JPH10277355A

JPH10277355A - ガス状汚染物質の除去方法及び除去装置

Info

Publication number: JPH10277355A
Application number: JP9093316A
Authority: JP
Inventors: Minoru Inoue; 実井上; Yukinori Shibuya; 幸徳渋谷; Junichi Wakamatsu; 潤一若松
Original assignee: TOOYOKO GROUP GIJUTSU KENKYUSHO KK; TOOYOKO RIKEN KK; Fujitsu VLSI Ltd; Fujitsu Ltd
Current assignee: TOOYOKO GROUP GIJUTSU KENKYUSHO KK; TOOYOKO RIKEN KK; Fujitsu VLSI Ltd; Fujitsu Ltd
Priority date: 1997-04-11
Filing date: 1997-04-11
Publication date: 1998-10-20

Abstract

(57)【要約】【課題】ガス状汚染物質の除去方法及び除去装置に関
し、粒子化によるガス状汚染物質の除去を効率良く、且
つ、低コストで行う。【解決手段】被清浄化気体に含まれるガス状汚染物質
を粒子化して粒子化汚染物質を形成したのち、粒子化汚
染物質を含む被清浄化気体を冷却して凝縮し、凝縮した
粒子化汚染物質を含む被清浄化気体から粒子化汚染物質
を除去する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はガス状汚染物質の除
去方法及び除去装置に関するものであり、特に、半導体
装置等の研究・製造に必要なクリーンルーム等の空気清
浄が特に重要となる空間における、空気中に含まれるガ
ス状汚染物質の除去方法及び除去装置に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】空気中には塵埃（パーティクル・ダス
ト）といわれる粒子状の汚染物質の他にガス状の汚染物
質が含まれており、この様なガス状の汚染物質が半導体
製造工程の雰囲気に混入し、製品ウェハがその汚染環境
に晒された場合、デバイスの電気的特性の劣化を引き起
こす虞れがある。

【０００３】また、半導体製造工程、液晶製造工程、或
いは、精密工場で使用される各種の薬品がクリーンルー
ム内に漏洩した場合にも、製品の品質の劣化を生ずるこ
とになる。

【０００４】この様な、ガス状の汚染物質の内で半導体
用クリーンルームで問題となるものは、有機系ガスとし
てはＤＯＰ（ｄｉｏｃｔｙｌｐｈｔｈａｌａｔｅ：フ
タル酸ジオクチル），ＤＢＰ（ｄｉｂｕｔｙｌｐｈｔ
ｈａｌａｔｅ：ジブチルフタレート）等の芳香族エステ
ルやＴＢＰ（ｔｒｉ−ｎ−ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈａｔ
ｅ：リン酸トリ−ｎ−ブチル）等のリン酸エステルであ
り、また、非有機系ガスとしてはＮＯ_x，ＳＯ_x，ＮＨ
₃，ＨＦ，ＨＣｌ等である。

【０００５】これらのガス状汚染物質の発生源として
は、外気由来のもの、製造施設内の内装材からの揮発ガ
ス、作業者からの発生ガス、製造装置からの漏洩等が考
えられる。

【０００６】従来においては、これらの空気中に含まれ
るガス状汚染物質を除去するために各種の方法が提案さ
れているが、いずれの方法も多くの欠点があり、非常に
限られた条件下でしか使用されていないのが現状であ
る。

【０００７】例えば、工場等から発生する有害ガスの多
くは、大量の薬液を使用して処理するのが一般的である
が、この様な薬液による処理技術では、処理することの
できる対象成分が使用する薬液によって限定される上、
処理コストも高く、しかも、一般大気中の濃度レベルま
での除去は不可能であった。

【０００８】また、空気中のガス状汚染物質を除去する
方法としては、ガス状汚染物質の濃度が低濃度の場合に
は、活性炭などの吸着剤を利用した方法が用いられてい
るが、このような吸着剤を用いた方法は、吸着剤の寿命
が短く、時間の経過と共に除去効率が低下するので、頻
繁に再生・交換を行う必要があるためコストが高くなる
問題があり、さらに、一般のフィルタの様に交換時期を
知らせる方法が確立していない等の技術的な問題もあ
る。

【０００９】この様な中で、被清浄化雰囲気に対する紫
外線または軟Ｘ線の照射、或いは、コロナ放電によっ
て、被清浄化雰囲気中のガス状汚染物質を粒子化してフ
ィルタで除去する方法が注目されている。

【００１０】例えば、金沢大学の並木は、低分子環状シ
ロキサン（ＬＭＣＳ）がコロナ放電により粒子化するモ
デルを提案しているが（第１３回空気清浄とコンタミネ
ーションコントロール研究大会）、そのメカニズム・反
応経路は必ずしも明らかではなく、コロナ放電により被
清浄化雰囲気中のガス状汚染物質が粒子化したり、或い
は、ガス状汚染物質が減少しているのが経験的に確認さ
れているのが現状である。

【００１１】また、この様な紫外線または軟Ｘ線の照
射、或いは、コロナ放電による粒子化工程においては、
加湿することによって粒子の発生量が増加することが経
験的に知られているが、これは、紫外線または軟Ｘ線の
照射、或いは、コロナ放電によって発生したオゾン（Ｏ
₃）と水分子（Ｈ₂Ｏ）とが反応して、ヒドロキシラジ
カル（ＯＨ・）が発生し、このヒドロキシラジカル（Ｏ
Ｈ・）により粒子化が促進されると考えられている。

【００１２】この様な、紫外線または軟Ｘ線の照射、或
いは、コロナ放電による粒子化による除去方法の場合に
は、特別の薬液や吸着剤を用いていないので、長時間、
低コストで稼働させることが可能になる。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、この様な粒子
化によるガス状汚染物質の除去方法も、効率の点で必ず
しも充分な結果が得られておらず、実用に供するには未
だ課題がある状態である。

【００１４】したがって、本発明は、粒子化によるガス
状汚染物質の除去を効率良く、且つ、低コストで行うこ
とを目的とする。

【００１５】

【課題を解決するための手段】図１は本発明の原理的構
成の説明図であり、この図１を参照して本発明における
課題を解決するための手段を説明する。図１参照（１）本発明は、ガス状汚染物質の除去方法に関し、被
清浄化気体に含まれるガス状汚染物質を粒子化して粒子
化汚染物質を形成する工程、粒子化汚染物質を含む被清
浄化気体を冷却して凝縮する工程、凝縮した粒子化汚染
物質を含む被清浄化気体から粒子化汚染物質を除去する
工程を含むことを特徴とする。

【００１６】この様に、粒子化汚染物質を形成したの
ち、粒子化汚染物質を含む被清浄化気体を冷却して凝縮
することによって、粒子化と共に生成された、核となる
ガス状汚染物質の周囲に水分子（Ｈ₂Ｏ）が付着した汚
染物質を凝縮し水滴化することによって、除去部４にお
いて粒子化汚染物質と共に効率良く回収・除去すること
ができる。

【００１７】（２）また、本発明は、上記（１）におい
て、被清浄化気体に含まれるガス状汚染物質を粒子化し
て粒子化汚染物質を形成する工程の前に、ガス状汚染物
質を含む被清浄化気体に水を噴霧する工程を設けたこと
を特徴とする。

【００１８】この様に、粒子化の工程の前に、ガス状汚
染物質を含む被清浄化気体に水を噴霧することにより、
ガス−粒子変換部１において発生したヒドロキシラジカ
ル（ＯＨ・）によって粒子化が促進される。

【００１９】（３）また、本発明は、上記（１）または
（２）において、被清浄化気体に含まれるガス状汚染物
質を粒子化して粒子化汚染物質を形成する工程が、ガス
状汚染物質を含む被清浄化気体に紫外線を照射する工
程、または、ガス状汚染物質を含む被清浄化気体をコロ
ナ放電させる工程のいずれかであることを特徴とする。

【００２０】この様に、ガス−粒子変換部１において粒
子化のために紫外線を照射する工程或いはコロナ放電工
程を用いることにより、オゾン（Ｏ₃）を効率良く発生
させることができ、また、ガス状汚染物質もイオン化し
やすくなるので、このオゾン（Ｏ₃）とガス状汚染物質
が反応して粒子化するものと考えられる。

【００２１】（４）また、本発明は、ガス状汚染物質の
除去装置において、被清浄化気体に含まれるガス状汚染
物質を粒子化して粒子化汚染物質を形成するガス−粒子
変換部１、粒子化汚染物質を含む被清浄化気体を冷却し
て凝縮する凝縮部３、及び、凝縮した粒子化汚染物質を
含む被清浄化気体から粒子化汚染物質を除去する除去部
４を備えていることを特徴とする。

【００２２】（５）また、本発明は、上記（４）におい
て、ガス−粒子変換部１の前段に、ガス状汚染物質を含
む被清浄化気体に水を噴霧する水噴霧部を設けたことを
特徴とする。

【００２３】（６）また、本発明は、上記（４）または
（５）において、ガス−粒子変換部１が、紫外線照射手
段、または、コロナ放電手段のいずれかであることを特
徴とする。

【００２４】（７）また、本発明は、上記（６）におい
て、ガス−粒子変換部１が、紫外線照射手段からなり、
この紫外線照射手段が、紫外線ランプ２、及び、紫外線
ランプ２を保護し、且つ、紫外線ランプ２を除去装置を
構成するチャンバー内の被清浄化気体に対して気密にす
るガラス管を備えていることを特徴とする。

【００２５】この様に、ガス−粒子変換部１を、紫外線
ランプ２、及び、紫外線ランプ２を保護し、且つ、紫外
線ランプ２を除去装置を構成するチャンバー内の被清浄
化気体に対して気密にするガラス管を備えた紫外線照射
手段によって構成することによって、空調機や送風機を
止めることなく紫外線ランプ２の交換が可能となり、メ
ンテナンスが容易になる。

【００２６】

【発明の実施の形態】本発明の第１の実施の形態の製造
工程を図２及び図３を参照して説明する。図２は、本発
明の第１の実施の形態の除去装置の概念的構成図であ
り、例えば、クリーンルームの循環処理用空調機に適用
するものであり、また、図３は、この除去装置に組み込
まれるガス−粒子変換ユニットの概念的構成図であり、
図２に示すガス−粒子変換ユニットはこの第３図の断面
の構成を示している。

【００２７】図２参照このクリーンルームの循環処理用空調機に用いるガス状
汚染物質の除去装置は、チャンバー１１に空気を吸い込
むための空気流入口１２と浄化した空気をクリーンルー
ムへ送り出す空気流出口１３とを設けたチャンバー１１
の内部に、空気流入口１２側から順に、チャンバー１１
内に導入した空気の流れを作る送風ユニット１４、空気
中に含まれるガス状汚染物質を粒子化する紫外線ランプ
１６を備えたガス−粒子変換ユニット１５、粒子化した
ガス状汚染物質を含む空気を冷却凝縮する凝縮ユニット
１７、及び、粒子化したガス状汚染物質を除去する除去
ユニット１８を備えている。

【００２８】この送風ユニット１４には送風機が備えら
れており、チャンバー１１内に導入された空気は送風機
によってガス−粒子変換ユニット１５に送られ、ガス−
粒子変換ユニット１５においてガス状汚染物質は粒子化
されると共に、ガス状汚染物質を核として、回りに水分
子（Ｈ₂Ｏ）が付着した汚染物質も生成される。

【００２９】図３参照このガス−粒子変換ユニット１５は、チャンバー１１の
一方の側面から反対の側面に延在する横長の紫外線ラン
プ１６を複数本（図においては、５本）水平に互いに平
行に配置したものである。

【００３０】この各紫外線ランプ１６は、それぞれ石英
ガラス製等の紫外線を透過するガラス管１９で覆われる
ことによって、保護されると共に、紫外線ランプ１６を
交換する場合には、ガラス管１９によってチャンバー１
１内の雰囲気と遮断されてまた空気はガラス管１９の間
の間隙２１を通過するので、空気の流れを止めることな
く交換することができ、したがって、メンテナンスが容
易になる。

【００３１】この各紫外線ランプ１６には両端に設けた
紫外線ランプ用電極２０から電力が供給され、発生した
紫外線によって空気をイオン化してＯ₃を発生させると
共に、空気中に含まれるガス状汚染物質のイオン化しや
すくし、それらの反応によってガス状汚染物質を粒子化
するものである。

【００３２】また、この紫外線ランプ１６から放出され
る紫外線の波長は特別に限定されるものでなく、本発明
の場合には１８４．９ｎｍと２５３．７ｎｍにピークを
有する紫外線ランプ１６を用いているが、オゾンが発生
するのに必要な波長である２４２ｎｍ以下であることが
好ましい。

【００３３】再び、図２参照また、凝縮ユニット１７においては、組み込まれている
冷却コイルにより粒子化されたガス状汚染物質を含む空
気を凝縮するものであり、冷却によって空気中に含まれ
るガス状汚染物質を核として、回りに水分子が付着した
汚染物質が凝縮し、水滴として大きく成長することによ
って除去ユニット１８において除去されるものである。

【００３４】また、この冷却によって揮発性の高い物質
も凝縮され、さらに、水に溶けやすいガス状汚染物質
は、空気中に含まれる水蒸気が凝縮して形成された水滴
に溶解して除去ユニット１８において除去される。

【００３５】また、除去ユニット１８は、０．３μｍの
粒径のパーティクルを９９．９７％以上９９．９９９％
未満の補集率で補集するＨＥＰＡ（ＨｉｇｈＥｆｆｉ
ｃｉｅｎｃｙＰａｒｔｉｃｕｌａｔｅＡｉｒ）フィ
ルタ、或いは、０．１５μｍの粒径のパーティクルを９
９．９９５％以上の補集率で補集するＵＬＰＡ（Ｕｌｔ
ｒａＬｏｗＰｅｎｅｔｒａｔｉｏｎＡｉｒ）フィ
ルタ等の乾式の高性能フィルタを備えており、このフィ
ルタによって粒子化したガス状汚染物質や凝縮により形
成され水滴状汚染物質が回収され、ガス状汚染物質がご
く少量になった空気が空気流出口１３からクリーンルー
ム内に送り出されることになる。

【００３６】この様に、本発明の第１の実施の除去装置
を用いることによって、薬液や吸着剤等を用いることな
く、空気中に含まれるガス状汚染物質を効率良く除去す
ることができ、メンテナンスとしては紫外線ランプ１６
の交換と、除去ユニット１８に組み込まれたフィルタの
浄化・交換が必要になるだけである。

【００３７】次に、図４を参照して本発明の第２の実施
の形態の除去装置を説明するが、この除去装置は、クリ
ーンルームに導入する空気を外気から取り入れる際に使
用する外気処理用空調機に適用するものである。

【００３８】図４参照この外気処理用空調機に用いるガス状汚染物質の除去装
置は、チャンバー１１に空気を吸い込むための空気流入
口１２と浄化した空気をクリーンルームへ送り出す空気
流出口１３を設けたチャンバー１１の内部に、空気流入
口１２側から順に、外気に含まれる塵埃などの粒子を取
り除く前処理ユニット２２、チャンバー１１内に導入し
た外気の流れを作る送風ユニット１４、送風ユニット１
４より送られる空気を整流する整流ユニット２３、外気
に含まれる塵埃を除去すると共に空気に水を供給する水
噴霧ユニット２４、水を十分含んでいる空気から余分な
水を除去するエリミネーター２５、空気中に含まれるガ
ス状汚染物質を粒子化する紫外線ランプ１６を備えたガ
ス−粒子変換ユニット１５、粒子化したガス状汚染物質
含む空気を冷却する凝縮ユニット１７、及び、粒子化し
たガス状汚染物質を除去する除去ユニット１８を備えて
いる。

【００３９】また、この外気処理用空調機においては、
水噴霧ユニット２４、エリミネーター２５、ガス−粒子
変換ユニット１５、及び、凝縮ユニット１７においては
水滴或いは汚染物質を含んだ水滴が滴下するので、滴下
した水滴を回収するためにドレンパン（露うけ）２６を
設ける。

【００４０】この送風ユニット１４には送風機が備えら
れており、送風ユニット１４により空気流入口１２より
チャンバー１１内に導入される外気は、前処理ユニット
２２に組み込まれている中性能フィルタや高性能フィル
タにより外気に含まれる塵埃などを除去する。

【００４１】ついで、前処理ユニット２２を通過した空
気は送風ユニット１４を通過して、水噴霧ユニット２４
に備えられたエアワッシャーからでる水が飛び散るのを
防ぐために、整流ユニット２３内に備えた整流板により
乱れた気流を整える。

【００４２】次いで、水噴霧ユニット２４において、水
を供給することによって、空気中に含まれる塵埃を除去
すると共に、ガス−粒子変換ユニット１４における粒子
化を促進するために空気中の水分濃度を高める。

【００４３】次いで、下流側に存在するユニットを構成
する部品等の劣化を防止するために、水噴霧ユニット２
４において水分を十分含んだ空気をエリミネーター２５
を通過させることによって、空気中に含まれる余分な水
分、即ち、空気中に水滴として存在している水分を除去
する。

【００４４】次いで、余分な水分の除去された空気はガ
ス−粒子変換ユニット１５に送られ、ガス−粒子変換ユ
ニット１５において紫外線ランプ１６による紫外線照射
によってガス状汚染物質が粒子化されると共に、ガス状
汚染物質を核として、回りに水分子が付着した汚染物質
が形成される。

【００４５】この場合のガス−粒子変換ユニット１５
は、上述の第１の実施の形態で用いた図３に示すガス−
粒子変換ユニット１５と同じであるが、この第２の実施
の形態においては、事前に加湿しているので、紫外線の
照射よって発生したオゾン（Ｏ ₃）と水噴霧により加え
た水分子（Ｈ₂Ｏ）とが反応して、ヒドロキシラジカル
（ＯＨ・）が発生し、このヒドロキシラジカル（ＯＨ
・）により粒子化がより促進される。

【００４６】次いで、凝縮ユニット１７において、組み
込まれている冷却コイルにより粒子化されたガス状汚染
物質を含む空気を冷却することによって、冷却によって
空気中に含まれるガス状汚染物質を核として、回りに水
分子が付着した汚染物質が凝縮し、水滴として大きく成
長することによって、液滴として滴下したものはドレン
パン２６によって回収され、滴下しなかったものは除去
ユニット１８において除去されることになる。

【００４７】また、この冷却によって揮発性の高い物質
も凝縮され除去ユニット１８において除去されやすくな
ると共に、粒子化汚染物質或いはガス状汚染物質のうち
水に溶けやすい物質は冷却によって水滴中に溶解しやす
くなり除去が促進される。

【００４８】次いで、冷却されてガス状汚染物質或いは
水滴状の汚染物質を含んだ空気は、除去ユニット１８に
おいて、組み込まれているＨＥＰＡフィルタ、或いは、
ＵＬＰＡフィルタ等の乾式の高性能フィルタを通過する
ことによって粒子化したガス状汚染物質及び水滴状の汚
染物質が回収され、ガス状汚染物質がごく少量になった
空気が空気流出口１３からクリーンルーム内に送り出さ
れることになる。

【００４９】ここで、この外気処理空調機による除去工
程の一例を示すと、有機化合物量をメタン（ＣＨ₄）と
全有機化合物（ＴＨＣ）からメタンを除いた非メタン
（ＮＭＨＣ）に分け、ガス−粒子変換ユニット１５を通
過する前の空気中の含有量は、メタン：２．２０ｐｐｍＣ非メタン：０．７４ｐｐｍＣ全有機化合物：２．９４ｐｐｍＣであった。なお、ｐｐｍＣにおけるＣは炭素を表し、し
たがって、ｐｐｍＣは炭素原子数を基準としたｐｐｍ値
であり、例えば、炭素原子が３個のプロパン（Ｃ
₃Ｈ₈）１ｐｐｍは３ｐｐｍＣとなる。

【００５０】また、ガス−粒子変換ユニット１５及び凝
縮ユニット１７を通過した後の空気中のガス状の有機化
合物の含有量は、メタン：２．０９ｐｐｍＣ非メタン：０．２０ｐｐｍＣ全有機化合物：２．２９ｐｐｍＣでとなり、通過前後の変化量は、メタン：０．１１ｐｐｍＣ非メタン：０．５４ｐｐｍＣ全有機化合物：０．６５ｐｐｍＣであった。

【００５１】したがって、ガス−粒子変換ユニット１５
（及び、凝縮ユニット１７）通過前後の変化の割合は、メタン：５％非メタン：７３％全有機化合物：２２％となり、メタンに関しては殆ど除去できないが、メタン
は半導体製造工程においてガス状汚染物質の除去対象に
入っていないので、特に問題は生じない。

【００５２】一方、非メタンについては、７３％が除去
されるので、半導体製造工程で問題となるＤＯＰやＤＢ
Ｐ等の芳香族エステル、或いは、ＴＢＰ等のリン酸エス
テルを効果的に除去することができる。

【００５３】この様に、加湿工程を加えた本発明の第２
の実施の除去装置を用いることによって、薬液や吸着剤
等を用いることなく、空気中に含まれるガス状汚染物質
を非常に効率良く除去することができ、メンテナンスと
しては紫外線ランプ１６の交換と、除去ユニット１８に
組み込まれたフィルタの浄化・交換が必要になるだけで
ある。

【００５４】以上、本発明の第１及び第２の実施の形態
を説明してきたが、ガス−粒子変換ユニット１５は紫外
線照射型に限られるものではなく、コロナ放電を用いて
良いものであり、その場合には、平行平板電極間に電界
を加えてガス状汚染物質を含む空気をコロナ放電させれ
ば良い。

【００５５】このコロナ放電によって空気はイオン化さ
れ、紫外線照射の場合と同様にＯ₃が発生し、発生した
Ｏ₃によりガス状汚染物質を粒子化すると共に、ガス状
汚染物質を核として回りに水分子を付着させた汚染物質
も生成することができるものである。

【００５６】このコロナ放電型の場合には、紫外線照射
型に比べて低コストで取扱が簡単であると言う長所があ
る反面、粒子の発生量が少なく、電極から発塵するとい
う短所があり、一方、紫外線照射型の場合には、粒子の
発生量が多く、軽量で取り扱いが比較的簡単であるとい
う長所がある。

【００５７】また、上記の第１の実施の形態において
は、通常のクリーンルーム循環用空調機に組み込まれて
いる冷却コイルは一般に除湿する能力を有していないた
め、水の噴霧を行わないので、水噴霧ユニット及びエリ
ミネーターが不要となり、それに伴って、水の飛散及び
滴下が生じないので、整流ユニット及びドレンパンも不
要となる。

【００５８】但し、クリーンルーム循環用空調機に組み
込まれている冷却コイルに除湿能力を持たせた場合に
は、前処理ユニットを除いて、他の構成を上記第２の実
施の形態と同様にすることができる。

【００５９】また、上記の各実施の形態においては、除
去対象となるガス状汚染物質を有機化合物として説明し
ているが、本発明においては、冷却による凝縮工程、即
ち、凝縮による水滴化工程を設けているので、ＮＯ_x，
ＳＯ_x，ＮＨ₃，ＨＦ，ＨＣｌ等の非有機系ガスの除去
も可能であると考えられる。

【００６０】また、本発明の空調機は半導体製造用或い
は液晶製造用のクリーンルーム用に限られるものではな
く、製薬工場や病院等で、空気中のガス状汚染物質が問
題となる場合に適用できるものである。

【００６１】

【発明の効果】本発明によれば、ガス−粒子変換ユニッ
トにおいてガス状の汚染物質を粒子化したのち、冷却に
より凝縮することによって、粒子化した汚染物質及び水
滴状の汚染物質を効率良く除去することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の原理的構成の説明図である。

【図２】本発明の第１の実施の形態の除去装置の概念的
構成図である。

【図３】本発明の第１の実施の形態に用いるガス−粒子
変換ユニットの概念的構成図である。

【図４】本発明の第２の実施の形態の除去装置の概念的
構成図である。

【符号の説明】

１ガス−粒子変換部２紫外線ランプ３凝縮部４除去部１１チャンバー１２空気流入口１３空気流出口１４送風ユニット１５ガス−粒子変換ユニット１６紫外線ランプ１７凝縮ユニット１８除去ユニット１９ガラス管２０紫外線ランプ用電極２１間隙２２前処理ユニット２３整流ユニット２４水噴霧ユニット２５エリミネーター２６ドレンパン

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 593076747 株式会社トーヨコグループ技術研究所神奈川県横浜市都筑区仲町台３丁目12番２号 (72)発明者井上実愛知県春日井市高蔵寺町二丁目1844番２富士通ヴィエルエスアイ株式会社内 (72)発明者渋谷幸徳横浜市都筑区仲町台３−12−２株式会社トーヨコグループ技術研究所内 (72)発明者若松潤一東京都千代田区三番町８−７株式会社トーヨコ理研内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被清浄化気体に含まれるガス状汚染物質
を粒子化して粒子化汚染物質を形成する工程、前記粒子
化汚染物質を含む被清浄化気体を冷却して凝縮する工
程、前記凝縮した粒子化汚染物質を含む被清浄化気体か
ら粒子化汚染物質を除去する工程を含むことを特徴とす
るガス状汚染物質の除去方法。
【請求項２】上記被清浄化気体に含まれるガス状汚染
物質を粒子化して粒子化汚染物質を形成する工程の前
に、前記ガス状汚染物質を含む被清浄化気体に水を噴霧
する工程を設けたことを特徴とする請求項１記載のガス
状汚染物質の除去方法。
【請求項３】上記被清浄化気体に含まれるガス状汚染
物質を粒子化して粒子化汚染物質を形成する工程が、前
記ガス状汚染物質を含む被清浄化気体に紫外線を照射す
る工程、または、前記ガス状汚染物質を含む被清浄化気
体をコロナ放電させる工程のいずれかであることを特徴
とする請求項１または２に記載のガス状汚染物質の除去
方法。
【請求項４】被清浄化気体に含まれるガス状汚染物質
を粒子化して粒子化汚染物質を形成するガス−粒子変換
部、前記粒子化汚染物質を含む被清浄化気体を冷却して
凝縮する凝縮部、及び、前記凝縮した粒子化汚染物質を
含む被清浄化気体から粒子化汚染物質を除去する除去部
を備えていることを特徴とするガス状汚染物質の除去装
置。
【請求項５】上記ガス−粒子変換部の前段に、上記ガ
ス状汚染物質を含む被清浄化気体に水を噴霧する水噴霧
部を設けたことを特徴とする請求項４記載のガス状汚染
物質の除去装置。
【請求項６】上記ガス−粒子変換部が、紫外線照射手
段、または、コロナ放電手段のいずれかであることを特
徴とする請求項４または５に記載のガス状汚染物質の除
去装置。
【請求項７】上記ガス−粒子変換部が、紫外線照射手
段からなり、前記紫外線照射手段が、紫外線ランプ、及
び、前記紫外線ランプを保護し、且つ、前記紫外線ラン
プを除去装置を構成するチャンバー内の被清浄化気体に
対して気密にするガラス管を備えていることを特徴とす
る請求項６記載のガス状汚染物質の除去装置。