JPH10279541A - 2−置換グリコール酸化合物及びその製造方法 - Google Patents

2−置換グリコール酸化合物及びその製造方法

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JPH10279541A
JPH10279541A JP8392497A JP8392497A JPH10279541A JP H10279541 A JPH10279541 A JP H10279541A JP 8392497 A JP8392497 A JP 8392497A JP 8392497 A JP8392497 A JP 8392497A JP H10279541 A JPH10279541 A JP H10279541A
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JP
Japan
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methyl
group
compound
general formula
hydrogen
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JP8392497A
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Takashi Nanba
多加志 難波
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Nippon Shokubai Co Ltd
Original Assignee
Nippon Shokubai Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 新規な2−置換グリコール酸化合物及びその
製造方法を提供することである。 【解決手段】 一般式(1): 【化1】 (式中、R1は水素または低級アルキル基、XおよびY
はそれぞれ独立に有機残基であり、XとYとは互いに結
合していても良い。)で示される2−置換グリコール酸
化合物に関する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規な2−置換グ
リコール酸化合物及びその製造方法に関するものであ
る。本発明の2−置換グリコール酸化合物は、生分解性
ポリマーの原料等に有用である。
【0002】
【従来の技術】従来、2−置換グリコール酸化合物とし
ては、乳酸あるいはそのエステルのごとき2位の炭素上
の水素がアルキル基等の炭化水素基で置換された化合物
が知られている。これらの化合物は、生分解性ポリマー
の原料として有用なものであるが、置換基として炭化水
素基の如き非極性基しか持たないため、得られる生分解
性ポリマーに種々の機能を付与することが非常に困難で
あった。
【0003】また、2位の炭素上の水素がアルキル基以
外の極性官能基で置換された2−置換グリコール酸化合
物、及び該化合物の工業的に有用な製造方法は知られて
いなかった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、新規な2−
置換グリコール酸化合物及びその製造方法を提供するこ
とを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式
(1):
【0006】
【化11】
【0007】(式中、R1は水素または低級アルキル
基、XおよびYはそれぞれ独立に有機残基であり、Xと
Yとは互いに結合していても良い。)で示される2−置
換グリコール酸化合物に関する。
【0008】また本発明の他の発明は、一般式(7):
【0009】
【化12】
【0010】(式中、XおよびYはそれぞれ独立に有機
残基である。)で示される含窒素化合物のNH基と、一
般式(8):
【0011】
【化13】
【0012】(式中、R1は水素または低級アルキル基
である。)で示されるグリオキシル酸エステル化合物の
アルデヒド基とを反応させて得られる2−置換グリコー
ル酸化合物に関する。
【0013】また本発明の他の発明は、一般式(7):
【0014】
【化14】
【0015】(式中、XおよびYはそれぞれ独立に有機
残基である。)で示される含窒素化合物と、一般式
(8):
【0016】
【化15】
【0017】(式中、R1は低級アルキル基である。)
で示されるグリオキシル酸エステル化合物とを反応させ
ることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載
の2−置換グリコール酸化合物の製造方法に関する。
【0018】
【発明の実施の形態】本発明に係る2−置換グリコール
酸化合物は、前記一般式(1)で示される2−置換グリ
コール酸化合物である。具体的には、下記一般式(2)
〜(6)で示される2−置換グリコール酸化合物が挙げ
られる。
【0019】一般式(2):
【0020】
【化16】
【0021】(式中、R1は水素または低級アルキル
基、R2およびR3はそれぞれ独立に水素または有機残
基であり、R2とR3とは互いに結合していても良
い。) 一般式(3):
【0022】
【化17】
【0023】(式中、R1は水素または低級アルキル
基、mおよびnは0または正の整数であり、且つm+n
は2〜5であり、Aは直接結合しているか、または窒
素、酸素、硫黄、珪素およびリンからなる群より選ばれ
る一種のヘテロ原子である。) 一般式(4):
【0024】
【化18】
【0025】(式中、R1は水素または低級アルキル
基、R4およびR5はそれぞれ独立に低級アルキル基、
シクロアルキル基、アルケニル基またはフェニル基であ
り、互いに結合していても良い。) 一般式(5):
【0026】
【化19】
【0027】(式中、R1は水素または低級アルキル
基、R6およびR7はそれぞれ独立に、直接結合してい
るか、またはアルキル基、シクロアルキル基、アルケニ
ル基若しくはフェニル基であり、Aは直接結合している
か、または窒素、酸素、硫黄、珪素およびリンからなる
群より選ばれる一種のヘテロ原子である。) 一般式(6):
【0028】
【化20】
【0029】(式中、R1は水素または低級アルキル
基、R8およびR9はそれぞれ独立に水素または有機残
基であり、R8とR9とは互いに結合していても良
い。) 本発明の2−置換グリコール酸化合物の具体例として
は、例えば (1)2−(N−メチルアセトアミド)−グリコール酸
エステル、2−(N−メチルホルムアミド)−グリコー
ル酸エステル等の非環状アミド基を有する化合物; (2)2−(2−オキソ−アゼチジノ)−グリコール酸
メチル、2−(2−オキソ−ピロリジノ)−グリコール
酸メチル、2−(2−オキソ−ピペリジノ)−グリコー
ル酸メチル、2−(2−オキソ−ヘキサメチレンイミ
ノ)−グリコール酸メチル、2−(2−オキソ−モルホ
リノ)−グリコール酸メチル、2−(2−オキソ−ピペ
ラジノ)−グリコール酸メチル、2−(オキサゾリドニ
ル)−グリコール酸メチル等の環状アミド基や環状ウレ
タン基を有する化合物; (3)2−(アクリルアミド)−グリコール酸メチル、
2−(N−メチルアクリルアミド)−グリコール酸メチ
ル、2−(N−エチルアクリルアミド)−グリコール酸
メチル、2−(N−プロピルアクリルアミド)−グリコ
ール酸メチル、2−(N−イソプロピルアクリルアミ
ド)−グリコール酸メチル、2−(N−シクロヘキシル
アクリルアミド)−グリコール酸メチル、2−(N−フ
ェニルアクリルアミド)−グリコール酸メチル、2−
(メタクリルアミド)−グリコール酸メチル、2−(N
−メチルメタクリルアミド)−グリコール酸メチル、2
−(N−エチルメタクリルアミド)−グリコール酸メチ
ル、2−(N−プロピルメタクリルアミド)−グリコー
ル酸メチル、2−(N−イソプロピルメタクリルアミ
ド)−グリコール酸メチル、2−(N−シクロヘキシル
メタクリルアミド)−グリコール酸メチル、2−(N−
フェニルメタクリルアミド)−グリコール酸メチル等の
(メタ)アクリルアミド構造を有する化合物; (4)2−(N−ビニルホルムアミド)−グリコール酸
メチル、2−(N−ビニルアセトアミド)−グリコール
酸メチル等のN−ビニルアミド構造を有する化合物; (5)2−(N,N−ジメチルアミノ)−グリコール酸
メチル、2−(N,N−ジエチルアミノ)−グリコール
酸メチル、2−(N,N−ジプロピルアミノ)−グリコ
ール酸メチル、2−(N,N−ジイソプロピルアミノ)
−グリコール酸メチル、2−(N,N−ジブチルアミ
ノ)−グリコール酸メチル、2−(N,N−ジフェニル
アミノ)−グリコール酸メチル、2−(N−メチルーN
−エチルアミノ)−グリコール酸メチル、2−(N−メ
チル−N−プロピルアミノ)−グリコール酸メチル、2
−(N−メチル−N−ブチルアミノ)−グリコール酸メ
チル、2−(N−メチル−N−フェニルアミノ)−グリ
コール酸メチル等のアミノ基を有する化合物; (6)2−アジリジノ−グリコール酸メチル、2−アゼ
チジノ−グリコール酸メチル、2−ピロリジノ−グリコ
ール酸メチル、2−ピペリジノ−グリコール酸メチル、
2−ヘキサメチレンイミノ−グリコール酸メチル、2−
モルホリノ−グリコール酸メチル、2−ピペラジノ−グ
リコール酸メチル、2−イミダゾリノ−グリコール酸メ
チル、2−カルボゾリノ−グリコール酸メチル等のイミ
ノ基を有する化合物; (7)2−ジアセトアミド−グリコール酸メチル、2−
サクシンイミド−グリコール酸メチル、2−マレイミド
−グリコール酸メチル、2−フタロイミド−グリコール
酸メチル等のイミド基を有する化合物;等を挙げること
ができる。
【0030】また本発明に係る2−置換グリコール酸化
合物は、前記一般式(7)で示される含窒素化合物のN
H基と、前記一般式(8)で示されるグリオキシル酸エ
ステル化合物のアルデヒド基とを反応させて得られる2
−置換グリコール酸化合物である。
【0031】前記一般式(7)で示される含窒素化合物
の具体例としては、下記一般式(9)〜(15)の何れ
かで示される含窒素化合物等を挙げることができる。
【0032】一般式(9):
【0033】
【化21】
【0034】(式中、 R2、R3はそれぞれ独立に水
素または有機残基であり、互いに結合していても良
い。)で示されるN−置換アミド 一般式(10):
【0035】
【化22】
【0036】(式中、 mおよびnは0または正の整数
であり、且つm+nは2〜5であり、Aは直接結合して
いるかまたは、窒素、酸素、硫黄、珪素およびリンから
なる群より選ばれる1種のヘテロ原子である。)で示さ
れるラクタムまたは環状ウレタン 一般式(11):
【0037】
【化23】
【0038】(式中、R10は有機残基であり、R11は水
素またはメチル基である。)で示されるN−置換(メ
タ)アクリルアミド 一般式(12):
【0039】
【化24】
【0040】(式中、 R12は、水素または有機残基で
ある。)で示されるN−ビニルアミド 一般式(13):
【0041】
【化25】
【0042】(式中、 R4、R5はそれぞれ独立に有
機残基である。)で示される2級アミン 一般式(14):
【0043】
【化26】
【0044】(式中、 R6及びR7はそれぞれ独立
に、直接結合しているか、またはアルキル基、シクロア
ルキル基、アルケニル基もしくはフェニル基であり、A
は直接結合しているか、または窒素、酸素、硫黄、珪素
およびリンからなる群より選ばれる1種のヘテロ原子で
ある。)で示されるイミン 一般式(15):
【0045】
【化27】
【0046】(式中、R8及びR9はそれぞれ独立に、
水素、低級アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル
基またはフェニル基であり、またR8及びR9は互いに
結合していても良い。)で示されるジアミドやイミド 前記一般式(7)で示される含窒素化合物の具体例とし
ては、N−メチルアセトアミド、N−メチルホルムアミ
ド等のN−置換アミド化合物;2−オキソ−アゼチジ
ン、2−ピロリドン、2−ピペリドン、カプロラクタ
ム、モルホリノン、ピペラジノン、オキサゾリドン等の
ラクタムまたは環状ウレタン化合物;(メタ)アクリル
アミドN−メチル(メタ)アクリルアミド、N−エチル
(メタ)アクリルアミド、N−プロピル(メタ)アクリ
ルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、
N−シクロヘキシル(メタ)アクリルアミド、N−フェ
ニル(メタ)アクリルアミド等のN−置換(メタ)アク
リルアミド化合物;N−ビニルホルムアミド、N−ビニ
ルアセトアミド等のN−ビニルアミド化合物;N,N−
ジメチルアミン、N,N−ジエチルアミン、N,N−ジ
プロピルアミン、N,N−ジイソプロピルアミン、N,
N−ジブチルアミン、N,N−ジフェニルアミン、N−
メチルーN−エチルアミン、N−メチル−N−プロピル
アミン、N−メチル−N−ブチルアミン、N−メチルア
ニリン等のN,N−置換アミン化合物;エチレンイミ
ン、アゼチジン、ピロリジン、ピペリジン、ヘキサメチ
レンイミン等のイミン化合物;モルホリン、ピペラジ
ン、イミダゾリン、カルバゾール;ジアセトアミド等の
ジアミド化合物;コハク酸イミド、マレイミド、フタル
酸イミド等のイミド化合物等を挙げることができる。
【0047】また、前記一般式(8)で示されるグリオ
キシル酸エステルの具体例としては、グリオキシル酸メ
チル、グリオキシル酸エチル、グリオキシル酸プロピ
ル、グリオキシル酸イソプロル、グリオキシル酸ブチ
ル、グリオキシル酸2ーエチルヘキシル、グリオキシル
酸オクチル、グリオキシル酸シクロヘキシル、グリオキ
シル酸フェニル等のグリオキシル酸のアルキルアルコー
ル、シクロアルキルアルコール或いは芳香族アルコール
のエステルを挙げることができる。
【0048】前記一般式(7)で示される含窒素化合物
と前記一般式(8)で示されるグリオキシル酸エステル
化合物とを反応させる方法には特に制限はないが、前記
一般式(7)で示される含窒素化合物またはその溶液
に、前記一般式(8)で示されるグリオキシル酸エステ
ルまたはその溶液を添加する方法が、前記反応により生
成した2−置換グリコール酸化合物と前記一般式(8)
で示されるグリオキシル酸エステルとの副反応を抑制
し、高選択率で目的とする2−置換グリコール酸化合物
を得られる点で好ましい。
【0049】本発明の2−置換グリコール酸化合物を合
成する際に、必要に応じて溶媒を用いてもよい。用いる
ことができる溶媒としては、グリオキシル酸エステルの
アルデヒドとNHとの反応を阻害しないものであれば特
に限定されるものではないが、具体的には例えば、ヘキ
サン、オクタンの如き脂肪族炭化水素;シクロヘキサン
の如き脂環式飽和炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キ
シレンの如き芳香族炭化水素類;アセトン、メチルエチ
ルケトンの如きケトン類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢
酸ブチルの如きエステル類;ジクロロメタン、クロロホ
ルム、四塩化炭素の如きハロゲン化炭化水素類;ジエチ
ルエーテル、ジオキサン、ジオキソランの如きエーテル
類;ジメチルホルムアミドの如きアミド類;ジメチルス
ルホキシドの如きスルホン酸エステル類;メタノール、
エタノール、2−プロパノールの如きアルコール類及び
水などを挙げることが出来、これらの1種または2種以
上を用いることができる。
【0050】前記一般式(7)で示される含窒素化合物
と前記一般式(8)で示されるグリオキシル酸エステル
化合物とを反応させる際には、特に触媒を必要としない
が、反応促進や副反応を抑制することを目的として、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、
ナトリウムメチラート、リチウムメチラート、ナトリウ
ムエチラートの如き塩基性触媒や、塩酸や硫酸、硝酸、
メタンスルホン酸、ゼオライトの如き酸触媒などを用い
ても良い。
【0051】また、前記一般式(7)で示される含窒素
化合物と前記一般式(8)で示されるグリオキシル酸エ
ステル化合物とを反応させる際の反応温度にも特に制限
はないが、反応系の融点以上、使用するアミド化合物及
びグリオキシル酸エステル化合物の沸点以下の温度範囲
で反応することが好ましく、また反応温度の制御の容易
さという点で、−100℃〜250℃の温度範囲が好ま
しく、さらに効率良く、高選択率で本発明の2ー置換グ
リコール酸化合物を得られるという点で、0〜70℃の
温度範囲であることがより好ましい。
【0052】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらにより限定されるものではない。
【0053】<実施例1>撹拌機、冷却器、温度計、窒
素導入管及び滴下ロートを備えた500ml4つ口フラ
スコに、ε−カプロラクタム169.74gとクロロホ
ルム150mlを仕込み、室温で撹拌しながらε−カプ
ロラクタムをクロロホルムに完全に溶解させた。
【0054】次に、フラスコ内の温度を氷水浴で5℃以
下に維持しながら、撹拌下、グリオキシル酸メチル13
2.09gを約1時間かけて前記滴下ロートより滴下
し、その後5℃で2時間熟成した。
【0055】得られた反応液を500mlナスフラスコ
に移し、ロータリーエバポレーターを用いてクロロホル
ムを約120ml留去した後、内容液を室温で48時間
静置したところ結晶が析出した。
【0056】析出した結晶をブフナーロートで吸引濾過
して濾別し、ロート上の結晶をジエチルエーテルで数回
洗浄した後、室温で減圧乾燥する事により、実施例生成
物(1)約210g(収率:70%)を得た。
【0057】生成物(1)の1H−核磁気共鳴スペクト
ル、赤外線吸収スペクトル及び元素分析の結果から生成
物(1)が、2−(2−オキソ−ヘキサメチレンイミ
ノ)−グリコール酸メチルであることを確認した。1
−NMRのチャートを図1に、赤外線吸収スペクトルを
図2に、さらに元素分析の結果を表1に示す。
【0058】
【表1】
【0059】<実施例2>撹拌機、冷却器、温度計、窒
素導入管及び滴下ロートを備えた300ml4つ口フラ
スコに、2−ピロリドン85.11gとクロロホルム1
00mlを仕込んだ。
【0060】次に、フラスコ内の温度を氷水浴で5℃以
下に維持しながら、撹拌下、グリオキシル酸メチル13
2.09gを約1時間かけて前記滴下ロートより滴下
し、その後5℃で2時間熟成した。
【0061】得られた反応液を500mlナスフラスコ
に移し、ロータリーエバポレーターを用いてクロロホル
ムを約120ml留去した後、内容物を2lのジエチル
エーテルに一気に添加し、結晶を析出させた。
【0062】析出した結晶をブフナーロートで吸引濾過
して濾別し、ロート上の結晶をジエチルエーテルで数回
洗浄した後、室温で減圧乾燥する事により、実施例生成
物(2)約105g(収率:61%)を得た。
【0063】生成物(2)の1H−核磁気共鳴スペクト
ル、赤外線吸収スペクトル及び元素分析の結果から生成
物(2)が、2−(2−オキソ−ピロリジノ)−グリコ
ール酸メチルであることを確認した。1H−NMRのチ
ャートを図3に、赤外線吸収スペクトルを図4に、さら
に元素分析の結果を表2に示す。
【0064】
【表2】
【0065】<実施例3>撹拌機、冷却器、温度計、窒
素導入管及び滴下ロートを備えた100ml4つ口フラ
スコに、ピロリジン14.22gとクロロホルム30m
lを仕込んだ。
【0066】次に、フラスコ内の温度を氷水浴で5℃以
下に維持しながら、撹拌下、グリオキシル酸メチル1
7.61gを約15分かけて前記滴下ロートより滴下
し、その後5℃で2時間熟成した。
【0067】得られた反応液を100mlナスフラスコ
に移し、ロータリーエバポレーターを用いてクロロホル
ムを約20ml留去した後、内容物を2lのジエチルエ
ーテルに一気に添加し、結晶を析出させた。
【0068】析出した結晶をブフナーロートで吸引濾過
して濾別し、ロート上の結晶をジエチルエーテルで数回
洗浄した後、室温で減圧乾燥する事により、実施例生成
物(3)約13g(収率:40%)を得た。
【0069】生成物(3)の1H−核磁気共鳴スペクト
ル及び赤外線吸収スペクトルから生成物(3)が、2−
ピロリジノ−グリコール酸メチルであることを確認し
た。1H−NMRのチャートを図5に、赤外線吸収スペ
クトルを図6に示す。
【0070】<実施例4>撹拌機、冷却器、温度計、窒
素導入管及び滴下ロートを備えた100ml4つ口フラ
スコに、イソプロピルアクリルアミド7.45gとクロ
ロホルム20mlを仕込んだ。
【0071】次に、フラスコ内の温度を氷水浴で5℃以
下に維持しながら、撹拌下、グリオキシル酸メチル5.
80gを約10分かけて前記滴下ロートより滴下し、そ
の後5℃で2時間熟成した。
【0072】得られた反応液を100mlナスフラスコ
に移し、ロータリーエバポレーターを用いてクロロホル
ムをほぼ完全に留去することにより、実施例生成物
(4)約12g(粗収率:90%)を得た。
【0073】生成物(4)の1H−核磁気共鳴スペクト
ルを図7に示す。
【0074】<実施例5>撹拌機、冷却器、温度計、窒
素導入管及び滴下ロートを備えた100ml4つ口フラ
スコに、コハク酸イミド19.82gとクロロホルム3
0mlを仕込んだ。
【0075】次に、フラスコ内の温度を湯浴で65℃に
維持しながら、撹拌下、グリオキシル酸メチル17.6
2gを約20分かけて前記滴下ロートより滴下し、その
後60℃で2時間熟成した。
【0076】得られた反応液を100mlナスフラスコ
に移し、ロータリーエバポレーターを用いてクロロホル
ムを約20ml留去した後、内容物を室温で放置するこ
とにより、白色の針状結晶が析出した。
【0077】析出した結晶をブフナーロートで吸引濾過
して濾別し、ロート上の結晶をクロロホルムで数回洗浄
した後、室温で減圧乾燥する事により、実施例生成物
(5)約18gを得た。
【0078】生成物(5)の1H−核磁気共鳴スペクト
ル及び赤外線吸収スペクトルから生成物(5)が、2−
(サクシンイミド)−グリコール酸メチルと未反応のコ
ハク酸イミドとの混合物であることを確認した。1H−
NMRのチャートを図8に、赤外線吸収スペクトルを図
9に示す。
【0079】
【発明の効果】本発明により、生分解性ポリマーの原料
等に有用である新規な2−置換グリコール酸化合物を提
供することができる。
【0080】また本発明の製造方法により、前記2−置
換グリコール酸化合物を効率良く製造することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1で得られた2−(2−オキソーヘキサ
メチレンイミノ)−グリコール酸メチルの1H−核磁気
共鳴スペクトルを示すものである。
【図2】実施例1で得られた2−(2−オキソーヘキサ
メチレンイミノ)−グリコール酸メチルの赤外線吸収ス
ペクトルを示すものである。
【図3】実施例2で得られた2−(2−オキソーピロリ
ジノ)−グリコール酸メチルの1H−核磁気共鳴スペク
トルを示すものである。
【図4】実施例2で得られた2−(2−オキソーピロリ
ジノ)−グリコール酸メチルの赤外線吸収スペクトルを
示すものである。
【図5】実施例3で得られた2−ピロリジノ−グリコー
ル酸メチルの1H−核磁気共鳴スペクトルを示すもので
ある。
【図6】実施例3で得られた2−ピロリジノ−グリコー
ル酸メチルの赤外線吸収スペクトルを示すものである。
【図7】実施例4で得られた生成物(4)の1H−核磁
気共鳴スペクトルを示すものである。
【図8】実施例5で得られた生成物(5)の1H−核磁
気共鳴スペクトルを示すものである。
【図9】実施例5で得られた生成物(5)の赤外線吸収
スペクトルを示すものである。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(1): 【化1】 (式中、R1は水素または低級アルキル基、XおよびY
    はそれぞれ独立に有機残基であり、XとYとは互いに結
    合していても良い。)で示される2−置換グリコール酸
    化合物。
  2. 【請求項2】 一般式(2): 【化2】 (式中、R1は水素または低級アルキル基、R2および
    R3はそれぞれ独立に水素または有機残基であり、R2
    とR3とは互いに結合していても良い。)で示される請
    求項1記載の2−置換グリコール酸化合物。
  3. 【請求項3】 一般式(3): 【化3】 (式中、R1は水素または低級アルキル基、mおよびn
    は0または正の整数であり、且つm+nは2〜5であ
    り、Aは直接結合しているか、または窒素、酸素、硫
    黄、珪素およびリンからなる群より選ばれる一種のヘテ
    ロ原子である。)で示される請求項1記載の2−置換グ
    リコール酸化合物。
  4. 【請求項4】 一般式(4): 【化4】 (式中、R1は水素または低級アルキル基、R4および
    R5はそれぞれ独立に低級アルキル基、シクロアルキル
    基、アルケニル基またはフェニル基であり、互いに結合
    していても良い。)で示される請求項1記載の2−置換
    グリコール酸化合物。
  5. 【請求項5】 一般式(5): 【化5】 (式中、R1は水素または低級アルキル基、R6および
    R7はそれぞれ独立に、直接結合しているか、またはア
    ルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基若しくはフ
    ェニル基であり、Aは直接結合しているか、または窒
    素、酸素、硫黄、珪素およびリンからなる群より選ばれ
    る一種のヘテロ原子である。)で示される請求項1記載
    の2−置換グリコール酸化合物。
  6. 【請求項6】 一般式(6): 【化6】 (式中、R1は水素または低級アルキル基、R8および
    R9はそれぞれ独立に水素または有機残基であり、R8
    とR9とは互いに結合していても良い。)で示される2
    −置換グリコール酸化合物。
  7. 【請求項7】 一般式(7): 【化7】 (式中、XおよびYはそれぞれ独立に有機残基であ
    る。)で示される含窒素化合物のNH基と、一般式
    (8): 【化8】 (式中、R1は水素または低級アルキル基である。)で
    示されるグリオキシル酸エステル化合物のアルデヒド基
    とを反応させて得られる2−置換グリコール酸化合物。
  8. 【請求項8】 一般式(7): 【化9】 (式中、XおよびYはそれぞれ独立に有機残基であ
    る。)で示される含窒素化合物と、一般式(8): 【化10】 (式中、R1は低級アルキル基である。)で示されるグ
    リオキシル酸エステル化合物とを反応させることを特徴
    とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の2−置換グ
    リコール酸化合物の製造方法。
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