JPH10284401A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPH10284401A JPH10284401A JP9102506A JP10250697A JPH10284401A JP H10284401 A JPH10284401 A JP H10284401A JP 9102506 A JP9102506 A JP 9102506A JP 10250697 A JP10250697 A JP 10250697A JP H10284401 A JPH10284401 A JP H10284401A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- optical system
- illuminance distribution
- telecentricity
- exposure
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- Pending
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】露光不良の発生を未然に防ぐとともに、常に初
期の照明性能を維持して、露光品質を低下させることの
ない露光装置を提供する。 【解決手段】照明光学系１によってマスク３上のパター
ンを照明し、パターンを透過した露光光を投影光学系４
によって基板６上に投影露光する露光装置において、基
板６上の照度分布を変更できるように照明光学系１に照
度分布調整手段２を設け、基板６上の照度分布を測定で
きるように基板６の平面方向に移動自在に光センサー５
を配置し、光センサー５によって検出した基板６上の照
度分布に基づいて照度分布調整手段２を駆動するコント
ローラ８を設けた。
期の照明性能を維持して、露光品質を低下させることの
ない露光装置を提供する。 【解決手段】照明光学系１によってマスク３上のパター
ンを照明し、パターンを透過した露光光を投影光学系４
によって基板６上に投影露光する露光装置において、基
板６上の照度分布を変更できるように照明光学系１に照
度分布調整手段２を設け、基板６上の照度分布を測定で
きるように基板６の平面方向に移動自在に光センサー５
を配置し、光センサー５によって検出した基板６上の照
度分布に基づいて照度分布調整手段２を駆動するコント
ローラ８を設けた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、露光装置の照明性
能の調整に関するものである。
能の調整に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウエハなどを製造する露光装置で
は、露光量によって刻線の幅が変化するから、露光領域
の全域にわたって露光ムラがあってはならない。特に走
査型の露光装置では、複数の独立した照明系ユニットに
よって照明光学系を構成することが多く、このような構
成によっても、露光領域の全域にわたって照度分布が均
一である必要がある。また一般に露光装置は像側にテレ
セントリックに構成されているが、このテレセントリシ
ティは十分に高い必要がある。従来より行われている照
度均一性やテレセントリシティを確保するための調整
は、初期調整のみを行うものであり、その後の調整は、
露光不良等の不具合が発見された場合にスポット的に行
うものであった。
は、露光量によって刻線の幅が変化するから、露光領域
の全域にわたって露光ムラがあってはならない。特に走
査型の露光装置では、複数の独立した照明系ユニットに
よって照明光学系を構成することが多く、このような構
成によっても、露光領域の全域にわたって照度分布が均
一である必要がある。また一般に露光装置は像側にテレ
セントリックに構成されているが、このテレセントリシ
ティは十分に高い必要がある。従来より行われている照
度均一性やテレセントリシティを確保するための調整
は、初期調整のみを行うものであり、その後の調整は、
露光不良等の不具合が発見された場合にスポット的に行
うものであった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来の技術
においては、露光不良等によって不具合が発見されるま
で、照度均一性やテレセントリシティを確保するための
調整を行わなかったから、必然的に露光不良等による不
良品を出してしまうという問題点があった。また、不良
まで至らなくとも、品質が低下した状態で使用を続ける
という問題点があった。本発明は、このような従来の問
題点に鑑みてなされたもので、露光不良の発生を未然に
防ぐとともに、常に初期の照明性能を維持して、露光品
質を低下させることのない露光装置を提供することを課
題とする。
においては、露光不良等によって不具合が発見されるま
で、照度均一性やテレセントリシティを確保するための
調整を行わなかったから、必然的に露光不良等による不
良品を出してしまうという問題点があった。また、不良
まで至らなくとも、品質が低下した状態で使用を続ける
という問題点があった。本発明は、このような従来の問
題点に鑑みてなされたもので、露光不良の発生を未然に
防ぐとともに、常に初期の照明性能を維持して、露光品
質を低下させることのない露光装置を提供することを課
題とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するためになされたものであり、すなわち、照明光学系
によってマスク上のパターンを照明し、パターンを透過
した露光光を投影光学系によって基板上に投影露光する
露光装置において、基板上の照度分布を変更できるよう
に照明光学系に照度分布調整手段を設け、基板上の照度
分布を測定できるように基板の平面方向に移動自在に光
センサーを配置し、光センサーによって検出した基板上
の照度分布に基づいて照度分布調整手段を駆動するコン
トローラを設けたことを特徴とする露光装置である。
するためになされたものであり、すなわち、照明光学系
によってマスク上のパターンを照明し、パターンを透過
した露光光を投影光学系によって基板上に投影露光する
露光装置において、基板上の照度分布を変更できるよう
に照明光学系に照度分布調整手段を設け、基板上の照度
分布を測定できるように基板の平面方向に移動自在に光
センサーを配置し、光センサーによって検出した基板上
の照度分布に基づいて照度分布調整手段を駆動するコン
トローラを設けたことを特徴とする露光装置である。
【０００５】本発明はまた、照明光学系によってマスク
上のパターンを照明し、パターンを透過した露光光を投
影光学系によって基板上に投影露光する露光装置におい
て、露光光の基板側のテレセントリシティを変更できる
ように照明光学系にテレセントリシティ調整手段を設
け、露光光の基板側のテレセントリシティを測定できる
ように基板の法線方向に移動自在に光センサーを配置
し、光センサーによって検出した基板側のテレセントリ
シティに基づいてテレセントリシティ調整手段を駆動す
るコントローラを設けたことを特徴とする露光装置であ
る。このように本発明では、照明性能の測定と調整を自
動で行うようにしているから、常に初期の照明性能を維
持して露光品質を低下させることがなく、したがって不
良品の発生も未然に防ぐことが可能となる。
上のパターンを照明し、パターンを透過した露光光を投
影光学系によって基板上に投影露光する露光装置におい
て、露光光の基板側のテレセントリシティを変更できる
ように照明光学系にテレセントリシティ調整手段を設
け、露光光の基板側のテレセントリシティを測定できる
ように基板の法線方向に移動自在に光センサーを配置
し、光センサーによって検出した基板側のテレセントリ
シティに基づいてテレセントリシティ調整手段を駆動す
るコントローラを設けたことを特徴とする露光装置であ
る。このように本発明では、照明性能の測定と調整を自
動で行うようにしているから、常に初期の照明性能を維
持して露光品質を低下させることがなく、したがって不
良品の発生も未然に防ぐことが可能となる。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面によっ
て説明する。図１は本発明による露光装置の一実施例を
示し、照明光学系１によってマスク３上のパターンを照
明し、パターンを透過した露光光を投影光学系４によっ
て基板６上に投影露光するものである。この露光装置は
走査型の露光装置であり、マスク３と基板６とをその平
面内の走査方向Ｙに同期して走査することにより、一時
に投影される範囲よりも走査方向Ｙに長い範囲のパター
ンを基板６上に投影して露光している。照明光学系１
は、複数の独立した照明系ユニット１ａを、Ｙ方向とマ
スク３の法線方向Ｚとの双方に直交するＸ方向に並べる
ことによって構成されており、これに対応して、投影光
学系４も、複数の独立した投影系ユニット４ａをＸ方向
に並べることによって構成されている。なお、光源とし
ては超高圧水銀ランプを使用することができる。
て説明する。図１は本発明による露光装置の一実施例を
示し、照明光学系１によってマスク３上のパターンを照
明し、パターンを透過した露光光を投影光学系４によっ
て基板６上に投影露光するものである。この露光装置は
走査型の露光装置であり、マスク３と基板６とをその平
面内の走査方向Ｙに同期して走査することにより、一時
に投影される範囲よりも走査方向Ｙに長い範囲のパター
ンを基板６上に投影して露光している。照明光学系１
は、複数の独立した照明系ユニット１ａを、Ｙ方向とマ
スク３の法線方向Ｚとの双方に直交するＸ方向に並べる
ことによって構成されており、これに対応して、投影光
学系４も、複数の独立した投影系ユニット４ａをＸ方向
に並べることによって構成されている。なお、光源とし
ては超高圧水銀ランプを使用することができる。
【０００７】各照明系ユニット１ａには照明性能調整器
２が設けられており、この照明性能調整器２は、基板６
上の照度分布を変更するための照度分布調整器と、露光
光の基板６側のテレセントリシティを変更するためのテ
レセントリシティ調整器とからなる。照度分布調整器の
具体的な構成としては、例えば各照明系ユニット１ａ内
のコンデンサレンズを光軸方向に移動するモータとする
ことができる。また、テレセントリシティ調整器の具体
的な構成としては、例えば各照明系ユニット１ａ内のフ
ライアイレンズの前に配置したインプットレンズを光軸
方向に移動するモータとすることができる。
２が設けられており、この照明性能調整器２は、基板６
上の照度分布を変更するための照度分布調整器と、露光
光の基板６側のテレセントリシティを変更するためのテ
レセントリシティ調整器とからなる。照度分布調整器の
具体的な構成としては、例えば各照明系ユニット１ａ内
のコンデンサレンズを光軸方向に移動するモータとする
ことができる。また、テレセントリシティ調整器の具体
的な構成としては、例えば各照明系ユニット１ａ内のフ
ライアイレンズの前に配置したインプットレンズを光軸
方向に移動するモータとすることができる。
【０００８】他方、基板６はＸＹＺステージ７上に載置
されているが、このＸＹＺステージ７には光センサー５
が埋め込まれており、基板６上での照度やテレセントリ
シティを測定するときには、基板６を除去して光センサ
ー５を露出させて測定を行う。光センサー５としては、
フォトダイオードやＣＣＤなどを用いることができる。
光センサー５によって検出された光量信号は、コントロ
ーラ８に送られる。コンデンサレンズやインプットレン
ズの移動量と、基板６上での照度分布やテレセントリシ
ティとの関係は予め計測されており、この関係がコント
ローラ８内に記憶されている。コントローラ８は、光セ
ンサー５からの信号と、予め記憶されたコンデンサレン
ズやインプットレンズの移動量と照度分布やテレセント
リシティとの関係に基づいて、基板６上での照度分布が
均一となり、露光光が像側にテレセントリックとなるよ
うに、各照明系ユニット１ａ内の照明性能調整器２を制
御している。
されているが、このＸＹＺステージ７には光センサー５
が埋め込まれており、基板６上での照度やテレセントリ
シティを測定するときには、基板６を除去して光センサ
ー５を露出させて測定を行う。光センサー５としては、
フォトダイオードやＣＣＤなどを用いることができる。
光センサー５によって検出された光量信号は、コントロ
ーラ８に送られる。コンデンサレンズやインプットレン
ズの移動量と、基板６上での照度分布やテレセントリシ
ティとの関係は予め計測されており、この関係がコント
ローラ８内に記憶されている。コントローラ８は、光セ
ンサー５からの信号と、予め記憶されたコンデンサレン
ズやインプットレンズの移動量と照度分布やテレセント
リシティとの関係に基づいて、基板６上での照度分布が
均一となり、露光光が像側にテレセントリックとなるよ
うに、各照明系ユニット１ａ内の照明性能調整器２を制
御している。
【０００９】すなわち基板６上での照度分布の均一化を
図るときには、基板６を除去し、光センサー５の高さが
基板の上面と同じ高さとなるようにＸＹＺステージ７を
Ｚ方向に移動し、その状態でＸＹ平面内の複数位置にＸ
ＹＺステージ７を移動して、基板６上での照度分布を測
定する。そしてこの測定結果に基づいて、基板６上での
照度分布が均一となるように、各照明系ユニット１ａ内
のコンデンサレンズの光軸方向の位置を調整する。その
ためには、一般にはトライアンドエラーによって徐々に
照度分布の均一化を図る追い込み方式が適している。ま
たこの工程は各照明系ユニット１ａごとに行い、すなわ
ち調整しようとする照明系ユニット１ａ以外のユニット
については、消灯するか、又は遮光しておく。
図るときには、基板６を除去し、光センサー５の高さが
基板の上面と同じ高さとなるようにＸＹＺステージ７を
Ｚ方向に移動し、その状態でＸＹ平面内の複数位置にＸ
ＹＺステージ７を移動して、基板６上での照度分布を測
定する。そしてこの測定結果に基づいて、基板６上での
照度分布が均一となるように、各照明系ユニット１ａ内
のコンデンサレンズの光軸方向の位置を調整する。その
ためには、一般にはトライアンドエラーによって徐々に
照度分布の均一化を図る追い込み方式が適している。ま
たこの工程は各照明系ユニット１ａごとに行い、すなわ
ち調整しようとする照明系ユニット１ａ以外のユニット
については、消灯するか、又は遮光しておく。
【００１０】同様に露光光のテレセントリシティを調整
するときには、適宜のマークを形成したマスクを用意
し、ＸＹ平面内の複数位置についてＸＹＺステージ７を
Ｚ方向に移動して、マークの像の中心位置をＺ方向に沿
って測定する。そしてこの測定結果に基づいて、露光光
が像側にテレセントリックとなるように、各照明系ユニ
ット１ａ内のコンデンサレンズの光軸方向の位置を調整
する。この工程も各照明系ユニット１ａごとに個別に行
う。
するときには、適宜のマークを形成したマスクを用意
し、ＸＹ平面内の複数位置についてＸＹＺステージ７を
Ｚ方向に移動して、マークの像の中心位置をＺ方向に沿
って測定する。そしてこの測定結果に基づいて、露光光
が像側にテレセントリックとなるように、各照明系ユニ
ット１ａ内のコンデンサレンズの光軸方向の位置を調整
する。この工程も各照明系ユニット１ａごとに個別に行
う。
【００１１】このように本実施例によれば、照明性能の
確認と調整とを所望の時期に行うことができるから、露
光不良のある不具合品の発生を未然に防止することがで
きる。なお本実施例の光センサー５はＸＹＺステージ７
内に埋め込まれていたが、ＸＹＺステージ７上の基板載
置面の側部に、基板表面と同じ高さで光センサー５を設
置することもできる。また本実施例では、本発明を走査
型露光装置に適用した場合を示したが、本発明は、単一
の照明光学系を用いた一括露光方式の露光装置にも適用
することができる。
確認と調整とを所望の時期に行うことができるから、露
光不良のある不具合品の発生を未然に防止することがで
きる。なお本実施例の光センサー５はＸＹＺステージ７
内に埋め込まれていたが、ＸＹＺステージ７上の基板載
置面の側部に、基板表面と同じ高さで光センサー５を設
置することもできる。また本実施例では、本発明を走査
型露光装置に適用した場合を示したが、本発明は、単一
の照明光学系を用いた一括露光方式の露光装置にも適用
することができる。
【００１２】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、照明性能
の測定と調整を自動で行うようにしたため、初期の照明
性能を維持して、露光品質を低下させないという効果が
ある。また、不良品の発生を未然に防ぐ効果もある。
の測定と調整を自動で行うようにしたため、初期の照明
性能を維持して、露光品質を低下させないという効果が
ある。また、不良品の発生を未然に防ぐ効果もある。
【図１】本発明の一実施例を示す概略構成図
１…照明光学系 １ａ…照明系ユニッ
ト ２…照明性能調整器 ３…マスク ４…投影光学系 ４ａ…投影系ユニッ
ト ５…光センサー ６…基板 ７…ＸＹＺステージ ８…コントローラ
ト ２…照明性能調整器 ３…マスク ４…投影光学系 ４ａ…投影系ユニッ
ト ５…光センサー ６…基板 ７…ＸＹＺステージ ８…コントローラ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 武村 典美 東京都千代田区丸の内３丁目２番３号 株 式会社ニコン内
Claims (3)
- 【請求項１】照明光学系によってマスク上のパターンを
照明し、該パターンを透過した露光光を投影光学系によ
って基板上に投影露光する露光装置において、 前記基板上の照度分布を変更できるように前記照明光学
系に照度分布調整手段を設け、 前記基板上の照度分布を測定できるように前記基板の平
面方向に移動自在に光センサーを配置し、 該光センサーによって検出した基板上の照度分布に基づ
いて前記照度分布調整手段を駆動するコントローラを設
けたことを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】照明光学系によってマスク上のパターンを
照明し、該パターンを透過した露光光を投影光学系によ
って基板上に投影露光する露光装置において、 前記露光光の基板側のテレセントリシティを変更できる
ように前記照明光学系にテレセントリシティ調整手段を
設け、 前記露光光の基板側のテレセントリシティを測定できる
ように前記基板の法線方向に移動自在に光センサーを配
置し、 該光センサーによって検出した基板側のテレセントリシ
ティに基づいて前記テレセントリシティ調整手段を駆動
するコントローラを設けたことを特徴とする露光装置。 - 【請求項３】複数の独立した照明系ユニットを１方向に
並べることによって前記照明光学系を構成し、前記照明
系ユニットごとに前記照度分布調整手段又は前記テレセ
ントリシティ調整手段を設け、 前記マスクと基板とを前記１方向と直交する方向に走査
可能に配置することにより、一時に投影される範囲より
も前記走査方向に長い範囲の前記パターンを前記基板上
に投影露光できるように構成した、請求項１又は２記載
の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9102506A JPH10284401A (ja) | 1997-04-03 | 1997-04-03 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9102506A JPH10284401A (ja) | 1997-04-03 | 1997-04-03 | 露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10284401A true JPH10284401A (ja) | 1998-10-23 |
| JPH10284401A5 JPH10284401A5 (ja) | 2005-02-24 |
Family
ID=14329293
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9102506A Pending JPH10284401A (ja) | 1997-04-03 | 1997-04-03 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10284401A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20050078413A (ko) * | 2004-01-29 | 2005-08-05 | 삼성에스디아이 주식회사 | 조도측정장치 |
| JP2006049730A (ja) * | 2004-08-06 | 2006-02-16 | Sharp Corp | 露光装置、露光量制御方法、露光量制御プログラムとその記録媒体 |
| KR101051691B1 (ko) * | 2009-11-27 | 2011-07-25 | 주식회사 옵티레이 | 노광 장치 |
| JP2012182281A (ja) * | 2011-03-01 | 2012-09-20 | Ushio Inc | 光照射装置 |
-
1997
- 1997-04-03 JP JP9102506A patent/JPH10284401A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20050078413A (ko) * | 2004-01-29 | 2005-08-05 | 삼성에스디아이 주식회사 | 조도측정장치 |
| JP2006049730A (ja) * | 2004-08-06 | 2006-02-16 | Sharp Corp | 露光装置、露光量制御方法、露光量制御プログラムとその記録媒体 |
| KR101051691B1 (ko) * | 2009-11-27 | 2011-07-25 | 주식회사 옵티레이 | 노광 장치 |
| JP2012182281A (ja) * | 2011-03-01 | 2012-09-20 | Ushio Inc | 光照射装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040324 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040324 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050928 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060725 |
|
| RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425 Effective date: 20060921 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080304 |