JPH10282701A - 電子写真感光体 - Google Patents
電子写真感光体Info
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- JPH10282701A JPH10282701A JP10398797A JP10398797A JPH10282701A JP H10282701 A JPH10282701 A JP H10282701A JP 10398797 A JP10398797 A JP 10398797A JP 10398797 A JP10398797 A JP 10398797A JP H10282701 A JPH10282701 A JP H10282701A
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 優れた電子写真感度及び高い耐摩耗性を有す
る共晶錯体感光層を形成した感光体を提供すること。更
に詳しくは、正帯電時に特に優れた電子写真感度を有す
る感光体を提供すること。また、本発明の他の目的は、
容易に製造でき、低コストな感光体を提供すること。 【解決手段】 導電性支持体上にピリリウム系染料とト
リアリールアミン構造を主鎖及び/又は側鎖に含むポリ
カーボネートを主成分とする共晶錯体を含む光導電層が
設けられていることを特徴とする電子写真感光体。
る共晶錯体感光層を形成した感光体を提供すること。更
に詳しくは、正帯電時に特に優れた電子写真感度を有す
る感光体を提供すること。また、本発明の他の目的は、
容易に製造でき、低コストな感光体を提供すること。 【解決手段】 導電性支持体上にピリリウム系染料とト
リアリールアミン構造を主鎖及び/又は側鎖に含むポリ
カーボネートを主成分とする共晶錯体を含む光導電層が
設けられていることを特徴とする電子写真感光体。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子写真感光体に
関し、複写機、レーザプリンタ、レーザファクシミリ等
に好適に利用される。
関し、複写機、レーザプリンタ、レーザファクシミリ等
に好適に利用される。
【0002】
【従来の技術】電子写真方法としては、カールソンプロ
セスやその他種々の変形プロセスなどが知られており、
複写機やプリンタなどに広く使用されている。このよう
な電子写真方法に用いられる感光体の中でも、有機系の
感光材料を用いたものが、安価、大量生産性、無公害性
などをメリットとして、近年使用されている。
セスやその他種々の変形プロセスなどが知られており、
複写機やプリンタなどに広く使用されている。このよう
な電子写真方法に用いられる感光体の中でも、有機系の
感光材料を用いたものが、安価、大量生産性、無公害性
などをメリットとして、近年使用されている。
【0003】有機系の電子写真感光体には、ポリビニル
カルバゾール(PVK)に代表される光導電性樹脂、P
VK−TNF(2,4,7−トリニトロフルオレノン)
に代表される電荷移動錯体型、フタロシアニン−バイン
ダーに代表される顔料分散型、電荷発生物質と電荷輸送
物質とを組み合わせて用いる機能分離型の感光体などが
知られている。
カルバゾール(PVK)に代表される光導電性樹脂、P
VK−TNF(2,4,7−トリニトロフルオレノン)
に代表される電荷移動錯体型、フタロシアニン−バイン
ダーに代表される顔料分散型、電荷発生物質と電荷輸送
物質とを組み合わせて用いる機能分離型の感光体などが
知られている。
【0004】近年、コスト面などから単層感光層の感光
体が見直されている。ここまでに、単層感光層として
は、バインダー樹脂に電荷輸送物質と電荷発生物質を分
散したもの、共晶錯体型感光層などが提案されている。
特にピリリウム系染料と電気絶縁性重合体とからなる共
晶錯体及び必要あれば、トリフェニルメタン系増感剤を
加えた組成物を光導電層とした電子写真用感光体が公知
である(例えば、特公昭46−22518号公報、特公
昭46−22519号公報、特公昭51−1129号公
報、特開昭47−10785号公報、特開昭51−88
226号公報、特開昭51−93324号公報、特開昭
53−87227号公報等)。これら感光体は、実用上
差し支えない程度の電子写真感度は持っているが、満足
のいく特性には至っていない。これらを改良するため
に、増感剤の検討が行なわれ、比較的高感度の感光体が
作製されている(例えば、特開昭63−206760号
公報、特開昭63−213851号公報、特開昭63−
213853号公報等)。
体が見直されている。ここまでに、単層感光層として
は、バインダー樹脂に電荷輸送物質と電荷発生物質を分
散したもの、共晶錯体型感光層などが提案されている。
特にピリリウム系染料と電気絶縁性重合体とからなる共
晶錯体及び必要あれば、トリフェニルメタン系増感剤を
加えた組成物を光導電層とした電子写真用感光体が公知
である(例えば、特公昭46−22518号公報、特公
昭46−22519号公報、特公昭51−1129号公
報、特開昭47−10785号公報、特開昭51−88
226号公報、特開昭51−93324号公報、特開昭
53−87227号公報等)。これら感光体は、実用上
差し支えない程度の電子写真感度は持っているが、満足
のいく特性には至っていない。これらを改良するため
に、増感剤の検討が行なわれ、比較的高感度の感光体が
作製されている(例えば、特開昭63−206760号
公報、特開昭63−213851号公報、特開昭63−
213853号公報等)。
【0005】ところが、これら感光体の感光層は低分子
電荷輸送物質を中心とした増感剤が、感光層中に分散さ
れて使用されている。このため、一般に柔らかく、カー
ルソンプロセスにおいては繰り返し使用による膜削れを
生じやすいという欠点がある。この点の改良が望まれて
いた。
電荷輸送物質を中心とした増感剤が、感光層中に分散さ
れて使用されている。このため、一般に柔らかく、カー
ルソンプロセスにおいては繰り返し使用による膜削れを
生じやすいという欠点がある。この点の改良が望まれて
いた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、優れ
た電子写真感度及び高い耐摩耗性を有する共晶錯体感光
層を形成した感光体を提供することにある。更に詳しく
は、正帯電時に特に優れた電子写真感度を有する感光体
を提供することにある。本発明の他の目的は、容易に製
造でき、低コストな感光体を提供することにある。
た電子写真感度及び高い耐摩耗性を有する共晶錯体感光
層を形成した感光体を提供することにある。更に詳しく
は、正帯電時に特に優れた電子写真感度を有する感光体
を提供することにある。本発明の他の目的は、容易に製
造でき、低コストな感光体を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記のような課題は、本
発明の(1)「導電性支持体上にピリリウム系染料とト
リアリールアミン構造を主鎖及び/又は側鎖に含むポリ
カーボネートを主成分とする共晶錯体を含む光導電層が
設けられていることを特徴とする電子写真感光体。」に
より解決される。また、(2)「導電性支持体上にピリ
リウム系染料と下記(1)式で表わされる高分子電荷輸
送物質を主成分とする共晶錯体を含む光導電層が設けら
れていることを特徴とする電子写真感光体。
発明の(1)「導電性支持体上にピリリウム系染料とト
リアリールアミン構造を主鎖及び/又は側鎖に含むポリ
カーボネートを主成分とする共晶錯体を含む光導電層が
設けられていることを特徴とする電子写真感光体。」に
より解決される。また、(2)「導電性支持体上にピリ
リウム系染料と下記(1)式で表わされる高分子電荷輸
送物質を主成分とする共晶錯体を含む光導電層が設けら
れていることを特徴とする電子写真感光体。
【0008】
【化24】 式中、R1、R2、R3はそれぞれ独立して置換若しくは
無置換のアルキル基又はハロゲン原子、R4は水素原子
又は置換若しくは無置換のアルキル基、R5、R6は置換
若しくは無置換のアリール基、o、p、qはそれぞれ独
立して0〜4の整数、k、jは組成を表わし、0.1≦
k≦1、0≦j≦0.9、nは繰り返し単位数を表わし
5〜5000の整数である。Xは脂肪族の2価基、環状
脂肪族の2価基、又は下記一般式で表わされる2価基を
表わす。
無置換のアルキル基又はハロゲン原子、R4は水素原子
又は置換若しくは無置換のアルキル基、R5、R6は置換
若しくは無置換のアリール基、o、p、qはそれぞれ独
立して0〜4の整数、k、jは組成を表わし、0.1≦
k≦1、0≦j≦0.9、nは繰り返し単位数を表わし
5〜5000の整数である。Xは脂肪族の2価基、環状
脂肪族の2価基、又は下記一般式で表わされる2価基を
表わす。
【0009】
【化25】 式中、R101、R102は各々独立して置換若しくは無置換
のアルキル基、アリール基又はハロゲン原子を表わす。
l、mは0〜4の整数、Yは単結合、炭素原子数1〜1
2の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキレン基、−O
−、−S−、−SO−、−SO2−、−CO−、−CO
−O−Z−O−CO−(式中Zは脂肪族の2価基を表わ
す。)または、
のアルキル基、アリール基又はハロゲン原子を表わす。
l、mは0〜4の整数、Yは単結合、炭素原子数1〜1
2の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキレン基、−O
−、−S−、−SO−、−SO2−、−CO−、−CO
−O−Z−O−CO−(式中Zは脂肪族の2価基を表わ
す。)または、
【0010】
【化26】 (式中、aは1〜20の整数、bは1〜2000の整
数、R103、R104は置換又は無置換のアルキル基又はア
リール基を表わす。)を表わす。ここで、R101と
R102、R103とR104は、それぞれ同一でも異なっても
よい。」、(3)導電性支持体上にピリリウム系染料と
下記(2)式で表わされる高分子電荷輸送物質を主成分
とする共晶錯体を含む光導電層が設けられていることを
特徴とする電子写真感光体。
数、R103、R104は置換又は無置換のアルキル基又はア
リール基を表わす。)を表わす。ここで、R101と
R102、R103とR104は、それぞれ同一でも異なっても
よい。」、(3)導電性支持体上にピリリウム系染料と
下記(2)式で表わされる高分子電荷輸送物質を主成分
とする共晶錯体を含む光導電層が設けられていることを
特徴とする電子写真感光体。
【0011】
【化27】 式中、R7、R8は置換若しくは無置換のアリール基、A
r1、Ar2、Ar3は同一又は異なるアリレン基を表わ
す。X、k、j及びnは、上記(1)式の場合と同じで
ある。」、(4)「導電性支持体上にピリリウム系染料
と下記(3)式で表わされる高分子電荷輸送物質を主成
分とする共晶錯体を含む光導電層が設けられていること
を特徴とする電子写真感光体。
r1、Ar2、Ar3は同一又は異なるアリレン基を表わ
す。X、k、j及びnは、上記(1)式の場合と同じで
ある。」、(4)「導電性支持体上にピリリウム系染料
と下記(3)式で表わされる高分子電荷輸送物質を主成
分とする共晶錯体を含む光導電層が設けられていること
を特徴とする電子写真感光体。
【0012】
【化28】 式中、R9、R10は置換若しくは無置換のアリール基、
Ar4、Ar5、Ar6は同一又は異なるアリレン基を表
わす。X、k、j及びnは、上記(1)式の場合と同じ
である。」、(5)「導電性支持体上にピリリウム系染
料と下記(4)式で表わされる高分子電荷輸送物質を主
成分とする共晶錯体を含む光導電層が設けられているこ
とを特徴とする電子写真感光体。
Ar4、Ar5、Ar6は同一又は異なるアリレン基を表
わす。X、k、j及びnは、上記(1)式の場合と同じ
である。」、(5)「導電性支持体上にピリリウム系染
料と下記(4)式で表わされる高分子電荷輸送物質を主
成分とする共晶錯体を含む光導電層が設けられているこ
とを特徴とする電子写真感光体。
【0013】
【化29】 式中、R11、R12は置換若しくは無置換のアリール基、
Ar7、Ar8、Ar9は同一又は異なるアリレン基、p
は1〜5の整数を表わす。X、k、j及びnは、上記
(1)式の場合と同じである。」、(6)「導電性支持
体上にピリリウム系染料と下記(5)式で表わされる高
分子電荷輸送物質を主成分とする共晶錯体を含む光導電
層が設けられていることを特徴とする電子写真感光体。
Ar7、Ar8、Ar9は同一又は異なるアリレン基、p
は1〜5の整数を表わす。X、k、j及びnは、上記
(1)式の場合と同じである。」、(6)「導電性支持
体上にピリリウム系染料と下記(5)式で表わされる高
分子電荷輸送物質を主成分とする共晶錯体を含む光導電
層が設けられていることを特徴とする電子写真感光体。
【0014】
【化30】 式中、R13、R14は置換若しくは無置換のアリール基、
Ar10、Ar11、Ar12は同一又は異なるアリレン基、
X1、X2は置換若しくは無置換のエチレン基、又は置換
若しくは無置換のビニレン基を表わす。X、k、j及び
nは、上記(1)式の場合と同じである。」、(7)
「導電性支持体上にピリリウム系染料と下記(6)式で
表わされる高分子電荷輸送物質を主成分とする共晶錯体
を含む光導電層が設けられていることを特徴とする電子
写真感光体。
Ar10、Ar11、Ar12は同一又は異なるアリレン基、
X1、X2は置換若しくは無置換のエチレン基、又は置換
若しくは無置換のビニレン基を表わす。X、k、j及び
nは、上記(1)式の場合と同じである。」、(7)
「導電性支持体上にピリリウム系染料と下記(6)式で
表わされる高分子電荷輸送物質を主成分とする共晶錯体
を含む光導電層が設けられていることを特徴とする電子
写真感光体。
【0015】
【化31】 式中、R15、R16、R17、R18は置換若しくは無置換の
アリール基、Ar13、Ar14、Ar15、Ar16は同一又
は異なるアリレン基、Y1、Y2、Y3は単結合、置換若
しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置換のシ
クロアルキレン基、置換若しくは無置換のアルキレンエ
ーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表わし同
一であっても異なってもよい。X、k、j及びnは、上
記(1)式の場合と同じである。」、(8)「導電性支
持体上にピリリウム系染料と下記(7)式で表わされる
高分子電荷輸送物質を主成分とする共晶錯体を含む光導
電層が設けられていることを特徴とする電子写真感光
体。
アリール基、Ar13、Ar14、Ar15、Ar16は同一又
は異なるアリレン基、Y1、Y2、Y3は単結合、置換若
しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置換のシ
クロアルキレン基、置換若しくは無置換のアルキレンエ
ーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表わし同
一であっても異なってもよい。X、k、j及びnは、上
記(1)式の場合と同じである。」、(8)「導電性支
持体上にピリリウム系染料と下記(7)式で表わされる
高分子電荷輸送物質を主成分とする共晶錯体を含む光導
電層が設けられていることを特徴とする電子写真感光
体。
【0016】
【化32】 式中、R19、R20は水素原子、置換若しくは無置換のア
リール基を表わし、R19とR20は環を形成していてもよ
い。Ar17、Ar18、Ar19は同一又は異なるアリレン
基を表わす。X、k、j及びnは、上記(1)式の場合
と同じである。」、(9)「導電性支持体上にピリリウ
ム系染料と下記(8)式で表わされる高分子電荷輸送物
質を主成分とする共晶錯体を含む光導電層が設けられて
いることを特徴とする電子写真感光体。
リール基を表わし、R19とR20は環を形成していてもよ
い。Ar17、Ar18、Ar19は同一又は異なるアリレン
基を表わす。X、k、j及びnは、上記(1)式の場合
と同じである。」、(9)「導電性支持体上にピリリウ
ム系染料と下記(8)式で表わされる高分子電荷輸送物
質を主成分とする共晶錯体を含む光導電層が設けられて
いることを特徴とする電子写真感光体。
【0017】
【化33】 式中、R21は置換若しくは無置換のアリール基、A
r20、Ar21、Ar22、Ar23は同一又は異なるアリレ
ン基を表わす。X、k、j及びnは、上記(1)式の場
合と同じである。」、(10)「導電性支持体上にピリ
リウム系染料と下記(9)式で表わされる高分子電荷輸
送物質を主成分とする共晶錯体を含む光導電層が設けら
れていることを特徴とする電子写真感光体。
r20、Ar21、Ar22、Ar23は同一又は異なるアリレ
ン基を表わす。X、k、j及びnは、上記(1)式の場
合と同じである。」、(10)「導電性支持体上にピリ
リウム系染料と下記(9)式で表わされる高分子電荷輸
送物質を主成分とする共晶錯体を含む光導電層が設けら
れていることを特徴とする電子写真感光体。
【0018】
【化34】 式中、R22、R23、R24、R25は置換若しくは無置換の
アリール基、Ar24、Ar25、Ar26、Ar27、Ar28
は同一又は異なるアリレン基を表わす。X、k、j及び
nは、上記(1)式の場合と同じである。」、(11)
「導電性支持体上にピリリウム系染料と下記(10)式
で表わされる高分子電荷輸送物質を主成分とする共晶錯
体を含む光導電層が設けられていることを特徴とする電
子写真感光体。
アリール基、Ar24、Ar25、Ar26、Ar27、Ar28
は同一又は異なるアリレン基を表わす。X、k、j及び
nは、上記(1)式の場合と同じである。」、(11)
「導電性支持体上にピリリウム系染料と下記(10)式
で表わされる高分子電荷輸送物質を主成分とする共晶錯
体を含む光導電層が設けられていることを特徴とする電
子写真感光体。
【0019】
【化35】 式中、R26、R27は置換若しくは無置換のアリール基、
Ar29、Ar30、Ar 31は同一又は異なるアリレン基を
表わす。X、k、j及びnは、上記(1)式の場合と同
じである。」によって達成される。
Ar29、Ar30、Ar 31は同一又は異なるアリレン基を
表わす。X、k、j及びnは、上記(1)式の場合と同
じである。」によって達成される。
【0020】また、(12)「前記光導電層中に低分子
電荷輸送物質を含有することを特徴とする前記(1)〜
(11)項のうち何れか1に記載の電子写真感光体。」
によって達成される。
電荷輸送物質を含有することを特徴とする前記(1)〜
(11)項のうち何れか1に記載の電子写真感光体。」
によって達成される。
【0021】更にまた、(13)「前記光導電層中に下
記(11)式で表わされる低分子電荷輸送物質を含有す
ることを特徴とする前記(12)項に記載の電子写真感
光体。
記(11)式で表わされる低分子電荷輸送物質を含有す
ることを特徴とする前記(12)項に記載の電子写真感
光体。
【0022】
【化36】 式中、R201、R202、R203及びR204は水素原子、置換
若しくは無置換の低級アルキル基、置換若しくは無置換
のアリール基を表わし、Ar101は置換若しくは無置換
のアリール基を表わし、Ar102は置換若しくは無置換
のアリーレン基を表わし、Ar101とR201は共同で環を
形成してもよく、また、n1は0又は1の整数であ
る。」、(14)「前記光導電層中に下記(12)式で
表わされる低分子電荷輸送物質を含有することを特徴と
する前記(12)項に記載の電子写真感光体。
若しくは無置換の低級アルキル基、置換若しくは無置換
のアリール基を表わし、Ar101は置換若しくは無置換
のアリール基を表わし、Ar102は置換若しくは無置換
のアリーレン基を表わし、Ar101とR201は共同で環を
形成してもよく、また、n1は0又は1の整数であ
る。」、(14)「前記光導電層中に下記(12)式で
表わされる低分子電荷輸送物質を含有することを特徴と
する前記(12)項に記載の電子写真感光体。
【0023】
【化37】 式中、R205は低級アルキル基、低級アルコキシ基又は
ハロゲン原子を表わし、n2は0〜4の整数を表わし、
R206、R207は同一でも異なっていてもよく、水素原
子、低級アルキル基、低級アルコキシ基又はハロゲン原
子を表わす。」、(15)「前記光導電層中に下記(1
3)式で表わされる低分子電荷輸送物質を含有すること
を特徴とする前記(12)項に記載の電子写真感光体。
ハロゲン原子を表わし、n2は0〜4の整数を表わし、
R206、R207は同一でも異なっていてもよく、水素原
子、低級アルキル基、低級アルコキシ基又はハロゲン原
子を表わす。」、(15)「前記光導電層中に下記(1
3)式で表わされる低分子電荷輸送物質を含有すること
を特徴とする前記(12)項に記載の電子写真感光体。
【0024】
【化38】 式中、R208は炭素数1〜11のアルキル基、置換若し
くは無置換のフェニル基或いは複素環基を表わし、R
209、R210は同一でも異なっていてもよく、水素原子、
低級アルキル基、C1〜C4のヒドロキシアルキル基、C
1〜C4のクロルアルキル基、或いは置換若しくは無置換
のアラルキル基を表わし、また、R209とR210は共同で
窒素を含む複素環を形成してもよく、R211、R212はそ
れぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子、低級ア
ルキル基、低級アルコキシ基又はハロゲン原子を表わ
す。」、(16)「前記光導電層中に下記(14)式で
表わされる低分子電荷輸送物質を含有することを特徴と
する前記(12)項に記載の電子写真感光体。
くは無置換のフェニル基或いは複素環基を表わし、R
209、R210は同一でも異なっていてもよく、水素原子、
低級アルキル基、C1〜C4のヒドロキシアルキル基、C
1〜C4のクロルアルキル基、或いは置換若しくは無置換
のアラルキル基を表わし、また、R209とR210は共同で
窒素を含む複素環を形成してもよく、R211、R212はそ
れぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子、低級ア
ルキル基、低級アルコキシ基又はハロゲン原子を表わ
す。」、(16)「前記光導電層中に下記(14)式で
表わされる低分子電荷輸送物質を含有することを特徴と
する前記(12)項に記載の電子写真感光体。
【0025】
【化39】 式中、R213は水素原子又はハロゲン原子を表わし、R
214は置換又は無置換の芳香族残基或いは複素環残基
(但し、前記置換基はハロゲン原子、シアノ基、ジ低級
アルキルアミノ基、置換又は無置換のジアラルキルアミ
ノ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基及びニトロ基
よりなる群から選ばれる)を表わす。」、(17)「前
記光導電層中に下記(15)式で表わされる低分子電荷
輸送物質を含有することを特徴とする前記(12)項に
記載の電子写真感光体。
214は置換又は無置換の芳香族残基或いは複素環残基
(但し、前記置換基はハロゲン原子、シアノ基、ジ低級
アルキルアミノ基、置換又は無置換のジアラルキルアミ
ノ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基及びニトロ基
よりなる群から選ばれる)を表わす。」、(17)「前
記光導電層中に下記(15)式で表わされる低分子電荷
輸送物質を含有することを特徴とする前記(12)項に
記載の電子写真感光体。
【0026】
【化40】 式中、R215、R216及びR217はそれぞれ置換若しくは
無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアリール基
或いは複素環基を表わし、R215、R216、R217のうち
少なくとも2つはアリール基又は複素環基を表わ
す。」、(18)「前記光導電層中に下記(16)式で
表わされる低分子電荷輸送物質を含有することを特徴と
する前記(12)項に記載の電子写真感光体。
無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアリール基
或いは複素環基を表わし、R215、R216、R217のうち
少なくとも2つはアリール基又は複素環基を表わ
す。」、(18)「前記光導電層中に下記(16)式で
表わされる低分子電荷輸送物質を含有することを特徴と
する前記(12)項に記載の電子写真感光体。
【0027】
【化41】 式中、Ar103及びAr104は、それぞれ置換若しくは無
置換のアリール基或いは複素芳香環を表わす。」、(1
9)「前記光導電層中に下記(17)式で表わされる低
分子電荷輸送物質を含有することを特徴とする前記(1
2)項に記載の電子写真感光体。
置換のアリール基或いは複素芳香環を表わす。」、(1
9)「前記光導電層中に下記(17)式で表わされる低
分子電荷輸送物質を含有することを特徴とする前記(1
2)項に記載の電子写真感光体。
【0028】
【化42】 式中、Ar105は置換若しくは無置換のアリール基或い
は複素芳香環を表わし、R218及びR219はそれぞれ置換
若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のア
リール基或いは複素環基であり、R218及びR219の少な
くとも1つはアリール基又は複素環基からなる。」、
(20)「前記光導電層中に下記(18)式で表わされ
る低分子電荷輸送物質を含有することを特徴とする前記
(12)項に記載の電子写真感光体。
は複素芳香環を表わし、R218及びR219はそれぞれ置換
若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のア
リール基或いは複素環基であり、R218及びR219の少な
くとも1つはアリール基又は複素環基からなる。」、
(20)「前記光導電層中に下記(18)式で表わされ
る低分子電荷輸送物質を含有することを特徴とする前記
(12)項に記載の電子写真感光体。
【0029】
【化43】 式中、R220、R222は水素原子、低級アルキル基、低級
アルコキシ基或いはジ低級アルキルアミノ基を表わし、
R221は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、ハロゲン原子或いはニトロ基を表わし、n3は0又
は1の整数を表わす。」、(21)「前記光導電層中に
下記(19)式で表わされる低分子電荷輸送物質を含有
することを特徴とする前記(12)項に記載の電子写真
感光体。
アルコキシ基或いはジ低級アルキルアミノ基を表わし、
R221は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、ハロゲン原子或いはニトロ基を表わし、n3は0又
は1の整数を表わす。」、(21)「前記光導電層中に
下記(19)式で表わされる低分子電荷輸送物質を含有
することを特徴とする前記(12)項に記載の電子写真
感光体。
【0030】
【化44】 式中、R223はカルバゾリル基、ピリジル基、チエニル
基、インドリル基、又はフリル基、或いはそれぞれ置換
又は無置換のフェニル基、スチリル基、ナフチル基又は
アントリル基(但し、前記置換基はジ低級アルキルアミ
ノ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原
子、アラルキルアミノ基又はアミノ基からなる群から選
ばれる)を表わす。」、(22)「前記光導電層中に下
記(20)式で表わされる低分子電荷輸送物質を含有す
ることを特徴とする前記(12)項に記載の電子写真感
光体。
基、インドリル基、又はフリル基、或いはそれぞれ置換
又は無置換のフェニル基、スチリル基、ナフチル基又は
アントリル基(但し、前記置換基はジ低級アルキルアミ
ノ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原
子、アラルキルアミノ基又はアミノ基からなる群から選
ばれる)を表わす。」、(22)「前記光導電層中に下
記(20)式で表わされる低分子電荷輸送物質を含有す
ることを特徴とする前記(12)項に記載の電子写真感
光体。
【0031】
【化45】 式中、Ar106は置換若しくは無置換のビフェニレン基
を表わし、R224、R225及びR226は水素原子、ハロゲ
ン原子、シアノ基、又は置換基を有していてもよいアル
キル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルメ
ルカプト基、メチレンジオキシ基、メチレンジチオ基、
アリール基を表わし、R224、R225及びR226は同一で
も異なっていてもよい。また、u、v、wは1〜5の整
数を表わし、それぞれが2〜5の整数の時は前記
R224、R225及びR226は同一でも異なっていてもよ
い。」、(23)「前記光導電層中に下記(21)式で
表わされる低分子電荷輸送物質を含有することを特徴と
する前記(12)項に記載の電子写真感光体。
を表わし、R224、R225及びR226は水素原子、ハロゲ
ン原子、シアノ基、又は置換基を有していてもよいアル
キル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルメ
ルカプト基、メチレンジオキシ基、メチレンジチオ基、
アリール基を表わし、R224、R225及びR226は同一で
も異なっていてもよい。また、u、v、wは1〜5の整
数を表わし、それぞれが2〜5の整数の時は前記
R224、R225及びR226は同一でも異なっていてもよ
い。」、(23)「前記光導電層中に下記(21)式で
表わされる低分子電荷輸送物質を含有することを特徴と
する前記(12)項に記載の電子写真感光体。
【0032】
【化46】 式中、R227及びR228は置換若しくは無置換のアルキル
基、置換若しくは無置換のアリール基を表わし、R227
及びR228のうち少なくとも1つは置換若しくは無置換
のアリール基を表わす。」によって達成される。
基、置換若しくは無置換のアリール基を表わし、R227
及びR228のうち少なくとも1つは置換若しくは無置換
のアリール基を表わす。」によって達成される。
【0033】本発明者らは、ピリリウム系染料及びトリ
アリールアミン構造を主鎖及び/又は側鎖に含むポリカ
ーボネートからなる共晶錯体が、極めて優れた電子写真
感度を発現し、かつ極めて高い耐摩耗性を示すことを見
い出し、本発明に至った。したがって、本発明の電子写
真感光体は、少なくともピリリウム系染料及びトリアリ
ールアミン構造を主鎖及び/又は側鎖に含むポリカーボ
ネートからなる共晶錯体(感光層)が導電性支持体上に
設けられていることを特徴とするものである。より詳し
くは、トリアリールアミン構造を主鎖及び/又は側鎖に
含むポリカーボネートが前記(1)〜(10)式で表わ
される高分子電荷輸送物質であることを特徴とするもの
である。
アリールアミン構造を主鎖及び/又は側鎖に含むポリカ
ーボネートからなる共晶錯体が、極めて優れた電子写真
感度を発現し、かつ極めて高い耐摩耗性を示すことを見
い出し、本発明に至った。したがって、本発明の電子写
真感光体は、少なくともピリリウム系染料及びトリアリ
ールアミン構造を主鎖及び/又は側鎖に含むポリカーボ
ネートからなる共晶錯体(感光層)が導電性支持体上に
設けられていることを特徴とするものである。より詳し
くは、トリアリールアミン構造を主鎖及び/又は側鎖に
含むポリカーボネートが前記(1)〜(10)式で表わ
される高分子電荷輸送物質であることを特徴とするもの
である。
【0034】また、本発明者らは、ピリリウム系染料1
重量部に対して、高分子電荷輸送物質5〜100重量部
の組成よりなる電子写真感光体の感度特性が優れている
ことを見い出した。さらに、前記(1)〜(10)式の
高分子電荷輸送物質を用いることにより、電気絶縁性高
分子とピリリウム系染料からなる共晶錯体感光層に低分
子電荷輸送物質を分散した場合よりもはるかに耐摩耗性
が高い点を見い出した。またさらに、ピリリウム系染料
及びトリアリールアミン構造を主鎖及び/又は側鎖に含
むポリカーボネート[前記(1)〜(10)式の高分子
電荷輸送物質]からなる共晶錯体感光層に少量の低分子
電荷輸送物質[特に、前記(11)〜(21)式で表わ
される低分子電荷輸送物質が良好]を含有することによ
り、耐摩耗性をほとんど落とさずに、感度特性を向上で
きることを見い出し、本発明を完成するに至った。
重量部に対して、高分子電荷輸送物質5〜100重量部
の組成よりなる電子写真感光体の感度特性が優れている
ことを見い出した。さらに、前記(1)〜(10)式の
高分子電荷輸送物質を用いることにより、電気絶縁性高
分子とピリリウム系染料からなる共晶錯体感光層に低分
子電荷輸送物質を分散した場合よりもはるかに耐摩耗性
が高い点を見い出した。またさらに、ピリリウム系染料
及びトリアリールアミン構造を主鎖及び/又は側鎖に含
むポリカーボネート[前記(1)〜(10)式の高分子
電荷輸送物質]からなる共晶錯体感光層に少量の低分子
電荷輸送物質[特に、前記(11)〜(21)式で表わ
される低分子電荷輸送物質が良好]を含有することによ
り、耐摩耗性をほとんど落とさずに、感度特性を向上で
きることを見い出し、本発明を完成するに至った。
【0035】次に、図面を用いて本発明を説明する。図
1は、本発明において使用する感光体の構成例を示す断
面図であり、導電性支持体(21)上に、共晶錯体感光
層(31)が形成されている。図2は、別の構成例を示
す断面図であり、導電性支持体(21)と共晶錯体感光
層(31)の間に中間層(25)を設けたものである。
図3は、更に別の構成例を示す断面図であり、導電性支
持体(21)と共晶錯体感光層(31)の上に電荷輸送
層(33)が積層されたものである。図4は、本発明の
応用例としての電子写真複合感光体を示す。導電性支持
体(21)上に共晶錯体感光層(31)を透過する光に
対して感度を有する感光層(35)(以下第2感光層と
いう)を設け、その上に、共晶錯体感光層(31)を設
けたものである。
1は、本発明において使用する感光体の構成例を示す断
面図であり、導電性支持体(21)上に、共晶錯体感光
層(31)が形成されている。図2は、別の構成例を示
す断面図であり、導電性支持体(21)と共晶錯体感光
層(31)の間に中間層(25)を設けたものである。
図3は、更に別の構成例を示す断面図であり、導電性支
持体(21)と共晶錯体感光層(31)の上に電荷輸送
層(33)が積層されたものである。図4は、本発明の
応用例としての電子写真複合感光体を示す。導電性支持
体(21)上に共晶錯体感光層(31)を透過する光に
対して感度を有する感光層(35)(以下第2感光層と
いう)を設け、その上に、共晶錯体感光層(31)を設
けたものである。
【0036】導電性支持体(21)としては、体積抵抗
1010Ω以下の導電性を示すもの、例えばアルミニウ
ム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、銀、金、白金、
鉄などの金属、酸化スズ、酸化インジウムなどの酸化物
を、蒸着又はスパッタリングによりフィルム状若しくは
円筒状のプラスチック、紙等に被覆したもの、或いはア
ルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレス
等の板及びそれらをD.I.、I.I.、押出し、引き
抜きなどの工法で素管化後、切削、超仕上げ、研磨等で
表面処理した管等を使用することができる。
1010Ω以下の導電性を示すもの、例えばアルミニウ
ム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、銀、金、白金、
鉄などの金属、酸化スズ、酸化インジウムなどの酸化物
を、蒸着又はスパッタリングによりフィルム状若しくは
円筒状のプラスチック、紙等に被覆したもの、或いはア
ルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレス
等の板及びそれらをD.I.、I.I.、押出し、引き
抜きなどの工法で素管化後、切削、超仕上げ、研磨等で
表面処理した管等を使用することができる。
【0037】前述したように、共晶錯体感光層(31)
は、ピリリウム系染料とトリアリールアミン構造を主鎖
及び/又は側鎖に含むポリカーボネート、詳しくはピリ
リウム系染料と前記(1)〜(10)式で表わされる高
分子電荷輸送物質から作られるものである。ピリリウム
染料には、ピリリウム塩、チアピリリウム塩、及びセレ
ナピリリウム塩の3種があり、下記一般式を有してい
る。
は、ピリリウム系染料とトリアリールアミン構造を主鎖
及び/又は側鎖に含むポリカーボネート、詳しくはピリ
リウム系染料と前記(1)〜(10)式で表わされる高
分子電荷輸送物質から作られるものである。ピリリウム
染料には、ピリリウム塩、チアピリリウム塩、及びセレ
ナピリリウム塩の3種があり、下記一般式を有してい
る。
【0038】
【化47】 上式において、R401、R402、R403、R404、R405は
それぞれ、(a)水素原子、(b)メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、t−ブチル、アミル、
イソアミル、ヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシルな
どのC1〜C15のアルキル基、(c)メトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、ブトキシ、アミロキシ、ヘキソキシ、
オクトキシなどのアルコキシ基、(d)フェニル、4−
ジフェニル、4−エチルフェニル、4−プロピルフェニ
ルなどのアルキルフェニル類;4−エトキシフェニル、
4−メトシキフェニル、4−アミロキシフェニル、2−
ヘキソキシフェニル、2−メトキシフェニル、3,4−
ジエトキシフェニルなどのアルコキシフェニル類;2−
ヒドロキシエトキシフェニル、3−ヒドロキシエトキシ
フェニルなどのβ−ヒドロキシアルコキシフェニル類;
4−ヒドロキシフェニル、2,4−ジクロロフェニル、
3,4−ジブロモフェニル、4−クロロフェニル、3,
4−ジクロロフェニルなどのハロフェニル類;アジドフ
ェニル、ニトロフェニル、4−ジエチルアミノフェニ
ル、4−ジメチルアミノフェニルなどのアミノフェニル
類;ナフチル、スチリル、メトキシスチリル、ジエトキ
シスチリル、ジメチルアミノスチリル、1−ブチル−4
−p−ジメチルアミノフェニル−1,3−ブタジエニ
ル、β−エチル−4−ジメチルアミノスチリルなどのビ
ニル置換アリール基のような置換アリール基を含めたア
リール基を表わす。Xは、硫黄、酸素又はセレン原子で
あり、また、Z-はパークロレート、フルオロボレー
ト、よう化物、塩化物、臭化物、硫酸鉛、過よう化物、
p−トルエンスルホネート、ヘキサフルオロホスフェー
トなどの陰イオン官能基である。さらに、R401、
R402、R403、R404、R405は共同してピリリウム核に
融合したアリール環を完成するのに必要な原子であって
もよい。このようなピリリウム系染料の代表例を下記に
示す。
それぞれ、(a)水素原子、(b)メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、t−ブチル、アミル、
イソアミル、ヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシルな
どのC1〜C15のアルキル基、(c)メトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、ブトキシ、アミロキシ、ヘキソキシ、
オクトキシなどのアルコキシ基、(d)フェニル、4−
ジフェニル、4−エチルフェニル、4−プロピルフェニ
ルなどのアルキルフェニル類;4−エトキシフェニル、
4−メトシキフェニル、4−アミロキシフェニル、2−
ヘキソキシフェニル、2−メトキシフェニル、3,4−
ジエトキシフェニルなどのアルコキシフェニル類;2−
ヒドロキシエトキシフェニル、3−ヒドロキシエトキシ
フェニルなどのβ−ヒドロキシアルコキシフェニル類;
4−ヒドロキシフェニル、2,4−ジクロロフェニル、
3,4−ジブロモフェニル、4−クロロフェニル、3,
4−ジクロロフェニルなどのハロフェニル類;アジドフ
ェニル、ニトロフェニル、4−ジエチルアミノフェニ
ル、4−ジメチルアミノフェニルなどのアミノフェニル
類;ナフチル、スチリル、メトキシスチリル、ジエトキ
シスチリル、ジメチルアミノスチリル、1−ブチル−4
−p−ジメチルアミノフェニル−1,3−ブタジエニ
ル、β−エチル−4−ジメチルアミノスチリルなどのビ
ニル置換アリール基のような置換アリール基を含めたア
リール基を表わす。Xは、硫黄、酸素又はセレン原子で
あり、また、Z-はパークロレート、フルオロボレー
ト、よう化物、塩化物、臭化物、硫酸鉛、過よう化物、
p−トルエンスルホネート、ヘキサフルオロホスフェー
トなどの陰イオン官能基である。さらに、R401、
R402、R403、R404、R405は共同してピリリウム核に
融合したアリール環を完成するのに必要な原子であって
もよい。このようなピリリウム系染料の代表例を下記に
示す。
【0039】
【表1−1】
【0040】
【表1−2】
【0041】
【表1−3】
【0042】
【表1−4】
【0043】
【表1−5】
【0044】
【表1−6】
【0045】
【表1−7】
【0046】
【表1−8】
【0047】
【表1−9】 特に有用なピリリウム染料は、下記一般式を有するもの
である。
である。
【0048】
【化48】 式中、R406及びR407はC1〜C6のアルキル基及びC1
〜C6のアルコキシ基から選ばれた少なくとも1つの置
換基を有する置換フェニル基のようなアリール基であ
り、R408はアルキル部分がC1〜C6のアルキルアミノ
置換フェニル基で、ジアルキルアミノ置換及びハロアル
キルアミノ置換フェニル基でもよい。Xは酸素、硫黄、
またはセレン原子、Z-は前述のとおりである。
〜C6のアルコキシ基から選ばれた少なくとも1つの置
換基を有する置換フェニル基のようなアリール基であ
り、R408はアルキル部分がC1〜C6のアルキルアミノ
置換フェニル基で、ジアルキルアミノ置換及びハロアル
キルアミノ置換フェニル基でもよい。Xは酸素、硫黄、
またはセレン原子、Z-は前述のとおりである。
【0049】次に、本発明に用いられる高分子電荷輸送
物質について述べる。本発明における高分子電荷輸送物
質としてトリアリールアミン構造を主鎖及び/又は側鎖
に含むポリカーボネートが挙げられる。中でも、特に下
記(1)〜(10)式で表わされる高分子電荷輸送物質
が有用に用いられる。以下に(1)〜(10)式で表わ
される高分子電荷輸送物質を例示し、具体例を示す。
物質について述べる。本発明における高分子電荷輸送物
質としてトリアリールアミン構造を主鎖及び/又は側鎖
に含むポリカーボネートが挙げられる。中でも、特に下
記(1)〜(10)式で表わされる高分子電荷輸送物質
が有用に用いられる。以下に(1)〜(10)式で表わ
される高分子電荷輸送物質を例示し、具体例を示す。
【0050】
【化49】 式中、R1、R2、R3はそれぞれ独立して置換若しくは
無置換のアルキル基又はハロゲン原子、R4は水素原子
又は置換若しくは無置換のアルキル基、R5、R6は置換
若しくは無置換のアリール基、o、p、qはそれぞれ独
立して0〜4の整数、k、jは組成を表わし、0.1≦
k≦1、0≦j≦0.9、nは繰り返し単位数を表わし
5〜5000の整数である。Xは脂肪族の2価基、環状
脂肪族の2価基、又は下記一般式で表わされる2価基を
表わす。
無置換のアルキル基又はハロゲン原子、R4は水素原子
又は置換若しくは無置換のアルキル基、R5、R6は置換
若しくは無置換のアリール基、o、p、qはそれぞれ独
立して0〜4の整数、k、jは組成を表わし、0.1≦
k≦1、0≦j≦0.9、nは繰り返し単位数を表わし
5〜5000の整数である。Xは脂肪族の2価基、環状
脂肪族の2価基、又は下記一般式で表わされる2価基を
表わす。
【0051】
【化50】 式中、R101、R102は各々独立して置換若しくは無置換
のアルキル基、アリール基又はハロゲン原子を表わす。
l、mは0〜4の整数、Yは単結合、炭素原子数1〜1
2の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキレン基、−O
−、−S−、−SO−、−SO2−、−CO−、−CO
−O−Z−O−CO−(式中Zは脂肪族の2価基を表わ
す。)又は、
のアルキル基、アリール基又はハロゲン原子を表わす。
l、mは0〜4の整数、Yは単結合、炭素原子数1〜1
2の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキレン基、−O
−、−S−、−SO−、−SO2−、−CO−、−CO
−O−Z−O−CO−(式中Zは脂肪族の2価基を表わ
す。)又は、
【0052】
【化51】 (式中、aは1〜20の整数、bは1〜2000の整
数、R103、R104は置換又は無置換のアルキル基又はア
リール基を表わす。)を表わす。ここで、R101と
R102、R103とR104は、それぞれ同一でも異なっても
よい。
数、R103、R104は置換又は無置換のアルキル基又はア
リール基を表わす。)を表わす。ここで、R101と
R102、R103とR104は、それぞれ同一でも異なっても
よい。
【0053】(1)式の具体例 R1、R2、R3はそれぞれ独立して置換若しくは無置換
のアルキル基又はハロゲン原子を表わすが、その具体例
としては以下のものを挙げることができ、同一であって
も異なってもよい。
のアルキル基又はハロゲン原子を表わすが、その具体例
としては以下のものを挙げることができ、同一であって
も異なってもよい。
【0054】アルキル基として好ましくは、C1〜C12
とりわけC1〜C8、さらに好ましくはC1〜C4の直鎖又
は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさ
らにフッ素原子、水酸基、シアノ基、C1〜C4のアルコ
キシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、C1〜C4のア
ルキル基若しくはC1〜C4のアルコキシ基で置換された
フェニル基を含有していてもよい。具体的には、メチル
基、エチル基、nープロピル基、iープロピル基、tー
ブチル基、sーブチル基、nーブチル基、iーブチル
基、トリフルオロメチル基、2−ヒドロキシエチル基、
2−シアノエチル基、2−エトキシエチル基、2−メト
キシエチル基、ベンジル基、4−クロロベンジル基、4
−メチルベンジル基、4−メトキシベンジル基、4−フ
ェニルベンジル基等が挙げられる。
とりわけC1〜C8、さらに好ましくはC1〜C4の直鎖又
は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基はさ
らにフッ素原子、水酸基、シアノ基、C1〜C4のアルコ
キシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、C1〜C4のア
ルキル基若しくはC1〜C4のアルコキシ基で置換された
フェニル基を含有していてもよい。具体的には、メチル
基、エチル基、nープロピル基、iープロピル基、tー
ブチル基、sーブチル基、nーブチル基、iーブチル
基、トリフルオロメチル基、2−ヒドロキシエチル基、
2−シアノエチル基、2−エトキシエチル基、2−メト
キシエチル基、ベンジル基、4−クロロベンジル基、4
−メチルベンジル基、4−メトキシベンジル基、4−フ
ェニルベンジル基等が挙げられる。
【0055】ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。R4は水素
原子又は置換若しくは無置換のアルキル基を表わすが、
そのアルキル基の具体例としては上記のR1、R2、R3
と同様のものが挙げられる。R5、R6は置換若しくは無
置換のアリール基(芳香族炭化水素基及び不飽和複素環
基)を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げ
ることができ、同一であっても異なってもよい。
原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。R4は水素
原子又は置換若しくは無置換のアルキル基を表わすが、
そのアルキル基の具体例としては上記のR1、R2、R3
と同様のものが挙げられる。R5、R6は置換若しくは無
置換のアリール基(芳香族炭化水素基及び不飽和複素環
基)を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げ
ることができ、同一であっても異なってもよい。
【0056】芳香族炭化水素基としては、フェニル基、
縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、2−フルオ
レニル基、9,9−ジメチル−2−フルオレニル基、ア
ズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリ
セニル基、フルオレニリデンフェニル基、5H−ジベン
ゾ[a,d]シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合
多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが
挙げられる。複素環基としては、チエニル基、ベンゾチ
エニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル
基などが挙げられる。
縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、2−フルオ
レニル基、9,9−ジメチル−2−フルオレニル基、ア
ズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリ
セニル基、フルオレニリデンフェニル基、5H−ジベン
ゾ[a,d]シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合
多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが
挙げられる。複素環基としては、チエニル基、ベンゾチ
エニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル
基などが挙げられる。
【0057】上記のアリール基は以下に示す基を置換基
として有してもよい。 (1)ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 (2)アルキル基。アルキル基としては、上記のR1、
R2、R3と同様のものが挙げられる。
として有してもよい。 (1)ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 (2)アルキル基。アルキル基としては、上記のR1、
R2、R3と同様のものが挙げられる。
【0058】(3)アルコキシ基(−OR105)。アル
コキシ基(−OR105)としては、R105が上記(2)で
定義したアルキル基であるものが挙げられ、具体的に
は、メトキシ基、エトキシ基、nープロポキシ基、iー
プロポキシ基、tーブトキシ基、nーブトキシ基、sー
ブトキシ基、iーブトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ
基、2−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、4−メ
チルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙
げられる。 (4)アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、
アリール基としてフェニル基、ナフチル基を有するもの
が挙げられる。これは、C1〜C4のアルコキシ基、C1
〜C4のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含
有してもよい。具体的には、フェノキシ基、1−ナフチ
ルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、4−メチルフェノ
キシ基、4−メトキシフェニノキシ基、4−クロロフェ
ノキシ基、6−メチル−2−ナフチルオキシ基等が挙げ
られる。
コキシ基(−OR105)としては、R105が上記(2)で
定義したアルキル基であるものが挙げられ、具体的に
は、メトキシ基、エトキシ基、nープロポキシ基、iー
プロポキシ基、tーブトキシ基、nーブトキシ基、sー
ブトキシ基、iーブトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ
基、2−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、4−メ
チルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙
げられる。 (4)アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、
アリール基としてフェニル基、ナフチル基を有するもの
が挙げられる。これは、C1〜C4のアルコキシ基、C1
〜C4のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含
有してもよい。具体的には、フェノキシ基、1−ナフチ
ルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、4−メチルフェノ
キシ基、4−メトキシフェニノキシ基、4−クロロフェ
ノキシ基、6−メチル−2−ナフチルオキシ基等が挙げ
られる。
【0059】(5)置換メルカプト基又はアリールメル
カプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基
としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フ
ェニルチオ基、pーメチルフェニルチオ基等が挙げられ
る。 (6)アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基と
しては、アルキル基が前記(2)で定義したアルキル基
のものが挙げられ、具体的には、ジメチルアミノ基、ジ
エチルアミノ基、N−メチル−N−プロピルアミノ基、
N,N−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。 (7)アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチ
ル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベン
ゾイル基等が挙げられる。
カプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基
としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フ
ェニルチオ基、pーメチルフェニルチオ基等が挙げられ
る。 (6)アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基と
しては、アルキル基が前記(2)で定義したアルキル基
のものが挙げられ、具体的には、ジメチルアミノ基、ジ
エチルアミノ基、N−メチル−N−プロピルアミノ基、
N,N−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。 (7)アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチ
ル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベン
ゾイル基等が挙げられる。
【0060】前記Xで表わされる構造部分は下記一般式
(A)のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物
をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、
下記一般式(B)のジオール化合物を併用することによ
り主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカー
ボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合
体となる。また、Xで表わされる構造部分は下記一般式
(A)のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物
と下記一般式(B)から誘導されるビスクロロホーメー
トとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入され
る。この場合、製造されるポリカーボネートは交互共重
合体となる。
(A)のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物
をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、
下記一般式(B)のジオール化合物を併用することによ
り主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカー
ボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合
体となる。また、Xで表わされる構造部分は下記一般式
(A)のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物
と下記一般式(B)から誘導されるビスクロロホーメー
トとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入され
る。この場合、製造されるポリカーボネートは交互共重
合体となる。
【0061】
【化52】 一般式(B)のジオール化合物の具体例としては以下の
ものが挙げられる。1,3−プロパンジオール、1,4
−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6
−ヘキサンジオール、1,8−オクタンジオール、1,
10−デカンジオール、2−メチル−1,3−プロパン
ジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオー
ル、2−エチル−1,3−プロパンジオール、ジエチレ
ングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレン
グリコール、ポリテトラメチレンエーテルグリコール等
の脂肪族ジオールや1,4−シクロヘキサンジオール、
1,3−シクロヘキサンジオール、シクロヘキサン−
1,4−ジメタノール等の環状脂肪族ジオール等が挙げ
られる。
ものが挙げられる。1,3−プロパンジオール、1,4
−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6
−ヘキサンジオール、1,8−オクタンジオール、1,
10−デカンジオール、2−メチル−1,3−プロパン
ジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオー
ル、2−エチル−1,3−プロパンジオール、ジエチレ
ングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレン
グリコール、ポリテトラメチレンエーテルグリコール等
の脂肪族ジオールや1,4−シクロヘキサンジオール、
1,3−シクロヘキサンジオール、シクロヘキサン−
1,4−ジメタノール等の環状脂肪族ジオール等が挙げ
られる。
【0062】また、芳香環を有するジオールとしては、
4,4’−ジヒドロキシジフェニル、ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)エタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)−1−フェニルエタン、2,2−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−メチル
−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロペンタン、2,
2−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)プ
ロパン、2,2−ビス(3−イソプロピル−4−ヒドロ
キシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)ブタン、2,2−ビス(3,5−ジメチル
−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス
(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,
4’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、4,4’
−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、3,3’−ジメ
チル−4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、
4,4’−ジヒドロキシジフェニルオキシド、2,2−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパ
ン、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレ
ン、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)キサンテ
ン、エチレングリコール−ビス(4−ヒドロキシベンゾ
エート)、ジエチレングリコール−ビス(4−ヒドロキ
シベンゾエート)、トリエチレングリコール−ビス(4
−ヒドロキシベンゾエート)、1,3−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)−テトラメチルジシロキサン、フェノ
ール変性シリコーンオイル等が挙げられる。
4,4’−ジヒドロキシジフェニル、ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)エタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)−1−フェニルエタン、2,2−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−メチル
−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロペンタン、2,
2−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)プ
ロパン、2,2−ビス(3−イソプロピル−4−ヒドロ
キシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)ブタン、2,2−ビス(3,5−ジメチル
−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス
(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,
4’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、4,4’
−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、3,3’−ジメ
チル−4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、
4,4’−ジヒドロキシジフェニルオキシド、2,2−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパ
ン、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレ
ン、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)キサンテ
ン、エチレングリコール−ビス(4−ヒドロキシベンゾ
エート)、ジエチレングリコール−ビス(4−ヒドロキ
シベンゾエート)、トリエチレングリコール−ビス(4
−ヒドロキシベンゾエート)、1,3−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)−テトラメチルジシロキサン、フェノ
ール変性シリコーンオイル等が挙げられる。
【0063】
【化53】 式中、R7、R8は置換若しくは無置換のアリール基、A
r1、Ar2、Ar3は同一又は異なるアリレン基を表わ
す。X、k、j及びnは、(1)式の場合と同じであ
る。
r1、Ar2、Ar3は同一又は異なるアリレン基を表わ
す。X、k、j及びnは、(1)式の場合と同じであ
る。
【0064】(2)式の具体例 R7、R8は置換若しくは無置換のアリール基を表わす
が、その具体例としては以下のものを挙げることがで
き、同一であっても異なってもよい。芳香族炭化水素基
としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、
ピレニル基、2−フルオレニル基、9,9−ジメチル−
2−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、ト
リフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフ
ェニル基、5H−ジベンゾ[a,d]シクロヘプテニリ
デンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、
ターフェニリル基、又は
が、その具体例としては以下のものを挙げることがで
き、同一であっても異なってもよい。芳香族炭化水素基
としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、
ピレニル基、2−フルオレニル基、9,9−ジメチル−
2−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、ト
リフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフ
ェニル基、5H−ジベンゾ[a,d]シクロヘプテニリ
デンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、
ターフェニリル基、又は
【0065】
【化54】 (ここで、Wは−O−、−S−、−SO−、−SO
2−、−CO−又は以下の2価基を表わす。)
2−、−CO−又は以下の2価基を表わす。)
【0066】
【化55】
【0067】
【化56】
【0068】
【化57】
【0069】
【化58】 で表わされる。
【0070】複素環基としては、チエニル基、ベンゾチ
エニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル
基などが挙げられる。また、Ar1、Ar2及びAr3で
示されるアリレン基としてはR7及びR8で示したアリー
ル基の2価基が挙げられ、同一であっても異なってもよ
い。上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基
(1)〜基(7)を置換基として有してもよい。また、
これら置換基は上記一般式中のR106、R107、R108と
同じ意味を有する。
エニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル
基などが挙げられる。また、Ar1、Ar2及びAr3で
示されるアリレン基としてはR7及びR8で示したアリー
ル基の2価基が挙げられ、同一であっても異なってもよ
い。上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基
(1)〜基(7)を置換基として有してもよい。また、
これら置換基は上記一般式中のR106、R107、R108と
同じ意味を有する。
【0071】(1)ハロゲン原子、トリフルオロメチル
基、シアノ基、ニトロ基。 (2)アルキル基。アルキル基としては、好ましくはC
1〜C12とりわけC1〜C18さらに好ましくはC1〜C4の
直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル
基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、C1〜C4の
アルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、C1〜
C4のアルキル基若しくはC1〜C4のアルコキシ基で置
換されたフェニル基を含有していてもよい。具体的に
は、メチル基、エチル基、nープロピル基、iープロピ
ル基、tーブチル基、sーブチル基、nーブチル基、i
ーブチル基、トリフルオロメチル基、2−ヒドロキシエ
チル基、2−シアノエチル基、2−エトキシエチル基、
2−メトキシエチル基、ベンジル基、4−クロロベンジ
ル基、4−メチルベンジル基、4−メトキシベンジル
基、4−フェニルベンジル基等が挙げられる。
基、シアノ基、ニトロ基。 (2)アルキル基。アルキル基としては、好ましくはC
1〜C12とりわけC1〜C18さらに好ましくはC1〜C4の
直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル
基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、C1〜C4の
アルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、C1〜
C4のアルキル基若しくはC1〜C4のアルコキシ基で置
換されたフェニル基を含有していてもよい。具体的に
は、メチル基、エチル基、nープロピル基、iープロピ
ル基、tーブチル基、sーブチル基、nーブチル基、i
ーブチル基、トリフルオロメチル基、2−ヒドロキシエ
チル基、2−シアノエチル基、2−エトキシエチル基、
2−メトキシエチル基、ベンジル基、4−クロロベンジ
ル基、4−メチルベンジル基、4−メトキシベンジル
基、4−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【0072】(3)アルコキシ基(−OR109)。アル
コキシ基(−OR109)としては、R109が(2)で定義
したアルキル基を表わす。具体的には、メトキシ基、エ
トキシ基、nープロポキシ基、iープロポキシ基、tー
ブトキシ基、nーブトキシ基、sーブトキシ基、iーブ
トキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、2−シアノエト
キシ基、ベンジルオキシ基、4−メチルベンジルオキシ
基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。 (4)アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、
アリール基としてフェニル基、ナフチル基を有するもの
が挙げられる。これは、C1〜C4のアルコキシ基、C1
〜C4のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含
有してもよい。具体的には、フェノキシ基、1−ナフチ
ルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、4−メチルフェノ
キシ基、4−メトキシフェノキシ基、4−クロロフェノ
キシ基、6−メチル−2−ナフチルオキシ基等が挙げら
れる。
コキシ基(−OR109)としては、R109が(2)で定義
したアルキル基を表わす。具体的には、メトキシ基、エ
トキシ基、nープロポキシ基、iープロポキシ基、tー
ブトキシ基、nーブトキシ基、sーブトキシ基、iーブ
トキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、2−シアノエト
キシ基、ベンジルオキシ基、4−メチルベンジルオキシ
基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。 (4)アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、
アリール基としてフェニル基、ナフチル基を有するもの
が挙げられる。これは、C1〜C4のアルコキシ基、C1
〜C4のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含
有してもよい。具体的には、フェノキシ基、1−ナフチ
ルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、4−メチルフェノ
キシ基、4−メトキシフェノキシ基、4−クロロフェノ
キシ基、6−メチル−2−ナフチルオキシ基等が挙げら
れる。
【0073】(5)置換メルカプト基又はアリールメル
カプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基
としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フ
ェニルチオ基、pーメチルフェニルチオ基等が挙げられ
る。 (6)次式で表わされるアルキル置換アミノ基。
カプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基
としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フ
ェニルチオ基、pーメチルフェニルチオ基等が挙げられ
る。 (6)次式で表わされるアルキル置換アミノ基。
【0074】
【化59】 式中、R110及びR111は各々独立に前記(2)で定義し
たアルキル基又はアリール基を表わす。アリール基とし
ては例えばフェニル基、ビフェニル基、又はナフチル基
が挙げられ、これらはC1〜C4のアルコキシ基、C1〜
C4のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含有
してもよい。またアリール基上の炭素原子と共同で環を
形成してもよい。このアルキル置換アミノ基としては具
体的には、ジエチルアミノ基、N−メチル−N−フェニ
ルアミノ基、N,N−ジフェニルアミノ基、N,N−ジ
(pートリル)アミノ基、ジベンジルアミノ基、ピペリ
ジノ基、モルホリノ基、ユロリジル基等が挙げられる。
たアルキル基又はアリール基を表わす。アリール基とし
ては例えばフェニル基、ビフェニル基、又はナフチル基
が挙げられ、これらはC1〜C4のアルコキシ基、C1〜
C4のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含有
してもよい。またアリール基上の炭素原子と共同で環を
形成してもよい。このアルキル置換アミノ基としては具
体的には、ジエチルアミノ基、N−メチル−N−フェニ
ルアミノ基、N,N−ジフェニルアミノ基、N,N−ジ
(pートリル)アミノ基、ジベンジルアミノ基、ピペリ
ジノ基、モルホリノ基、ユロリジル基等が挙げられる。
【0075】(7)メチレンジオキシ基、又はメチレン
ジチオ基等のアルキレンジオキシ基又はアルキレンジチ
オ基等。
ジチオ基等のアルキレンジオキシ基又はアルキレンジチ
オ基等。
【0076】前記Xで表わされる構造部分は下記一般式
(C)のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物
をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、
下記一般式(B)のジオール化合物を併用することによ
り主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカー
ボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合
体となる。また、Xの構造部分は下記一般式(C)のト
リアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般
式(B)から誘導されるビスクロロホーメートとの重合
反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場
合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体とな
る。
(C)のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物
をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、
下記一般式(B)のジオール化合物を併用することによ
り主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカー
ボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合
体となる。また、Xの構造部分は下記一般式(C)のト
リアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般
式(B)から誘導されるビスクロロホーメートとの重合
反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場
合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体とな
る。
【0077】
【化60】 一般式(B)のジオール化合物としては(1)式と同じ
ものが挙げられる。
ものが挙げられる。
【0078】
【化61】 式中、R9、R10は置換若しくは無置換のアリール基、
Ar4、Ar5、Ar6は同一又は異なるアリレン基を表
わす。X、k、j及びnは、(1)式の場合と同じであ
る。
Ar4、Ar5、Ar6は同一又は異なるアリレン基を表
わす。X、k、j及びnは、(1)式の場合と同じであ
る。
【0079】(3)式の具体例 R9、R10は置換若しくは無置換のアリール基を表わす
が、その具体例としては以下のものを挙げることがで
き、同一であっても異なってもよい。芳香族炭化水素基
としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、
ピレニル基、2−フルオレニル基、9,9−ジメチル−
2−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、ト
リフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフ
ェニル基、5H−ジベンゾ[a,d]シクロヘプテニリ
デンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、
ターフェニリル基などが挙げられる。複素環基として
は、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾ
フラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
が、その具体例としては以下のものを挙げることがで
き、同一であっても異なってもよい。芳香族炭化水素基
としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、
ピレニル基、2−フルオレニル基、9,9−ジメチル−
2−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、ト
リフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフ
ェニル基、5H−ジベンゾ[a,d]シクロヘプテニリ
デンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、
ターフェニリル基などが挙げられる。複素環基として
は、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾ
フラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
【0080】また、Ar4、Ar5及びAr6で示される
アリレン基としてはR9及びR10で示したアリール基の
2価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。上
述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換基
として有してもよい。 (1)ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 (2)アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、
C1〜C12とりわけC1〜C8、さらに好ましくはC1〜C
4の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアル
キル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、C1〜
C4のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、
C1〜C4のアルキル基若しくはC1〜C4のアルコキシ基
で置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的に
は、メチル基、エチル基、nープロピル基、iープロピ
ル基、tーブチル基、sーブチル基、nーブチル基、i
ーブチル基、トリフルオロメチル基、2−ヒドロキシエ
チル基、2−シアノエチル基、2−エトキシエチル基、
2−メトキシエチル基、ベンジル基、4−クロロベンジ
ル基、4−メチルベンジル基、4−メトキシベンジル
基、4−フェニルベンジル基等が挙げられる。
アリレン基としてはR9及びR10で示したアリール基の
2価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。上
述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換基
として有してもよい。 (1)ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 (2)アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、
C1〜C12とりわけC1〜C8、さらに好ましくはC1〜C
4の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアル
キル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、C1〜
C4のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、
C1〜C4のアルキル基若しくはC1〜C4のアルコキシ基
で置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的に
は、メチル基、エチル基、nープロピル基、iープロピ
ル基、tーブチル基、sーブチル基、nーブチル基、i
ーブチル基、トリフルオロメチル基、2−ヒドロキシエ
チル基、2−シアノエチル基、2−エトキシエチル基、
2−メトキシエチル基、ベンジル基、4−クロロベンジ
ル基、4−メチルベンジル基、4−メトキシベンジル
基、4−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【0081】(3)アルコキシ基(−OR112)。アル
コキシ基(−OR112)としては、R112が上記(2)で
定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メ
トキシ基、エトキシ基、nープロポキシ基、iープロポ
キシ基、tーブトキシ基、nーブトキシ基、sーブトキ
シ基、iーブトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、2
−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、4−メチルベ
ンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられ
る。
コキシ基(−OR112)としては、R112が上記(2)で
定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メ
トキシ基、エトキシ基、nープロポキシ基、iープロポ
キシ基、tーブトキシ基、nーブトキシ基、sーブトキ
シ基、iーブトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、2
−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、4−メチルベ
ンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられ
る。
【0082】(4)アリールオキシ基。アリールオキシ
基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基
が挙げられる。これは、C1〜C4のアルコキシ基、C1
〜C4のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含
有してもよい。具体的には、フェノキシ基、1−ナフチ
ルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、4−メチルフェノ
キシ基、4−メトキシフェノキシ基、4−クロロフェノ
キシ基、6−メチル−2−ナフチルオキシ基等が挙げら
れる。
基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基
が挙げられる。これは、C1〜C4のアルコキシ基、C1
〜C4のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含
有してもよい。具体的には、フェノキシ基、1−ナフチ
ルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、4−メチルフェノ
キシ基、4−メトキシフェノキシ基、4−クロロフェノ
キシ基、6−メチル−2−ナフチルオキシ基等が挙げら
れる。
【0083】(5)置換メルカプト基又はアリールメル
カプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基
としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フ
ェニルチオ基、pーメチルフェニルチオ基等が挙げられ
る。
カプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基
としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フ
ェニルチオ基、pーメチルフェニルチオ基等が挙げられ
る。
【0084】(6)アルキル置換アミノ基。アルキル置
換アミノ基としては、アルキル基は(2)で定義したア
ルキル基を表わす。具体的には、ジメチルアミノ基、ジ
エチルアミノ基、N−メチル−N−プロピルアミノ基、
N,N−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。 (7)アシル基;具体的にはアセチル基、プロピオニル
基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等が挙げら
れる。
換アミノ基としては、アルキル基は(2)で定義したア
ルキル基を表わす。具体的には、ジメチルアミノ基、ジ
エチルアミノ基、N−メチル−N−プロピルアミノ基、
N,N−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。 (7)アシル基;具体的にはアセチル基、プロピオニル
基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等が挙げら
れる。
【0085】前記Xで表わされる構造部分は下記一般式
(D)のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物
をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、
下記一般式(B)のジオール化合物を併用することによ
り主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカー
ボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合
体となる。また、Xの構造部分は下記一般式(D)のト
リアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般
式(B)から誘導されるビスクロロホーメートとの重合
反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場
合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体とな
る。
(D)のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物
をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、
下記一般式(B)のジオール化合物を併用することによ
り主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカー
ボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合
体となる。また、Xの構造部分は下記一般式(D)のト
リアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般
式(B)から誘導されるビスクロロホーメートとの重合
反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場
合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体とな
る。
【0086】
【化62】 一般式(B)のジオール化合物は(1)式と同じものが
挙げられる。
挙げられる。
【0087】
【化63】 式中、R11、R12は置換若しくは無置換のアリール基、
Ar7、Ar8、Ar9は同一又は異なるアリレン基、p
は1〜5の整数を表わす。X、k、j及びnは、(1)
式の場合と同じである。
Ar7、Ar8、Ar9は同一又は異なるアリレン基、p
は1〜5の整数を表わす。X、k、j及びnは、(1)
式の場合と同じである。
【0088】(4)式の具体例 R11、R12は置換若しくは無置換のアリール基を表わす
が、その具体例としては以下のものを挙げることがで
き、同一であっても異なってもよい。芳香族炭化水素基
としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、
ピレニル基、2−フルオレニル基、9,9−ジメチル−
2−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、ト
リフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフ
ェニル基、5H−ジベンゾ[a,d]シクロヘプテニリ
デンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、
ターフェニリル基などが挙げられる。複素環基として
は、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾ
フラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
が、その具体例としては以下のものを挙げることがで
き、同一であっても異なってもよい。芳香族炭化水素基
としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、
ピレニル基、2−フルオレニル基、9,9−ジメチル−
2−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、ト
リフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフ
ェニル基、5H−ジベンゾ[a,d]シクロヘプテニリ
デンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、
ターフェニリル基などが挙げられる。複素環基として
は、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾ
フラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
【0089】また、Ar7、Ar8及びAr9で示される
アリレン基としてはR11及びR12で示したアリール基の
2価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。上
述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換基
として有してもよい。 (1)ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 (2)アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、
C1〜C12とりわけC1〜C8、さらに好ましくはC1〜C
4の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアル
キル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、C1〜
C4のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、
C1〜C4のアルキル基若しくはC1〜C4のアルコキシ基
で置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的に
は、メチル基、エチル基、nープロピル基、iープロピ
ル基、tーブチル基、sーブチル基、nーブチル基、i
ーブチル基、トリフルオロメチル基、2−ヒドロキシエ
チル基、2−シアノエチル基、2−エトキシエチル基、
2−メトキシエチル基、ベンジル基、4−クロロベンジ
ル基、4−メチルベンジル基、4−メトキシベンジル
基、4−フェニルベンジル基等が挙げられる。
アリレン基としてはR11及びR12で示したアリール基の
2価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。上
述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換基
として有してもよい。 (1)ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 (2)アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、
C1〜C12とりわけC1〜C8、さらに好ましくはC1〜C
4の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアル
キル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、C1〜
C4のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、
C1〜C4のアルキル基若しくはC1〜C4のアルコキシ基
で置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的に
は、メチル基、エチル基、nープロピル基、iープロピ
ル基、tーブチル基、sーブチル基、nーブチル基、i
ーブチル基、トリフルオロメチル基、2−ヒドロキシエ
チル基、2−シアノエチル基、2−エトキシエチル基、
2−メトキシエチル基、ベンジル基、4−クロロベンジ
ル基、4−メチルベンジル基、4−メトキシベンジル
基、4−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【0090】(3)アルコキシ基(−OR113)。アル
コキシ基(−OR113)としては、R113が上記(2)で
定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メ
トキシ基、エトキシ基、nープロポキシ基、iープロポ
キシ基、tーブトキシ基、nーブトキシ基、sーブトキ
シ基、iーブトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、2
−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、4−メチルベ
ンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられ
る。 (4)アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、
アリール基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられ
る。これは、C1〜C4のアルコキシ基、C1〜C4のアル
キル基又はハロゲン原子を置換基として含有してもよ
い。具体的には、フェノキシ基、1−ナフチルオキシ
基、2−ナフチルオキシ基、4−メチルフェノキシ基、
4−メトキシフェノキシ基、4−クロロフェノキシ基、
6−メチル−2−ナフチルオキシ基等が挙げられる。
コキシ基(−OR113)としては、R113が上記(2)で
定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メ
トキシ基、エトキシ基、nープロポキシ基、iープロポ
キシ基、tーブトキシ基、nーブトキシ基、sーブトキ
シ基、iーブトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、2
−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、4−メチルベ
ンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられ
る。 (4)アリールオキシ基。アリールオキシ基としては、
アリール基としてフェニル基、ナフチル基が挙げられ
る。これは、C1〜C4のアルコキシ基、C1〜C4のアル
キル基又はハロゲン原子を置換基として含有してもよ
い。具体的には、フェノキシ基、1−ナフチルオキシ
基、2−ナフチルオキシ基、4−メチルフェノキシ基、
4−メトキシフェノキシ基、4−クロロフェノキシ基、
6−メチル−2−ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【0091】(5)置換メルカプト基又はアリールメル
カプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基
としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フ
ェニルチオ基、pーメチルフェニルチオ基等が挙げられ
る。 (6)アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基と
しては、アルキル基が上記(2)で定義したアルキル基
のものが挙げられ、具体的には、ジメチルアミノ基、ジ
エチルアミノ基、N−メチル−N−プロピルアミノ基、
N,N−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。 (7)アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチ
ル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベン
ゾイル基等が挙げられる。
カプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基
としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フ
ェニルチオ基、pーメチルフェニルチオ基等が挙げられ
る。 (6)アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基と
しては、アルキル基が上記(2)で定義したアルキル基
のものが挙げられ、具体的には、ジメチルアミノ基、ジ
エチルアミノ基、N−メチル−N−プロピルアミノ基、
N,N−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。 (7)アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチ
ル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベン
ゾイル基等が挙げられる。
【0092】前記Xで表わされる構造部分は下記一般式
(E)のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物
をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、
下記一般式(B)のジオール化合物を併用することによ
り主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカー
ボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合
体となる。また、Xの構造部分は下記一般式(E)のト
リアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般
式(B)から誘導されるビスクロロホーメートとの重合
反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場
合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体とな
る。
(E)のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物
をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、
下記一般式(B)のジオール化合物を併用することによ
り主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカー
ボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合
体となる。また、Xの構造部分は下記一般式(E)のト
リアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般
式(B)から誘導されるビスクロロホーメートとの重合
反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場
合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体とな
る。
【0093】
【化64】 一般式(B)のジオール化合物は(1)式と同じものが
挙げられる。
挙げられる。
【0094】
【化65】 式中、R13、R14は置換若しくは無置換のアリール基、
Ar10、Ar11、Ar12は同一又は異なるアリレン基、
X1、X2は置換若しくは無置換のエチレン基、又は置換
若しくは無置換のビニレン基を表わす。X、k、j及び
nは、(1)式の場合と同じである。
Ar10、Ar11、Ar12は同一又は異なるアリレン基、
X1、X2は置換若しくは無置換のエチレン基、又は置換
若しくは無置換のビニレン基を表わす。X、k、j及び
nは、(1)式の場合と同じである。
【0095】(5)式の具体例 R13、R14は置換若しくは無置換のアリール基を表わす
が、その具体例としては以下のものを挙げることがで
き、同一であっても異なってもよい。芳香族炭化水素基
としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、
ピレニル基、2−フルオレニル基、9,9−ジメチル−
2−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、ト
リフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフ
ェニル基、5H−ジベンゾ[a,d]シクロヘプテニリ
デンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、
ターフェニリル基などが挙げられる。複素環基として
は、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾ
フラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
が、その具体例としては以下のものを挙げることがで
き、同一であっても異なってもよい。芳香族炭化水素基
としては、フェニル基、縮合多環基としてナフチル基、
ピレニル基、2−フルオレニル基、9,9−ジメチル−
2−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、ト
リフェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフ
ェニル基、5H−ジベンゾ[a,d]シクロヘプテニリ
デンフェニル基、非縮合多環基としてビフェニリル基、
ターフェニリル基などが挙げられる。複素環基として
は、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾ
フラニル基、カルバゾリル基などが挙げられる。
【0096】また、Ar10、Ar11及びAr12で示され
るアリレン基としてはR13及びR14で示したアリール基
の2価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。
上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換
基として有してもよい。 (1)ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。(2)アルキル基。アルキル基として
は、好ましくは、C1〜C12とりわけC1〜C8、さらに
好ましくはC1〜C4の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であ
り、これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、
シアノ基、C1〜C4のアルコキシ基、フェニル基、又は
ハロゲン原子、C1〜C4のアルキル基若しくはC1〜C4
のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有してもよ
い。具体的には、メチル基、エチル基、nープロピル
基、iープロピル基、tーブチル基、sーブチル基、n
ーブチル基、iーブチル基、トリフルオロメチル基、2
−ヒドロキシエチル基、2−シアノエチル基、2−エト
キシエチル基、2−メトキシエチル基、ベンジル基、4
−クロロベンジル基、4−メチルベンジル基、4−メト
キシベンジル基、4−フェニルベンジル基等が挙げられ
る。
るアリレン基としてはR13及びR14で示したアリール基
の2価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。
上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換
基として有してもよい。 (1)ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。(2)アルキル基。アルキル基として
は、好ましくは、C1〜C12とりわけC1〜C8、さらに
好ましくはC1〜C4の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であ
り、これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、
シアノ基、C1〜C4のアルコキシ基、フェニル基、又は
ハロゲン原子、C1〜C4のアルキル基若しくはC1〜C4
のアルコキシ基で置換されたフェニル基を含有してもよ
い。具体的には、メチル基、エチル基、nープロピル
基、iープロピル基、tーブチル基、sーブチル基、n
ーブチル基、iーブチル基、トリフルオロメチル基、2
−ヒドロキシエチル基、2−シアノエチル基、2−エト
キシエチル基、2−メトキシエチル基、ベンジル基、4
−クロロベンジル基、4−メチルベンジル基、4−メト
キシベンジル基、4−フェニルベンジル基等が挙げられ
る。
【0097】(3)アルコキシ基(−OR114)。アル
コキシ基(−OR114)としては、R114が上記(2)で
定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メ
トキシ基、エトキシ基、nープロポキシ基、iープロポ
キシ基、tーブトキシ基、nーブトキシ基、sーブトキ
シ基、iーブトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、2
−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、4−メチルベ
ンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられ
る。
コキシ基(−OR114)としては、R114が上記(2)で
定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メ
トキシ基、エトキシ基、nープロポキシ基、iープロポ
キシ基、tーブトキシ基、nーブトキシ基、sーブトキ
シ基、iーブトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、2
−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、4−メチルベ
ンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられ
る。
【0098】(4)アリールオキシ基。アリールオキシ
基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基
を有するものが挙げられる。これは、C1〜C4のアルコ
キシ基、C1〜C4のアルキル基又はハロゲン原子を置換
基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、
1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、4−メ
チルフェノキシ基、4−メトキシフェノキシ基、4−ク
ロロフェノキシ基、6−メチル−2−ナフチルオキシ基
等が挙げられる。
基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基
を有するものが挙げられる。これは、C1〜C4のアルコ
キシ基、C1〜C4のアルキル基又はハロゲン原子を置換
基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、
1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、4−メ
チルフェノキシ基、4−メトキシフェノキシ基、4−ク
ロロフェノキシ基、6−メチル−2−ナフチルオキシ基
等が挙げられる。
【0099】(5)置換メルカプト基又はアリールメル
カプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基
としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フ
ェニルチオ基、pーメチルフェニルチオ基等が挙げられ
る。
カプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基
としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フ
ェニルチオ基、pーメチルフェニルチオ基等が挙げられ
る。
【0100】(6)アルキル置換アミノ基。アルキル置
換アミノ基としては、アルキル基が上記(2)で定義し
たアルキル基のものが挙げられ、具体的には、ジメチル
アミノ基、ジエチルアミノ基、N−メチル−N−プロピ
ルアミノ基、N,N−ジベンジルアミノ基等が挙げられ
る。 (7)アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチ
ル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベン
ゾイル基等が挙げられる。
換アミノ基としては、アルキル基が上記(2)で定義し
たアルキル基のものが挙げられ、具体的には、ジメチル
アミノ基、ジエチルアミノ基、N−メチル−N−プロピ
ルアミノ基、N,N−ジベンジルアミノ基等が挙げられ
る。 (7)アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチ
ル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベン
ゾイル基等が挙げられる。
【0101】前記X1、X2の構造部分は置換若しくは無
置換のエチレン基、置換若しくは無置換のビニレン基を
表わし、この置換基としては、シアノ基、ハロゲン原
子、ニトロ基、上記R13、R14のアリール基、上記
(2)のアルキル基が挙げられる。
置換のエチレン基、置換若しくは無置換のビニレン基を
表わし、この置換基としては、シアノ基、ハロゲン原
子、ニトロ基、上記R13、R14のアリール基、上記
(2)のアルキル基が挙げられる。
【0102】前記Xで表わされる構造部分は下記一般式
(F)のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物
をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、
下記一般式(B)のジオール化合物を併用することによ
り主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカー
ボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合
体となる。また、Xの構造部分は下記一般式(F)のト
リアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般
式(B)から誘導されるビスクロロホーメートとの重合
反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場
合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体とな
る。
(F)のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物
をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、
下記一般式(B)のジオール化合物を併用することによ
り主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカー
ボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合
体となる。また、Xの構造部分は下記一般式(F)のト
リアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般
式(B)から誘導されるビスクロロホーメートとの重合
反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場
合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体とな
る。
【0103】
【化66】 一般式(B)のジオール化合物は(1)式と同じものが
挙げられる。
挙げられる。
【0104】
【化67】
【0105】式中、R15、R16、R17、R18は置換若し
くは無置換のアリール基、Ar13、Ar14、Ar15、A
r16は同一又は異なるアリレン基、Y1、Y2、Y3は単
結合、置換若しくは無置換のアルキレン基、置換若しく
は無置換のシクロアルキレン基、置換若しくは無置換の
アルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン
基を表わし同一であっても異なってもよい。X、k、j
及びnは、(1)式の場合と同じである。
くは無置換のアリール基、Ar13、Ar14、Ar15、A
r16は同一又は異なるアリレン基、Y1、Y2、Y3は単
結合、置換若しくは無置換のアルキレン基、置換若しく
は無置換のシクロアルキレン基、置換若しくは無置換の
アルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン
基を表わし同一であっても異なってもよい。X、k、j
及びnは、(1)式の場合と同じである。
【0106】(6)式の具体例 R15、R16、R17、R18は置換若しくは無置換のアリー
ル基を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げ
ることができ、同一であっても異なってもよい。
ル基を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げ
ることができ、同一であっても異なってもよい。
【0107】芳香族炭化水素基としては、フェニル基、
縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、2−フルオ
レニル基、9,9−ジメチル−2−フルオレニル基、ア
ズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリ
セニル基、フルオレニリデンフェニル基、5H−ジベン
ゾ[a,d]シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合
多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが
挙げられる。複素環基としては、チエニル基、ベンゾチ
エニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル
基などが挙げられる。
縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、2−フルオ
レニル基、9,9−ジメチル−2−フルオレニル基、ア
ズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリ
セニル基、フルオレニリデンフェニル基、5H−ジベン
ゾ[a,d]シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合
多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが
挙げられる。複素環基としては、チエニル基、ベンゾチ
エニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル
基などが挙げられる。
【0108】また、Ar13、Ar14、Ar15及びAr16
で示されるアリレン基としてはR15、R16、R17、及び
R18で示した上記のアリール基の2価基が挙げられ、同
一であっても異なってもよい。
で示されるアリレン基としてはR15、R16、R17、及び
R18で示した上記のアリール基の2価基が挙げられ、同
一であっても異なってもよい。
【0109】上述のアリール基及びアリレン基は以下に
示す基を置換基として有してもよい。 (1)ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 (2)アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、
C1〜C12とりわけC1〜C8、さらに好ましくはC1〜C
4の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアル
キル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、C1〜
C4のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、
C1〜C4のアルキル基若しくはC1〜C4のアルコキシ基
で置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的に
は、メチル基、エチル基、nープロピル基、iープロピ
ル基、tーブチル基、sーブチル基、nーブチル基、i
ーブチル基、トリフルオロメチル基、2−ヒドロキシエ
チル基、2−シアノエチル基、2−エトキシエチル基、
2−メトキシエチル基、ベンジル基、4−クロロベンジ
ル基、4−メチルベンジル基、4−メトキシベンジル
基、4−フェニルベンジル基等が挙げられる。
示す基を置換基として有してもよい。 (1)ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 (2)アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、
C1〜C12とりわけC1〜C8、さらに好ましくはC1〜C
4の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアル
キル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、C1〜
C4のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、
C1〜C4のアルキル基若しくはC1〜C4のアルコキシ基
で置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的に
は、メチル基、エチル基、nープロピル基、iープロピ
ル基、tーブチル基、sーブチル基、nーブチル基、i
ーブチル基、トリフルオロメチル基、2−ヒドロキシエ
チル基、2−シアノエチル基、2−エトキシエチル基、
2−メトキシエチル基、ベンジル基、4−クロロベンジ
ル基、4−メチルベンジル基、4−メトキシベンジル
基、4−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【0110】(3)アルコキシ基(−OR115)。アル
コキシ基(−OR115)としては、R115が上記(2)で
定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メ
トキシ基、エトキシ基、nープロポキシ基、iープロポ
キシ基、tーブトキシ基、nーブトキシ基、sーブトキ
シ基、iーブトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、2
−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、4−メチルベ
ンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられ
る。
コキシ基(−OR115)としては、R115が上記(2)で
定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メ
トキシ基、エトキシ基、nープロポキシ基、iープロポ
キシ基、tーブトキシ基、nーブトキシ基、sーブトキ
シ基、iーブトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、2
−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、4−メチルベ
ンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられ
る。
【0111】(4)アリールオキシ基。アリールオキシ
基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基
が挙げられる。これは、C1〜C4のアルコキシ基、C1
〜C4のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含
有してもよい。具体的には、フェノキシ基、1−ナフチ
ルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、4−メチルフェノ
キシ基、4−メトキシフェノキシ基、4−クロロフェノ
キシ基、6−メチル−2−ナフチルオキシ基等が挙げら
れる。
基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基
が挙げられる。これは、C1〜C4のアルコキシ基、C1
〜C4のアルキル基又はハロゲン原子を置換基として含
有してもよい。具体的には、フェノキシ基、1−ナフチ
ルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、4−メチルフェノ
キシ基、4−メトキシフェノキシ基、4−クロロフェノ
キシ基、6−メチル−2−ナフチルオキシ基等が挙げら
れる。
【0112】前記Y1、Y2、Y3の構造部分は単結合、
置換若しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置
換のシクロアルキレン基、置換若しくは無置換のアルキ
レンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表
わし、同一であっても異なっていてもよい。
置換若しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置
換のシクロアルキレン基、置換若しくは無置換のアルキ
レンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表
わし、同一であっても異なっていてもよい。
【0113】このアルキレン基としては、上記(2)で
示したアルキル基より誘導される2価基が挙げられ、具
体的には、メチレン基、エチレン基、1,3−プロピレ
ン基、1,4−ブチレン基、2−メチル−1,3−プロ
ピレン基、ジフルオロメチレン基、ヒドロキシエチレン
基、シアノエチレン基、メトキシエチレン基、フェニル
メチレン基、4−メチルフェニルメチレン基、2,2−
プロピレン基、2,2−ブチレン基、ジフェニルメチレ
ン基等を挙げることができる。
示したアルキル基より誘導される2価基が挙げられ、具
体的には、メチレン基、エチレン基、1,3−プロピレ
ン基、1,4−ブチレン基、2−メチル−1,3−プロ
ピレン基、ジフルオロメチレン基、ヒドロキシエチレン
基、シアノエチレン基、メトキシエチレン基、フェニル
メチレン基、4−メチルフェニルメチレン基、2,2−
プロピレン基、2,2−ブチレン基、ジフェニルメチレ
ン基等を挙げることができる。
【0114】同シクロアルキレン基としては、1,1−
シクロペンチレン基、1,1−シクロヘキシレン基、
1,1−シクロオクチレン基等を挙げることができる。
シクロペンチレン基、1,1−シクロヘキシレン基、
1,1−シクロオクチレン基等を挙げることができる。
【0115】同アルキレンエーテル基としては、ジメチ
レンエーテル基、ジエチレンエーテル基、エチレンメチ
レンエーテル基、ビス(トリエチレン)エーテル基、ポ
リテトラメチレンエーテル基等が挙げられる。
レンエーテル基、ジエチレンエーテル基、エチレンメチ
レンエーテル基、ビス(トリエチレン)エーテル基、ポ
リテトラメチレンエーテル基等が挙げられる。
【0116】前記Xで表わされる構造部分は下記一般式
(G)のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物
をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、
下記一般式(B)のジオール化合物を併用することによ
り主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカー
ボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合
体となる。また、Xの構造部分は下記一般式(G)のト
リアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般
式(B)から誘導されるビスクロロホーメートとの重合
反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場
合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体とな
る。
(G)のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物
をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、
下記一般式(B)のジオール化合物を併用することによ
り主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカー
ボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合
体となる。また、Xの構造部分は下記一般式(G)のト
リアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一般
式(B)から誘導されるビスクロロホーメートとの重合
反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場
合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体とな
る。
【0117】
【化68】 一般式(B)のジオール化合物は(1)式と同じものが
挙げられる。
挙げられる。
【0118】
【化69】 式中、R19、R20は水素原子、置換若しくは無置換のア
リール基を表わし、R19とR20は環を形成していてもよ
い。Ar17、Ar18、Ar19は同一又は異なるアリレン
基を表わす。X、k、j及びnは、(1)式の場合と同
じである。
リール基を表わし、R19とR20は環を形成していてもよ
い。Ar17、Ar18、Ar19は同一又は異なるアリレン
基を表わす。X、k、j及びnは、(1)式の場合と同
じである。
【0119】(7)式の具体例 R19、R20は置換若しくは無置換のアリール基を表わす
が、その具体例としては以下のものを挙げることがで
き、同一であっても異なってもよい。
が、その具体例としては以下のものを挙げることがで
き、同一であっても異なってもよい。
【0120】芳香族炭化水素基としては、フェニル基、
縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、2−フルオ
レニル基、9,9−ジメチル−2−フルオレニル基、ア
ズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリ
セニル基、フルオレニリデンフェニル基、5H−ジベン
ゾ[a,d]シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合
多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが
挙げられる。複素環基としては、チエニル基、ベンゾチ
エニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル
基などが挙げられる。
縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、2−フルオ
レニル基、9,9−ジメチル−2−フルオレニル基、ア
ズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリ
セニル基、フルオレニリデンフェニル基、5H−ジベン
ゾ[a,d]シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合
多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが
挙げられる。複素環基としては、チエニル基、ベンゾチ
エニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル
基などが挙げられる。
【0121】また、R19、R20は環を形成する場合、9
−フルオリニデン、5H−ジベンゾ[a,d]シクロヘ
ブテニリデンなどが挙げられる。また、Ar17、Ar18
及びAr19で示されるアリレン基としてはR19及びR20
で示したアリール基の2価基が挙げられ、同一であって
も異なってもよい。
−フルオリニデン、5H−ジベンゾ[a,d]シクロヘ
ブテニリデンなどが挙げられる。また、Ar17、Ar18
及びAr19で示されるアリレン基としてはR19及びR20
で示したアリール基の2価基が挙げられ、同一であって
も異なってもよい。
【0122】上述のアリール基及びアリレン基は以下に
示す基を置換基として有してもよい。 (1)ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 (2)アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、
C1〜C12とりわけC1〜C8、さらに好ましくはC1〜C
4の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアル
キル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、C1〜
C4のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、
C1〜C4のアルキル基若しくはC1〜C4のアルコキシ基
で置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的に
は、メチル基、エチル基、nープロピル基、iープロピ
ル基、tーブチル基、sーブチル基、nーブチル基、i
ーブチル基、トリフルオロメチル基、2−ヒドロキシエ
チル基、2−シアノエチル基、2−エトキシエチル基、
2−メトキシエチル基、ベンジル基、4−クロロベンジ
ル基、4−メチルベンジル基、4−メトキシベンジル
基、4−フェニルベンジル基等が挙げられる。
示す基を置換基として有してもよい。 (1)ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 (2)アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、
C1〜C12とりわけC1〜C8、さらに好ましくはC1〜C
4の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアル
キル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、C1〜
C4のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、
C1〜C4のアルキル基若しくはC1〜C4のアルコキシ基
で置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的に
は、メチル基、エチル基、nープロピル基、iープロピ
ル基、tーブチル基、sーブチル基、nーブチル基、i
ーブチル基、トリフルオロメチル基、2−ヒドロキシエ
チル基、2−シアノエチル基、2−エトキシエチル基、
2−メトキシエチル基、ベンジル基、4−クロロベンジ
ル基、4−メチルベンジル基、4−メトキシベンジル
基、4−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【0123】(3)アルコキシ基(−OR116)。アル
コキシ基(−OR116)としては、R11 6が上記(2)で
定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メ
トキシ基、エトキシ基、nープロポキシ基、iープロポ
キシ基、tーブトキシ基、nーブトキシ基、sーブトキ
シ基、iーブトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、2
−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、4−メチルベ
ンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられ
る。
コキシ基(−OR116)としては、R11 6が上記(2)で
定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メ
トキシ基、エトキシ基、nープロポキシ基、iープロポ
キシ基、tーブトキシ基、nーブトキシ基、sーブトキ
シ基、iーブトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、2
−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、4−メチルベ
ンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられ
る。
【0124】(4)アリールオキシ基。アリールオキシ
基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基
を有するものが挙げられる。これは、C1〜C4のアルコ
キシ基、C1〜C4のアルキル基又はハロゲン原子を置換
基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、
1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、4−メ
チルフェノキシ基、4−メトキシフェノキシ基、4−ク
ロロフェノキシ基、6−メチル−2−ナフチルオキシ基
等が挙げられる。
基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基
を有するものが挙げられる。これは、C1〜C4のアルコ
キシ基、C1〜C4のアルキル基又はハロゲン原子を置換
基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、
1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、4−メ
チルフェノキシ基、4−メトキシフェノキシ基、4−ク
ロロフェノキシ基、6−メチル−2−ナフチルオキシ基
等が挙げられる。
【0125】(5)置換メルカプト基又はアリールメル
カプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基
としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フ
ェニルチオ基、pーメチルフェニルチオ基等が挙げられ
る。 (6)アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基と
しては、アルキル基が上記(2)で定義したアルキル基
のものが挙げられ、具体的には、ジメチルアミノ基、ジ
エチルアミノ基、N−メチル−N−プロピルアミノ基、
N,N−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。 (7)アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチ
ル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベン
ゾイル基等が挙げられる。
カプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基
としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フ
ェニルチオ基、pーメチルフェニルチオ基等が挙げられ
る。 (6)アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基と
しては、アルキル基が上記(2)で定義したアルキル基
のものが挙げられ、具体的には、ジメチルアミノ基、ジ
エチルアミノ基、N−メチル−N−プロピルアミノ基、
N,N−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。 (7)アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチ
ル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベン
ゾイル基等が挙げられる。
【0126】前記Xの構造部分は下記一般式(H)のト
リアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン
法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式
(B)のジオール化合物を併用することにより主鎖中に
導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹
脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。
また、Xの構造部分は下記一般式(H)のトリアリール
アミノ基を有するジオール化合物と下記一般式(B)か
ら誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によっ
ても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造され
るポリカーボネートは交互共重合体となる。
リアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン
法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式
(B)のジオール化合物を併用することにより主鎖中に
導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹
脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。
また、Xの構造部分は下記一般式(H)のトリアリール
アミノ基を有するジオール化合物と下記一般式(B)か
ら誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によっ
ても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造され
るポリカーボネートは交互共重合体となる。
【0127】
【化70】 一般式(B)のジオール化合物は(1)式と同じものが
挙げられる。
挙げられる。
【0128】
【化71】 式中、R21は置換若しくは無置換のアリール基、A
r20、Ar21、Ar22、Ar23は同一又は異なるアリレ
ン基を表わす。X、k、j及びnは、(1)式の場合と
同じである。
r20、Ar21、Ar22、Ar23は同一又は異なるアリレ
ン基を表わす。X、k、j及びnは、(1)式の場合と
同じである。
【0129】(8)式の具体例 R21は置換若しくは無置換のアリール基を表わすが、そ
の具体例としては以下のものを挙げることができ、同一
であっても異なってもよい。
の具体例としては以下のものを挙げることができ、同一
であっても異なってもよい。
【0130】芳香族炭化水素基としては、フェニル基、
縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、2−フルオ
レニル基、9,9−ジメチル−2−フルオレニル基、ア
ズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリ
セニル基、フルオレニリデンフェニル基、5H−ジベン
ゾ[a,d]シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合
多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが
挙げられる。複素環基としては、チエニル基、ベンゾチ
エニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル
基などが挙げられる。
縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、2−フルオ
レニル基、9,9−ジメチル−2−フルオレニル基、ア
ズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリ
セニル基、フルオレニリデンフェニル基、5H−ジベン
ゾ[a,d]シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合
多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが
挙げられる。複素環基としては、チエニル基、ベンゾチ
エニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル
基などが挙げられる。
【0131】また、Ar20、Ar21、Ar22及びAr23
で示されるアリレン基としてはR21で示したアリール基
の2価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。
上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換
基として有してもよい。 (1)ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。
で示されるアリレン基としてはR21で示したアリール基
の2価基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。
上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を置換
基として有してもよい。 (1)ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。
【0132】(2)アルキル基。アルキル基としては、
好ましくは、C1〜C12とりわけC1〜C8、さらに好ま
しくはC1〜C4の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、
これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シア
ノ基、C1〜C4のアルコキシ基、フェニル基、又はハロ
ゲン原子、C1〜C4のアルキル基若しくはC1〜C4のア
ルコキシ基で置換されたフェニル基を含有してもよい。
具体的には、メチル基、エチル基、nープロピル基、i
ープロピル基、tーブチル基、sーブチル基、nーブチ
ル基、iーブチル基、トリフルオロメチル基、2−ヒド
ロキシエチル基、2−シアノエチル基、2−エトキシエ
チル基、2−メトキシエチル基、ベンジル基、4−クロ
ロベンジル基、4−メチルベンジル基、4−メトキシベ
ンジル基、4−フェニルベンジル基等が挙げられる。
好ましくは、C1〜C12とりわけC1〜C8、さらに好ま
しくはC1〜C4の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、
これらのアルキル基はさらにフッ素原子、水酸基、シア
ノ基、C1〜C4のアルコキシ基、フェニル基、又はハロ
ゲン原子、C1〜C4のアルキル基若しくはC1〜C4のア
ルコキシ基で置換されたフェニル基を含有してもよい。
具体的には、メチル基、エチル基、nープロピル基、i
ープロピル基、tーブチル基、sーブチル基、nーブチ
ル基、iーブチル基、トリフルオロメチル基、2−ヒド
ロキシエチル基、2−シアノエチル基、2−エトキシエ
チル基、2−メトキシエチル基、ベンジル基、4−クロ
ロベンジル基、4−メチルベンジル基、4−メトキシベ
ンジル基、4−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【0133】(3)アルコキシ基(−OR117)。アル
コキシ基(−OR117)としては、R117が上記(2)で
定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メ
トキシ基、エトキシ基、nープロポキシ基、iープロポ
キシ基、tーブトキシ基、nーブトキシ基、sーブトキ
シ基、iーブトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、2
−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、4−メチルベ
ンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられ
る。
コキシ基(−OR117)としては、R117が上記(2)で
定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メ
トキシ基、エトキシ基、nープロポキシ基、iープロポ
キシ基、tーブトキシ基、nーブトキシ基、sーブトキ
シ基、iーブトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、2
−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、4−メチルベ
ンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられ
る。
【0134】(4)アリールオキシ基。アリールオキシ
基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基
を有するものが挙げられる。これは、C1〜C4のアルコ
キシ基、C1〜C4のアルキル基又はハロゲン原子を置換
基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、
1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、4−メ
チルフェノキシ基、4−メトキシフェノキシ基、4−ク
ロロフェノキシ基、6−メチル−2−ナフチルオキシ基
等が挙げられる。
基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基
を有するものが挙げられる。これは、C1〜C4のアルコ
キシ基、C1〜C4のアルキル基又はハロゲン原子を置換
基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、
1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、4−メ
チルフェノキシ基、4−メトキシフェノキシ基、4−ク
ロロフェノキシ基、6−メチル−2−ナフチルオキシ基
等が挙げられる。
【0135】(5)置換メルカプト基又はアリールメル
カプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基
としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フ
ェニルチオ基、pーメチルフェニルチオ基等が挙げられ
る。
カプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基
としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フ
ェニルチオ基、pーメチルフェニルチオ基等が挙げられ
る。
【0136】(6)アルキル置換アミノ基。アルキル置
換アミノ基としては、アルキル基が上記(2)で定義し
たアルキル基のものを表わす。具体的には、ジメチルア
ミノ基、ジエチルアミノ基、N−メチル−N−プロピル
アミノ基、N,N−ジベンジルアミノ基等が挙げられ
る。 (7)アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチ
ル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベン
ゾイル基等が挙げられる。
換アミノ基としては、アルキル基が上記(2)で定義し
たアルキル基のものを表わす。具体的には、ジメチルア
ミノ基、ジエチルアミノ基、N−メチル−N−プロピル
アミノ基、N,N−ジベンジルアミノ基等が挙げられ
る。 (7)アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチ
ル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベン
ゾイル基等が挙げられる。
【0137】前記Xの構造部分は下記一般式(J)のト
リアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン
法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式
(B)のジオール化合物を併用することにより主鎖中に
導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹
脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。
また、この構造部分Xは下記一般式(J)のトリアリー
ルアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式(B)
から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によ
っても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造さ
れるポリカーボネートは交互共重合体となる。
リアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン
法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式
(B)のジオール化合物を併用することにより主鎖中に
導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹
脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。
また、この構造部分Xは下記一般式(J)のトリアリー
ルアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式(B)
から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によ
っても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造さ
れるポリカーボネートは交互共重合体となる。
【0138】
【化72】 一般式(B)のジオール化合物は(1)式と同じものが
挙げられる。
挙げられる。
【0139】
【化73】 式中、R22、R23、R24、R25は置換若しくは無置換の
アリール基、Ar24、Ar25、Ar26、Ar27、Ar28
は同一又は異なるアリレン基を表わす。X、k、j及び
nは、(1)式の場合と同じである。
アリール基、Ar24、Ar25、Ar26、Ar27、Ar28
は同一又は異なるアリレン基を表わす。X、k、j及び
nは、(1)式の場合と同じである。
【0140】(9)式の具体例 R22、R23、R24、R25は置換若しくは無置換のアリー
ル基を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げ
ることができ、同一であっても異なってもよい。
ル基を表わすが、その具体例としては以下のものを挙げ
ることができ、同一であっても異なってもよい。
【0141】芳香族炭化水素基としては、フェニル基、
縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、2−フルオ
レニル基、9,9−ジメチル−2−フルオレニル基、ア
ズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリ
セニル基、フルオレニリデンフェニル基、5H−ジベン
ゾ[a,d]シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合
多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが
挙げられる。複素環基としては、チエニル基、ベンゾチ
エニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル
基などが挙げられる。
縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、2−フルオ
レニル基、9,9−ジメチル−2−フルオレニル基、ア
ズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリ
セニル基、フルオレニリデンフェニル基、5H−ジベン
ゾ[a,d]シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合
多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが
挙げられる。複素環基としては、チエニル基、ベンゾチ
エニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル
基などが挙げられる。
【0142】また、Ar24、Ar25、Ar26、Ar27、
及びAr28で示されるアリレン基としては、R22、
R23、R24、及びR25で示したアリール基の2価基が挙
げられ、同一であっても異なってもよい。上述のアリー
ル基及びアリレン基は以下に示す基を置換基として有し
てもよい。
及びAr28で示されるアリレン基としては、R22、
R23、R24、及びR25で示したアリール基の2価基が挙
げられ、同一であっても異なってもよい。上述のアリー
ル基及びアリレン基は以下に示す基を置換基として有し
てもよい。
【0143】(1)ハロゲン原子、トリフルオロメチル
基、シアノ基、ニトロ基。 (2)アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、
C1〜C12とりわけC1〜C8、さらに好ましくはC1〜C
4の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアル
キル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、C1〜
C4のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、
C1〜C4のアルキル基若しくはC1〜C4のアルコキシ基
で置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的に
は、メチル基、エチル基、nープロピル基、iープロピ
ル基、tーブチル基、sーブチル基、nーブチル基、i
ーブチル基、トリフルオロメチル基、2−ヒドロキシエ
チル基、2−シアノエチル基、2−エトキシエチル基、
2−メトキシエチル基、ベンジル基、4−クロロベンジ
ル基、4−メチルベンジル基、4−メトキシベンジル
基、4−フェニルベンジル基等が挙げられる。
基、シアノ基、ニトロ基。 (2)アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、
C1〜C12とりわけC1〜C8、さらに好ましくはC1〜C
4の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアル
キル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、C1〜
C4のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、
C1〜C4のアルキル基若しくはC1〜C4のアルコキシ基
で置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的に
は、メチル基、エチル基、nープロピル基、iープロピ
ル基、tーブチル基、sーブチル基、nーブチル基、i
ーブチル基、トリフルオロメチル基、2−ヒドロキシエ
チル基、2−シアノエチル基、2−エトキシエチル基、
2−メトキシエチル基、ベンジル基、4−クロロベンジ
ル基、4−メチルベンジル基、4−メトキシベンジル
基、4−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【0144】(3)アルコキシ基(−OR118)。アル
コキシ基(−OR118)としては、R118が上記(2)で
定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メ
トキシ基、エトキシ基、nープロポキシ基、iープロポ
キシ基、tーブトキシ基、nーブトキシ基、sーブトキ
シ基、iーブトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、2
−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、4−メチルベ
ンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられ
る。
コキシ基(−OR118)としては、R118が上記(2)で
定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メ
トキシ基、エトキシ基、nープロポキシ基、iープロポ
キシ基、tーブトキシ基、nーブトキシ基、sーブトキ
シ基、iーブトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、2
−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、4−メチルベ
ンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられ
る。
【0145】(4)アリールオキシ基。アリールオキシ
基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基
を有するものが挙げられる。これは、C1〜C4のアルコ
キシ基、C1〜C4のアルキル基又はハロゲン原子を置換
基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、
1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、4−メ
チルフェノキシ基、4−メトキシフェノキシ基、4−ク
ロロフェノキシ基、6−メチル−2−ナフチルオキシ基
等が挙げられる。
基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基
を有するものが挙げられる。これは、C1〜C4のアルコ
キシ基、C1〜C4のアルキル基又はハロゲン原子を置換
基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、
1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、4−メ
チルフェノキシ基、4−メトキシフェノキシ基、4−ク
ロロフェノキシ基、6−メチル−2−ナフチルオキシ基
等が挙げられる。
【0146】(5)置換メルカプト基又はアリールメル
カプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基
としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フ
ェニルチオ基、pーメチルフェニルチオ基等が挙げられ
る。
カプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基
としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フ
ェニルチオ基、pーメチルフェニルチオ基等が挙げられ
る。
【0147】(6)アルキル置換アミノ基。アルキル置
換アミノ基としては、アルキル基が上記(2)で定義し
たアルキル基のものが挙げられ、具体的には、ジメチル
アミノ基、ジエチルアミノ基、N−メチル−N−プロピ
ルアミノ基、N,N−ジベンジルアミノ基等が挙げられ
る。 (7)アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチ
ル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベン
ゾイル基等が挙げられる。
換アミノ基としては、アルキル基が上記(2)で定義し
たアルキル基のものが挙げられ、具体的には、ジメチル
アミノ基、ジエチルアミノ基、N−メチル−N−プロピ
ルアミノ基、N,N−ジベンジルアミノ基等が挙げられ
る。 (7)アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチ
ル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベン
ゾイル基等が挙げられる。
【0148】前記Xで表わされる構造部分は下記一般式
(L)のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物
をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、
下記一般式(B)のジオール化合物を併用することによ
り主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカー
ボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合
体となる。また、この構造部分Xは下記一般式(L)の
トリアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一
般式(B)から誘導されるビスクロロホーメートとの重
合反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場
合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体とな
る。
(L)のトリアリールアミノ基を有するジオール化合物
をホスゲン法、エステル交換法等を用い重合するとき、
下記一般式(B)のジオール化合物を併用することによ
り主鎖中に導入される。この場合、製造されるポリカー
ボネート樹脂はランダム共重合体、又はブロック共重合
体となる。また、この構造部分Xは下記一般式(L)の
トリアリールアミノ基を有するジオール化合物と下記一
般式(B)から誘導されるビスクロロホーメートとの重
合反応によっても繰り返し単位中に導入される。この場
合、製造されるポリカーボネートは交互共重合体とな
る。
【0149】
【化74】 一般式(B)のジオール化合物は(1)式と同じものが
挙げられる。
挙げられる。
【0150】
【化75】 式中、R26、R27は置換若しくは無置換のアリール基、
Ar29、Ar30、Ar31は同一又は異なるアリレン基を
表わす。X、k、j及びnは、(1)式の場合と同じで
ある。
Ar29、Ar30、Ar31は同一又は異なるアリレン基を
表わす。X、k、j及びnは、(1)式の場合と同じで
ある。
【0151】(10)式の具体例 R26、R27は置換若しくは無置換のアリール基を表わす
が、その具体例としては以下のものを挙げることがで
き、同一であっても異なってもよい。
が、その具体例としては以下のものを挙げることがで
き、同一であっても異なってもよい。
【0152】芳香族炭化水素基としては、フェニル基、
縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、2−フルオ
レニル基、9,9−ジメチル−2−フルオレニル基、ア
ズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリ
セニル基、フルオレニリデンフェニル基、5H−ジベン
ゾ[a,d]シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合
多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが
挙げられる。複素環基としては、チエニル基、ベンゾチ
エニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル
基などが挙げられる。
縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、2−フルオ
レニル基、9,9−ジメチル−2−フルオレニル基、ア
ズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリ
セニル基、フルオレニリデンフェニル基、5H−ジベン
ゾ[a,d]シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合
多環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが
挙げられる。複素環基としては、チエニル基、ベンゾチ
エニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル
基などが挙げられる。
【0153】また、Ar29、Ar30、及びAr31で示さ
れるアリレン基としては、R26及びR27で示したアリー
ル基の2価基が挙げられ、同一であっても異なってもよ
い。上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を
置換基として有してもよい。
れるアリレン基としては、R26及びR27で示したアリー
ル基の2価基が挙げられ、同一であっても異なってもよ
い。上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基を
置換基として有してもよい。
【0154】(1)ハロゲン原子、トリフルオロメチル
基、シアノ基、ニトロ基。 (2)アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、
C1〜C12とりわけC1〜C8、さらに好ましくはC1〜C
4の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアル
キル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、C1〜
C4のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、
C1〜C4のアルキル基若しくはC1〜C4のアルコキシ基
で置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的に
は、メチル基、エチル基、nープロピル基、iープロピ
ル基、tーブチル基、sーブチル基、nーブチル基、i
ーブチル基、トリフルオロメチル基、2−ヒドロキシエ
チル基、2−シアノエチル基、2−エトキシエチル基、
2−メトキシエチル基、ベンジル基、4−クロロベンジ
ル基、4−メチルベンジル基、4−メトキシベンジル
基、4−フェニルベンジル基等が挙げられる。
基、シアノ基、ニトロ基。 (2)アルキル基。アルキル基としては、好ましくは、
C1〜C12とりわけC1〜C8、さらに好ましくはC1〜C
4の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、これらのアル
キル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、C1〜
C4のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、
C1〜C4のアルキル基若しくはC1〜C4のアルコキシ基
で置換されたフェニル基を含有してもよい。具体的に
は、メチル基、エチル基、nープロピル基、iープロピ
ル基、tーブチル基、sーブチル基、nーブチル基、i
ーブチル基、トリフルオロメチル基、2−ヒドロキシエ
チル基、2−シアノエチル基、2−エトキシエチル基、
2−メトキシエチル基、ベンジル基、4−クロロベンジ
ル基、4−メチルベンジル基、4−メトキシベンジル
基、4−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【0155】(3)アルコキシ基(−OR119)。アル
コキシ基(−OR119)としては、R119が上記(2)で
定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メ
トキシ基、エトキシ基、nープロポキシ基、iープロポ
キシ基、tーブトキシ基、nーブトキシ基、sーブトキ
シ基、iーブトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、2
−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、4−メチルベ
ンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられ
る。
コキシ基(−OR119)としては、R119が上記(2)で
定義したアルキル基のものが挙げられ、具体的には、メ
トキシ基、エトキシ基、nープロポキシ基、iープロポ
キシ基、tーブトキシ基、nーブトキシ基、sーブトキ
シ基、iーブトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、2
−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、4−メチルベ
ンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられ
る。
【0156】(4)アリールオキシ基。アリールオキシ
基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基
を有するものが挙げられる。これは、C1〜C4のアルコ
キシ基、C1〜C4のアルキル基又はハロゲン原子を置換
基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、
1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、4−メ
チルフェノキシ基、4−メトキシフェノキシ基、4−ク
ロロフェノキシ基、6−メチル−2−ナフチルオキシ基
等が挙げられる。
基としては、アリール基としてフェニル基、ナフチル基
を有するものが挙げられる。これは、C1〜C4のアルコ
キシ基、C1〜C4のアルキル基又はハロゲン原子を置換
基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、
1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、4−メ
チルフェノキシ基、4−メトキシフェノキシ基、4−ク
ロロフェノキシ基、6−メチル−2−ナフチルオキシ基
等が挙げられる。
【0157】(5)置換メルカプト基又はアリールメル
カプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基
としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フ
ェニルチオ基、pーメチルフェニルチオ基等が挙げられ
る。 (6)アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基と
しては、アルキル基が上記(2)で定義したアルキル基
のものが挙げられ、具体的には、ジメチルアミノ基、ジ
エチルアミノ基、N−メチル−N−プロピルアミノ基、
N,N−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。 (7)アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチ
ル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベン
ゾイル基等が挙げられる。
カプト基。置換メルカプト基又はアリールメルカプト基
としては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フ
ェニルチオ基、pーメチルフェニルチオ基等が挙げられ
る。 (6)アルキル置換アミノ基。アルキル置換アミノ基と
しては、アルキル基が上記(2)で定義したアルキル基
のものが挙げられ、具体的には、ジメチルアミノ基、ジ
エチルアミノ基、N−メチル−N−プロピルアミノ基、
N,N−ジベンジルアミノ基等が挙げられる。 (7)アシル基。アシル基としては、具体的にはアセチ
ル基、プロピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベン
ゾイル基等が挙げられる。
【0158】前記Xの構造部分は下記一般式(M)のト
リアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン
法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式
(B)のジオール化合物を併用することにより主鎖中に
導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹
脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。
また、この構造部分Xは下記一般式(M)のトリアリー
ルアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式(B)
から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によ
っても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造さ
れるポリカーボネートは交互共重合体となる。
リアリールアミノ基を有するジオール化合物をホスゲン
法、エステル交換法等を用い重合するとき、下記一般式
(B)のジオール化合物を併用することにより主鎖中に
導入される。この場合、製造されるポリカーボネート樹
脂はランダム共重合体、又はブロック共重合体となる。
また、この構造部分Xは下記一般式(M)のトリアリー
ルアミノ基を有するジオール化合物と下記一般式(B)
から誘導されるビスクロロホーメートとの重合反応によ
っても繰り返し単位中に導入される。この場合、製造さ
れるポリカーボネートは交互共重合体となる。
【0159】
【化76】 一般式(B)のジオール化合物は(1)式と同じものが
挙げられる。
挙げられる。
【0160】(1)〜(10)式におけるX(一般式B
におけるX)は以下の構造のものが特に好ましい。
におけるX)は以下の構造のものが特に好ましい。
【0161】
【化77】 式中、R301及びR302はそれぞれ独立している場合に
は、水素原子、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチ
ル、オクチル、ノニル、デシル等のアルキル基(ただ
し、トリフルオロメチルなどの置換アルキル基を含
む)、フェニル及びナフチルなどのアリール基(ただ
し、ハロゲン、炭素原子1〜5のアルキル基などの置換
基を有する置換アリール基を含む)を表わし、R301と
R302が結合している場合にはヘキシルのようなシクロ
アルカン類及びノルボルニルのようなポリシクロアルカ
ン類を含む環式炭化水素基を作るのに必要な炭素原子群
を表わす。R303及びR304はそれぞれ水素原子、炭素原
子1〜5のアルキル基、塩素、臭素、ヨウ素のようなハ
ロゲン原子を表わす。
は、水素原子、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチ
ル、オクチル、ノニル、デシル等のアルキル基(ただ
し、トリフルオロメチルなどの置換アルキル基を含
む)、フェニル及びナフチルなどのアリール基(ただ
し、ハロゲン、炭素原子1〜5のアルキル基などの置換
基を有する置換アリール基を含む)を表わし、R301と
R302が結合している場合にはヘキシルのようなシクロ
アルカン類及びノルボルニルのようなポリシクロアルカ
ン類を含む環式炭化水素基を作るのに必要な炭素原子群
を表わす。R303及びR304はそれぞれ水素原子、炭素原
子1〜5のアルキル基、塩素、臭素、ヨウ素のようなハ
ロゲン原子を表わす。
【0162】共晶錯体感光層(31)を作るには、上記
ピリリウム系染料及びトリアリールアミン構造を主鎖及
び/又は側鎖に含むポリカーボネートを適当な溶媒、例
えばテトラヒドロフラン、トルエン、1,2−ジクロロ
エタン、塩化メチレン、クロロホルム、モノクロロベン
ゼン、ジクロルベンゼン、ベンゼン等に溶解し、これを
導電性支持体(11)上に塗布・乾燥して、膜厚5〜5
0μmの光導電層(共晶錯体感光層)を形成すればよ
い。塗布は、浸積塗工法、ビードコート法、スプレーコ
ート法や、ワイヤーブレード、ドクターブレード、エア
ーナイフ等を用いて行なうことができる。この塗布・乾
燥がなされる間に、ピリリウム系染料とトリアリールア
ミン構造を主鎖及び/又は側鎖に含むポリカーボネート
とで共晶錯体を形成する。共晶錯体感光層(31)にお
ける各成分の割合は、ピリリウム系染料1重量部に対し
て、高分子電荷輸送物質5〜100重量部が適当であ
る。
ピリリウム系染料及びトリアリールアミン構造を主鎖及
び/又は側鎖に含むポリカーボネートを適当な溶媒、例
えばテトラヒドロフラン、トルエン、1,2−ジクロロ
エタン、塩化メチレン、クロロホルム、モノクロロベン
ゼン、ジクロルベンゼン、ベンゼン等に溶解し、これを
導電性支持体(11)上に塗布・乾燥して、膜厚5〜5
0μmの光導電層(共晶錯体感光層)を形成すればよ
い。塗布は、浸積塗工法、ビードコート法、スプレーコ
ート法や、ワイヤーブレード、ドクターブレード、エア
ーナイフ等を用いて行なうことができる。この塗布・乾
燥がなされる間に、ピリリウム系染料とトリアリールア
ミン構造を主鎖及び/又は側鎖に含むポリカーボネート
とで共晶錯体を形成する。共晶錯体感光層(31)にお
ける各成分の割合は、ピリリウム系染料1重量部に対し
て、高分子電荷輸送物質5〜100重量部が適当であ
る。
【0163】共晶錯体感光層(31)には必要に応じて
適当なバインダー樹脂、低分子電荷輸送物質を添加する
こともできる。共晶錯体感光層(31)に併用できる低
分子電荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸送物質と
がある。
適当なバインダー樹脂、低分子電荷輸送物質を添加する
こともできる。共晶錯体感光層(31)に併用できる低
分子電荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸送物質と
がある。
【0164】電子輸送物質としては、例えばクロルアニ
ル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシア
ノキノジメタン、2,4,7−トリニトロ−9−フルオ
レノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレ
ノン、2,4,5,7−テトラニトロキサントン、2,
4,8−トリニトロチオキサントン、2,6,8−トリ
ニトロ−4H−インデノ[1,2−b]チオフェン−4
オン、1,3,7−トリニトロジベンゾチオフェン−
5,5−ジオキサイドなどの電子受容性物質が挙げられ
る。これらの電子輸送物質は、単独または2種以上の混
合物として用いることができる。
ル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシア
ノキノジメタン、2,4,7−トリニトロ−9−フルオ
レノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレ
ノン、2,4,5,7−テトラニトロキサントン、2,
4,8−トリニトロチオキサントン、2,6,8−トリ
ニトロ−4H−インデノ[1,2−b]チオフェン−4
オン、1,3,7−トリニトロジベンゾチオフェン−
5,5−ジオキサイドなどの電子受容性物質が挙げられ
る。これらの電子輸送物質は、単独または2種以上の混
合物として用いることができる。
【0165】正孔輸送物質としては、以下に表わされる
電子供与性物質が挙げられ、良好に用いられる。例え
ば、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イ
ミダゾール誘導体、トリフェニルアミン誘導体、9−
(p−ジエチルアミノスチリルアントラセン)、1,1
−ビス−(4−ジベンジルアミノフェニル)プロパン、
スチリルアントラセン、スチリルピラゾリン、フェニル
ヒドラゾン類、α−フェニルスチルベン誘導体、チアゾ
ール誘導体、トリアゾール誘導体、フェナジン誘導体、
アクリジン誘導体、ベンゾフラン誘導体、ベンズイミダ
ゾール誘導体、チオフェン誘導体などが挙げられる。こ
れらの正孔輸送物質は、単独または2種以上の混合物と
して用いることができる。
電子供与性物質が挙げられ、良好に用いられる。例え
ば、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イ
ミダゾール誘導体、トリフェニルアミン誘導体、9−
(p−ジエチルアミノスチリルアントラセン)、1,1
−ビス−(4−ジベンジルアミノフェニル)プロパン、
スチリルアントラセン、スチリルピラゾリン、フェニル
ヒドラゾン類、α−フェニルスチルベン誘導体、チアゾ
ール誘導体、トリアゾール誘導体、フェナジン誘導体、
アクリジン誘導体、ベンゾフラン誘導体、ベンズイミダ
ゾール誘導体、チオフェン誘導体などが挙げられる。こ
れらの正孔輸送物質は、単独または2種以上の混合物と
して用いることができる。
【0166】中でも、下記(11)〜(21)式で表わ
される低分子電荷輸送物質が良好である。
される低分子電荷輸送物質が良好である。
【0167】
【化78】 式中、R201、R202、R203及びR204は水素原子、置換
若しくは無置換の低級アルキル基、置換若しくは無置換
のアリール基を表わし、Ar101は置換若しくは無置換
のアリール基を表わし、Ar102は置換若しくは無置換
のアリーレン基を表わし、Ar101とR201は共同で環を
形成してもよく、また、n1は0又は1の整数である。
若しくは無置換の低級アルキル基、置換若しくは無置換
のアリール基を表わし、Ar101は置換若しくは無置換
のアリール基を表わし、Ar102は置換若しくは無置換
のアリーレン基を表わし、Ar101とR201は共同で環を
形成してもよく、また、n1は0又は1の整数である。
【0168】
【化79】 式中、R205は低級アルキル基、低級アルコキシ基又は
ハロゲン原子を表わし、n2は0〜4の整数を表わし、
R206、R207は同一でも異なっていてもよく、水素原
子、低級アルキル基、低級アルコキシ基又はハロゲン原
子を表わす。
ハロゲン原子を表わし、n2は0〜4の整数を表わし、
R206、R207は同一でも異なっていてもよく、水素原
子、低級アルキル基、低級アルコキシ基又はハロゲン原
子を表わす。
【0169】
【化80】 式中、R208は炭素数1〜11のアルキル基、置換若し
くは無置換のフェニル基或いは複素環基を表わし、R
209、R210は同一でも異なっていてもよく、水素原子、
低級アルキル基、C1〜C4のヒドロキシアルキル基、C
1〜C4のクロルアルキル基、或いは置換若しくは無置換
のアラルキル基を表わし、また、R209とR210は共同で
窒素を含む複素環を形成してもよく、R211、R212はそ
れぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子、低級ア
ルキル基、低級アルコキシ基又はハロゲン原子を表わ
す。
くは無置換のフェニル基或いは複素環基を表わし、R
209、R210は同一でも異なっていてもよく、水素原子、
低級アルキル基、C1〜C4のヒドロキシアルキル基、C
1〜C4のクロルアルキル基、或いは置換若しくは無置換
のアラルキル基を表わし、また、R209とR210は共同で
窒素を含む複素環を形成してもよく、R211、R212はそ
れぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子、低級ア
ルキル基、低級アルコキシ基又はハロゲン原子を表わ
す。
【0170】
【化81】 式中、R213は水素原子又はハロゲン原子を表わし、R
214は置換又は無置換の芳香族残基或いは複素環残基
(但し、前記置換基はハロゲン原子、シアノ基、ジ低級
アルキルアミノ基、置換又は無置換のジアラルキルアミ
ノ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基及びニトロ基
よりなる群から選ばれる)を表わす。
214は置換又は無置換の芳香族残基或いは複素環残基
(但し、前記置換基はハロゲン原子、シアノ基、ジ低級
アルキルアミノ基、置換又は無置換のジアラルキルアミ
ノ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基及びニトロ基
よりなる群から選ばれる)を表わす。
【0171】
【化82】 式中、R215、R216及びR217はそれぞれ置換若しくは
無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアリール基
或いは複素環基を表わし、R215、R216、R217のうち
少なくとも2つはアリール基又は複素環基を表わす。
無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアリール基
或いは複素環基を表わし、R215、R216、R217のうち
少なくとも2つはアリール基又は複素環基を表わす。
【0172】
【化83】 式中、Ar103及びAr104は、それぞれ置換若しくは無
置換のアリール基或いは複素芳香環を表わす。
置換のアリール基或いは複素芳香環を表わす。
【0173】
【化84】 式中、Ar105は置換若しくは無置換のアリール基或い
は複素芳香環を表わし、R218及びR219はそれぞれ置換
若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のア
リール基或いは複素環基であり、R218及びR219の少な
くとも1つはアリール基又は複素環基からなる。
は複素芳香環を表わし、R218及びR219はそれぞれ置換
若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のア
リール基或いは複素環基であり、R218及びR219の少な
くとも1つはアリール基又は複素環基からなる。
【0174】
【化85】 式中、R220、R222は水素原子、低級アルキル基、低級
アルコキシ基或いはジ低級アルキルアミノ基を表わし、
R221は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、ハロゲン原子或いはニトロ基を表わし、n3は0又
は1の整数を表わす。
アルコキシ基或いはジ低級アルキルアミノ基を表わし、
R221は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、ハロゲン原子或いはニトロ基を表わし、n3は0又
は1の整数を表わす。
【0175】
【化86】 式中、R223はカルバゾリル基、ピリジル基、チエニル
基、インドリル基、又はフリル基、或いはそれぞれ置換
又は無置換のフェニル基、スチリル基、ナフチル基又は
アントリル基(但し、前記置換基はジ低級アルキルアミ
ノ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原
子、アラルキルアミノ基又はアミノ基からなる群から選
ばれる)を表わす。
基、インドリル基、又はフリル基、或いはそれぞれ置換
又は無置換のフェニル基、スチリル基、ナフチル基又は
アントリル基(但し、前記置換基はジ低級アルキルアミ
ノ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原
子、アラルキルアミノ基又はアミノ基からなる群から選
ばれる)を表わす。
【0176】
【化87】 式中、Ar106は置換若しくは無置換のビフェニレン基
を表わし、R224、R225及びR226は水素原子、ハロゲ
ン原子、シアノ基、又は置換基を有していてもよいアル
キル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルメ
ルカプト基、メチレンジオキシ基、メチレンジチオ基、
アリール基を表わし、R224、R225及びR226は同一で
も異なっていてもよい。また、u、v、wは1〜5の整
数を表わし、それぞれが2〜5の整数の時は前記
R224、R225及びR226は同一でも異なっていてもよ
い。
を表わし、R224、R225及びR226は水素原子、ハロゲ
ン原子、シアノ基、又は置換基を有していてもよいアル
キル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルメ
ルカプト基、メチレンジオキシ基、メチレンジチオ基、
アリール基を表わし、R224、R225及びR226は同一で
も異なっていてもよい。また、u、v、wは1〜5の整
数を表わし、それぞれが2〜5の整数の時は前記
R224、R225及びR226は同一でも異なっていてもよ
い。
【0177】
【化88】 式中、R227及びR228は置換若しくは無置換のアルキル
基、置換若しくは無置換のアリール基を表わし、R227
及びR228のうち少なくとも1つは置換若しくは無置換
のアリール基を表わす。これら低分子電荷輸送物質の添
加量は、多すぎると膜の摩耗性が大きくなるため、添加
量はできる限り少ない方が好ましい。
基、置換若しくは無置換のアリール基を表わし、R227
及びR228のうち少なくとも1つは置換若しくは無置換
のアリール基を表わす。これら低分子電荷輸送物質の添
加量は、多すぎると膜の摩耗性が大きくなるため、添加
量はできる限り少ない方が好ましい。
【0178】共晶錯体感光層(31)に併用できるバイ
ンダー樹脂としては、ポリカーボネート(ビスフェノー
ルAタイプ、ビスフェノールZタイプ)、ポリエステ
ル、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン、塩
化ビニル、酢酸ビニル、ポリスチレン、フェノール樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリ塩化ビニリデ
ン、アルキッド樹脂、シリコン樹脂、ポリビニルカルバ
ゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマー
ル、ポリアクリレート、ポリアクリルアミド、フェノキ
シ樹脂などが用いられる。これらのバインダーは、単独
又は2種以上の混合物として用いることができる。
ンダー樹脂としては、ポリカーボネート(ビスフェノー
ルAタイプ、ビスフェノールZタイプ)、ポリエステ
ル、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン、塩
化ビニル、酢酸ビニル、ポリスチレン、フェノール樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリ塩化ビニリデ
ン、アルキッド樹脂、シリコン樹脂、ポリビニルカルバ
ゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマー
ル、ポリアクリレート、ポリアクリルアミド、フェノキ
シ樹脂などが用いられる。これらのバインダーは、単独
又は2種以上の混合物として用いることができる。
【0179】また、本発明において共晶錯体感光層(3
1)中に可塑剤やレベリング剤を添加してもよい。可塑
剤としては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレー
ト等の一般の樹脂の可塑剤として使用されているものが
そのまま使用でき、その使用量は、高分子電荷輸送物質
100重量部に対して0〜30重量部程度が適当であ
る。レベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイ
ル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオ
イル類や、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリ
マー或いはオリゴマーが使用され、その使用量は、バイ
ンダー樹脂100重量部に対して0〜1重量部程度が適
当である。
1)中に可塑剤やレベリング剤を添加してもよい。可塑
剤としては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレー
ト等の一般の樹脂の可塑剤として使用されているものが
そのまま使用でき、その使用量は、高分子電荷輸送物質
100重量部に対して0〜30重量部程度が適当であ
る。レベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイ
ル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオ
イル類や、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリ
マー或いはオリゴマーが使用され、その使用量は、バイ
ンダー樹脂100重量部に対して0〜1重量部程度が適
当である。
【0180】本発明に用いられる電子写真感光体には、
導電性支持体(21)と共晶錯体感光層(31)との間
に下引き層(25)を設けることができる。下引き層
(25)は、接着性を向上する、モワレなどを防止す
る、上層の塗工性を改良する、残留電位を低減するなど
の目的で設けられる。下引き層(25)は一般に樹脂を
主成分とするが、これらの樹脂はその上に感光層を溶剤
でもって塗布することを考えると、一般の有機溶剤に対
して耐溶解性の高い樹脂であることが望ましい。このよ
うな樹脂としては、ポリビニルアルコール、カゼイン、
ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイ
ロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコール可溶性
樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、アルキッド−メラ
ミン樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成する
硬化型樹脂などが挙げられる。また、酸化チタン、シリ
カ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化イン
ジウム等で例示できる金属酸化物、或るいは金属硫化
物、金属窒化物などの微粉末を加えてもよい。これらの
下引き層は、前述の感光層の場合と同様、適当な溶媒、
塗工法を用いて形成することができる。
導電性支持体(21)と共晶錯体感光層(31)との間
に下引き層(25)を設けることができる。下引き層
(25)は、接着性を向上する、モワレなどを防止す
る、上層の塗工性を改良する、残留電位を低減するなど
の目的で設けられる。下引き層(25)は一般に樹脂を
主成分とするが、これらの樹脂はその上に感光層を溶剤
でもって塗布することを考えると、一般の有機溶剤に対
して耐溶解性の高い樹脂であることが望ましい。このよ
うな樹脂としては、ポリビニルアルコール、カゼイン、
ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイ
ロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコール可溶性
樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、アルキッド−メラ
ミン樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成する
硬化型樹脂などが挙げられる。また、酸化チタン、シリ
カ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化イン
ジウム等で例示できる金属酸化物、或るいは金属硫化
物、金属窒化物などの微粉末を加えてもよい。これらの
下引き層は、前述の感光層の場合と同様、適当な溶媒、
塗工法を用いて形成することができる。
【0181】さらに、本発明の下引き層として、シラン
カップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップ
リング剤等を使用して、例えばゾル−ゲル法等により形
成した金属酸化物層も有用である。この他に、本発明の
下引き層にはAl2O3を陽極酸化にて設けたものや、ポ
リパラキシレン(パリレン)等の有機物や、SiO、S
nO2、TiO2、ITO、CeO2等の無機物を真空薄
膜作製法にて設けたものも良好に使用できる。下引き層
の膜厚は0〜5μmが適当である。また、本発明におけ
る共晶錯体感光層(31)を電荷発生層として用い、電
荷輸送層(33)を積層して積層感光体を作成すること
もできる。
カップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップ
リング剤等を使用して、例えばゾル−ゲル法等により形
成した金属酸化物層も有用である。この他に、本発明の
下引き層にはAl2O3を陽極酸化にて設けたものや、ポ
リパラキシレン(パリレン)等の有機物や、SiO、S
nO2、TiO2、ITO、CeO2等の無機物を真空薄
膜作製法にて設けたものも良好に使用できる。下引き層
の膜厚は0〜5μmが適当である。また、本発明におけ
る共晶錯体感光層(31)を電荷発生層として用い、電
荷輸送層(33)を積層して積層感光体を作成すること
もできる。
【0182】次に、電荷輸送層(33)について説明す
る。電荷輸送層(33)は電荷輸送物質及びバインダー
樹脂を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを塗布、乾
燥することにより形成できる。また、必要により可塑剤
やレべリング剤を添加することもできる。電荷輸送物質
には、先述の正孔輸送物質と電子輸送物質とを用いるこ
とができる。電荷輸送層(33)に併用できるバインダ
ー樹脂としては、ポリカーボネート(ビスフェノールA
タイプ、ビスフェノールZタイプ)、ポリエステル、メ
タクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン、塩化ビニ
ル、酢酸ビニル、ポリスチレン、フェノール樹脂、エポ
キシ樹脂、ポリウレタン、ポリ塩化ビニリデン、アルキ
ッド樹脂、シリコン樹脂、ポリビニルカルバゾール、ポ
リビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリアク
リレート、ポリアクリルアミド、フェノキシ樹脂などが
用いられる。中でも、繰り返し単位中に、前記(2)〜
(4)式の構造を持つポリカーボネートは有効に使用さ
れる。これらのバインダーは、単独又は2種以上の混合
物として用いることができる。
る。電荷輸送層(33)は電荷輸送物質及びバインダー
樹脂を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを塗布、乾
燥することにより形成できる。また、必要により可塑剤
やレべリング剤を添加することもできる。電荷輸送物質
には、先述の正孔輸送物質と電子輸送物質とを用いるこ
とができる。電荷輸送層(33)に併用できるバインダ
ー樹脂としては、ポリカーボネート(ビスフェノールA
タイプ、ビスフェノールZタイプ)、ポリエステル、メ
タクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン、塩化ビニ
ル、酢酸ビニル、ポリスチレン、フェノール樹脂、エポ
キシ樹脂、ポリウレタン、ポリ塩化ビニリデン、アルキ
ッド樹脂、シリコン樹脂、ポリビニルカルバゾール、ポ
リビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリアク
リレート、ポリアクリルアミド、フェノキシ樹脂などが
用いられる。中でも、繰り返し単位中に、前記(2)〜
(4)式の構造を持つポリカーボネートは有効に使用さ
れる。これらのバインダーは、単独又は2種以上の混合
物として用いることができる。
【0183】また、バインダー樹脂と電荷輸送物質のい
ずれの機能をも持つ高分子電荷輸送物質をバインダー樹
脂として用いることもできる。この場合に用いられる高
分子電荷輸送物質の例として、以下のものが挙げられ
る。 (a)主鎖及び/又は側鎖にカルバゾール環を有する重
合体 例えば、ポリ−N−ビニルカルバゾール、特開昭50−
82056号公報、特開昭54−9632号公報、特開
昭54−11737号公報、特開平4−183719号
公報等に記載の化合物が例示される。 (b)主鎖及び/又は側鎖にヒドラゾン構造を有する重
合体 例えば、特開昭57−78402号公報、特開平3−5
0555号公報等に記載の化合物が例示される。 (c)ポリシリレン重合体 例えば、特開昭63−285552号公報、特開平5−
19497号公報、特開平5−70595号公報等に記
載の化合物が例示される。 (d)主鎖及び/又は側鎖に第3級アミン構造を有する
重合体 例えば、N,N−ビス(4−メチルフェニル)−4−ア
ミノポリスチレン、特開平1−13061号公報、特開
平1−19049号公報、特開平1−1728号公報、
特開平1−105260号公報、特開平2−16733
5号公報、特開平5−66598号公報、特開平5−4
0350号公報等に記載の化合物が例示される。 (e)その他の重合体 例えば、ニトロピレンのホルムアルデヒド縮重合体、特
開昭51−73888号公報、特開昭56−15074
9号公報等に記載の化合物が例示される。 本発明に使用される高分子電荷輸送物質は、上記重合体
だけでなく、公知単量体の共重合体や、ブロック重合
体、グラフト重合体、スターポリマーや、また、例えば
特開平3−109406号公報に開示されているような
電子供与性基を有する架橋重合体等を用いることも可能
である。さらに、本発明に記載の(1)〜(10)式の
高分子電荷輸送物質ももちろん良好に使用できる。電荷
輸送層(33)の膜厚は、5〜100μm程度が適当で
ある。また、本発明において電荷輸送層(33)中に可
塑剤やレベリング剤を添加してもよい。可塑剤及びレベ
リング剤としては、先述のものがそのまま使用できる。
その使用量は先述と同様である。
ずれの機能をも持つ高分子電荷輸送物質をバインダー樹
脂として用いることもできる。この場合に用いられる高
分子電荷輸送物質の例として、以下のものが挙げられ
る。 (a)主鎖及び/又は側鎖にカルバゾール環を有する重
合体 例えば、ポリ−N−ビニルカルバゾール、特開昭50−
82056号公報、特開昭54−9632号公報、特開
昭54−11737号公報、特開平4−183719号
公報等に記載の化合物が例示される。 (b)主鎖及び/又は側鎖にヒドラゾン構造を有する重
合体 例えば、特開昭57−78402号公報、特開平3−5
0555号公報等に記載の化合物が例示される。 (c)ポリシリレン重合体 例えば、特開昭63−285552号公報、特開平5−
19497号公報、特開平5−70595号公報等に記
載の化合物が例示される。 (d)主鎖及び/又は側鎖に第3級アミン構造を有する
重合体 例えば、N,N−ビス(4−メチルフェニル)−4−ア
ミノポリスチレン、特開平1−13061号公報、特開
平1−19049号公報、特開平1−1728号公報、
特開平1−105260号公報、特開平2−16733
5号公報、特開平5−66598号公報、特開平5−4
0350号公報等に記載の化合物が例示される。 (e)その他の重合体 例えば、ニトロピレンのホルムアルデヒド縮重合体、特
開昭51−73888号公報、特開昭56−15074
9号公報等に記載の化合物が例示される。 本発明に使用される高分子電荷輸送物質は、上記重合体
だけでなく、公知単量体の共重合体や、ブロック重合
体、グラフト重合体、スターポリマーや、また、例えば
特開平3−109406号公報に開示されているような
電子供与性基を有する架橋重合体等を用いることも可能
である。さらに、本発明に記載の(1)〜(10)式の
高分子電荷輸送物質ももちろん良好に使用できる。電荷
輸送層(33)の膜厚は、5〜100μm程度が適当で
ある。また、本発明において電荷輸送層(33)中に可
塑剤やレベリング剤を添加してもよい。可塑剤及びレベ
リング剤としては、先述のものがそのまま使用できる。
その使用量は先述と同様である。
【0184】また、本発明においては、耐環境性の改善
のため、とりわけ、感度低下、残留電位の上昇を防止す
る目的で、酸化防止剤を添加することができる。本発明
に用いることができる酸化防止剤として、下記のものが
挙げられる。
のため、とりわけ、感度低下、残留電位の上昇を防止す
る目的で、酸化防止剤を添加することができる。本発明
に用いることができる酸化防止剤として、下記のものが
挙げられる。
【0185】モノフェノール系化合物 2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ブチル化ヒ
ドロキシアニソール、2,6−ジ−t−ブチル−4−エ
チルフェノール、ステアリル−β−(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネートな
ど。
ドロキシアニソール、2,6−ジ−t−ブチル−4−エ
チルフェノール、ステアリル−β−(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネートな
ど。
【0186】ビスフェノール系化合物 2,2’−メチレン−ビス−(4−メチル−6−t−ブ
チルフェノール)、2,2’−メチレン−ビス−(4−
エチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−チオ
ビス−(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、
4,4’−ブチリデンビス−(3−メチル−6−t−ブ
チルフェノール)など。
チルフェノール)、2,2’−メチレン−ビス−(4−
エチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−チオ
ビス−(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、
4,4’−ブチリデンビス−(3−メチル−6−t−ブ
チルフェノール)など。
【0187】高分子フェノール系化合物 1,1,3−トリス−(2−メチル−4−ヒドロキシ−
5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリメ
チル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、テトラキス−[メ
チレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒ
ドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、ビス
[3,3’−ビス(4’−ヒドロキシ−3’−t−ブチ
ルフェニル)ブチリックアシッド]グリコールエステ
ル、トコフェノール類など。
5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリメ
チル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、テトラキス−[メ
チレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒ
ドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、ビス
[3,3’−ビス(4’−ヒドロキシ−3’−t−ブチ
ルフェニル)ブチリックアシッド]グリコールエステ
ル、トコフェノール類など。
【0188】パラフェニレンジアミン類 N−フェニル−N’−イソプロピル−p−フェニレンジ
アミン、N,N’−ジ−sec−ブチル−p−フェニレ
ンジアミン、N−フェニル−N−sec−ブチル−p−
フェニレンジアミン、N,N’−ジ−イソプロピル−p
−フェニレンジアミン、N,N’−ジメチル−N,N’
−ジ−tーブチル−p−フェニレンジアミンなど。
アミン、N,N’−ジ−sec−ブチル−p−フェニレ
ンジアミン、N−フェニル−N−sec−ブチル−p−
フェニレンジアミン、N,N’−ジ−イソプロピル−p
−フェニレンジアミン、N,N’−ジメチル−N,N’
−ジ−tーブチル−p−フェニレンジアミンなど。
【0189】ハイドロキノン類 2,5−ジ−t−オクチルハイドロキノン、2,6−ジ
ドデシルハイドロキノン、2−ドデシルハイドロキノ
ン、2−ドデシル−5−クロロハイドロキノン、2−t
−オクチル−5−メチルハイドロキノン、2−(2−オ
クタデセニル)−5−メチルハイドロキノンなど。
ドデシルハイドロキノン、2−ドデシルハイドロキノ
ン、2−ドデシル−5−クロロハイドロキノン、2−t
−オクチル−5−メチルハイドロキノン、2−(2−オ
クタデセニル)−5−メチルハイドロキノンなど。
【0190】有機硫黄化合物類 ジラウリル−3,3’−チオジプロピオネート、ジステ
アリル−3,3’−チオジプロピオネート、ジテトラデ
シル−3,3’−チオジプロピオネートなど。
アリル−3,3’−チオジプロピオネート、ジテトラデ
シル−3,3’−チオジプロピオネートなど。
【0191】有機燐化合物類 トリフェニルホスフィン、トリ(ノニルフェニル)ホス
フィン、トリ(ジノニルフェニル)ホスフィン、トリク
レジルホスフィン、トリ(2,4−ジブチルフェノキ
シ)ホスフィンなど。
フィン、トリ(ジノニルフェニル)ホスフィン、トリク
レジルホスフィン、トリ(2,4−ジブチルフェノキ
シ)ホスフィンなど。
【0192】これら化合物は、ゴム、プラスチック、油
脂類などの酸化防止剤として知られており、市販品とし
て容易に入手できる。本発明における酸化防止剤の添加
量は、電荷輸送物質100重量部に対して0.1〜10
0重量部、好ましくは2〜30重量部である。
脂類などの酸化防止剤として知られており、市販品とし
て容易に入手できる。本発明における酸化防止剤の添加
量は、電荷輸送物質100重量部に対して0.1〜10
0重量部、好ましくは2〜30重量部である。
【0193】また、本発明の応用例として、図4に示す
ような電子写真用複合感光体が挙げられる。第2感光層
(35)には、公知の材料(例えば、特開昭56−12
1044号公報)を用いることができ、第1感光層には
前述した共晶錯体感光層(31)を用いることができ
る。このようにしてなる電子写真用複合感光体には公知
のプロセス(例えば、特開昭56−121044号公
報)を適用して、画像形成することができる。
ような電子写真用複合感光体が挙げられる。第2感光層
(35)には、公知の材料(例えば、特開昭56−12
1044号公報)を用いることができ、第1感光層には
前述した共晶錯体感光層(31)を用いることができ
る。このようにしてなる電子写真用複合感光体には公知
のプロセス(例えば、特開昭56−121044号公
報)を適用して、画像形成することができる。
【0194】
【実施例】次に、実施例によって本発明をさらに詳細に
説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるもので
はない。尚、実施例中使用する部は、すべて重量部を表
わす。 実施例1 アルミ蒸着したポリエチレンテレフタレートフィルム上
に下記組成の共晶錯体感光層用塗工液を塗布・乾燥し
て、約20μmの共晶錯体感光層を形成して、本発明の
電子写真感光体を作製した。 (共晶錯体感光層用塗工液) 塩化メチレン 24部 クロロホルム 16部 下記構造のピリリウム系染料 0.2部
説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるもので
はない。尚、実施例中使用する部は、すべて重量部を表
わす。 実施例1 アルミ蒸着したポリエチレンテレフタレートフィルム上
に下記組成の共晶錯体感光層用塗工液を塗布・乾燥し
て、約20μmの共晶錯体感光層を形成して、本発明の
電子写真感光体を作製した。 (共晶錯体感光層用塗工液) 塩化メチレン 24部 クロロホルム 16部 下記構造のピリリウム系染料 0.2部
【0195】
【化89】 下記構造の高分子電荷輸送物質 4部
【0196】
【化90】
【0197】実施例2 実施例1の共晶錯体感光層用塗工液に下記構造の低分子
電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例1と全く同
様に感光体を作製した。
電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例1と全く同
様に感光体を作製した。
【0198】
【化91】
【0199】実施例3 実施例1の共晶錯体感光層用塗工液に下記構造の低分子
電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例1と全く同
様に感光体を作製した。
電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例1と全く同
様に感光体を作製した。
【0200】
【化92】
【0201】実施例4 実施例1の共晶錯体感光層用塗工液に下記構造の低分子
電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例1と全く同
様に感光体を作製した。
電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例1と全く同
様に感光体を作製した。
【0202】
【化93】
【0203】実施例5 実施例1の共晶錯体感光層用塗工液に下記構造の低分子
電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例1と全く同
様に感光体を作製した。
電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例1と全く同
様に感光体を作製した。
【0204】
【化94】
【0205】実施例6 実施例1の共晶錯体感光層用塗工液に下記構造の低分子
電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例1と全く同
様に感光体を作製した。
電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例1と全く同
様に感光体を作製した。
【0206】
【化95】
【0207】実施例7 実施例1の共晶錯体感光層用塗工液に下記構造の低分子
電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例1と全く同
様に感光体を作製した。
電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例1と全く同
様に感光体を作製した。
【0208】
【化96】
【0209】実施例8 実施例1の共晶錯体感光層用塗工液に下記構造の低分子
電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例1と全く同
様に感光体を作製した。
電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例1と全く同
様に感光体を作製した。
【0210】
【化97】
【0211】実施例9 実施例1の共晶錯体感光層用塗工液に下記構造の低分子
電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例1と全く同
様に感光体を作製した。
電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例1と全く同
様に感光体を作製した。
【0212】
【化98】
【0213】実施例11 実施例1の共晶錯体感光層用塗工液に下記構造の低分子
電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例1と全く同
様に感光体を作製した。
電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例1と全く同
様に感光体を作製した。
【0214】
【化99】
【0215】実施例12 実施例1の共晶錯体感光層用塗工液に下記構造の低分子
電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例1と全く同
様に感光体を作製した。
電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例1と全く同
様に感光体を作製した。
【0216】
【化100】
【0217】実施例13 実施例1の共晶錯体感光層用塗工液に下記構造の低分子
電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例1と全く同
様に感光体を作製した。
電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例1と全く同
様に感光体を作製した。
【0218】
【化101】
【0219】実施例14 実施例13の共晶錯体感光層用塗工液に実施例2で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
13と全く同様に感光体を作製した。 実施例15 実施例13の共晶錯体感光層用塗工液に実施例3で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
13と全く同様に感光体を作製した。 実施例16 実施例13の共晶錯体感光層用塗工液に実施例4で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
13と全く同様に感光体を作製した。 実施例17 実施例13の共晶錯体感光層用塗工液に実施例5で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
13と全く同様に感光体を作製した。 実施例18 実施例13の共晶錯体感光層用塗工液に実施例6で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
13と全く同様に感光体を作製した。 実施例19 実施例13の共晶錯体感光層用塗工液に実施例7で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
13と全く同様に感光体を作製した。 実施例20 実施例13の共晶錯体感光層用塗工液に実施例8で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
13と全く同様に感光体を作製した。 実施例21 実施例13の共晶錯体感光層用塗工液に実施例9で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
13と全く同様に感光体を作製した。 実施例22 実施例13の共晶錯体感光層用塗工液に実施例10で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例13と全く同様に感光体を作製した。 実施例23 実施例13の共晶錯体感光層用塗工液に実施例11で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例13と全く同様に感光体を作製した。 実施例24 実施例13の共晶錯体感光層用塗工液に実施例12で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例13と全く同様に感光体を作製した。
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
13と全く同様に感光体を作製した。 実施例15 実施例13の共晶錯体感光層用塗工液に実施例3で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
13と全く同様に感光体を作製した。 実施例16 実施例13の共晶錯体感光層用塗工液に実施例4で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
13と全く同様に感光体を作製した。 実施例17 実施例13の共晶錯体感光層用塗工液に実施例5で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
13と全く同様に感光体を作製した。 実施例18 実施例13の共晶錯体感光層用塗工液に実施例6で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
13と全く同様に感光体を作製した。 実施例19 実施例13の共晶錯体感光層用塗工液に実施例7で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
13と全く同様に感光体を作製した。 実施例20 実施例13の共晶錯体感光層用塗工液に実施例8で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
13と全く同様に感光体を作製した。 実施例21 実施例13の共晶錯体感光層用塗工液に実施例9で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
13と全く同様に感光体を作製した。 実施例22 実施例13の共晶錯体感光層用塗工液に実施例10で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例13と全く同様に感光体を作製した。 実施例23 実施例13の共晶錯体感光層用塗工液に実施例11で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例13と全く同様に感光体を作製した。 実施例24 実施例13の共晶錯体感光層用塗工液に実施例12で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例13と全く同様に感光体を作製した。
【0220】実施例25 実施例1における共晶錯体感光層用塗工液の高分子電荷
輸送物質を以下の構造のものに変えた以外は、実施例1
と全く同様に感光体を作製した。
輸送物質を以下の構造のものに変えた以外は、実施例1
と全く同様に感光体を作製した。
【0221】
【化102】
【0222】実施例26 実施例25の共晶錯体感光層用塗工液に実施例2で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
25と全く同様に感光体を作製した。 実施例27 実施例25の共晶錯体感光層用塗工液に実施例3で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
25と全く同様に感光体を作製した。 実施例28 実施例25の共晶錯体感光層用塗工液に実施例4で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
25と全く同様に感光体を作製した。 実施例29 実施例25の共晶錯体感光層用塗工液に実施例5で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
25と全く同様に感光体を作製した。 実施例30 実施例25の共晶錯体感光層用塗工液に実施例6で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
25と全く同様に感光体を作製した。 実施例31 実施例25の共晶錯体感光層用塗工液に実施例7で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
25と全く同様に感光体を作製した。 実施例32 実施例25の共晶錯体感光層用塗工液に実施例8で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
25と全く同様に感光体を作製した。 実施例33 実施例25の共晶錯体感光層用塗工液に実施例9で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
25と全く同様に感光体を作製した。 実施例34 実施例25の共晶錯体感光層用塗工液に実施例10で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例25と全く同様に感光体を作製した。 実施例35 実施例25の共晶錯体感光層用塗工液に実施例11で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例25と全く同様に感光体を作製した。 実施例36 実施例25の共晶錯体感光層用塗工液に実施例12で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例25と全く同様に感光体を作製した。
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
25と全く同様に感光体を作製した。 実施例27 実施例25の共晶錯体感光層用塗工液に実施例3で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
25と全く同様に感光体を作製した。 実施例28 実施例25の共晶錯体感光層用塗工液に実施例4で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
25と全く同様に感光体を作製した。 実施例29 実施例25の共晶錯体感光層用塗工液に実施例5で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
25と全く同様に感光体を作製した。 実施例30 実施例25の共晶錯体感光層用塗工液に実施例6で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
25と全く同様に感光体を作製した。 実施例31 実施例25の共晶錯体感光層用塗工液に実施例7で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
25と全く同様に感光体を作製した。 実施例32 実施例25の共晶錯体感光層用塗工液に実施例8で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
25と全く同様に感光体を作製した。 実施例33 実施例25の共晶錯体感光層用塗工液に実施例9で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
25と全く同様に感光体を作製した。 実施例34 実施例25の共晶錯体感光層用塗工液に実施例10で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例25と全く同様に感光体を作製した。 実施例35 実施例25の共晶錯体感光層用塗工液に実施例11で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例25と全く同様に感光体を作製した。 実施例36 実施例25の共晶錯体感光層用塗工液に実施例12で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例25と全く同様に感光体を作製した。
【0223】実施例37 実施例1における共晶錯体感光層用塗工液の高分子電荷
輸送物質を以下の構造のものに変えた以外は、実施例1
と全く同様に感光体を作製した。
輸送物質を以下の構造のものに変えた以外は、実施例1
と全く同様に感光体を作製した。
【0224】
【化103】
【0225】実施例38 実施例37の共晶錯体感光層用塗工液に実施例2で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
37と全く同様に感光体を作製した。 実施例39 実施例37の共晶錯体感光層用塗工液に実施例3で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
37と全く同様に感光体を作製した。 実施例40 実施例37の共晶錯体感光層用塗工液に実施例4で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
37と全く同様に感光体を作製した。 実施例41 実施例37の共晶錯体感光層用塗工液に実施例5で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
37と全く同様に感光体を作製した。 実施例42 実施例37の共晶錯体感光層用塗工液に実施例6で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
37と全く同様に感光体を作製した。 実施例43 実施例37の共晶錯体感光層用塗工液に実施例7で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
37と全く同様に感光体を作製した。 実施例44 実施例37の共晶錯体感光層用塗工液に実施例8で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
37と全く同様に感光体を作製した。 実施例45 実施例37の共晶錯体感光層用塗工液に実施例9で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
37と全く同様に感光体を作製した。 実施例46 実施例37の共晶錯体感光層用塗工液に実施例10で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例37と全く同様に感光体を作製した。 実施例47 実施例37の共晶錯体感光層用塗工液に実施例11で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例37と全く同様に感光体を作製した。 実施例48 実施例37の共晶錯体感光層用塗工液に実施例12で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例37と全く同様に感光体を作製した。
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
37と全く同様に感光体を作製した。 実施例39 実施例37の共晶錯体感光層用塗工液に実施例3で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
37と全く同様に感光体を作製した。 実施例40 実施例37の共晶錯体感光層用塗工液に実施例4で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
37と全く同様に感光体を作製した。 実施例41 実施例37の共晶錯体感光層用塗工液に実施例5で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
37と全く同様に感光体を作製した。 実施例42 実施例37の共晶錯体感光層用塗工液に実施例6で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
37と全く同様に感光体を作製した。 実施例43 実施例37の共晶錯体感光層用塗工液に実施例7で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
37と全く同様に感光体を作製した。 実施例44 実施例37の共晶錯体感光層用塗工液に実施例8で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
37と全く同様に感光体を作製した。 実施例45 実施例37の共晶錯体感光層用塗工液に実施例9で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
37と全く同様に感光体を作製した。 実施例46 実施例37の共晶錯体感光層用塗工液に実施例10で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例37と全く同様に感光体を作製した。 実施例47 実施例37の共晶錯体感光層用塗工液に実施例11で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例37と全く同様に感光体を作製した。 実施例48 実施例37の共晶錯体感光層用塗工液に実施例12で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例37と全く同様に感光体を作製した。
【0226】実施例49 実施例1における共晶錯体感光層用塗工液の高分子電荷
輸送物質を以下の構造のものに変えた以外は、実施例1
と全く同様に感光体を作製した。
輸送物質を以下の構造のものに変えた以外は、実施例1
と全く同様に感光体を作製した。
【0227】
【化104】
【0228】実施例50 実施例49の共晶錯体感光層用塗工液に実施例2で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
49と全く同様に感光体を作製した。 実施例51 実施例49の共晶錯体感光層用塗工液に実施例3で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
49と全く同様に感光体を作製した。 実施例52 実施例49の共晶錯体感光層用塗工液に実施例4で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
49と全く同様に感光体を作製した。 実施例53 実施例49の共晶錯体感光層用塗工液に実施例5で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
49と全く同様に感光体を作製した。 実施例54 実施例49の共晶錯体感光層用塗工液に実施例6で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
49と全く同様に感光体を作製した。 実施例55 実施例49の共晶錯体感光層用塗工液に実施例7で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
49と全く同様に感光体を作製した。 実施例56 実施例49の共晶錯体感光層用塗工液に実施例8で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
49と全く同様に感光体を作製した。 実施例57 実施例49の共晶錯体感光層用塗工液に実施例9で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
49と全く同様に感光体を作製した。 実施例58 実施例49の共晶錯体感光層用塗工液に実施例10で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例49と全く同様に感光体を作製した。 実施例59 実施例49の共晶錯体感光層用塗工液に実施例11で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例49と全く同様に感光体を作製した。 実施例60 実施例49の共晶錯体感光層用塗工液に実施例12で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例49と全く同様に感光体を作製した。
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
49と全く同様に感光体を作製した。 実施例51 実施例49の共晶錯体感光層用塗工液に実施例3で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
49と全く同様に感光体を作製した。 実施例52 実施例49の共晶錯体感光層用塗工液に実施例4で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
49と全く同様に感光体を作製した。 実施例53 実施例49の共晶錯体感光層用塗工液に実施例5で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
49と全く同様に感光体を作製した。 実施例54 実施例49の共晶錯体感光層用塗工液に実施例6で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
49と全く同様に感光体を作製した。 実施例55 実施例49の共晶錯体感光層用塗工液に実施例7で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
49と全く同様に感光体を作製した。 実施例56 実施例49の共晶錯体感光層用塗工液に実施例8で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
49と全く同様に感光体を作製した。 実施例57 実施例49の共晶錯体感光層用塗工液に実施例9で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
49と全く同様に感光体を作製した。 実施例58 実施例49の共晶錯体感光層用塗工液に実施例10で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例49と全く同様に感光体を作製した。 実施例59 実施例49の共晶錯体感光層用塗工液に実施例11で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例49と全く同様に感光体を作製した。 実施例60 実施例49の共晶錯体感光層用塗工液に実施例12で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例49と全く同様に感光体を作製した。
【0229】実施例61 実施例1における共晶錯体感光層用塗工液の高分子電荷
輸送物質を以下の構造のものに変えた以外は、実施例1
と全く同様に感光体を作製した。
輸送物質を以下の構造のものに変えた以外は、実施例1
と全く同様に感光体を作製した。
【0230】
【化105】
【0231】実施例62 実施例61の共晶錯体感光層用塗工液に実施例2で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
61と全く同様に感光体を作製した。 実施例63 実施例61の共晶錯体感光層用塗工液に実施例3で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
61と全く同様に感光体を作製した。 実施例64 実施例61の共晶錯体感光層用塗工液に実施例4で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
61と全く同様に感光体を作製した。 実施例65 実施例61の共晶錯体感光層用塗工液に実施例5で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
61と全く同様に感光体を作製した。 実施例66 実施例61の共晶錯体感光層用塗工液に実施例6で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
61と全く同様に感光体を作製した。 実施例67 実施例61の共晶錯体感光層用塗工液に実施例7で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
61と全く同様に感光体を作製した。 実施例68 実施例61の共晶錯体感光層用塗工液に実施例8で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
61と全く同様に感光体を作製した。 実施例69 実施例61の共晶錯体感光層用塗工液に実施例9で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
61と全く同様に感光体を作製した。 実施例70 実施例61の共晶錯体感光層用塗工液に実施例10で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例61と全く同様に感光体を作製した。 実施例71 実施例61の共晶錯体感光層用塗工液に実施例11で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例61と全く同様に感光体を作製した。 実施例72 実施例61の共晶錯体感光層用塗工液に実施例12で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例61と全く同様に感光体を作製した。
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
61と全く同様に感光体を作製した。 実施例63 実施例61の共晶錯体感光層用塗工液に実施例3で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
61と全く同様に感光体を作製した。 実施例64 実施例61の共晶錯体感光層用塗工液に実施例4で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
61と全く同様に感光体を作製した。 実施例65 実施例61の共晶錯体感光層用塗工液に実施例5で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
61と全く同様に感光体を作製した。 実施例66 実施例61の共晶錯体感光層用塗工液に実施例6で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
61と全く同様に感光体を作製した。 実施例67 実施例61の共晶錯体感光層用塗工液に実施例7で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
61と全く同様に感光体を作製した。 実施例68 実施例61の共晶錯体感光層用塗工液に実施例8で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
61と全く同様に感光体を作製した。 実施例69 実施例61の共晶錯体感光層用塗工液に実施例9で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
61と全く同様に感光体を作製した。 実施例70 実施例61の共晶錯体感光層用塗工液に実施例10で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例61と全く同様に感光体を作製した。 実施例71 実施例61の共晶錯体感光層用塗工液に実施例11で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例61と全く同様に感光体を作製した。 実施例72 実施例61の共晶錯体感光層用塗工液に実施例12で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例61と全く同様に感光体を作製した。
【0232】実施例73 実施例1における共晶錯体感光層用塗工液の高分子電荷
輸送物質を以下の構造のものに変えた以外は、実施例1
と全く同様に感光体を作製した。
輸送物質を以下の構造のものに変えた以外は、実施例1
と全く同様に感光体を作製した。
【0233】
【化106】
【0234】実施例74 実施例73の共晶錯体感光層用塗工液に実施例2で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
73と全く同様に感光体を作製した。 実施例75 実施例73の共晶錯体感光層用塗工液に実施例3で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
73と全く同様に感光体を作製した。 実施例76 実施例73の共晶錯体感光層用塗工液に実施例4で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
73と全く同様に感光体を作製した。 実施例77 実施例73の共晶錯体感光層用塗工液に実施例5で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
73と全く同様に感光体を作製した。 実施例78 実施例73の共晶錯体感光層用塗工液に実施例6で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
73と全く同様に感光体を作製した。 実施例79 実施例73の共晶錯体感光層用塗工液に実施例7で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
73と全く同様に感光体を作製した。 実施例80 実施例73の共晶錯体感光層用塗工液に実施例8で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
73と全く同様に感光体を作製した。 実施例81 実施例73の共晶錯体感光層用塗工液に実施例9で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
73と全く同様に感光体を作製した。 実施例82 実施例73の共晶錯体感光層用塗工液に実施例10で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例73と全く同様に感光体を作製した。 実施例83 実施例73の共晶錯体感光層用塗工液に実施例11で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例73と全く同様に感光体を作製した。 実施例84 実施例73の共晶錯体感光層用塗工液に実施例12で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例73と全く同様に感光体を作製した。
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
73と全く同様に感光体を作製した。 実施例75 実施例73の共晶錯体感光層用塗工液に実施例3で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
73と全く同様に感光体を作製した。 実施例76 実施例73の共晶錯体感光層用塗工液に実施例4で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
73と全く同様に感光体を作製した。 実施例77 実施例73の共晶錯体感光層用塗工液に実施例5で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
73と全く同様に感光体を作製した。 実施例78 実施例73の共晶錯体感光層用塗工液に実施例6で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
73と全く同様に感光体を作製した。 実施例79 実施例73の共晶錯体感光層用塗工液に実施例7で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
73と全く同様に感光体を作製した。 実施例80 実施例73の共晶錯体感光層用塗工液に実施例8で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
73と全く同様に感光体を作製した。 実施例81 実施例73の共晶錯体感光層用塗工液に実施例9で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
73と全く同様に感光体を作製した。 実施例82 実施例73の共晶錯体感光層用塗工液に実施例10で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例73と全く同様に感光体を作製した。 実施例83 実施例73の共晶錯体感光層用塗工液に実施例11で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例73と全く同様に感光体を作製した。 実施例84 実施例73の共晶錯体感光層用塗工液に実施例12で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例73と全く同様に感光体を作製した。
【0235】実施例85 実施例1における共晶錯体感光層用塗工液の高分子電荷
輸送物質を以下の構造のものに変えた以外は、実施例1
と全く同様に感光体を作製した。
輸送物質を以下の構造のものに変えた以外は、実施例1
と全く同様に感光体を作製した。
【0236】
【化107】
【0237】実施例86 実施例85の共晶錯体感光層用塗工液に実施例2で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
85と全く同様に感光体を作製した。 実施例87 実施例85の共晶錯体感光層用塗工液に実施例3で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
85と全く同様に感光体を作製した。 実施例88 実施例85の共晶錯体感光層用塗工液に実施例4で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
85と全く同様に感光体を作製した。 実施例89 実施例85の共晶錯体感光層用塗工液に実施例5で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
85と全く同様に感光体を作製した。 実施例90 実施例85の共晶錯体感光層用塗工液に実施例6で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
85と全く同様に感光体を作製した。 実施例91 実施例85の共晶錯体感光層用塗工液に実施例7で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
85と全く同様に感光体を作製した。 実施例92 実施例85の共晶錯体感光層用塗工液に実施例8で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
85と全く同様に感光体を作製した。 実施例93 実施例85の共晶錯体感光層用塗工液に実施例9で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
85と全く同様に感光体を作製した。 実施例94 実施例85の共晶錯体感光層用塗工液に実施例10で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例85と全く同様に感光体を作製した。 実施例95 実施例85の共晶錯体感光層用塗工液に実施例11で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例85と全く同様に感光体を作製した。 実施例96 実施例85の共晶錯体感光層用塗工液に実施例12で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例85と全く同様に感光体を作製した。
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
85と全く同様に感光体を作製した。 実施例87 実施例85の共晶錯体感光層用塗工液に実施例3で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
85と全く同様に感光体を作製した。 実施例88 実施例85の共晶錯体感光層用塗工液に実施例4で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
85と全く同様に感光体を作製した。 実施例89 実施例85の共晶錯体感光層用塗工液に実施例5で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
85と全く同様に感光体を作製した。 実施例90 実施例85の共晶錯体感光層用塗工液に実施例6で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
85と全く同様に感光体を作製した。 実施例91 実施例85の共晶錯体感光層用塗工液に実施例7で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
85と全く同様に感光体を作製した。 実施例92 実施例85の共晶錯体感光層用塗工液に実施例8で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
85と全く同様に感光体を作製した。 実施例93 実施例85の共晶錯体感光層用塗工液に実施例9で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
85と全く同様に感光体を作製した。 実施例94 実施例85の共晶錯体感光層用塗工液に実施例10で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例85と全く同様に感光体を作製した。 実施例95 実施例85の共晶錯体感光層用塗工液に実施例11で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例85と全く同様に感光体を作製した。 実施例96 実施例85の共晶錯体感光層用塗工液に実施例12で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例85と全く同様に感光体を作製した。
【0238】実施例97 実施例1における共晶錯体感光層用塗工液の高分子電荷
輸送物質を以下の構造のものに変えた以外は、実施例1
と全く同様に感光体を作製した。
輸送物質を以下の構造のものに変えた以外は、実施例1
と全く同様に感光体を作製した。
【0239】
【化108】
【0240】実施例98 実施例97の共晶錯体感光層用塗工液に実施例2で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
97と全く同様に感光体を作製した。 実施例99 実施例97の共晶錯体感光層用塗工液に実施例3で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
97と全く同様に感光体を作製した。 実施例100 実施例97の共晶錯体感光層用塗工液に実施例4で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
97と全く同様に感光体を作製した。 実施例101 実施例97の共晶錯体感光層用塗工液に実施例5で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
97と全く同様に感光体を作製した。 実施例102 実施例97の共晶錯体感光層用塗工液に実施例6で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
97と全く同様に感光体を作製した。 実施例103 実施例97の共晶錯体感光層用塗工液に実施例7で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
97と全く同様に感光体を作製した。 実施例104 実施例97の共晶錯体感光層用塗工液に実施例8で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
97と全く同様に感光体を作製した。 実施例105 実施例97の共晶錯体感光層用塗工液に実施例9で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
97と全く同様に感光体を作製した。 実施例106 実施例97の共晶錯体感光層用塗工液に実施例10で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例97と全く同様に感光体を作製した。 実施例107 実施例97の共晶錯体感光層用塗工液に実施例11で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例97と全く同様に感光体を作製した。 実施例108 実施例97の共晶錯体感光層用塗工液に実施例12で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例97と全く同様に感光体を作製した。
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
97と全く同様に感光体を作製した。 実施例99 実施例97の共晶錯体感光層用塗工液に実施例3で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
97と全く同様に感光体を作製した。 実施例100 実施例97の共晶錯体感光層用塗工液に実施例4で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
97と全く同様に感光体を作製した。 実施例101 実施例97の共晶錯体感光層用塗工液に実施例5で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
97と全く同様に感光体を作製した。 実施例102 実施例97の共晶錯体感光層用塗工液に実施例6で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
97と全く同様に感光体を作製した。 実施例103 実施例97の共晶錯体感光層用塗工液に実施例7で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
97と全く同様に感光体を作製した。 実施例104 実施例97の共晶錯体感光層用塗工液に実施例8で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
97と全く同様に感光体を作製した。 実施例105 実施例97の共晶錯体感光層用塗工液に実施例9で使用
した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施例
97と全く同様に感光体を作製した。 実施例106 実施例97の共晶錯体感光層用塗工液に実施例10で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例97と全く同様に感光体を作製した。 実施例107 実施例97の共晶錯体感光層用塗工液に実施例11で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例97と全く同様に感光体を作製した。 実施例108 実施例97の共晶錯体感光層用塗工液に実施例12で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例97と全く同様に感光体を作製した。
【0241】実施例109 実施例1における共晶錯体感光層用塗工液の高分子電荷
輸送物質を以下の構造のものに変えた以外は、実施例1
と全く同様に感光体を作製した。
輸送物質を以下の構造のものに変えた以外は、実施例1
と全く同様に感光体を作製した。
【0242】
【化109】
【0243】実施例110 実施例109の共晶錯体感光層用塗工液に実施例2で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例109と全く同様に感光体を作製した。 実施例111 実施例109の共晶錯体感光層用塗工液に実施例3で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例109と全く同様に感光体を作製した。 実施例112 実施例109の共晶錯体感光層用塗工液に実施例4で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例109と全く同様に感光体を作製した。 実施例113 実施例109の共晶錯体感光層用塗工液に実施例5で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例109と全く同様に感光体を作製した。 実施例114 実施例109の共晶錯体感光層用塗工液に実施例6で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例109と全く同様に感光体を作製した。 実施例115 実施例109の共晶錯体感光層用塗工液に実施例7で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例109と全く同様に感光体を作製した。 実施例116 実施例109の共晶錯体感光層用塗工液に実施例8で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例109と全く同様に感光体を作製した。 実施例117 実施例109の共晶錯体感光層用塗工液に実施例9で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例109と全く同様に感光体を作製した。 実施例118 実施例109の共晶錯体感光層用塗工液に実施例10で
使用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実
施例109と全く同様に感光体を作製した。 実施例119 実施例109の共晶錯体感光層用塗工液に実施例11で
使用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実
施例109と全く同様に感光体を作製した。 実施例120 実施例109の共晶錯体感光層用塗工液に実施例12で
使用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実
施例109と全く同様に感光体を作製した。
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例109と全く同様に感光体を作製した。 実施例111 実施例109の共晶錯体感光層用塗工液に実施例3で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例109と全く同様に感光体を作製した。 実施例112 実施例109の共晶錯体感光層用塗工液に実施例4で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例109と全く同様に感光体を作製した。 実施例113 実施例109の共晶錯体感光層用塗工液に実施例5で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例109と全く同様に感光体を作製した。 実施例114 実施例109の共晶錯体感光層用塗工液に実施例6で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例109と全く同様に感光体を作製した。 実施例115 実施例109の共晶錯体感光層用塗工液に実施例7で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例109と全く同様に感光体を作製した。 実施例116 実施例109の共晶錯体感光層用塗工液に実施例8で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例109と全く同様に感光体を作製した。 実施例117 実施例109の共晶錯体感光層用塗工液に実施例9で使
用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実施
例109と全く同様に感光体を作製した。 実施例118 実施例109の共晶錯体感光層用塗工液に実施例10で
使用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実
施例109と全く同様に感光体を作製した。 実施例119 実施例109の共晶錯体感光層用塗工液に実施例11で
使用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実
施例109と全く同様に感光体を作製した。 実施例120 実施例109の共晶錯体感光層用塗工液に実施例12で
使用した低分子電荷輸送物質を1部添加した以外は、実
施例109と全く同様に感光体を作製した。
【0244】比較例1 実施例1における共晶錯体感光層用塗工液を以下の組成
のものに変えた以外は、実施例1と全く同様に感光体を
作製した。
のものに変えた以外は、実施例1と全く同様に感光体を
作製した。
【0245】 ポリカーボネート(帝人:パンライトC1400) 2.1部 塩化メチレン 24部 クロロホルム 16部 下記構造のピリリウム系染料 0.2部
【0246】
【化110】 下記構造の低分子電荷輸送物質 1.9部
【0247】
【化111】
【0248】比較例2 実施例1における共晶錯体感光層用塗工液を以下の組成
のものに変えた以外は、実施例1と全く同様に感光体を
作製した。
のものに変えた以外は、実施例1と全く同様に感光体を
作製した。
【0249】 ポリカーボネート(三菱瓦斯化学:ユーピロンZ−200) 2.1部 塩化メチレン 24部 クロロホルム 16部 下記構造のピリリウム系染料 0.2部
【0250】
【化112】 下記構造の低分子電荷輸送物質 1.9部
【0251】
【化113】
【0252】以上のように作製した実施例1〜120及
び比較例1、2の電子写真感光体は、静電複写紙試験装
置(川口電気:EPA SP−428)にて感光体特性
を評価した。まず、6.0kVの帯電電圧で感光体の表
面電位が800Vになるまで帯電し、タングステン光
(61ux)を照射して、400Vに減衰するのに必要
な露光量(E1/2)を測定した。結果を表2に示す。
び比較例1、2の電子写真感光体は、静電複写紙試験装
置(川口電気:EPA SP−428)にて感光体特性
を評価した。まず、6.0kVの帯電電圧で感光体の表
面電位が800Vになるまで帯電し、タングステン光
(61ux)を照射して、400Vに減衰するのに必要
な露光量(E1/2)を測定した。結果を表2に示す。
【0253】
【表2−1】
【0254】
【表2−2】
【0255】
【表2−3】
【0256】
【表2−4】
【0257】
【表2−5】
【0258】
【表2−6】
【0259】実施例121 実施例1と同じ支持体上に、下記組成の下引き層用塗工
液及び実施例1と同じ共晶錯体感光層用塗工液を順次塗
布、乾燥して約0.3μmの下引き層及び約20μmの
共晶錯体感光層を形成して、本発明の電子写真感光体を
作製した。 アルコール可溶性ナイロン(東レ:CM−8000) 3部 メタノール 70部 ブタノール 30部
液及び実施例1と同じ共晶錯体感光層用塗工液を順次塗
布、乾燥して約0.3μmの下引き層及び約20μmの
共晶錯体感光層を形成して、本発明の電子写真感光体を
作製した。 アルコール可溶性ナイロン(東レ:CM−8000) 3部 メタノール 70部 ブタノール 30部
【0260】実施例122 実施例121の共晶錯体感光層用塗工液を実施例13の
共晶錯体感光層用塗工液に変更した以外は、実施例12
1と全く同様に電子写真感光体を作製した。 実施例123 実施例121の共晶錯体感光層用塗工液を実施例25の
共晶錯体感光層用塗工液に変更した以外は、実施例12
1と全く同様に電子写真感光体を作製した。 実施例124 実施例121の共晶錯体感光層用塗工液を実施例37の
共晶錯体感光層用塗工液に変更した以外は、実施例12
1と全く同様に電子写真感光体を作製した。 実施例125 実施例121の共晶錯体感光層用塗工液を実施例49の
共晶錯体感光層用塗工液に変更した以外は、実施例12
1と全く同様に電子写真感光体を作製した。 実施例126 実施例121の共晶錯体感光層用塗工液を実施例61の
共晶錯体感光層用塗工液に変更した以外は、実施例12
1と全く同様に電子写真感光体を作製した。 実施例127 実施例121の共晶錯体感光層用塗工液を実施例73の
共晶錯体感光層用塗工液に変更した以外は、実施例12
1と全く同様に電子写真感光体を作製した。 実施例128 実施例121の共晶錯体感光層用塗工液を実施例85の
共晶錯体感光層用塗工液に変更した以外は、実施例12
1と全く同様に電子写真感光体を作製した。 実施例129 実施例121の共晶錯体感光層用塗工液を実施例97の
共晶錯体感光層用塗工液に変更した以外は、実施例12
1と全く同様に電子写真感光体を作製した。 実施例130 実施例121の共晶錯体感光層用塗工液を実施例109
の共晶錯体感光層用塗工液に変更した以外は、実施例1
21と全く同様に電子写真感光体を作製した。
共晶錯体感光層用塗工液に変更した以外は、実施例12
1と全く同様に電子写真感光体を作製した。 実施例123 実施例121の共晶錯体感光層用塗工液を実施例25の
共晶錯体感光層用塗工液に変更した以外は、実施例12
1と全く同様に電子写真感光体を作製した。 実施例124 実施例121の共晶錯体感光層用塗工液を実施例37の
共晶錯体感光層用塗工液に変更した以外は、実施例12
1と全く同様に電子写真感光体を作製した。 実施例125 実施例121の共晶錯体感光層用塗工液を実施例49の
共晶錯体感光層用塗工液に変更した以外は、実施例12
1と全く同様に電子写真感光体を作製した。 実施例126 実施例121の共晶錯体感光層用塗工液を実施例61の
共晶錯体感光層用塗工液に変更した以外は、実施例12
1と全く同様に電子写真感光体を作製した。 実施例127 実施例121の共晶錯体感光層用塗工液を実施例73の
共晶錯体感光層用塗工液に変更した以外は、実施例12
1と全く同様に電子写真感光体を作製した。 実施例128 実施例121の共晶錯体感光層用塗工液を実施例85の
共晶錯体感光層用塗工液に変更した以外は、実施例12
1と全く同様に電子写真感光体を作製した。 実施例129 実施例121の共晶錯体感光層用塗工液を実施例97の
共晶錯体感光層用塗工液に変更した以外は、実施例12
1と全く同様に電子写真感光体を作製した。 実施例130 実施例121の共晶錯体感光層用塗工液を実施例109
の共晶錯体感光層用塗工液に変更した以外は、実施例1
21と全く同様に電子写真感光体を作製した。
【0261】比較例3 実施例121の共晶錯体感光層用塗工液を比較例1の共
晶錯体感光層用塗工液に変更した以外は、実施例121
と全く同様に電子写真感光体を作製した。 比較例4 実施例121の共晶錯体感光層用塗工液を比較例2の共
晶錯体感光層用塗工液に変更した以外は、実施例121
と全く同様に電子写真感光体を作製した。
晶錯体感光層用塗工液に変更した以外は、実施例121
と全く同様に電子写真感光体を作製した。 比較例4 実施例121の共晶錯体感光層用塗工液を比較例2の共
晶錯体感光層用塗工液に変更した以外は、実施例121
と全く同様に電子写真感光体を作製した。
【0262】以上のように作製した実施例121〜13
0及び比較例3、4の電子写真感光体は、摩耗特性を評
価するため、アブレージョンテスター(東洋精機)を用
い、摩耗輪CS−10による1500回転(荷重250
g)による摩耗量を評価した。結果を表3に示す。
0及び比較例3、4の電子写真感光体は、摩耗特性を評
価するため、アブレージョンテスター(東洋精機)を用
い、摩耗輪CS−10による1500回転(荷重250
g)による摩耗量を評価した。結果を表3に示す。
【0263】
【表3】
【0264】
【発明の効果】以上、詳細且つ具体的に説明したよう
に、本発明における電子写真感光体は高感度であり、ま
た、繰り返し使用時における機械的な耐久性(耐摩耗
性)も高く、繰り返し使用においても安定した画像を得
ることができる。
に、本発明における電子写真感光体は高感度であり、ま
た、繰り返し使用時における機械的な耐久性(耐摩耗
性)も高く、繰り返し使用においても安定した画像を得
ることができる。
【図1】本発明の電子写真感光体の構成例を示す断面図
である。
である。
【図2】本発明の電子写真感光体の別の構成例を示す断
面図である。
面図である。
【図3】本発明の電子写真感光体の更に別の構成例を示
す断面図である。
す断面図である。
【図4】本発明の応用としての電子写真用複合感光体の
断面図である。
断面図である。
21 導電性支持体 25 下引き層 31 共晶錯体感光層 33 電荷輸送層 35 第2感光層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C08L 69/00 C08L 69/00 G03G 5/06 312 G03G 5/06 312 313 313 314 314B 316 316A 322 322 5/09 103 5/09 103
Claims (23)
- 【請求項1】 導電性支持体上にピリリウム系染料とト
リアリールアミン構造を主鎖及び/又は側鎖に含むポリ
カーボネートを主成分とする共晶錯体を含む光導電層が
設けられていることを特徴とする電子写真感光体。 - 【請求項2】 導電性支持体上にピリリウム系染料と下
記(1)式で表わされる高分子電荷輸送物質を主成分と
する共晶錯体を含む光導電層が設けられていることを特
徴とする電子写真感光体。 【化1】 式中、R1、R2、R3はそれぞれ独立して置換若しくは
無置換のアルキル基又はハロゲン原子、R4は水素原子
又は置換若しくは無置換のアルキル基、R5、R6は置換
若しくは無置換のアリール基、o、p、qはそれぞれ独
立して0〜4の整数、k、jは組成を表わし、0.1≦
k≦1、0≦j≦0.9、nは繰り返し単位数を表わし
5〜5000の整数である。Xは脂肪族の2価基、環状
脂肪族の2価基、又は下記一般式で表わされる2価基を
表わす。 【化2】 式中、R101、R102は各々独立して置換若しくは無置換
のアルキル基、アリール基又はハロゲン原子を表わす。
l、mは0〜4の整数、Yは単結合、炭素原子数1〜1
2の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキレン基、−O
−、−S−、−SO−、−SO2−、−CO−、−CO
−O−Z−O−CO−(式中Zは脂肪族の2価基を表わ
す。)または、 【化3】 (式中、aは1〜20の整数、bは1〜2000の整
数、R103、R104は置換又は無置換のアルキル基又はア
リール基を表わす。)を表わす。ここで、R101と
R102、R103とR104は、それぞれ同一でも異なっても
よい。 - 【請求項3】 導電性支持体上にピリリウム系染料と下
記(2)式で表わされる高分子電荷輸送物質を主成分と
する共晶錯体を含む光導電層が設けられていることを特
徴とする電子写真感光体。 【化4】 式中、R7、R8は置換若しくは無置換のアリール基、A
r1、Ar2、Ar3は同一又は異なるアリレン基を表わ
す。X、k、j及びnは、上記(1)式の場合と同じで
ある。 - 【請求項4】 導電性支持体上にピリリウム系染料と下
記(3)式で表わされる高分子電荷輸送物質を主成分と
する共晶錯体を含む光導電層が設けられていることを特
徴とする電子写真感光体。 【化5】 式中、R9、R10は置換若しくは無置換のアリール基、
Ar4、Ar5、Ar6は同一又は異なるアリレン基を表
わす。X、k、j及びnは、上記(1)式の場合と同じ
である。 - 【請求項5】 導電性支持体上にピリリウム系染料と下
記(4)式で表わされる高分子電荷輸送物質を主成分と
する共晶錯体を含む光導電層が設けられていることを特
徴とする電子写真感光体。 【化6】 式中、R11、R12は置換若しくは無置換のアリール基、
Ar7、Ar8、Ar9は同一又は異なるアリレン基、p
は1〜5の整数を表わす。X、k、j及びnは、上記
(1)式の場合と同じである。 - 【請求項6】 導電性支持体上にピリリウム系染料と下
記(5)式で表わされる高分子電荷輸送物質を主成分と
する共晶錯体を含む光導電層が設けられていることを特
徴とする電子写真感光体。 【化7】 式中、R13、R14は置換若しくは無置換のアリール基、
Ar10、Ar11、Ar12は同一又は異なるアリレン基、
X1、X2は置換若しくは無置換のエチレン基、又は置換
若しくは無置換のビニレン基を表わす。X、k、j及び
nは、上記(1)式の場合と同じである。 - 【請求項7】 導電性支持体上にピリリウム系染料と下
記(6)式で表わされる高分子電荷輸送物質を主成分と
する共晶錯体を含む光導電層が設けられていることを特
徴とする電子写真感光体。 【化8】 式中、R15、R16、R17、R18は置換若しくは無置換の
アリール基、Ar13、Ar14、Ar15、Ar16は同一又
は異なるアリレン基、Y1、Y2、Y3は単結合、置換若
しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置換のシ
クロアルキレン基、置換若しくは無置換のアルキレンエ
ーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表わし同
一であっても異なってもよい。X、k、j及びnは、上
記(1)式の場合と同じである。 - 【請求項8】 導電性支持体上にピリリウム系染料と下
記(7)式で表わされる高分子電荷輸送物質を主成分と
する共晶錯体を含む光導電層が設けられていることを特
徴とする電子写真感光体。 【化9】 式中、R19、R20は水素原子、置換若しくは無置換のア
リール基を表わし、R19とR20は環を形成していてもよ
い。Ar17、Ar18、Ar19は同一又は異なるアリレン
基を表わす。X、k、j及びnは、上記(1)式の場合
と同じである。 - 【請求項9】 導電性支持体上にピリリウム系染料と下
記(8)式で表わされる高分子電荷輸送物質を主成分と
する共晶錯体を含む光導電層が設けられていることを特
徴とする電子写真感光体。 【化10】 式中、R21は置換若しくは無置換のアリール基、A
r20、Ar21、Ar22、Ar23は同一又は異なるアリレ
ン基を表わす。X、k、j及びnは、上記(1)式の場
合と同じである。 - 【請求項10】 導電性支持体上にピリリウム系染料と
下記(9)式で表わされる高分子電荷輸送物質を主成分
とする共晶錯体を含む光導電層が設けられていることを
特徴とする電子写真感光体。 【化11】 式中、R22、R23、R24、R25は置換若しくは無置換の
アリール基、Ar24、Ar25、Ar26、Ar27、Ar28
は同一又は異なるアリレン基を表わす。X、k、j及び
nは、上記(1)式の場合と同じである。 - 【請求項11】 導電性支持体上にピリリウム系染料と
下記(10)式で表わされる高分子電荷輸送物質を主成
分とする共晶錯体を含む光導電層が設けられていること
を特徴とする電子写真感光体。 【化12】 式中、R26、R27は置換若しくは無置換のアリール基、
Ar29、Ar30、Ar 31は同一又は異なるアリレン基を
表わす。X、k、j及びnは、上記(1)式の場合と同
じである。 - 【請求項12】 前記光導電層中に低分子電荷輸送物質
を含有することを特徴とする請求項1〜11のうち何れ
か1に記載の電子写真感光体。 - 【請求項13】 前記光導電層中に下記(11)式で表
わされる低分子電荷輸送物質を含有することを特徴とす
る請求項12に記載の電子写真感光体。 【化13】 式中、R201、R202、R203及びR204は水素原子、置換
若しくは無置換の低級アルキル基、置換若しくは無置換
のアリール基を表わし、Ar101は置換若しくは無置換
のアリール基を表わし、Ar102は置換若しくは無置換
のアリーレン基を表わし、Ar101とR201は共同で環を
形成してもよく、また、n1は0又は1の整数である。 - 【請求項14】 前記光導電層中に下記(12)式で表
わされる低分子電荷輸送物質を含有することを特徴とす
る請求項12に記載の電子写真感光体。 【化14】 式中、R205は低級アルキル基、低級アルコキシ基又は
ハロゲン原子を表わし、n2は0〜4の整数を表わし、
R206、R207は同一でも異なっていてもよく、水素原
子、低級アルキル基、低級アルコキシ基又はハロゲン原
子を表わす。 - 【請求項15】 前記光導電層中に下記(13)式で表
わされる低分子電荷輸送物質を含有することを特徴とす
る請求項12に記載の電子写真感光体。 【化15】 式中、R208は炭素数1〜11のアルキル基、置換若し
くは無置換のフェニル基或いは複素環基を表わし、R
209、R210は同一でも異なっていてもよく、水素原子、
低級アルキル基、C1〜C4のヒドロキシアルキル基、C
1〜C4のクロルアルキル基、或いは置換若しくは無置換
のアラルキル基を表わし、また、R209とR210は共同で
窒素を含む複素環を形成してもよく、R211、R212はそ
れぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子、低級ア
ルキル基、低級アルコキシ基又はハロゲン原子を表わ
す。 - 【請求項16】 前記光導電層中に下記(14)式で表
わされる低分子電荷輸送物質を含有することを特徴とす
る請求項12に記載の電子写真感光体。 【化16】 式中、R213は水素原子又はハロゲン原子を表わし、R
214は置換又は無置換の芳香族残基或いは複素環残基
(但し、前記置換基はハロゲン原子、シアノ基、ジ低級
アルキルアミノ基、置換又は無置換のジアラルキルアミ
ノ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基及びニトロ基
よりなる群から選ばれる)を表わす。 - 【請求項17】 前記光導電層中に下記(15)式で表
わされる低分子電荷輸送物質を含有することを特徴とす
る請求項12に記載の電子写真感光体。 【化17】 式中、R215、R216及びR217はそれぞれ置換若しくは
無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアリール基
或いは複素環基を表わし、R215、R216、R217のうち
少なくとも2つはアリール基又は複素環基を表わす。 - 【請求項18】 前記光導電層中に下記(16)式で表
わされる低分子電荷輸送物質を含有することを特徴とす
る請求項12に記載の電子写真感光体。 【化18】 式中、Ar103及びAr104は、それぞれ置換若しくは無
置換のアリール基或いは複素芳香環を表わす。 - 【請求項19】 前記光導電層中に下記(17)式で表
わされる低分子電荷輸送物質を含有することを特徴とす
る請求項12に記載の電子写真感光体。 【化19】 式中、Ar105は置換若しくは無置換のアリール基或い
は複素芳香環を表わし、R218及びR219はそれぞれ置換
若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のア
リール基或いは複素環基であり、R218及びR219の少な
くとも1つはアリール基又は複素環基からなる。 - 【請求項20】 前記光導電層中に下記(18)式で表
わされる低分子電荷輸送物質を含有することを特徴とす
る請求項12に記載の電子写真感光体。 【化20】 式中、R220、R222は水素原子、低級アルキル基、低級
アルコキシ基或いはジ低級アルキルアミノ基を表わし、
R221は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、ハロゲン原子或いはニトロ基を表わし、n3は0又
は1の整数を表わす。 - 【請求項21】 前記光導電層中に下記(19)式で表
わされる低分子電荷輸送物質を含有することを特徴とす
る請求項12に記載の電子写真感光体。 【化21】 式中、R223はカルバゾリル基、ピリジル基、チエニル
基、インドリル基、又はフリル基、或いはそれぞれ置換
又は無置換のフェニル基、スチリル基、ナフチル基又は
アントリル基(但し、前記置換基はジ低級アルキルアミ
ノ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原
子、アラルキルアミノ基又はアミノ基からなる群から選
ばれる)を表わす。 - 【請求項22】 前記光導電層中に下記(20)式で表
わされる低分子電荷輸送物質を含有することを特徴とす
る請求項12に記載の電子写真感光体。 【化22】 式中、Ar106は置換若しくは無置換のビフェニレン基
を表わし、R224、R225及びR226は水素原子、ハロゲ
ン原子、シアノ基、又は置換基を有していてもよいアル
キル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルメ
ルカプト基、メチレンジオキシ基、メチレンジチオ基、
アリール基を表わし、R224、R225及びR226は同一で
も異なっていてもよい。また、u、v、wは1〜5の整
数を表わし、それぞれが2〜5の整数の時は前記
R224、R225及びR226は同一でも異なっていてもよ
い。 - 【請求項23】 前記光導電層中に下記(21)式で表
わされる低分子電荷輸送物質を含有することを特徴とす
る請求項12に記載の電子写真感光体。 【化23】 式中、R227及びR228は置換若しくは無置換のアルキル
基、置換若しくは無置換のアリール基を表わし、R227
及びR228のうち少なくとも1つは置換若しくは無置換
のアリール基を表わす。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10398797A JPH10282701A (ja) | 1997-04-08 | 1997-04-08 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10398797A JPH10282701A (ja) | 1997-04-08 | 1997-04-08 | 電子写真感光体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10282701A true JPH10282701A (ja) | 1998-10-23 |
Family
ID=14368667
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10398797A Pending JPH10282701A (ja) | 1997-04-08 | 1997-04-08 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10282701A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012022140A (ja) * | 2010-07-14 | 2012-02-02 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体、それを用いた電子写真方法、電子写真装置及びプロセスカートリッジ |
-
1997
- 1997-04-08 JP JP10398797A patent/JPH10282701A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012022140A (ja) * | 2010-07-14 | 2012-02-02 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体、それを用いた電子写真方法、電子写真装置及びプロセスカートリッジ |
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