛を主成分と
して用いたが、上記の目的に適するものであればこれ以
外の材料を用いても良い。
Further, a phosphor 2-2 and a metal back (anode electrode) 2-3 are formed on the lower surface of the glass substrate 2-1. Since the present embodiment is a color display device, phosphors of three primary colors of red, green, and blue used in the field of CRT are separately applied to a portion of the phosphor 2-2. The phosphors of each color are separately applied in stripes as shown in FIG. 5A, for example, and a black light absorber 2-4 is provided between the stripes of the phosphors. Black light absorber 2-
The purpose of providing 4 is to prevent the display color from being shifted even if the irradiation position of the electron beam is slightly shifted,
The purpose is to prevent reflection of external light to prevent a decrease in display contrast, and to prevent charge-up of the phosphor by an electron beam when the black light absorber is conductive. Although graphite is used as a main component for the black light absorber 2-4, any other material may be used as long as it is suitable for the above purpose.

【0045】また、3原色の蛍光体の塗り分け方は前記
図5(A)に示したストライプ状の配列に限られるもの
ではなく、たとえば図5(B)に示すようなデルタ状配
列や、それ以外の配列であってもよい。
The method of applying the phosphors of the three primary colors is not limited to the stripe arrangement shown in FIG. 5A, but may be, for example, a delta arrangement as shown in FIG. Other arrangements may be used.

【0046】なお、モノクロームの表示パネルを作成す
る場合には、単色の蛍光体材料を蛍光体2−3−1に用
いればよく、また黒色光吸収体は必ずしも用いなくとも
よい。
When a monochrome display panel is produced, a monochromatic phosphor material may be used for the phosphor 2-3-1 and a black light absorber may not necessarily be used.

【0047】また、加速電圧の印加用や蛍光体の導電性
向上を目的として、フェースプレート2と蛍光体2−2
との間に、たとえばITOを材料とする不図示の透明電
極を設けてもよい。
Further, for the purpose of applying an acceleration voltage and improving the conductivity of the phosphor, the face plate 2 and the phosphor 2-2 are used.
And a transparent electrode (not shown) made of, for example, ITO.

【0048】メタルバック2−3を設ける目的は、蛍光
体2−2が発する光の一部を鏡面反射して光利用率を向
上させることや、負イオンの衝突から蛍光体2−2を保
護することや、電子ビーム加速電圧を印加するための電
極として作用させることや、蛍光体2−2を励起した電
子の導電路として作用させることなどである。メタルバ
ックは、蛍光体2−2をフェースプレート2上に形成し
た後、蛍光体表面を平滑化処理し、その上にアルミを真
空蒸着する方法により形成した。なお、蛍光体2−2に
低加速電子線励起用の蛍光体材料を用いた場合には、メ
タルバックは用いない場合もある。
The purpose of providing the metal back 2-3 is to improve the light utilization rate by mirror-reflecting a part of the light emitted from the phosphor 2-2 and to protect the phosphor 2-2 from the collision of negative ions. To act as an electrode for applying an electron beam acceleration voltage, and to act as a conductive path for the excited electrons of the phosphor 2-2. The metal back was formed by forming the phosphor 2-2 on the face plate 2, smoothing the surface of the phosphor, and vacuum-depositing aluminum thereon. When a phosphor material for exciting low-acceleration electron beams is used for the phosphor 2-2, the metal back may not be used in some cases.

【0049】上記の蛍光体、蛍光体とメタルバック、蛍
光体とメタルバックと透明電極等が画像形成部材に該当
する。
The above-mentioned phosphor, phosphor and metal back, phosphor, metal back and transparent electrode correspond to the image forming member.

【0050】また、気密容器内部を真空に排気するに
は、気密容器を組み立てた後、不図示の排気管と真空ポ
ンプとを接続し、気密容器内を10-7[Torr]程度
の真空度まで排気する。その後、排気管を封止するが、
気密容器内の真空度を維持するために、封止の直前ある
いは封止後に気密容器内の所定の位置にゲッター膜(不
図示)を形成する。ゲッター膜とは、たとえばBaを主
成分とするゲッター材料をヒーターもしくは高周波加熱
により加熱し蒸着して形成した膜であり、該ゲッター膜
の吸着作用により気密容器内は1×10-5ないしは1×
10-7[Torr]程度の真空度に維持される。
In order to evacuate the inside of the hermetic container, after the hermetic container is assembled, an exhaust pipe (not shown) and a vacuum pump are connected, and the inside of the hermetic container is evacuated to a degree of vacuum of about 10 -7 [Torr]. Exhaust until After that, the exhaust pipe is sealed,
In order to maintain the degree of vacuum in the airtight container, a getter film (not shown) is formed at a predetermined position in the airtight container immediately before or after sealing. The getter film is, for example, a film formed by heating and depositing a getter material containing Ba as a main component by a heater or high-frequency heating, and the inside of the hermetic container is 1 × 10 −5 or 1 × by the adsorption action of the getter film.
The degree of vacuum is maintained at about 10 -7 [Torr].

【0051】以上、本発明の実施形態の表示パネルの基
本構成と製法を説明した。
The basic configuration and manufacturing method of the display panel according to the embodiment of the present invention have been described above.

【0052】以下、本実施形態に用いるスペーサーにつ
いて説明する。
Hereinafter, the spacer used in the present embodiment will be described.

【0053】射出成形で作成されたスペーサー1を図6
(A)、その変形例を図6(B)に示す。材料はポリイ
ミド(PI:商品名 AURUM/三井東圧化学
[株])を使用した。また射出成形がスムーズに行われ
るための結合剤として、PEEK樹脂を用いている。図
6(A)において、スペーサー1はリブ1−1から構成
されており、リブは10×10個の電子放出素子を挟む
ように設計されている。開口部のサイズは4.6×6.
9mmである。またリブの幅は太いほう(W2 )が20
0μm、細いほう(W1 )が150μm、高さ(d)は
1mmである。また図6(B)のように上記スペーサー
の複数個をリブ1−3にて連結させ、組み立て時のハン
ドリングを向上させることも可能である。さらに図の1
−2はパネル内を真空に引く際にコンダクタンスを向上
させるための開口部であり、射出成形でスペーサーが作
成できるようになって初めて、リブの壁面に簡単に形成
することが可能になったものである。
The spacer 1 made by injection molding is shown in FIG.
(A) and its modification is shown in FIG. The material used was polyimide (PI: trade name: AURUM / Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd.). Further, PEEK resin is used as a binder for smoothly performing injection molding. In FIG. 6A, the spacer 1 is composed of a rib 1-1, and the rib is designed so as to sandwich 10.times.10 electron-emitting devices. The size of the opening is 4.6 × 6.
9 mm. The width of the rib (W 2 ) is 20
0 μm, the thinner (W 1 ) is 150 μm, and the height (d) is 1 mm. Further, as shown in FIG. 6B, a plurality of the spacers can be connected by ribs 1-3 to improve the handling at the time of assembly. Further in Figure 1
-2 is an opening for improving the conductance when a vacuum is applied to the inside of the panel. The opening can be easily formed on the wall surface of the rib only after the spacer can be formed by injection molding. It is.

【0054】図7は実際の横型射出成形機の様子を示す
図であり、同図において、9はホッパー、10はプラン
ジャー、11は材料であり、ポリイミド及び、結合剤、
可塑剤、滑剤、助剤から成る。12はトーピードー、1
3はヒーター、14は加熱シリンダー、15はノズル、
16はスプルー、17は金型を示している。このような
構成において、ホッパー9内の材料11を加熱シリンダ
ー14内で加熱溶融し、プランジャー10で閉じた金型
17内部に射出し成形するのである。金型17は常に冷
却されており、金型17内の材料11を冷却固化させる
のである。
FIG. 7 is a view showing an actual horizontal injection molding machine, in which 9 is a hopper, 10 is a plunger, 11 is a material, and a polyimide, a binder,
Consists of plasticizers, lubricants and auxiliaries. 12 is Topy Doe, 1
3 is a heater, 14 is a heating cylinder, 15 is a nozzle,
Reference numeral 16 denotes a sprue, and 17 denotes a mold. In such a configuration, the material 11 in the hopper 9 is heated and melted in the heating cylinder 14 and injected into the mold 17 closed by the plunger 10 to be molded. The mold 17 is constantly cooled, and the material 11 in the mold 17 is cooled and solidified.

【0055】さらに詳細に説明すると、加熱シリンダー
14は、材料11がその中を通過する間に、局部的な加
熱が少なく、均一温度になることが求められ、しかも高
圧(0.75トン/cm2 以上)に耐えなければならな
い。
More specifically, the heating cylinder 14 is required to have a low local heating and a uniform temperature while the material 11 passes therethrough, and to have a high pressure (0.75 ton / cm). 2 or more).

【0056】また、ポリイミドは熱の不良導体であるか
ら、短い時間に多量の材料を均一に加熱するには、通路
を狭くして熱伝導を速やかにすることが求められる。こ
の意味で工夫されたのがトーピードー12である。トー
ピードー12は加熱シリンダー14の内部に取り付けら
れた魚雷型の装置で成形材料11を均一に加熱する働き
がある。
In addition, since polyimide is a poor conductor of heat, in order to heat a large amount of material uniformly in a short time, it is necessary to narrow a passage and speed up heat conduction. In this sense, Topy Doe 12 has been devised. The torpedo 12 has a function of uniformly heating the molding material 11 by a torpedo type device mounted inside the heating cylinder 14.

【0057】さらに、ノズルは圧力と温度の点から重要
な部分である。ノズルの中は圧力損失を避けることが肝
要であり、材料11はこの領域で均一な温度に保たれね
ばならない。
Furthermore, the nozzle is an important part in terms of pressure and temperature. It is essential to avoid pressure losses in the nozzle, and the material 11 must be kept at a uniform temperature in this region.

【0058】さてこのようにして、ノズルからスプルー
を通り割型タイプの金型17に射出されたポリイミド
は、図8(A)に示すように、図10の注入板21の注
入穴21−1を通り、キャビティー20に導かれる。注
入穴21−1は下が直径200〜300μm、上が50
〜100μmのテーパー状になっている。この時、注入
板21はアーム19内部の空気孔(不図示)により吸引
されており、キャビティー上部に固定されている。アー
ム18はスペーサーイジェクト用のアームである。
As shown in FIG. 8A, the polyimide injected from the nozzle into the split mold 17 through the sprue is injected into the injection hole 21-1 of the injection plate 21 shown in FIG. And is guided to the cavity 20. The injection hole 21-1 has a diameter of 200 to 300 μm at the bottom and 50 at the top.
It has a tapered shape of about 100 μm. At this time, the injection plate 21 is sucked by an air hole (not shown) inside the arm 19 and is fixed to the upper portion of the cavity. The arm 18 is an arm for spacer ejection.

【0059】次いで、金型内のポリイミドが冷却し硬化
した後に、図8(B)に示すように、アーム18及び1
9が上から降りてきて、成形品1をキャビティー20か
らはずす。そして、図8(C)に示すように、アーム1
8が更に下に降りてくることで、成形品1は注入板21
によって切り離され、スペーサー1が完成するのであ
る。
Next, after the polyimide in the mold is cooled and cured, as shown in FIG.
9 descends from above and removes the molded article 1 from the cavity 20. Then, as shown in FIG.
8 descends further, and the molded article 1
And the spacer 1 is completed.

【0060】最後に、アーム19軸内部の吸引が停止さ
れ、スペーサーが回収されるのである。このような工程
を経て製造されたスペーサーが図6(A)に示すもので
ある。なお、ここでは理解の容易化のためにスペーサー
を3個同時につくる図を示している。
Finally, the suction inside the arm 19 is stopped, and the spacer is recovered. The spacer manufactured through such a process is shown in FIG. Here, a diagram in which three spacers are simultaneously formed is shown for easy understanding.

【0061】このような射出成形による製造方法を行う
ことで、スペーサーのリブが薄く、高さの高い物が容易
に多量に生産されるようになった。更には、従来は、切
削加工によって一つ一つリブの基体部分を除去していた
が、割型から製品をはずす一連の工程の中で、分離する
ことが可能になった。その結果、工程の短縮化、製造コ
ストのダウンが可能になるという効果も発生した。その
上、この様な方法で製造された自立スペーサーを表面伝
導型電子放出素子等の冷陰極型電子放出素子を用いた表
示装置に使用することで、ハンドリングが楽になり、組
み立て性能が格段に向上するという効果も出てくる。そ
の結果、工程の短縮化、製造コストのダウンが可能にな
るという効果も発生した。
By performing such a manufacturing method by injection molding, the ribs of the spacer are thin, and high-profile ones can be easily mass-produced. Further, conventionally, the base portions of the ribs were removed one by one by a cutting process. However, in a series of steps for removing the product from the split mold, the separation can be performed. As a result, there is an effect that the process can be shortened and the manufacturing cost can be reduced. In addition, by using the self-supporting spacer manufactured by such a method in a display device using a cold cathode type electron-emitting device such as a surface conduction type electron-emitting device, handling becomes easier and assembly performance is significantly improved. The effect of doing it also comes out. As a result, there is an effect that the process can be shortened and the manufacturing cost can be reduced.

【0062】また、スペーサーの材料としてポリベンゾ
イミダゾール(PBI:商品名 Celazole T
F−60V/ヘキストインダストリー[株])を用いて
もよい。この場合、熱分解温度が314℃とポリイミド
より高く、耐熱性が向上するという効果もある。
As a material for the spacer, polybenzimidazole (PBI: trade name Celazole T)
F-60V / Hoechst Industry Co., Ltd.) may be used. In this case, the thermal decomposition temperature is 314 ° C., which is higher than that of polyimide, and there is also an effect that heat resistance is improved.

【0063】さらに、ポリイミドやポリベンゾイミダゾ
ールの真空における、放出ガスレートは10-7torr
l/cm2 sec以下で非常に小さく、また絶縁耐圧も
良好なため、表示装置の寿命を伸ばす効果があるので好
ましく用いられる。 (実施形態2)本実施形態は、実施形態1のスペーサー
の製造方法及び形状を変えたものである。
Further, the release gas rate of polyimide or polybenzimidazole in vacuum is 10 -7 torr.
It is preferably used because it is very small at 1 / cm 2 sec or less and has a good withstand voltage, which has the effect of extending the life of the display device. (Embodiment 2) In the present embodiment, the manufacturing method and the shape of the spacer of Embodiment 1 are changed.

【0064】図11〜図16は圧縮成形法でスペーサー
を作成する方法を示す。これは、顆粒あるいは粉末の材
料を型に入れ、圧力と熱を加えて成形する方法である。
材料はポリベンゾイミダゾール(PBI:商品名 Ce
lazole/ヘキストインダストリー[株])で粒径
30μmのものを使用した。また材料としては、耐熱性
があり、放出ガス量の少ないポリイミド(PI:商品名
VESPEL/デュポン[株])でも良い。
FIGS. 11 to 16 show a method of forming a spacer by a compression molding method. This is a method in which a granule or powder material is placed in a mold and subjected to pressure and heat to mold.
The material is polybenzimidazole (PBI: trade name Ce)
lazole / Hoechst Industry Co., Ltd.) having a particle size of 30 μm. As a material, polyimide (PI: VESPEL / Dupont Co., Ltd.) having heat resistance and a small amount of released gas may be used.

【0065】図11において、17は金型、22はシュ
ーと呼ばれ、金型に材料を流し込むための装置で、ここ
から材料であるポリベンゾイミダゾールが金型に送られ
る。10は材料を加圧するためのプランジャー、23は
でき上がったスペーサーを吸引するための装置で、ポン
プ(不図示)で内部は負圧にすることができる。24は
吸引したスペーサーを支持するためのメッシュである。
In FIG. 11, 17 is a mold and 22 is a shoe, which is a device for pouring a material into the mold, from which polybenzimidazole as a material is sent to the mold. Numeral 10 is a plunger for pressurizing the material, and 23 is a device for sucking the completed spacer, and the inside thereof can be made negative pressure by a pump (not shown). Reference numeral 24 denotes a mesh for supporting the sucked spacer.

【0066】このような構成において、まず、シュー2
2から、金型17にポリベンゾイミダゾールが供給され
る。次いで、図12に示すように、シュー22がホーム
ポジションに戻ったあとに、プランジャー10が降りて
きて加圧を始める。この時の加圧力は、1000kgf
/cm2 以上あれば良い。更に、図13に示すように、
プランジャー10に加圧された状態で、矢印の方向から
ヒーター13が上がってきて、加熱を開始する。この時
の温度は、ポリベンゾイミダゾールのガラス転移点の約
425℃、時間は5〜10時間である。
In such a configuration, first, the shoe 2
From 2, polybenzimidazole is supplied to the mold 17. Next, as shown in FIG. 12, after the shoe 22 returns to the home position, the plunger 10 descends and starts pressurizing. The pressing force at this time is 1000 kgf
/ Cm 2 or more. Further, as shown in FIG.
With the plunger 10 pressurized, the heater 13 rises from the direction of the arrow and starts heating. The temperature at this time is about 425 ° C., which is the glass transition point of polybenzimidazole, and the time is 5 to 10 hours.

【0067】次いで、図14に示すように、矢印の方向
へヒーター13が下降すると同時に、吸引ノズル23が
移動して来る。そして、図15に示すように、不図示の
モーターの吸引によって、吸引ノズル23内部が負圧に
なり、スペーサー1が上方に吸い上げられる。その後、
吸い上げられたスペーサー1は、メッシュ24の部分に
保持されることになる。そして最後に図16に示す、ト
レイ25に回収されるのである。スペーサー1の形状に
ついては後述する。
Next, as shown in FIG. 14, at the same time as the heater 13 descends in the direction of the arrow, the suction nozzle 23 moves. Then, as shown in FIG. 15, the inside of the suction nozzle 23 becomes a negative pressure due to the suction of the motor (not shown), and the spacer 1 is sucked upward. afterwards,
The sucked up spacer 1 is held by the mesh 24. Finally, it is collected on the tray 25 shown in FIG. The shape of the spacer 1 will be described later.

【0068】このような圧縮成形による製造方法を行う
ことで、スペーサーのリブが薄く、高さの高い物が容易
に多量に生産されるようになった。その結果、工程の短
縮化、製造コストのダウンが可能になるという効果も発
生した。さらに、この方法によれば、射出成形に比べ、
結合剤が無いので、高真空時の結合剤からの放出ガスが
無く、表示装置の寿命が長くなるという効果も発生す
る。また耐熱性もあり、熱変形温度は360℃、瞬間な
ら480℃まで耐え、表示装置のベーキングの工程に十
分耐えうるという効果もある。さらに二次電子放出効率
σmは1.9で、従来スペーサーに使われているソーダ
ライム(青板)の2.1に比べ、若干小さくなってい
る。これは、スペーサーに電子が衝突した時のチャージ
アップのしにくさを示しており、この点からも有利であ
る。
By performing such a manufacturing method by compression molding, a large number of high-profile spacers having thin ribs can be easily produced. As a result, there is an effect that the process can be shortened and the manufacturing cost can be reduced. Furthermore, according to this method, compared to injection molding,
Since there is no binder, there is no gas released from the binder at the time of high vacuum, and the effect that the life of the display device is prolonged also occurs. It also has heat resistance, and has a heat deformation temperature of 360 ° C., which can withstand up to 480 ° C. in an instant, and has an effect that it can sufficiently withstand a baking process of a display device. Further, the secondary electron emission efficiency σm is 1.9, which is slightly smaller than 2.1 of soda lime (blue plate) conventionally used for the spacer. This indicates that it is difficult to charge up when electrons collide with the spacer, which is also advantageous from this point.

【0069】一方、強度的には、ソーダライムのスペー
サーに劣るが、これも、スペーサーの数を増やすことで
対応できる。更にスペーサーの形状を図1(A)の様な
「L字」や図1(E)の様な「田の字」にすれば、スペ
ーサーの数は更に少なくすることが可能で、実質、ガラ
ススペーサーの場合と同等以下の数にすることは可能で
ある。しかも取り扱いは、ガラススペーサーより簡単
で、組み立てコストを考えるとよりメリットが出てく
る。
On the other hand, the strength is inferior to the soda lime spacer, but this can be dealt with by increasing the number of spacers. Further, if the shape of the spacer is made into an “L-shape” as shown in FIG. 1 (A) or a “cross-shaped” as shown in FIG. 1 (E), the number of spacers can be further reduced. It is possible to make the number less than or equal to that of the spacer. In addition, handling is easier than glass spacers, and benefits are more apparent when considering assembly costs.

【0070】さらに、図17〜図22では圧縮成形法の
さらに進んだ成形方法として、ダイレクトフォーミング
法を説明する。これは上記の圧縮成形法の加圧工程と加
熱工程を分離することで、工程の効率化を図るものであ
る。図17〜図23までは加圧の工程で、これは室温で
行うことができる。
17 to 22, a direct forming method will be described as a more advanced molding method than the compression molding method. This is intended to improve the efficiency of the process by separating the pressurizing step and the heating step in the above-mentioned compression molding method. 17 to 23 are pressurizing steps, which can be performed at room temperature.

【0071】この時に使用する、ポリベンゾイミダゾー
ル粉は12wt%のポリベンゾイミダゾールが溶融した
DMAc溶剤を水の霧の中でスプレーして沈殿したもの
から作ったものである。ポリベンゾイミダゾールの粒径
は30μm、DMAcを10%含浸している。
The polybenzimidazole powder used at this time was prepared by spraying a DMAc solvent in which 12% by weight of polybenzimidazole was melted in a water mist and precipitated. Polybenzimidazole has a particle size of 30 μm and is impregnated with 10% of DMAc.

【0072】これを図17〜図22に示すように、60
kpsiの圧力で加圧し、スペーサー1の形状を形作っ
た。この工程は、全て室温環境下で行うことができる。
図23に示すように、上記工程で作製したスペーサー1
のリブ1−1は10×10個の電子放出素子を囲むよう
に設計されており、開口部のサイズは4.6×6.9m
mである。またリブの幅は太いほうがW2 =200μ
m、細いほうがW1 =150μm、高さはd=1mmで
ある。図17〜図22の工程は、圧縮成形における図1
1〜図16の工程に比べ、ヒーター13による加熱の工
程がないだけで後は同じである。
As shown in FIG. 17 to FIG.
Pressure was applied at a pressure of kpsi to form the shape of the spacer 1. All of these steps can be performed in a room temperature environment.
As shown in FIG. 23, the spacer 1 manufactured in the above process
Is designed to surround 10 × 10 electron-emitting devices, and the size of the opening is 4.6 × 6.9 m.
m. The larger the width of the rib is, W 2 = 200 μm
m, W 1 = 150 μm for the thinner one , and d = 1 mm for the height. 17 to 22 correspond to the steps shown in FIG.
16 are the same as those in FIGS. 1 to 16 except that there is no heating step by the heater 13.

【0073】こうして作られた、スペーサー1を図24
に示す容器に入れ、加圧すると同時に加熱するのであ
る。10はプランジャー、26はナット、27は加圧
板、31は蓋、28は加圧・加熱容器で内径90mm、
外径180mm、高さ300mmである。また、29は
ボルト、1はスペーサー、30はグラファイト、32は
底板である。このような構成において、まず200℃で
スペーサー1の予熱を行い、水分を蒸発させる。次い
で、加圧板27にプランジャー10を介して、1〜3k
psiの圧力を15分印加した後、10kpsiの圧力
で数時間、425〜500℃で加熱する。加圧・加熱容
器28の中にはグラファイト30が入っているので、ス
ペーサーは全ての方向から均一な圧力と温度が印加され
ることになる。その後加圧・加熱容器28を冷却してス
ペーサーを取り出す。
The spacer 1 thus produced is connected to the spacer 1 shown in FIG.
And pressurized and heated at the same time. 10 is a plunger, 26 is a nut, 27 is a pressurizing plate, 31 is a lid, 28 is a pressurizing / heating container having an inner diameter of 90 mm,
It has an outer diameter of 180 mm and a height of 300 mm. 29 is a bolt, 1 is a spacer, 30 is graphite, and 32 is a bottom plate. In such a configuration, first, the spacer 1 is preheated at 200 ° C. to evaporate water. Next, 1-3 k is applied to the pressing plate 27 via the plunger 10.
After applying a pressure of psi for 15 minutes, heat at 425-500 ° C. for several hours at a pressure of 10 kpsi. Since the graphite 30 is contained in the pressurizing / heating container 28, uniform pressure and temperature are applied to the spacer from all directions. Thereafter, the pressurizing / heating container 28 is cooled and the spacer is taken out.

【0074】このようなダイレクトフォーミング法で、
スペーサーを作れば、加圧工程と加熱工程を分離できる
ので、室温でスペーサー1を加圧し多量に製造した後
に、まとめて多量に同時加熱できるというメリットがあ
る。さらに、スペーサー1のリブが薄く、高さの高い物
が容易に多量生産できるようになった。その上、この様
な方法で製造された自立スペーサーを表面伝導型電子放
出素子等の冷陰極型電子放出素子を用いた表示装置に使
用することで、ハンドリングが楽になり、組み立て性能
が格段に向上するという効果も出てくる。その結果、工
程の短縮化、製造コストのダウンが可能になるという効
果も発生した。さらに、この方法によれば、射出成形に
比べ、結合剤が無いので、高真空時の結合剤からの放出
ガスが無く、表示装置の寿命が長くなるという効果も発
生する。また耐熱性もあり、熱変形温度は435℃、瞬
間なら760℃まで耐え、表示装置のベーキングの工程
に十分耐えうるという効果もある。 (実施形態3)本実施形態も、実施形態1のスペーサー
の製造方法、及び形状を変えたものである。
With such a direct forming method,
If the spacer is made, the pressurizing step and the heating step can be separated, so that there is an advantage that a large amount of the spacers 1 can be simultaneously pressed and heated at room temperature, and then a large amount can be simultaneously heated. Further, the ribs of the spacer 1 are thin, and a high object can be easily mass-produced. In addition, by using the self-supporting spacer manufactured by such a method in a display device using a cold cathode type electron-emitting device such as a surface conduction type electron-emitting device, handling becomes easier and assembly performance is significantly improved. The effect of doing it also comes out. As a result, there is an effect that the process can be shortened and the manufacturing cost can be reduced. Further, according to this method, since there is no binder as compared with injection molding, there is no gas released from the binder at the time of high vacuum, and the effect of extending the life of the display device is also produced. It also has heat resistance, and has a heat deformation temperature of 435 ° C., and can withstand up to 760 ° C. at an instant, and has an effect of sufficiently withstanding a baking process of a display device. (Embodiment 3) This embodiment is also a modification of the manufacturing method and the shape of the spacer of Embodiment 1.

【0075】図25は注型法の様子を示す図でありポリ
イミドワニス(商品名 pyre−M.L./I.S.
T[株])の溶液を入れるためのタンク33、ポリイミ
ドワニスを金型17に流し込むのを制御するためのコッ
ク34から成っている。このような構成において、コッ
ク34を開き、タンク33からポリイミドワニスを金型
17に注入する。注入されたポリイミドワニスは注入板
21の注入穴21−1(不図示)を通り、キャビティー
20に入る。次いで図26(A)に示すように、加工チ
ャンバー35の内部を真空ポンプ36で負圧に引くので
ある。こうすることにより、ポリイミドワニス内の気泡
が取り除かれると同時に、キャビティー20の隅々にポ
リイミドワニスが充填されるのである。こうして十分に
気泡が取り除かれた後に、ヒーター13を使い、300
℃で30分以上加熱することによりスペーサー1が硬化
するのである。
FIG. 25 is a view showing a state of the casting method, in which a polyimide varnish (trade name: pyre-ML / IS.
T [stock]), and a cock 34 for controlling the flow of the polyimide varnish into the mold 17. In such a configuration, the cock 34 is opened, and the polyimide varnish is injected from the tank 33 into the mold 17. The injected polyimide varnish enters the cavity 20 through the injection hole 21-1 (not shown) of the injection plate 21. Next, as shown in FIG. 26A, the inside of the processing chamber 35 is evacuated to a negative pressure by a vacuum pump 36. By doing so, air bubbles in the polyimide varnish are removed, and at the same time, every corner of the cavity 20 is filled with the polyimide varnish. After the air bubbles are sufficiently removed in this manner, the heater 13 is
By heating at 30 ° C. for 30 minutes or more, the spacer 1 is cured.

【0076】次いで、金型内のポリイミドワニスが冷却
し硬化した後に、図26(B)に示すように、アーム1
8及び19が下から上がってきて、成形品1をキャビテ
ィー20からはずす。そして、図26(C)に示すよう
に、アーム18が更に上がることで、成形品1は注入板
21によって切り離され、ワニススペーサー1が完成す
るのである。
Next, after the polyimide varnish in the mold is cooled and hardened, as shown in FIG.
8 and 19 come up from below and remove the molded article 1 from the cavity 20. Then, as shown in FIG. 26 (C), when the arm 18 is further raised, the molded product 1 is cut off by the injection plate 21, and the varnish spacer 1 is completed.

【0077】最後に、アーム19軸内部の吸引が停止さ
れ、スペーサーが回収されるのである。例えばこのよう
な工程を経て製造されたスペーサーのサイズはリブの幅
が50μm、リブの高さは1mm、リブの縦のピッチは
4.6mm、横のピッチは9.6mmであり、図9に示
す様な田の字のスペーサーを得ることができる。
Finally, the suction inside the arm 19 is stopped, and the spacer is recovered. For example, the size of the spacer manufactured through such a process has a rib width of 50 μm, a rib height of 1 mm, a vertical pitch of the rib of 4.6 mm, and a horizontal pitch of 9.6 mm. As shown in the figure, a cross-shaped spacer can be obtained.

【0078】このような注型法による製造方法を行うこ
とで、スペーサーのリブがより薄く、高さの高い物が容
易に多量に生産されるようになった。またポリイミドワ
ニスの熱変形温度は400℃で、表示装置の製造過程で
加熱される温度に十分耐えうる効果もある。更には、従
来は、切削加工によって一つ一つリブの基体部分を除去
していたが、割型から製品をはずす一連の工程の中で、
分離することが可能になった。その上、この様は方法で
製造された自立スペーサーを表面伝導型電子放出素子等
の冷陰極型電子放出素子を用いた表示装置に使用するこ
とで、ハンドリングが楽になり、組み立て性能が格段に
向上するという効果も出てくる。その結果、工程の短縮
化、製造コストのダウンが可能になるという効果も発生
した。
By performing such a manufacturing method by the casting method, the ribs of the spacer are thinner and the height of the spacer is easily produced in large quantities. In addition, the polyimide varnish has a heat deformation temperature of 400 ° C., and has an effect of sufficiently withstanding a temperature heated in a process of manufacturing a display device. Furthermore, conventionally, the base part of each rib was removed one by one by cutting, but in a series of steps of removing the product from the split mold,
It became possible to separate. In addition, by using the self-supporting spacer manufactured by this method for display devices using cold cathode type electron-emitting devices such as surface conduction type electron-emitting devices, handling becomes easier and assembly performance is significantly improved. The effect of doing it also comes out. As a result, there is an effect that the process can be shortened and the manufacturing cost can be reduced.

【0079】また、スペーサーの材料としてポリベンゾ
イミダゾールワニス(商品名 PBI MR Solu
tion/ヘキストインダストリー[株])を用いても
よい。この場合、熱分解温度が580℃とポリイミドよ
り高く、耐熱性が向上するという効果もある。
As a material for the spacer, polybenzimidazole varnish (trade name: PBI MR Solu)
Tion / Hoechst Industry [Ltd.]) may be used. In this case, the thermal decomposition temperature is 580 ° C., which is higher than that of polyimide, and there is also an effect that heat resistance is improved.

【0080】さらに、ポリイミドワニスやポリベンゾイ
ミダゾールワニスの真空における、放出ガスレートは1
-7torrl/cm2 sec以下で非常に小さく、表
示装置の寿命を伸ばす効果も認められた。 (実施形態4)図28は本実施形態に用いた表示パネル
の斜視図であり、図27に示した形状のスペーサーを用
いた。又、内部構造を示すためにパネルの一部を切り欠
いて示している。なお、図28に示したスペーサーの形
状を除くパネルの構成は実施形態1の図3に示したもの
と同じなので、同一構成部材については同一符号を付し
て重複する説明を省略する。また、各構成部材の作製方
法も実施形態1と同じなので重複説明を省略する。図2
8の1′はスペーサーを示している。
Further, the outgassing rate of polyimide varnish or polybenzimidazole varnish in vacuum is 1
It was very small at 0 -7 torr / cm 2 sec or less, and an effect of extending the life of the display device was also recognized. (Embodiment 4) FIG. 28 is a perspective view of a display panel used in the present embodiment, using a spacer having the shape shown in FIG. Also, the panel is partially cut away to show the internal structure. Since the configuration of the panel except for the shape of the spacer shown in FIG. 28 is the same as that shown in FIG. 3 of the first embodiment, the same components are denoted by the same reference numerals and redundant description will be omitted. Also, the manufacturing method of each constituent member is the same as that of the first embodiment, and thus the duplicated description is omitted. FIG.
1 'of 8 shows a spacer.

【0081】図29(A)は図28のA−A′の断面模
式図である。スペーサー1′はフリットガラス等の接合
材(不図示)を介して上配線4−1およびフェースプレ
ート2と接続し、フェースプレート2とリアプレート5
が受ける大気圧を支えている。4−1−1は上配線電極
である。また、図29(B)は図28のB−B′の断面
模式図であり、スペーサー1′は下配線4−1の上に配
置されている。
FIG. 29A is a schematic sectional view taken along the line AA 'of FIG. The spacer 1 'is connected to the upper wiring 4-1 and the face plate 2 via a bonding material (not shown) such as frit glass, and the face plate 2 and the rear plate 5 are connected.
Supports the atmospheric pressure it receives. 4-1-1 is an upper wiring electrode. FIG. 29B is a schematic cross-sectional view taken along the line BB 'of FIG. 28, and the spacer 1' is disposed on the lower wiring 4-1.

【0082】なお、本実施形態に用いたスペーサーはス
ペーサーの形状が異なることを除き実施形態1〜3で説
明した製造装置、製造方法、スペーサー材料と同様なも
のを用いて作製することができる。ここでは、製造装置
及び製造方法に係わる図面を示して重複する説明を省略
する。
The spacer used in this embodiment can be manufactured using the same apparatus, manufacturing method, and spacer material as those described in Embodiments 1 to 3 except that the shape of the spacer is different. Here, the drawings relating to the manufacturing apparatus and the manufacturing method are shown, and redundant description is omitted.

【0083】図30は実際の横型射出成形機の様子を示
す図、図31は射出成形の工程を示す図、図32は作製
されたスペーサー、図33は注入板を示す図である。ス
ペーサー材料は図33の注入板21の注入穴21−1を
通り、キャビティー20に導かれる。注入穴21−1は
下が直径200〜300μm、上が50〜100μmの
テーパー状になっている。
FIG. 30 is a view showing an actual horizontal injection molding machine, FIG. 31 is a view showing an injection molding process, FIG. 32 is a view showing a manufactured spacer, and FIG. 33 is a view showing an injection plate. The spacer material is guided to the cavity 20 through the injection hole 21-1 of the injection plate 21 in FIG. The injection hole 21-1 is tapered with a diameter of 200 to 300 μm at the bottom and 50 to 100 μm at the top.

【0084】また、図34〜図39は圧縮成形法を示す
図、図40〜図46はダイレクトホーミング法を示す
図、図47,図48は注入型法を示す図である。
FIGS. 34 to 39 show a compression molding method, FIGS. 40 to 46 show a direct homing method, and FIGS. 47 and 48 show an injection mold method.

【0085】[0085]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のスペーサ
ーを用いることで、スペーサーがそれ自身で自立し、倒
れたり折れたりすることなく、製造可能でかつ、耐熱性
があり、放出ガス量が少なく、ギャップ高さも大きく取
れ、強度があり、量産性に優れたコストの安いスペーサ
ーの生産が可能になる。
As described above, by using the spacer of the present invention, the spacer can stand alone, can be manufactured without falling down or bend, has heat resistance, and has a reduced amount of released gas. It is possible to produce spacers that are small, have a large gap height, are strong, have excellent mass productivity, and are inexpensive.

【0086】特に本発明のスペーサーを画像形成装置に
用いることで以下のような効果がある。
In particular, the use of the spacer of the present invention in an image forming apparatus has the following effects.

【0087】1)スペーサー材として ・材料に、ポリイミド、ポリベンゾイミダゾールを使う
ことで、耐熱性が得られるので、フリット工程や、ベー
キングの工程に十分耐えられるようになった。
1) As a spacer material: Since polyimide and polybenzimidazole are used as the material, heat resistance can be obtained, so that the material can sufficiently withstand the frit step and the baking step.

【0088】・ポリイミドやポリベンゾイミダゾールの
真空における、放出ガスレートは10-7torrl/c
2 sec以下で非常に小さく、表示装置の寿命を伸ば
す効果も認められた。
The release gas rate of polyimide or polybenzimidazole in vacuum is 10 -7 torr / c
It was very small at m 2 sec or less, and an effect of extending the life of the display device was also recognized.

【0089】2)製法として モールド法による製造方法を行うことで、スペーサーの
リブが薄く、高さの高い物が脱型の工程も含めて容易に
安いコストで多量に生産されるようになった。
2) As a manufacturing method, by performing a manufacturing method by a molding method, a large amount of thin and high spacers can be easily produced at a low cost including a demolding step. .

【0090】3)表示装置として 表示装置としては、この様な方法で製造された自立スペ
ーサーを表面伝導型電子放出素子等の冷陰極型電子放出
素子を用いた表示装置に使用することで、ハンドリング
が楽になり、組み立て性能が格段に向上するという効果
も出てくる。その結果、工程の短縮化、製造コストのダ
ウンが可能になるという効果も発生した。
3) As a display device As a display device, the self-supporting spacer manufactured by such a method is used for a display device using a cold cathode type electron-emitting device such as a surface conduction type electron-emitting device. And the effect that the assembly performance is remarkably improved. As a result, there is an effect that the process can be shortened and the manufacturing cost can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態1の自立スペーサーのLとd
を示す斜視図である。
FIG. 1 shows L and d of a self-supporting spacer according to Embodiment 1 of the present invention.
FIG.

【図2】本発明の実施形態1のLとdの関係を示すグラ
フである。
FIG. 2 is a graph showing a relationship between L and d according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施形態1の表示装置を示す斜視図で
ある。
FIG. 3 is a perspective view showing a display device according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施形態1の表示装置の構成を示す断
面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a configuration of the display device according to the first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施形態1の蛍光体の構成を示す図で
ある。
FIG. 5 is a diagram illustrating a configuration of a phosphor according to the first embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施形態1のスペーサーの構成を示す
図である。
FIG. 6 is a diagram illustrating a configuration of a spacer according to the first embodiment of the present invention.

【図7】本発明の実施形態1の射出成形装置を示す断面
図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating the injection molding apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図8】本発明の実施形態1の射出成形装置を示す断面
図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating the injection molding apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図9】本発明の実施形態1の射出成形装置を説明する
ための図である。
FIG. 9 is a view for explaining the injection molding apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図10】本発明の実施形態1の射出成形装置を説明す
るための図である。
FIG. 10 is a view for explaining the injection molding apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図11】本発明の実施形態2の圧縮成形法を示す断面
図である。
FIG. 11 is a sectional view illustrating a compression molding method according to a second embodiment of the present invention.

【図12】本発明の実施形態2の圧縮成形法を示す断面
図である。
FIG. 12 is a cross-sectional view illustrating a compression molding method according to a second embodiment of the present invention.

【図13】本発明の実施形態2の圧縮成形法を示す断面
図である。
FIG. 13 is a sectional view illustrating a compression molding method according to a second embodiment of the present invention.

【図14】本発明の実施形態2の圧縮成形法を示す断面
図である。
FIG. 14 is a sectional view illustrating a compression molding method according to a second embodiment of the present invention.

【図15】本発明の実施形態2の圧縮成形法を示す断面
図である。
FIG. 15 is a sectional view illustrating a compression molding method according to a second embodiment of the present invention.

【図16】本発明の実施形態2の圧縮成形法を示す断面
図である。
FIG. 16 is a sectional view showing a compression molding method according to a second embodiment of the present invention.

【図17】本発明の実施形態2のダイレクトフォーミン
グ成形法を示す断面図である。
FIG. 17 is a sectional view illustrating a direct forming method according to a second embodiment of the present invention.

【図18】本発明の実施形態2のダイレクトフォーミン
グ成形法を示す断面図である。
FIG. 18 is a sectional view illustrating a direct forming method according to a second embodiment of the present invention.

【図19】本発明の実施形態2のダイレクトフォーミン
グ成形法を示す断面図である。
FIG. 19 is a sectional view illustrating a direct forming method according to a second embodiment of the present invention.

【図20】本発明の実施形態2のダイレクトフォーミン
グ成形法を示す断面図である。
FIG. 20 is a sectional view showing a direct forming method according to a second embodiment of the present invention.

【図21】本発明の実施形態2のダイレクトフォーミン
グ成形法を示す断面図である。
FIG. 21 is a cross-sectional view illustrating a direct forming method according to a second embodiment of the present invention.

【図22】本発明の実施形態2のダイレクトフォーミン
グ成形法を示す断面図である。
FIG. 22 is a sectional view illustrating a direct forming method according to a second embodiment of the present invention.

【図23】本発明の実施形態2のダイレクトフォーミン
グ成形法により作製されたスペーサを示す図である。
FIG. 23 is a view showing a spacer manufactured by the direct forming method according to the second embodiment of the present invention.

【図24】本発明の実施形態2のダイレクトフォーミン
グ成形法に用いる装置を示す図である。
FIG. 24 is a diagram illustrating an apparatus used for a direct forming method according to a second embodiment of the present invention.

【図25】本発明の実施形態3の注型法を示す断面図で
ある。
FIG. 25 is a sectional view showing a casting method according to the third embodiment of the present invention.

【図26】本発明の実施形態3の注型法を示す断面図で
ある。
FIG. 26 is a sectional view showing a casting method according to the third embodiment of the present invention.

【図27】本発明の実施形態4のスペーサーを示す斜視
図である。
FIG. 27 is a perspective view showing a spacer according to Embodiment 4 of the present invention.

【図28】本発明の実施形態4の表示装置を示す斜視図
である。
FIG. 28 is a perspective view illustrating a display device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図29】本発明の実施形態4の表示装置の構成を示す
断面図である。
FIG. 29 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a display device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図30】本発明の実施形態4の射出成形装置を示す断
面図である。
FIG. 30 is a sectional view showing an injection molding apparatus according to a fourth embodiment of the present invention.

【図31】本発明の実施形態4の射出成形装置を示す断
面図である。
FIG. 31 is a sectional view showing an injection molding apparatus according to Embodiment 4 of the present invention.

【図32】本発明のスペーサーを示す図である。FIG. 32 is a view showing a spacer of the present invention.

【図33】本発明の実施形態4の射出成形装置を説明す
るための図である。
FIG. 33 is a view illustrating an injection molding apparatus according to a fourth embodiment of the present invention.

【図34】本発明の実施形態4の圧縮成形法を示す断面
図である。
FIG. 34 is a cross-sectional view illustrating a compression molding method according to Embodiment 4 of the present invention.

【図35】本発明の実施形態4の圧縮成形法を示す断面
図である。
FIG. 35 is a cross-sectional view showing a compression molding method according to Embodiment 4 of the present invention.

【図36】本発明の実施形態4の圧縮成形法を示す断面
図である。
FIG. 36 is a sectional view showing a compression molding method according to a fourth embodiment of the present invention.

【図37】本発明の実施形態4の圧縮成形法を示す断面
図である。
FIG. 37 is a cross-sectional view illustrating a compression molding method according to Embodiment 4 of the present invention.

【図38】本発明の実施形態4の圧縮成形法を示す断面
図である。
FIG. 38 is a cross-sectional view showing a compression molding method according to Embodiment 4 of the present invention.

【図39】本発明の実施形態4の圧縮成形法を示す断面
図である。
FIG. 39 is a cross-sectional view showing a compression molding method according to Embodiment 4 of the present invention.

【図40】本発明の実施形態2のダイレクトフォーミン
グ成形法を示す断面図である。
FIG. 40 is a cross-sectional view showing a direct forming method according to the second embodiment of the present invention.

【図41】本発明の実施形態2のダイレクトフォーミン
グ成形法を示す断面図である。
FIG. 41 is a cross-sectional view showing a direct forming method according to the second embodiment of the present invention.

【図42】本発明の実施形態2のダイレクトフォーミン
グ成形法を示す断面図である。
FIG. 42 is a cross-sectional view showing the direct forming method according to the second embodiment of the present invention.

【図43】本発明の実施形態2のダイレクトフォーミン
グ成形法を示す断面図である。
FIG. 43 is a cross-sectional view showing a direct forming method according to the second embodiment of the present invention.

【図44】本発明の実施形態2のダイレクトフォーミン
グ成形法を示す断面図である。
FIG. 44 is a cross-sectional view showing a direct forming method according to the second embodiment of the present invention.

【図45】本発明の実施形態2のダイレクトフォーミン
グ成形法を示す断面図である。
FIG. 45 is a cross-sectional view showing the direct forming method according to the second embodiment of the present invention.

【図46】本発明の実施形態2のダイレクトフォーミン
グ成形法に用いる装置を示す図である。
FIG. 46 is a diagram showing an apparatus used for the direct forming method according to the second embodiment of the present invention.

【図47】本発明の実施形態3の注型法を示す断面図で
ある。
FIG. 47 is a sectional view showing a casting method according to the third embodiment of the present invention.

【図48】本発明の実施形態3の注型法を示す断面図で
ある。
FIG. 48 is a sectional view showing a casting method according to the third embodiment of the present invention.

【図49】従来例の表示装置の構成を示す図である。FIG. 49 is a diagram illustrating a configuration of a conventional display device.

【図50】従来例の表示装置の構成を示す図である。FIG. 50 is a diagram showing a configuration of a display device of a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 スペーサー 2 フェースプレート 3 表面伝導型電子放出素子 5 リアプレート 6 側壁 7 基板 9 ホッパー 10 プランジャー 11 材料 12 トーピードー 13 ヒーター 14 シリンダー 15 ノズル 16 スプルー 17 金型 18,19 アーム 20 キャビティー 21 注入板 22 シュー 23 吸引ノズル 24 メッシュ 25 トレイ 27 加圧板 28 加圧・加熱容器 30 グラファイト 31 蓋 33 材料タンク 35 チャンバー 36 真空ポンプ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Spacer 2 Face plate 3 Surface conduction type electron-emitting device 5 Rear plate 6 Side wall 7 Substrate 9 Hopper 10 Plunger 11 Material 12 Topido 13 Heater 14 Cylinder 15 Nozzle 16 Sprue 17 Mold 18 and 19 Arm 20 Cavity 21 Injection plate 22 Shoe 23 suction nozzle 24 mesh 25 tray 27 pressurizing plate 28 pressurizing / heating container 30 graphite 31 lid 33 material tank 35 chamber 36 vacuum pump

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 対向する基板間の間隔を保持するスペー
サーにおいて、 高さをdとし、その上部から見た形状を囲む、四角が直
角な四角形の面積が最小になるときの縦辺の長さをL
1、横辺の長さをL2としたとき、 L1>L2の場合はL=L2、L1<L2の場合はL=
L1、L1=L2の場合はL=L1=L2としたとき
に、d≦Lの条件を満たすとともに、 モールド法で製造されてなることを特徴とするスペーサ
ー。
1. A spacer for maintaining a space between opposing substrates, wherein a height is d, and a length of a vertical side surrounding a shape viewed from the top thereof when a square of a square having a right angle is a minimum. To L
1, when the length of the horizontal side is L2, L = L2 when L1> L2, and L =
When L1 and L1 = L2, when L = L1 = L2, the spacer satisfies the condition of d ≦ L and is manufactured by a molding method.
【請求項2】 対向する基板間の間隔を保持するスペー
サーにおいて、 断面形状の上底の長さをa、下底の長さをbとしたとき
に0≦a≦b(ただし、a=b=0の場合を除く)の条
件を満たし、モールド法で製造されてなることを特徴と
するスペーサー。
2. A spacer for maintaining an interval between opposing substrates, wherein the length of the upper base of the sectional shape is a, and the length of the lower base is b, 0 ≦ a ≦ b (where a = b = 0), and manufactured by a molding method.
【請求項3】 請求項1又は請求項2に記載のスペーサ
ーは、ポリイミド又はポリベンゾイミダゾールからなる
ことを特徴とするスペーサー。
3. The spacer according to claim 1, wherein the spacer is made of polyimide or polybenzimidazole.
【請求項4】 請求項3に記載のスペーサーは、射出成
形法で製造されてなることを特徴とするスペーサー。
4. The spacer according to claim 3, wherein the spacer is manufactured by an injection molding method.
【請求項5】 請求項3に記載のスペーサーは、圧縮成
形法で製造されてなることを特徴とするスペーサー。
5. The spacer according to claim 3, wherein the spacer is manufactured by a compression molding method.
【請求項6】 請求項3に記載のスペーサーは、注型法
で製造されてなることを特徴とするスペーサー。
6. The spacer according to claim 3, wherein the spacer is manufactured by a casting method.
【請求項7】 複数の電子放出素子を形成した基板と画
像形成部材を形成した基板とをスペーサーを介して対向
させた構造を有する画像形成装置において、 前記スペーサーは請求項1〜請求項6のいずれかに記載
のスペーサーであることを特徴とする画像形成装置。
7. An image forming apparatus having a structure in which a substrate on which a plurality of electron-emitting devices are formed and a substrate on which an image forming member is formed are opposed to each other with a spacer interposed therebetween. An image forming apparatus, comprising the spacer according to any one of the above.
【請求項8】 前記電子放出素子が表面伝導型電子放出
素子であることを特徴とする請求項7に記載の画像形成
装置。
8. The image forming apparatus according to claim 7, wherein said electron-emitting device is a surface conduction electron-emitting device.
JP7738297A 1997-03-28 1997-03-28 Spacer and image forming apparatus Pending JPH10275575A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001084928A (en) * 1999-08-20 2001-03-30 Samsung Sdi Co Ltd Flat panel display

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