JPH10275820A - 半導体素子ボンディング用金合金線 - Google Patents
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Abstract
線を抑制し、またボンディング時の加熱温度を150℃
の低温で行ってもセカンド側接合性を向上させたワイヤ
ボンディング金合金線を提供すること。 【解決手段】 Agを0.4〜30重量%、Pd,Pt
のうち少なくとも1種を0.2〜5.0重量%、Y,L
a,Ru,Ir,Eu,Yb,Gd,Beのうち少なく
とも1種を0.0001〜0.05重量%、そして残部
が金及び不可避的不純物からなる金合金線。さらに30
重量%以下のCu,0.05重量%以下のCaを含むこ
とができる。
Description
と外部リード部を接続するために使用するボンディング
用金合金線に関する。
の半導体素子の電極と外部リードを接続する技術として
は、純度99.99重量%以上の高純度金に他の金属元
素を微量含有させた金合金線を用いて配線する超音波併
用熱圧着ボンディング法が主として用いられている。
より配線し、ループを形成した状態を図1に示す。1は
ICチップ、2はICチップ上のAl電極、3は金合金
線、4はリードフレーム、5はファースト側接合点、6
はセカンド側接合点である。最近、半導体装置は外部リ
ード材料として放熱性、コストを考慮して銅合金製のリ
ードフレームを用いる事が多くなってきた。銅合金製の
リードフレームを用いた場合、封止用樹脂とリードフレ
ームの熱膨張係数の差が大きく、半導体装置の作動によ
る温度上昇によってループを形成した金合金線に外部応
力が加わり、とりわけ半導体装置が過酷な熱サイクルの
環境に晒された場合、断線を生じ易くなるという問題が
ある。
求が高まる中で、ICチップの多ピン化及びこれに伴う
狭ピッチ化が要求されている。多ピン化、狭ピッチ化を
達成する為には、ループ形状が安定している事が必要で
ある。一方前記の超音波併用熱圧着ボンディング法で配
線を行う際、リードフレーム下部に設置された熱源によ
り150〜250℃で加熱される。この時加熱温度が高
いと接着性は良いものの、リードフレームのそりが生じ
易くなり、ループ形状にばらつきが生じ易くなる。また
加熱温度が低いと、ループ形状は安定するものの、低温
接合であるため金合金線とリードフレームの接合点(以
下セカンド側接合点という)での接合性に問題が生じて
くる。
とを抑制する為に、ボンディング時の加熱温度を150
℃と低温度で行いながらセカンド側接合点での接合性に
優れた金合金線が要求されている。本出願人は、特開平
7−305126号において、所定量のY,Pt,La
とAg,Pdの少なくとも1種を必須元素とした金合金
線とすることにより、熱サイクルの環境に晒された場合
の断線を制御することが出来ることを提案した。
案においては、前述の要求に対して一応の成果は得られ
ているものの、更なる信頼性の向上が求められている。
本発明は上述したような事情に鑑みてなされたものであ
り、その目的とするところは、銅合金製のリードフレー
ムを用いた半導体装置が過酷な熱サイクルの環境に晒さ
れた場合でも、断線を制御する効果を向上させ、またか
つボンディング時のループ形状を安定させる為に、ボン
ディング時の加熱温度を150℃と低温度で行いながら
セカンド側接合点での接合性、とりわけピール強度及び
振動破断性能が向上した金合金線を提供することであ
る。
重ねた結果、所定量のAgと所定量のPd,Ptのうち
少なくとも1種と所定量のY,La,Ru,Ir,E
u,Yb,Gd,Beのうち少なくとも1種及び残部が
金と不可避不純物からなる組成の金合金線とすることに
より、前述の目的を達成し得ることを知見し、本発明を
完成するに至った。
る。 (1)銀(Ag)を0.4〜30重量%、パラジウム
(Pd)、白金(Pt)のうち少なくとも1種を0.2
〜5.0重量%、Y,La,Ru,Ir,Eu,Yb,
Gd,Beのうち少なくとも1種を0.0001〜0.
05重量%、そして残部が金及び不可避不純物からなる
ことを特徴とする半導体素子ボンディング用金合金線。 (2)銀(Ag)が2.0〜10重量%、パラジウム
(Pd)、白金(Pt)のうち少なくとも1種が0.5
〜2.0重量%であることを特徴とする(1)記載の半
導体素子ボンディング用金合金線。 (3)更に銅(Cu)を30重量%以下含有することを
特徴とする(1)又は(2)記載の半導体素子ボンディ
ング用金合金線。 (4)更にカルシウム(Ca)を0.05重量%以下含
有することを特徴とする(1)、(2)又は(3)記載
の半導体素子ボンディング用金合金線。
9.99重量%以上に精製した高純度金を用いることが
好ましい。更に好ましくは99.995重量%以上であ
り、最も好ましくは99.999重量%以上である。こ
の為合金中の不可避不純物は0.01重量%未満が好ま
しい。更に好ましくは0.005重量%未満であり、最
も好ましくは0.001重量%未満である。
量%のPd,Ptのうち少なくとも1種と、0.000
1〜0.05重量%のY,La,Ru,Ir,Eu,Y
b,Gd,Beのうち少なくとも1種との共存におい
て、0.4〜30重量%のAgを含有した組成とするこ
とにより、前記課題を達成することができる。Agの含
有量が0.4重量%以上になると、0.4重量%未満の
ものと対比して、セカンド側接合性が向上する、即ち、
ピール強度が大きくなり、振動破断性能が向上する。一
方、Agの含有量が30重量%を越えると、熱サイクル
後の断線が生じ易くなり、セカンド側接合性も低下す
る。従って、Agの含有量は0.4〜30重量%であ
る。2.0〜10重量%がより好ましい。
が0.2重量%以上になると、0.2重量%未満のもの
と比べてセカンド側接合性が向上し、ピール強度が大き
くなり、振動数性能が向上する。一方、Pd,Ptのう
ち少なくとも1種の含有量が5.0重量%を越えると、
熱サイクル後の断線が生じ易くなり、セカンド側接合性
も低下し、またICチップに割れが生じ易くなる。従っ
て、Pd,Ptのうち少なくとも1種の含有量は0.2
〜5.0重量%である。0.5〜2.0重量%がより好
ましい。
で、かつPd,Ptのうち少なくとも1種が0.5〜
2.0重量%の場合、熱サイクル後の断線性能、セカン
ド側接合性ともに一段と優れたものになるので、好適で
ある。次に、Y,La,Ru,Ir,Eu,Yb,G
d,Beのうち少なくとも1種の含有量は0.0001
重量%未満になると、0.0001重量%以上のものと
対比して熱サイクル後の断線が生じ易くなり、セカンド
側接合性も低下する。一方、この含有量が0.05重量
%を超えると同様に断線が生じ易くなり、セカンド側接
合性も低下する。従って、Y,La,Ru,Ir,E
u,Yb,Gd,Beのうち少なくとも1種の含有量は
0.0001〜0.05重量%である。
重量%以下含む場合にも、同様の効果を奏することを確
認した。しかしCuの含有量が30重量%を越えると、
熱サイクル後の断線が生じ易くなり、セカンド側接合性
も低下する。Cuの下限は特に限定されないが、実用上
は0.001重量%である。さらに、Caを0.05重
量%以下含む場合にも、同様の効果を奏することができ
ることを確認した。下限は限定されないが、実用上は
0.0001重量%である。
明すると、前記高純度金に所定量の元素を添加し、真空
溶解炉で溶解した後インゴットに鋳造する。そのインゴ
ットに溝ロール、伸線機を用いた冷間加工と中間アニー
ルを施し、最終冷間加工により直径10〜100μmの
細線とした後最終アニールを施す。本発明の半導体素子
ボンディング用金合金線は半導体装置の実装に際して、
ICチップ等の半導体素子をリードフレームに接続する
超音波併用熱圧着ボンディング法で好ましく用いられ
る。特にはリードフレームとして銅製リードフレームを
用いる半導体装置用に好ましく用いられる。
量のAg,Pd,Yを添加し真空溶解炉で溶解した後、
鋳造して表1に示す組成の金合金インゴットを得、これ
に溝ロール、伸線機を用いた冷間加工と中間アニールを
施し、最終冷間加工により直径30μmとし、伸び率4
%となるように最終アニールを行った。
川株式会社製UTC−50型)を用いて加熱温度150
℃でICチップのAl電極と銅合金リードフレームとの
間を超音波併用熱圧着ボンディング法でボンディング
し、ピン数100個のボンディングした試料を作成し
た。次いで試料をエポキシ樹脂で樹脂封止した後、−1
0℃×30分と150℃×30分の熱サイクルテストを
100回行った。
により断線の有無を確認し、熱サイクル後の破断率を求
め、その結果を表1に示した。更に前記ボンディングし
た試料のリードフレーム側即ちセカンド側のピール強度
及び振動破断性能を測定した。ピール強度は直径30μ
mのピール荷重で表示した。振動破断性能の測定方法図
2を用いて説明する。図中、11はICチップ、12は
Al電極、13は金合金線、14,14′はリードフレ
ーム、15は鉄製台、16,16′はリードフレーム固
定用磁石、17は振動子である。リードフレーム14,
14′をリードフレーム固定用磁石16,16′で固定
し、ICチップ11を搭載した部分を振動子17で上下
方向(矢印方向)に振動させた。周波数100Hz、上下
振幅合計0.4mm、振動数20000回振動させた後、
400倍の金属顕微鏡を用いてリードフレーム側即ちセ
カンド側のワイヤの破断数を調査した。300箇所調査
し、その破断数の割合を振動破断率として表1に示し
た。
実施例1と同様にして直径30μmの線に仕上げ、熱サ
イクル後の破断率、セカンド側のピール強度及び振動破
断率を実施例1と同様にして測定し、その測定結果を表
1〜3に示した。
tのうち少なくとも1種を0.2〜5.0重量%、Y,
La,Ru,Ir,Eu,Yb,Gd,Beのうち少な
くとも1種を0.0001〜0.05重量%含有した組
成である実施例1〜45は熱サイクル後の破断率が1.
5%以下であり、ピール強度は7.3〜13.4g、振
動破断率は1.8%以下と優れた効果を示した。 (2)この中でもAgを2.0〜10重量%、Pd,P
tのうち少なくとも1種を0.5〜2.0重量%、Y,
La,Ru,Ir,Eu,Yb,Gd,Beのうち少な
くとも1種を0.0001〜0.05重量%含有した組
成では熱サイクル後の破断率が0%であり、ピール強度
は11.3〜13.4g、振動破断率は0%となり、一
段と優れた効果を示した。この為好ましくはAgを2.
0〜10重量%、Pd,Ptのうち少なくとも1種を
0.5〜2.0重量%、Y,La,Ru,Ir,Eu,
Yb,Gd,Beのうち少なくとも1種を0.0001
〜0.05重量%含有した組成とすることである。 (3)更に、Cuを0.01〜30重量%含有した組成
である実施例46〜51も前記効果が維持出来る。 (4)更に、Caを0.0005〜0.05重量%含有
した組成である実施例52〜58も同様に前記効果が維
持出来る。 (5)本発明の必須成分の何れも含有しない高純度金を
用いた比較例1は熱サイクル後の破断率が5.9%、ピ
ール強度は1.6g、振動破断率は4.9%と何れも悪
いものであった。 (6)高純度金に本発明の必須成分を所定量含有するも
のの、Agの含有量が0.4重量%未満である比較例
2、その含有量が20重量%を超える比較例3は熱サイ
クル後の破断率が2.2〜3.8%、ピール強度は3.
2〜4.8g、振動破断率は2.1〜3.6%と何れも
高純度金と対比すると効果は得られているものの、本願
の効果の方が優れていることが判る。 (7)高純度金に本発明の必須成分を所定量含有するも
のの、Pd,Ptのうち少なくとも1種の含有量が0.
2重量%未満である比較例4,5、その含有量が5.0
重量%を超える比較例6は熱サイクル後の破断率が2.
3〜2.4%、ピール強度は3.1〜4.6g、振動破
断率は2.1〜2.3%と何れも高純度金と対比すると
効果は得られているものの、本願の効果の方が優れてい
ることが判る。 (8)高純度金に本発明の必須成分を所定量含有するも
のの、Y,La,Ru,Ir,Eu,Yb,Gd,Be
のうち少なくとも1種を含有しない比較例7,8は熱サ
イクル後の破断率が2.3〜2.4%、ピール強度は
3.1〜4.6g、振動破断率は2.1〜2.3%と何
れも高純度金と対比すると効果は得られているものの、
本願の効果の方が優れていることが判る。
d,Ptのうち少なくとも1種、所定量のY,La,R
u,Ir,Eu,Yb,Gd,Beのうち少なくとも1
種を含有し残部が金及び所定量の不純物からなる組成を
有する半導体素子ボンディング用金合金線によれば、銅
合金製のリードフレームを用いた半導体装置が過酷な熱
サイクルの環境に晒された場合でも、断線を抑制する効
果が向上する、またボンディング時のループ形状を安定
させる為に、ボンディング時の加熱温度を150℃と低
温度で行いながらセカンド側接合点での接合性、とりわ
けピール強度及び振動破断性能が向上に効果的である。
前記含有成分に加えて所定量のCu又はそれに加えて所
定量のCaを含有した場合においても、同様の効果を示
す。
ディングした状態を示す。
を説明する図。
Claims (4)
- 【請求項1】 銀(Ag)を0.4〜30重量%、パラ
ジウム(Pd)、白金(Pt)のうち少なくとも1種を
0.2〜5.0重量%、Y,La,Ru,Ir,Eu,
Yb,Gd,Beのうち少なくとも1種を0.0001
〜0.05重量%、そして残部が金及び不可避不純物か
らなることを特徴とする半導体素子ボンディング用金合
金線。 - 【請求項2】 銀(Ag)を2.0〜10重量%、パラ
ジウム(Pd)、白金(Pt)のうち少なくとも1種が
0.5〜2.0重量%であることを特徴とする請求項1
記載の半導体素子ボンディング用金合金線。 - 【請求項3】 更に銅(Cu)を30重量%以下含有す
ることを特徴とする請求項1又は2記載の半導体素子ボ
ンディング用金合金線。 - 【請求項4】 更にカルシウム(Ca)を0.05重量
%以下含有することを特徴とする請求項1〜3のいずれ
か1項に記載の半導体素子ボンディング用金合金線。
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|---|---|---|---|
| JP07779497A JP3628139B2 (ja) | 1997-03-28 | 1997-03-28 | 半導体素子ボンディング用金合金線 |
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