JPH10281069A - ポンプユニット - Google Patents

ポンプユニット

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Publication number
JPH10281069A
JPH10281069A JP9085339A JP8533997A JPH10281069A JP H10281069 A JPH10281069 A JP H10281069A JP 9085339 A JP9085339 A JP 9085339A JP 8533997 A JP8533997 A JP 8533997A JP H10281069 A JPH10281069 A JP H10281069A
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JP
Japan
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pump
actuator
photoresist
pumps
filter
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Application number
JP9085339A
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English (en)
Inventor
Kiyomi Sonobe
清実 薗部
Kazuhiro Yamaguchi
和浩 山口
Tomonori Egami
智紀 江上
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Iwaki Co Ltd
Original Assignee
Iwaki Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH10281069A publication Critical patent/JPH10281069A/ja
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  • Reciprocating Pumps (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 選択的に駆動される複数のポンプをコンパク
トに一体化して低コスト化を図り、特にフォトレジスト
塗布装置に適用したときに一次ポンプを不要としてフィ
ルタユニットとの組み合わせによりシステムを簡単化し
てフォトレジスト液の定量吐出制御を可能としたポンプ
ユニットを提供する。 【解決手段】 枠体51に一つのアクチュエータ32
と、これにより駆動される複数個のポンプ31が取り付
けられる。ポンプ31は、ポンプ室604と作動流体ス
ペース609を仕切る可撓性のチューブフラム608を
有し、アクチュエータ32のシリンダー室525と各ポ
ンプ31の作動流体スペース609を連結するためにマ
ニホールド53が用いられている。マニホールド53の
各ポンプ31につながる分岐管532にはそれぞれ、エ
アオペレートバルブ54が設けられて、アクチュエータ
32を駆動したときに、開いているバルブ54を介して
選択的にポンプ31に作動流体が供給される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、複数のポンプを
一体化してなるポンプユニットに係り、特に半導体ウェ
ハ等の表面にフォトレジスト液を滴下供給してフォトレ
ジスト膜を形成するフォトレジスト塗布装置等に用いて
有用なポンプユニットに関する。
【0002】
【従来の技術】半導体ウェハにフォトレジスト膜を形成
する場合、一般に、半導体ウェハを回転させながらその
表面にノズルを介してフォトレジスト液を滴下供給する
スピンコート法が用いられる。スピンコート法に用いら
れるフォトレジスト塗布装置(レジスト・ディスペンス
・システム)の主要部は、ボトルに収容されたフォトレ
ジスト液を汲み上げてノズルから定量吐出させるための
ポンプと、このポンプで吸い上げたフォトレジスト液の
ゴミやゲル等を除去するためのフィルタとを有する。特
にフィルタは、レジスト・ディスペンス・システムの性
能を決定する重要な要素であり、フィルタ性能や低圧
損、大流量化等の改善がなされている。通常、システム
の小型化等の目的で、フィルタはポンプハウジング内に
一体に内蔵することが行われている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】一般にフォトレジスト
塗布は、クリーンルーム内のレジスト塗布室で行われ
る。フォトレジスト液の交換作業を必要とするボトル
は、クリーンルームに配置すると汚染の原因となるか
ら、クリーンルームの外に配置することが望ましい。し
かし、ボトルからレジスト塗布室内のポンプハウジング
までの配管が長くなると、その配管内が負圧となって移
送されるフォトレジスト液に気泡が発生する。この気泡
がポンプに入ると、ノズルからの吐出量が不安定になる
だけでなく、半導体ウェハに形成されるレジスト膜に気
泡が発生して高精度の微細加工を困難にする。
【0004】この様な気泡の発生を防止するためには、
ポンプハウジング内のポンプ(ディスペンスポンプ)と
は別に、ボトル近くに圧送式の一次ポンプが必要とな
る。例えば、N2ガスを利用してレジストボトルのフォ
トレジスト液を押し出す方式や別の一次ポンプによって
ディスペンス・ポンプまで液を移送する方式が用いられ
る。しかしこの様な圧送式の一次ポンプを用いると、レ
ジストボトル自体を高圧に耐えられるものとする必要が
あるばかりでなく、システム構成が複雑になる。特に、
通常のレジスト・ディスペンス・システムでは、それぞ
れ異なるフォトレジスト液を収容した複数のボトルとこ
れらのボトルに対応する複数のノズルとを持つ多連式と
して構成される。従って、ボトル毎に一次ポンプを設け
るとなると、システムは非常に複雑なものとなってしま
う。
【0005】一方、フィルタを内蔵したポンプハウジン
グをクリーンルームの外のボトル近くに配置すると、フ
ィルタからノズルまでの配管が長いものとなって、これ
も大きな不都合を生じる。フィルタでゴミ等が除去され
たフォトレジスト液がノズルまでの長い経路で再度汚染
されたり、或いは変質等が生じたりするからである。更
に、多連式の場合、複数のポンプそれぞれにアクチュエ
ータを用意しなければならず、このためポンプハウジン
グは大型となり、大きなスペースを必要とするだけでな
く、システムのコストアップの原因ともなっている。
【0006】この発明は、選択的に駆動される複数のポ
ンプをコンパクトに一体化して低コスト化を図り、特に
フォトレジスト塗布装置に適用したときに一次ポンプを
不要としてフィルタユニットとの組み合わせによりシス
テムを簡単化してフォトレジスト液の定量吐出制御を可
能としたポンプユニットを提供することを目的としてい
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】この発明に係るポンプユ
ニットは、作動流体により駆動される複数個のポンプが
一つのアクチュエータを共有してユニット化され、前記
各ポンプの作動流体スペースはマニホールドを介して前
記アクチュエータのシリンダー室に連結され、前記マニ
ホールドの前記各ポンプへの分岐部に前記アクチュエー
タにより駆動される作動流体の前記各ポンプへの供給を
選択的にオンオフするバルブが設けられていることを特
徴とする。この発明において例えば、前記各ポンプは、
ポンプ室と作動流体スペースの間にチューブ状の可撓性
膜が張設されたチューブフラム式とする。また前記バル
ブは、ノーマリオープンタイプのエアオペレートバルブ
とする。更に前記アクチュエータは、ステッピングモー
タと、このモータにより駆動されてシリンダー室を伸縮
するベローズを有するものとする。
【0008】この発明に係るポンプユニットは、選択的
に駆動される複数のポンプが一つのアクチュエータを共
有し、マニホールドにより作動流体を分岐供給するよう
にしており、これによりコンパクト化と低コスト化が図
られる。またこの発明によるポンプユニットをフォトレ
ジスト塗布装置等に適用する場合には、別に構成したフ
ィルタユニットと組み合わせて、ポンプとフィルタを別
々に配置する外置タイプとして、システムを構成するこ
とができる。特に、ポンプをステッピングモータにより
駆動されるチューブフラム式として、大きな吐出圧力を
持つものとして構成すれば、一次ポンプを用いる必要は
なく、システムの簡単化を図ることができる。
【0009】また、この発明に係るフォトレジスト塗布
装置は、フォトレジスト液を収容したボトルと、このボ
トルのフォトレジスト液を移送して前記フォトレジスト
液を滴下するノズルに供給するポンプと、このポンプと
前記ノズルとの間に設けられたフィルタとを備えたフォ
トレジスト塗布装置において、前記フィルタを前記ノズ
ルと共にフォトレジスト塗布室に配置し、前記ポンプを
前記ボトルと共に前記フォトレジスト塗布室の外に配置
したことを特徴とする。
【0010】この発明はまた、フォトレジスト液を収容
した複数個のボトルと、これらのボトルのフォトレジス
ト液をそれぞれ異なる複数個のノズルに選択的に供給す
る複数個のポンプと、これらのポンプと前記各ノズルと
の間にそれぞれ設けられた複数個のフィルタとを備えた
フォトレジスト塗布装置において、前記複数個のフィル
タをまとめてフィルタユニットを構成して前記複数個の
ノズルと共にフォトレジスト塗布室に配置し、前記複数
個のポンプをまとめてポンプユニットを構成して前記複
数個のボトルと共に前記フォトレジスト塗布室の外に配
置したことを特徴とする。
【0011】この発明に係るシステムにおいては、フィ
ルタをポンプハウジング内に内蔵するタイプではなく、
ポンプの外部に設置する外置タイプを基本として、フィ
ルタをノズルと共にフォトレジスト塗布室に配置し、ポ
ンプをボトルと共にフォトレジスト塗布室の外に配置し
ている。従って、フィルタからノズルまでの配管は十分
短いものとして、ノズルに供給されるフォトレジスト液
の汚染や変質を防止することができる。またポンプはボ
トル近くに配置され、しかもポンプからフォトレジスト
塗布室までは圧送式となるので、ノズルまで気泡が発生
することなく、フォトレジスト液を安定に移送するする
事が可能になる。このため、一次ポンプを用いる必要は
なく、システムの簡単化を図ることができる。
【0012】特に、多連式の場合に、複数個のポンプは
まとめてポンプユニットを構成し、複数個のフィルタは
まとめてフィルタユニットを構成することによって、レ
ジスト・ディスペンス・システムをコンパクトにするこ
とができるだけでなく、各機器の取付や交換作業、レイ
アウト変更等が容易になり、レジストボトルとノズルへ
の配管作業のみでシステムを運転可能とする理想的なシ
ステムを構築することができる。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、この発明
の実施例を説明する。図1は、この発明の一実施例によ
るレジスト・ディスペンス・システムの概略構成を示
し、図2は4連式の場合のより具体化したシステム構成
を示している。それぞれ異なるフォトレジスト液を収容
したレジストボトル1(1a〜1d)はそれぞれ、チャ
ンバ2(2a〜2d)を介してポンプユニット3に連結
されている。チャンバ2は、レジストボトル1のフォト
レジスト液を一次貯留して貯留分がなくなる毎にレジス
トボトル1からフォトレジスト液の補給を行うようにす
るためのもので、図では省略しているが通常、貯留分を
検出するセンサが設けられている。
【0014】ポンプユニット3はそれぞれレジストボト
ル1に対応した4個のポンプ31(31a〜31d)を
ユニット化したものである。この実施例の場合、4個の
ポンプ31はドライバ9により制御駆動される一つのア
クチュエータ32により駆動されるようになっている。
このポンプユニット3の詳細は後述する。
【0015】ポンプユニット3によりチャンバ2から吸
い上げられるフォトレジスト液はフィルタユニット4に
供給される。フィルタユニット4はやはりそれぞれのフ
ォトレジスト液に対応して4個のフィルタ41(41a
〜41d)をユニット化したものである。この実施例の
場合フィルタ41はディスポーザブルタイプである。各
フィルタ41からのフォトレジスト液はそれぞれ、エア
オペレートバルブ(A/V)42及びサックバックバル
ブ(S/V)43を介して半導体ウェハ7上に配置され
た4個のノズル5(5a〜5d)まで供給されて、ノズ
ル5から定量吐出される。また各フィルタ41は、所定
タイミングでのエア抜きのために、別のエアオペレート
バルブ44を介して排気口6につながる。
【0016】エアオペレートバルブ42は、配管内の残
圧によるノズル5の先端からのレジスト液のボタ落ちを
防止すべく残圧を除去するために用いられる。サックバ
ックバルブ43は、ノズル5の先端に残るフォトレジス
ト液を吸い戻して余分なフォトレジスト液が滴下するの
を防止して、正確な吐出量調整を行うこと、また休止期
間にフォトレジスト液がノズル先端から露出した状態に
保持されることによるフォトレジスト液の特性劣化を防
止するために用いられる。SVコントローラ8からエア
オペレートバルブ42,44及びサックバックバルブ4
3への圧縮空気の流れはそれぞれ、スピードコントロー
ラ(SC)46,47,45により制御され、これによ
りバルブ42〜44の開閉速度を制御している。各エア
オペレートバルブ42,44及びサックバックバルブ4
3も、フィルタ41と共にユニット4内に取り付けられ
ている。
【0017】レジスト・ディスペンス・システムにとっ
て、ポンプ関連のエアバルブ及びサックバックバルブ等
の動作制御は重要である。特に、低粘度のフォトレジス
ト液のディスペンスではポンプ動作の高精度のタイミン
グ制御が不可欠であり、この動作タイミング制御のため
にシステムコントローラ10が用いられている。
【0018】上述のようにこの実施例では、ポンプ31
とフィルタ41とをそれぞれユニット化して別置タイプ
としており、従ってポンプユニット3とフィルタユニッ
ト4とを別々の部屋に配置することができる。図3は、
ポンプユニット3とフィルタユニット4の好ましい配置
例である。この例では、フィルタユニット4をクリーン
ルーム内のレジスト塗布室301内に配置し、ポンプユ
ニット3は、クリーンルームの階下の部屋302にレジ
ストボトル1と共に配置している。この場合、ポンプユ
ニット3からフィルタユニット4までの距離が3〜15
[m]になるが、この実施例では後述するように、ポン
プユニット3のポンプ31を15[m]程度の移送を可
能としたチューブフラム方式として、一次ポンプを用い
ることなく、レジスト塗布室までの移送を可能としてい
る。
【0019】図4は、ポンプユニット3とフィルタユニ
ット4の他の好ましい配置例である。この例では、ポン
プユニット3とフィルタユニット4とを同じ階として、
フィルタユニット4はレジスト塗布室301内のノズル
5の近くに配置し、ポンプユニット3はレジストボトル
1と共にレジスト塗布室301の外に配置している。
【0020】図3及び図4いずれの配置例も、ポンプユ
ニット3とフィルタユニット4とは別置として、フィル
タユニット4をレジスト塗布室301内に配置している
から、フィルタユニット4からノズル5まで配管は短い
ものとなり、フィルタを通った後のフォトレジスト液の
汚染や変質を防止することが可能になる。またポンプユ
ニット3をレジストボトル1と共にレジスト塗布室31
の外に配置することにより、圧送式となってフォトレジ
スト液の移送が容易になると共に、レジスト塗布室30
1の汚染を防止することができる。更に、ポンプとフィ
ルタのユニット化によって、機器の取り付けや交換、レ
イアウト変更等も容易になる。
【0021】次に、実施例のポンプユニット3の具体的
構成を、図5及び図6を用いて説明する。図5(a)
(b)はそれぞれポンプユニット3を一部切開して示す
正面図と側面図であり、図6は背面図である。ポンプユ
ニット3は、枠体51に収納されたアクチュエータ32
と、枠体51の外に取り付けられてアクチュエータ32
により駆動される4個のポンプ31(31a〜31d)
とを有する。
【0022】各ポンプ31は、作動流体により駆動され
るチューブフラム方式であって、図7の模式的断面図に
示すように、ポンプ本体601は下端を流入口602,
上端を流出口603とする円柱状のポンプ室604を有
する。ポンプ室604内部には、多量のフォトレジスト
液の滞留を防止するために、ポンプ本体601と下端側
で一体につながるテフロン円柱体605が突設され、流
入口602は円柱体605の下端部に設けられた孔60
6,607を介してポンプ室604に連通するようにな
っている。ポンプ本体601には円柱体605と同軸的
に可撓製のチューブフラム608が張設されてこのチュ
ーブフラム608の外側の作動流体スペース609にこ
の実施例の場合フッ素オイル530が供給されるように
なっている。
【0023】ポンプ本体601の下端流入口602は吸
込用の逆止バルブ610a,610bを介してチャンバ
2からの配管611に接続され、上端流出口603は吐
出用の逆止バルブ610c,610dを介してフィルタ
ユニット4につながる配管612に接続されている。フ
ッ素オイル530がアクチュエータ32により駆動され
て作動流体スペース609の圧力が変化すると、チュー
ブフラム608が内外に撓むことにより、下端のバルブ
610a,610bまたは上端のバルブ610c,61
0dのいずれか一方が開いて、フォトレジスト液630
の吸い込みと吐出がなされる。即ち、フッ素オイル53
0がアクチュエータ32により押し出されると、チュー
ブフラム608は内方に撓み、吸い込み側のバルブ61
0a,610bは閉じて、ポンプ室604内のフォトレ
ジスト液630は開いた吐出側のバルブ610c,61
0dを介して吐出される。逆にフッ素オイル530が吸
引されると、チューブフラム608は外方に撓み、吐出
側のバルブ610c,610dは閉じて、開いた吸い込
み側のバルブ610a,610bを介してフォトレジス
ト液630がポンプ室604に吸い込まれる。
【0024】アクチュエータ32は、ステッピングモー
タ・ドライブ方式である。ステッピングモータ521
は、ポンプ吐出圧力の高圧化への対応のため、ギヤヘッ
ド550を有するタイプとしている。ギヤヘッド550
に取り付けられたプーリ522aの回転はベルト523
を介してプーリ522bに伝達され、このプーリ522
bの回転により駆動されるボールネジ524のシャフト
524aに沿ってナット524bが往復運動する。この
ナット524bにロッド526が取り付けられ、ロッド
526の先端でテフロン製のベローズ527をシリンダ
ー室525内で伸縮させるようになっている。なお図5
では、シャフト524の中心線に対して上半分がベロー
ズ527の伸長時、下半分がベローズ527の圧縮時を
示している。ベローズ527の伸縮運動のスピードは、
センサ551の出力に基づき、スピードコントローラ5
52によってステッピングモータ521を制御すること
により制御される。
【0025】枠体51内には、シリンダー室525に連
結されたアルミダイキャストのマニホールド53が設け
られている。マニホールド53は本管531とこれから
分岐する4個の分岐管532(532a〜532d)を
有し、それぞれの分岐管532に圧縮空気により駆動さ
れるエアオペレートバルブ54(54a〜54d)が取
り付けられて、各バルブ54がそれぞれ対応するポンプ
31に接続されている。エアオペレートバルブ54は、
圧縮空気が導入されない定常状態でオープンであるノー
マリオープンタイプであり、圧縮空気が導入されると図
示しないロッドを介して弁541(541a〜541
d)が下側に押し付けられて分岐管532を閉じる。
【0026】作動流体としてのフッ素オイル530は、
シリンダー室525からマニホールド53、更にその各
分岐管532を介して各ポンプ31のチューブフラム6
08の外側に配置された作動流体スペース609に非圧
縮状態で封入される。そしてアクチュエータ32を駆動
したとき、シリンダー室525からマニホールド53、
更に各分岐管532を介して各ポンプ31のチューブフ
ラム608にフッ素オイル530が押し込まれる。この
とき、ノーマリオープンタイプのバルブ54のうち不要
なものを閉じることにより、必要とするフォトレジスト
に応じて選択されたポンプ31に対してのみフッ素オイ
ル530を供給することができることになる。なおシリ
ンダー室525のフッ素オイル供給口には圧力センサ5
61が取り付けられ、シリンダー室525内の油圧を適
当にコントロールする。
【0027】以上のようにこの実施例におけるポンプユ
ニット3は、一つのアクチュエータ32と、これにより
駆動される4個のポンプ31が一体化された4連式であ
り、コンパクト化と低コスト化が図られている。また、
アクチュエータ32により圧縮駆動されるフッ素オイル
の圧力は、マニホールド53とこれに取り付けられた4
個のエアオペレートバルブ54によって、選択的にポン
プ31に伝達されるようになっている。またアクチュエ
ータ32にはギヤヘッドタイプのステッピングモータを
用いており、これにより吐出圧力の高圧化対応が可能
で、分解能向上及び吐出精度の向上が図られる。
【0028】次に、フィルタユニット4の具体的な構成
を、図8の正面図及び図9の側面図により説明する。図
示のようにフィルタユニット4は4個のフィルタ41を
支持パネル401上に、それぞれのエアオペレートバル
ブ42,44及びサックバックバルブ43と共に取り付
けて構成される。フィルタ41の内部構成は示さない
が、通常のディスポーザブルタイプであり、一次側の流
入口402(402a〜402d)を下に、二次側の流
出口403(403a〜403d)を上にして配列して
いる。即ち、ポンプユニット3でのフォトレジスト液の
流れを“下→上”にしたと同様に、フィルタユニット4
でも“下→上”の流れとしている。これにより、ポンプ
ユニット3により下から上に汲み上げられたフォトレジ
スト液はそのままフィルタ41を下から上に流れること
になる。従って例えば、U字型の経路を通す場合のよう
なフォトレジスト液の無用な滞留がなくなり、液の置換
性が優れたものとなる。
【0029】フィルタ41は、フォトレジスト液の流入
口402及び流出口403に隣接してそれぞれ液排出口
405(405a〜405d)と排気口404(404
a〜404d)を有する。排気口404は前述のように
エアオペレートバルブ44を介して排気口6につなが
る。フィルタ41の一次側のエア抜きは、二次側の流出
口403のバルブ42を閉じた状態として、排気部のバ
ルブ44を開けてフィルタ41内部に液を導入すること
により行われるが、この動作は、システムコントローラ
10からの制御信号を受けて自動的に適当なタイミング
で行われる。
【0030】この実施例の場合、サックバックバルブ4
3は、エアオペレートバルブ42と一体構成されてい
る。サックバックバルブ43の機能をポンプ自体に持た
せることも考えられるが、サックバック機能に要求され
るボリュームレンジは、0〜0.05[ml]と微小量
であり、0.05[ml]程度の流量をこの実施例のア
クチュエータ32により制御しようとすると、0.07
5[mm]というストローク長で制御しなければなら
ず、技術的には難しい。従って、小型のサックバックバ
ルブ一体型のエアオペレートバルブを用いることによ
り、微小量のサックバックを可能としている。
【0031】以上説明したようにこの実施例によれば、
複数のポンプとフィルタとをそれぞれユニット化してい
る。従って、レジストボトルとノズルへの配管作業のみ
でシステムを運転可能とするようなシステムフォトレジ
スト・ディスペンス・システムの構築が可能であり、機
器の交換やレイアウト変更等の作業も容易になる。また
フィルタユニットはノズルと共にレジスト塗布室に配置
し、ポンプはレジストボトルと共にレジスト塗布室の外
に配置して一次ポンプを用いることなくフォトレジスト
液の吐出を行うようにしており、システムの簡単化が図
られるのみならず、フィルタを通った後のフォトレジス
ト液の劣化や汚染は防止され、更にレジスト塗布室の汚
染も防止される。更にこの実施例では、ポンプユニッ
ト,フィルタユニット共に、フォトレジスト液が下から
上に流れる構成としており、フォトレジスト液の滞留防
止及び置換性向上が図られる。
【0032】特にこの実施例によるポンプユニットは、
チューブフラムタイプの複数のポンプを一つのステッピ
ングモータを用いたアクチュエータにより選択的に駆動
するように、マニホールドを組み合わせて一体化してお
り、ポンプユニットの小型化とコスト低下が図られてい
る。
【0033】なおこの発明は上記実施例に限られるもの
ではない。例えば実施例ではポンプ及びフィルタをそれ
ぞれ4個ずつユニット化したが、2個ずつのユニット化
でもよいし、5個以上のユニット化でもよい。また実施
例ではポンプをチューブフラム式としたが、他の形式の
ポンプを用いた場合もこの発明は有効である。更にこの
発明によるポンプユニットは、実施例で説明したフォト
レジスト塗布装置に限らず、同様の流体吐出制御を必要
とする装置に適用することができる。
【0034】
【発明の効果】以上述べたようにこの発明によれば、複
数のポンプを一つのアクチュエータにより選択的に駆動
するように、マニホールドを組み合わせて一体化して、
コンパクト化と低コスト化を図り、特にフォトレジスト
塗布装置に適用したときにフィルタと別置として一次ポ
ンプを用いることなくシステム全体の構成を簡単なもの
にすることを可能としたポンプユニットを提供すること
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の一実施例によるシステムの概略構
成を示す。
【図2】 同実施例のシステムの具体構成を示す。
【図3】 同実施例のポンプユニットとフィルタユニッ
トの配置例を示す。
【図4】 同実施例のポンプユニットとフィルタユニッ
トの他の配置例を示す。
【図5】 同実施例のポンプユニットの具体的構成を示
す正面図と側面図である。
【図6】 同ポンプユニットの背面図である。
【図7】 同ポンプユニットのポンプ構造を模式的に示
す断面図である。
【図8】 同実施例のフィルタユニットの具体的構成を
示す正面図である。
【図9】 同フィルタユニットの側面図である。
【符号の説明】
1(1a〜1d)…レジストボトル、2…チャンバ、3
…ポンプユニット、31a〜31d…ポンプ、32…ア
クチュエータ、521…ステッピングモータ、526…
ピストン、527…ベローズ、525…フッ素オイル、
53…マニホールド、532(532a〜532d)…
分岐管、54(54a〜54d)…エアオペレートバル
ブ、601…ポンプ本体、604…ポンプ室、608…
チューブフラム、610a〜610d…逆止バルブ、4
…フィルタユニット、41(41a〜41d)…フィル
タ。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 作動流体により駆動される複数個のポン
    プが一つのアクチュエータを共有してユニット化され、 前記各ポンプの作動流体スペースはマニホールドを介し
    て前記アクチュエータのシリンダー室に連結され、 前記マニホールドの前記各ポンプへの分岐部に前記アク
    チュエータにより駆動される作動流体の前記各ポンプへ
    の供給を選択的にオンオフするバルブが設けられている
    ことを特徴とするポンプユニット。
  2. 【請求項2】 前記各ポンプは、ポンプ室と作動流体ス
    ペースの間にチューブ状の可撓性膜が張設されたチュー
    ブフラム式であることを特徴とする請求項1記載のポン
    プユニット。
  3. 【請求項3】 前記バルブは、ノーマリオープンタイプ
    のエアオペレートバルブであることを特徴とする請求項
    1記載のポンプユニット。
  4. 【請求項4】 前記アクチュエータは、ステッピングモ
    ータと、このモータにより駆動されてシリンダー室内を
    伸縮するベローズを有することを特徴とする請求項1記
    載のポンプユニット。
JP9085339A 1997-04-03 1997-04-03 ポンプユニット Pending JPH10281069A (ja)

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