JPH10282690A - 電子写真感光体及び電子写真装置 - Google Patents
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- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 title claims abstract description 36
- -1 triphenylamine compound Chemical class 0.000 claims abstract description 58
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 claims abstract description 32
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims abstract description 32
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims abstract description 32
- SJHHDDDGXWOYOE-UHFFFAOYSA-N oxytitamium phthalocyanine Chemical compound [Ti+2]=O.C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 SJHHDDDGXWOYOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 83
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 46
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 46
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 34
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 32
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 29
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 22
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 21
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 16
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 16
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 9
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 6
- CIKRMOQDJNFPRK-UHFFFAOYSA-L dichlorogallium Chemical compound Cl[Ga]Cl CIKRMOQDJNFPRK-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000006527 (C1-C5) alkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims 1
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 claims 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 abstract description 15
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 153
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 50
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 48
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 46
- 239000000463 material Substances 0.000 description 35
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 33
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 19
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 17
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 16
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 14
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 10
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 10
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 10
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 9
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 8
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 7
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N benzidine Chemical class C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1 HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 5
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 5
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 5
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 5
- SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N Bisphenol Z Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)CCCCC1 SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 4
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 4
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 4
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003755 zirconium compounds Chemical class 0.000 description 4
- 125000006726 (C1-C5) alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 3
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 3
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- BSDOQSMQCZQLDV-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] BSDOQSMQCZQLDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 3
- 125000000040 m-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000001741 organic sulfur group Chemical group 0.000 description 3
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 3
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 3
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 3
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 3
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 3
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005259 triarylamine group Chemical group 0.000 description 3
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 3
- 235000014692 zinc oxide Nutrition 0.000 description 3
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 2
- XDOFQFKRPWOURC-UHFFFAOYSA-N 16-methylheptadecanoic acid Chemical compound CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O XDOFQFKRPWOURC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YMTYZTXUZLQUSF-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethylbisphenol A Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(C(C)(C)C=2C=C(C)C(O)=CC=2)=C1 YMTYZTXUZLQUSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VWGKEVWFBOUAND-UHFFFAOYSA-N 4,4'-thiodiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1SC1=CC=C(O)C=C1 VWGKEVWFBOUAND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NZGQHKSLKRFZFL-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyphenoxy)phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1OC1=CC=C(O)C=C1 NZGQHKSLKRFZFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YGBCLRRWZQSURU-UHFFFAOYSA-N 4-[(diphenylhydrazinylidene)methyl]-n,n-diethylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C=NN(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 YGBCLRRWZQSURU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 229910000967 As alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001215 Te alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QLNFINLXAKOTJB-UHFFFAOYSA-N [As].[Se] Chemical compound [As].[Se] QLNFINLXAKOTJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical group N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 2
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 2
- 150000007857 hydrazones Chemical class 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002697 manganese compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTSLXHKWHWQRSH-UHFFFAOYSA-N oxalyl chloride Chemical compound ClC(=O)C(Cl)=O CTSLXHKWHWQRSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 2
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 2
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002530 phenolic antioxidant Substances 0.000 description 2
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 2
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 2
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 2
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 2
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 2
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 229940116351 sebacate Drugs 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-L sebacate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCCCCCCCC([O-])=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 2
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- YEYCMBWKTZNPDH-UHFFFAOYSA-N (2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) benzoate Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1OC(=O)C1=CC=CC=C1 YEYCMBWKTZNPDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUIPAJHTKDSSOK-UHFFFAOYSA-N (2-nonylphenyl) dihydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1OP(O)(O)=O UUIPAJHTKDSSOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IDTODQQHHXCCBI-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl) phenyl carbonate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1OC(=O)OC1=CC=CC=C1 IDTODQQHHXCCBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYSXWUYLAWPLES-MTOQALJVSA-N (Z)-4-hydroxypent-3-en-2-one titanium Chemical compound [Ti].C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O RYSXWUYLAWPLES-MTOQALJVSA-N 0.000 description 1
- HCNHNBLSNVSJTJ-UHFFFAOYSA-N 1,1-Bis(4-hydroxyphenyl)ethane Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)C1=CC=C(O)C=C1 HCNHNBLSNVSJTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 1,1-Diethoxyethane Chemical compound CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLUXVUVEVXYICG-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloroethene;prop-2-enenitrile Chemical compound C=CC#N.ClC(Cl)=C QLUXVUVEVXYICG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAXWOADCWUUUNX-UHFFFAOYSA-N 1,2,2,3-tetramethylpiperidine Chemical class CC1CCCN(C)C1(C)C YAXWOADCWUUUNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIDRAVVQGKNYQK-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4-tetrahydrotriazine Chemical compound C1NNNC=C1 FIDRAVVQGKNYQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXBSSAFKXWFUMF-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trinitrofluoren-9-one Chemical compound C12=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C([N+](=O)[O-])C([N+]([O-])=O)=C2[N+]([O-])=O ZXBSSAFKXWFUMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMNSBFYYVHREEE-UHFFFAOYSA-N 1,2-dinitroanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=C([N+]([O-])=O)C([N+](=O)[O-])=CC=C3C(=O)C2=C1 NMNSBFYYVHREEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZUKQUVSCNEFMJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-dinitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O IZUKQUVSCNEFMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical group CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEZZCSHVIGVWFI-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Dihydroxy-4-methoxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1O MEZZCSHVIGVWFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 2,3-ditert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1C(C)(C)C QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYLSIPUARIZAHZ-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tris(1-phenylethyl)phenol Chemical compound C=1C(C(C)C=2C=CC=CC=2)=C(O)C(C(C)C=2C=CC=CC=2)=CC=1C(C)C1=CC=CC=C1 BYLSIPUARIZAHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(2-methylbutan-2-yl)phenol Chemical compound CCC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)CC)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDXCWZKQDWCCMJ-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-6-[[3-(benzotriazol-2-yl)-2-hydroxy-5-methylphenyl]methyl]-4-methylphenol Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=NN1C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)N2N=C3C=CC=CC3=N2)O)=C1O ZDXCWZKQDWCCMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKMNWICOBCDSSQ-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-yl]ethyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCCN2C(CC(CC2(C)C)OC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)(C)C)=C1 SKMNWICOBCDSSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCGWQXSXIREHCF-UHFFFAOYSA-N 2-[bis(2-hydroxyethyl)amino]ethanol;zirconium Chemical compound [Zr].OCCN(CCO)CCO GCGWQXSXIREHCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHEDBVUTTQXGSJ-UHFFFAOYSA-M 2-[bis(2-oxidoethyl)amino]ethanolate;titanium(4+);hydroxide Chemical compound [OH-].[Ti+4].[O-]CCN(CC[O-])CC[O-] IHEDBVUTTQXGSJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XBQRPFBBTWXIFI-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-4-[2-(3-chloro-4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol Chemical compound C=1C=C(O)C(Cl)=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C(Cl)=C1 XBQRPFBBTWXIFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTXWGMUMDPYXNN-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCCC(CC)C[O-].CCCCC(CC)C[O-].CCCCC(CC)C[O-].CCCCC(CC)C[O-] KTXWGMUMDPYXNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIFLGMNWQFPTAJ-UHFFFAOYSA-J 2-hydroxypropanoate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O AIFLGMNWQFPTAJ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- LYPJRFIBDHNQLY-UHFFFAOYSA-J 2-hydroxypropanoate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O LYPJRFIBDHNQLY-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- WGRZHLPEQDVPET-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethoxysilane Chemical compound COCCO[SiH3] WGRZHLPEQDVPET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLAMLWHELXOEJZ-UHFFFAOYSA-N 2-nitrobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O SLAMLWHELXOEJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)sulfanyl-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1SC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFANXOISJYKQRP-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-[1-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)butyl]-5-methylphenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)C)=C(O)C=C(C)C=1C(CCC)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C PFANXOISJYKQRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKNCVRMXCLUOJI-UHFFFAOYSA-N 3,3'-dibromobisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C(Br)=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C(Br)=C1 CKNCVRMXCLUOJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEKJEMDSKURVLI-UHFFFAOYSA-N 3,4-dibromofuran-2,5-dione Chemical compound BrC1=C(Br)C(=O)OC1=O GEKJEMDSKURVLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMZPTAFGSRVFIA-UHFFFAOYSA-N 3-[tris(2-methoxyethoxy)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)CCCOC(=O)C(C)=C DMZPTAFGSRVFIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BATCUENAARTUKW-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-hydroxyphenyl)-diphenylmethyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(C=1C=CC(O)=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 BATCUENAARTUKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODJUOZPKKHIEOZ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)propan-2-yl]-2,6-dimethylphenol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=CC(C(C)(C)C=2C=C(C)C(O)=C(C)C=2)=C1 ODJUOZPKKHIEOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOCGGVRGNIEDSZ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxy-3-prop-2-enylphenyl)propan-2-yl]-2-prop-2-enylphenol Chemical compound C=1C=C(O)C(CC=C)=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C(CC=C)=C1 WOCGGVRGNIEDSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXYNWIWRWCARJV-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-hydroxyphenyl)-4-methylhept-1-en-2-yl]phenol Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(CCC)CC(=C)C1=CC=C(O)C=C1 FXYNWIWRWCARJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- OTLNPYWUJOZPPA-UHFFFAOYSA-N 4-nitrobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 OTLNPYWUJOZPPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUFCMRCMPHIFTR-UHFFFAOYSA-N 5-(dimethylsulfamoyl)-2-methylfuran-3-carboxylic acid Chemical compound CN(C)S(=O)(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C)O1 DUFCMRCMPHIFTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWFPGFJLYRKYJZ-UHFFFAOYSA-N 9,9-bis(4-hydroxyphenyl)fluorene Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)C2=CC=CC=C2C2=CC=CC=C21 YWFPGFJLYRKYJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOWWYDCFAISREI-UHFFFAOYSA-N Bisphenol AP Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C=1C=CC(O)=CC=1)(C)C1=CC=CC=C1 VOWWYDCFAISREI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTVITOHKHWFJKO-UHFFFAOYSA-N Bisphenol B Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(CC)C1=CC=C(O)C=C1 HTVITOHKHWFJKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIXXQTYGFOHYPT-UHFFFAOYSA-N Bisphenol P Chemical compound C=1C=C(C(C)(C)C=2C=CC(O)=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 GIXXQTYGFOHYPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRTBVQUCOSKJIJ-UHFFFAOYSA-K C(CC(=O)C)(=O)[O-].C(C)[Zr+3].C(CC(=O)C)(=O)[O-].C(CC(=O)C)(=O)[O-] Chemical compound C(CC(=O)C)(=O)[O-].C(C)[Zr+3].C(CC(=O)C)(=O)[O-].C(CC(=O)C)(=O)[O-] KRTBVQUCOSKJIJ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- IGXGYEWSVHBHIG-UHFFFAOYSA-M C(CC(=O)C)(=O)[O-].[O-]CCCC.C(C)[Zr+2] Chemical compound C(CC(=O)C)(=O)[O-].[O-]CCCC.C(C)[Zr+2] IGXGYEWSVHBHIG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHKOFFNLGXMVNJ-UHFFFAOYSA-N Didodecyl thiobispropanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)CCSCCC(=O)OCCCCCCCCCCCC GHKOFFNLGXMVNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004606 Fillers/Extenders Substances 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-M Glycolate Chemical compound OCC([O-])=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N Nitrous acid Chemical compound ON=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRNPGEPMHMPIQU-UHFFFAOYSA-N O.[Ti].[Ti].CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO Chemical compound O.[Ti].[Ti].CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO DRNPGEPMHMPIQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKIJEFPNVSHHEI-UHFFFAOYSA-N Phenol, 2,4-bis(1,1-dimethylethyl)-, phosphite (3:1) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OP(OC=1C(=CC(=CC=1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1C(C)(C)C JKIJEFPNVSHHEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- QHWKHLYUUZGSCW-UHFFFAOYSA-N Tetrabromophthalic anhydride Chemical compound BrC1=C(Br)C(Br)=C2C(=O)OC(=O)C2=C1Br QHWKHLYUUZGSCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYPYTERUKNKOLP-UHFFFAOYSA-N Tetrachlorobisphenol A Chemical compound C=1C(Cl)=C(O)C(Cl)=CC=1C(C)(C)C1=CC(Cl)=C(O)C(Cl)=C1 KYPYTERUKNKOLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGRTZESQZZGAAU-UHFFFAOYSA-N [2-[3-[1-[3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propanoyloxy]-2-methylpropan-2-yl]-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5.5]undecan-9-yl]-2-methylpropyl] 3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C)=CC(CCC(=O)OCC(C)(C)C2OCC3(CO2)COC(OC3)C(C)(C)COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C)C=2)C(C)(C)C)=C1 CGRTZESQZZGAAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IORUEKDKNHHQAL-UHFFFAOYSA-N [2-tert-butyl-6-[(3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl)methyl]-4-methylphenyl] prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)OC(=O)C=C)=C1O IORUEKDKNHHQAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NANPZWFIPUIKPF-UHFFFAOYSA-N [Mn++].CCCC[O-].CCCC[O-] Chemical compound [Mn++].CCCC[O-].CCCC[O-] NANPZWFIPUIKPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJDGKLAPAYNDQU-UHFFFAOYSA-J [Zr+4].[O-]P([O-])=O.[O-]P([O-])=O Chemical compound [Zr+4].[O-]P([O-])=O.[O-]P([O-])=O ZJDGKLAPAYNDQU-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N aluminium isopropoxide Chemical compound [Al+3].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEBBHXFLBGHGMA-UHFFFAOYSA-K aluminum;4-ethyl-3-oxohexanoate Chemical compound [Al+3].CCC(CC)C(=O)CC([O-])=O.CCC(CC)C(=O)CC([O-])=O.CCC(CC)C(=O)CC([O-])=O KEBBHXFLBGHGMA-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N anthrone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3CC2=C1 RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- XRASGLNHKOPXQL-UHFFFAOYSA-L azane 2-oxidopropanoate titanium(4+) dihydrate Chemical compound N.N.O.O.[Ti+4].CC([O-])C([O-])=O.CC([O-])C([O-])=O XRASGLNHKOPXQL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 1
- ZCGHEBMEQXMRQL-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-carbamoylpyrrolidine-1-carboxylate Chemical compound NC(=O)C1CCCN1C(=O)OCC1=CC=CC=C1 ZCGHEBMEQXMRQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZJIAOFBVVYSMA-UHFFFAOYSA-N bis(4-methylphenyl) carbonate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1OC(=O)OC1=CC=C(C)C=C1 IZJIAOFBVVYSMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N bisoctrizole Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=NN1C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C=2)C(C)(C)CC(C)(C)C)N2N=C3C=CC=CC3=N2)O)=C1O FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000402 bisphenol A polycarbonate polymer Polymers 0.000 description 1
- ZFVMWEVVKGLCIJ-UHFFFAOYSA-N bisphenol AF Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(O)C=C1 ZFVMWEVVKGLCIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N bumetrizole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;titanium Chemical compound [Ti].CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIKWSYYNKVUALB-UHFFFAOYSA-M butan-1-olate;2-methylprop-2-enoate;zirconium(2+) Chemical compound [Zr+2].CCCC[O-].CC(=C)C([O-])=O VIKWSYYNKVUALB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WIVTVDPIQKWGNS-UHFFFAOYSA-M butan-1-olate;octadecanoate;zirconium(2+) Chemical compound [Zr+2].CCCC[O-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O WIVTVDPIQKWGNS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HUIQMPLLYXZKTI-UHFFFAOYSA-J butanoate pentane-2,4-dione zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCCC([O-])=O.CCCC([O-])=O.CCCC([O-])=O.CCCC([O-])=O.CC(=O)CC(C)=O HUIQMPLLYXZKTI-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- KKBWAGPOKIAPAW-UHFFFAOYSA-N butoxyalumane Chemical compound CCCCO[AlH2] KKBWAGPOKIAPAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- DKVNPHBNOWQYFE-UHFFFAOYSA-N carbamodithioic acid Chemical compound NC(S)=S DKVNPHBNOWQYFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000004651 carbonic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 1
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- HVMJUDPAXRRVQO-UHFFFAOYSA-N copper indium Chemical compound [Cu].[In] HVMJUDPAXRRVQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L copper;diiodide Chemical compound I[Cu]I GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- WPCPXPTZTOMGRF-UHFFFAOYSA-K di(butanoyloxy)alumanyl butanoate Chemical compound [Al+3].CCCC([O-])=O.CCCC([O-])=O.CCCC([O-])=O WPCPXPTZTOMGRF-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- JFHGLVIOIANSIN-UHFFFAOYSA-N dimethyl butanedioate;1-(2-hydroxyethyl)-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-ol Chemical compound COC(=O)CCC(=O)OC.CC1(C)CC(O)CC(C)(C)N1CCO JFHGLVIOIANSIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N diphenyl carbonate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC(=O)OC1=CC=CC=C1 ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWWSSIYVTQUJQQ-UHFFFAOYSA-N distearyl thiodipropionate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCSCCC(=O)OCCCCCCCCCCCCCCCCCC PWWSSIYVTQUJQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000012990 dithiocarbamate Substances 0.000 description 1
- WDGXHWGCFUAELX-UHFFFAOYSA-J dodecanoate zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCC([O-])=O WDGXHWGCFUAELX-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N drometrizole Chemical compound CC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- BEGAGPQQLCVASI-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate;titanium Chemical compound [Ti].CCOC(=O)C(C)O BEGAGPQQLCVASI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUKWPCXMNZAXLO-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-nonylsulfanyl-4-oxo-1h-pyrimidine-6-carboxylate Chemical compound CCCCCCCCCSC1=NC(=O)C=C(C(=O)OCC)N1 TUKWPCXMNZAXLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093858 ethyl acetoacetate Drugs 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008376 fluorenones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- UQIRCVPINUNHQY-UHFFFAOYSA-N manganese(2+);methanolate Chemical compound [Mn+2].[O-]C.[O-]C UQIRCVPINUNHQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910000476 molybdenum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBEGHXKAFSLLGE-UHFFFAOYSA-N n-phenylnitramide Chemical class [O-][N+](=O)NC1=CC=CC=C1 VBEGHXKAFSLLGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKIVKIIBCJIWNU-UHFFFAOYSA-N o-[3-pentadecanethioyloxy-2,2-bis(pentadecanethioyloxymethyl)propyl] pentadecanethioate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCC(=S)OCC(COC(=S)CCCCCCCCCCCCCC)(COC(=S)CCCCCCCCCCCCCC)COC(=S)CCCCCCCCCCCCCC XKIVKIIBCJIWNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N octabenzone Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VRQWWCJWSIOWHG-UHFFFAOYSA-J octadecanoate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O VRQWWCJWSIOWHG-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSDSCDGVMJFTEQ-UHFFFAOYSA-N octadecyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 SSDSCDGVMJFTEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- DAWBXZHBYOYVLB-UHFFFAOYSA-J oxalate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].[O-]C(=O)C([O-])=O.[O-]C(=O)C([O-])=O DAWBXZHBYOYVLB-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- WMHSAFDEIXKKMV-UHFFFAOYSA-N oxoantimony;oxotin Chemical compound [Sn]=O.[Sb]=O WMHSAFDEIXKKMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N oxomolybdenum Chemical compound [Mo]=O PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N oxybenzone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N phthalic acid di-n-butyl ester Natural products CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-N picric acid Chemical compound OC1=C([N+]([O-])=O)C=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001470 polyketone Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 150000008442 polyphenolic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920006215 polyvinyl ketone Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical group CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003219 pyrazolines Chemical class 0.000 description 1
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical class C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004059 quinone derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000006476 reductive cyclization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920003987 resole Polymers 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- 229940065287 selenium compound Drugs 0.000 description 1
- 150000003343 selenium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical class C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N tetrachloro-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(Cl)=C(Cl)C1=O UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLDYACGHTUPAQU-UHFFFAOYSA-N tetracyanoethylene Chemical group N#CC(C#N)=C(C#N)C#N NLDYACGHTUPAQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCCVSPMFGIFTHU-UHFFFAOYSA-N tetracyanoquinodimethane Chemical compound N#CC(C#N)=C1C=CC(=C(C#N)C#N)C=C1 PCCVSPMFGIFTHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVEOKSIILWWVEO-UHFFFAOYSA-N tetradecyl 3-(3-oxo-3-tetradecoxypropyl)sulfanylpropanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCSCCC(=O)OCCCCCCCCCCCCCC LVEOKSIILWWVEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZHULIWXRDLGRR-UHFFFAOYSA-N tridecyl 3-(3-oxo-3-tridecoxypropyl)sulfanylpropanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCSCCC(=O)OCCCCCCCCCCCCC MZHULIWXRDLGRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)(=O)OC1=CC=CC=C1 XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N tris Chemical compound OCC(N)(CO)CO LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PZMFITAWSPYPDV-UHFFFAOYSA-N undecane-2,4-dione Chemical compound CCCCCCCC(=O)CC(C)=O PZMFITAWSPYPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- BOXSVZNGTQTENJ-UHFFFAOYSA-L zinc dibutyldithiocarbamate Chemical compound [Zn+2].CCCCN(C([S-])=S)CCCC.CCCCN(C([S-])=S)CCCC BOXSVZNGTQTENJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 繰り返し使用しても、亀裂等の欠陥の発生が
なく、耐磨耗性・耐久性に優れ、被りや黒点の発生等の
画像欠陥を招かない電子写真感光体の提供。 【解決手段】 導電性支持体上に感光層を設けてなる電
子写真感光体において、該感光層が、特定の繰り返し単
位を有する共重合ポリカーボネート共重合体樹脂と、ト
リフェニルアミン化合物とを含有することを特徴とする
電子写真感光体である。前記トリフェニルアミン化合物
が、特定のベンジジン化合物又はトリアリールアミン化
合物であるのが好ましい。ジクロルガリウムフタロシア
ニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン又はチタニル
フタロシアニンを更に含有するのが好ましい。
なく、耐磨耗性・耐久性に優れ、被りや黒点の発生等の
画像欠陥を招かない電子写真感光体の提供。 【解決手段】 導電性支持体上に感光層を設けてなる電
子写真感光体において、該感光層が、特定の繰り返し単
位を有する共重合ポリカーボネート共重合体樹脂と、ト
リフェニルアミン化合物とを含有することを特徴とする
電子写真感光体である。前記トリフェニルアミン化合物
が、特定のベンジジン化合物又はトリアリールアミン化
合物であるのが好ましい。ジクロルガリウムフタロシア
ニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン又はチタニル
フタロシアニンを更に含有するのが好ましい。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子写真感光体及
び電子写真装置に関し、更に詳しくは、特定のポリカー
ボネートとトリフェニルアミン化合物とを併用した電子
写真感光体及び電子写真装置に関する。
び電子写真装置に関し、更に詳しくは、特定のポリカー
ボネートとトリフェニルアミン化合物とを併用した電子
写真感光体及び電子写真装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、電子写真感光体は、高速で高品質
の印字が得られるという利点を有するため、複写機及び
レーザービームプリンター等の電子写真装置の分野にお
いて著しく利用されている。電子写真装置に用いられる
電子写真感光体としては、セレン、セレン−テルル合
金、セレン−ヒ素合金、硫化カドミウム等の従来からの
無機光導電材料を用いた電子写真感光体に代わって、安
価で製造性及び廃棄性の面で優れた利点を有する有機光
導電材料を用いた電子写真感光体が主流になってきてい
る。有機光導電材料を用いた電子写真感光体の中でも、
露光により電荷を発生する電荷発生層と、電荷を輸送す
る電荷輸送層とを積層してなる機能分離型積層有機感光
体は、感度、帯電性及び繰り返し安定性等の電子写真特
性の点で優れていることから、種々の提案がなされ、か
つ実用化されている。
の印字が得られるという利点を有するため、複写機及び
レーザービームプリンター等の電子写真装置の分野にお
いて著しく利用されている。電子写真装置に用いられる
電子写真感光体としては、セレン、セレン−テルル合
金、セレン−ヒ素合金、硫化カドミウム等の従来からの
無機光導電材料を用いた電子写真感光体に代わって、安
価で製造性及び廃棄性の面で優れた利点を有する有機光
導電材料を用いた電子写真感光体が主流になってきてい
る。有機光導電材料を用いた電子写真感光体の中でも、
露光により電荷を発生する電荷発生層と、電荷を輸送す
る電荷輸送層とを積層してなる機能分離型積層有機感光
体は、感度、帯電性及び繰り返し安定性等の電子写真特
性の点で優れていることから、種々の提案がなされ、か
つ実用化されている。
【0003】しかしながら、有機感光体は、無機感光体
に比べて一般に機械的強度が劣っており、クリーニング
ブレード、現像ブラシ、用紙などの機械的外力による摺
擦傷や摩耗のため、寿命が短いという問題があった。さ
らに、エコロジーの観点から近年使用されてきている接
触帯電方式を用いたシステムでは、コロトロンによる帯
電方式に比べて大幅に感光体の摩耗が増加してしまい、
その結果、感光体の感度が低減し、コピーに被りが生じ
たり、帯電電位が低下しコピー濃度が低下するという問
題があった。このため、感光層における表面層材料とし
て十分な耐久性を有する材料の開発が望まれていた。
に比べて一般に機械的強度が劣っており、クリーニング
ブレード、現像ブラシ、用紙などの機械的外力による摺
擦傷や摩耗のため、寿命が短いという問題があった。さ
らに、エコロジーの観点から近年使用されてきている接
触帯電方式を用いたシステムでは、コロトロンによる帯
電方式に比べて大幅に感光体の摩耗が増加してしまい、
その結果、感光体の感度が低減し、コピーに被りが生じ
たり、帯電電位が低下しコピー濃度が低下するという問
題があった。このため、感光層における表面層材料とし
て十分な耐久性を有する材料の開発が望まれていた。
【0004】また、蒸着などの方法により導電層を形成
したポリエチレンテレフタレート等のフィルム上に感光
層の塗膜を形成してなるフレキシブルな電子写真感光体
は、ベルト状に加工して電子写真装置の繰り返し使用で
き、電子写真装置の形状の自由度を拡げることができる
利点があるものの、フレキシブルな動きに十分に追従し
得る特性を有することが要求される。このため、例え
ば、表面層の結着樹脂として各種のポリカーボネート樹
脂を用いたフレキシブルな電子写真感光体が、特開昭6
0−172044号公報、特開昭62−247374号
公報、特開昭63−148263号公報等において提案
されている。
したポリエチレンテレフタレート等のフィルム上に感光
層の塗膜を形成してなるフレキシブルな電子写真感光体
は、ベルト状に加工して電子写真装置の繰り返し使用で
き、電子写真装置の形状の自由度を拡げることができる
利点があるものの、フレキシブルな動きに十分に追従し
得る特性を有することが要求される。このため、例え
ば、表面層の結着樹脂として各種のポリカーボネート樹
脂を用いたフレキシブルな電子写真感光体が、特開昭6
0−172044号公報、特開昭62−247374号
公報、特開昭63−148263号公報等において提案
されている。
【0005】しかし、この場合、以下の問題があった。
即ち、従来からのポリカーボネート樹脂を結着樹脂とし
て用い、塗布工程によって感光層の塗膜を形成した場
合、比較的良好な耐久性を有するベルト状の電子写真感
光体が得られるものの、その機械的強度は必ずしも十分
なレベルではなく、この電子写真感光体を複写機中のベ
ルト駆動装置において長期間繰り返し回転させた場合、
該電子写真感光体の感光層中に亀裂が生じ、それがコピ
ー画像上にひび割れ模様となって現れるという問題があ
った。
即ち、従来からのポリカーボネート樹脂を結着樹脂とし
て用い、塗布工程によって感光層の塗膜を形成した場
合、比較的良好な耐久性を有するベルト状の電子写真感
光体が得られるものの、その機械的強度は必ずしも十分
なレベルではなく、この電子写真感光体を複写機中のベ
ルト駆動装置において長期間繰り返し回転させた場合、
該電子写真感光体の感光層中に亀裂が生じ、それがコピ
ー画像上にひび割れ模様となって現れるという問題があ
った。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来に
おける諸問題を解決し、以下の課題を解決することを目
的とする。即ち、本発明は、高い耐摩耗性を有し、接触
帯電方式の電子写真装置に用いても高い耐久性を有する
電子写真感光体を提供することを目的とする。また、本
発明は、感光層塗膜の表面が、高い折り曲げ強度を有
し、ベルト状の電子写真感光体として繰り返し使用した
場合にも、塗膜中に亀裂などの欠陥の発生がなく、耐磨
耗性・耐久性に優れ、被りや黒点の発生等の画像欠陥を
招くことがない電子写真感光体、及び該電子写真感光体
を用いることにより、画像欠陥のない高品質の画像を長
期間にわたって安定にかつ簡便に得ることができる電子
写真装置を提供することを目的とする。
おける諸問題を解決し、以下の課題を解決することを目
的とする。即ち、本発明は、高い耐摩耗性を有し、接触
帯電方式の電子写真装置に用いても高い耐久性を有する
電子写真感光体を提供することを目的とする。また、本
発明は、感光層塗膜の表面が、高い折り曲げ強度を有
し、ベルト状の電子写真感光体として繰り返し使用した
場合にも、塗膜中に亀裂などの欠陥の発生がなく、耐磨
耗性・耐久性に優れ、被りや黒点の発生等の画像欠陥を
招くことがない電子写真感光体、及び該電子写真感光体
を用いることにより、画像欠陥のない高品質の画像を長
期間にわたって安定にかつ簡便に得ることができる電子
写真装置を提供することを目的とする。
【0007】
【解決を解決するための手段】電荷輸送層における結着
樹脂の種類、結着樹脂と電荷輸送材料との配合比等のみ
ならず、電荷輸送材料の種類、電荷輸送材料と結着樹脂
との組合せ等も電子写真感光体の機械的強度の向上には
重要であり、適当な電荷輸送材料を選択し、これを適当
な結着樹脂と併用して初めて電子写真感光体の機械的強
度を相乗的に向上させることができる。また、電荷輸送
層と電荷発生層との適切な組合せにより、機械的強度の
みならず、更に電子写真感光体の電気特性、繰り返し安
定性等を向上させることができる。しかし、このような
適切な材料の選択・組合せは極めて難しい。そこで、本
発明の発明者らが、鋭意検討した結果、特定のポリカー
ボネート樹脂を結着樹脂として用い、これに特定のトリ
フェニルアミン化合物を電荷輸送材料として併用する
と、電子写真感光体を機械的強度に優れたものとするこ
とができ、該電子写真感光体をドラム状乃至ベルト状に
して電子写真装置中で長期間繰り返し回転させた場合に
おいても、電子写真感光体における感光層の機械的強度
劣化の問題を解消することができるという知見を得た。
本発明は、本発明者らのかかる知見に基づくものであ
り、前記課題を解決するための手段は、以下の通りであ
る。即ち、
樹脂の種類、結着樹脂と電荷輸送材料との配合比等のみ
ならず、電荷輸送材料の種類、電荷輸送材料と結着樹脂
との組合せ等も電子写真感光体の機械的強度の向上には
重要であり、適当な電荷輸送材料を選択し、これを適当
な結着樹脂と併用して初めて電子写真感光体の機械的強
度を相乗的に向上させることができる。また、電荷輸送
層と電荷発生層との適切な組合せにより、機械的強度の
みならず、更に電子写真感光体の電気特性、繰り返し安
定性等を向上させることができる。しかし、このような
適切な材料の選択・組合せは極めて難しい。そこで、本
発明の発明者らが、鋭意検討した結果、特定のポリカー
ボネート樹脂を結着樹脂として用い、これに特定のトリ
フェニルアミン化合物を電荷輸送材料として併用する
と、電子写真感光体を機械的強度に優れたものとするこ
とができ、該電子写真感光体をドラム状乃至ベルト状に
して電子写真装置中で長期間繰り返し回転させた場合に
おいても、電子写真感光体における感光層の機械的強度
劣化の問題を解消することができるという知見を得た。
本発明は、本発明者らのかかる知見に基づくものであ
り、前記課題を解決するための手段は、以下の通りであ
る。即ち、
【0008】<1> 導電性支持体上に感光層を設けて
なる電子写真感光体において、該感光層が、下記一般式
(I)で表される繰り返し単位及び下記一般式(II)で
表される繰り返し単位を有する共重合ポリカーボネート
共重合体樹脂と、トリフェニルアミン化合物とを含有す
ることを特徴とする電子写真感光体である。 一般式(I)
なる電子写真感光体において、該感光層が、下記一般式
(I)で表される繰り返し単位及び下記一般式(II)で
表される繰り返し単位を有する共重合ポリカーボネート
共重合体樹脂と、トリフェニルアミン化合物とを含有す
ることを特徴とする電子写真感光体である。 一般式(I)
【0009】
【化7】
【0010】一般式(I)にいおいて、R1 、R2 、R
3 、R4 、R5 、R6 、R7 及びR 8 は、水素原子、ハ
ロゲン原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数6〜1
2のアリール基、炭素数2〜5のアルケニル基、炭素数
1〜5のアルコキシ基又は炭素数7〜17のアラルキル
基を表し、これらの基は、炭素数1〜5のアルキル基、
炭素数1〜5のアルケニル基、炭素数1〜5のアルコキ
シ基、ハロゲン原子又はジメチルポリシロキシ基で置換
されていてもよい。Xは、下記に示すいずれかの2価の
結合基を表す。
3 、R4 、R5 、R6 、R7 及びR 8 は、水素原子、ハ
ロゲン原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数6〜1
2のアリール基、炭素数2〜5のアルケニル基、炭素数
1〜5のアルコキシ基又は炭素数7〜17のアラルキル
基を表し、これらの基は、炭素数1〜5のアルキル基、
炭素数1〜5のアルケニル基、炭素数1〜5のアルコキ
シ基、ハロゲン原子又はジメチルポリシロキシ基で置換
されていてもよい。Xは、下記に示すいずれかの2価の
結合基を表す。
【0011】
【化8】
【0012】これらの2価の結合基において、a、b及
びcは、0〜20の整数を表す。 一般式(II)
びcは、0〜20の整数を表す。 一般式(II)
【0013】
【化9】
【0014】一般式(II)において、R9 、R10、R11
及びR12は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜5の
アルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数2〜
5のアルケニル基、炭素数1〜5のアルコキシ基又は炭
素数7〜17のアラルキル基を表し、これらの基は、炭
素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルケニル
基、炭素数1〜5のアルコキシ基、ハロゲン原子又はジ
メチルポリシロキシ基で置換されていてもよい。Yは、
下記に示すいずれかの2価の結合基を表す。
及びR12は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜5の
アルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数2〜
5のアルケニル基、炭素数1〜5のアルコキシ基又は炭
素数7〜17のアラルキル基を表し、これらの基は、炭
素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルケニル
基、炭素数1〜5のアルコキシ基、ハロゲン原子又はジ
メチルポリシロキシ基で置換されていてもよい。Yは、
下記に示すいずれかの2価の結合基を表す。
【0015】
【化10】
【0016】これらの2価の結合基において、R13、R
14、R15及びR16は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数
1〜5のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭
素数2〜5のアルケニル基、炭素数1〜5のアルコキシ
基又は炭素数7〜17のアラルキル基を表し、これらの
基は、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアル
ケニル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、ハロゲン原子
又はジメチルポリシロキシ基で置換されていてもよい。
cは、0〜20の整数を表す。dは、1〜100の整数
を表す。eは、0〜20の整数を表す。fは、0〜20
の整数を表す。gは、1〜100の整数を表す。
14、R15及びR16は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数
1〜5のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭
素数2〜5のアルケニル基、炭素数1〜5のアルコキシ
基又は炭素数7〜17のアラルキル基を表し、これらの
基は、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアル
ケニル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、ハロゲン原子
又はジメチルポリシロキシ基で置換されていてもよい。
cは、0〜20の整数を表す。dは、1〜100の整数
を表す。eは、0〜20の整数を表す。fは、0〜20
の整数を表す。gは、1〜100の整数を表す。
【0017】<2> 感光層が複数の層に形成され、該
感光層における少なくとも最上層が、前記一般式(I)
で表される繰り返し単位及び前記一般式(II)で表され
る繰り返し単位を有する共重合ポリカーボネート共重合
体樹脂を含有する前記<1>に記載の電子写真感光体で
ある。 <3> 感光層が、電荷輸送層と電荷発生層とを含む前
記<1>又は<2>に記載の電子写真感光体である。 <4> 電荷輸送層が、トリフェニルアミン化合物を含
有する前記<3>に記載の電子写真感光体である。
感光層における少なくとも最上層が、前記一般式(I)
で表される繰り返し単位及び前記一般式(II)で表され
る繰り返し単位を有する共重合ポリカーボネート共重合
体樹脂を含有する前記<1>に記載の電子写真感光体で
ある。 <3> 感光層が、電荷輸送層と電荷発生層とを含む前
記<1>又は<2>に記載の電子写真感光体である。 <4> 電荷輸送層が、トリフェニルアミン化合物を含
有する前記<3>に記載の電子写真感光体である。
【0018】<5> トリフェニルアミン化合物が、下
記一般式(III) で表されるベンジジン化合物である前記
<1>から<4>のいずれかに記載の電子写真感光体で
ある。 一般式(III)
記一般式(III) で表されるベンジジン化合物である前記
<1>から<4>のいずれかに記載の電子写真感光体で
ある。 一般式(III)
【0019】
【化11】
【0020】一般式(III) において、R1 及びR1'は、
水素原子、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子
を表し、互いに同一であってもよいし異なっていてもよ
い。R2 、R2'、R3 及びR3'は、水素原子、アルキル
基、アルコキシ基、ハロゲン原子又は置換アミノ基を表
し、互いに同一であってもよいし異なっていてもよい。
m、m’、n及びn’は、1又は2の整数を表す。
水素原子、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子
を表し、互いに同一であってもよいし異なっていてもよ
い。R2 、R2'、R3 及びR3'は、水素原子、アルキル
基、アルコキシ基、ハロゲン原子又は置換アミノ基を表
し、互いに同一であってもよいし異なっていてもよい。
m、m’、n及びn’は、1又は2の整数を表す。
【0021】<6> トリフェニルアミン化合物が、下
記一般式(IV)で表されるトリアリールアミン化合物であ
る前記<1>から<4>のいずれかに記載の電子写真感
光体である。 一般式(IV)
記一般式(IV)で表されるトリアリールアミン化合物であ
る前記<1>から<4>のいずれかに記載の電子写真感
光体である。 一般式(IV)
【0022】
【化12】
【0023】一般式(IV)において、R1 及びR2 は、水
素原子、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子を
表し、互いに同一であってもよいし異なっていてもよ
い。R 3 は、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基又は
炭素数6〜12のアリール基を表し、互いに同一であっ
てもよいし異なっていてもよい。m及びnは、1又は2
の整数を表す。
素原子、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子を
表し、互いに同一であってもよいし異なっていてもよ
い。R 3 は、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基又は
炭素数6〜12のアリール基を表し、互いに同一であっ
てもよいし異なっていてもよい。m及びnは、1又は2
の整数を表す。
【0024】<7> 感光層が、更にフタロシアニン化
合物を含有する前記<1>から<6>のいずれかに記載
の電子写真感光体である。 <8> 電荷発生層が、フタロシアニン化合物を含有す
る前記<7>に記載の電子写真感光体である。 <9> フタロシアニン化合物が、ジクロルガリウムフ
タロシアニンである前記<7>又は<8>に記載の電子
写真感光体である。 <10> フタロシアニン化合物が、ヒドロキシガリウ
ムフタロシアニンである前記<7>又は<8>に記載の
電子写真感光体である。 <11> フタロシアニン化合物が、チタニルフタロシ
アニンである前記<7>又は<8>に記載の電子写真感
光体である。
合物を含有する前記<1>から<6>のいずれかに記載
の電子写真感光体である。 <8> 電荷発生層が、フタロシアニン化合物を含有す
る前記<7>に記載の電子写真感光体である。 <9> フタロシアニン化合物が、ジクロルガリウムフ
タロシアニンである前記<7>又は<8>に記載の電子
写真感光体である。 <10> フタロシアニン化合物が、ヒドロキシガリウ
ムフタロシアニンである前記<7>又は<8>に記載の
電子写真感光体である。 <11> フタロシアニン化合物が、チタニルフタロシ
アニンである前記<7>又は<8>に記載の電子写真感
光体である。
【0025】<12> 前記<1>から<11>のいず
れかに記載の電子写真感光体を備えたことを特徴とする
電子写真装置である。 <13> 帯電方式が接触帯電方式である前記<12>
に記載の電子写真装置である。
れかに記載の電子写真感光体を備えたことを特徴とする
電子写真装置である。 <13> 帯電方式が接触帯電方式である前記<12>
に記載の電子写真装置である。
【0026】前記<1>〜<6>に記載の電子写真感光
体においては、感光層が、前記一般式(I)で表される
繰り返し単位及び前記一般式(II)で表される繰り返し
単位を有する共重合ポリカーボネート共重合体樹脂と、
トリフェニルアミン化合物とを含有しているため、該感
光層の塗膜は極めて高い耐磨耗性と強度とを示す。該電
子写真感光体を接触帯電方式の電子写真装置に用いて
も、極めて強い耐磨耗性を示す。該電子写真感光体は、
いずれの形態、例えばベルト状等であっても、少なくと
も高い耐久性を示し、亀裂等を生ずることもない。
体においては、感光層が、前記一般式(I)で表される
繰り返し単位及び前記一般式(II)で表される繰り返し
単位を有する共重合ポリカーボネート共重合体樹脂と、
トリフェニルアミン化合物とを含有しているため、該感
光層の塗膜は極めて高い耐磨耗性と強度とを示す。該電
子写真感光体を接触帯電方式の電子写真装置に用いて
も、極めて強い耐磨耗性を示す。該電子写真感光体は、
いずれの形態、例えばベルト状等であっても、少なくと
も高い耐久性を示し、亀裂等を生ずることもない。
【0027】前記<7>〜<11>に記載の電子写真感
光体においては、感光層が電荷発生材料としてフタロシ
アニン化合物を有するため、該電子写真装置を繰り返し
使用した場合にも優れた電気特性や画質を少なくとも維
持し、高速複写機等の電子写真装置中でも使用できる。
該電子写真感光体は、いずれの形態、例えばベルト状等
であっても、少なくとも高い耐久性を示し、亀裂等を生
ずることもない。
光体においては、感光層が電荷発生材料としてフタロシ
アニン化合物を有するため、該電子写真装置を繰り返し
使用した場合にも優れた電気特性や画質を少なくとも維
持し、高速複写機等の電子写真装置中でも使用できる。
該電子写真感光体は、いずれの形態、例えばベルト状等
であっても、少なくとも高い耐久性を示し、亀裂等を生
ずることもない。
【0028】前記<12>〜<13>に記載の電子写真
装置においては、前記<1>〜<11>に記載の電子写
真感光体を用いるので、電子写真感光体の劣化に起因す
る画像欠陥は少なくとも生ずることはない。
装置においては、前記<1>〜<11>に記載の電子写
真感光体を用いるので、電子写真感光体の劣化に起因す
る画像欠陥は少なくとも生ずることはない。
【0029】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の電子写真感光体
及び電子写真装置について詳述する。本発明の電子写真
感光体は、導電性支持体上に感光層を設けてなる。前記
導電性支持体としては、特に制限はなく、それ自体公知
のものの中から適宜選択することができるが、例えば、
アルミニウム、銅、鉄、亜鉛、ニッケル等の金属パイプ
乃至ドラム及び金属シート;紙、プラスチック、ガラス
等の上に、アルミニウム、銅、金、銀、白金、パラジウ
ム、チタン、ニッケル−クロム、ステンレス鋼、銅−イ
ンジウム等の金属乃至合金を、あるいは酸化インジウ
ム、酸化錫等の導電性金属化合物を蒸着するか、金属箔
をラミネートするか、あるいはカーボンブラック、酸化
インジウム、酸化錫−酸化アンチモン粉、金属粉、沃化
銅等を結着樹脂に分散したものを塗布することによって
導電処理したドラム状、シート状、プレート状等の導電
性支持体などが挙げられる。
及び電子写真装置について詳述する。本発明の電子写真
感光体は、導電性支持体上に感光層を設けてなる。前記
導電性支持体としては、特に制限はなく、それ自体公知
のものの中から適宜選択することができるが、例えば、
アルミニウム、銅、鉄、亜鉛、ニッケル等の金属パイプ
乃至ドラム及び金属シート;紙、プラスチック、ガラス
等の上に、アルミニウム、銅、金、銀、白金、パラジウ
ム、チタン、ニッケル−クロム、ステンレス鋼、銅−イ
ンジウム等の金属乃至合金を、あるいは酸化インジウ
ム、酸化錫等の導電性金属化合物を蒸着するか、金属箔
をラミネートするか、あるいはカーボンブラック、酸化
インジウム、酸化錫−酸化アンチモン粉、金属粉、沃化
銅等を結着樹脂に分散したものを塗布することによって
導電処理したドラム状、シート状、プレート状等の導電
性支持体などが挙げられる。
【0030】前記導電性支持体として、金属パイプ等を
用いる場合には、その表面は素管のままであってもよい
し、予め表面処理が行われていてもよい。レーザービー
ムのような可干渉光源を用いる場合には、該導電性支持
体に表面処理を行うのが好ましい。表面処理により導電
性支持体表面を粗面化すると、レーザービームのような
可干渉光源を用いた場合に発生し得る電子写真感光体内
での干渉光による木目状の濃度斑を防止することができ
る点で有利である。前記表面処理としては、特に制限は
なく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、
鏡面切削処理、エッチング処理、陽極酸化処理、粗切削
処理、センタレス研削処理、サンドブラスト処理、ウエ
ットホーニング処理などが挙げられる。
用いる場合には、その表面は素管のままであってもよい
し、予め表面処理が行われていてもよい。レーザービー
ムのような可干渉光源を用いる場合には、該導電性支持
体に表面処理を行うのが好ましい。表面処理により導電
性支持体表面を粗面化すると、レーザービームのような
可干渉光源を用いた場合に発生し得る電子写真感光体内
での干渉光による木目状の濃度斑を防止することができ
る点で有利である。前記表面処理としては、特に制限は
なく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、
鏡面切削処理、エッチング処理、陽極酸化処理、粗切削
処理、センタレス研削処理、サンドブラスト処理、ウエ
ットホーニング処理などが挙げられる。
【0031】本発明においては、前記導電性支持体と前
記感光層との間に、下引き層を設けることができる。前
記下引き層の素材としては、特に制限はなく、公知のも
のの中ら適宜選択することができるが、例えば、ポリビ
ニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコ
ール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹
脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、
メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、
ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−
無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−ア
ルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メ
ラミン樹脂などの高分子樹脂化合物の外に、有機シリコ
ーン化合物、有機ジルコニウム化合物、有機チタニウム
化合物、有機アルミニウム化合物、有機マンガン化合物
等の有機金属化合物などが挙げられる。これらの化合物
は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用して
もよく、あるいは重縮合物として使用してもよい。
記感光層との間に、下引き層を設けることができる。前
記下引き層の素材としては、特に制限はなく、公知のも
のの中ら適宜選択することができるが、例えば、ポリビ
ニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコ
ール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹
脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、
メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、
ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−
無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−ア
ルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メ
ラミン樹脂などの高分子樹脂化合物の外に、有機シリコ
ーン化合物、有機ジルコニウム化合物、有機チタニウム
化合物、有機アルミニウム化合物、有機マンガン化合物
等の有機金属化合物などが挙げられる。これらの化合物
は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用して
もよく、あるいは重縮合物として使用してもよい。
【0032】本発明においては、これらの素材の中で
も、残留電位が低く、環境による電位変化が少なく、繰
り返し使用による電位の変化が少ない等の点で、有機ジ
ルコニウム化合物又は有機シリコーン化合物が好まし
い。
も、残留電位が低く、環境による電位変化が少なく、繰
り返し使用による電位の変化が少ない等の点で、有機ジ
ルコニウム化合物又は有機シリコーン化合物が好まし
い。
【0033】前記有機シリコーン化合物としては、シリ
コーン化合物を含有する化合物であり、該シリコーン化
合物としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、γ
−メタクリルオキシプロピル−トリス(β−メトキシエ
トキシ)シラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシ
ル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロ
ピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラ
ン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−
アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノ
エチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N
−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルメ
トキシシラン、N,N−ビス(β−ヒドロキシエチル)
−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロル
プロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
コーン化合物を含有する化合物であり、該シリコーン化
合物としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、γ
−メタクリルオキシプロピル−トリス(β−メトキシエ
トキシ)シラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシ
ル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロ
ピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラ
ン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−
アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノ
エチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N
−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルメ
トキシシラン、N,N−ビス(β−ヒドロキシエチル)
−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロル
プロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
【0034】これらのシリコーン化合物の中でも、ビニ
ルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2−メトキシエ
トキシシラン)、3−メタクリロキシプロピルトリメト
キシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル
トリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)3−ア
ミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエ
チル)3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3
−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−
3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプ
トプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルト
リメトキシシラン等のシランカップリング剤が特に好ま
しい。
ルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2−メトキシエ
トキシシラン)、3−メタクリロキシプロピルトリメト
キシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル
トリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)3−ア
ミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエ
チル)3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3
−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−
3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプ
トプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルト
リメトキシシラン等のシランカップリング剤が特に好ま
しい。
【0035】前記有機ジルコニウム化合物としては、例
えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢
酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチ
ルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エ
チルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテー
ト、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテー
ト、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウ
ム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウ
ム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジル
コニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ス
テアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレート
ジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢
酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチ
ルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エ
チルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテー
ト、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテー
ト、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウ
ム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウ
ム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジル
コニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ス
テアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレート
ジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【0036】前記有機チタニウム化合物としては、例え
ば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブ
チルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ
(2−エチルヘキシル)チタネート、チタンアセチルア
セトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタン
オクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウ
ム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエス
テル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキ
シチタンステアレートなどが挙げられる。
ば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブ
チルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ
(2−エチルヘキシル)チタネート、チタンアセチルア
セトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタン
オクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウ
ム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエス
テル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキ
シチタンステアレートなどが挙げられる。
【0037】前記有機アルミニウム化合物としては、例
えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシア
ルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレー
ト、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロ
ピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテー
ト)などが挙げられる。
えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシア
ルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレー
ト、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロ
ピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテー
ト)などが挙げられる。
【0038】前記有機マンガン化合物としては、例え
ば、マンガンメトキシド、マンガンブトキシド、マンガ
ン−2,4−ペンタンジオネートなどが挙げられる。
ば、マンガンメトキシド、マンガンブトキシド、マンガ
ン−2,4−ペンタンジオネートなどが挙げられる。
【0039】前記下引き層には、電気特性の向上や光散
乱性の向上などの目的に応じて、各種の無機微粉末又は
有機微粉末を添加混合することができる。前記無機微粉
末としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、亜鉛華、
硫化亜鉛、鉛白、リトポン等の白色顔料や、アルミナ、
炭酸カルシウム、硫酸バリウム等の体質顔料としての無
機顔料などが好適に挙げられる。前記有機微粉末として
は、例えば、テフロン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂
粒子、スチレン樹脂粒子などが好適に挙げられる。前記
無機微粉末又は有機微粉末の平均粒径としては、0.0
1〜2μm程度が好ましい。前記下引き層における前記
無機微粉末又は有機微粉末の添加量としては、該下引き
層の固形分に対して、10〜80重量%程度であり、3
0〜70重量%がより好ましい。
乱性の向上などの目的に応じて、各種の無機微粉末又は
有機微粉末を添加混合することができる。前記無機微粉
末としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、亜鉛華、
硫化亜鉛、鉛白、リトポン等の白色顔料や、アルミナ、
炭酸カルシウム、硫酸バリウム等の体質顔料としての無
機顔料などが好適に挙げられる。前記有機微粉末として
は、例えば、テフロン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂
粒子、スチレン樹脂粒子などが好適に挙げられる。前記
無機微粉末又は有機微粉末の平均粒径としては、0.0
1〜2μm程度が好ましい。前記下引き層における前記
無機微粉末又は有機微粉末の添加量としては、該下引き
層の固形分に対して、10〜80重量%程度であり、3
0〜70重量%がより好ましい。
【0040】前記下引き層は、下引き層塗布液を前記導
電性支持体上に塗布し乾燥することにより該導電性支持
体上に形成することができる。前記下引き層に、前記無
機微粉末又は有機微粉末を添加混合する場合、下引き層
塗布液の調製時に、樹脂成分を溶解した溶液中に前記無
機微粉末又は有機微粉末を添加して分散処理を行うこと
ができる。前記分散処理には、例えば、ロールミル、ボ
ールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミ
ル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどを用いて行
うことができる。前記下引き層の厚みとしては、0.1
〜10μm程度が好ましい。
電性支持体上に塗布し乾燥することにより該導電性支持
体上に形成することができる。前記下引き層に、前記無
機微粉末又は有機微粉末を添加混合する場合、下引き層
塗布液の調製時に、樹脂成分を溶解した溶液中に前記無
機微粉末又は有機微粉末を添加して分散処理を行うこと
ができる。前記分散処理には、例えば、ロールミル、ボ
ールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミ
ル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどを用いて行
うことができる。前記下引き層の厚みとしては、0.1
〜10μm程度が好ましい。
【0041】前記導電性支持体上には、該導電性支持体
上に前記下引き層が形成される場合には該下引き層上に
は、感光層が形成される。前記感光層としては、その形
状、構造、大きさ等について特に制限はなく、目的に応
じて適宜選択することができるが、前記構造としては、
例えば単層構造であってもよいし、電荷発生層と電荷輸
送層とを含み、機能分離された積層構造であってもよ
い。前記積層構造の場合、前記電荷発生層と前記電荷輸
送層との積層順序はいずれが上層に位置していてもよ
い。また、必要に応じて、最上層として表面保護層を形
成してもよい。
上に前記下引き層が形成される場合には該下引き層上に
は、感光層が形成される。前記感光層としては、その形
状、構造、大きさ等について特に制限はなく、目的に応
じて適宜選択することができるが、前記構造としては、
例えば単層構造であってもよいし、電荷発生層と電荷輸
送層とを含み、機能分離された積層構造であってもよ
い。前記積層構造の場合、前記電荷発生層と前記電荷輸
送層との積層順序はいずれが上層に位置していてもよ
い。また、必要に応じて、最上層として表面保護層を形
成してもよい。
【0042】本発明において、前記感光層は、下記一般
式(I)で表される繰り返し単位及び下記一般式(II)
で表される繰り返し単位を有する共重合ポリカーボネー
ト共重合体樹脂と、トリフェニルアミン化合物とを含有
する必要がある。 一般式(I)
式(I)で表される繰り返し単位及び下記一般式(II)
で表される繰り返し単位を有する共重合ポリカーボネー
ト共重合体樹脂と、トリフェニルアミン化合物とを含有
する必要がある。 一般式(I)
【0043】
【化13】
【0044】一般式(I)にいおいて、R1 、R2 、R
3 、R4 、R5 、R6 、R7 及びR 8 は、水素原子、ハ
ロゲン原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数6〜1
2のアリール基、炭素数2〜5のアルケニル基、炭素数
1〜5のアルコキシ基又は炭素数7〜17のアラルキル
基を表し、これらの基は、炭素数1〜5のアルキル基、
炭素数1〜5のアルケニル基、炭素数1〜5のアルコキ
シ基、ハロゲン原子又はジメチルポリシロキシ基で置換
されていてもよい。Xは、下記に示すいずれかの2価の
結合基を表す。
3 、R4 、R5 、R6 、R7 及びR 8 は、水素原子、ハ
ロゲン原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数6〜1
2のアリール基、炭素数2〜5のアルケニル基、炭素数
1〜5のアルコキシ基又は炭素数7〜17のアラルキル
基を表し、これらの基は、炭素数1〜5のアルキル基、
炭素数1〜5のアルケニル基、炭素数1〜5のアルコキ
シ基、ハロゲン原子又はジメチルポリシロキシ基で置換
されていてもよい。Xは、下記に示すいずれかの2価の
結合基を表す。
【0045】
【化14】
【0046】これらの2価の結合基において、a、b及
びcは、0〜20の整数を表す。 一般式(II)
びcは、0〜20の整数を表す。 一般式(II)
【0047】
【化15】
【0048】一般式(II)において、R9 、R10、R11
及びR12は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜5の
アルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数2〜
5のアルケニル基、炭素数1〜5のアルコキシ基又は炭
素数7〜17のアラルキル基を表し、これらの基は、炭
素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルケニル
基、炭素数1〜5のアルコキシ基、ハロゲン原子又はジ
メチルポリシロキシ基で置換されていてもよい。Yは、
下記に示すいずれかの2価の結合基を表す。
及びR12は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜5の
アルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数2〜
5のアルケニル基、炭素数1〜5のアルコキシ基又は炭
素数7〜17のアラルキル基を表し、これらの基は、炭
素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルケニル
基、炭素数1〜5のアルコキシ基、ハロゲン原子又はジ
メチルポリシロキシ基で置換されていてもよい。Yは、
下記に示すいずれかの2価の結合基を表す。
【0049】
【化16】
【0050】これらの2価の結合基において、R13、R
14、R15及びR16は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数
1〜5のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭
素数2〜5のアルケニル基、炭素数1〜5のアルコキシ
基又は炭素数7〜17のアラルキル基を表し、これらの
基は、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアル
ケニル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、ハロゲン原子
又はジメチルポリシロキシ基で置換されていてもよい。
cは、0〜20の整数を表す。dは、1〜100の整数
を表す。eは、0〜20の整数を表す。fは、0〜20
の整数を表す。gは、1〜100の整数を表す。
14、R15及びR16は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数
1〜5のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭
素数2〜5のアルケニル基、炭素数1〜5のアルコキシ
基又は炭素数7〜17のアラルキル基を表し、これらの
基は、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアル
ケニル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、ハロゲン原子
又はジメチルポリシロキシ基で置換されていてもよい。
cは、0〜20の整数を表す。dは、1〜100の整数
を表す。eは、0〜20の整数を表す。fは、0〜20
の整数を表す。gは、1〜100の整数を表す。
【0051】前記感光層が、前記一般式(I)で表され
る繰り返し単位及び前記一般式(II)で表される繰り返
し単位を有する共重合ポリカーボネート共重合体樹脂を
含有すると、例えば、ベルト型の電子写真感光体とした
場合等において、該電子写真感光体の可撓性に関する機
械的寿命を向上することができ、優れた電気特性と画質
とを獲得することができる。
る繰り返し単位及び前記一般式(II)で表される繰り返
し単位を有する共重合ポリカーボネート共重合体樹脂を
含有すると、例えば、ベルト型の電子写真感光体とした
場合等において、該電子写真感光体の可撓性に関する機
械的寿命を向上することができ、優れた電気特性と画質
とを獲得することができる。
【0052】本発明においては、前記感光層における少
なくとも最上層が、前記一般式(I)で表される繰り返
し単位及び前記一般式(II)で表される繰り返し単位を
有する共重合ポリカーボネート共重合体樹脂を含有する
のが好ましい。具体的には、前記感光層の最上層として
前記表面保護層が設けられている場合には該表面保護層
が、前記感光層の最上層として前記電荷輸送層が設けら
れている場合には該電荷輸送層が、前記感光層の最上層
として前記電荷発生層が設けられている場合には該電荷
発生層が、それぞれ前記一般式(I)で表される繰り返
し単位及び前記一般式(II)で表される繰り返し単位を
有する共重合ポリカーボネート共重合体樹脂を含有する
のが好ましい。以上のように前記感光層を形成すると、
更に該電子写真感光体の耐磨耗性向上と表面傷の低減と
を実現できる点で有利である。
なくとも最上層が、前記一般式(I)で表される繰り返
し単位及び前記一般式(II)で表される繰り返し単位を
有する共重合ポリカーボネート共重合体樹脂を含有する
のが好ましい。具体的には、前記感光層の最上層として
前記表面保護層が設けられている場合には該表面保護層
が、前記感光層の最上層として前記電荷輸送層が設けら
れている場合には該電荷輸送層が、前記感光層の最上層
として前記電荷発生層が設けられている場合には該電荷
発生層が、それぞれ前記一般式(I)で表される繰り返
し単位及び前記一般式(II)で表される繰り返し単位を
有する共重合ポリカーボネート共重合体樹脂を含有する
のが好ましい。以上のように前記感光層を形成すると、
更に該電子写真感光体の耐磨耗性向上と表面傷の低減と
を実現できる点で有利である。
【0053】前記電荷発生層は、電荷発生材料を真空蒸
着することにより、あるいは電荷発生物質を有機溶剤及
び結着樹脂と共に分散し、これを塗布することにより、
形成することができる。
着することにより、あるいは電荷発生物質を有機溶剤及
び結着樹脂と共に分散し、これを塗布することにより、
形成することができる。
【0054】前記電荷発生材料としては、特に制限はな
く公知の化合物の中から適宜選択することができるが、
例えば、非晶質セレン、結晶性セレン、セレン−テルル
合金、セレン−ヒ素合金、その他のセレン化合物及びセ
レン合金、酸化亜鉛、酸化チタン等の無機系光導電体、
無金属フタロシアニン、チタニルフタロシアニン、銅フ
タロシアニン、錫フタロシアニン、ガリウムフタロシア
ニン等の各種フタロシアニン化合物、スクエアリウム
系、アントアントロン系、ペリレン系、アゾ系、アント
ラキノン系、ピレン系、ピリリウム塩、チアピリリウム
塩等の各種有機顔料及び染料などが挙げられる。本発明
においては、これらの中でもフタロシアニン化合物、ア
ントアントロン系、ペリレン系、アゾ系が好ましい。
く公知の化合物の中から適宜選択することができるが、
例えば、非晶質セレン、結晶性セレン、セレン−テルル
合金、セレン−ヒ素合金、その他のセレン化合物及びセ
レン合金、酸化亜鉛、酸化チタン等の無機系光導電体、
無金属フタロシアニン、チタニルフタロシアニン、銅フ
タロシアニン、錫フタロシアニン、ガリウムフタロシア
ニン等の各種フタロシアニン化合物、スクエアリウム
系、アントアントロン系、ペリレン系、アゾ系、アント
ラキノン系、ピレン系、ピリリウム塩、チアピリリウム
塩等の各種有機顔料及び染料などが挙げられる。本発明
においては、これらの中でもフタロシアニン化合物、ア
ントアントロン系、ペリレン系、アゾ系が好ましい。
【0055】前記有機顔料は、一般に数種の結晶型を有
しており、特にフタロシアニン化合物では、α型、β型
等をはじめとして各種結晶型が知られている。本発明に
おいては、本発明の目的を害しない限りいずれの結晶型
でもよいが、以下のフタロシアニン化合物が特に好まし
い。
しており、特にフタロシアニン化合物では、α型、β型
等をはじめとして各種結晶型が知られている。本発明に
おいては、本発明の目的を害しない限りいずれの結晶型
でもよいが、以下のフタロシアニン化合物が特に好まし
い。
【0056】即ち、Cukα線を用いたX線回折スペク
トルのブラッグ度(2θ±0.2°)において、少なく
とも7.4°,16.6°,25.5°,28.3°の
位置に回折ピークを有するジクロルガリウムフタロシア
ニン、Cukα線を用いたX線回折スペクトルのブラッ
グ度(2θ±0.2°)において、少なくとも7.5
°,9.9°,12.5°,16.3°,18.6°,
25.1°,28.1°の位置に回折ピークを有するヒ
ドロキシガリウムフタロシアニン、Cukα線を用いた
X線回折スペクトルのブラッグ度(2θ±0.2°)に
おいて、少なくとも7.6°,18.3°,23.2
°,24.2°,27.3°の位置に回折ピークを有す
るチタニルフタロシアニン等が特に好ましい。これらの
フタロシアニン化合物を電荷発生材料として用い、前記
一般式(I)で表される繰り返し単位及び前記一般式
(II)で表される繰り返し単位を有する共重合ポリカー
ボネート共重合体樹脂を前記電荷輸送層における結着樹
脂として用い、これらを併用すると、前記本発明の目的
を効果的に達成することができる点で有利である。
トルのブラッグ度(2θ±0.2°)において、少なく
とも7.4°,16.6°,25.5°,28.3°の
位置に回折ピークを有するジクロルガリウムフタロシア
ニン、Cukα線を用いたX線回折スペクトルのブラッ
グ度(2θ±0.2°)において、少なくとも7.5
°,9.9°,12.5°,16.3°,18.6°,
25.1°,28.1°の位置に回折ピークを有するヒ
ドロキシガリウムフタロシアニン、Cukα線を用いた
X線回折スペクトルのブラッグ度(2θ±0.2°)に
おいて、少なくとも7.6°,18.3°,23.2
°,24.2°,27.3°の位置に回折ピークを有す
るチタニルフタロシアニン等が特に好ましい。これらの
フタロシアニン化合物を電荷発生材料として用い、前記
一般式(I)で表される繰り返し単位及び前記一般式
(II)で表される繰り返し単位を有する共重合ポリカー
ボネート共重合体樹脂を前記電荷輸送層における結着樹
脂として用い、これらを併用すると、前記本発明の目的
を効果的に達成することができる点で有利である。
【0057】前記電荷発生層における前記結着樹脂とし
ては、例えば、ビスフェノールA型ポリカーボネート樹
脂、ビスフェノールZ型ポリカーボネート樹脂、前記一
般式(I)で表される繰り返し単位を有するポリカーボ
ネート共重合体樹脂、前記一般式(II)で表される繰り
返し単位を有するポリカーボネート共重合体樹脂、前記
一般式(I)で表される繰り返し単位及び前記一般式
(II)で表される繰り返し単位を有する共重合ポリカー
ボネート共重合体樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル
樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレ
ン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジ
エン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル
共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン
酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコン−アルキド樹脂、フ
ェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッ
ド樹脂、ポリ−N−ビニルカルバゾールなどが好適に挙
げられる。これらの結着樹脂は、1種単独で使用しても
よいし、2種以上を併用してもよい。
ては、例えば、ビスフェノールA型ポリカーボネート樹
脂、ビスフェノールZ型ポリカーボネート樹脂、前記一
般式(I)で表される繰り返し単位を有するポリカーボ
ネート共重合体樹脂、前記一般式(II)で表される繰り
返し単位を有するポリカーボネート共重合体樹脂、前記
一般式(I)で表される繰り返し単位及び前記一般式
(II)で表される繰り返し単位を有する共重合ポリカー
ボネート共重合体樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル
樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレ
ン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジ
エン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル
共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン
酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコン−アルキド樹脂、フ
ェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッ
ド樹脂、ポリ−N−ビニルカルバゾールなどが好適に挙
げられる。これらの結着樹脂は、1種単独で使用しても
よいし、2種以上を併用してもよい。
【0058】前記電荷発生材料と前記結着樹脂との配合
比(重量比)としては、10:1〜1:10が好まし
い。前記電荷発生層の厚みとしては、通常0.01〜5
μm程度であり、0.05〜2.0μmが好ましい。前
記電荷発生材料を前記結着樹脂中に分散させるには、例
えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アト
ライター、ダイノーミル、サンドミル、コロイドミルな
どを用いることができる。
比(重量比)としては、10:1〜1:10が好まし
い。前記電荷発生層の厚みとしては、通常0.01〜5
μm程度であり、0.05〜2.0μmが好ましい。前
記電荷発生材料を前記結着樹脂中に分散させるには、例
えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アト
ライター、ダイノーミル、サンドミル、コロイドミルな
どを用いることができる。
【0059】前記電荷輸送層に用いる電荷輸送材料とし
ては、例えば、ポリビニルカルバゾール、ピラゾリン化
合物、ヒドラゾン化合物、スチルベン化合物などが従来
より知られているが、本発明においてはトリフェニルア
ミン化合物を用いる必要がある。前記電荷輸送材料とし
て前記トリフェニルアミン化合物を用い、前記一般式
(I)で表される繰り返し単位及び前記一般式(II)で
表される繰り返し単位を有する共重合ポリカーボネート
共重合体樹脂を前記電荷輸送層における結着樹脂として
用い、これらを併用すると、前記本発明の目的が達成さ
れる。本発明においては、前記トリフェニルアミン化合
物としては、各種化合物が挙げられるが、その中でも、
下記一般式(III) で表されるベンジジン化合物及び下記
一般式(IV)で表されるトリアリールアミン化合物が特に
好ましい例として挙げられる。 一般式(III)
ては、例えば、ポリビニルカルバゾール、ピラゾリン化
合物、ヒドラゾン化合物、スチルベン化合物などが従来
より知られているが、本発明においてはトリフェニルア
ミン化合物を用いる必要がある。前記電荷輸送材料とし
て前記トリフェニルアミン化合物を用い、前記一般式
(I)で表される繰り返し単位及び前記一般式(II)で
表される繰り返し単位を有する共重合ポリカーボネート
共重合体樹脂を前記電荷輸送層における結着樹脂として
用い、これらを併用すると、前記本発明の目的が達成さ
れる。本発明においては、前記トリフェニルアミン化合
物としては、各種化合物が挙げられるが、その中でも、
下記一般式(III) で表されるベンジジン化合物及び下記
一般式(IV)で表されるトリアリールアミン化合物が特に
好ましい例として挙げられる。 一般式(III)
【0060】
【化17】
【0061】一般式(III) において、R1 及びR1'は、
水素原子、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子
を表し、互いに同一であってもよいし異なっていてもよ
い。R2 、R2'、R3 及びR3'は、水素原子、アルキル
基、アルコキシ基、ハロゲン原子又は置換アミノ基を表
し、互いに同一であってもよいし異なっていてもよい。
m、m’、n及びn’は、1又は2の整数を表す。 一般式(IV)
水素原子、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子
を表し、互いに同一であってもよいし異なっていてもよ
い。R2 、R2'、R3 及びR3'は、水素原子、アルキル
基、アルコキシ基、ハロゲン原子又は置換アミノ基を表
し、互いに同一であってもよいし異なっていてもよい。
m、m’、n及びn’は、1又は2の整数を表す。 一般式(IV)
【0062】
【化18】
【0063】一般式(IV)において、R1 及びR2 は、水
素原子、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子を
表し、互いに同一であってもよいし異なっていてもよ
い。R 3 は、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基又は
炭素数6〜12のアリール基を表し、互いに同一であっ
てもよいし異なっていてもよい。m及びnは、1又は2
の整数を表す。
素原子、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子を
表し、互いに同一であってもよいし異なっていてもよ
い。R 3 は、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基又は
炭素数6〜12のアリール基を表し、互いに同一であっ
てもよいし異なっていてもよい。m及びnは、1又は2
の整数を表す。
【0064】本発明においては、前記一般式(III) で表
されるベンジジン化合物の中でも、以下の表1〜表3に
おいて具体例(3−1〜3−67)として示す構造のベ
ンジジン化合物が好ましく、その中でも後述の実施例に
おいて採用した構造のベンジジン化合物が特に好まし
い。
されるベンジジン化合物の中でも、以下の表1〜表3に
おいて具体例(3−1〜3−67)として示す構造のベ
ンジジン化合物が好ましく、その中でも後述の実施例に
おいて採用した構造のベンジジン化合物が特に好まし
い。
【0065】
【表1】
【0066】
【表2】
【0067】
【表3】
【0068】本発明においては、前記一般式(IV)で表さ
れるトリアリールアミン化合物の中でも、以下の表4〜
表6において具体例(4−1〜4−55)として示す構
造のトリアリールアミン化合物が好ましく、その中でも
後述の実施例において採用した構造のトリアリールアミ
ン化合物が特に好ましい。
れるトリアリールアミン化合物の中でも、以下の表4〜
表6において具体例(4−1〜4−55)として示す構
造のトリアリールアミン化合物が好ましく、その中でも
後述の実施例において採用した構造のトリアリールアミ
ン化合物が特に好ましい。
【0069】
【表4】
【0070】
【表5】
【0071】
【表6】
【0072】前記電荷輸送層に用いる結着樹脂として
は、前記一般式(I)で表される繰り返し単位及び前記
一般式(II)で表される繰り返し単位を有する共重合ポ
リカーボネート共重合体樹脂が好適に挙げられる。前記
一般式(I)で表される繰り返し単位及び前記一般式
(II)で表される繰り返し単位を有する共重合ポリカー
ボネート共重合体樹脂は、例えば、下記一般式(A)で
表される二価フェノールと、下記一般式(B)で表され
る二価フェノールとを、炭酸エステル形成性化合物と反
応させることにより製造することができる。 一般式(A)
は、前記一般式(I)で表される繰り返し単位及び前記
一般式(II)で表される繰り返し単位を有する共重合ポ
リカーボネート共重合体樹脂が好適に挙げられる。前記
一般式(I)で表される繰り返し単位及び前記一般式
(II)で表される繰り返し単位を有する共重合ポリカー
ボネート共重合体樹脂は、例えば、下記一般式(A)で
表される二価フェノールと、下記一般式(B)で表され
る二価フェノールとを、炭酸エステル形成性化合物と反
応させることにより製造することができる。 一般式(A)
【0073】
【化19】
【0074】一般式(I)にいおいて、R1 、R2 、R
3 、R4 、R5 、R6 、R7 及びR 8 は、水素原子、ハ
ロゲン原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数6〜1
2のアリール基、炭素数2〜5のアルケニル基、炭素数
1〜5のアルコキシ基又は炭素数7〜17のアラルキル
基を表し、これらの基は、炭素数1〜5のアルキル基、
炭素数1〜5のアルケニル基、炭素数1〜5のアルコキ
シ基、ハロゲン原子又はジメチルポリシロキシ基で置換
されていてもよい。Xは、下記に示すいずれかの2価の
結合基を表す。
3 、R4 、R5 、R6 、R7 及びR 8 は、水素原子、ハ
ロゲン原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数6〜1
2のアリール基、炭素数2〜5のアルケニル基、炭素数
1〜5のアルコキシ基又は炭素数7〜17のアラルキル
基を表し、これらの基は、炭素数1〜5のアルキル基、
炭素数1〜5のアルケニル基、炭素数1〜5のアルコキ
シ基、ハロゲン原子又はジメチルポリシロキシ基で置換
されていてもよい。Xは、下記に示すいずれかの2価の
結合基を表す。
【0075】
【化20】
【0076】これらの2価の結合基において、a、b及
びcは、0〜20の整数を表す。 一般式(B)
びcは、0〜20の整数を表す。 一般式(B)
【0077】
【化21】
【0078】一般式(B)において、R9 、R10、R11
及びR12は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜5の
アルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数2〜
5のアルケニル基、炭素数1〜5のアルコキシ基又は炭
素数7〜17のアラルキル基を表し、これらの基は、炭
素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルケニル
基、炭素数1〜5のアルコキシ基、ハロゲン原子又はジ
メチルポリシロキシ基で置換されていてもよい。Yは、
下記に示すいずれかの2価の結合基を表す。
及びR12は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜5の
アルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数2〜
5のアルケニル基、炭素数1〜5のアルコキシ基又は炭
素数7〜17のアラルキル基を表し、これらの基は、炭
素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルケニル
基、炭素数1〜5のアルコキシ基、ハロゲン原子又はジ
メチルポリシロキシ基で置換されていてもよい。Yは、
下記に示すいずれかの2価の結合基を表す。
【0079】
【化22】
【0080】これらの2価の結合基において、R13、R
14、R15及びR16は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数
1〜5のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭
素数2〜5のアルケニル基、炭素数1〜5のアルコキシ
基又は炭素数7〜17のアラルキル基を表し、これらの
基は、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアル
ケニル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、ハロゲン原子
又はジメチルポリシロキシ基で置換されていてもよい。
cは、0〜20の整数を表す。dは、1〜100の整数
を表す。eは、0〜20の整数を表す。fは、0〜20
の整数を表す。gは、1〜100の整数を表す。
14、R15及びR16は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数
1〜5のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭
素数2〜5のアルケニル基、炭素数1〜5のアルコキシ
基又は炭素数7〜17のアラルキル基を表し、これらの
基は、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアル
ケニル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、ハロゲン原子
又はジメチルポリシロキシ基で置換されていてもよい。
cは、0〜20の整数を表す。dは、1〜100の整数
を表す。eは、0〜20の整数を表す。fは、0〜20
の整数を表す。gは、1〜100の整数を表す。
【0081】前記一般式(A)で表されるベンゾトリア
ゾール構造を有する二価フェノールは、公知の方法に従
って、例えば、ニトロアニリン誘導体を亜硝酸でジアゾ
化し、アルカリの存在下にフェノール誘導体と反応させ
てアゾ化合物とし、亜鉛や硫黄化合物等より還元環化す
ることより製造することができる。
ゾール構造を有する二価フェノールは、公知の方法に従
って、例えば、ニトロアニリン誘導体を亜硝酸でジアゾ
化し、アルカリの存在下にフェノール誘導体と反応させ
てアゾ化合物とし、亜鉛や硫黄化合物等より還元環化す
ることより製造することができる。
【0082】本発明においては、前記一般式(A)で表
されるベンゾトリアゾール構造を有する二価フェノール
の中でも、反応性やポリカーボネートの安定性の点で、
2,2’−メチレンビス[4−(1,1,3,3テトラ
メチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2
−イル)フェノール]、4,4’−ヘキサメチレンジエ
トキシカルボニルビス[2−t−ブチル−6−(2H−
ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール」、2,
2’−メチレンビス[4−メチル−6−(2H−ベンゾ
トリアゾール2イル)フェノール]等や、以下の具体例
として示す構造の二価フェノールが好ましく、その中で
も後述の実施例において採用した構造の二価フェノール
が特に好ましい。
されるベンゾトリアゾール構造を有する二価フェノール
の中でも、反応性やポリカーボネートの安定性の点で、
2,2’−メチレンビス[4−(1,1,3,3テトラ
メチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2
−イル)フェノール]、4,4’−ヘキサメチレンジエ
トキシカルボニルビス[2−t−ブチル−6−(2H−
ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール」、2,
2’−メチレンビス[4−メチル−6−(2H−ベンゾ
トリアゾール2イル)フェノール]等や、以下の具体例
として示す構造の二価フェノールが好ましく、その中で
も後述の実施例において採用した構造の二価フェノール
が特に好ましい。
【0083】
【化23】
【0084】
【化24】
【0085】
【化25】
【0086】前記一般式(B)で表される二価フェノー
ルとしては、例えば、ビフェノール、ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)メタン、ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)エ一テル、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホ
ン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、1,
1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、2,2−
ビス(4ヒドロキシフェニル)プロパン(ビスフェノー
ルA)、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタ
ン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘ
キサン(ビスフェノールZ)、2,2−ビス(4−ヒド
ロキシ−3,5−ジブロモフェニル)プロパン、2,2
ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)プ
ロパン、2,2ビス(4−ヒドロキシ−3−ブロモフェ
ニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−
クロロフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロ
キシ−3−メチルフェニル)プロパン、2,2−ビス
(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)プロパ
ン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フ
ェニルエタン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジフェ
ニルメタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
ヘキサフルオロプロパン、α,ω−ビス〔2−(p−ヒ
ドロキシフェニル)エチル]ポリジメチルシロキサン、
9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、
2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−アリルフェニル)
プロパン、4,4’−[1,4フェニレンビス(1−メ
チルエチリデン)]ビスフェノール、4,4−[1,3
−フェニレンビス(1−メチルエチリデン)]ビスフェ
ノール、4−メチル−2,4−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)−1−へプテンなどが好適に挙げられる。これ
らは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用し
てもよい。本発明においては、これらの中でも、特に
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ
ン、2,2ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニ
ル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)−1−フェニルエタン、ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)エ一テル、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スル
フィド等がより好ましい。
ルとしては、例えば、ビフェノール、ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)メタン、ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)エ一テル、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホ
ン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、1,
1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、2,2−
ビス(4ヒドロキシフェニル)プロパン(ビスフェノー
ルA)、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタ
ン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘ
キサン(ビスフェノールZ)、2,2−ビス(4−ヒド
ロキシ−3,5−ジブロモフェニル)プロパン、2,2
ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)プ
ロパン、2,2ビス(4−ヒドロキシ−3−ブロモフェ
ニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−
クロロフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロ
キシ−3−メチルフェニル)プロパン、2,2−ビス
(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)プロパ
ン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フ
ェニルエタン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジフェ
ニルメタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
ヘキサフルオロプロパン、α,ω−ビス〔2−(p−ヒ
ドロキシフェニル)エチル]ポリジメチルシロキサン、
9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、
2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−アリルフェニル)
プロパン、4,4’−[1,4フェニレンビス(1−メ
チルエチリデン)]ビスフェノール、4,4−[1,3
−フェニレンビス(1−メチルエチリデン)]ビスフェ
ノール、4−メチル−2,4−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)−1−へプテンなどが好適に挙げられる。これ
らは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用し
てもよい。本発明においては、これらの中でも、特に
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ
ン、2,2ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニ
ル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)−1−フェニルエタン、ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)エ一テル、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スル
フィド等がより好ましい。
【0087】前記炭酸エステル形成性化合物としては、
例えば、ホスゲン、オキザリルクロライド、あるいはジ
フェニルカーボネート、ジ−p−トリルカーボネート、
フェニル−p−トリルカーボネート、ジ−p−クロロフ
ェニルカーボネート、ジナフチルカーボネート等のビス
アリルカーボネートなどが挙げられる。
例えば、ホスゲン、オキザリルクロライド、あるいはジ
フェニルカーボネート、ジ−p−トリルカーボネート、
フェニル−p−トリルカーボネート、ジ−p−クロロフ
ェニルカーボネート、ジナフチルカーボネート等のビス
アリルカーボネートなどが挙げられる。
【0088】前記一般式(I)で表される繰り返し単位
及び前記一般式(II)で表される繰り返し単位を有する
共重合ポリカーボネート共重合体樹脂の製法としては、
特に制限はなく、通常のビスフェノール類からポリカー
ボネートを製造する際に用いられている公知の方法、例
えば二価フェノールとホスゲンとの直接反応(ホスゲン
法)、あるいは二価フェノールとビスアリールカーボネ
ートとのエステル交換反応(エステル交換法)などのい
ずれであってもよい。
及び前記一般式(II)で表される繰り返し単位を有する
共重合ポリカーボネート共重合体樹脂の製法としては、
特に制限はなく、通常のビスフェノール類からポリカー
ボネートを製造する際に用いられている公知の方法、例
えば二価フェノールとホスゲンとの直接反応(ホスゲン
法)、あるいは二価フェノールとビスアリールカーボネ
ートとのエステル交換反応(エステル交換法)などのい
ずれであってもよい。
【0089】前記一般式(I)で表される繰り返し単位
及び前記一般式(II)で表される繰り返し単位を有する
共重合ポリカーボネート共重合体樹脂における、前記一
般式(I)で表される繰り返し単位の含有量としては、
モノマーとしての前記一般式(A)で表される二価フェ
ノールの反応性の観点から、1〜60mol%が好まし
く、5〜40mol%がより好ましい。前記含有量が、
60mol%を超えると、分子量制御が著しく困難とな
り低分子量体が多くなり、極限粘度が低下し、一方、1
mol%未満であると、共重合効果が乏しくなる点でい
ずれも好ましくない。他方、前記含有量が5〜40mo
l%であると、反応性(分子量制御性)、物性、溶媒に
対する溶解性等のバランスが良好な点で好ましい。
及び前記一般式(II)で表される繰り返し単位を有する
共重合ポリカーボネート共重合体樹脂における、前記一
般式(I)で表される繰り返し単位の含有量としては、
モノマーとしての前記一般式(A)で表される二価フェ
ノールの反応性の観点から、1〜60mol%が好まし
く、5〜40mol%がより好ましい。前記含有量が、
60mol%を超えると、分子量制御が著しく困難とな
り低分子量体が多くなり、極限粘度が低下し、一方、1
mol%未満であると、共重合効果が乏しくなる点でい
ずれも好ましくない。他方、前記含有量が5〜40mo
l%であると、反応性(分子量制御性)、物性、溶媒に
対する溶解性等のバランスが良好な点で好ましい。
【0090】前記一般式(I)で表される繰り返し単位
及び前記一般式(II)で表される繰り返し単位を有する
共重合ポリカーボネート共重合体樹脂の分子量として
は、感光層の膜厚や溶剤などの成膜条件、あるいは耐摩
耗性などの機械的特性等によって異なり、目的に応じて
適宜選択すればよいが、粘度平均分子量で、通常300
0〜30万程度であり、2万〜20万が好ましい。
及び前記一般式(II)で表される繰り返し単位を有する
共重合ポリカーボネート共重合体樹脂の分子量として
は、感光層の膜厚や溶剤などの成膜条件、あるいは耐摩
耗性などの機械的特性等によって異なり、目的に応じて
適宜選択すればよいが、粘度平均分子量で、通常300
0〜30万程度であり、2万〜20万が好ましい。
【0091】前記電荷輸送層は、例えば、前記電荷輸送
材料と前記結着樹脂とを適当な溶媒に溶解させた溶液を
塗布し乾燥することによって形成することができる。前
記電荷輸送層の形成に使用される溶媒としては、特に制
限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、
例えば、ベンゼン、トルエン、クロルベンゼン等の芳香
族炭化水素系、アセトン、2−ブタノン等のケトン類、
塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲ
ン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、エチレングリコール、ジエチルエーテル等の環状又
は直鎖状エーテル、あるいはこれらの混合溶剤などが挙
げられる。前記電荷輸送層における、前記電荷輸送材料
と前記結着樹脂との配合比としては、10:1〜1:5
が好ましい。前記電荷輸送層の膜厚としては、通常5〜
50μm程度であり、10〜40μmが好ましい。
材料と前記結着樹脂とを適当な溶媒に溶解させた溶液を
塗布し乾燥することによって形成することができる。前
記電荷輸送層の形成に使用される溶媒としては、特に制
限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、
例えば、ベンゼン、トルエン、クロルベンゼン等の芳香
族炭化水素系、アセトン、2−ブタノン等のケトン類、
塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲ
ン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、エチレングリコール、ジエチルエーテル等の環状又
は直鎖状エーテル、あるいはこれらの混合溶剤などが挙
げられる。前記電荷輸送層における、前記電荷輸送材料
と前記結着樹脂との配合比としては、10:1〜1:5
が好ましい。前記電荷輸送層の膜厚としては、通常5〜
50μm程度であり、10〜40μmが好ましい。
【0092】本発明においては、電子写真装置中で発生
するオゾン、酸化性ガス、光、熱等による電子写真感光
体の劣化を防止する目的で、前記感光層中に、酸化防止
剤、光安定剤、熱安定剤等の各種添加剤を添加すること
ができる。
するオゾン、酸化性ガス、光、熱等による電子写真感光
体の劣化を防止する目的で、前記感光層中に、酸化防止
剤、光安定剤、熱安定剤等の各種添加剤を添加すること
ができる。
【0093】前記酸化防止剤としては、特に制限はなく
適宜選択することができるが、例えば、ヒンダードフェ
ノール等のフェノール系酸化防止剤、ヒンダードアミン
系酸化防止剤、パラフェニレンジアミン、アリールアル
カン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダ
ノン及びそれらの誘導体、有機硫黄系酸化防止剤、有機
燐系酸化防止剤などが挙げられる。前記フェノール系酸
化防止剤としては、例えば、2,6−ジ−t−ブチル−
4−メチル フェノール、スチレン化フェノール、n−
オクタデシル−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル
4’−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート、2,
2’−メチレン−ビス−(4−メチル−6−t−ブチル
フェノール)、2−t−ブチル−6−(3’−t−ブ
チル−5’−メチル−2’−ヒドロキシベンジル)−4
−メチルフェニル アクリレート、4,4’−ブチリデ
ン−ビス−(3−メチル−6−t−ブチル−フェノー
ル)、4,4’−チオ−ビス−(3−メチル6−t−ブ
チル フェノール)、1,3,5−トリス(4−t−ブ
チル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチル ベンジル)
イソシアヌレート、テトラキス−[メチレン−3−
(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシ−フ
ェニル)プロピオネート]−メタン、3,9−ビス[2
−[3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチ
ル フェニル)プロピオニルオキシ]−1,1−ジメチ
ルエチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ
[5,5]ウンデカンなどが挙げられる。
適宜選択することができるが、例えば、ヒンダードフェ
ノール等のフェノール系酸化防止剤、ヒンダードアミン
系酸化防止剤、パラフェニレンジアミン、アリールアル
カン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダ
ノン及びそれらの誘導体、有機硫黄系酸化防止剤、有機
燐系酸化防止剤などが挙げられる。前記フェノール系酸
化防止剤としては、例えば、2,6−ジ−t−ブチル−
4−メチル フェノール、スチレン化フェノール、n−
オクタデシル−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル
4’−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート、2,
2’−メチレン−ビス−(4−メチル−6−t−ブチル
フェノール)、2−t−ブチル−6−(3’−t−ブ
チル−5’−メチル−2’−ヒドロキシベンジル)−4
−メチルフェニル アクリレート、4,4’−ブチリデ
ン−ビス−(3−メチル−6−t−ブチル−フェノー
ル)、4,4’−チオ−ビス−(3−メチル6−t−ブ
チル フェノール)、1,3,5−トリス(4−t−ブ
チル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチル ベンジル)
イソシアヌレート、テトラキス−[メチレン−3−
(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシ−フ
ェニル)プロピオネート]−メタン、3,9−ビス[2
−[3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチ
ル フェニル)プロピオニルオキシ]−1,1−ジメチ
ルエチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ
[5,5]ウンデカンなどが挙げられる。
【0094】前記ヒンダードアミン系酸化防止剤として
は、例えば、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4
−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6
−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、1−
[2−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキ
シフェニル)プロピオニルオキシ]エチル]−4−[3
−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロピオニルオキシ]−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン、8−ベンジル−7,7,9,9−テト
ラメチル−3−オクチル−1,3,8−トリアザスピロ
[4,5]ウンデカン−2,4−ジオン、4−ベンゾイ
ルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、
コハク酸ジメチル−1−(2−ヒドロキシエチル)−4
−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン重縮合物、ポリ[{6−(1,1,3,3−テトラメ
チルブチル)イミノ−1,3,5−トリアジン−2,4
−ジイミル}{(2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,3,6,
6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}]、2−
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)
−2−n−ブチルマロン酸ビス(1,2,2,6,6−
ペンタメチル−4−ピペリジル)、N,N’−ビス(3
−アミノプロピル)エチレンジアミン−2,4−ビス
[N−ブチル−N−(1,2,2,6,6,−ペンタメ
チル−4ピペリジル)アミノ]−6−クロロ−1,3,
5−トリアジン縮合物などが挙げられる。
は、例えば、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4
−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6
−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、1−
[2−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキ
シフェニル)プロピオニルオキシ]エチル]−4−[3
−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロピオニルオキシ]−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン、8−ベンジル−7,7,9,9−テト
ラメチル−3−オクチル−1,3,8−トリアザスピロ
[4,5]ウンデカン−2,4−ジオン、4−ベンゾイ
ルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、
コハク酸ジメチル−1−(2−ヒドロキシエチル)−4
−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン重縮合物、ポリ[{6−(1,1,3,3−テトラメ
チルブチル)イミノ−1,3,5−トリアジン−2,4
−ジイミル}{(2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,3,6,
6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}]、2−
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)
−2−n−ブチルマロン酸ビス(1,2,2,6,6−
ペンタメチル−4−ピペリジル)、N,N’−ビス(3
−アミノプロピル)エチレンジアミン−2,4−ビス
[N−ブチル−N−(1,2,2,6,6,−ペンタメ
チル−4ピペリジル)アミノ]−6−クロロ−1,3,
5−トリアジン縮合物などが挙げられる。
【0095】前記有機硫黄系酸化防止剤としては、例え
ば、ジラウリル−3,3’−チオジプロピオネート、ジ
ミリスチル−3,3’−チオジプロピオネート、ジステ
アリル−3,3’−チオジプロピオネート、ペンタエリ
スリトール−テトラキス−(β−ラウリル−チオプロピ
オネート)、ジトリデシル−3,3’−チオジプロピオ
ネート、2−メルカプト ベンズイミダゾールなどが挙
げられる。前記有機燐系酸化防止剤としては、例えば、
トリスノニルフェニル フォスフィート、トリフェニル
フォスフィート、トリス(2,4−ジ−t−ブチル
フェニル)フォスフィートなどが挙げられる。前記有機
硫黄系酸化防止剤及び前記有機燐系酸化防止剤は2次酸
化防止剤と言われており、フェノール系酸化防止剤、ア
ミン系酸化防止剤等の1次酸化防止剤と併用することに
より相乗効果を得ることができる。
ば、ジラウリル−3,3’−チオジプロピオネート、ジ
ミリスチル−3,3’−チオジプロピオネート、ジステ
アリル−3,3’−チオジプロピオネート、ペンタエリ
スリトール−テトラキス−(β−ラウリル−チオプロピ
オネート)、ジトリデシル−3,3’−チオジプロピオ
ネート、2−メルカプト ベンズイミダゾールなどが挙
げられる。前記有機燐系酸化防止剤としては、例えば、
トリスノニルフェニル フォスフィート、トリフェニル
フォスフィート、トリス(2,4−ジ−t−ブチル
フェニル)フォスフィートなどが挙げられる。前記有機
硫黄系酸化防止剤及び前記有機燐系酸化防止剤は2次酸
化防止剤と言われており、フェノール系酸化防止剤、ア
ミン系酸化防止剤等の1次酸化防止剤と併用することに
より相乗効果を得ることができる。
【0096】前記光安定剤としては、特に制限はなく適
宜選択することができるが、例えば、ベンゾフェノン
系、ベンゾトリアゾール系、ジチオカルバメート系、テ
トラメチルピペリジン系等の誘導体が挙げられる。
宜選択することができるが、例えば、ベンゾフェノン
系、ベンゾトリアゾール系、ジチオカルバメート系、テ
トラメチルピペリジン系等の誘導体が挙げられる。
【0097】前記ベンゾフェノン系の光安定剤として
は、例えば、2−ヒドロキシ−4−メトキシ ベンゾフ
ェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシ ベンゾフェ
ノン、2,2’−ジ−ヒドロキシ−4−メトキシ ベン
ゾフェノン等が挙げられる。前記ベンゾトリアゾール系
の光安定剤としては、例えば、2−(−2’−ヒドロキ
シ−5’メチル フェニル−)−ベンゾトリアゾール、
2−[2’−ヒドロキシ−3’−(3”,4”,5”,
6”−テトラ−ヒドロフタルイミド−メチル)−5’−
メチルフェニル]−ベンゾトリアゾール、2−(2’−
ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5’−メチルフェニ
ル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒ
ドロキシ−3’−t−ブチル−5’−メチルフェニル)
−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロ
キシ−3’,5’−t−ブチルフェニル)−ベンゾトリ
アゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−t−オクチ
ルフェニル)−ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒド
ロキシ−3’,5’−ジ−t−アミルフェニル)−ベン
ゾトリアゾールなどが挙げられる。その他、2,4,ジ
−t−ブチルフェニル−3’,5’−ジ−t−ブチル−
4’−ヒドロキシベンゾエート、ニッケルジブチル−ジ
チオカルバメートなどが挙げられる。
は、例えば、2−ヒドロキシ−4−メトキシ ベンゾフ
ェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシ ベンゾフェ
ノン、2,2’−ジ−ヒドロキシ−4−メトキシ ベン
ゾフェノン等が挙げられる。前記ベンゾトリアゾール系
の光安定剤としては、例えば、2−(−2’−ヒドロキ
シ−5’メチル フェニル−)−ベンゾトリアゾール、
2−[2’−ヒドロキシ−3’−(3”,4”,5”,
6”−テトラ−ヒドロフタルイミド−メチル)−5’−
メチルフェニル]−ベンゾトリアゾール、2−(2’−
ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5’−メチルフェニ
ル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒ
ドロキシ−3’−t−ブチル−5’−メチルフェニル)
−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロ
キシ−3’,5’−t−ブチルフェニル)−ベンゾトリ
アゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−t−オクチ
ルフェニル)−ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒド
ロキシ−3’,5’−ジ−t−アミルフェニル)−ベン
ゾトリアゾールなどが挙げられる。その他、2,4,ジ
−t−ブチルフェニル−3’,5’−ジ−t−ブチル−
4’−ヒドロキシベンゾエート、ニッケルジブチル−ジ
チオカルバメートなどが挙げられる。
【0098】前記熱安定剤としては、特に制限はなく公
知のものの中から適宜選択することができる。
知のものの中から適宜選択することができる。
【0099】本発明においては、感度の向上、残留電位
の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として少な
くとも1種の電子受容性物質を、前記感光層中に添加し
てもよい。前記電子受容性物質としては、例えば、無水
琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無
水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノ
エチレン、テトラシアノキノジメタン、o−ジニトロベ
ンゼン、m−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロ
アントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン
酸、o−ニトロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、フタル
酸などが挙げられる。これらの中でも、フルオレノン系
誘導体、キノン系誘導体、Cl,CN,NO2等の電子
吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に好ましい。
の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として少な
くとも1種の電子受容性物質を、前記感光層中に添加し
てもよい。前記電子受容性物質としては、例えば、無水
琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無
水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノ
エチレン、テトラシアノキノジメタン、o−ジニトロベ
ンゼン、m−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロ
アントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン
酸、o−ニトロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、フタル
酸などが挙げられる。これらの中でも、フルオレノン系
誘導体、キノン系誘導体、Cl,CN,NO2等の電子
吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に好ましい。
【0100】前記感光層の最上層として表面保護層を形
成する場合、該表面保護層としては、例えば、絶縁性樹
脂保護層、絶縁性樹脂中に抵抗調整剤としての導電性微
粒子を分散した低抵抗保護層などが好ましい。
成する場合、該表面保護層としては、例えば、絶縁性樹
脂保護層、絶縁性樹脂中に抵抗調整剤としての導電性微
粒子を分散した低抵抗保護層などが好ましい。
【0101】前記絶縁性樹脂としては、例えば、ポリア
ミド、ポリウレタン、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポ
リケトン、ポリカーボネート等の縮合樹脂、ポリビニル
ケトン、ポリスチレン、ポリアクリルアミド等のビニル
重合体などが一般的には挙げられるが、本発明において
は、前記一般式(I)で表される繰り返し単位及び前記
一般式(II)で表される繰り返し単位を有する共重合ポ
リカーボネート共重合体樹脂を好適に使用することがで
きる。
ミド、ポリウレタン、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポ
リケトン、ポリカーボネート等の縮合樹脂、ポリビニル
ケトン、ポリスチレン、ポリアクリルアミド等のビニル
重合体などが一般的には挙げられるが、本発明において
は、前記一般式(I)で表される繰り返し単位及び前記
一般式(II)で表される繰り返し単位を有する共重合ポ
リカーボネート共重合体樹脂を好適に使用することがで
きる。
【0102】前記導電性微粒子としては、電気抵抗が1
09 Ω・cm以下であり、平均粒径が0.3μm以下好
ましくは0.1μm以下であり、白色、灰色又は青白色
を呈する微粒子などが好適に挙げられる。具体的には、
例えば、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化アン
チモン、酸化錫、酸化チタン、酸化インジウム、酸化錫
とアンチモン若しくは酸化アンチモンとの固溶体の担
体、これらの混合物、単一粒子中にこれらの金属酸化物
を混合若しくは被覆したもの等が挙げられる。これらの
中でも、酸化錫、酸化錫とアンチモン若しくは酸化アン
チモンとの固溶体が好ましく、これらを用いると、電気
抵抗を適切に調節することができ、前記表面保護層を実
質的に透明にすることができる点で有利である(特開昭
57−30847号公報、特開昭57−128344号
公報等参照)。
09 Ω・cm以下であり、平均粒径が0.3μm以下好
ましくは0.1μm以下であり、白色、灰色又は青白色
を呈する微粒子などが好適に挙げられる。具体的には、
例えば、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化アン
チモン、酸化錫、酸化チタン、酸化インジウム、酸化錫
とアンチモン若しくは酸化アンチモンとの固溶体の担
体、これらの混合物、単一粒子中にこれらの金属酸化物
を混合若しくは被覆したもの等が挙げられる。これらの
中でも、酸化錫、酸化錫とアンチモン若しくは酸化アン
チモンとの固溶体が好ましく、これらを用いると、電気
抵抗を適切に調節することができ、前記表面保護層を実
質的に透明にすることができる点で有利である(特開昭
57−30847号公報、特開昭57−128344号
公報等参照)。
【0103】前記感光層の塗布液、例えば電荷発生層塗
布液、電荷輸送層塗布液等には、塗膜の平滑性向上のた
め、シリコーンオイルをレベリング剤として微量添加し
てもよい。前記塗布液の塗布には、浸漬塗布法、リング
塗布法、スプレー塗布法、ビード塗布法、ブレード塗布
法、ローラー塗布法等の公知の塗布法を採用することが
できる。前記塗布液の乾燥には、室温での指触乾燥の後
に加熱乾燥するのが好ましく、該加熱乾燥は30〜20
0℃で5分〜2時間程度行うのが好ましい。
布液、電荷輸送層塗布液等には、塗膜の平滑性向上のた
め、シリコーンオイルをレベリング剤として微量添加し
てもよい。前記塗布液の塗布には、浸漬塗布法、リング
塗布法、スプレー塗布法、ビード塗布法、ブレード塗布
法、ローラー塗布法等の公知の塗布法を採用することが
できる。前記塗布液の乾燥には、室温での指触乾燥の後
に加熱乾燥するのが好ましく、該加熱乾燥は30〜20
0℃で5分〜2時間程度行うのが好ましい。
【0104】なお、前記塗布液の塗布の順序によって、
任意の層構成を有する感光層を前記導電性支持体又は該
導電性支持体上に前記下引き層が形成されている場合に
は該下引き層上に、形成することができる。例えば、前
記導電性支持体又は前記下引き層上に、電荷発生層塗布
液と電荷輸送層塗布液とをこの順に塗布し乾燥すること
により、電荷発生層と電荷輸送層とがこの順に積層さ
れ、該電荷輸送層が表面に露出する積層構造の感光層を
該導電性支持体又は該下引き層上に形成することができ
る。また、前記導電性支持体又は前記下引き層上に、電
荷発生層塗布液と電荷輸送層塗布液と表面保護層塗布液
とをこの順に塗布し乾燥することにより、電荷発生層と
電荷輸送層と表面保護層がこの順に積層され、該表面保
護層が表面に露出する積層構造の感光層を該導電性支持
体又は該下引き層上に形成することができる。本発明に
おいては、前記電荷発生層、前記電荷輸送層等の感光層
は、それらの塗布液を塗布し乾燥することのみならず、
上述の通り真空蒸着等の方法により形成してもよい。ま
た、本発明においては、上述の通り、前記感光層の少な
くとも最上層(最表面層)が、前記一般式(I)で表さ
れる繰り返し単位及び前記一般式(II)で表される繰り
返し単位を有する共重合ポリカーボネート共重合体樹脂
を含有するのが好ましい。
任意の層構成を有する感光層を前記導電性支持体又は該
導電性支持体上に前記下引き層が形成されている場合に
は該下引き層上に、形成することができる。例えば、前
記導電性支持体又は前記下引き層上に、電荷発生層塗布
液と電荷輸送層塗布液とをこの順に塗布し乾燥すること
により、電荷発生層と電荷輸送層とがこの順に積層さ
れ、該電荷輸送層が表面に露出する積層構造の感光層を
該導電性支持体又は該下引き層上に形成することができ
る。また、前記導電性支持体又は前記下引き層上に、電
荷発生層塗布液と電荷輸送層塗布液と表面保護層塗布液
とをこの順に塗布し乾燥することにより、電荷発生層と
電荷輸送層と表面保護層がこの順に積層され、該表面保
護層が表面に露出する積層構造の感光層を該導電性支持
体又は該下引き層上に形成することができる。本発明に
おいては、前記電荷発生層、前記電荷輸送層等の感光層
は、それらの塗布液を塗布し乾燥することのみならず、
上述の通り真空蒸着等の方法により形成してもよい。ま
た、本発明においては、上述の通り、前記感光層の少な
くとも最上層(最表面層)が、前記一般式(I)で表さ
れる繰り返し単位及び前記一般式(II)で表される繰り
返し単位を有する共重合ポリカーボネート共重合体樹脂
を含有するのが好ましい。
【0105】本発明の電子写真感光体は、ライトレンズ
系複写機、近赤外光又は可視光に発光するレーザービー
ムプリンター、デジタル複写機、LEDプリンター、レ
ーザーファクシミリ等の各種の電子写真装置に好適に用
いることができる。この場合において、
系複写機、近赤外光又は可視光に発光するレーザービー
ムプリンター、デジタル複写機、LEDプリンター、レ
ーザーファクシミリ等の各種の電子写真装置に好適に用
いることができる。この場合において、
【0106】本発明の電子写真装置は、電子写真感光体
として前記本発明の電子写真感光体を用いていればよ
く、該電子写真感光体以外の帯電手段、像露光手段、現
像手段、転写手段、中間転写体、クリーナ、ローラ等に
ついては特に制限はなく、目的に応じて適宜選択するこ
とができる。
として前記本発明の電子写真感光体を用いていればよ
く、該電子写真感光体以外の帯電手段、像露光手段、現
像手段、転写手段、中間転写体、クリーナ、ローラ等に
ついては特に制限はなく、目的に応じて適宜選択するこ
とができる。
【0107】前記帯電手段としては、特に制限はなく、
例えば、導電性又は半導電性のローラ、ブラシ、フィル
ム、ゴムブレード等を用いた接触型帯電器、コロナ放電
を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器など
のそれ自体公知の帯電器が挙げられる。本発明において
は、前記帯電手段による帯電方式としては、コロトロン
帯電方式等であってもよいが、帯電ローラーや帯電ブラ
シ等を用いた接触帯電方式においても電流リークの発生
が少なく良好な特性が得られる点で、接触帯電方式を好
適に採用することができる。
例えば、導電性又は半導電性のローラ、ブラシ、フィル
ム、ゴムブレード等を用いた接触型帯電器、コロナ放電
を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器など
のそれ自体公知の帯電器が挙げられる。本発明において
は、前記帯電手段による帯電方式としては、コロトロン
帯電方式等であってもよいが、帯電ローラーや帯電ブラ
シ等を用いた接触帯電方式においても電流リークの発生
が少なく良好な特性が得られる点で、接触帯電方式を好
適に採用することができる。
【0108】前記像露光手段としては、特に制限はな
く、例えば、前記電子写真感光体表面に、半導体レーザ
光、LED光、液晶シャッタ光等の光源を、所望の像様
に露光できる光学系機器などが挙げられる。
く、例えば、前記電子写真感光体表面に、半導体レーザ
光、LED光、液晶シャッタ光等の光源を、所望の像様
に露光できる光学系機器などが挙げられる。
【0109】前記現像手段としては、特に制限はなく、
例えば、一成分系、二成分系の正規又は反転現像剤を用
いる公知の現像器などが挙げられる。
例えば、一成分系、二成分系の正規又は反転現像剤を用
いる公知の現像器などが挙げられる。
【0110】前記転写手段としては、特に制限はなく、
例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を
用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロ
トロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器などのそれ自
体公知の転写帯電器などが挙げられる。
例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を
用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロ
トロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器などのそれ自
体公知の転写帯電器などが挙げられる。
【0111】前記中間転写体としては、その構造、形
状、材料等について特に制限はなく、公知のものを使用
できる。前記構造としては、例えば、導電性支持体上
に、少なくともゴム、エラストマー、樹脂等から形成さ
れる弾性層と、少なくとも1層の被覆層とを設けてなる
構造などが挙げられる。また、前記形状としては、例え
ば、ローラ形状、ベルト形状などが挙げられる。また、
前記材料としては、例えば、ポリウレタン系樹脂、ポリ
エステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン
系樹脂、ポリブタジエン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポ
リ塩化ビニル系樹脂、ポリエチレン系樹脂、フッ素系樹
脂等に対して、導電性のカーボン粒子や金属粉等を分散
混合させたものなどが挙げられる。
状、材料等について特に制限はなく、公知のものを使用
できる。前記構造としては、例えば、導電性支持体上
に、少なくともゴム、エラストマー、樹脂等から形成さ
れる弾性層と、少なくとも1層の被覆層とを設けてなる
構造などが挙げられる。また、前記形状としては、例え
ば、ローラ形状、ベルト形状などが挙げられる。また、
前記材料としては、例えば、ポリウレタン系樹脂、ポリ
エステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン
系樹脂、ポリブタジエン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポ
リ塩化ビニル系樹脂、ポリエチレン系樹脂、フッ素系樹
脂等に対して、導電性のカーボン粒子や金属粉等を分散
混合させたものなどが挙げられる。
【0112】
【実施例】以下に本発明の実施例について説明するが、
本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるもので
はない。
本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるもので
はない。
【0113】(実施例1)ポリビニルブチラール樹脂
(積水化学社製、エスレックBM−S)4重量部を溶解
したn−ブチルアルコール170重量部、有機ジルコニ
ウム化合物(アセチルアセトンジルコニウムブチレー
ト)30重量部、及び有機シラン化合物の混合物(γ−
アミノプロピルトリメトキシシラン)3重量部を混合し
撹拌し、下引き層塗布液を調製した。
(積水化学社製、エスレックBM−S)4重量部を溶解
したn−ブチルアルコール170重量部、有機ジルコニ
ウム化合物(アセチルアセトンジルコニウムブチレー
ト)30重量部、及び有機シラン化合物の混合物(γ−
アミノプロピルトリメトキシシラン)3重量部を混合し
撹拌し、下引き層塗布液を調製した。
【0114】D50(積算分布50%粒子径)のアルミ
ナ球状微粉末を用いて液体ホーニング処理することによ
り中心線平均粗さがRa=0.18μmに粗面化された
30mmφのED管アルミニウム基体を導電性支持体と
した。このED管アルミニウム基体の上に、浸漬塗布装
置を用いて前記下引き層塗布液の塗布を行ない、150
℃で1時間塗膜の硬化処理を行い、膜厚が1.2μmの
下引き層を形成した。
ナ球状微粉末を用いて液体ホーニング処理することによ
り中心線平均粗さがRa=0.18μmに粗面化された
30mmφのED管アルミニウム基体を導電性支持体と
した。このED管アルミニウム基体の上に、浸漬塗布装
置を用いて前記下引き層塗布液の塗布を行ない、150
℃で1時間塗膜の硬化処理を行い、膜厚が1.2μmの
下引き層を形成した。
【0115】次に、Cukα線を用いたX線回折スペク
トルのブラッグ角7.4°,16.6°,25.5°,
28.3°の位置に明瞭なX線回折ピークを有するジク
ロルガリウムフタロシアニン3重量部を電荷発生材料と
して用い、これと、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体樹脂
(日本ユニカーVMCH)2重量部と、酢酸ブチル18
0重量部とからなる混合物を、サンドミルにて4時間分
散して電荷発生層塗布液を調製した。この電荷発生層塗
布液を、前記下引き層上に浸漬塗布し、乾燥することに
より、膜厚が0.2μmの電荷発生層を形成した。
トルのブラッグ角7.4°,16.6°,25.5°,
28.3°の位置に明瞭なX線回折ピークを有するジク
ロルガリウムフタロシアニン3重量部を電荷発生材料と
して用い、これと、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体樹脂
(日本ユニカーVMCH)2重量部と、酢酸ブチル18
0重量部とからなる混合物を、サンドミルにて4時間分
散して電荷発生層塗布液を調製した。この電荷発生層塗
布液を、前記下引き層上に浸漬塗布し、乾燥することに
より、膜厚が0.2μmの電荷発生層を形成した。
【0116】次に、電荷輸送材料としてのN,N’−ジ
フェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−
[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジアミン(前記
一般式(III) で表されるベンジジン化合物の具体例3−
1)4重量部と、下記一般式で表される繰り返し単位を
有する共重合ポリカーボネート共重合体樹脂1−1(分
子量約4万)6重量部(共重合体成分(A)と(B)と
のモル比((A):(B))は10:90)とを、テト
ラヒドロフラン80重量部、2,6−ジ−t−ブチル−
4−メチルフェノール0.2重量部を加えて溶解して電
荷輸送層塗布液を調製した。この電荷輸送層塗布液を用
いて、これを前記電荷発生層上に塗布し、120℃で4
0分間乾燥を行うことにより、膜厚が25μmの電荷輸
送層を形成した。 共重合ポリカーボネート共重合体樹脂1−1
フェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−
[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジアミン(前記
一般式(III) で表されるベンジジン化合物の具体例3−
1)4重量部と、下記一般式で表される繰り返し単位を
有する共重合ポリカーボネート共重合体樹脂1−1(分
子量約4万)6重量部(共重合体成分(A)と(B)と
のモル比((A):(B))は10:90)とを、テト
ラヒドロフラン80重量部、2,6−ジ−t−ブチル−
4−メチルフェノール0.2重量部を加えて溶解して電
荷輸送層塗布液を調製した。この電荷輸送層塗布液を用
いて、これを前記電荷発生層上に塗布し、120℃で4
0分間乾燥を行うことにより、膜厚が25μmの電荷輸
送層を形成した。 共重合ポリカーボネート共重合体樹脂1−1
【0117】
【化26】
【0118】こうして、前記導電性支持体上に、下引き
層と電荷発生層と電荷輸送層とをこの順に積層してなる
感光層を有する実施例1の電子写真感光体を作製した。
層と電荷発生層と電荷輸送層とをこの順に積層してなる
感光層を有する実施例1の電子写真感光体を作製した。
【0119】得られた電子写真感光体を、接触帯電方式
のプリンター(PC−PR1000/4R、日本電気社
製)に装着した。このプリンターは、実施例1の電子写
真装置である。実施例1のプリンターを用いてプリント
操作を行い、その際における実施例1の電子写真感光体
についての残留電位及び画質を評価した。1万枚のプリ
ントテストを行った後、電子写真感光体における感光層
の摩耗を評価した。更に、その後の画質を調べた。これ
らの結果を表7に示した。
のプリンター(PC−PR1000/4R、日本電気社
製)に装着した。このプリンターは、実施例1の電子写
真装置である。実施例1のプリンターを用いてプリント
操作を行い、その際における実施例1の電子写真感光体
についての残留電位及び画質を評価した。1万枚のプリ
ントテストを行った後、電子写真感光体における感光層
の摩耗を評価した。更に、その後の画質を調べた。これ
らの結果を表7に示した。
【0120】(実施例2〜6及び比較例1〜11)実施
例1において、電荷輸送層塗布液を以下のように代えた
外は実施例1と同様にして電子写真感光体を作製し、実
施例1と同様の評価を行った。結果は、表7にまとめ
た。なお、実施例1と同様に、実施例2〜6で得られた
電子写真感光体を、接触帯電方式のプリンター(PC−
PR1000/4R、日本電気社製)に装着したもの
が、実施例2〜6の電子写真装置である。実施例2〜6
及び比較例1〜11における電荷輸送層塗布液は、表7
に示す電荷輸送材料4重量部と表7に示す共重合ポリカ
ーボネート共重合体樹脂又はポリカーボネート樹脂(分
子量約4万)6重量部とを、テトラヒドロフラン70重
量部、塩化メチレン10重量部、2,6−ジ−t−ブチ
ル−4−メチルフェノール0.2重量部を加えて溶解し
て調製した。
例1において、電荷輸送層塗布液を以下のように代えた
外は実施例1と同様にして電子写真感光体を作製し、実
施例1と同様の評価を行った。結果は、表7にまとめ
た。なお、実施例1と同様に、実施例2〜6で得られた
電子写真感光体を、接触帯電方式のプリンター(PC−
PR1000/4R、日本電気社製)に装着したもの
が、実施例2〜6の電子写真装置である。実施例2〜6
及び比較例1〜11における電荷輸送層塗布液は、表7
に示す電荷輸送材料4重量部と表7に示す共重合ポリカ
ーボネート共重合体樹脂又はポリカーボネート樹脂(分
子量約4万)6重量部とを、テトラヒドロフラン70重
量部、塩化メチレン10重量部、2,6−ジ−t−ブチ
ル−4−メチルフェノール0.2重量部を加えて溶解し
て調製した。
【0121】
【表7】
【0122】なお、表7における「ヒドラゾン」は、4
−(N,N−ジエチルアミノ)ベンズアルデヒド−N,
N−ジフェニルヒドラゾンを意味する。また、表7にお
ける電荷輸送材料の番号は、上述した具体例としての化
合物の番号を意味する。 共重合ポリカーボネート共重合体樹脂1−3
−(N,N−ジエチルアミノ)ベンズアルデヒド−N,
N−ジフェニルヒドラゾンを意味する。また、表7にお
ける電荷輸送材料の番号は、上述した具体例としての化
合物の番号を意味する。 共重合ポリカーボネート共重合体樹脂1−3
【0123】
【化27】
【0124】実施例1〜6における共重合ポリカーボネ
ート共重合体樹脂と電荷輸送材料との組合せの場合に
は、該電子写真感光体は、接触帯電方式のプリンターを
用いてプリントテストを行っても、電子写真感光体のリ
ーク放電などに起因する画質異状は観られなかった。ま
た、電子写真感光体の摩耗も少なく、電子写真感光体の
帯電性低下や残留電位の上昇もなく、安定した電気特性
が得られた。一方、比較例1〜11におけるポリカーボ
ネート樹脂と電荷輸送材料との組合せの場合には、該電
子写真感光体は、摩耗が大きく、暗減衰が上昇し、帯電
性の低下が生じ、低濃度部分に被りが観られた。また、
摩耗により膜厚の低下した部分で接触帯電方式の電子写
真装置からの電流リークがあり、リーク部分を絶縁性物
質で修復して走行を行わざるを得なかった。しかもこの
部分は、画質欠陥となった。
ート共重合体樹脂と電荷輸送材料との組合せの場合に
は、該電子写真感光体は、接触帯電方式のプリンターを
用いてプリントテストを行っても、電子写真感光体のリ
ーク放電などに起因する画質異状は観られなかった。ま
た、電子写真感光体の摩耗も少なく、電子写真感光体の
帯電性低下や残留電位の上昇もなく、安定した電気特性
が得られた。一方、比較例1〜11におけるポリカーボ
ネート樹脂と電荷輸送材料との組合せの場合には、該電
子写真感光体は、摩耗が大きく、暗減衰が上昇し、帯電
性の低下が生じ、低濃度部分に被りが観られた。また、
摩耗により膜厚の低下した部分で接触帯電方式の電子写
真装置からの電流リークがあり、リーク部分を絶縁性物
質で修復して走行を行わざるを得なかった。しかもこの
部分は、画質欠陥となった。
【0125】(実施例7)ポリビニルブチラール樹脂
(積水化学社製、エスレックBM−S)16重量部をシ
クロヘキサノン550重量部を混合し撹拌した。さらに
レゾール型フェノール樹脂(大日本インキ化学社製、フ
ェノライトJ−325)8重量部を加え撹拌した。更
に、この液に酸化チタン顔料60重量部を加え、サンド
グラインドミルにて5時間の分散を行い、下引き層塗布
液を調製した。液体ホーニング処理により中心線平均粗
さRa=0.18μmに粗面化された84mmφのアル
ミニウム基体を導電性支持体として用い、この上に、リ
ング塗布装置を用いて前記下引き層塗布液の塗布を行
い、170℃で1時間の硬化処理を行って膜厚が4μm
の下引き層を形成した。
(積水化学社製、エスレックBM−S)16重量部をシ
クロヘキサノン550重量部を混合し撹拌した。さらに
レゾール型フェノール樹脂(大日本インキ化学社製、フ
ェノライトJ−325)8重量部を加え撹拌した。更
に、この液に酸化チタン顔料60重量部を加え、サンド
グラインドミルにて5時間の分散を行い、下引き層塗布
液を調製した。液体ホーニング処理により中心線平均粗
さRa=0.18μmに粗面化された84mmφのアル
ミニウム基体を導電性支持体として用い、この上に、リ
ング塗布装置を用いて前記下引き層塗布液の塗布を行
い、170℃で1時間の硬化処理を行って膜厚が4μm
の下引き層を形成した。
【0126】次に、Cukα線を用いたX線回折スペク
トルのブラッグ角9.5°,11.7°,15.0°,
24.1°,27.3°の位置に明瞭なX線回折ピーク
を有するチタニルフタロシアニン15重量部を電荷発生
材料として用い、これと、ポリビニルブチラール樹脂
(積水化学社製、エスレックBM−S)10重量部と、
n−ブチルアルコール300重量部とからなる混合物
を、サンドグラインドミルにて4時間分散して電荷発生
層塗布液を調製した。この電荷発生層塗布液を、前記下
引き層上に塗布し、乾燥することにより、膜厚が0.2
μmの電荷発生層を形成した。
トルのブラッグ角9.5°,11.7°,15.0°,
24.1°,27.3°の位置に明瞭なX線回折ピーク
を有するチタニルフタロシアニン15重量部を電荷発生
材料として用い、これと、ポリビニルブチラール樹脂
(積水化学社製、エスレックBM−S)10重量部と、
n−ブチルアルコール300重量部とからなる混合物
を、サンドグラインドミルにて4時間分散して電荷発生
層塗布液を調製した。この電荷発生層塗布液を、前記下
引き層上に塗布し、乾燥することにより、膜厚が0.2
μmの電荷発生層を形成した。
【0127】次に、電荷輸送材料としてのN,N’−ジ
フェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−
[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジアミン(前記
一般式(III) で表されるベンジジン化合物の具体例3−
1)4重量部と、前記共重合ポリカーボネート共重合体
樹脂1−1(分子量約4万)6重量部とを、クロルベン
ゼン80重量部を加えて溶解して電荷輸送層塗布液を調
製した。この電荷輸送層塗布液を用い、これを前記電荷
発生層上に塗布し、乾燥することにより、膜厚が27μ
mの電荷輸送層を形成した。こうして、前記導電性支持
体上に、下引き層と電荷発生層と電荷輸送層とをこの順
に積層してなる感光層を有する実施例7の電子写真感光
体を作製した。
フェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−
[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジアミン(前記
一般式(III) で表されるベンジジン化合物の具体例3−
1)4重量部と、前記共重合ポリカーボネート共重合体
樹脂1−1(分子量約4万)6重量部とを、クロルベン
ゼン80重量部を加えて溶解して電荷輸送層塗布液を調
製した。この電荷輸送層塗布液を用い、これを前記電荷
発生層上に塗布し、乾燥することにより、膜厚が27μ
mの電荷輸送層を形成した。こうして、前記導電性支持
体上に、下引き層と電荷発生層と電荷輸送層とをこの順
に積層してなる感光層を有する実施例7の電子写真感光
体を作製した。
【0128】得られた電子写真感光体を、中間転写体を
備える接触帯電方式のカラー複写機(富士ゼロックス社
製、Acolor−635)に装着した。このプリンタ
ーは、実施例1の電子写真装置である。実施例7のプリ
ンターを用いて光量を調整し、プリント操作を行い、そ
の際における実施例7の電子写真感光体についての画質
を調べた。これらの結果を表8に示した。
備える接触帯電方式のカラー複写機(富士ゼロックス社
製、Acolor−635)に装着した。このプリンタ
ーは、実施例1の電子写真装置である。実施例7のプリ
ンターを用いて光量を調整し、プリント操作を行い、そ
の際における実施例7の電子写真感光体についての画質
を調べた。これらの結果を表8に示した。
【0129】(実施例8〜12)実施例7において、電
荷輸送層塗布液を以下のように代えた外は実施例7と同
様にして電子写真感光体を作製し、実施例7と同様の評
価を行った。結果は、表8にまとめた。なお、実施例7
と同様に、実施例8〜12で得られた電子写真感光体
を、接触帯電方式のプリンター(PC−PR1000/
4R、日本電気社製)に装着したものが、実施例8〜1
2の電子写真装置である。
荷輸送層塗布液を以下のように代えた外は実施例7と同
様にして電子写真感光体を作製し、実施例7と同様の評
価を行った。結果は、表8にまとめた。なお、実施例7
と同様に、実施例8〜12で得られた電子写真感光体
を、接触帯電方式のプリンター(PC−PR1000/
4R、日本電気社製)に装着したものが、実施例8〜1
2の電子写真装置である。
【0130】
【表8】
【0131】なお、表8における「ヒドラゾン」は、4
−(N,N−ジエチルアミノ)ベンズアルデヒド−N,
N−ジフェニルヒドラゾンを意味する。また、表8にお
ける電荷輸送物質の番号は、上述した具体例としての化
合物の番号を意味する。 共重合ポリカーボネート共重合体樹脂1−2
−(N,N−ジエチルアミノ)ベンズアルデヒド−N,
N−ジフェニルヒドラゾンを意味する。また、表8にお
ける電荷輸送物質の番号は、上述した具体例としての化
合物の番号を意味する。 共重合ポリカーボネート共重合体樹脂1−2
【0132】
【化28】
【0133】(実施例13)ポリエチレンテレフタレー
トフィルム表面上にアルミニウムの蒸着膜を設けた導電
性支持体上(東レ社製、メタルミー)に、ポリアミド樹
脂10重量部、メチルアルコール150重量部及び水4
0重量部からなる下引き層塗布液をバーコーターを用い
て塗布し、乾燥することにより、膜厚が1μmの下引き
層を形成した。
トフィルム表面上にアルミニウムの蒸着膜を設けた導電
性支持体上(東レ社製、メタルミー)に、ポリアミド樹
脂10重量部、メチルアルコール150重量部及び水4
0重量部からなる下引き層塗布液をバーコーターを用い
て塗布し、乾燥することにより、膜厚が1μmの下引き
層を形成した。
【0134】次に、Cukα線を用いたX線回折スペク
トルのブラッグ角7.5°,9.9°,12.5°,1
6.3°,18.6°,25.1°,28.1°の位置
に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニ
ン9重量部、ポリビニルブチラール樹脂(積水化学社
製、エスレックBM−1)2重量部、n−ブチルアルコ
ール30重量部からなる混合物をボールミルポットにと
り、ミル部材として1/8インチΦのSUSボールを使
用して60時間ミリングをした後、更にn−ブチルアル
コール30重量部を加えて、これを希釈し撹拌すること
により調製した電荷発生層塗布液を、前記下引き層上に
塗布し乾燥することにより、膜厚が0.3μmの電荷発
生層を形成した。
トルのブラッグ角7.5°,9.9°,12.5°,1
6.3°,18.6°,25.1°,28.1°の位置
に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニ
ン9重量部、ポリビニルブチラール樹脂(積水化学社
製、エスレックBM−1)2重量部、n−ブチルアルコ
ール30重量部からなる混合物をボールミルポットにと
り、ミル部材として1/8インチΦのSUSボールを使
用して60時間ミリングをした後、更にn−ブチルアル
コール30重量部を加えて、これを希釈し撹拌すること
により調製した電荷発生層塗布液を、前記下引き層上に
塗布し乾燥することにより、膜厚が0.3μmの電荷発
生層を形成した。
【0135】次に、電荷輸送材料としてのN,N’−ジ
フェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−
[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジアミン(前記
一般式(III) で表されるベンジジン化合物の具体例3−
1)4重量部と、前記共重合ポリカーボネート共重合体
樹脂1−1(分子量約4万)6重量部とを、塩化メチレ
ン55重量部を加えて溶解して電荷輸送層塗布液を調製
した。この電荷輸送層塗布液を用い、これを前記電荷発
生層上に塗布し、乾燥することにより、膜厚が27μm
の電荷輸送層を形成した。
フェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−
[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジアミン(前記
一般式(III) で表されるベンジジン化合物の具体例3−
1)4重量部と、前記共重合ポリカーボネート共重合体
樹脂1−1(分子量約4万)6重量部とを、塩化メチレ
ン55重量部を加えて溶解して電荷輸送層塗布液を調製
した。この電荷輸送層塗布液を用い、これを前記電荷発
生層上に塗布し、乾燥することにより、膜厚が27μm
の電荷輸送層を形成した。
【0136】得られた電子写真感光体における感光層塗
膜を、前記導電性支持体上から剥離し、折り曲げ強度試
験機を用いて5000回までの折り曲げ繰り返し試験を
実施した。また、得られた電子写真感光体をベルト状に
加工し、ベルト回転駆動装置を有する接触帯電方式の複
写機(富士ゼロックス社製、Vivace 800)に
装着した。この複写機は、実施例13の電子写真装置で
ある。実施例13の複写機を用いて10万サイクルまで
のコピー走行試験を実施した。結果を表9に示した。
膜を、前記導電性支持体上から剥離し、折り曲げ強度試
験機を用いて5000回までの折り曲げ繰り返し試験を
実施した。また、得られた電子写真感光体をベルト状に
加工し、ベルト回転駆動装置を有する接触帯電方式の複
写機(富士ゼロックス社製、Vivace 800)に
装着した。この複写機は、実施例13の電子写真装置で
ある。実施例13の複写機を用いて10万サイクルまで
のコピー走行試験を実施した。結果を表9に示した。
【0137】(実施例14)実施例13において、共重
合ポリカーボネート共重合体樹脂1−1を共重合ポリカ
ーボネート共重合体樹脂1−2に代えた外は実施例13
と同様にして電子写真感光体を作製し、実施例13と同
様の評価を行った。結果を表9に示した。
合ポリカーボネート共重合体樹脂1−1を共重合ポリカ
ーボネート共重合体樹脂1−2に代えた外は実施例13
と同様にして電子写真感光体を作製し、実施例13と同
様の評価を行った。結果を表9に示した。
【0138】(比較例23)実施例13において、共重
合ポリカーボネート共重合体樹脂1−1をビスフェノー
ル(A)ポリカーボネート樹脂に代えた外は実施例13
と同様にして電子写真感光体を作製し、実施例13と同
様の評価を行った。結果を表9に示した。
合ポリカーボネート共重合体樹脂1−1をビスフェノー
ル(A)ポリカーボネート樹脂に代えた外は実施例13
と同様にして電子写真感光体を作製し、実施例13と同
様の評価を行った。結果を表9に示した。
【0139】(比較例24)実施例13において、共重
合ポリカーボネート共重合体樹脂1−1をビスフェノー
ル(AF)ポリカーボネート樹脂に代えた外は実施例1
3と同様にして電子写真感光体を作製し実施例13と同
様の評価を行った。結果を表9に示した。
合ポリカーボネート共重合体樹脂1−1をビスフェノー
ル(AF)ポリカーボネート樹脂に代えた外は実施例1
3と同様にして電子写真感光体を作製し実施例13と同
様の評価を行った。結果を表9に示した。
【0140】
【表9】
【0141】
【発明の効果】本発明によると、前記従来における諸問
題を解決することができる。また、本発明によると、高
い耐摩耗性を有し、接触帯電方式の電子写真装置に用い
ても高い耐久性を有する電子写真感光体を提供すること
ができる。また、本発明によると、感光層塗膜の表面
が、高い折り曲げ強度を有し、ベルト状の電子写真感光
体として繰り返し使用した場合にも、塗膜中に亀裂など
の欠陥の発生がなく、耐磨耗性・耐久性に優れ、被りや
黒点の発生等の画像欠陥を招くことがない電子写真感光
体、及び該電子写真感光体を用いることにより、画像欠
陥のない高品質の画像を長期間にわたって安定にかつ簡
便に得ることができる電子写真装置を提供することがで
きる。
題を解決することができる。また、本発明によると、高
い耐摩耗性を有し、接触帯電方式の電子写真装置に用い
ても高い耐久性を有する電子写真感光体を提供すること
ができる。また、本発明によると、感光層塗膜の表面
が、高い折り曲げ強度を有し、ベルト状の電子写真感光
体として繰り返し使用した場合にも、塗膜中に亀裂など
の欠陥の発生がなく、耐磨耗性・耐久性に優れ、被りや
黒点の発生等の画像欠陥を招くことがない電子写真感光
体、及び該電子写真感光体を用いることにより、画像欠
陥のない高品質の画像を長期間にわたって安定にかつ簡
便に得ることができる電子写真装置を提供することがで
きる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G03G 5/06 371 G03G 5/06 371 (72)発明者 宮本 昌彦 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社内
Claims (13)
- 【請求項1】 導電性支持体上に感光層を設けてなる電
子写真感光体において、該感光層が、下記一般式(I)
で表される繰り返し単位及び下記一般式(II)で表され
る繰り返し単位を有する共重合ポリカーボネート共重合
体樹脂と、トリフェニルアミン化合物とを含有すること
を特徴とする電子写真感光体。 一般式(I) 【化1】 一般式(I)にいおいて、R1 、R2 、R3 、R4 、R
5 、R6 、R7 及びR 8 は、水素原子、ハロゲン原子、
炭素数1〜5のアルキル基、炭素数6〜12のアリール
基、炭素数2〜5のアルケニル基、炭素数1〜5のアル
コキシ基又は炭素数7〜17のアラルキル基を表し、こ
れらの基は、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5
のアルケニル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、ハロゲ
ン原子又はジメチルポリシロキシ基で置換されていても
よい。Xは、下記に示すいずれかの2価の結合基を表
す。 【化2】 これらの2価の結合基において、a、b及びcは、0〜
20の整数を表す。 一般式(II) 【化3】 一般式(II)において、R9 、R10、R11及びR12は、
水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜5のアルキル基、
炭素数6〜12のアリール基、炭素数2〜5のアルケニ
ル基、炭素数1〜5のアルコキシ基又は炭素数7〜17
のアラルキル基を表し、これらの基は、炭素数1〜5の
アルキル基、炭素数1〜5のアルケニル基、炭素数1〜
5のアルコキシ基、ハロゲン原子又はジメチルポリシロ
キシ基で置換されていてもよい。Yは、下記に示すいず
れかの2価の結合基を表す。 【化4】 これらの2価の結合基において、R13、R14、R15及び
R16は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜5のアル
キル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数2〜5の
アルケニル基、炭素数1〜5のアルコキシ基又は炭素数
7〜17のアラルキル基を表し、これらの基は、炭素数
1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルケニル基、炭
素数1〜5のアルコキシ基、ハロゲン原子又はジメチル
ポリシロキシ基で置換されていてもよい。cは、0〜2
0の整数を表す。dは、1〜100の整数を表す。e
は、0〜20の整数を表す。fは、0〜20の整数を表
す。gは、1〜100の整数を表す。 - 【請求項2】 感光層が複数の層に形成され、該感光層
における少なくとも最上層が、前記一般式(I)で表さ
れる繰り返し単位及び前記一般式(II)で表される繰り
返し単位を有する共重合ポリカーボネート共重合体樹脂
を含有する請求項1に記載の電子写真感光体。 - 【請求項3】 感光層が、電荷輸送層と電荷発生層とを
含む請求項1又は2に記載の電子写真感光体。 - 【請求項4】 電荷輸送層が、トリフェニルアミン化合
物を含有する請求項3に記載の電子写真感光体。 - 【請求項5】 トリフェニルアミン化合物が、下記一般
式(III) で表されるベンジジン化合物である請求項1か
ら4のいずれかに記載の電子写真感光体。 一般式(III) 【化5】 一般式(III) において、R1 及びR1'は、水素原子、ア
ルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子を表し、互い
に同一であってもよいし異なっていてもよい。R2 、R
2'、R3 及びR3'は、水素原子、アルキル基、アルコキ
シ基、ハロゲン原子又は置換アミノ基を表し、互いに同
一であってもよいし異なっていてもよい。m、m’、n
及びn’は、1又は2の整数を表す。 - 【請求項6】 トリフェニルアミン化合物が、下記一般
式(IV)で表されるトリアリールアミン化合物である請求
項1から4のいずれかに記載の電子写真感光体。 一般式(IV) 【化6】 一般式(IV)において、R1 及びR2 は、水素原子、アル
キル基、アルコキシ基又はハロゲン原子を表し、互いに
同一であってもよいし異なっていてもよい。R 3 は、水
素原子、炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数6〜12
のアリール基を表し、互いに同一であってもよいし異な
っていてもよい。m及びnは、1又は2の整数を表す。 - 【請求項7】 感光層が、更にフタロシアニン化合物を
含有する請求項1から6のいずれかに記載の電子写真感
光体。 - 【請求項8】 電荷発生層が、フタロシアニン化合物を
含有する請求項7に記載の電子写真感光体。 - 【請求項9】 フタロシアニン化合物が、ジクロルガリ
ウムフタロシアニンである請求項7又は8に記載の電子
写真感光体。 - 【請求項10】 フタロシアニン化合物が、ヒドロキシ
ガリウムフタロシアニンである請求項7又は8に記載の
電子写真感光体。 - 【請求項11】 フタロシアニン化合物が、チタニルフ
タロシアニンである請求項7又は8に記載の電子写真感
光体。 - 【請求項12】 請求項1から11のいずれかに記載の
電子写真感光体を備えたことを特徴とする電子写真装
置。 - 【請求項13】 帯電方式が接触帯電方式である請求項
12に記載の電子写真装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9088379A JPH10282690A (ja) | 1997-04-07 | 1997-04-07 | 電子写真感光体及び電子写真装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9088379A JPH10282690A (ja) | 1997-04-07 | 1997-04-07 | 電子写真感光体及び電子写真装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10282690A true JPH10282690A (ja) | 1998-10-23 |
Family
ID=13941168
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9088379A Pending JPH10282690A (ja) | 1997-04-07 | 1997-04-07 | 電子写真感光体及び電子写真装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10282690A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014178630A (ja) * | 2013-03-15 | 2014-09-25 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体、及び該電子写真感光体を用いた画像形成方法、画像形成用プロセスカートリッジ |
| JP2015143985A (ja) * | 2013-12-27 | 2015-08-06 | 三菱化学株式会社 | 静電容量型タッチパネル |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05257310A (ja) * | 1992-03-13 | 1993-10-08 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体 |
| JPH06138681A (ja) * | 1992-10-29 | 1994-05-20 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体 |
| JPH07261426A (ja) * | 1994-03-23 | 1995-10-13 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体 |
| JPH07271062A (ja) * | 1994-03-31 | 1995-10-20 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体 |
| JPH07331107A (ja) * | 1994-06-06 | 1995-12-19 | Fuji Xerox Co Ltd | ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶及びそれを用いた電子写真感光体 |
| JPH08311193A (ja) * | 1995-05-22 | 1996-11-26 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 電子写真感光体バインダー用コポリカーボネート重合体 およびその製造方法 |
| JPH0934139A (ja) * | 1995-07-18 | 1997-02-07 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真用感光体 |
| JPH0959365A (ja) * | 1995-08-25 | 1997-03-04 | Fuji Xerox Co Ltd | 電荷輸送性樹脂の精製方法、それを利用した電子写真感光体および電子写真装置 |
-
1997
- 1997-04-07 JP JP9088379A patent/JPH10282690A/ja active Pending
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05257310A (ja) * | 1992-03-13 | 1993-10-08 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体 |
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| JPH08311193A (ja) * | 1995-05-22 | 1996-11-26 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 電子写真感光体バインダー用コポリカーボネート重合体 およびその製造方法 |
| JPH0934139A (ja) * | 1995-07-18 | 1997-02-07 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真用感光体 |
| JPH0959365A (ja) * | 1995-08-25 | 1997-03-04 | Fuji Xerox Co Ltd | 電荷輸送性樹脂の精製方法、それを利用した電子写真感光体および電子写真装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014178630A (ja) * | 2013-03-15 | 2014-09-25 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体、及び該電子写真感光体を用いた画像形成方法、画像形成用プロセスカートリッジ |
| JP2015143985A (ja) * | 2013-12-27 | 2015-08-06 | 三菱化学株式会社 | 静電容量型タッチパネル |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040116 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040309 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040510 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040615 |