JPH10284805A - 半導体レーザ及び半導体レーザ励起固体レーザ装置 - Google Patents
半導体レーザ及び半導体レーザ励起固体レーザ装置Info
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Abstract
光を効率良く利用し、高出力のレーザ光を出力すること
が可能な半導体レーザ励起固体レーザ装置及びその励起
光源である半導体レーザを提供する。 【解決手段】 半導体レーザ励起固体レーザ装置は、複
数の半導体レーザアレイ10、レーザ媒質2、全反射鏡
3、出力側反射鏡4とから構成されている。レーザ媒質
2は、細長い円柱の形状をしており、レーザ媒質2の周
囲には複数個の半導体レーザアレイ10がレーザ媒質2
に近接して設置されている。各半導体レーザアレイ10
の光出力端面の、活性領域12以外の部分は反射膜18
で覆われている。レーザ媒質2の側面から外部に出てし
まった励起光は、反射膜18によって反射され、再度レ
ーザ媒質2内に入射し、固体レーザの励起に用いられ
る。
Description
半導体レーザ励起固体レーザ装置に関するものである。
型化が図れることから、最近ではよく利用されている。
中でも、固体レーザの励起光源として半導体レーザを用
いる半導体レーザ励起固体レーザ装置は、上記に示した
固体レーザ装置の特徴に加えて、レーザ光が高品位であ
る、レーザ媒質の吸収特性に合わせた最適な励起波長の
光を照射できる、などといった理由で特に注目されてい
る。
主に、クラッド層、活性領域、基板および電極とから構
成されている。活性領域は、P型半導体とN型半導体の
それぞれからなる2つのクラッド層の間に挟まれて基板
上に設置されており、2つのクラッド層間に順方向電圧
をかけることにより、活性領域に光が発生する。光出力
端面とその反対側の面はへき開面になっており、活性領
域で発生した光はへき開面で反射し、増幅される。増幅
された光は、光出射部からレーザ光として外部に出力さ
れる。固体レーザの励起光源として用いられる半導体レ
ーザは、高出力が要求されるため、半導体レーザアレイ
を用いることも多い。
励起方式により端面励起方式、側面励起方式の大きく2
種類に分けられる。端面励起方式は励起効率は良いが、
端面に配置できる半導体レーザあるいは半導体レーザア
レイの数に制限がある。そのため現在では、レーザ媒質
の側面、つまりレーザ媒質の長手方向に多数の半導体レ
ーザあるいは半導体レーザアレイを配置して大出力を図
る側面励起方式が主に用いられている。
レーザを励起させる複数の半導体レーザアレイ、光を発
するレーザ媒質、全反射鏡、出力側反射鏡とから構成さ
れている。レーザ媒質は、半導体レーザアレイから出射
された励起光により励起され、光を発する。発生した光
は、全反射鏡と出力側反射鏡との間で増幅され、出力側
反射鏡を通して外部に出力される。
源として用いることにより、高出力の固体レーザ装置を
構成することができるようになった。さらに、レーザ媒
質の側面に多数の半導体レーザあるいは半導体レーザア
レイを配置することにより、固体レーザ装置の出力を飛
躍的に大きくすることが可能となった。
出射された励起光の固体レーザ励起効率は、通常7〜8
割程度である。従って、励起光源である半導体レーザ
は、固体レーザの励起に必要な量以上のレーザ光をレー
ザ媒質に投射する必要があり、非常に効率が悪い。
レーザから発せられた光を、固体レーザの励起に効率良
く利用し、高出力のレーザ光を出力することが可能な半
導体レーザ励起固体レーザ装置、及びその励起光源であ
る半導体レーザを提供することを目的とする。
に、本発明の半導体レーザは、光出力端面内の光出射部
の周辺に、光の出射方向と反対方向から入射する光を反
射する反射膜を形成したことを特徴としている。
た反射膜によって、固体レーザ装置のレーザ媒質の側面
から外部に出てきた光は反射し、再度レーザ媒質の中に
入射する。その結果、半導体レーザから出射された光
は、効率良く固体レーザの励起に用いられる。
隣接設置された放熱板をさらに備え、放熱板の面の内、
半導体レーザの光出力端面に隣接する面に、光の出射方
向と反対方向から入射する光を反射する反射膜を形成し
たことを特徴としても良い。
れている放熱板を、さらに備えたことにより、放熱板に
形成された反射膜によっても、固体レーザ装置のレーザ
媒質の側面から外部に出てきた光は反射し、再度レーザ
媒質の中に入射する。その結果、半導体レーザから出射
された光は、より効率良く固体レーザの励起に用いられ
る。
出力端面内の光出射部の周辺に、光の出射方向と反対方
向から入射する光を反射する反射膜を形成したことを特
徴としている。
た反射膜によって、固体レーザ装置のレーザ媒質の側面
から外部に出てきた光は反射し、再度レーザ媒質の中に
入射する。その結果、半導体レーザアレイから出射され
た光は、効率良く固体レーザの励起に用いられる。
ーザアレイに隣接設置された放熱板をさらに備え、放熱
板の面の内、半導体レーザアレイの光出力端面に隣接す
る面に、光の出射方向と反対方向から入射する光を反射
する反射膜を形成したことを特徴としても良い。
れている放熱板を、さらに備えたことにより、放熱板に
形成された反射膜によっても、固体レーザ装置のレーザ
媒質の側面から外部に出てきた光は反射し、再度レーザ
媒質の中に入射する。その結果、半導体レーザアレイか
ら出射された光は、より効率良く固体レーザの励起に用
いられる。
ザ装置は、レーザ媒質の周囲に、請求項1から請求項4
に記載の半導体レーザあるいは半導体レーザアレイのい
ずれかを少なくとも1つ以上配置したことを特徴として
いる。
ーザのレーザ媒質の側面から外部に出てきた光は半導体
レーザあるいは半導体レーザアレイの反射膜によって反
射し、再度レーザ媒質の中に入射する。その結果、半導
体レーザあるいは半導体レーザアレイから出射された光
は、効率良く固体レーザの励起に用いられる。
レーザ及び半導体レーザ励起固体レーザについて、図面
を参照して説明する。
ーザの構成について説明する。図3は、本実施形態にか
かる半導体レーザの構成図である。半導体レーザ1は主
に、クラッド層11、活性領域12、基板13、電極1
4及び反射膜18とから構成されている。活性領域12
は、P型半導体とN型半導体のそれぞれからなる2つの
クラッド層11の間に挟まれて基板13上設置されてい
る。上側のクラッド層11の上部および基板13の下部
には電極14が設置されており、クラッド層間に電界を
かけられるようになっている。光出力端面の活性領域1
2以外の部分、つまりクラッド層11、基板13および
電極14は反射膜18で覆われており、半導体レーザ1
の光出射方向と反対方向から入射した光を、反射できる
ようになっている。この反射膜18は、例えば、Al2
O3、SiO2など屈折率の小さい材質からなり、厚さが
λ/4n(λは出力波長、nは屈折率)である層と、α
−Siなどの屈折率の大きい材質からなり、厚さがλ/
4nである層とを交互に複数積層し、全体として光反射
率が大きくなるように形成されている。また、活性領域
12の部分は、従来通りにへき開面15を形成する、例
えばAl2O3、SiO2などの屈折率の小さい材質から
なり、厚さがλ/4nである膜が形成されており、光出
射部16から効果的にレーザ光を外部に出力できるよう
になっている。
熱板17上に設置されていても良い。その場合は、放熱
板17の面の内、光出力端面に隣接する面も、反射膜1
8で覆われていることが望ましい。
ーザアレイは、図4に示すような構成となっている。半
導体レーザアレイ10は、クラッド層11、活性領域1
2、基板13、電極14及び反射膜18とから主に構成
されており、放熱板17上に設置されている。光出力端
面の活性領域12以外の部分、つまりクラッド層11、
基板13、電極14、及び放熱板17の面の内、光出力
端面に隣接する面(以降放熱板17の反射面とする)は
反射膜18で覆われている。また、活性領域12の部分
は、従来通りにへき開面15を形成する光反射率の小さ
い膜が形成されており、光出射部16から効果的にレー
ザ光を外部に出力できるようになっている。
半導体レーザ励起固体レーザ装置について説明する。本
実施形態にかかる半導体レーザ励起固体レーザ装置は、
レーザ光を発生させる装置である。
起固体レーザ装置の構成について説明する。図1は本実
施形態にかかる半導体レーザ励起固体レーザ装置の構成
図である。半導体レーザ励起固体レーザ装置は主に、レ
ーザ励起用光源である半導体レーザアレイ10、光を発
するレーザ媒質2、全反射鏡3、出力側反射鏡4とから
構成されている。
イ10を複数個並べて配置できるように、細長い円柱の
形状をしている。
ーザアレイ10がレーザ媒質2に近接して設置されてお
り、レーザ媒質2に対して周囲から励起光を投射するこ
とができるようになっている。また、各半導体レーザア
レイ10の光出力端面内の、活性領域12以外の部分、
つまりクラッド層11、基板13、電極14、及び放熱
板17の反射面は反射膜18で覆われている。
ーザ光出力方向)には出力側反射鏡4が、レーザ媒質2
の後方には全反射ミラー3が設置されている。
起固体レーザ装置の作用について説明する。半導体レー
ザアレイ10から投射された励起光は、レーザ媒質2に
入射する。レーザ媒質2に励起光が入射すると、その励
起光によりレーザ媒質2が発光する。レーザ媒質2内で
発生した光は、全反射鏡3と出力側反射鏡4との間で反
射を繰り返し、増幅される。増幅された光は、レーザ光
として、出力側反射鏡4を通して外部に出力される。
レイ10から投射され、レーザ媒質2に入射した光のす
べてが固体レーザの励起に用いられるわけではない。つ
まり、励起光源である半導体レーザアレイ10から投射
され、レーザ媒質2に入射した光の約2〜3割程度はレ
ーザ媒質2の側面から外部に出ていってしまう。しか
し、側面から外部に出ていった光のうち、各半導体レー
ザアレイ10の活性領域12以外の部分、つまりクラッ
ド層11、基板13、電極14、及び放熱板17の反射
面に入射した光、換言すると、反射膜18で覆われてい
る部分に入射した光は、反射膜18によって反射し、再
度レーザ媒質2内に入射する。よって、レーザ媒質2の
外部に出てしまった光が、再度固体レーザの励起に用い
られることになる。
励起固体レーザ装置の効果について説明する。レーザ媒
質2に対向した半導体レーザアレイ10の活性領域12
部分とそれ以外の部分との面積比は1:40〜1:20
0にもなる。よって半導体レーザアレイ10によってレ
ーザ媒質2の周囲を覆うことによって、レーザ媒質2の
周囲のほぼ100%が反射膜18で覆われることにな
る。その結果、レーザ媒質2の側面から外部に出てきた
光のほぼ全てを、再度レーザ媒質2内に入射させること
ができ、効率の良い固体レーザ励起が可能となる。
を、再度レーザ媒質2の内部に入射させる手段として、
レーザ媒質2の周囲を反射膜で覆う、レーザ媒質2の周
囲に近接設置された各半導体レーザアレイ10の間隙に
反射鏡を配置する、などの方法も考えられる。しかし、
前者は、レーザ媒質2の周囲が反射膜で覆われているこ
とにより、励起光のレーザ媒質2への入射効率が悪くな
り、後者は、レーザ媒質2の周囲に存在する反射面の面
積が小さくなることにより、レーザ媒質2から外部に出
てきた光の反射効率が悪くなる。従って、レーザ媒質2
の側面から外部に出てきた光を、再度レーザ媒質2に入
射させ、固体レーザの励起効率を上げるためには、本実
施形態の様な構成が最適であると考えられる。
半導体レーザ励起固体レーザ装置について説明する。本
実施形態にかかる半導体レーザ励起固体レーザ装置は、
レーザ光を増幅する装置である。
起固体レーザ装置の構成について説明する。図2は、本
実施形態にかかる半導体レーザ励起固体レーザ装置の構
成図である。本実施形態の半導体レーザ励起固体レーザ
装置は主に、レーザを励起させる複数の半導体レーザア
レイ10、光を発するレーザ媒質2、入射側反射鏡5、
出射側反射鏡6とから構成されている。
イ10を複数個並べて配置できるように、細長い直方体
の形状をしている。
0〜100個)の半導体レーザアレイ10がレーザ媒質
2に近接して設置されており、レーザ媒質2に対して両
側から励起光を投射することができるようになってい
る。また、各半導体レーザアレイ10の光出力端面の活
性領域12以外の部分、つまりクラッド層11、基板1
3、電極14、及び放熱板17の反射面は、反射膜18
で覆われている。
起固体レーザ装置の作用について説明する。入射側反射
鏡5を通してレーザ媒質2に入射したレーザ光は、半導
体レーザアレイ10から投射された励起光によりレーザ
媒質2内で増幅される。増幅された光は、出射側反射鏡
6を通して、外部に出力される。
一部の励起光は、反射膜18によって反射してレーザ媒
質2内に入射し、再度固体レーザ装置の励起に用いられ
る。
励起固体レーザ装置の効果について説明する。本実施形
態の半導体レーザ励起固体レーザにおいても第1の実施
形態と同様に、レーザ媒質2の側面から外部に出てしま
った光は、ほぼ100%が再度レーザ媒質2内に入射
し、固体レーザの励起に用いられる。その結果、効率の
良い固体レーザの増幅が可能となる。
半導体レーザアレイ10においては、活性領域12以外
の部分、つまりクラッド層11、基板13、電極14、
及び放熱板17の反射面を反射膜18で覆ったが、光出
射部16以外の活性領域11をさらに反射膜18で覆っ
ても良い。光出射部16以外の活性領域11をさらに反
射膜18で覆うことにより、反射膜18で覆われている
部分の面積が大きくなり、より効果的である。
励起固体レーザ装置を用いることにより、半導体レーザ
あるいは半導体レーザアレイから出射された光を効率良
く固体レーザの励起に用いることが可能となり、固体レ
ーザから高出力のレーザ光を出力することが可能とな
る。
励起固体レーザ装置の構成図である。
励起固体レーザ装置の構成図である。
図である。
の構成図である。
クラッド層、12…活性領域、13…基板、14…電
極、15…へき開面、16…光出射部、17…放熱板、
18…反射膜、2…レーザ媒質、3…全反射鏡、4…出
力側反射鏡、5…入射側反射鏡、6…出射側反射鏡
Claims (5)
- 【請求項1】 光出力端面内の光出射部から光を発する
半導体レーザにおいて、 光出力端面内の光出射部の周辺に、光の出射方向と反対
方向から入射する光を反射する反射膜を形成したことを
特徴とする半導体レーザ。 - 【請求項2】 半導体レーザに隣接設置された放熱板を
さらに備え、前記放熱板の面の内、半導体レーザの前記
光出力端面に隣接する面に、光の出射方向と反対方向か
ら入射する光を反射する反射膜を形成したことを特徴と
する請求項1に記載の半導体レーザ。 - 【請求項3】 光出力端面内の光出射部から光を発する
半導体レーザアレイにおいて、 光出力端面内の光出射部の周辺に、光の出射方向と反対
方向から入射する光を反射する反射膜を形成したことを
特徴とする半導体レーザアレイ。 - 【請求項4】 半導体レーザアレイに隣接設置された放
熱板をさらに備え、前記放熱板の面の内、半導体レーザ
アレイの前記光出力端面に隣接する面に、光の出射方向
と反対方向から入射する光を反射する反射膜を形成した
ことを特徴とする請求項3に記載の半導体レーザアレ
イ。 - 【請求項5】 レーザ媒質の周囲に、請求項1から請求
項4に記載の半導体レーザあるいは半導体レーザアレイ
のいずれかを少なくとも1つ以上配置したことを特徴と
する半導体レーザ励起固体レーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9109797A JP3851408B2 (ja) | 1997-04-09 | 1997-04-09 | 半導体レーザ励起固体レーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9109797A JP3851408B2 (ja) | 1997-04-09 | 1997-04-09 | 半導体レーザ励起固体レーザ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10284805A true JPH10284805A (ja) | 1998-10-23 |
| JP3851408B2 JP3851408B2 (ja) | 2006-11-29 |
Family
ID=14017025
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9109797A Expired - Fee Related JP3851408B2 (ja) | 1997-04-09 | 1997-04-09 | 半導体レーザ励起固体レーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3851408B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005086303A1 (ja) * | 2004-03-04 | 2005-09-15 | Hamamatsu Photonics K.K. | 半導体レーザ素子及び半導体レーザ素子アレイ |
| JP2005286287A (ja) * | 2004-03-04 | 2005-10-13 | Hamamatsu Photonics Kk | 半導体レーザ素子及び半導体レーザ素子アレイ |
-
1997
- 1997-04-09 JP JP9109797A patent/JP3851408B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005086303A1 (ja) * | 2004-03-04 | 2005-09-15 | Hamamatsu Photonics K.K. | 半導体レーザ素子及び半導体レーザ素子アレイ |
| JP2005286287A (ja) * | 2004-03-04 | 2005-10-13 | Hamamatsu Photonics Kk | 半導体レーザ素子及び半導体レーザ素子アレイ |
| US7447248B2 (en) | 2004-03-04 | 2008-11-04 | Hamamatsu Photonics K.K. | Semiconductor laser element and semiconductor laser element array |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3851408B2 (ja) | 2006-11-29 |
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