JPH10282484A - 液晶駆動素子の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】均一で高精度かつ高精細化を可能とし、カラー
液晶ディスプレイ等の画質の向上を図り、さらに、生産
効率（歩留まり）の向上を図ることが可能な液晶駆動素
子の製造方法を提供すること。 【解決手段】アクティブマトリックス駆動素子と表示電
極とを備えた基板上にカラーフィルタを形成した液晶駆
動素子の製造方法において、基板上にアクティブマトリ
ックス駆動素子、表示電極を形成し、表示電極以外の基
板上の部分にブラックマトリックスを形成し、この基板
を顔料をアゾ化合物残基を含有する界面活性剤を用いて
分散した着色液に浸漬して、アクティブマトリックス駆
動素子のみを駆動させて表示電極部分に電位を印加し、
色素パターンを形成することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーフィルタを
有する液晶駆動素子の製造方法に関するものである。さ
らに詳しくは、パソコン、ワープロ、壁掛けテレビ、ポ
ケット液晶テレビ、液晶プロジェクター、携帯情報端末
等のカラー液晶ディスプレイ、固体撮像素子（ＣＣ
Ｄ）、及びオーディオ、車載用インパネ、時計、電卓、
ビデオデッキ、ファックス、通信機、ゲーム、測定機器
等の表示用カラーディスプレイ等に好適に利用できる、
アクティブマトリックス駆動素子を備えた透明基板（ア
クティブマトリックス基板）の製造方法に関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】一般に、アクティブマトリックスカラー
液晶表示パネルは、アクティブマトリックス基板とカラ
ーフィルタ基板を組み合わせて液晶パネルを構成する。
この場合、位置合わせに高い精度が必要であり、その歩
留まりを落とす原因となっている。これを防ぐ方法とし
て、アクティブマトリックス基板上にカラーフィルタを
形成することがあげられ、従来からのカラーフィルタ作
製方法として、公知の方法がいくつか挙げられる。

【０００３】例えば、透明基板上に易染性の透明層さら
に感光性樹脂層を設け常法に従って所望のパターンを形
成し、該パターンを例えば赤色に染色、以下同様にして
緑色、青色のパターンを形成してカラーフィルタを製造
する、染色法がある。このほかには、顔料あるいは染料
等の色素を分散させた感光性樹脂を透明基板上に塗布し
て、常法に従って赤色、緑色、青色等の所望の着色パタ
ーンを順次形成する顔料分散法、オフセット印刷等によ
ってカラーフィルタを製造する印刷法、さらには透明基
板上に透明導電体層からなる所望のパターンを形成した
のち、着色すべきパターンにのみ通電しながら電着して
着色パターンを形成する電着法などが提案されている。

【０００４】しかし、上記の方法では、製造工程や製造
品質に欠点を含んでおり、さらに、アクティブマトリッ
クス基板上にカラーフィルタを形成するという点におい
ても問題を含んでいる。例えば従来から実用化されてい
るカラーフィルタの製造方法のうち、染色法および顔料
分散法は感光性樹脂等の塗布、ソフトベーク、露光（以
下、本発明においては「赤外線、可視光線、紫外線、Ｘ
線、電子線など」を総じて「放射線」と称し、また「放
射線をパターン状に照射」することを「露光」と称する
ことにする）、現像、染色（染色法の場合）、ハードベ
ークを３回ないし４回繰り返して赤色、緑色、青色（あ
るいはさらに黒色）のパターンからなるカラーフィルタ
を製造している。ここで感光性樹脂等の塗布には現在多
くの場合スピンコーターが利用されているが、樹脂の利
用効率が１０％以下であり、またロールコーターを利用
しても塗膜全体に対し、パターンとして利用されるのは
３０％に満たず、コストダウンの妨げとなっている。ま
た、基板の大型化に対して感光性樹脂を均一に塗布して
いくことが困難になると考えられる。さらに樹脂の塗布
から、そのソフトベーク、露光、現像、そしてハードベ
ークまでに非常に多くの工程と長い時間を要するため歩
留まりと生産効率の向上が困難となり、同時に投資設備
費、その維持費等も高額となる。また、カラーフィルタ
の欠陥修正にはレーザーが用いられる場合が多いが、本
発明のようにアクティブマトリックス基板上にカラーフ
ィルタを形成する場合においては、逆に液晶駆動素子や
駆動電極を破壊してしまう危険が大きく、欠陥修正が非
常に困難となり、歩留まりの低下を招いてしまう。さら
に、位置合わせに非常に高度な技術が色ごとに必要にな
るといった難点もある。

【０００５】印刷法は、感光性樹脂の塗布、露光、現像
といったフォトリソグラフィー技術が不要なため製造工
程が短いという大きな長所を持つが、パターンの形状や
位置を高精度に維持するのが難しく、また形成されたパ
ターンの各画素の断面形状が山型になるため全体として
厚みが一定にならず色むらになりやすいなど表示品質に
問題を含んでいる。本発明のようにアクティブマトリッ
クス基板上にカラーフィルタを印刷する場合において
は、特に位置合わせに非常に高度な技術が必要となる点
が、大きな問題となる。

【０００６】電着法は、透明基板上に透明導電体層（例
えばＩＴＯ：Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ）を成
膜し、色パターンにあわせて微細加工した後、各色ごと
に透明導電体層に通電して色材を電着する。このため透
明導電体層は、同色間では端子部で導通をとるため画素
同士が接続していなければならず、同時に異なる色間で
は画素は導通してはならず、画素形状や画素配列に制約
が生じ、また透明導電体層のパターン化には非常に高度
な微細加工技術が要求されるが、本発明のようにアクテ
ィブマトリックス基板上にカラーフィルタを形成する場
合においては大きな問題とはならない。しかし、電着法
での電解電位が高く、液晶駆動素子での駆動が困難な点
が大きな問題である。さらに着色層を形成するトナーに
は、化学反応を利用した高度な電着特性が要求されるた
め、使用される材料組成が複雑化したり制限がつくた
め、カラーフィルタとしての特性への悪影響、例えば透
過率の低下などを招きやすい。また、電着工程では電力
消費も多大となる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前述の従来
の技術が有していた様々な問題点に着目してなされたも
ので、その課題とするところは、均一で高精度かつ高精
細化を可能とし、カラー液晶ディスプレイ等の画質の向
上を図り、さらに、生産効率（歩留まり）の向上を図る
ことが可能な液晶駆動素子の製造方法を提供することに
ある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明はこの課題を解決
するため、アクティブマトリックス駆動素子と表示電極
とを備えた基板上にカラーフィルタを形成した液晶駆動
素子の製造方法において、基板上にアクティブマトリッ
クス駆動素子、表示電極を形成し、表示電極以外の基板
上の部分にブラックマトリックスを形成し、この基板を
顔料をアゾ化合物残基を含有する界面活性剤を用いて分
散した着色液に浸漬して、アクティブマトリックス駆動
素子のみを駆動させて表示電極部分に電位を印加し、色
素パターンを形成することを特徴とする液晶駆動素子の
製造方法を提供する。

【０００９】また、前記アクティブマトリックス基板
が、薄膜トランジスター又は薄膜ダイオード又はメタル
インシュレーテッドメタル基板であることを特徴とする
液晶駆動素子の製造方法を提供する。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の液晶駆動素子の製造方法は、アクティブマトリ
ックス駆動素子と表示透明電極とを備えたアクティブマ
トリックス基板上に形成したカラーフィルタを備えた液
晶駆動素子の製造方法であって、アクティブマトリクス
基板上に、絶縁性レジスト又は絶縁性黒色レジストを塗
布し、露光、現像して、表示透明電極部分以外のアクテ
ィブマトリクス基板上に絶縁膜又はブラックマトリクス
を形成し、この基板を、疎水性又は弱親水性の有機又は
無機含量を、水中又は水と相溶性のある有機溶剤と水と
の混合溶媒中へ可溶化又は分散し、必要に応じてｐＨ調
整剤を添加した着色液に浸漬し、アクティブマトリクス
駆動素子のみを駆動させて表示透明電極部分に−２．５
〜０．５Ｖの電位を印加し、ＲＧＢの各色毎に電界処理
し、表示透明電極部分に各色の色素相を分離して積層
し、色素パターンを形成することによるものである。

【００１１】本発明で成膜に用いる着色液は、還元電解
可能な界面活性剤によって、親水性溶媒中に、疎水性の
顔料を分散させたものであり、主に溶媒、界面活性剤、
顔料から構成され、必要に応じてｐＨ調整剤を添加、あ
るいはさらにバインダー樹脂を分散混合させたものであ
る。

【００１２】本発明で使用可能な界面活性剤は、疎水性
部分と親水性部分からなる界面活性剤の疎水性部分が芳
香族アゾ化合物残基を含有する界面活性剤であり、疎水
性又は弱親水性の有機又は無機顔料を、水中又は水と相
溶性のある有機溶剤と水との混合溶媒中へ可溶化し、又
は微粒子として分散させる能力を持ち、カソードとして
作用する透明電極又は導電性基板において電解還元され
うるものが任意にしよう可能である。より具体的には、
特開平７−６２５９４号公報などで開示されているアゾ
化合物のうち、１種類を単独で、又は２種類以上を混合
して使用することが出来る。

【００１３】本発明で使用可能な溶媒は、水単独、又は
水と相溶性のある有機溶媒と水との混合溶媒であるが、
ｐＨを調整するためのｐＨ調整剤を溶解可能であれば有
機溶媒単体でもよい。例えば、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメ
チルスルホキシド、炭酸プロピレンなどが好適に使用で
きる。

【００１４】本発明において、溶媒中で界面活性剤を電
解還元する際、必要であれば、ｐＨを調整するため、ｐ
Ｈ調整剤を添加、溶解してもよい。例えば塩酸などの無
機酸が好適である。

【００１５】本発明において使用可能な疎水性又は弱親
水性の有機又は無機顔料としては、有機顔料では、アゾ
レーキ系、不溶性アゾ系、フタロシアニン系、キナクド
リン系、ジオキサジン系、イソインドリン系、イソイン
ドリノン系、ベリノン系、アントラキノン系、ペリレン
系、キノフタロン系、チオインジゴ系、ジケトピロロピ
ロール系、およびこれらの混合物などが、無機顔料で
は、カーボンブラックなどが好適である。また、１、２
−ビス（ベンゾオキサゾリル）エチレン誘導体、１、２
−ビス（ベンゾオキサゾリル）クマリン誘導体、４−メ
トキシ−Ｎ−メチルナフタル酸イミドなどの蛍光増白染
料、３−エチル−５−［４−（３−エチル−２−ベンゾ
チアゾリリデン）−２−ヘキセニリデン］ローダニンな
どのローダニン誘導体、４−トリフルオロメチル−７−
ジメチルアミノクマリンなどのクマリン誘導体、４−
（ジシアノメチレン）−２−メチル−６−（ｐ−ジメチ
ルアミノスチリル）−４Ｈ−ピランなどのレーザー色素
を使用してもよい。

【００１６】本発明で製造された薄膜が顔料のみによっ
て構成されている場合、顔料の種類、成膜条件によって
は顔料の凝集力が小さく膜強度や密着強度が低くなる可
能性、さらに、多孔質化が甚だしく２色目以降も成膜が
継続し、混色が発生する可能性がある。これらを防止す
るには１つとして、１色成膜後、膜を１００〜２００℃
に加熱することで粒子を焼きしめる方法がある。２つめ
としては、膜強度の増強、成膜制御のためにバインダー
樹脂をあらかじめ着色液に分散混合しておき、同時に成
膜することで、顔料とバインダー樹脂で混合構成された
膜としてもよい。使用可能な樹脂としては、親水性溶媒
中へ、微粒子化して分散させやすい疎水性熱可塑性樹脂
などがあげられ、例えば、酢酸ビニル樹脂、ポリビニル
アルコール樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリ
アミド樹脂や、天然ゴム、再生ゴム、スチレンブタジエ
ンゴム、ネオプレンゴム、ニトリルゴムなどのエラスト
マー樹脂などが好適である。熱可塑性樹脂を用いた場
合、各色成膜後、樹脂の溶融温度を超える温度まで加熱
処理を施すことにより、膜強度や密着強度の向上、過剰
成膜の抑制が可能となる。

【００１７】前述の熱可塑性バインダー樹脂のかわり
に、紫外線照射、可視光線照射、赤外線照射、電子線照
射、Ｘ線照射、α線照射、β線照射、γ線照射、又は加
熱により重合する疎水性のモノマー又はオリゴマーを、
前述の界面活性剤により可溶化又は分散させた液と前述
の着色液との混合液によって作製した薄膜を前記のエネ
ルギー線照射処理又は加熱処理して膜強度や密着強度の
向上、過剰成膜の抑制をしてもよい。使用可能なモノマ
ーとしては、酢酸ビニル、アクリル酸メチル、メタクリ
ル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピ
ル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸２−ヒドロキシ
エチル、メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル、メタク
リル酸ベンジルなどの単官能性モノマー、メタクリル酸
ギリシジル、ケイ皮酸ビニル、エチレングリコールジア
クリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレー
ト、ジアリルフタレート、トリアリルイソシアヌレー
ト、トリアリルシアヌレート、トリアリルシトラート、
ペンタエリスリットトリアクリレート、ペンタエリスリ
ットテトラアクリレート、ジペンタエリスリットヘキサ
アクリレートなど多官能性モノマー、また、使用可能な
オリゴマーとしては、不飽和ポリエステル系やエポキシ
アクリレート樹脂系のものがある。これらモノマー又は
オリゴマーに対し、必要であれば重合開始剤を混合し、
用いてもよい。

【００１８】本発明で使用される着色液の調製は、前述
界面活性剤の存在下、水中又は水と相溶性のある有機溶
剤と水との混合溶媒中で、疎水性又は弱親水性の有機又
は無機顔料を、粉砕、摩砕し、好適な粒子系の微粒子分
散液とすることである。粉砕、摩砕にはサンドミル、ボ
ールミル、超音波ホモジナイザー、ペイントコンディシ
ョナーなどの公知の分散装置が使用できる。前記分散装
置を用いて、顔料の粒子径を１μｍ以下に微粒子化する
ことが好ましく、０．２μｍ以下であれば、より好適で
ある。

【００１９】複数種の顔料を使用する場合は、全てをあ
らかじめ撹拌混合しておいてから前述分散装置を用いて
分散してもよいが、各色ごとに別々に分散し、微粒子化
した後、分散した液同士を撹拌混合してもよく、その
後、さらに分散を行ってもよい。なお、別々に分散した
後、液同士を混合する場合は、液の調合比、濃度、温度
などが互いに出来るだけ近い状態で行った方が、分散さ
れた状態の変化が少なく、より好適である。

【００２０】バインダー樹脂を使用する場合、全てをあ
らかじめ撹拌混合しておいてから前述分散装置を用いて
分散してもよいが、バインダー樹脂を含む液と顔料を含
む液とを別々に分散し、微粒子化した後、分散した液同
士を撹拌混合してもよく、その後、さらに分散を行って
もよい。なお、別々に分散した後、液同士を混合する場
合は、液の温度などが互いに出来るだけ近い状態で行っ
た方が、分散された状態の変化が少なく、より好適であ
る。

【００２１】重合性のモノマーやオリゴマーを使用する
場合、全てをあらかじめ撹拌混合しておいてから前述分
散装置を用いて分散してもよいが、顔料を含む液を分散
し、微粒子化した後、分散した液にモノマーやオリゴマ
ーを溶解した液を添加し撹拌混合してもよく、その後、
さらに分散を行ってもよい。なお、顔料を含む液を分散
し微粒子化した後、分散した液にモノマーやオリゴマー
を溶解した液を添加し撹拌混合する場合は、液の温度な
どが互いに出来るだけ近い状態で行った方が、分散され
た状態の変化が少なく、より好適である。

【００２２】次に本発明においては、従来単独のカラー
フィルタ基板と対向させて液晶パネルを構成する際に用
いられる、薄膜トランジスター（ＴＦＴ）又は薄膜ダイ
オード（ＴＦＤ）又はメタルインシュレーテッドメタル
（ＭＩＭ）等のアクティブマトリックス駆動素子を備え
たアクティブマトリックス基板がそのまま使用可能であ
る。これらの構成については、カラーフィルタと対向し
たときに各色のパターンと重なる位置に、主にＩＴＯな
どの透明電極材料で、液晶を駆動するための表示用駆動
電極が、独立したアイランド状態で一定のピッチで並べ
て基板上に設けてあり、これらの表示用駆動電極の縁部
の一部に、薄膜トランジスター（ＴＦＴ）、薄膜ダイオ
ード（ＴＦＤ）、メタルインシュレーテッドメタル（Ｍ
ＩＭ）等のアクティブマトリックス駆動素子が設けてあ
り、さらに、カラーフィルタと対向したときに遮光膜
（ブラックマトリックス）と重なる位置、すなわち、表
示駆動電極同士の間を、ゲート電極、ソース電極などの
信号ラインが形成されている。ゲート電極のラインとソ
ース電極のラインとが交差する部分では、絶縁層が挟み
込まれ、絶縁が保たれている。

【００２３】本発明では、アクティブマトリックス基板
を、前述の芳香族アゾ系界面活性剤で顔料を分散した着
色液に浸漬し、選択的に表示用電極を駆動させて、顔料
を表示用電極上に付着積層させるため、駆動素子やゲー
ト電極及びソース電極の信号ラインがむき出しの状態の
場合、着色液は電解液であるため、駆動素子や各電極ラ
イン間において漏電又は短絡が生じ、意図していない表
示用電極においても顔料が付着したり、又は、駆動電位
が変動して成膜しない可能性が生じる。また、表示用電
極以外の部分に顔料が付着し、絶縁不良が生じる可能性
もある。従って、本発明においては、正常に成膜を行う
には、アクティブマトリックス基板上の駆動素子及び、
信号ラインは絶縁物質で被覆されている必要がある。た
だし、前述の諸問題が生じなければ、この限りではな
い。

【００２４】絶縁性のレジストとして、例えば光硬化性
のものでは、アクリル酸誘導体、メタクリル酸誘導体、
及びこれらの共重合体の単体又は混合物などが挙げられ
る。さらに、これら誘導体にエポキシ基、シロキサン
基、ポリイミド前駆体などを導入したものでもよい。光
開始剤としては、トリアジン系、アセトフェノン系、ベ
ンゾイン系、ベンゾフェノン系、チオキサンソン系な
ど、分散剤として、非イオン性界面活性剤、イオン性界
面活性剤、有機顔料誘導体、ポリエステル系の単品又は
２種以上の混合物、溶剤としては、セロソルブ系、シク
ロヘキサノン、ジエチレングリコールエーテル及びエス
テル系の単品又は２種以上の混合物などが挙げられる。
さらに、黒色色素として、カーボンブラック、チタンブ
ラック、アニリンブラックなどの単品又は２種以上の混
合物から構成される黒色顔料、又は赤色系、青色系、緑
色系、黄色系、紫色系有機顔料などから２種以上を混合
し得られる疑似黒色顔料、又は前記黒色顔料と疑似黒色
顔料の混合物を添加分散し得られる絶縁性黒色レジスト
を用いてもよく、そのままブラックマトリックスとして
用いてもよい。これらの絶縁性レジスト又は絶縁性黒色
レジストは、フォトリソグラフィー法によりパターン形
成が可能である。すなわち、上記レジストを塗布、（必
要があれば続いて酸素遮断膜を形成）、パターン露光、
現像し、ポストベークあるいはポスト露光等の硬化処理
を行う。

【００２５】前述の絶縁性レジスト又は絶縁性黒色レジ
ストを用いることにより、本発明におけるカラーフィル
タを有する液晶駆動素子の製造は可能であるが、より高
精細かつ高品質な画像を表示可能とする液晶駆動素子を
作製するには、より遮光性が高く、同時に絶縁性、すな
わち比抵抗値が高い、遮光膜形成用黒色樹脂を用いれば
よく、さらに、可視光に透過性のある有機顔料のうち、
混色して疑似黒色化する際に色度座標値がＣ光源の中心
に来るような顔料を選択した遮光膜形成用黒色樹脂であ
って、比抵抗値が１０¹⁴Ωｃｍ以上、光学濃度（ＯＤ）
２以上の特性を有するもの、又は、混色有機顔料に適量
のカーボンブラックを混合、同時分散させることで比抵
抗値が１０¹²Ωｃｍ以上、光学濃度（ＯＤ）２．５以上
の特性を有する遮光膜形成用黒色樹脂がより好適であ
る。

【００２６】そのような遮光膜形成用黒色樹脂は、疑似
黒色化した混色有機顔料またはカーボンブラックを更に
混合して分散剤、分散樹脂、溶媒で均一に分散されたも
のである。特に、混色して疑似黒色化する有機顔料とし
ては、可視光領域４００〜７００ｎｍに光透過性、光遮
光性を持つもののうち、黄、青、紫または黄、赤、青の
組み合わせが良く、全ての可視光領域でフラットな光学
特性を有するものである。更に遮光材の中ではカーボン
ブラックの遮光性が高く、疑似黒色化した混色有機顔料
に適量を混合することで更に遮光性の高い黒色樹脂が得
られる。

【００２７】ここで混色有機顔料に用いる黄色顔料とし
ては、ノバパームイエローＨＲ−０１（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇ
Ｙｅｌｌｏｗ ８３）、パリオトールイエローＫ−０
９６１ＨＤ（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇ Ｙｅｌｌｏｗ １３
８）、パリオトールイエローＬ１８２０（Ｃ．Ｉ．Ｐｉ
ｇ Ｙｅｌｌｏｗ １３９）、Ｌｕｍｏｇｅｎ Ｙｅｌ
ｌｏｗ Ｄ ０７９０（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇ Ｙｅｌｌｏｗ
１０１）、Ｓｉｃｏ Ｙｅｌｌｏｗ Ｄ ０９５１
（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇ Ｙｅｌｌｏｗ ３）、ＳｉｃｏＹｅ
ｌｌｏｗ Ｄ １１５０（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇ Ｙｅｌｌｏ
ｗ ７４）、Ｓｉｃｏ Ｆａｓｔ Ｙｅｌｌｏｗ Ｄ
１２５０（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇ Ｙｅｌｌｏｗ１）、Ｓｉｃ
ｏ Ｆａｓｔ Ｙｅｌｌｏｗ Ｄ １３５０（Ｃ．Ｉ．
Ｐｉｇ Ｙｅｌｌｏｗ １３）、Ｓｉｃｏ Ｆａｓｔ
Ｙｅｌｌｏｗ ＮＢ−Ｄ １７６０（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇ
Ｙｅｌｌｏｗ ８３）、Ｓｉｃｏｍｉｎ Ｙｅｌｌｏｗ
Ｄ１１２０（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇ Ｙｅｌｌｏｗ ３４）
等があげられる。

【００２８】赤色顔料としては、パーマネントカーミン
ＦＢＢ−０２（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇ Ｒｅｄ １４６）、シ
ンカシャレッドＢＲＴ−７９６Ｄ（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇ Ｖ
ｉｏｌｅｔ １９）、クロモフタルレッドＢＲＮ（Ｃ．
Ｉ．Ｐｉｇ Ｒｅｄ １４４）、ホスタパームピンクＥ
（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇ Ｒｅｄ １４６）、クロモフタルレ
ッドＡ２Ｂ（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇ Ｒｅｄ １７７）、Ｆａ
ｎａｌ Ｐｉｎｋ Ｄ４６８０（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇ Ｒｅ
ｄ １ ６９）、Ｆａｎａｌ Ｐｉｎｋ Ｄ４８１０
（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇ Ｒｅｄ １６９）、Ｆａｎａｌ Ｐ
ｉｎｋ ４８３０（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇ Ｒｅｄ ８１）等
があげられる。

【００２９】青色顔料としては、ヘリオゲンブルーＤ−
７５６５（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇ Ｂｌｕｅ １６）、ヘリオ
ゲンブルーＬ６７００Ｆ（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇ Ｂｌｕｅ
１５：６）、ヘリオゲンブルーＤ７０７２Ｄ（Ｃ．Ｉ．
Ｐｉｇ Ｂｌｕｅ １５：３）、ヘリオゲンブルーＤ６
９００Ｄ（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇ Ｂｌｕｅ １５：１）、ヘ
リオゲンブルーＤ６８７０Ｄ（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇ Ｂｌｕ
ｅ １５：２）、ヘリオゲンブルーＤ７１００Ｄ（Ｃ．
Ｉ．Ｐｉｇ Ｂｌｕｅ １５：４）等があげられる。

【００３０】紫色顔料としては、Ｆａｎｌ Ｖａｉｏｌ
ｅｔ Ｄ５４６０（Ｃ．Ｉ．ＰｉｇＶｉｏｌｅｔ １
４５１７５：１）、Ｆａｎｌ Ｖａｉｏｌｅｔ Ｄ５４
８０（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇ Ｖｉｏｌｅｔ １ ４５１７
０：２）、Ｆａｎｌ Ｖａｉｏｌｅｔ Ｄ６０６０
（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇ Ｖｉｏｌｅｔ ３９ ４２５５５：
２）、Ｆａｎｌ Ｖａｉｏｌｅｔ Ｄ６０７０（Ｃ．
Ｉ．Ｐｉｇ Ｖｉｏｌｅｔ３９ ４２５５５：２）、リ
オノゲンバイオレットＲＬ（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇ Ｖｉｏｌ
ｅｔ ２３ ５１３１９）等があげられる。

【００３１】次に用いられる樹脂としては、例えばアク
リル系樹脂としては、分散性、耐熱性、アルカリ現像
性、透明性に優れ且つ、比抵抗が１０¹⁵Ωｃｍ以上であ
る事が好ましい。アクリル系樹脂の成分であるアクリル
系モノマーとしては、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）−ＣＯＯ−Ｒ
２、Ｒ１はＨまたはＣＨ₃ 、 Ｒ２はアルキル、分枝アル
キルあるいは、フェニル、シクロヘキシル、テトラヒド
ロフルフリルメタクリレート等があるが、本発明に主に
使用される樹脂の具体的な例としては、ＣＨ₂ ＝Ｃ（Ｃ
Ｈ₃ ）−ＣＯＯ（ＣＨ₂ ＣＨ₂ ）ｎ−ＯＨ（ｎ＝１また
は２）、ＣＨ₂ ＝ＣＨ−ＣＯＯ（ＣＨ₂ ＣＨ₂ ）ｎ−Ｏ
Ｈ（ｎ＝１または２）、ＣＨ₂ ＝ＣＨ−ＣＯＯＨ、ＣＨ
₂ ＝Ｃ（ＣＨ₃ ）−ＣＯＯＨ、 ＣＨ₂ ＝Ｃ（ＣＨ₃ ）
−ＣＯＮＨ ₂ 、 ＣＨ₂ ＝ＣＨ−ＣＯＮＨ₂ 、 ＣＨ₂ ＝Ｃ
（ＣＨ₃ ）−ＣＯＮ（ＣＨ₃ ）₂ 、ＣＨ₂ ＝ＣＨ−ＣＯ
Ｎ（ＣＨ₃ ）₂ 、 ＣＨ₂ ＝ＣＨ−ＣＯＯＣＨ₂ ＣＨ₂ −
Ｎ（ＣＨ₃ ）₂ 、 ＣＨ₂ ＝Ｃ（ＣＨ₃ ）−ＣＯＯＣＨ₂
ＣＨ₂ −Ｎ（ＣＨ₃ ）₂ 、ＣＨ₂ ＝ＣＨ−ＣＯＯ（ＣＨ
₂ ）ｎ−ＣＨ₃ （ｎ＝１〜５）、ＣＨ₂ ＝Ｃ（ＣＨ₃）
−ＣＯＯ（ＣＨ₂ ）ｎ−ＣＨ₃ （ｎ＝１〜５）、ＣＨ₂
＝ＣＨ−ＣＯＯＨ、ＣＨ₂ ＝ＣＨ−ＣＯＯＣＨ₂ ＣＨ₂
ＣＨ₂ −Ｎ（ＣＨ₃ ）₂ 、 ＣＨ₂ ＝Ｃ（ＣＨ₃）−ＣＯ
ＯＨ、ＣＨ₂ ＝ＣＨ−ＣＯＯ（Ｃ₆ Ｈ₅ ）、ＣＨ₂ ＝Ｃ
（ＣＨ₃ ）−ＣＯＯ（Ｃ₆ Ｈ₅ ）、ＣＨ₂ ＝Ｃ（Ｃ
Ｈ₃ ）−ＣＯＯＣＨ₂ −（Ｃ₆ Ｈ₅ ）等が挙げられ、こ
れらの中から必要により選ばれる数種類のモノマーによ
り合成される。上記のアクリル系モノマーの他、ジメチ
ルアミノエチルメタクリレート、ベンジルアクリレー
ト、グリシジルメタクリレート、アクリロニトリル、ビ
ニルアセテート、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロ
フルフリルメタクリレート等も適宜選択して用いること
が出来る。

【００３２】分散剤としては、非イオン性界面活性剤
（例えばポリオキシエチレンアルキルエーテル）、イオ
ン性界面活性剤（例えばアルキルベンゼンスルフォン酸
ナトリウム、ポリ脂肪酸塩、脂肪酸塩アルキルリン酸
塩、テトラアルキルアンモニウム塩）、有機顔料誘導
体、ポリエステル等が挙げられる。分散剤は１種類を単
独で使用しても良く、２種類以上を混合して使用しても
良い。

【００３３】溶剤としては、トルエン、キシレン、エチ
ルセロソルブ、エチルセロソルブアセテート、ジクライ
ム、シクロヘキサノンなどが用いられるが、塗布性、分
散安定性、等から選択され、単一または複数の溶剤組成
の溶剤を適宜選択する。

【００３４】次に遮光膜形成用黒色樹脂における各組成
の好ましい配合について説明する。遮光性黒色樹脂（混
合顔料、樹脂、分散剤、溶媒）の固形分は、５〜４０重
量％であり、好ましくは１０〜３０重量％、更に好まし
くは１５〜２０重量％である。５重量％以下、または４
０重量％以上であるとスピンコート、ロールコート等の
塗布装置で所望の膜厚を得る事が困難となり、また塗布
性も低下する。

【００３５】疑似黒色化した混色有機顔料および、更に
カーボンブラックを混合した混合顔料の割合は、分散樹
脂に対し５０〜２００重量部であり、好ましくは１００
〜１５０重量部である。５０重量部以下であるとブラッ
クマトリクスとしたときの遮光性が低下するので厚い膜
厚が要求され、その結果液晶配向膜形成の際に支障を来
し、液晶表示装置として表示性能が損なわれる恐れがあ
る。２００重量部以上であると均一に分散することが困
難となり、遮光膜を形成しても密着性など機械的強度が
低下する恐れがある。

【００３６】高い遮光性を得るために混合するカーボン
ブラックの割合は、混色有機顔料に対して１〜３０重量
部であり、好ましくは５〜２０重量部である。カーボン
ブラックの割合が３０重量部以上の場合は高い遮光性が
得られるものの、比抵抗値が１０¹¹Ωｃｍ以下もしくは
完全に導体となり、アクティブマトリックス基板上にブ
ラックマトリクスを形成した場合、電極同士が短絡する
ことが懸念され、あるいは短絡してしまい、液晶表示装
置として表示性能が損なわれる恐れがある。

【００３７】黄色有機顔料と青色有機顔料と紫色有機顔
料とを混合し疑似黒色化する場合、各有機顔料の割合
は、好ましくは１：１：１〜２：２：１であり、特に好
ましくは１：１：１〜１．３：１．３：１である。また
黄色有機顔料と赤色有機顔料と青色有機顔料とを混合し
疑似黒色化する場合、各有機顔料の割合は、好ましくは
１：１：１〜１：２：２であり、特に好ましくは１：
１：１〜１：１．５：１．５である。有機顔料を混合し
疑似黒色化する場合、上記に示した範囲内で色度座標値
がＣ光源の中心付近に位置するため、可視光をバランス
よく遮光できる。

【００３８】分散剤の割合は、混色有機顔料および、更
にカーボンブラックを混合した混合顔料に対し１重量部
以上とするのが好ましい。１重量部未満では均一な分散
をすることが困難で安定性に欠けたものとなる。

【００３９】前述の高遮光性高絶縁性黒色樹脂において
も、公知の光開始剤及び硬化助剤として架橋剤などを添
加して光硬化性樹脂とし、ネガ型のマスクを用いたリソ
グラフィー法にて遮光膜パターンを形成してもよい。ま
た、遮光性が高いため、膜厚等の条件によって、パター
ン露光の際、十分光硬化しなかったり、あるいは長時間
の露光が必要になって遮光膜パターンの線幅が太り、高
精細なパターン形成が出来ないなどの場合は、前述の高
遮光性高絶縁性黒色樹脂を光硬化性にはせず、公知のポ
ジレジストを用い、現像及びエッチングによってパター
ン形成を行うとより好適である。

【００４０】ポジレジストを使用する場合の成膜工程を
説明すると、表示用透明電極とアクティブマトリックス
駆動素子を備えたアクティブマトリックス基板に、高遮
光性高絶縁性黒色樹脂を塗布、乾燥し、その上にさらに
ポジレジストを塗布、乾燥する。続いて形成したいパタ
ーンと同じ遮光パターンを持つポジ型マスクを介して露
光し、現像、エッチングをし、最後に焼成を行って遮光
膜パターンを形成する。

【００４１】本発明の液晶駆動素子の製造方法を説明す
ると、前述の疎水性部分と親水性部分からなる界面活性
剤と、疎水性又は弱親水性の有機又は無機顔料を、水中
又は水と相溶性のある有機溶剤と水との混合溶媒中へ可
溶化し、又は微粒子として分散した際、顔料を界面活性
剤が、疎水性部を内側に、親水性部を外側にして取りま
き、これをアクティブマトリックス基板上に設けた表示
用透明電極にて界面活性剤を電解還元して分解すると界
面活性剤が分解して分散能が消滅するため、顔料が表示
用透明電極上に付着堆積することにより行う。アゾ基を
有する界面活性剤の還元電位はおよそ−０．２５〜−
０．０５Ｖ（対ＳＣＥ、ｐＨ＝１．０）付近にあるた
め、これより低い電位に表示用透明電極を駆動すること
により、表示用透明電極がカソードとして機能するた
め、界面活性剤の分解及び顔料の付着堆積は表示用透明
電極上に選択的に行われる。従って、図１に示すような
基板１上にアクティブマトリクス駆動素子２と表示透明
電極３と遮光膜パターン３を形成した基板に、例えば、
赤色着色液に浸漬し、赤色パターンを形成する表示用透
明電極を、界面活性剤の還元電位より低い電位にて駆動
することにより、前述の界面活性剤を電解還元し、赤顔
料を所望の表示用透明電極に付着させることにより、赤
色パターン５の形成が可能となる。そして、この工程を
繰り返すことにより、緑色パターン６、さらに青色パタ
ーン７が形成され、最後に必要があれば保護層８を形成
し、液晶駆動素子が作製される。

【００４２】なお、電極を設けた基板を着色液に浸漬
し、成膜する際、着色液を溶媒が蒸発又は揮発しない範
囲で加熱することにより成膜を促進することが可能であ
る。

【００４３】全色の成膜が終わり、熱処理又は重合処理
の後、必要があれば、成膜面全体を透明な補強用樹脂で
コートし、保護層を形成してもよい。例えば、アクリル
系、エステル系、ポリイミド系、環化ゴム系、シロキサ
ン系、エポキシ系などの重合体又は共重合体などが挙げ
られる。これら樹脂の溶剤としては、セロソルブ系化合
物、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、ジエ
チレングリコールエーテル、エステル系化合物、又はそ
れらの混合物などが挙げられる。また、公知の開始剤、
架橋剤等を添加してもよい。補強用樹脂液の塗布は、例
えば、スピンコーター、ロールコーター、ナイフコータ
ー、グラビアコーターなど公知の方法を用いればよい。
コート後は熱処理又は露光処理を行い、硬化を行う。

【００４４】本発明においては、界面活性剤で顔料を分
散し、界面活性剤のみの分解によって成膜を行うため、
顔料そのものには化学的または物理的変化は起こらな
い。界面活性剤の分散能力は非常に高いため、顔料を一
次粒子又はそれに近い域まで微粒子化が可能となる。顔
料の付着堆積は、必要な部分に必要な量のみ行われるた
め、材料の無駄がほとんどない。

【００４５】界面活性剤の電解還元にはアクティブマト
リックス基板に設けられた表示用透明電極を利用するた
め、新たにカラーフィルタパターンの形成工程を必要と
しない。アクティブマトリックス基板に設けられた表示
用透明電極を選択的に駆動し成膜するため、カラーフィ
ルタパターンの形成において、アライメントは不要であ
る。高精細な遮光膜パターン形成により、ほぼ表示用透
明電極全面に顔料を成膜できるため、開口率が大幅に改
善される。

【００４６】顔料の付着堆積は、基板内全面において同
時に行われるため、膜厚は基板面内において均一とな
る。

【００４７】

【実施例】

＜着色液の調製＞０．１Ｎ塩酸水溶液１０００ｍｌに、
界面活性剤（同仁化学（株）製：「ＡＺＰＥＧ１００
０」）２ｇ、ジアントラキノン系赤顔料８．９ｇを加え
て撹拌後、水冷しながら超音波ホモジナイザー（１５０
Ｗ、２０ｋＨｚ）にて３０分間分散を行い、赤色着色液
を得た。同様に、０．１Ｎ塩酸水溶液１０００ｍｌに、
界面活性剤（同仁化学（株）製：「ＡＺＰＥＧ１５０
０」）４．５ｇ、クロモブロモ銅フタロシアニン系緑顔
料２７．８ｇを加えて撹拌後、水冷しながら超音波ホモ
ジナイザー（１５０Ｗ、２０ｋＨｚ）にて３０分間分散
を行い、緑色着色液を得、さらに、０．１Ｎ塩酸水溶液
１０００ｍｌに、界面活性剤（同仁化学（株）製：「Ａ
ＺＰＥＧ１０００」）２ｇ、銅フタロシアニン系赤顔料
１１．５ｇを加えて撹拌後、水冷しながら超音波ホモジ
ナイザー（１５０Ｗ、２０ｋＨｚ）にて３０分間分散を
行い、青色着色液を得た。最後に、０．１Ｎ塩酸水溶液
１０００ｍｌに、界面活性剤（同仁化学（株）製：「Ａ
ＺＰＥＧ１０００」）６ｇ、カーボンブラック系黒顔料
８．９ｇを加えて撹拌後、水冷しながら超音波ホモジナ
イザー（１５０Ｗ、２０ｋＨｚ）にて３０分間分散を行
い、黒色着色液を得た。いずれも数時間静置後、容器内
底部において沈殿物は見られず、十分に分散が進んでい
ると判断した。

【００４８】＜遮光膜形成１＞アクリル樹脂（メタクリ
ル酸２０重量部、ヒドロキシエチルメタクリレート１５
重量部、メチルメタクリレート１０重量部、ブチルメタ
クリレート５５重量部を、エチルセロソルブ３００重量
部に溶解し、窒素雰囲気下で、アゾビスニトリル０．７
５重量部を加えて、７０℃、５時間反応させ得られたア
クリル樹脂）を、樹脂濃度２０重量％になるようにエチ
ルセロソルブで希釈した。この希釈樹脂８０ｇと、黄色
顔料（ＢＡＳＦ社製：「パリオトールイエローＬ１８２
０」（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇ Ｙｅｌｌｏｗ １３９））９．
３ｇ、青色顔料（ＢＡＳＦ社製：「ヘリオゲンブルーＬ
６７００Ｆ」）７．２ｇ、紫色顔料（東洋インキ製造
（株）製：「リオノゲンバイオレットＲＬ」）７．２
ｇ、分散剤２ｇを添加して、ビーズミル分散機で冷却し
ながら３時間分散した。更にこの遮光性樹脂をエチルセ
ロソルブで固形分１５重量％になるように希釈し、遮光
膜形成用黒色樹脂とした。

【００４９】この黒色樹脂を両面Ｃｒ蒸着された基板の
片面に８００ｒｐｍでスピンコートし、１．２μｍの膜
厚を得た。塗膜の乾燥後、端面をアセトンでふき取り、
更に２００℃、１時間の焼成の後、両面のＣｒを銀ペー
ストで短絡し、比抵抗測定用基板とした。この基板をＪ
ＩＳ規格（Ｃ２１０３−１９９１）の体積抵抗率試験に
準じた測定方法で比抵抗を測定したところ１０¹⁴Ωｃｍ
以上であった。また、同様に透明なガラス基板に遮光膜
を形成し透過率を測定したところ光学濃度（ＯＤ）２以
上であった。十分な特性が得られることの判った遮光性
樹脂を、駆動素子、電極パターン及び信号ラインの形成
されたアクティブマトリックス基板に塗布し、厚さ１．
２μｍの塗膜を得た。１００℃、２０分の乾燥の後、更
にポジレジスト（ヘキスト社製：「ＡＺ１３５０」）を
１μｍ塗布し、１００℃、２０分の乾燥を行った。次に
表示用透明電極部（画素部）が遮光されたポジ型マスク
を介して、精度良くアライメントし１０ｍＪ／ｃｍ² の
ＵＶ露光を行い現像液（ヘキストインダストリー社製
「ＡＺ」）にて表示用透明電極部を、遮光膜とともに現
像、エッチングを行った。１３０℃、２０分の焼成を行
い、遮光膜の剥離耐性を上げた後、５％の苛性ソーダに
てポジレジストを剥離し、２００℃、１時間の焼成を行
ってブラックマトリクスパターンを得た。

【００５０】ポジレジストの解像性が高いためブラック
マトリクスは線幅５μｍ以下で形成する事が可能とな
り、表示用透明電極部はほぼ１００％開口することが可
能となった。また、このアクティブマトリックス基板
は、従来のブラックマトリクスが形成されたカラーフィ
ルタに比べ開口率が１５％以上も高くなり、明るい画像
表示、高精細化が可能となった。

【００５１】＜遮光膜形成２＞上記の希釈されたアクリ
ル樹脂８０ｇと黄色顔料（ＢＡＳＦ社製：「パリオトー
ルイエローＬ１８２０」Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇ Ｙｅｌｌｏｗ
１３９）７．２ｇ、赤色顔料（チバガイギー社製：
「クロモフタルレッドＡ２Ｂ」Ｃ．Ｉ．ＰｉｇＲｅｄ１
７７ ６５３００）７．２ｇ、青色顔料（ＢＡＳＦ社
製：「ヘリオゲンブルーＬ６７００Ｆ」）９．３ｇ、分
散剤２ｇを遮光膜形成１同様に分散機にて分散し、固形
分１５重量％の遮光膜形成用黒色樹脂を作製した。この
遮光性樹脂の比抵抗を測定したところ１０¹⁴Ωｃｍ以上
であった。また、同様に透明なガラス基板に遮光膜を形
成し透過率を測定したところ、光学濃度（ＯＤ）２以上
であった。この樹脂を用いてブラックマトリクスパター
ンを形成したアクティブマトリックス基板の表示用透明
電極部はほぼ１００％開口する事が可能となり、このア
クティブマトリックス基板は開口率が１５％以上も高く
なることが判った。

【００５２】＜遮光膜形成３＞上記の希釈されたアクリ
ル樹脂７８ｇと、黄色顔料（ＢＡＳＦ社製：「パリオト
ールイエローＬ１８２０」Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇ Ｙｅｌｌｏ
ｗ １３９）７．７ｇ、青色顔料（ＢＡＳＦ社製：「ヘ
リオゲンブルーＬ６７００Ｆ」）６．１ｇ、紫色顔料
（東洋インキ製造（株）製：「リオノゲンバイオレット
ＲＬ」）６．１ｇ、カーボンブラック２．１ｇと分散剤
２．２ｇを遮光膜形成１同様に分散機で分散を行い、固
形分１５重量％の遮光膜形成用黒色樹脂を作製した。こ
の遮光性樹脂膜１．１μｍの比抵抗を測定したところ１
０¹²Ωｃｍ以上であった。また、同様に透明なガラス基
板に遮光膜を形成し透過率を測定したところ、光学濃度
（ＯＤ）２．５以上であった。この樹脂を用いてブラッ
クマトリクスパターンを形成したアクティブマトリック
ス基板の表示用透明電極部はほぼ１００％開口する事が
可能となり、このアクティブマトリックス基板は開口率
が１５％以上も高くなることが判った。

【００５３】＜遮光膜形成４＞上記の希釈樹脂７８ｇ
と、黄色顔料（ＢＡＳＦ社製：「パリオトールイエロー
Ｌ１８２０」Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇ Ｙｅｌｌｏｗ １３９）
６．１ｇ、赤色顔料（チバガイギー社製「クロモフタル
レッドＡ２Ｂ」Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇ Ｒｅｄ１７７６５３０
０）６．１ｇ、青色顔料（ＢＡＳＦ社製：「ヘリオゲン
ブルーＬ６７００Ｆ」）７．７ｇ、カーボンブラック
２．１ｇと分散剤２．２ｇを遮光膜形成１同様に分散機
で分散を行い、固形分１５重量％の遮光膜形成用黒色樹
脂を作製した。この遮光性樹脂の比抵抗を測定したとこ
ろ１０¹²Ωｃｍであった。また、同様に透明なガラス基
板に遮光膜を形成し透過率を測定したところ光学濃度
（ＯＤ）２．５以上であった。この樹脂を用いてブラッ
クマトリクスパターンを形成したアクティブマトリック
ス基板の表示用透明電極部はほぼ１００％開口する事が
可能となり、このアクティブマトリックス基板は開口率
が１５％以上も高くなることが判った。

【００５４】＜実施例１＞前述の（遮光膜形成１）にて
ブラックマトリクスパターンを形成したアクティブマト
リックス基板を、前述の（着色液の調製）にて調製した
赤色着色液に浸漬し、常温にて表示用透明電極を−２．
０Ｖ、１５分間駆動し、成膜した。成膜後、液中から引
き上げ、蒸留水に浸漬して洗浄し、オーブン中にて７０
℃、２０分間乾燥した後、さらに、１５０℃、１時間熱
処理して、厚さ１μｍの赤色パターンを得た。続いて、
前述の（着色液の調製）にて調製した緑色着色液に浸漬
し、常温にて表示用透明電極を−２．０Ｖ、２０分間駆
動し、成膜した。成膜後、液中から引き上げ、蒸留水に
浸漬して洗浄し、オーブン中にて７０℃、２０分間乾燥
した後、さらに、１５０℃、１時間熱処理して、厚さ１
μｍの緑色パターンを得た。最後に、前述の（着色液の
調製）にて調製した青色着色液に浸漬し、常温にて表示
用透明電極を−２．０Ｖ、１５分間駆動し、成膜した。
成膜後、液中から引き上げ、蒸留水に浸漬して洗浄し、
オーブン中にて７０℃、２０分間乾燥した後、さらに、
１５０℃、１時間熱処理して、厚さ１μｍの青色パター
ンを得た。ＴＦＴ型アクティブマトリックス基板に形成
されたカラーフィルタは、各色のパターンが顔料のみで
構成されているため、厚さが１ミクロンしかないにもか
かわらず、色純度は非常に高かった。

【００５５】＜実施例２＞前述の＜遮光膜形成２＞にて
ブラックマトリクスパターンを形成したアクティブマト
リックス基板を、前述の＜着色液の調製＞にて調製した
各色着色液を用いて、＜実施例１＞と同条件にて各色の
パターンを形成した。

【００５６】＜実施例３＞前述の＜遮光膜形成３＞にて
ブラックマトリクスパターンを形成したアクティブマト
リックス基板を、前述の＜着色液の調製＞にて調製した
各色着色液を用いて、＜実施例１＞と同条件にて各色の
パターンを形成した。

【００５７】＜実施例４＞前述の＜遮光膜形成４＞にて
ブラックマトリクスパターンを形成したアクティブマト
リックス基板を、前述の＜着色液の調製＞にて調製した
各色着色液を用いて、＜実施例１＞と同条件にて各色の
パターンを形成した。

【００５８】

【発明の効果】本発明においては、界面活性剤で顔料を
分散し、界面活性剤のみの分解によって成膜を行うた
め、例えば従来の電着法のように、成膜成分である顔料
そのものには化学的または物理的変化は起こすような機
能は必要としない。従って、多機能化による特性値の妥
協が少なくてすみ、例えば色特性をより追求するなど、
特性値の高い材料をコストを抑えつつ使用可能である。
界面活性剤の分散能力は非常に高く、顔料を一次粒子又
はそれに近い域まで微粒子化が可能となるため、非常に
色特性のよいカラーフィルタを備えた液晶駆動素子の製
造が可能である。顔料の付着堆積は、必要な部分に必要
な量のみ行われ、材料の無駄がほとんどないので、材料
面でのコストダウンが可能である。界面活性剤の電解還
元にアクティブマトリックス基板に設けられた表示用透
明電極を利用し、新たにカラーフィルタパターンの形成
工程を必要としないため、またアクティブマトリックス
基板に設けられた表示用透明電極を選択的に駆動し成膜
することによりカラーフィルタパターンの形成におい
て、アライメントは不要であるため、工程数の低減と同
時に歩留まりが向上し、生産効率の向上が可能となり、
無論設備投資費も抑えられる。高精細な遮光膜パターン
形成によってほぼ表示用透明電極全面に顔料を成膜で
き、開口率が大幅に改善されるため、液晶パネルの明る
さが向上し、より高精細化、又は低消費電力化が可能と
なる。界面活性剤の電解還元に必要な電力は非常に少な
く、生産コストを低くできる。顔料の付着堆積は、基板
内全面において同時に行われ、パターンの膜厚は基板面
内において均一となるため、ムラのない、非常に表示特
性の高いカラーフィルタを備えた液晶駆動素子が得られ
る。以上、総じて非常に高画像品質のカラーフィルタを
備えた液晶駆動素子が低価格で提供可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の液晶駆動素子の製造方法の一実施例の
工程を示す説明図である。

【符号の説明】

１…基板 ２…アクティブマトリックス駆動素子 ３…表示用透明電極 ４…遮光膜パターン ５…赤色パターン ６…緑色パターン ７…青色パターン

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 坂川 誠 東京都台東区台東１丁目５番１号 凸版印 刷株式会社内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】アクティブマトリックス駆動素子と表示電
   極とを備えた基板上にカラーフィルタを形成した液晶駆
   動素子の製造方法において、基板上にアクティブマトリ
   ックス駆動素子、表示電極を形成し、表示電極以外の基
   板上の部分にブラックマトリックスを形成し、この基板
   を顔料をアゾ化合物残基を含有する界面活性剤を用いて
   分散した着色液に浸漬して、アクティブマトリックス駆
   動素子のみを駆動させて表示電極部分に電位を印加し、
   色素パターンを形成することを特徴とする液晶駆動素子
   の製造方法。
2. 【請求項２】前記アクティブマトリックス基板が、薄膜
   トランジスター又は薄膜ダイオード又はメタルインシュ
   レーテッドメタル基板であることを特徴とする請求項１
   記載の液晶駆動素子の製造方法。