JPH10293395A - フレキソ印刷型光重合性印刷版用エッジ被覆材料ならびにこれを用いたフレキソ印刷型およびその作製方法 - Google Patents
フレキソ印刷型光重合性印刷版用エッジ被覆材料ならびにこれを用いたフレキソ印刷型およびその作製方法Info
- Publication number
- JPH10293395A JPH10293395A JP10053239A JP5323998A JPH10293395A JP H10293395 A JPH10293395 A JP H10293395A JP 10053239 A JP10053239 A JP 10053239A JP 5323998 A JP5323998 A JP 5323998A JP H10293395 A JPH10293395 A JP H10293395A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- printing block
- printing plate
- flexographic
- edge
- photopolymerizable
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 32
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 26
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 26
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 16
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 3
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 abstract description 2
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 abstract description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 abstract 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 7
- -1 for example Chemical class 0.000 description 7
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 7
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 5
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 3
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 239000013008 thixotropic agent Substances 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229920005596 polymer binder Polymers 0.000 description 2
- 239000002491 polymer binding agent Substances 0.000 description 2
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 2
- ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(2-methylbutan-2-yl)phenol Chemical compound CCC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)CC)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical class OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 1
- 239000000440 bentonite Substances 0.000 description 1
- 229910000278 bentonite Inorganic materials 0.000 description 1
- SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N bentoquatam Chemical compound O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 239000001045 blue dye Substances 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 229920000359 diblock copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 125000004464 hydroxyphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2014—Contact or film exposure of light sensitive plates such as lithographic plates or circuit boards, e.g. in a vacuum frame
- G03F7/2016—Contact mask being integral part of the photosensitive element and subject to destructive removal during post-exposure processing
- G03F7/2018—Masking pattern obtained by selective application of an ink or a toner, e.g. ink jet printing
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/091—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by antireflection means or light filtering or absorbing means, e.g. anti-halation, contrast enhancement
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
Abstract
レキソ印刷版を加工する際にリッジが生じるのを確実、
迅速、そして簡潔に防止することができるフレキソ印刷
型光重合性印刷版用エッジ被覆材料ならびにこれを用い
たフレキソ印刷型およびその作製方法を提供すること。 【解決手段】 フレキソ印刷型を作製するための光重合
性印刷版用エッジ被覆材料は、少なくとも1種の可溶性
フィルム形成ポリマー、少なくとも1種のUV吸収剤、
および溶剤または溶剤混合物を含む。これを用いて、レ
ーザーマスクコーティングを帯びた光重合性印刷版をス
リーブまたはシリンダー上にあらかじめ載置し、レーザ
ーマスクを作製し、光重合性印刷版をレーザーマスクを
通して露光し、そして露光された印刷版を洗浄し、そし
て乾燥することにより、フレキソ印刷型を作製する。
Description
作製するエッジ被覆材料および方法に関するものであ
り、レーザーマスクコーティングを帯びた光重合性印刷
版をスリーブまたはシリンダー上にあらかじめ載置し、
レーザーマスクを作製し、光重合性印刷版をレーザーマ
スクを通して露光し、そして露光された印刷版を洗浄
し、そして乾燥する。
製するのに用いられることが知られている。印刷表面
は、写真オリジナルを通して、光重合性層を化学線によ
りイメージ露光し、引き続き印刷版の非露光、非光重合
部分を除去することにより生産される。実例は、以下の
特許に見られる:DE-C 22 15 090号、EP-A 0 322 585号
および米国特許第4,323,636 号。
リジナルを必要とし、写真オリジナルは再現されるイメ
ージの形に透明および不透明部分を有するマスクであ
る。この写真オリジナルは、通常、再現されるイメージ
の写真ネガティブである。最終イメージで修正が必要に
なると、新しいオリジナルを準備しなければならない。
同じオリジナルでも加工条件(温度、湿度)によって種
々の結果を生じることがあり、そのため印刷型のモンタ
ージュにおいて見当合せの問題が起こりうる。
するために、光重合性印刷版に、付加的層を設け加工し
て一体のオリジナルを形成できるようにしている。赤外
線融除(IR ablative )、紫外線(UV)吸収層を有
するそのような材料およびそれらの作製および加工方法
が、WO94/03838号、WO94/03839号およびWO96/163
56号に記載されている。一体化フォトマスクは、レーザ
ー露光により作製される。
ル情報を直接加工することおよび、得られるフレキソ印
刷型における解像度を高めることに加えて正確に見当合
せされたシリンダーシェル、いわゆるスリーブ、および
シリンダーの作製法を画期的に単純化することを指向し
ている。これは、スリーブ、またはシリンダー上にレー
ザー書き込み可能な、光重合性、フレキソ印刷版のセク
ションをモンタージュすることにより得られる。それら
のセクションは、高い許容度を伴って配置される。なぜ
なら、正確にコントロールされたレーザーヘッドを用い
て露光すると、最終的に得られるプリントされたイメー
ジの要素が正確に見当合せされて配列するからである。
このように記録されたスリーブまたはシリンダーは、次
いで環状露光ユニットにおいてUVで露光され、洗浄さ
れる。残念ながら、重合リッジが、版セクションのエッ
ジ部に残留し、そして引き続き望ましくない方法でプリ
ントされてしまう。
のセクションから、レディ・トゥ・プリント(即時印刷
可能)シリンダーまたはスリーブを作製する間に、印刷
版エッジ部の露光に由来する望ましくないリッジを除去
することができる。そのような版は、モンタージュが組
み立てられる前にカットすることができる。レーザー加
工印刷版でさえ、望ましくないリッジを引き続き(例え
ば鋭利なナイフで切り取ることにより)除去することも
可能であろう。しかしながら、この作業は、時間がかか
り、特にもし被写体が印刷型のエッジ近くにまで延びて
いる場合、印刷型をゆがめる危険が非常に大きく、そし
て残留物を残さずに切り取られたリッジを除去するのは
非常に高価になる。
の欠点を除去し、そして環状露光ユニット内でレーザー
加工可能なフレキソ印刷版を加工する際にリッジが生じ
るのを確実、迅速、そして簡潔に防止することができる
フレキソ印刷型光重合性印刷版用エッジ被覆材料ならび
にこれを用いたフレキソ印刷型およびその作製方法を提
供することである。
とに、少なくとも1種の可溶性フィルム形成ポリマー、
少なくとも1種のUV吸収剤、および溶剤または溶剤混
合物を含む光重合性印刷版用のエッジ被覆材料、および
フレキソ印刷型の作製方法によって解決された。
型は、シリンダー上に載置されたエッジを有し、レーザ
ーマスクコーティングを含む光重合性印刷版を備えるフ
レキソ印刷型であって、エッジ被覆材料は印刷版のエッ
ジ上に配置され、前記エッジ被覆材料は少なくとも1種
の可溶性フィルム形成ポリマー、少なくとも1種のUV
吸収剤、および溶剤または溶剤混合物を含有することを
特徴とする。
被覆材料は、少なくとも1種の可溶性フィルム形成ポリ
マー、少なくとも1種のUV吸収剤、および溶剤または
溶剤混合物を含有することを特徴とする。
法は、a)レーザーマスク層を帯びた光重合性印刷版を
スリーブまたはシリンダー上にあらかじめ固定し、b)
レーザーマスクを作製し、c)前記光重合性印刷版を前
記マスクを通して露光し、d)得られる露光印刷版を洗
浄し、そして乾燥するフレキソ印刷型の作製方法であっ
て、請求項2に記載のエッジ被覆材料を前記工程b)の
レーザーマスクの作製の前、または前記工程c)の光重
合性印刷版のイメージ露光の前に、前記光重合性印刷版
のエッジに適用することを特徴とする。
被覆材料は、少なくとも1種の可溶性フィルム形成ポリ
マー、少なくとも1種のUV吸収剤、および溶剤または
溶剤混合物を含んでおり、このエッジ被覆材料を用いて
フレキソ印刷型を作製することができる。
ティングを含む光重合性印刷版をスリーブ上にあらかじ
め載置し、b)レーザーマスクを作製し、c)前記光重
合性印刷版を、前記レーザーマスクを通して露光し、そ
してd)得られる露光印刷版を洗浄し、乾燥させるフレ
キソ印刷型の作製方法であって、少なくとも1種の可溶
性フィルム形成ポリマー、少なくとも1種のUV吸収
剤、および溶剤または溶剤混合物を含有するエッジ被覆
材料を前記工程b)のレーザーマスクの作製の前、また
は前記工程c)の光重合性印刷版のイメージ露光の前
に、光重合性印刷版のエッジに適用することを特徴とす
る。
厚めのフレキソ印刷版は、本発明の方法およびエッジ被
覆材料によって、完全に被覆される。従って、エッジの
露光を避けることができ、それにより望ましくないリッ
ジが生じるのを防ぐことができる。
液は、可溶性フィルム形成ポリマーおよびUV吸収剤を
有機溶剤中に溶解することにより作製される。有用なポ
リマーは、全ての既知の可溶性フィルム形成ポリマー、
好ましくは露光印刷版用の洗浄溶剤に良く溶解するもの
である。特に、露光される印刷版のポリマーバインダー
が用いられる。特に好適なのは、DE-C 22 15 090号、EP
-A 0 322 585号および米国特許第4,323,636 号に記載さ
れているように、熱可塑性、エラストマーブロックコポ
リマーである。特に好適なバインダーは、ポリスチレン
末端ブロックを有する、例えばポリスチレン−ポリブタ
ジエン−ポリスチレン、(ポリスチレン−ポリブタジエ
ン)4 Siまたは類似するイソプレンポリマーのよう
な、線状および放射状ブロックコポリマーである。ブロ
ックコポリマーの平均分子量Mn は、通常80,000
と300,000の間、好ましくは100,000と2
50,000の間である。10〜40重量パーセントの
ポリスチレンの比率が有利であり、特に15〜30重量
パーセントの比率が有利である。可溶性フィルム形成ポ
リマーとして処置される印刷版中のフレキソ印刷版成分
としても用いられるバインダーを選択すると、本発明の
エッジ被覆材料が、露光印刷版用の洗浄工程で残留物を
残さずに確実に除去される。
の範囲内、好ましくは360nmで吸収するものであ
る。特に適切な化合物は、フィルム形成ポリマーと共用
できるものである。典型的な例は、例えば2,2′−ジ
ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシベンゾフェノールの
ようなベンゾフェノール誘導体、ベンゾトリアゾール、
またはベンゾトリアゾール誘導体である。特に好適なの
は、例えば2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ア
ミルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールのようなベ
ンゾトリアゾール誘導体である。
ティング溶剤である。特に適切なのは、フィルム形成ポ
リマー用の高い溶剤能力を有する易揮発性溶剤である。
レーザーマスク層を部分的に溶解または緩めてしまうこ
とは、適切な有機溶剤を選択することにより避けること
ができる。トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、
酢酸エチルおよびそれらの混合物が好適である。
チキソトロープ剤も含む。これにより、厚い版でさえ、
エッジの上部を確実に覆うことが可能になる。現在用い
られている全てのチキソトロープ剤を用いることがで
き、例えばベントナイト、カオリン、およびシリカなど
がある。熱分解法シリカは、特に適している。
料も含むことができる。既知の染料および顔料は全て適
している。例としては、無機および有機顔料、カーボ
ン、金属フタロシアニン、アゾ染料、等がある。金属フ
タロシアニンが特に好適であり、とりわけザポンブルー
(Zapon Blue)807(C . I . 74400 )が好適であ
る。
固形分含有量および/またはチキソトロープ剤の含有量
によって調節し、光重合性印刷版の側面エッジにさえ適
用できて、そしてこれらの部位上にできるだけ均質に厚
いフィルムを生産するようにしている。これにより液滴
の形成と流れとが避けられる。粘度は、好ましくは1〜
3Pa(秒)である。
に適用するのは、当業者に現在知られている方法(例え
ば、ブラッシング、スプレーイング等、好ましくは細い
ノズルを用いる)によって、成し遂げられる。本発明の
材料および方法における特別な利点は、これらは多数の
既知の版材料に用いることができ、従って、フレキソ印
刷型の品質および得られるプリントを、高価で贅沢な処
置を採用することなしに、著しく改善することが可能で
あることである。
種のポリマーバインダー、化学線によって付加重合する
ことができる少なくとも1種のエチレン性不飽和化合
物、および光重合開始剤または光重合開始剤系を含み、
追加の写真オリジナルなしにイメージ露光することがで
きる光重合性印刷版に用いることができる。本発明の概
念内の適した材料は、特に、一体化されたフォトマスク
を作製するためのWO94/03838号、WO94/03839号およ
びWO96/16356号に記載されているIR融除性、UV吸
収層を有する材料である。作製および加工の方法もWO
94/03838号、WO94/03839号およびWO96/16356号に記
載されている。
る。特記しない限り、全ての部およびパーセントは、重
量による。
プレン- ポリスチレンブロックコポリマー(ポリスチレ
ン含有量15%、25%トルエン溶液のブルックフィー
ルド粘度=1600mPa(秒))、10部のチヌビン
(Tinuvin )(アルファ−(3−(3−(2H−ベンゾ
トリアゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエ
チル)−4−ヒドロキシフェニル)−1−オキシプロピ
ル)−オメガ−ヒドロキシポリ(オキシ−1,2−エタ
ンジイル)と(アルファ−(3−(3−(2H−ベンゾ
トリアゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエ
チル)−4−ヒドロキシフェニル)−1−オキソプロピ
ル)−オメガ−(3−(3−(2H−ベンゾトリアゾー
ル−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチル−4−
ヒドロキシフェニル)−1−オキソプロポキシ)ポリ
(オキシ−1,2−エタンジイル)の混合物)および5
部の熱分解法シリカ(SiO2 含有量>99.8%、B
ET法による比表面積200m2 /g、一次粒度12n
m)を溶解することにより調製した。溶液の固形分含有
量は、28.6%であった。粘度は、約1600Pa
(秒)であった。
るサイレル(登録商標)DPS版セクションの側面エッ
ジ(シリンダー上に接着した)の一部分上に細ピペット
で適用した。溶液が乾燥した後、これらのセクションを
分解し、露光し、そして洗浄した。この溶液により被覆
された側面エッジ部分には、重合された材料が存在しな
かった。他の部分は、望ましくないリッジを示した。
クコポリマー(ポリスチレン含有量30%、25%トル
エン溶液のブルックフィールド粘度=2500mPa
(秒))およびポリスチレン−ポリブタジエン・ジブロ
ックコポリマー(ポリスチレン含有量25%、25%ト
ルエン溶液のブルック粘度=2300mPa(秒))の
1:2の比率の混合物68部、2−(2−ヒドロキシ−
3,5−ジ−t−アミル−フェニル)−2H−ベンゾト
リアゾール20部、熱分解法シリカ(SiO2 含有量>
99.8%、BET法による比表面積200m2 /g、
一次粒度12nm)12部、およびブルー染料(C. I.
74400 )0.005部を溶解することにより、1:1の
トルエン:酢酸エチル溶液を調製した。溶液の固形分含
有量は、28%であった。この溶液を実施例1に記載さ
れているように加工した。この溶液により被覆された側
面エッジ部分には、重合された材料が存在しなかった。
他の部分は、望ましくないリッジを示した。
版用エッジ被覆材料を用いて、レーザーマスクコーティ
ングを帯びた光重合性印刷版をスリーブまたはシリンダ
ー上にあらかじめ載置し、レーザーマスクを作製し、光
重合性印刷版をレーザーマスクを通して露光し、そして
露光された印刷版を洗浄し、そして乾燥することによ
り、フレキソ印刷版を加工する際にリッジが生じるのを
確実、迅速、そして簡潔に防止することができる。
Claims (3)
- 【請求項1】 シリンダー上に載置されたエッジを有
し、レーザーマスクコーティングを含む光重合性印刷版
を備えるフレキソ印刷型であって、エッジ被覆材料は印
刷版のエッジ上に配置され、前記エッジ被覆材料は少な
くとも1種の可溶性フィルム形成ポリマー、少なくとも
1種のUV吸収剤、および溶剤または溶剤混合物を含有
することを特徴とするフレキソ印刷型。 - 【請求項2】 少なくとも1種の可溶性フィルム形成ポ
リマー、少なくとも1種のUV吸収剤、および溶剤また
は溶剤混合物を含有することを特徴とする光重合性印刷
版用エッジ被覆材料。 - 【請求項3】 a)レーザーマスク層を帯びた光重合性
印刷版をスリーブまたはシリンダー上にあらかじめ固定
し、b)レーザーマスクを作製し、c)前記光重合性印
刷版を前記マスクを通して露光し、d)得られる露光印
刷版を洗浄し、そして乾燥するフレキソ印刷型の作製方
法であって、請求項2に記載のエッジ被覆材料を前記工
程b)のレーザーマスクの作製の前、または前記工程
c)の光重合性印刷版のイメージ露光の前に、前記光重
合性印刷版のエッジに適用することを特徴とするフレキ
ソ印刷型の作製方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19709037A DE19709037A1 (de) | 1997-03-06 | 1997-03-06 | Material und Verfahren zum Kantenabdecken von photopolymerisierbaren Druckplatten für den Flexodruck |
| DE19709037.0 | 1997-03-06 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10293395A true JPH10293395A (ja) | 1998-11-04 |
| JPH10293395A5 JPH10293395A5 (ja) | 2005-08-25 |
| JP4125411B2 JP4125411B2 (ja) | 2008-07-30 |
Family
ID=7822353
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05323998A Expired - Fee Related JP4125411B2 (ja) | 1997-03-06 | 1998-03-05 | フレキソ印刷型光重合性印刷版用エッジ被覆材料ならびにこれを用いたフレキソ印刷型およびその作製方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6326124B1 (ja) |
| EP (1) | EP0863435B1 (ja) |
| JP (1) | JP4125411B2 (ja) |
| CA (1) | CA2228986C (ja) |
| DE (2) | DE19709037A1 (ja) |
| ES (1) | ES2166571T3 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100355417B1 (ko) * | 2000-04-25 | 2002-10-11 | 안지양 | 레이저와 레이저마스크에 의한 회로기판의 회로 형성방법 |
| JP2019101337A (ja) * | 2017-12-07 | 2019-06-24 | 東洋紡株式会社 | 水現像可能な感光性樹脂印刷原版 |
| JP6726415B1 (ja) * | 2019-02-21 | 2020-07-22 | 東洋紡株式会社 | 水現像可能な感光性樹脂印刷原版 |
| WO2020170691A1 (ja) * | 2019-02-21 | 2020-08-27 | 東洋紡株式会社 | 水現像可能な感光性樹脂印刷原版 |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6312872B1 (en) * | 1997-10-24 | 2001-11-06 | Macdermid Graphic Arts | Composite relief image printing plates |
| US7032512B2 (en) * | 2002-10-07 | 2006-04-25 | Kodak Graphic Communications Canada Company | Edge treatment of flexographic printing elements |
| DE10318042A1 (de) * | 2003-04-17 | 2004-11-04 | Basf Drucksysteme Gmbh | Verfahren zur Herstellung von fotopolymerisierbaren, zylindrischen, endlos-nahtlosen Flexodruckelementen und deren Verwendung zur Herstellung zylindrischer Flexodruckformen |
| EP1473595A1 (en) * | 2003-04-29 | 2004-11-03 | KRATON Polymers Research B.V. | Photopolymerizable compositions and flexographic printing plates derived therefrom |
| US7055429B2 (en) * | 2004-04-23 | 2006-06-06 | Timothy Gotsick | Edge cure prevention process |
| US7179583B2 (en) * | 2004-10-29 | 2007-02-20 | Albert Roshelli | Edge cure prevention composition and process for using the same |
| US7060417B2 (en) * | 2004-11-18 | 2006-06-13 | Chris Carlsen | Edge cure prevention process |
| US20070202442A1 (en) * | 2006-02-24 | 2007-08-30 | Eastman Kodak Company | Method and apparatus for merging a mask and a printing plate |
| DE102007006378A1 (de) | 2007-02-08 | 2008-08-14 | Flint Group Germany Gmbh | Fotopolymerisierbare zylindrische endlos-nahtlose Flexodruckelemente und daraus hergestellte harte Flexodruckformen |
| WO2010086850A2 (en) | 2009-01-29 | 2010-08-05 | Digiflex Ltd. | Process for producing a photomask on a photopolymeric surface |
| EP2275870A1 (de) | 2009-07-14 | 2011-01-19 | Flint Group Germany GmbH | Verfahren zum Herstellen von zylinderförmigen Flexodruckplatten mittels digitaler Bebilderung |
| US8198013B2 (en) | 2010-05-05 | 2012-06-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method for preparing a printing form |
| US11628663B2 (en) * | 2021-04-08 | 2023-04-18 | PMD Dies & Stereos Proprietary Limited | Flexographic printing imaging with lead and trail edge strips |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BR6912372D0 (pt) * | 1968-09-12 | 1973-02-15 | Johnson & Johnson | Fita adesiva reforcada com fios estabilizada |
| DE3514768C1 (de) * | 1985-04-24 | 1986-07-24 | Du Pont de Nemours (Deutschland) GmbH, 4000 Düsseldorf | Lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial |
| DE3600774C1 (de) * | 1986-01-14 | 1987-05-07 | Du Pont Deutschland | Verfahren zum Verkleben von photopolymerisierbaren Druckplatten oder Druckformen fuer den Flexodruck |
| DE3736180A1 (de) * | 1987-10-26 | 1989-05-03 | Basf Ag | Verfahren zum verschliessen und/oder abdichten von oeffnungen, hohl- oder zwischenraeumen bei auf formzylindern aufgebrachten druckplatten |
| DE3744243C2 (de) * | 1987-12-24 | 1995-12-07 | Du Pont Deutschland | Verbesserte photopolymerisierbare Aufzeichnungsmaterialien |
| EP0568841A1 (en) * | 1992-05-07 | 1993-11-10 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Process of photoimaging using ink jet printing |
| US5262275A (en) * | 1992-08-07 | 1993-11-16 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Flexographic printing element having an IR ablatable layer and process for making a flexographic printing plate |
| US5795834A (en) * | 1995-12-22 | 1998-08-18 | Minnesota Mining & Manufacturing Company | Adhesive tape and method of making |
-
1997
- 1997-03-06 DE DE19709037A patent/DE19709037A1/de not_active Withdrawn
-
1998
- 1998-02-09 CA CA002228986A patent/CA2228986C/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-02-28 DE DE59802114T patent/DE59802114D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-02-28 ES ES98103538T patent/ES2166571T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1998-02-28 EP EP98103538A patent/EP0863435B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-03-05 JP JP05323998A patent/JP4125411B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-06-08 US US09/589,845 patent/US6326124B1/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100355417B1 (ko) * | 2000-04-25 | 2002-10-11 | 안지양 | 레이저와 레이저마스크에 의한 회로기판의 회로 형성방법 |
| JP2019101337A (ja) * | 2017-12-07 | 2019-06-24 | 東洋紡株式会社 | 水現像可能な感光性樹脂印刷原版 |
| JP6726415B1 (ja) * | 2019-02-21 | 2020-07-22 | 東洋紡株式会社 | 水現像可能な感光性樹脂印刷原版 |
| WO2020170691A1 (ja) * | 2019-02-21 | 2020-08-27 | 東洋紡株式会社 | 水現像可能な感光性樹脂印刷原版 |
| CN113453910A (zh) * | 2019-02-21 | 2021-09-28 | 东洋纺株式会社 | 能够水显影的感光性树脂印刷原版 |
| CN113453910B (zh) * | 2019-02-21 | 2022-09-30 | 东洋纺株式会社 | 能够水显影的感光性树脂印刷原版 |
| EP3928999A4 (en) * | 2019-02-21 | 2022-12-21 | Toyobo Co., Ltd. | WATER DEVELOPABLE PHOTOSENSITIVE RESIN PRINTING PLATE |
| US12061417B2 (en) | 2019-02-21 | 2024-08-13 | Toyobo Mc Corporation | Water-developable photosensitive resin printing original plate |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0863435B1 (de) | 2001-11-14 |
| ES2166571T3 (es) | 2002-04-16 |
| CA2228986A1 (en) | 1998-09-06 |
| CA2228986C (en) | 2007-05-01 |
| JP4125411B2 (ja) | 2008-07-30 |
| US6326124B1 (en) | 2001-12-04 |
| EP0863435A1 (de) | 1998-09-09 |
| DE19709037A1 (de) | 1998-09-10 |
| DE59802114D1 (de) | 2001-12-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4125411B2 (ja) | フレキソ印刷型光重合性印刷版用エッジ被覆材料ならびにこれを用いたフレキソ印刷型およびその作製方法 | |
| EP1239329B2 (en) | A process for making a flexographic printing plate and a photosensitive element for use in the process | |
| EP0816920B1 (en) | A flexographic printing element having a powder layer and a method for making a flexographic printing plate therefrom | |
| JP3769171B2 (ja) | フレキソ印刷版製造用多層感光材料 | |
| JP4439227B2 (ja) | フレキソ印刷の印刷制御 | |
| JPH09166875A (ja) | デジタル情報伝達によるフレキソ印刷板の製造に適当な多層記録素子、およびフレキソ印刷板の製造法 | |
| JP2009145870A (ja) | 強化粒子を有する感光要素、およびこの要素から印刷フォームを作製するための方法 | |
| EP1033622B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von flexographischen Druckformen | |
| JPH09171247A (ja) | 感光性重合体による凸版印刷板の製造法およびこれにより得られる凸版印刷板 | |
| JP4231791B2 (ja) | フレキソ印刷版として使用するための感光性エレメント | |
| JPH09171259A (ja) | 感光性重合体によるグラビア印刷板の製造法およびこれにより得られるグラビア印刷板 | |
| JPH10293395A5 (ja) | ||
| JP2009020449A (ja) | 印刷版用原版および印刷版の製造方法 | |
| EP1737676B1 (en) | Edge cure prevention process | |
| JP2002528290A (ja) | 印刷ステンシル及びその製造方法 | |
| AU755159B2 (en) | Infrared sensitive coating liquid | |
| US7060417B2 (en) | Edge cure prevention process | |
| JP2023153095A (ja) | 印刷版原版及びその印刷版 | |
| JP2024530179A (ja) | 印刷版原版及びその印刷版 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050221 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050221 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20050221 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070914 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20071214 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20071219 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20080115 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20080118 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20080214 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20080219 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080314 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080408 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080508 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110516 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120516 Year of fee payment: 4 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |