JPH10275957A - Optical semiconductor chip carrier - Google Patents

Optical semiconductor chip carrier

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JPH10275957A
JPH10275957A JP9079317A JP7931797A JPH10275957A JP H10275957 A JPH10275957 A JP H10275957A JP 9079317 A JP9079317 A JP 9079317A JP 7931797 A JP7931797 A JP 7931797A JP H10275957 A JPH10275957 A JP H10275957A
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JP
Japan
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semiconductor chip
optical semiconductor
chip carrier
base substrate
optical
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Withdrawn
Application number
JP9079317A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Gomyo
博之 五明
Satoshi Aoki
聰 青木
Minoru Fujita
実 藤田
Masahiro Aoki
雅博 青木
Tatsumi Ido
立身 井戸
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 実装の簡易な高周波特性を改善した光半導体
チップキャリアを得る。 【解決手段】 光半導体チップキャリア60を導電性の
ベース基板25と誘電体基板41で構成する。誘電体基
板41上には、信号ライン251、接地ライン252、
終端抵抗253、メッキ処理されたスルーホール256
等が形成される。半導体レーザ151と光変調器152
からなる集積化光源チップ15がベース基板上に基板4
1と隣接して半田付けされ、バイアス用のチップコンデ
ンサ3もベース基板上に半田付けされる。半導体レーザ
とチップコンデンサ間、光変調器と信号ライン間等はボ
ンディングワイヤ751〜753により接続される。 【効果】 チップキャリアに起因するインダクタンスや
寄生容量の低減、ボンディングワイヤ接続箇所の低減に
より、高周波化と実装工数低減が図れる。
(57) [Summary] [Object] To obtain an optical semiconductor chip carrier with improved high-frequency characteristics that is easy to mount. An optical semiconductor chip carrier includes a conductive base substrate and a dielectric substrate. On the dielectric substrate 41, a signal line 251, a ground line 252,
Terminating resistor 253, plated through hole 256
Are formed. Semiconductor laser 151 and optical modulator 152
The integrated light source chip 15 made of
1, and the bias chip capacitor 3 is also soldered on the base substrate. The connection between the semiconductor laser and the chip capacitor, the connection between the optical modulator and the signal line, etc. are made by bonding wires 751 to 753. [Effect] By reducing the inductance and the parasitic capacitance caused by the chip carrier and the number of bonding wire connection points, it is possible to increase the frequency and reduce the number of mounting steps.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光半導体レーザや
光変調器などの光半導体チップとチップコンデンサなど
の部品とを一緒にパッケージに組み込んで構成する光モ
ジュール等で使用するのに好適な光半導体チップキャリ
アに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light source suitable for use in an optical module or the like constituted by incorporating an optical semiconductor chip such as an optical semiconductor laser or an optical modulator and components such as a chip capacitor together in a package. It relates to a semiconductor chip carrier.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、光モジュールは、半導体レーザ
ダイオード(以下、半導体LDと称する)や光変調器等
の光半導体チップ及びチップコンデンサなどを半田付け
して搭載した光半導体チップキャリアを、電源端子、入
力信号端子、接地端子、光出力用ファイバコネクタ端子
などを備えたパッケージ内に組み込むことにより形成さ
れている。半導体LD等の光半導体チップは、半導体メ
モリやマイクロプロセッサなどのシリコン半導体チップ
と異なり、電気信号特性の検査だけでなく、光出力の特
性を測定して良品選別を行う必要がある。
2. Description of the Related Art In general, an optical module includes an optical semiconductor chip carrier on which an optical semiconductor chip such as a semiconductor laser diode (hereinafter referred to as a semiconductor LD) or an optical modulator and a chip capacitor are mounted by soldering. , An input signal terminal, a ground terminal, an optical output fiber connector terminal, and the like. An optical semiconductor chip such as a semiconductor LD is different from a silicon semiconductor chip such as a semiconductor memory or a microprocessor in that it is necessary to not only inspect electric signal characteristics but also measure the characteristics of optical output to perform non-defective product selection.

【0003】しかしながら、光出力の特性を測定するに
は、外部測定系へ出射光の光軸合わせ等の調整を行う必
要がある。このため、光半導体チップ上にプローブを当
てての測定では、発光パターンや、高周波特性を含めた
光出力特性の正確な測定が行えない。そこで、通常、光
モジュールに組み込む光半導体チップのチップ選別は次
のように行っている。
However, in order to measure the characteristics of the light output, it is necessary to adjust the optical axis of the emitted light to an external measurement system. For this reason, in the measurement using a probe on the optical semiconductor chip, it is not possible to accurately measure the light output pattern and the light output characteristics including the high-frequency characteristics. Therefore, usually, chip selection of an optical semiconductor chip to be incorporated in an optical module is performed as follows.

【0004】例えば、半導体LDチップの場合、複数個
の半導体LDチップをウエハから横一列に切り出した状
態で、先ずプローブ測定検査によるパルス駆動選別を行
う。この場合、外部測定系と厳密な光軸合わせの調整等
を必要としない測定項目、すなわち電流−光出力特性と
発振波長の測定等によりチップの大まかな良否判定を行
う。ここでパルス駆動により選別を行うのは、直流駆動
では放熱が問題となって測定できないからである。次
に、パルス駆動選別により選別された良品チップおよび
コンデンサ等を半田付けした光半導体チップキャリアを
評価用ステムに実装し、CW(Continuous Wave)駆動
選別を行う。なお、評価用ステムへの実装については後
述する。このCW駆動選別では、評価用ステムに外部測
定系を接続して電流−光出力特性、発振波長、発光パタ
ーン、及び高周波特性等を測定して良否判定をする。半
導体LDチップ等を搭載した光半導体チップキャリアは
評価用ステムから外された後、所要の特性仕様を満足す
る良品チップを搭載した光半導体チップキャリアだけが
最終的にパッケージに組み込まれて光モジュールとな
る。
[0004] For example, in the case of a semiconductor LD chip, in a state where a plurality of semiconductor LD chips are cut out from a wafer in a horizontal line, first, pulse drive selection by probe measurement inspection is performed. In this case, a rough determination of the quality of the chip is made based on a measurement item that does not require strict optical axis alignment with the external measurement system, that is, measurement of current-light output characteristics and oscillation wavelength. Here, the reason why the selection is performed by the pulse drive is that the measurement cannot be performed by the DC drive due to the problem of heat radiation. Next, the optical semiconductor chip carrier to which the non-defective chips and the capacitors and the like selected by the pulse driving selection are soldered is mounted on an evaluation stem, and CW (Continuous Wave) driving selection is performed. The mounting on the evaluation stem will be described later. In this CW drive selection, an external measurement system is connected to the evaluation stem to measure current-light output characteristics, oscillation wavelength, light emission pattern, high-frequency characteristics, and the like, and judge pass / fail. After the optical semiconductor chip carrier on which the semiconductor LD chip is mounted is removed from the evaluation stem, only the optical semiconductor chip carrier on which a good chip that satisfies the required characteristic specifications is finally incorporated into the package and the optical module and Become.

【0005】ここで、半導体LDと光変調器を集積化し
た集積化光源チップ11を搭載した光半導体チップキャ
リアの評価用ステムへの実装について、図1を用いて説
明する。図1は、集積化光源チップやチップコンデンサ
等を搭載した従来の光半導体チップキャリアの概略を示
す図であり、同図(a)は評価用ステムに取り付けた光
半導体チップキャリアの平面図、(b)は平面図中に示
したA−A’線に沿った部分の断面図である。
Here, mounting of an optical semiconductor chip carrier on which an integrated light source chip 11 in which a semiconductor LD and an optical modulator are integrated on an evaluation stem will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a view schematically showing a conventional optical semiconductor chip carrier on which an integrated light source chip, a chip capacitor and the like are mounted, and FIG. 1A is a plan view of the optical semiconductor chip carrier attached to an evaluation stem. (b) is a cross-sectional view of a portion taken along line AA ′ shown in the plan view.

【0006】図1(a),(b)において、参照符号1
0は接地ラインとしても使用する金属導体から成る高周
波特性評価用ステムを示し、この評価用ステム10上に
は高周波伝送線路となるマイクロストリップ線路2a,
2b,2cを形成した誘電体基板4が半田付け等により
固着されている。更に、誘電体基板4上のストリップ線
路2b,2c間には、高周波整合用の終端抵抗5が半田
付けされている。また、マイクロストリップ線路2cに
は評価用ステム10に達するメッキ処理したスルーホー
ル26が形成され、評価用ステム10と電気的に接続さ
れている。更に、ボンディングパッド部22を設けたセ
ラミックなどの誘電体材料からなる光半導体チップキャ
リア21に、集積化光源チップ11とチップコンデンサ
3が半田付けされ、集積化光源チップ11とチップコン
デンサ3の表面側電極との間、及び集積化光源チップ1
1とボンディングパッド部22との間は、それぞれボン
ディングワイヤ711及び712により電気的に接続さ
れている。この光半導体チップキャリア21が、固着さ
れた誘電体基板4を有する評価用ステム10に半田付け
される。更に、チップコンデンサ3の裏面側電極は、複
数本のボンディングワイヤ715により接地電位の評価
用ステム10に電気的に接続され、ボンディングパッド
部22とマイクロストリップ線路2a,2bとはそれぞ
れボンディングワイヤ713,714により電気的に接
続されている。
In FIGS. 1A and 1B, reference numeral 1
Numeral 0 indicates a high-frequency characteristic evaluation stem made of a metal conductor which is also used as a ground line. On this evaluation stem 10, microstrip lines 2a, which are high-frequency transmission lines, are provided.
The dielectric substrate 4 on which 2b and 2c are formed is fixed by soldering or the like. Further, a terminating resistor 5 for high frequency matching is soldered between the strip lines 2b and 2c on the dielectric substrate 4. Further, a plated through hole 26 reaching the evaluation stem 10 is formed in the microstrip line 2c, and is electrically connected to the evaluation stem 10. Further, the integrated light source chip 11 and the chip capacitor 3 are soldered to an optical semiconductor chip carrier 21 made of a dielectric material such as ceramic provided with a bonding pad portion 22. Between the electrodes and the integrated light source chip 1
1 and the bonding pad section 22 are electrically connected by bonding wires 711 and 712, respectively. The optical semiconductor chip carrier 21 is soldered to the evaluation stem 10 having the fixed dielectric substrate 4. Further, the back surface side electrode of the chip capacitor 3 is electrically connected to the ground potential evaluation stem 10 by a plurality of bonding wires 715, and the bonding pad portion 22 and the microstrip lines 2a and 2b are respectively connected to the bonding wires 713 and 713. 714 are electrically connected.

【0007】このようにして光半導体チップキャリア2
1の評価用ステム10への実装が行われ、前述したCW
駆動選別にかけられる。CW駆動選別の測定後、光半導
体チップキャリア21と評価用ステム側に接続されてい
たボンディングワイヤ713,714,715を切離し
た後、評価用ステム10に半田付けで固定していた光半
導体チップキャリア21を外す。同様にして、別の集積
化光源チップを搭載した光半導体チップキャリアを評価
用ステムに取付け、CW駆動選別にかける。これを繰り
返して、集積化光源チップの良否判定を行い、選別す
る。
[0007] Thus, the optical semiconductor chip carrier 2
1 is mounted on the evaluation stem 10 and the above-described CW
Drive sorting. After the measurement in the CW drive selection, the bonding wires 713, 714, and 715 connected to the optical semiconductor chip carrier 21 and the evaluation stem side are separated, and then the optical semiconductor chip carrier fixed to the evaluation stem 10 by soldering. Remove 21. Similarly, an optical semiconductor chip carrier on which another integrated light source chip is mounted is attached to an evaluation stem, and CW drive sorting is performed. By repeating this, the quality of the integrated light source chip is determined and selected.

【0008】なお、この関連技術に関しては、例えば電
子情報通信学会論文誌C−I,Vol.J77−C−
I,No.5,pp.268−275(1994年5
月)等があるが、光モジュールを構成する光半導体チッ
プキャリアの詳細については開示されていない。
[0008] Regarding this related technology, for example, the Transactions of the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers, CI, Vol. J77-C-
I, No. 5, pp. 268-275 (May 1994
), But details of the optical semiconductor chip carrier constituting the optical module are not disclosed.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、光半
導体チップの実装に関して光半導体チップを搭載する光
半導体チップキャリアに小型化、高速化が要求されてい
る。しかしながら、前述したように、従来は光半導体チ
ップ11とチップコンデンサ3をそれぞれ誘電体を材料
とする光半導体チップキャリア21に半田付けし、この
光半導体チップキャリア21をマイクロストリップ線路
を有する誘電体基板4が固着された高周波特性の評価用
ステム10に搭載していた。更に、高周波整合用の終端
抵抗5を、光半導体チップキャリアの外付けとして、評
価用ステムの誘電体基板4上に半田付けしていた。ま
た、それぞれの部品間は、ボンディングワイヤ711、
712、713、714、715により接続していた。
このため、ボンディングワイヤのインダクダンス成分が
特性に影響を与えていた。
In recent years, optical semiconductor chip carriers on which optical semiconductor chips are mounted have been required to be smaller and faster in mounting optical semiconductor chips. However, as described above, conventionally, the optical semiconductor chip 11 and the chip capacitor 3 are each soldered to an optical semiconductor chip carrier 21 made of a dielectric material, and the optical semiconductor chip carrier 21 is mounted on a dielectric substrate having a microstrip line. 4 was mounted on the stem 10 for evaluation of high-frequency characteristics to which it was fixed. Further, the terminating resistor 5 for high-frequency matching is soldered on the dielectric substrate 4 of the evaluation stem as an external part of the optical semiconductor chip carrier. Further, bonding wires 711,
712, 713, 714, and 715.
For this reason, the inductance component of the bonding wire has affected the characteristics.

【0010】図1に示した評価用ステム10ヘの実装状
態について、図2の等価回路を用いて高周波特性の数値
計算を行った結果が、図3(b)と(c)である。ここ
で、図2に示した等価回路の各パラメータは、次の通り
である。Z0は評価用ステム4のマイクロストリップラ
インのインピーダンスで50Ω、L1はボンディングワ
イヤ713のインダクタンスで0.3nH、L2はボン
ディングワイヤ714のインダクタンスで0.3nH、
Lpはボンディングパッド部22のインダクタンスで
0.1nH、L4はボンディングワイヤ715のインダ
クタンスで0.1nH、L3はボンディングワイヤ71
2のインダクタンスで0.9nH、Ccはボンディング
パッド部22の容量で0.3pF、Cgは光半導体チッ
プキャリア21の容量で0.3pF、Rinは半導体L
Dチップ11の光変調器部の内部抵抗で5Ω、Cmは半
導体LDチップ11の光変調器部の容量で0.4pF、
Rtは終端抵抗5の抵抗で50Ωである。なお、半導体
LD部は直流駆動であるから高周波特性の解析では無視
できるため、図2では変調器部だけを等価回路に表わし
ている。従って、ボンディングワイヤ711のインダク
タンス成分は、省略してある。
FIGS. 3 (b) and 3 (c) show the results of numerical calculation of high frequency characteristics using the equivalent circuit of FIG. 2 for the mounting state on the evaluation stem 10 shown in FIG. Here, the parameters of the equivalent circuit shown in FIG. 2 are as follows. Z0 is the impedance of the microstrip line of the evaluation stem 4 at 50Ω, L1 is the inductance of the bonding wire 713 of 0.3 nH, L2 is the inductance of the bonding wire 714 of 0.3 nH,
Lp is the inductance of the bonding pad 22 of 0.1 nH, L4 is the inductance of the bonding wire 715 of 0.1 nH, and L3 is the bonding wire 71.
2, an inductance of 0.9 nH, Cc is a capacitance of the bonding pad portion 0.3 of 0.3 pF, Cg is a capacitance of the optical semiconductor chip carrier 21 of 0.3 pF, and Rin is a semiconductor L.
The internal resistance of the optical modulator section of the D chip 11 is 5Ω, Cm is the capacitance of the optical modulator section of the semiconductor LD chip 11 is 0.4 pF,
Rt is the resistance of the terminating resistor 5 and is 50Ω. Since the semiconductor LD section is driven by a direct current and can be ignored in the analysis of high-frequency characteristics, only the modulator section is shown in an equivalent circuit in FIG. Therefore, the inductance component of the bonding wire 711 is omitted.

【0011】これらの数値を用いて計算した結果、図3
(a)に示したように、周波数応答特性では7GHz近
傍でピーキングが生じ、さらに図3(b)に示したよう
に、高周波反射特性が劣化することがわかった。
As a result of calculation using these numerical values, FIG.
As shown in FIG. 3A, peaking occurs in the vicinity of 7 GHz in the frequency response characteristics, and further, as shown in FIG.

【0012】また、評価用ステム10への実装作業にお
いて、光半導体チップ11及びチップコンデンサ3の光
半導体チップキャリア21への半田付け、外付けの終端
抵抗5の誘電体基板4への半田付け、さらに、光半導体
チップキャリア21の評価用ステム10への半田付け、
及びワイヤボンディング等の作業があり、評価用ステム
への実装工程に時間を要する難点があった。評価用ステ
ム10からボンディングワイヤを切断して外した後、光
モジュールへ実装する実装工程においても、同様の作業
が再度必要であり、時間を要する難点があった。ボンデ
ィングワイヤの接続及び切断箇所が多いと、作業中に傷
を付けたり、機械的ストレスが増加して、歩留まり低下
をきたす一つの原因ともなる。
Further, in the mounting work on the evaluation stem 10, the optical semiconductor chip 11 and the chip capacitor 3 are soldered to the optical semiconductor chip carrier 21, the external terminating resistor 5 is soldered to the dielectric substrate 4, Further, soldering the optical semiconductor chip carrier 21 to the evaluation stem 10,
In addition, there are operations such as wire bonding and the like, and there has been a problem that a time is required for a mounting process on the evaluation stem. After the bonding wire is cut off from the evaluation stem 10 and then mounted on the optical module, the same operation is required again in the mounting step, and there is a drawback that time is required. If there are many connections and cuts of the bonding wires, they may be damaged during the operation and mechanical stress may increase, which may be one cause of lowering the yield.

【0013】そこで、本発明の目的は、高周波特性を改
善した光半導体チップキャリアを提供することにある。
また、半田付けされる部品数を減らして実装時間を短縮
できる光半導体チップキャリアを提供することも目的と
する。
An object of the present invention is to provide an optical semiconductor chip carrier having improved high frequency characteristics.
It is another object of the present invention to provide an optical semiconductor chip carrier capable of reducing the number of components to be soldered and shortening a mounting time.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】図1で示した従来の光半
導体チップキャリア21の高周波特性の劣化は、ボンデ
ィングワイヤのインダクタンスと光半導体チップ11の
奇生容量との共振が原因である。この対策として、ボン
ディングワイヤ長を短くしてインダクタンスを減少させ
ることが有効である。
The deterioration of the high-frequency characteristics of the conventional optical semiconductor chip carrier 21 shown in FIG. 1 is caused by the resonance between the inductance of the bonding wire and the parasitic capacitance of the optical semiconductor chip 11. As a countermeasure, it is effective to reduce the inductance by shortening the bonding wire length.

【0015】従って、前述した課題を解決するために、
本発明に係る光半導体チップキャリアは、例えば図6に
示すように光半導体チップの近傍まで高周波伝送線路を
形成しボンディングワイヤ長を短縮することができるよ
うに構成した。すなわち、本発明に係る光半導体チップ
キャリアは、高熱伝導性を有する導電性のベース基板
と、このベース基板上の一部に固着された誘電体基板と
からなり、この誘電体基板上には入力信号ラインとなる
高周波伝送線路とベース基板に電気的に接続可能な導電
性材料を含むスルーホール部を有する接地ラインと高周
波伝送線路の入力信号と高周波整合をとるための抵抗と
が少なくとも形成されていて、ベース基板上の誘電体基
板と隣接する位置に光半導体チップを固着して高周波伝
送線路と光半導体チップ間を最短距離でボンディングワ
イヤにより接続できるように構成したことを特徴とする
ものである。
Therefore, in order to solve the above-mentioned problem,
The optical semiconductor chip carrier according to the present invention is configured such that a high-frequency transmission line is formed up to the vicinity of the optical semiconductor chip as shown in FIG. 6, for example, so that the bonding wire length can be reduced. That is, the optical semiconductor chip carrier according to the present invention includes a conductive base substrate having high thermal conductivity, and a dielectric substrate fixed to a part of the base substrate. At least a high-frequency transmission line serving as a signal line, a ground line having a through-hole portion including a conductive material electrically connectable to a base substrate, and a resistor for achieving high-frequency matching with an input signal of the high-frequency transmission line are formed. An optical semiconductor chip is fixed at a position adjacent to the dielectric substrate on the base substrate so that the high-frequency transmission line and the optical semiconductor chip can be connected by a bonding wire in the shortest distance. .

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】本発明に係る光半導体チップキャ
リアの好適な実施の形態は、高熱伝導性を有するSiや
CuWなどからなる導電性のベース基板と、このベース
基板上の一部に半田付けなどで固着された誘電体基板と
から光半導体チップキャリアが構成され、この誘電体基
板上には入力信号ラインとなるマイクロストリップライ
ンで形成した高周波伝送線路とベース基板に電気的に接
続可能な導電性材料を含むスルーホール部、例えばメッ
キ処理されたスルーホール部を有する接地ラインと高周
波伝送線路の入力信号と高周波整合すなわちインピーダ
ンスマッチングをとるための50Ωの終端抵抗とが少な
くとも形成されていて、ベース基板上の誘電体基板と隣
接する位置に光半導体チップを固着して高周波伝送線路
と光半導体チップ間をボンディングワイヤにより最短距
離で接続できるようにした構成の光半導体チップキャリ
アである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A preferred embodiment of an optical semiconductor chip carrier according to the present invention is a conductive base substrate made of Si or CuW having high thermal conductivity, and a solder on a part of the base substrate. An optical semiconductor chip carrier is composed of a dielectric substrate fixed by attachment and the like, and on this dielectric substrate, a high-frequency transmission line formed by a microstrip line serving as an input signal line and electrically connectable to a base substrate. A through-hole portion containing a conductive material, for example, a grounding line having a plated-through-hole portion and a 50Ω termination resistor for high-frequency matching, that is, impedance matching with an input signal of a high-frequency transmission line, are formed at least. An optical semiconductor chip is fixed at a position adjacent to a dielectric substrate on a base substrate, and a high-frequency transmission line and an optical semiconductor chip The bonding wire is an optical semiconductor chip carrier configured as to be able to connect with the shortest distance.

【0017】このように光半導体チップキャリアを、導
電性材料を用いたベース基板と、高周波伝送線路及びイ
ンピーダンスマッチング用の抵抗とを設けた誘電体基板
とから構成し、光半導体チップをベース基板上に高周波
伝送線路と隣接して固着できるようにした。これによ
り、高周波伝送線路とのボンディングワイヤ長を短くで
きる。それと同時に、寄生容量の低減及びワイヤボンデ
ィング箇所の低減が図れるので、高周波化及び実装工数
の低減を達成できる。
As described above, the optical semiconductor chip carrier comprises the base substrate using a conductive material and the dielectric substrate provided with the high-frequency transmission line and the resistor for impedance matching, and the optical semiconductor chip is mounted on the base substrate. It can be fixed adjacent to the high-frequency transmission line. Thereby, the length of the bonding wire to the high-frequency transmission line can be reduced. At the same time, the parasitic capacitance and the number of wire bonding locations can be reduced, so that a higher frequency and a reduced number of mounting steps can be achieved.

【0018】[0018]

【実施例】次に、本発明に係る光半導体チップキャリア
の更に具体的な実施例につき、添付図面を参照しながら
以下詳細に説明する。
Next, a more specific embodiment of the optical semiconductor chip carrier according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

【0019】<実施例1>図6は、本発明による光半導
体チップキャリアの一実施例を示す図であり、同図
(a)は光半導体チップやチップコンデンサ等を光半導
体チップキャリアに実装した状態の平面図、(b)はそ
の側面図である。本実施例の光半導体チップキャリア6
0は、ベース基板25と誘電体基板41とで構成されて
いる。なお、図6には評価用ステムは示していない。
<Embodiment 1> FIG. 6 is a view showing an embodiment of an optical semiconductor chip carrier according to the present invention. FIG. 6 (a) shows an optical semiconductor chip and a chip capacitor mounted on the optical semiconductor chip carrier. FIG. 3B is a plan view of the state, and FIG. Optical semiconductor chip carrier 6 of this embodiment
0 is composed of a base substrate 25 and a dielectric substrate 41. FIG. 6 does not show the evaluation stem.

【0020】本実施例では、光半導体チップとして、光
変調器152と半導体LD151を集積化した集積化光
源チップ15を誘電体基板41と最隣接する位置のベー
ス基板25上に実装している。集積化光源チップ15と
バイアス端子用のチップコンデンサ3は、ベース基板2
5上に半田付けしている。なお、本実施例で用いる集積
化光源チップ15は、数Gビット/秒〜数十Gビット/
秒の高速変調を要求される長距離・大容量光伝送システ
ム等に適用可能な光源である。この集積化光源チップ1
5は、半導体LD151に直流バイアスを印加して常に
発光させておき、光変調器151に高周波信号を印加し
て高速変調した半導体LDの出射光を取り出し、光ファ
イバ伝送に用いるものである。この場合、チップコンデ
ンサ3は、高周波成分をバイパスさせて直流バイアスを
安定化させるために設けてある。このような集積化光源
チップ15は、半導体LDを直接駆動電流によりオンオ
フして光ファイバ伝送する構成の場合に比べて、出射光
のスペクトルの広がりが抑えられ、長距離伝送に向いて
いる。
In this embodiment, as an optical semiconductor chip, an integrated light source chip 15 in which an optical modulator 152 and a semiconductor LD 151 are integrated is mounted on a base substrate 25 at a position closest to the dielectric substrate 41. The integrated light source chip 15 and the chip capacitor 3 for the bias terminal are connected to the base substrate 2.
5 is soldered. Note that the integrated light source chip 15 used in this embodiment has a capacity of several Gbits / sec to several tens Gbits / sec.
It is a light source applicable to long-distance, large-capacity optical transmission systems that require high-speed modulation of seconds. This integrated light source chip 1
Numeral 5 is a device for applying a DC bias to the semiconductor LD 151 so as to emit light at all times, applying a high-frequency signal to the optical modulator 151 to take out the output light of the semiconductor LD modulated at high speed, and using it for optical fiber transmission. In this case, the chip capacitor 3 is provided to stabilize the DC bias by bypassing the high frequency component. Such an integrated light source chip 15 is suitable for long-distance transmission, in which the spread of the spectrum of emitted light is suppressed as compared with a configuration in which the semiconductor LD is directly turned on / off by a drive current and transmitted through an optical fiber.

【0021】本実施例の光半導体チップキャリア60
は、ベース基板25に高熱伝導性を有する導電性の基
板、例えば、Si基板やCuW基板等を用いている。従
って、ベース基板25の電位は、評価用ステムに半田付
けされて測定する場合、接地電位となる。このベース基
板25に固着された誘電体基板41上には、高周波線路
となる信号ライン251と接地ライン252とがマイク
ロストリップ線路で同一平面上に形成され、信号ライン
251と接地ライン252が非対称に配置された非対称
コープレーナ電極構造となるように形成されている。更
に、誘電体基板41上には薄膜抵抗或いはチップ抵抗に
よる50Ωの終端抵抗253も設けられている。接地ラ
イン252にはベース基板25に達する内部がメッキ処
理されたスルーホール256が設けられており、これに
より接地ライン252はベース基板25に電気的に接続
される。
The optical semiconductor chip carrier 60 of the present embodiment
Uses a conductive substrate having high thermal conductivity as the base substrate 25, for example, a Si substrate or a CuW substrate. Therefore, the potential of the base substrate 25 becomes the ground potential when measured by soldering to the evaluation stem. On the dielectric substrate 41 fixed to the base substrate 25, a signal line 251 and a ground line 252 serving as high-frequency lines are formed on the same plane by microstrip lines, and the signal line 251 and the ground line 252 are asymmetric. It is formed to have an asymmetric coplanar electrode structure arranged. Further, a termination resistor 253 of 50Ω is provided on the dielectric substrate 41 by a thin film resistor or a chip resistor. The ground line 252 is provided with a through hole 256 whose inside reaching the base substrate 25 is plated, whereby the ground line 252 is electrically connected to the base substrate 25.

【0022】そして、信号ライン251と集積化光源チ
ップの変調器152との間、終端抵抗253と集積化光
源チップの変調器152との間、及び集積化光源チップ
の半導体LD151とチップコンデンサ3との間は、そ
れぞれをボンディングワイヤ751,752,753に
より電気的に接続している。
Then, between the signal line 251 and the modulator 152 of the integrated light source chip, between the terminating resistor 253 and the modulator 152 of the integrated light source chip, and between the semiconductor LD 151 and the chip capacitor 3 of the integrated light source chip. Are electrically connected to each other by bonding wires 751, 752, and 753.

【0023】このように構成される本実施例の光半導体
チップキャリア60では、従来例のように、ボンディン
グパッド部22を用いる代わりに、光半導体チップキャ
リア60上の集積化光源チップ15の近傍まで、高周波
伝送線路(すなわち信号ライン251)を形成してボン
ディングワイヤ長を短くしている。また、ベース基板2
5にはSi、CuW等の導電性の材料を用い、光半導体
チップキャリア60に起因するインダクタンスや寄生容
量を無視できるまでに減少させている。従来例のチップ
キャリア21の高周波特性の劣化は、ボンディングワイ
ヤのインダクタンスと光半導体チップの寄生容量との共
振が原因である。従って、本実施例の光半導体チップキ
ャリア60はこの対策としてボンディングワイヤ長を短
くしてインダクタンスを減少させている。
In the optical semiconductor chip carrier 60 of the present embodiment having the above-described structure, instead of using the bonding pad portion 22 as in the conventional example, the optical semiconductor chip carrier 60 extends to the vicinity of the integrated light source chip 15 on the optical semiconductor chip carrier 60. , A high-frequency transmission line (that is, a signal line 251) is formed to shorten the bonding wire length. Also, the base substrate 2
For 5, a conductive material such as Si or CuW is used to reduce the inductance and the parasitic capacitance caused by the optical semiconductor chip carrier 60 to a negligible level. The deterioration of the high-frequency characteristics of the conventional chip carrier 21 is caused by resonance between the inductance of the bonding wire and the parasitic capacitance of the optical semiconductor chip. Therefore, the optical semiconductor chip carrier 60 of this embodiment reduces the inductance by shortening the bonding wire length as a measure against this.

【0024】本実施例の光半導体チップキャリア60の
等価回路を示せば、図7のようになる。但し、図7に示
した等価回路では直流バイアス系を除いてある。図7に
おいて、Z0’は信号ライン251のインピーダンス、
L1’はボンディングワイヤ751のインダクタンス、
L2’はボンディングワイヤ752のインダクタンス、
Rin’は集積化光源チップ15の変調器部152の内
部抵抗、Rt’は終端抵抗253の抵抗値、Cm’は集
積化光源チップ15の変調器部152の容量である。こ
の等価回路を用いて、周波数応答特性と高周波反射特性
を数値計算により求めた結果が、図8の(a)及び
(b)である。ここで、計算に使用した上記パラメータ
のそれぞれの値は、Z0’=50Ω、L1’=0.6n
H、L2’=0.7nH、Rin’=10Ω、Cm’=
0.4pFである。
FIG. 7 shows an equivalent circuit of the optical semiconductor chip carrier 60 of this embodiment. However, in the equivalent circuit shown in FIG. 7, the DC bias system is omitted. In FIG. 7, Z0 ′ is the impedance of the signal line 251;
L1 'is the inductance of the bonding wire 751,
L2 ′ is the inductance of the bonding wire 752,
Rin 'is the internal resistance of the modulator section 152 of the integrated light source chip 15, Rt' is the resistance value of the termination resistor 253, and Cm 'is the capacitance of the modulator section 152 of the integrated light source chip 15. FIGS. 8A and 8B show the results obtained by numerical calculation of the frequency response characteristics and the high-frequency reflection characteristics using this equivalent circuit. Here, the values of the above parameters used for the calculation are Z0 ′ = 50Ω and L1 ′ = 0.6n
H, L2 ′ = 0.7 nH, Rin ′ = 10Ω, Cm ′ =
0.4 pF.

【0025】従来例の光半導体チップキャリア21を用
いた場合の計算結果を示した図2と比較して、本実施例
の光半導体チップキャリア60では周波数応答特性で約
4GHz、高周波反射特性で約15dB改善される。ま
た、従来例では評価用ステム側に設けた終端抵抗を、本
実施例では光半導体チップキャリア60に内蔵させ、ベ
ース基板25に導電性材料を用いたことにより、光半導
体チップキャリアの評価用ステムへの半田付け省略やワ
イヤボンディング回数を減少することができ、評価用ス
テムへの実装時間の短縮が図れる。同様に、ワイヤボン
ディング回数が減っただけ、光半導体チップキャリア6
0を評価用ステムから外して光モジュールへ組み込む場
合の実装時間も短縮する。
Compared to FIG. 2 showing the calculation results when the conventional optical semiconductor chip carrier 21 is used, the optical semiconductor chip carrier 60 of this embodiment has a frequency response characteristic of about 4 GHz and a high frequency reflection characteristic of about 4 GHz. It is improved by 15 dB. In the conventional example, the terminating resistor provided on the side of the evaluation stem is incorporated in the optical semiconductor chip carrier 60 in this embodiment, and a conductive material is used for the base substrate 25. Can be omitted, and the number of times of wire bonding can be reduced, so that the mounting time on the evaluation stem can be shortened. Similarly, as the number of wire bonding decreases, the optical semiconductor chip carrier 6
The mounting time when 0 is removed from the evaluation stem and incorporated into the optical module is also reduced.

【0026】本実施例の光半導体チップキャリア60
は、信号ライン251と接地ライン252とが非対称コ
ープレーナ電極構造となっていて、出射角の大きな集積
化光源チップを用いる場合に好適である。評価用ステム
上の信号ラインと光半導体チップキャリアの信号ライン
251とを最短距離に配置してボンディングしても、出
射光を遮ることがないからである。例えば、図5に示し
たようにベース基板25上に固着した誘電体基板42に
形成する電極パターンとして、信号ライン252を並列
に挾むように接地ライン252a,252bを形成する
対称コープレーナ電極構造にすると、ボンディングワイ
長を短くするために、集積化光源チップ14の実装位置
が光半導体チップキャリア61のベース基板25上の奧
の最隣接位置に半田付けされる。集積化光源チップ14
が光出射角の大きな出射パターンを有するを場合、出射
光6の一部分がチップキャリア61で遮られてしまう。
なお、図5は本発明に係る光半導体チップキャリアの平
面図であり、図6と同様の構成部分については同一の参
照符号を付してある。従って、図5に示した光半導体チ
ップキャリア61は、光出射角の小さな出射パターンを
有する集積化光源チップを搭載する場合に適している。
Optical semiconductor chip carrier 60 of this embodiment
Is suitable when the signal line 251 and the ground line 252 have an asymmetric coplanar electrode structure and an integrated light source chip having a large emission angle is used. This is because even if the signal line on the evaluation stem and the signal line 251 of the optical semiconductor chip carrier are arranged at the shortest distance and bonded, the emitted light will not be blocked. For example, as shown in FIG. 5, the electrode pattern formed on the dielectric substrate 42 fixed on the base substrate 25 has a symmetrical coplanar electrode structure in which the ground lines 252a and 252b are formed so as to sandwich the signal line 252 in parallel. In order to shorten the bonding wire length, the mounting position of the integrated light source chip 14 is soldered to the nearest position on the base substrate 25 of the optical semiconductor chip carrier 61 at the back. Integrated light source chip 14
Has a light emission pattern with a large light emission angle, a part of the emitted light 6 is blocked by the chip carrier 61.
FIG. 5 is a plan view of an optical semiconductor chip carrier according to the present invention, and the same components as those in FIG. 6 are denoted by the same reference numerals. Therefore, the optical semiconductor chip carrier 61 shown in FIG. 5 is suitable for mounting an integrated light source chip having an emission pattern with a small light emission angle.

【0027】<実施例2>図4は、本発明による光半導
体チップキャリアの別の一実施例を示す図であり、同図
(a)は光半導体チップやチップコンデンサ等を光半導
体チップキャリアに実装して評価用ステムに搭載した状
態の平面図、(b)はそのB−B’線における断面図で
ある。
<Embodiment 2> FIG. 4 is a view showing another embodiment of the optical semiconductor chip carrier according to the present invention. FIG. 4A shows an optical semiconductor chip, a chip capacitor and the like as an optical semiconductor chip carrier. FIG. 4B is a plan view of the state after mounting and mounting on the evaluation stem, and FIG. 4B is a cross-sectional view taken along line BB ′.

【0028】本実施例の光半導体チップキャリア70
は、導電性のベース基板23とセラミックなどからなる
誘電体基板42とで構成される。誘電体基板42には、
マイクロストリップ線路からなる信号ライン231と、
これを挾むように両側に並行に接地ライン232,23
4が設けられた対称コープレーナ電極構造を形成してい
る。更に、ボンディングパッド235と接地ライン23
4との間には、薄膜抵抗による終端抵抗233が形成さ
れている。接地ライン232,234には、ベース基板
23に達する内部がメッキ処理されたスルーホール23
6が形成されていて、電気的にベース基板23と接続さ
れている。信号ライン231は、評価用ステム10に固
着された誘電体基板4上に形成された信号ライン401
と最短距離でボンディングワイヤ261により電気的に
接続されている。ベース基板23上には、チップコンデ
ンサ3と、光半導体チップとしてマッハツェンダ型光変
調器を形成した光変調器チップ13とが誘電体基板42
に半田付けされ、信号ライン231と光変調器チップ1
3間、ボンディング電極部235と光変調器チップ13
間、および光変調器チップ13とチップコンデンサ3間
は、それぞれボンディングワイヤ262,263,26
4により電気的に接続されている。また、ベース基板2
3上の誘電体基板42の表面と、光変調器チップ13の
表面、及びチップコンデンサ3の表面の高さがほぼ一致
するように、ベース基板23の誘電体基板42を半田付
けする部分の厚さは、少し薄くしてある。これにより、
ボンディングし易くなると共にボンディングワイヤ長も
その分だけ短くでき、インダクタンスが減少する。
Optical semiconductor chip carrier 70 of this embodiment
Is composed of a conductive base substrate 23 and a dielectric substrate 42 made of ceramic or the like. The dielectric substrate 42 includes
A signal line 231 composed of a microstrip line,
Ground lines 232, 23
4 form a symmetric coplanar electrode structure. Further, the bonding pad 235 and the ground line 23
4, a terminating resistor 233 formed of a thin film resistor is formed. The ground lines 232 and 234 have plated-through holes 23 reaching the base substrate 23.
6 are formed and electrically connected to the base substrate 23. The signal line 231 is a signal line 401 formed on the dielectric substrate 4 fixed to the evaluation stem 10.
Are electrically connected to each other by a bonding wire 261 at the shortest distance. A chip capacitor 3 and an optical modulator chip 13 having a Mach-Zehnder optical modulator as an optical semiconductor chip are provided on a base substrate 23 on a dielectric substrate 42.
And the signal line 231 and the optical modulator chip 1
3, the bonding electrode portion 235 and the optical modulator chip 13
Between the optical modulator chip 13 and the chip capacitor 3 are bonding wires 262, 263, 26, respectively.
4 are electrically connected. Also, the base substrate 2
The thickness of the portion of the base substrate 23 to which the dielectric substrate 42 is to be soldered so that the surface of the dielectric substrate 42 on the substrate 3, the surface of the optical modulator chip 13, and the surface of the chip capacitor 3 substantially match each other. It's a little thinner. This allows
Bonding becomes easier, and the length of the bonding wire can be shortened by that much, so that the inductance is reduced.

【0029】本実施例の光半導体チップキャリア70も
前記実施例と同様に、終端抵抗を内蔵させ、ベース基板
23に導電性材料を用いたことにより、光半導体チップ
キャリアの評価用ステムへの半田付け省略やワイヤボン
ディング回数を減少することができ、実装時間の短縮が
図れる。更に、光半導体チップキャリアに起因するイン
ダクタンスや寄生容量を無視できるまでに減少させてい
るので、前記実施例と同様に高周波特性の向上が図れ
た。また、対称コープレーナ電極構造としたことによ
り、信号ライン231に与えるノイズが低減される。
As in the previous embodiment, the optical semiconductor chip carrier 70 of this embodiment has a built-in terminating resistor and uses a conductive material for the base substrate 23 so that the optical semiconductor chip carrier can be soldered to the evaluation stem. The number of times of wire bonding and the number of wire bondings can be reduced, and the mounting time can be reduced. Furthermore, since the inductance and the parasitic capacitance caused by the optical semiconductor chip carrier are reduced to a negligible level, the high-frequency characteristics can be improved in the same manner as in the above embodiment. In addition, the symmetrical coplanar electrode structure reduces noise applied to the signal line 231.

【0030】<実施例3>図9は、本発明に係る光半導
体チップキャリアのまた別の実施例を示す図であり、同
図(a)は光半導体チップやチップコンデンサ等を光半
導体チップキャリアに実装した状態の平面図、(b)は
その側面図である。
<Embodiment 3> FIG. 9 is a view showing another embodiment of an optical semiconductor chip carrier according to the present invention. FIG. 9A shows an optical semiconductor chip carrier including an optical semiconductor chip and a chip capacitor. (B) is a side view thereof.

【0031】本実施例の光半導体チップキャリア62
は、導電性のベース基板27と、誘電体基板43とから
構成される。誘電体基板43には、信号ライン271及
び接地ライン272と、終端抵抗273とが集積化され
ている。従って、図6に示した集積化光源チップ15の
光変調器152と終端抵抗273の電極間のボンディン
グワイヤ752が省略できる。すなわち、本実施例では
図7に示した等価回路図において、ボンディングワイヤ
752に起因するインダクタンスL2’が無視できるこ
ととなり、高周波化とワイヤボンディング回数の低減と
を達成できる。
The optical semiconductor chip carrier 62 of the present embodiment
Is composed of a conductive base substrate 27 and a dielectric substrate 43. On the dielectric substrate 43, a signal line 271 and a ground line 272, and a terminating resistor 273 are integrated. Accordingly, the bonding wires 752 between the electrodes of the light modulator 152 and the terminating resistor 273 of the integrated light source chip 15 shown in FIG. 6 can be omitted. That is, in the present embodiment, in the equivalent circuit diagram shown in FIG. 7, the inductance L2 ′ caused by the bonding wire 752 can be ignored, and a higher frequency and a reduction in the number of wire bondings can be achieved.

【0032】なお、接地ライン272にはメッキ処理さ
れた複数個のスルーホール256が設けられているの
で、これにより光半導体チップキャリア62を評価用ス
テムに搭載したときに接地ライン272は評価用ステム
と電気的に接続される。また、半導体LD151とチッ
プコンデンサ3間及び信号ライン251と光変調器15
2間は、図6と同様に、それぞれボンディングワイヤ7
53及び751により接続されている。
Since the ground line 272 is provided with a plurality of plated-through holes 256, the ground line 272 is connected to the evaluation stem when the optical semiconductor chip carrier 62 is mounted on the evaluation stem. Is electrically connected to Further, between the semiconductor LD 151 and the chip capacitor 3 and between the signal line 251 and the optical modulator 15.
2, the bonding wires 7 are provided in the same manner as in FIG.
They are connected by 53 and 751.

【0033】以上、本発明の好適な実施例について説明
したが、本発明の精神を逸脱しない範囲内において種々
の設計変更をなし得ることは勿論である。例えば、実施
例では光半導体チップキャリア上に光半導体チップとチ
ップコンデンサとを搭載したが、半導体LDチップだけ
を搭載する用途の場合にも適用できることは言うまでも
ない。
Although the preferred embodiment of the present invention has been described above, it goes without saying that various design changes can be made without departing from the spirit of the present invention. For example, in the embodiment, the optical semiconductor chip and the chip capacitor are mounted on the optical semiconductor chip carrier. However, it is needless to say that the present invention can be applied to a case where only the semiconductor LD chip is mounted.

【0034】[0034]

【発明の効果】本発明によれば、光半導体チップキャリ
アをSiやCuWといった高熱伝導性を有する導電性材
料を用いたベース基板と、信号ライン、接地ライン及び
終端抵抗を設けた誘電体基板とから構成することによ
り、光半導体チップキャリアに起因するインダクタンス
や寄生容量の低減及びボンディングワイヤ接続箇所の低
減が図れ、高周波化と評価用ステムへの実装工数及び光
モジュールへの実装工数の低減を達成することができ
る。
According to the present invention, an optical semiconductor chip carrier is made of a base substrate using a conductive material having high thermal conductivity such as Si or CuW, and a dielectric substrate provided with signal lines, ground lines and terminating resistors. By reducing the inductance and the parasitic capacitance caused by the optical semiconductor chip carrier and the number of bonding wire connection points, the frequency can be increased and the man-hour for mounting on the evaluation stem and the man-hour for mounting on the optical module can be reduced. can do.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】従来の光半導体チップキャリアを評価用ステム
に搭載した状態を示す図であり、(a)は平面図、
(b)は平面図中に示したA−A’線に沿った断面図で
ある。
FIG. 1 is a view showing a state in which a conventional optical semiconductor chip carrier is mounted on an evaluation stem, (a) is a plan view,
(B) is a sectional view taken along line AA 'shown in the plan view.

【図2】図1に示した光半導体チップキャリアの等価回
路図である。
FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of the optical semiconductor chip carrier shown in FIG.

【図3】図2に示した等価回路により従来の光半導体チ
ップキャリアの高周波特性を計算した結果を示す図であ
り、(a)は周波数特性、(b)は反射特性である。
3A and 3B are diagrams showing the results of calculating high-frequency characteristics of a conventional optical semiconductor chip carrier using the equivalent circuit shown in FIG. 2, wherein FIG. 3A shows frequency characteristics and FIG. 3B shows reflection characteristics.

【図4】本発明に係る光半導体チップキャリアを評価用
ステムに搭載した一実施例を示す図であり、(a)は平
面図、(b)は側面図である。
FIGS. 4A and 4B are views showing an embodiment in which the optical semiconductor chip carrier according to the present invention is mounted on an evaluation stem, wherein FIG. 4A is a plan view and FIG. 4B is a side view.

【図5】本発明に係る光半導体チップキャリアの別の実
施例を示す図であり、出射角の大きな発光素子を実装し
た場合の状態を模式的に示した平面図である。
FIG. 5 is a view showing another embodiment of the optical semiconductor chip carrier according to the present invention, and is a plan view schematically showing a state in which a light emitting element having a large emission angle is mounted.

【図6】本発明に係る光半導体チップキャリアのまた別
の実施例を示す集積化光源とチップコンデンサを実装し
た図であり、(a)は平面図、(b)は側面図である。
FIGS. 6A and 6B are diagrams showing another embodiment of the optical semiconductor chip carrier according to the present invention, in which an integrated light source and a chip capacitor are mounted, wherein FIG. 6A is a plan view and FIG. 6B is a side view.

【図7】図6に示した光半導体チップキャリアの等価回
路図である。
FIG. 7 is an equivalent circuit diagram of the optical semiconductor chip carrier shown in FIG.

【図8】図7に示した等価回路により本発明の光半導体
チップキャリアの高周波特性を計算した結果を示す図で
あり、(a)は周波数特性、(b)は反射特性である。
8A and 8B are diagrams showing the results of calculating the high-frequency characteristics of the optical semiconductor chip carrier of the present invention using the equivalent circuit shown in FIG. 7, wherein FIG. 8A shows the frequency characteristics and FIG. 8B shows the reflection characteristics.

【図9】本発明に係る光半導体チップキャリアの更に別
の実施例を示す集積化光源とチップコンデンサを実装し
た図であり、(a)は平面図、(b)は側面図である。
9A and 9B are diagrams showing an integrated semiconductor light source and a chip capacitor according to still another embodiment of the optical semiconductor chip carrier according to the present invention, wherein FIG. 9A is a plan view and FIG. 9B is a side view.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2a,2b,2c…マイクロストリップ線路、3…チッ
プコンデンサ、4,41,42…誘電体基板、6…出射
光、10…評価用ステム、11,14,15…集積化光
源チップ、13…光変調器チップ、21…光半導体チッ
プキャリア、22,235…ボンディングパッド部、2
3,25,27…ベース基板、26,236,256…
スルーホール、60,61,62,70…光半導体チッ
プキャリア、151…半導体LD、152…光変調器、
231,251,252,271,401…信号ライ
ン、232,234,252a,252b,272…接
地ライン、233,253、273…終端抵抗、261
〜264…ボンディングワイヤ、711〜715…ボン
ディングワイヤ。
2a, 2b, 2c: microstrip line, 3: chip capacitor, 4, 41, 42: dielectric substrate, 6: emitted light, 10: evaluation stem, 11, 14, 15: integrated light source chip, 13: light Modulator chip, 21 optical semiconductor chip carrier, 22, 235 bonding pad part, 2
3, 25, 27 ... base substrate, 26, 236, 256 ...
Through-hole, 60, 61, 62, 70: optical semiconductor chip carrier; 151, semiconductor LD; 152, optical modulator;
231, 251, 252, 271, 401 ... signal line, 232, 234, 252a, 252b, 272 ... ground line, 233, 253, 273 ... termination resistor, 261
264: bonding wire; 711 to 715: bonding wire.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 青木 雅博 東京都国分寺市東恋ケ窪一丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 井戸 立身 東京都国分寺市東恋ケ窪一丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Masahiro Aoki Inventor, Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd., 1-280, Kokubunji, Tokyo Prefecture Central Research Laboratory

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】高熱伝導性を有する導電性のベース基板
と、該ベース基板上の一部に固着された誘電体基板とか
らなり、 前記誘電体基板上には入力信号ラインとなる高周波伝送
線路と該ベース基板に電気的に接続可能な導電性材料を
含むスルーホール部を有する接地ラインと前記高周波伝
送線路の入力信号と高周波整合をとるための抵抗とが少
なくとも形成されていて、 前記ベース基板上の誘電体基板と隣接する位置に光半導
体チップを固着して前記高周波伝送線路と光半導体チッ
プ間をボンディングワイヤにより接続できるように構成
したことを特徴とする光半導体チップキャリア。
1. A high-frequency transmission line comprising an electrically conductive base substrate having high thermal conductivity, and a dielectric substrate fixed to a part of the base substrate, wherein a high-frequency transmission line serving as an input signal line is provided on the dielectric substrate. And a ground line having a through-hole portion containing a conductive material electrically connectable to the base substrate, and at least a resistor for achieving high-frequency matching with an input signal of the high-frequency transmission line. An optical semiconductor chip carrier, wherein an optical semiconductor chip is fixed at a position adjacent to an upper dielectric substrate so that the high-frequency transmission line and the optical semiconductor chip can be connected by bonding wires.
【請求項2】前記ベース基板の導電材料は、Siまたは
CuWである請求項1記載の光半導体チップキャリア。
2. The optical semiconductor chip carrier according to claim 1, wherein the conductive material of said base substrate is Si or CuW.
【請求項3】前記高周波伝送線路および接地ラインは、
マイクロストリップラインで形成してなる請求項1記載
の光半導体チップキャリア。
3. The high-frequency transmission line and the ground line,
2. The optical semiconductor chip carrier according to claim 1, which is formed by a microstrip line.
【請求項4】前記高周波伝送線路は、その両側に前記接
地ラインで挾まれるように隣接配置してなる請求項3記
載の光半導体チップキャリア。
4. The optical semiconductor chip carrier according to claim 3, wherein said high-frequency transmission line is disposed adjacent to both sides thereof so as to be sandwiched by said ground line.
【請求項5】前記高周波伝送線路は、前記ベース基板に
搭載する光半導体チップの出射光側と反対側の位置に前
記接地ラインを隣接配置してなる請求項3記載の光半導
体チップキャリア。
5. The optical semiconductor chip carrier according to claim 3, wherein the high-frequency transmission line has the ground line adjacent to the optical semiconductor chip mounted on the base substrate, at a position opposite to the outgoing light side.
【請求項6】前記高周波整合をとるための抵抗は、前記
高周波伝送線路と接地ラインとの間に設けられた終端抵
抗である請求項1記載の光半導体チップキャリア。
6. The optical semiconductor chip carrier according to claim 1, wherein the resistor for achieving the high-frequency matching is a terminating resistor provided between the high-frequency transmission line and a ground line.
【請求項7】前記光半導体チップは、半導体レーザダイ
オードと光変調器とが集積化された集積化光源である請
求項1記載の光半導体チップキャリア。
7. The optical semiconductor chip carrier according to claim 1, wherein said optical semiconductor chip is an integrated light source in which a semiconductor laser diode and an optical modulator are integrated.
【請求項8】前記ベース基板は、前記誘電体基板の表面
と前記光半導体チップの表面の高さが略同一となるよう
に、誘電体基板を固着する部分の厚さが、光半導体チッ
プを搭載する部分の厚さよりも薄く形成されてなる請求
項1記載の光半導体チップキャリア。
8. The base substrate has a thickness at a portion to which the dielectric substrate is fixed so that the surface of the dielectric substrate and the surface of the optical semiconductor chip have substantially the same height. 2. The optical semiconductor chip carrier according to claim 1, wherein the optical semiconductor chip carrier is formed thinner than a thickness of a mounting portion.
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