JPH1028837A - 天然ガス等に含まれる硫黄化合物の除去方法およびその装置 - Google Patents
天然ガス等に含まれる硫黄化合物の除去方法およびその装置Info
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Abstract
以外にCO2などのガスを多量に含んでいるものであっ
ても、不純物ガス中の硫黄化合物をクラウスによって効
率よく除去でき、しかも重質炭化水素から生成する煤に
起因するクラウス触媒層の閉塞、回収硫黄の品質低下を
防止する。 【解決手段】 不純物ガスを第2吸収塔8と第2再生塔
11において、H2Sを主体とする濃縮ガスと残余ガス
とに分離し、濃縮ガスをクラウス硫黄回収装置14に送
る。残余ガスとクラウス硫黄回収装置14のオフガスを
加熱炉18に送って加熱し、さらに水素化反応器20で
水素化し、生成されたH2Sを第3吸収塔22 で分離し
てクラウス硫黄回収装置14へ戻す。
Description
伴ガス、合成ガス、プロセスガス、石炭ガス化ガス、重
油ガス化ガスなど(以下、本発明では天然ガス等と略記
する。)に含まれる硫化水素(H2S)、メルカプタ
ン、硫黄酸化物などの硫黄化合物を除去する方法および
その装置に関する。
ては、二酸化炭素(CO2)、H2S、COS、メルカプ
タン、重質炭化水素などがあり、これら不純物ガスは天
然ガス等の採掘品位の低下などに伴い、近年漸次増加の
傾向にあり、これらを除去、精製して製品ガスとする必
要がある。
方法として、クラウス反応によるものがある。このクラ
ウス反応は、ガス中のH2Sの一部を酸化してSO2と
し、このSO2と残部のH2Sとを反応させて硫黄単体を
分離回収することにより、ガス中のH2Sを除去するも
のである。また、クラウス反応後のオフガスに含まれる
残余のSO2を触媒存在下に水素化してH2Sとし、これ
をクラウス反応装置に戻して、硫黄分の除去率を高める
方法も知られている。
成分としては、上述のようにH2S以外の種々の成分が
含まれており、天然ガス等からこのような不純物ガスを
分離し、この不純物ガスをクラウス反応装置に導き、こ
こに含まれる硫黄分を除去しようとすると、次のような
不都合が生じる。 不純物ガスには、H2S以外の成分、例えばCO2など
が多量に含まれているので、H2S濃度が低くなり、ク
ラウス反応での反応率が低下して、除去率が低下する。 不純物ガスに含まれる重質炭化水素(ベンゼン、トル
エン、キシレン等)が不完全燃焼して、煤が発生し、回
収硫黄が煤で汚染され、硫黄の品質が低下するとともに
煤によってクラウス触媒層が閉塞することがある。
有ガスをクラウス反応させる方法としては、例えば特公
昭63−17488号公報に開示されたものがある。こ
の方法は、CO2を20vol%以上含むH2S含有ガス
の一部をクラウスプラントに供給し、残部をクラウスプ
ラントを迂回してH2Sを選択的に吸収する吸収剤に接
触させ、この吸収剤で再生、分離されたH2Sをクラウ
スプラント に戻すものである。しかしながら、この先
行発明においても上述の不都合を十分解決することはで
きない。
る課題は、天然ガス等に随伴される不純物ガスがH2S
以外にCO2、COS、BTX、メルカプタンなどを多
量に含んでいるものであっても、この不純物ガス中の硫
黄化合物をクラウス反応によって効率よく除去でき、し
かもBTXなどの重質炭化水素から生成する煤に起因す
るクラウス触媒層の閉塞や回収硫黄の品質低下を防止す
ることにある。
等から分離した不純物ガスを濃縮分離工程に送り、不純
物ガス中のH2Sを主体とする濃縮ガスと残余の成分か
らなる残余ガスとに分離し、濃縮ガスをクラウス反応工
程に送り、H2Sを回収除去し、このクラウス反応工程
からのオフガスと上記残余ガスの全量または一部とを別
々にまたは併せてテールガス処理工程に送り、ここで加
熱、水素化してこれらガス中の硫黄化合物をH2Sと
し、このH2Sを分離してクラウス反応工程に戻すこと
により解決される。
しく説明する。図1は、本発明の除去方法を実施するた
めの装置の一例を示すもので、天然ガス等として採掘さ
れた粗天然ガスを用いるものである。粗天然ガスは管1
から第1吸収塔2に送られ、粗天然ガスに随伴される不
純物ガスがここで非選択的に吸収され、精製された製品
天然ガスが塔頂から管3により導出される。第1吸収塔
2には、非選択的吸収液としてスルホラン−アミン混合
液、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、ジグ
ライコールアミン、メタノール、グライコール溶液等の
水溶液が供給され、粗天然ガスに随伴された多量のCO
2およびH2S、少量のメルカプタンなどの硫黄化合物、
少量のBTXなどの炭化水素が吸収される。
ら管4を経て第1再生塔5に送られ、ここで加熱され、
不純物ガスが放散される。この不純物ガスは、例えば約
70vol%のCO2、約25vol%のH2S、少量の
メルカプタン、BTXの炭化水素などからなる。この不
純物ガスは第1再生塔5の塔頂から管6により抜き出さ
れ、再生された吸収液は塔底から抜液されて管7を経て
第1吸収塔2に戻され、再利用される。
入される。第2吸収塔8には、ジエタノールアミン、ト
リエタノールアミン、ジイソプロパノールアミン、メチ
ルジエタノールアミンなどのアルカノールアミン、スル
ホラン−アミン混合液、ポリエチレングリコールジアル
キルエーテル、N,N−ジメチルアミノ酢酸塩等の水溶
液からなる選択的吸収液が供給され、ここで不純物ガス
中のH2Sの大部分とCO2の一部が吸収される。これら
の吸収液のなかには、非選択的吸収液として用いられる
ものもあるが、吸収条件を選ぶことにより、主としてH
2Sを吸収する選択的吸収液とすることができる。ここ
での吸収条件は、温度60℃以下、好ましくは5〜40
℃とされ、圧力が実質的に大気圧もしくは2気圧以下の
微かな加圧下とされる。
れなかった残余成分からなる残余ガスが管9に導出され
る。この残余ガスは、大部分がCO2であり、これに
0.1〜5vol%のメルカプタンおよびBTX、0
0.3〜0.3vol%のH2Sが含まれている。第2
吸収塔8の塔底から抜液された吸収液は、管10を経て
第2再生塔11に送られ、ここで加熱されて吸収されて
いるH2S、CO2が放散され、H2Sが50vol%以
上、例えばH2Sが約65vol%、CO2が約35vo
l%とからなり、H2Sが濃縮された濃縮ガスが塔頂か
ら導き出される。
収液が管12を経て第2吸収塔8に戻され、再使用され
る。第2吸収塔8と第2再生塔11とは本発明の濃縮分
離装置を構成しており、これらをそれぞれ複数塔設置し
てH2S濃度を高めることも可能である。
経てクラウス反応炉と多段のクラウス触媒層により構成
されるクラウス硫黄回収装置14に送られる。クラウス
硫黄回収装置14は、周知の構成のもので、無触媒式お
よび触媒式の反応器を有し、触媒としてはアルミナ、ボ
ーキサイト、チタニア、ジルコニア、シリカ、ゼオライ
トあるいはこれに熱安定剤として希土類金属あるいはア
ルカリ土類金属の酸化物を含むものが用いられる。反応
温度は無触媒式では1000〜1500℃、触媒式では
200〜350℃程度である。クラウス硫黄回収装置1
4では、管15を経て導入される酸素ガス、空気などの
酸素含有ガスにより、濃縮ガス中のH2Sの一部が酸化
されてSO2となり、このSO2と残部のH2Sとが反応
して硫黄となり、この反応によりH2Sの大部分は硫黄
単体となって管16から回収される。
(オフガス)は、微量のH2S、SO2、S、COS、C
S2と多量のCO2、H2O、残存酸素および空気を酸素
源とした場合にはN2が含まれる。このオフガスの温度
は通常130〜170℃である。クラウス硫黄回収装置
14からのオフガスは、管17から加熱炉18に送られ
るが、同時に第2吸収塔8から管9を経て送られる残余
ガスの全量あるいは一部も加熱炉18に供給される。
もので、オフガスおよび残余ガスを燃料と空気中の酸素
による燃焼にて後段の水素化反応に必要な温度まで昇温
を行なう。なお、燃料の燃焼を部分酸化にて行なうこと
により、水素化反応に必要なCO/H2の製造を行なう
ことも可能である。加熱炉18はあるいは管19におい
て 水素化反応に必要な還元剤となるCO/H2を必要あ
れば添加する。加熱炉18 の替りに熱交換器を使用す
ることも可能である。
0に送られ、ここで還元触媒の存在下、これに含まれる
SO2、メルカプタン、S等の硫黄化合物はH2Sに還元
される。ここで使われる還元触媒は、Ni−Mo、Co
−Mo、Ni−Co−Moの酸化物または硫化物であ
り、これらの触媒はアルミナ、シリカ、マグネシア、ボ
リヤ、トリア、ジルコニアなどの酸化物担体に担持され
ていてもよい。還元反応は、180〜450℃、好まし
くは250〜350℃の温度範囲で、大気圧下もしくは
2気圧以下の微かな加圧下で行われる。還元用の水素含
有ガスを添加してもよく、先の加熱炉18での燃焼過程
においてCO/H2が十分生成しておれば、改めて添加
しなくともよい。CO/H2と還元される硫黄化合物と
の混合容積比は2:1〜15:1、好ましくは3:1〜
8:1が好ましい。
vol%のH2S、少量のBTX等の炭化水素、未反応
のメルカプタン、H2と多量のCO2とN2を含み、管2
1から抜き出され、冷却後、第3吸収塔22に送られ
る。第3吸収塔22には管23を経て第2再生塔11か
らの再生された吸収液の一部がここでの吸収液として供
給されている。この第3吸収塔22において、上記水素
化ガス中のH2SおよびCO2の一部が吸収され、残余の
多量のCO2およびN2、少量のBTX等の炭化水素、メ
ルカプタン、H2、トレース量のH2Sを含むガスはこれ
の塔頂から管24に導び出され、このガスはそのまま大
気中に排出されるかあるいは燃焼してスタックに排出さ
れる。
O2を吸収した吸収液が管25を経て第2再生塔11に
戻され、ここでH2SとCO2が放散され先の濃縮ガスと
なってクラウス硫黄回収装置14に送られる。本実施例
では、上記加熱炉18、水素化反応器20、第3吸収塔
22およびこれらに付随する管路によって本発明のテー
ルガス処理装置が構成されている。
ば、クラウス硫黄回収装置14に導入される濃縮ガス中
のH2S濃度が不純物ガスに比べて高くなり、同伴され
るCO2濃度が低下するため、クラウス反応率が高くな
り、硫黄の回収率も高くなる。また、不純物ガス中のH
2S以外のメルカプタン、COSなどの他の硫黄化合物
も最終的にほとんどがH2Sとされ、これもクラウス反
応により除去されるので、大気中に 排出される排出ガ
ス中の総イオウ含有量は極めて低いものになる。さら
に、不純物ガス中に含まれているBTXなどの重質炭化
水素がクラウス硫黄回収装置14に導入されることがな
いので、クラウス硫黄回収装置14で煤が発生すること
がなく、回収硫黄の品質低下および触媒層の閉塞を防止
できる。
液として、第2吸収塔8および第2再生塔11で使用さ
れる水溶液の中から用いることができるが、これらの吸
収液が第2吸収塔8での吸収液と異なる場合は、別途第
3再生塔を設けて、濃縮分離工程とは別系統とする必要
がある。
水素化ガスから吸着によりH2Sを分離してクラウス硫
黄回収装置14へ戻すようにすることもできる。すなわ
ち、第3吸収塔22にかえて、吸着塔を設け、活性炭、
あるいはこれに硫化水素と反応しうる化合物の水溶液を
浸漬したもの、アルミナ、酸化鉄、酸化亜鉛などの吸着
剤を充填し、これによりH2Sを吸着分離するようにし
てもよい。
オフガスがCS2、COSを含む場合には、水素化処理
後または水素化処理と同時にアルミナなどの加水分解触
媒に接触させて、これら硫黄化合物をH2Sとし、これ
を第3吸収塔22で分離し、クラウス硫黄回収装置14
に戻すようにしてもよい。
図1に示したものと同一構成部分には同一符号を付して
その説明を省略する。このものでは、加熱炉18以外に
第2加熱炉26を設け、第2吸収塔8からの残余ガスを
管9を経てこの第2加熱炉26に送り込み、ここで部分
酸化燃焼によって加熱ならびに還元剤の添加を行い、こ
の加熱ガスを管27から第2水素化反応器28に送り、
ここで水素化して硫黄化合物をH2Sとし、この水素化
ガスを管29から第3吸収塔22へ送るものである。
からのオフガスとは、別個に残余ガスを加熱、水素化し
ているため、残余ガスの組成に対応した反応条件、触
媒、水素化条件を設定することができるため、硫黄化合
物の排出量をさらに低減できる。
このものでは、第2水素化反応器28の後段に第4吸収
塔30を設け、第2加熱炉26からの加熱ガスを管27
から第2水素化反応器28に送り、ここで水素化したの
ち、管29から第4吸収塔30に送り、ここでH2Sを
吸収し、残余のガスを排出ガスとして管31から排出す
るものである。第4吸収塔30には、管32により第3
吸収塔22で使用される吸収液が供給され、第4吸収塔
30でH2Sを吸収した吸収液は管33を経て第2再生
塔11に戻される。
硫黄回収装置14からのオフガスの処理とがそれぞれ完
全に別個に分けられて行われるので、それぞれの組成に
対応した加熱条件、還元条件、触媒、吸収条件等を個々
に細かく設定することが可能となる。このため、排出ガ
ス中の硫黄化合物や炭化水素の含有量は極めて低いもの
となる。
ス、石油随伴ガス等に随伴する不純物ガスをH2Sを主
体とする濃縮ガスと残余成分からなる残余ガスとに分離
し、濃縮ガスをクラウス反応により処理し、クラウス反
応のオフガスと残余ガス中の硫黄化合物を水素化してこ
れらガス中の硫黄化合物をH2Sとし、このH2Sを分離
してクラウス反応に戻すものである。
O2などのガスが多量に含まれていても、クラウス反応
に供される濃縮ガス中のH2S濃度を高くでき、クラウ
ス反応率が高くなって硫黄除去率が向上する。また、ク
ラウス硫黄回収装置にはBTXなどの重質炭化水素が持
ち込まれないので、重質炭化水素に起因する煤の発生が
なく、回収硫黄の品質低下、触媒層の閉塞が防止でき
る。さらに、不純物ガス中のメルカプタンなどのH2S
以外の硫黄化合物も最終的にH2Sに転換され、クラウ
ス反応で除去されるので、大気中に排出される排出ガス
中の総硫黄量をさらに低減できる。
ある。
ある。
ある。
Claims (4)
- 【請求項1】 天然ガス等から分離された硫化水素など
の硫黄化合物を含有する不純物ガスを濃縮分離工程に送
り、ここで不純物ガス中に含まれる硫化水素を主体とす
る濃縮ガスと残余成分からなる残余ガスとに分離し、 上記濃縮ガスをクラウス反応工程に送り、ここで硫化水
素を硫黄単体として回収し、 上記残余ガスとクラウス反応工程から排出されるオフガ
スとをテールガス処理工程に送り、ここで必要反応温度
まで加熱し、ついで触媒存在下に水素化してこれらガス
中に含まれる硫黄化合物を硫化水素とし、この硫化水素
を分離して上記クラウス反応工程に戻すことを特徴とす
る天然ガス等に含まれる硫黄化合物の除去方法。 - 【請求項2】 請求項1記載の除去方法において、上記
残余ガスを第2のテールガス処理工程に送り、ここで必
要反応温度まで加熱し、ついで触媒存在下に水素化して
このガスに含まれる硫黄化合物を硫化水素とし、この硫
化水素を上記クラウス反応工程に戻すことを特徴とする
天然ガス等に含まれる硫黄化合物の除去方法。 - 【請求項3】 天然ガス等から分離された硫化水素など
の硫黄化合物を含有する不純物ガスを、これに含まれる
硫化水素を主体とする濃縮ガスと残余成分からなる残余
ガスとに分離する濃縮分離装置と、 この濃縮分離装置からの濃縮ガス中の硫化水素をクラウ
ス反応により硫黄単体として回収するクラウス反応装置
と、 このクラウス反応装置からのオフガスと上記濃縮分離装
置からの残余ガスとを必要反応温度まで加熱し、ついで
触媒存在下に水素化して、これらガス中に含まれる硫黄
化合物を硫化水素とし、この硫化水素を上記クラウス反
応装置へ戻すテールガス処理装置を設けたことを特徴と
する天然ガス等に含まれる硫黄化合物の除去装置。 - 【請求項4】 請求項3記載の除去装置において、上記
濃縮分離装置からの残余ガスのみを必要反応温度まで加
熱し、ついで触媒存在下に水素化して、このガス中に含
まれる硫黄化合物を硫化水素とし、この硫化水素を上記
クラウス反応装置へ戻す第2のテールガス処理装置を付
設したことを特徴とする天然ガス等に含まれる硫黄化合
物の除去装置。
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