JPH10275767A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JPH10275767A JPH10275767A JP9095283A JP9528397A JPH10275767A JP H10275767 A JPH10275767 A JP H10275767A JP 9095283 A JP9095283 A JP 9095283A JP 9528397 A JP9528397 A JP 9528397A JP H10275767 A JPH10275767 A JP H10275767A
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- exposure apparatus
- compartment
- chamber
- main body
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
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- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70883—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of optical system
- G03F7/70891—Temperature
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 露光装置本体の一部の熱源によるチャンバ内
の影響を最小限にするとともに、空調部の音に起因する
露光装置本体の振動を抑制する。 【解決手段】 チャンバ12内は、隔壁42によって主
区画室44と副区画室46とに区分けされ、副区画室4
6内には熱源である水銀ランプ16aを含む照明系16
の一部が収納され、主区画室44内にはそれ以外の露光
装置本体14の主要部が収納されている。隔壁42は、
高断熱性で音の透過性が良好な材料で形成されているた
め、副区画室46内の水銀ランプ16aで発生する熱が
主区画室44側に影響を与えることが無くなり、また、
送風機58から発生する音により圧力変動がチャンバ1
2内で起こっても、主区画室44と副区画室46とで一
様に変動するので、露光装置本体14の部分的な振動の
発生が無くなる。
の影響を最小限にするとともに、空調部の音に起因する
露光装置本体の振動を抑制する。 【解決手段】 チャンバ12内は、隔壁42によって主
区画室44と副区画室46とに区分けされ、副区画室4
6内には熱源である水銀ランプ16aを含む照明系16
の一部が収納され、主区画室44内にはそれ以外の露光
装置本体14の主要部が収納されている。隔壁42は、
高断熱性で音の透過性が良好な材料で形成されているた
め、副区画室46内の水銀ランプ16aで発生する熱が
主区画室44側に影響を与えることが無くなり、また、
送風機58から発生する音により圧力変動がチャンバ1
2内で起こっても、主区画室44と副区画室46とで一
様に変動するので、露光装置本体14の部分的な振動の
発生が無くなる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、露光装置に係り、
さらに詳しくは、半導体素子、液晶表示素子、撮像素子
(CCD等)、あるいは薄膜磁気ヘッド等をフォトリソ
グラフィ工程で製造する際に用いられる露光装置に関す
る。
さらに詳しくは、半導体素子、液晶表示素子、撮像素子
(CCD等)、あるいは薄膜磁気ヘッド等をフォトリソ
グラフィ工程で製造する際に用いられる露光装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来より、半導体素子や液晶表示素子等
をフォトリソグラフィ工程で製造する際には、マスク又
はレチクル(以下、「レチクル」と総称する)のパター
ンをフォトレジスト等の感光材料が塗布されたウエハ又
はガラスプレート等(以下、「ウエハ」と総称する)上
の各ショット領域に露光転写する露光装置(ステッパ
等)が使用されている。
をフォトリソグラフィ工程で製造する際には、マスク又
はレチクル(以下、「レチクル」と総称する)のパター
ンをフォトレジスト等の感光材料が塗布されたウエハ又
はガラスプレート等(以下、「ウエハ」と総称する)上
の各ショット領域に露光転写する露光装置(ステッパ
等)が使用されている。
【0003】近年、半導体素子の高集積化に伴いパター
ンの微細化が進むにつれ、これらの露光装置において
は、結像性能や回路素子のレイヤ(層)間の重ね合わせ
精度として非常に高度なものが要求されるようになって
来ている。
ンの微細化が進むにつれ、これらの露光装置において
は、結像性能や回路素子のレイヤ(層)間の重ね合わせ
精度として非常に高度なものが要求されるようになって
来ている。
【0004】通常、この種の露光装置、特に集積度の高
い極超LSI(ULSI: Ultra Large Scale Integra
tion)や高密度の液晶表示素子等を製造する際に使用さ
れる投影露光装置では、装置全体の温度、湿度を高い精
度で維持し、クリーン度を高く保つ必要がある。このた
め、この種の露光装置では、図2に示されるように、露
光を行なう露光装置本体74全体を環境チャンバ(以
下、「チャンバ」という)72内に設置するのが通常で
ある。かかるチャンバ72は、内部のクリーン度を保つ
ため、クリーン度の劣る空気が外部から進入しないよう
に、全体的に外部に対して陽圧に保つ必要があり、その
ため、適当な剛性を付与する必要性から壁面は通常1〜
2mm程度の鋼板ないしアルミ系合金の板で構成され
る。
い極超LSI(ULSI: Ultra Large Scale Integra
tion)や高密度の液晶表示素子等を製造する際に使用さ
れる投影露光装置では、装置全体の温度、湿度を高い精
度で維持し、クリーン度を高く保つ必要がある。このた
め、この種の露光装置では、図2に示されるように、露
光を行なう露光装置本体74全体を環境チャンバ(以
下、「チャンバ」という)72内に設置するのが通常で
ある。かかるチャンバ72は、内部のクリーン度を保つ
ため、クリーン度の劣る空気が外部から進入しないよう
に、全体的に外部に対して陽圧に保つ必要があり、その
ため、適当な剛性を付与する必要性から壁面は通常1〜
2mm程度の鋼板ないしアルミ系合金の板で構成され
る。
【0005】ところで、この種の露光装置では、露光光
源として、図2に示されるように、水銀ランプ等の大量
の電力を消費する光源76aが通常用いられ、これらの
光源76aが装置全体の中で最大の熱源となっている。
このため、照明系76のカバーで光源76aを覆い、か
つカバーの内部を排気するのが普通である。
源として、図2に示されるように、水銀ランプ等の大量
の電力を消費する光源76aが通常用いられ、これらの
光源76aが装置全体の中で最大の熱源となっている。
このため、照明系76のカバーで光源76aを覆い、か
つカバーの内部を排気するのが普通である。
【0006】なお、図2において、露光装置本体74
は、光源76aからの露光光でレチクルRを照明する照
明系76、レチクルRのパターンの像をウエハW上に投
影する投影光学系PL、ウエハWを保持してY、X、Z
方向にそれぞれ移動するYステージ82、Xステージ8
4、Zステージ86等を備えている。
は、光源76aからの露光光でレチクルRを照明する照
明系76、レチクルRのパターンの像をウエハW上に投
影する投影光学系PL、ウエハWを保持してY、X、Z
方向にそれぞれ移動するYステージ82、Xステージ8
4、Zステージ86等を備えている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上記の如く、従来の投
影露光装置にあっては、図2に示されるように、光源7
6a全体を環境チャンバ72の内部に設置し、光源76
aを照明系76のカバーで覆って内部の空気を排気する
ことにより、光源76aで発生する熱の影響をカバー外
(すなわちチャンバ72内)に及ぼさないようにしてい
たが、実際には、熱の影響を完全に排除することは困難
であり、熱の影響を完全に遮断するために上記カバー内
の排気と併せて液体冷却なども必要となり、これが大幅
なコスト増加を招くという不都合があった。
影露光装置にあっては、図2に示されるように、光源7
6a全体を環境チャンバ72の内部に設置し、光源76
aを照明系76のカバーで覆って内部の空気を排気する
ことにより、光源76aで発生する熱の影響をカバー外
(すなわちチャンバ72内)に及ぼさないようにしてい
たが、実際には、熱の影響を完全に排除することは困難
であり、熱の影響を完全に遮断するために上記カバー内
の排気と併せて液体冷却なども必要となり、これが大幅
なコスト増加を招くという不都合があった。
【0008】かかる不都合を改善するための手段とし
て、図3に示されるように、光源76aが収納された照
明系76を本体コラム90上に支持部材92を介して搭
載したまま、光源76aを含む照明系76の一部分のみ
を環境チャンバ72の外に迫り出すような形で、チャン
バ72外に出すことにより、光源76aからの熱の影響
がチャンバ72内に及ばないようにすることも考えられ
る。
て、図3に示されるように、光源76aが収納された照
明系76を本体コラム90上に支持部材92を介して搭
載したまま、光源76aを含む照明系76の一部分のみ
を環境チャンバ72の外に迫り出すような形で、チャン
バ72外に出すことにより、光源76aからの熱の影響
がチャンバ72内に及ばないようにすることも考えられ
る。
【0009】しかしながら、このような場合には、チャ
ンバ72に併設された不図示の機械室内で駆動される送
風機の送風用ファン等で発生する音が、機械室側からダ
クト102、プレナム96及びULPAフィルタ(Ultr
a Low Penetration Air-filter)98を介してチャンバ
72内に送り込まれる空気を介してチャンバ72内に伝
達され、チャンバ72内では上記ファンで発生する音を
主要因とする圧力変動が生じるが、チャンバ72外にあ
る光源76aを含む部分はこの圧力変動が生じないた
め、結果的にチャンバ内外の圧力差により照明系76に
大きな加振力が作用し、この加振力により照明系76を
支持する支持部材92を介してコラム90を含む露光装
置本体74が大きく振動するようになるという不都合が
あった。
ンバ72に併設された不図示の機械室内で駆動される送
風機の送風用ファン等で発生する音が、機械室側からダ
クト102、プレナム96及びULPAフィルタ(Ultr
a Low Penetration Air-filter)98を介してチャンバ
72内に送り込まれる空気を介してチャンバ72内に伝
達され、チャンバ72内では上記ファンで発生する音を
主要因とする圧力変動が生じるが、チャンバ72外にあ
る光源76aを含む部分はこの圧力変動が生じないた
め、結果的にチャンバ内外の圧力差により照明系76に
大きな加振力が作用し、この加振力により照明系76を
支持する支持部材92を介してコラム90を含む露光装
置本体74が大きく振動するようになるという不都合が
あった。
【0010】本発明は、かかる事情の下になされたもの
で、請求項1に記載の発明の目的は、露光装置本体の一
部の熱源によるチャンバ内の影響を最小限にするととも
に、空調部の送風用ファン等の音に起因する露光装置本
体の振動を抑制することができる露光装置を提供するこ
とにある。
で、請求項1に記載の発明の目的は、露光装置本体の一
部の熱源によるチャンバ内の影響を最小限にするととも
に、空調部の送風用ファン等の音に起因する露光装置本
体の振動を抑制することができる露光装置を提供するこ
とにある。
【0011】また、請求項2に記載の発明の目的は、露
光装置本体の照明用光源による熱の影響を排除しつつ、
空調部の送風用ファン等の音に起因する露光装置本体の
振動を防止することができる露光装置を提供することに
ある。
光装置本体の照明用光源による熱の影響を排除しつつ、
空調部の送風用ファン等の音に起因する露光装置本体の
振動を防止することができる露光装置を提供することに
ある。
【0012】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、チャンバ(12)内に収納された露光装置本体(1
4)と、前記チャンバ(12)内を空調する空調部(5
2、54、56、58)とを備えた露光装置において、
前記チャンバ(12)内を、前記露光装置本体(14)
の主要部を格納する主区画室(44)と、該主区画室
(44)に接する少なくとも1つの副区画室(46)と
に、断熱性が高く音の透過性が良好な隔壁(42)を介
して区分けし、前記副区画室(46)に露光装置本体
(14)の一部の熱源を含む部分を収納したことを特徴
とする。
は、チャンバ(12)内に収納された露光装置本体(1
4)と、前記チャンバ(12)内を空調する空調部(5
2、54、56、58)とを備えた露光装置において、
前記チャンバ(12)内を、前記露光装置本体(14)
の主要部を格納する主区画室(44)と、該主区画室
(44)に接する少なくとも1つの副区画室(46)と
に、断熱性が高く音の透過性が良好な隔壁(42)を介
して区分けし、前記副区画室(46)に露光装置本体
(14)の一部の熱源を含む部分を収納したことを特徴
とする。
【0013】これによれば、チャンバ内が、断熱性が高
く音の透過性が良好な隔壁を介して、主区画室と副区画
室とに区分けされ、主区画室には露光装置本体の主要部
が格納され、副区画室には露光装置本体の一部の熱源を
含む部分が収納されていることから、隔壁の断熱作用に
より主区画室内の露光装置本体の主要部に熱源の熱の影
響が殆ど及ばないようになるとともに、隔壁は音の透過
性が良好なため、空調部内の送風用ファン等で発生した
音による圧力変動が主区画室と副区画室とで一様とな
り、音による露光装置本体の振動の発生が抑制される。
従って、露光装置本体の一部の熱源によるチャンバ内の
影響を最小限にするとともに、空調部の送風用ファン等
の音に起因する露光装置本体の振動を抑制することがで
きる
く音の透過性が良好な隔壁を介して、主区画室と副区画
室とに区分けされ、主区画室には露光装置本体の主要部
が格納され、副区画室には露光装置本体の一部の熱源を
含む部分が収納されていることから、隔壁の断熱作用に
より主区画室内の露光装置本体の主要部に熱源の熱の影
響が殆ど及ばないようになるとともに、隔壁は音の透過
性が良好なため、空調部内の送風用ファン等で発生した
音による圧力変動が主区画室と副区画室とで一様とな
り、音による露光装置本体の振動の発生が抑制される。
従って、露光装置本体の一部の熱源によるチャンバ内の
影響を最小限にするとともに、空調部の送風用ファン等
の音に起因する露光装置本体の振動を抑制することがで
きる
【0014】この場合において、副区画室に収納される
部分は露光装置本体の一部の熱源を含む部分であれば、
熱源の種類は特に限定されないが、請求項2に記載の発
明の如く、露光装置本体(14)の一部の熱源を含む部
分は、露光装置の照明用光源(16a)を含む照明系
(16)の一部であっても良い。かかる場合には、主区
画室には露光装置本体の主要部が格納され、副区画室に
は露光装置の中で最も発熱量の大きな熱源である照明用
光源を含む照明系の一部が収納されていることから、隔
壁の断熱作用により主区画室内の露光装置本体の主要部
に照明用光源の熱の影響が殆ど及ばないようになるとと
もに、隔壁の作用により音による露光装置本体の振動の
発生が抑制される。従って、露光装置本体の照明用光源
による熱の影響を排除しつつ、空調部の送風用ファン等
の音に起因する露光装置本体の振動を防止することがで
きる。
部分は露光装置本体の一部の熱源を含む部分であれば、
熱源の種類は特に限定されないが、請求項2に記載の発
明の如く、露光装置本体(14)の一部の熱源を含む部
分は、露光装置の照明用光源(16a)を含む照明系
(16)の一部であっても良い。かかる場合には、主区
画室には露光装置本体の主要部が格納され、副区画室に
は露光装置の中で最も発熱量の大きな熱源である照明用
光源を含む照明系の一部が収納されていることから、隔
壁の断熱作用により主区画室内の露光装置本体の主要部
に照明用光源の熱の影響が殆ど及ばないようになるとと
もに、隔壁の作用により音による露光装置本体の振動の
発生が抑制される。従って、露光装置本体の照明用光源
による熱の影響を排除しつつ、空調部の送風用ファン等
の音に起因する露光装置本体の振動を防止することがで
きる。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図1
に基づいて説明する。
に基づいて説明する。
【0016】図1には、一実施形態に係る露光装置10
の構成が概略的に示されている。この露光装置10は、
露光装置本体14が収納されたチャンバ12と、空調部
(これについては、後に詳述する)が設けられた機械室
50とを備えている。
の構成が概略的に示されている。この露光装置10は、
露光装置本体14が収納されたチャンバ12と、空調部
(これについては、後に詳述する)が設けられた機械室
50とを備えている。
【0017】前記チャンバ12の壁面は、前述の如く、
外部に対して陽圧に保つ必要から適当な剛性を付与する
ため、1〜2mm程度の鋼板ないしアルミ系合金の板で
構成されている。本実施形態では、このチャンバ12内
が、隔壁42を介して主区画室44と副区画室46とに
区分けされている。具体的には、この隔壁42は、図1
に示されるように、露光装置本体14の最大の熱源であ
る照明用光源としての水銀ランプ16aを含む照明系1
6の一部と、それ以外の露光装置本体の主要部とを区分
けする位置に設置されている。
外部に対して陽圧に保つ必要から適当な剛性を付与する
ため、1〜2mm程度の鋼板ないしアルミ系合金の板で
構成されている。本実施形態では、このチャンバ12内
が、隔壁42を介して主区画室44と副区画室46とに
区分けされている。具体的には、この隔壁42は、図1
に示されるように、露光装置本体14の最大の熱源であ
る照明用光源としての水銀ランプ16aを含む照明系1
6の一部と、それ以外の露光装置本体の主要部とを区分
けする位置に設置されている。
【0018】隔壁42は、高断熱性を有すると共に、音
の透過性が良好な材料を用いて形成されている。通常、
断熱性の高い材料は、遮音性も高くなるのが一般的であ
るが、本実施形態では、両立の難しい高断熱性と音の透
過性とを兼ね備えた材料、例えば、ビニールシートのよ
うな樹脂系の軽量で薄い素材により隔壁42が形成され
ている。このため、この隔壁42により区画された、主
区画室44と副区画室46との相互間には、対流による
熱の影響が及ばず、また、樹脂系の薄い素材は音の透過
性が良好であるため、音による圧力変動は一様に生ずる
ようになっている。なお、隔壁42の断熱性を更に向上
させたい場合には、ビニールシートを二重(三重以上で
あっても良い)にして間に空気層を挟んだり、ビニール
シートの表面にアルミコート等の反射面を形成して輻射
熱を反射させることにより、音の透過性を維持しつつ断
熱効果を一層高めることができる。
の透過性が良好な材料を用いて形成されている。通常、
断熱性の高い材料は、遮音性も高くなるのが一般的であ
るが、本実施形態では、両立の難しい高断熱性と音の透
過性とを兼ね備えた材料、例えば、ビニールシートのよ
うな樹脂系の軽量で薄い素材により隔壁42が形成され
ている。このため、この隔壁42により区画された、主
区画室44と副区画室46との相互間には、対流による
熱の影響が及ばず、また、樹脂系の薄い素材は音の透過
性が良好であるため、音による圧力変動は一様に生ずる
ようになっている。なお、隔壁42の断熱性を更に向上
させたい場合には、ビニールシートを二重(三重以上で
あっても良い)にして間に空気層を挟んだり、ビニール
シートの表面にアルミコート等の反射面を形成して輻射
熱を反射させることにより、音の透過性を維持しつつ断
熱効果を一層高めることができる。
【0019】露光装置本体14は、露光光を発する水銀
ランプ16aを有し、この水銀ランプ16aからの露光
光により不図示の種々の光学素子を介して回路パターン
が形成されたレチクルRを均一に照明する照明系16
と、このレチクルRのパターンをウエハWの露光面に投
影結像する投影光学系PLと、ウエハWのXYZ3軸方
向の位置決めを行なうステージ装置とを備えている。ス
テージ装置は、床面上に防振台34を介して水平に保持
された定盤28上をY方向(図1における紙面直交方
向)に移動可能なYステージ22と、このYステージ2
2上をY方向に直交するX方向(図1における左右方
向)に移動可能なXステージ24と、このXステージ2
4上に搭載されXY平面に直交するZ方向に微小移動可
能なZステージ26とを備えており、このZステージ2
6上に不図示のウエハホルダを介して感光基板としての
ウエハWが吸着保持されている。また、前記投影光学系
PLは、定盤28上に設けられたコラム30を介して支
持されており、このコラム30上に支持部材32を介し
て照明系16が支持されている。
ランプ16aを有し、この水銀ランプ16aからの露光
光により不図示の種々の光学素子を介して回路パターン
が形成されたレチクルRを均一に照明する照明系16
と、このレチクルRのパターンをウエハWの露光面に投
影結像する投影光学系PLと、ウエハWのXYZ3軸方
向の位置決めを行なうステージ装置とを備えている。ス
テージ装置は、床面上に防振台34を介して水平に保持
された定盤28上をY方向(図1における紙面直交方
向)に移動可能なYステージ22と、このYステージ2
2上をY方向に直交するX方向(図1における左右方
向)に移動可能なXステージ24と、このXステージ2
4上に搭載されXY平面に直交するZ方向に微小移動可
能なZステージ26とを備えており、このZステージ2
6上に不図示のウエハホルダを介して感光基板としての
ウエハWが吸着保持されている。また、前記投影光学系
PLは、定盤28上に設けられたコラム30を介して支
持されており、このコラム30上に支持部材32を介し
て照明系16が支持されている。
【0020】ところで、本実施形態の露光装置10で
は、図1に示されるように、露光装置本体14が収納さ
れたチャンバ12と、後述する空調部が設けられた機械
室50とは、ダクト60とリターンダクト62とで接続
されており、機械室50側からダクト60を介してチャ
ンバ12内の主区画室44及び副区画室46に空気が送
り込まれ、この空気が主区画室44及び副区画室46を
矢印の如く通過してリターンダクト62を介して機械室
内に戻り、このような空気の循環により主区画室44及
び副区画室46の内部の温度は高精度(具体的には、目
標設定温度±0.01℃程度)に維持されるとともに、
高いクリーン度が維持されるようになっている。
は、図1に示されるように、露光装置本体14が収納さ
れたチャンバ12と、後述する空調部が設けられた機械
室50とは、ダクト60とリターンダクト62とで接続
されており、機械室50側からダクト60を介してチャ
ンバ12内の主区画室44及び副区画室46に空気が送
り込まれ、この空気が主区画室44及び副区画室46を
矢印の如く通過してリターンダクト62を介して機械室
内に戻り、このような空気の循環により主区画室44及
び副区画室46の内部の温度は高精度(具体的には、目
標設定温度±0.01℃程度)に維持されるとともに、
高いクリーン度が維持されるようになっている。
【0021】これを更に詳述すると、機械室50の内部
には、冷却用熱交換器52、冷却用熱交換器52に冷媒
を供給する冷凍機54、ヒータ56及び送風機58等が
設けられ、これらによって温度調節がなされた空気を供
給する空調部が構成されている。ここで、この空調部の
作用を簡単に説明すると、不図示の空気取り入れ口から
取り込まれた外部空気とともにリターンダクト62を介
してチャンバ12側から回収された空気が、冷却用交換
器52により所定温度まで冷却され、この空気がヒータ
56により制御目標温度まで加熱され、このようにして
目標温度に調整された空気が送風機58によってダクト
を介してチャンバ12内に圧送される。なお、上述した
ヒータ56の発熱量は、不図示の温度センサと温度制御
部とにより予め設定された目標値に基づいてフィードバ
ック制御される。また、上述した送風機58としては、
ターボファン、ラジアルファン等の遠心ファンやシロッ
コファンなど種々の送風機を用いることができる。
には、冷却用熱交換器52、冷却用熱交換器52に冷媒
を供給する冷凍機54、ヒータ56及び送風機58等が
設けられ、これらによって温度調節がなされた空気を供
給する空調部が構成されている。ここで、この空調部の
作用を簡単に説明すると、不図示の空気取り入れ口から
取り込まれた外部空気とともにリターンダクト62を介
してチャンバ12側から回収された空気が、冷却用交換
器52により所定温度まで冷却され、この空気がヒータ
56により制御目標温度まで加熱され、このようにして
目標温度に調整された空気が送風機58によってダクト
を介してチャンバ12内に圧送される。なお、上述した
ヒータ56の発熱量は、不図示の温度センサと温度制御
部とにより予め設定された目標値に基づいてフィードバ
ック制御される。また、上述した送風機58としては、
ターボファン、ラジアルファン等の遠心ファンやシロッ
コファンなど種々の送風機を用いることができる。
【0022】一方、チャンバ12側には、ダクト60に
連通する前室としてのプレナム36と、このプレナム3
6と主区画室44及び副区画室46との境界部分に配置
されたULPAフィルタ(Ultra Low Penetration Air-
filter)38とが設けられている。そして、ダクト60
を介してチャンバ12内へ供給された空気が、プレナム
38内に一端充満した後、その空気中の塵埃がULPA
フィルタ38によって除去される。そして、この温度調
節がなされたクリーンな空気がULPAフィルタ38の
全体からほぼ均一な密度で吹き出され、露光装置本体1
4が収納された主区画室44及び副区画室46内に供給
される。
連通する前室としてのプレナム36と、このプレナム3
6と主区画室44及び副区画室46との境界部分に配置
されたULPAフィルタ(Ultra Low Penetration Air-
filter)38とが設けられている。そして、ダクト60
を介してチャンバ12内へ供給された空気が、プレナム
38内に一端充満した後、その空気中の塵埃がULPA
フィルタ38によって除去される。そして、この温度調
節がなされたクリーンな空気がULPAフィルタ38の
全体からほぼ均一な密度で吹き出され、露光装置本体1
4が収納された主区画室44及び副区画室46内に供給
される。
【0023】そして、この主区画室44及び副区画室4
6内に供給された空気が、リターンダクト62を介して
再び機械室50に戻るという循環経路により、主区画室
44及び副区画室46内が常にクリーンで高精度に温度
制御された状態が保たれるようになっている。このた
め、露光装置本体14では常に高精度な露光が行なわれ
る。
6内に供給された空気が、リターンダクト62を介して
再び機械室50に戻るという循環経路により、主区画室
44及び副区画室46内が常にクリーンで高精度に温度
制御された状態が保たれるようになっている。このた
め、露光装置本体14では常に高精度な露光が行なわれ
る。
【0024】ところで、露光中に露光装置本体14に生
じる振動は、回路パターンの重ね合わせ精度を低下させ
たり、投影像の劣化をもたらすことが分かっている。特
に、露光装置本体14全体の構造が有する固有振動数付
近の振動は、共振現象によって振幅が大きくなるため、
上記した重ね合わせ精度の低下に大きく影響することに
なる。
じる振動は、回路パターンの重ね合わせ精度を低下させ
たり、投影像の劣化をもたらすことが分かっている。特
に、露光装置本体14全体の構造が有する固有振動数付
近の振動は、共振現象によって振幅が大きくなるため、
上記した重ね合わせ精度の低下に大きく影響することに
なる。
【0025】そこで、露光装置本体14の振動を小さく
するために、装置固有の振動数を上げるとともに、
外乱(外部からの加振力)を小さくすることが必要とな
る。上記に関しては、本実施形態の露光装置10で
は、設計の際、装置全体の剛性をなるべく高くして装置
の固有振動数を高くするようにしている。これは、振動
エネルギーが同じであっても、振動の振幅は周波数が低
くなればなる程大きくなって精度の劣化の影響が大きい
からである。また、上記に関しては、露光装置本体1
4の設置床からの加振に対する防振対策として、防振台
34を設置することにより、影響の低減化を図ってい
る。
するために、装置固有の振動数を上げるとともに、
外乱(外部からの加振力)を小さくすることが必要とな
る。上記に関しては、本実施形態の露光装置10で
は、設計の際、装置全体の剛性をなるべく高くして装置
の固有振動数を高くするようにしている。これは、振動
エネルギーが同じであっても、振動の振幅は周波数が低
くなればなる程大きくなって精度の劣化の影響が大きい
からである。また、上記に関しては、露光装置本体1
4の設置床からの加振に対する防振対策として、防振台
34を設置することにより、影響の低減化を図ってい
る。
【0026】また、送風機58によるチャンバ12側へ
の送風は、大きな騒音を伴うが、その騒音の大部分は送
風機58で発生することが分かっている。そして、送風
機58で発生した騒音は、ダクト60を経てプレナム3
6及びULPAフィルタ38を介して送り込まれる空気
を介してチャンバ12内の主区画室44及び副区画室4
6の内部に伝搬されるが、照明系16の水銀ランプ16
aを含む先端部分が収納された副区画室46と、それ以
外の露光装置本体14の主要部が収納された主区画室4
4とを区画する隔壁42は、良好な音の透過性を有して
いることから、隔壁42の存在に関係なく、機械室50
内の送風機58で発生する音により主区画室44と副区
画室46とで一様に圧力変動が起こる。このため、照明
系16の一部が異なった位相で振動するようなおそれが
なく、露光装置本体14の振動を低減することができ
る。
の送風は、大きな騒音を伴うが、その騒音の大部分は送
風機58で発生することが分かっている。そして、送風
機58で発生した騒音は、ダクト60を経てプレナム3
6及びULPAフィルタ38を介して送り込まれる空気
を介してチャンバ12内の主区画室44及び副区画室4
6の内部に伝搬されるが、照明系16の水銀ランプ16
aを含む先端部分が収納された副区画室46と、それ以
外の露光装置本体14の主要部が収納された主区画室4
4とを区画する隔壁42は、良好な音の透過性を有して
いることから、隔壁42の存在に関係なく、機械室50
内の送風機58で発生する音により主区画室44と副区
画室46とで一様に圧力変動が起こる。このため、照明
系16の一部が異なった位相で振動するようなおそれが
なく、露光装置本体14の振動を低減することができ
る。
【0027】一方、隔壁42は、副区画室46と主区画
室44との間を断熱する作用を有することから、水銀ラ
ンプ16aから発生する熱が対流等によって露光装置本
体14側に流れることがなくなり、主区画室46内に不
要な温度ムラが生じる等の不都合を確実に防止すること
ができ、これにより空気揺らぎ等に起因するウエハWの
位置を管理する干渉計(図示省略)の計測誤差の発生、
ひいてはこれによる露光精度の劣化等の発生を防止する
ことができる。
室44との間を断熱する作用を有することから、水銀ラ
ンプ16aから発生する熱が対流等によって露光装置本
体14側に流れることがなくなり、主区画室46内に不
要な温度ムラが生じる等の不都合を確実に防止すること
ができ、これにより空気揺らぎ等に起因するウエハWの
位置を管理する干渉計(図示省略)の計測誤差の発生、
ひいてはこれによる露光精度の劣化等の発生を防止する
ことができる。
【0028】以上説明したように、本実施形態の露光装
置10によると、上述した隔壁42をチャンバ12内に
設けたことから、照明用光源の水銀ランプ16aから発
生する熱の影響を最小限にしながら、送風機58等の音
による振動発生を最小に抑えることができ、これにより
ウエハW上にレチクルRの回路パターンを露光する際の
重ね合わせ精度を向上させることができる。従って、例
えば、サブハーフミクロンの回路線幅の極超LSI(U
LSI)の製造等のように、照明用光源の熱の影響、送
風機の音による振動等が大きな問題となっている場合
に、本発明は大きな効果を発揮する。
置10によると、上述した隔壁42をチャンバ12内に
設けたことから、照明用光源の水銀ランプ16aから発
生する熱の影響を最小限にしながら、送風機58等の音
による振動発生を最小に抑えることができ、これにより
ウエハW上にレチクルRの回路パターンを露光する際の
重ね合わせ精度を向上させることができる。従って、例
えば、サブハーフミクロンの回路線幅の極超LSI(U
LSI)の製造等のように、照明用光源の熱の影響、送
風機の音による振動等が大きな問題となっている場合
に、本発明は大きな効果を発揮する。
【0029】なお、上記実施形態では、副区画室46に
露光装置本体14の照明用光源である水銀ランプ16a
を含む照明系16の一部を収納する場合について説明し
たが、他の熱源を含む露光装置本体16の一部を副区画
室46に収納するようにしても勿論良い。他の熱源とし
ては、例えば、不図示のウエハアライメント用のレーザ
光源などがある。このウエハアライメント用のレーザ光
源は、露光装置本体と一体でなければならないが、大き
な熱源であるため、露光精度上その影響をできるだけ小
さくする配置が望ましいことから、上述した照明用光源
と同様に本発明を好適に適用することができる。
露光装置本体14の照明用光源である水銀ランプ16a
を含む照明系16の一部を収納する場合について説明し
たが、他の熱源を含む露光装置本体16の一部を副区画
室46に収納するようにしても勿論良い。他の熱源とし
ては、例えば、不図示のウエハアライメント用のレーザ
光源などがある。このウエハアライメント用のレーザ光
源は、露光装置本体と一体でなければならないが、大き
な熱源であるため、露光精度上その影響をできるだけ小
さくする配置が望ましいことから、上述した照明用光源
と同様に本発明を好適に適用することができる。
【0030】また、上記実施形態では、図1に示される
ように、隔壁42によって主区画室44と接した副区画
室46を1つ形成したが、副区画室46は1つに限定さ
れるものではなく、主区画室44に対して区分けする必
要のある熱源が複数ある場合は、複数の隔壁を用いてそ
の数や位置を熱源に応じた位置に設置するようにしても
良い。この場合も、上記と同様な効果を得ることができ
る。
ように、隔壁42によって主区画室44と接した副区画
室46を1つ形成したが、副区画室46は1つに限定さ
れるものではなく、主区画室44に対して区分けする必
要のある熱源が複数ある場合は、複数の隔壁を用いてそ
の数や位置を熱源に応じた位置に設置するようにしても
良い。この場合も、上記と同様な効果を得ることができ
る。
【0031】さらに、上記実施形態では、図1に示され
るように、副区画室46に対しても主区画室44と同様
に、ULPAフィルタ38を介して空調部の送風機58
から送られてくる空気によって空調するようにしたが、
副区画室46の空調は必ずしも必須要件ではないため、
隔壁を設置するだけであってもよい。なお、照明系16
では、従来から照明用光源であるランプの熱の排気は行
われているため、副区画室46内で空調を行わなくて
も、蓄熱する心配は無い。
るように、副区画室46に対しても主区画室44と同様
に、ULPAフィルタ38を介して空調部の送風機58
から送られてくる空気によって空調するようにしたが、
副区画室46の空調は必ずしも必須要件ではないため、
隔壁を設置するだけであってもよい。なお、照明系16
では、従来から照明用光源であるランプの熱の排気は行
われているため、副区画室46内で空調を行わなくて
も、蓄熱する心配は無い。
【0032】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1に記載の
発明によれば、露光装置本体の一部の熱源によるチャン
バ内の影響を最小限にするとともに、空調部の送風用フ
ァン等の音に起因する露光装置本体の振動を抑制するこ
とができるという従来にない優れた効果がある。
発明によれば、露光装置本体の一部の熱源によるチャン
バ内の影響を最小限にするとともに、空調部の送風用フ
ァン等の音に起因する露光装置本体の振動を抑制するこ
とができるという従来にない優れた効果がある。
【0033】また、請求項2に記載の発明によれば、露
光装置本体の照明用光源による熱の影響を排除しつつ、
空調部の送風用ファン等の音に起因する露光装置本体の
振動を防止することができるという効果がある。
光装置本体の照明用光源による熱の影響を排除しつつ、
空調部の送風用ファン等の音に起因する露光装置本体の
振動を防止することができるという効果がある。
【図1】一実施形態に係る露光装置の概略構成を示す図
である。
である。
【図2】従来の露光装置の概略構成を示す図である。
【図3】発明が解決しようとする課題を説明するための
図である。
図である。
10 露光装置 12 チャンバ 14 露光装置本体 16 照明系 16a 水銀ランプ(光源) 42 隔壁 44 主区画室 46 副区画室 52 冷却用熱交換器(空調部の一部) 54 冷凍機(空調部の一部) 56 ヒータ(空調部の一部) 58 送風機(空調部の一部)
Claims (2)
- 【請求項1】 チャンバ内に収納された露光装置本体
と、前記チャンバ内を空調する空調部とを備えた露光装
置において、 前記チャンバ内を前記露光装置本体の主要部を格納する
主区画室と、該主区画室に接する少なくとも1つの副区
画室とに断熱性が高く音の透過性が良好な隔壁を介して
区分けし、前記副区画室に露光装置本体の一部の熱源を
含む部分を収納したことを特徴とする露光装置。 - 【請求項2】 前記露光装置本体の一部の熱源を含む部
分は、露光装置の照明用光源を含む照明系の一部である
ことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9095283A JPH10275767A (ja) | 1997-03-28 | 1997-03-28 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9095283A JPH10275767A (ja) | 1997-03-28 | 1997-03-28 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10275767A true JPH10275767A (ja) | 1998-10-13 |
Family
ID=14133456
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9095283A Pending JPH10275767A (ja) | 1997-03-28 | 1997-03-28 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10275767A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006350315A (ja) * | 2005-05-17 | 2006-12-28 | Ushio Inc | 露光装置 |
| JP2009141349A (ja) * | 2007-12-06 | 2009-06-25 | Asml Netherlands Bv | 音響共振器を有するリソグラフィ装置 |
| KR101155378B1 (ko) * | 2011-11-22 | 2012-06-19 | 주식회사 하나지엔씨 | 포토마스킹 미러 오염방지 시스템 |
-
1997
- 1997-03-28 JP JP9095283A patent/JPH10275767A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006350315A (ja) * | 2005-05-17 | 2006-12-28 | Ushio Inc | 露光装置 |
| JP2009141349A (ja) * | 2007-12-06 | 2009-06-25 | Asml Netherlands Bv | 音響共振器を有するリソグラフィ装置 |
| US8243258B2 (en) | 2007-12-06 | 2012-08-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus having acoustic resonator |
| KR101155378B1 (ko) * | 2011-11-22 | 2012-06-19 | 주식회사 하나지엔씨 | 포토마스킹 미러 오염방지 시스템 |
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