JPH10294652A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JPH10294652A
JPH10294652A JP9101405A JP10140597A JPH10294652A JP H10294652 A JPH10294652 A JP H10294652A JP 9101405 A JP9101405 A JP 9101405A JP 10140597 A JP10140597 A JP 10140597A JP H10294652 A JPH10294652 A JP H10294652A
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noise
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signal
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 上向きノイズに対しても、下向きノイズに対
しても、それぞれ最適の遅延量によるノイズの除去が可
能であり、しかも信頼性に優れ、プロセスのバラツキに
対しても安定した、半導体集積回路の入力信号ノイズ除
去回路を提供する。 【解決手段】 下向きノイズ吸収回路と上向きノイズ吸
収回路とを独立して設け、両者を波形整形回路に入力す
る。波形整形回路は、両者が論理的に一致した場合、そ
の論理に応じた出力を出力し、両者が論理的に不一致の
場合は、その出力を高インピーダンスにする。出力が高
インピーダンスのときは、そのレベルがラッチ回路によ
って保持される。
(57) [Summary] [PROBLEMS] For both upward noise and downward noise, it is possible to remove noise with an optimal delay amount, and it is excellent in reliability and also for process variations. Provided is a stable input signal noise elimination circuit for a semiconductor integrated circuit. SOLUTION: A downward noise absorbing circuit and an upward noise absorbing circuit are independently provided, and both are inputted to a waveform shaping circuit. The waveform shaping circuit outputs an output according to the logic when the two logically match, and sets the output to a high impedance when the two logically do not match. When the output has a high impedance, the level is held by the latch circuit.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路に
関するものであり、特に半導体集積回路の入力端子に外
部から印加される上向きノイズおよび下向きノイズを除
去し、内部回路に伝達されないようにするノイズ除去回
路に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and more particularly to a method for removing upward noise and downward noise externally applied to an input terminal of a semiconductor integrated circuit so as to prevent the noise from being transmitted to an internal circuit. It relates to a removal circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体集積回路に対して外部から入力端
子にごく短い幅のパルスがノイズとして入力され、誤動
作を引き起こす場合がある。この問題を避けるため、入
力端子に印加されるごく短時間のパルスを内部回路に伝
達しないようにするノイズ除去回路が使用される。
2. Description of the Related Art In some cases, a pulse having a very short width is input from the outside to an input terminal of a semiconductor integrated circuit as noise, causing a malfunction. In order to avoid this problem, a noise elimination circuit is used to prevent a very short pulse applied to the input terminal from being transmitted to the internal circuit.

【0003】この種のノイズ除去回路は、入力信号を遅
延する遅延素子を設け、入力信号とその遅延信号が論理
的に一致した場合に限って、その入力信号に応じたハイ
レベルまたはローレベルの出力信号を出力し、両者が不
一致の間は出力を高インピーダンス状態にし、ラッチ回
路で以前の状態を保持するよう構成される。この構成に
よって、遅延素子の遅延時間よりも短い短時間のパルス
が入力しても、出力は一時的に高インピーダンス状態に
なるのみであり、レベル変化は生じない。したがって、
入力信号に乗った短時間のノイズパルスが内部回路まで
伝達されず、ノイズが除去されたことになる。
[0003] This type of noise elimination circuit is provided with a delay element for delaying an input signal, and only when the input signal and the delayed signal logically coincide with each other, a high-level or low-level signal corresponding to the input signal is provided. An output signal is output, the output is set to a high impedance state while the two signals do not match, and the latch circuit holds the previous state. With this configuration, even if a short-time pulse shorter than the delay time of the delay element is input, the output only temporarily goes into the high impedance state, and no level change occurs. Therefore,
The short-time noise pulse on the input signal is not transmitted to the internal circuit, which means that the noise has been removed.

【0004】従来のノイズ除去回路では、入力信号を遅
延するための回路が1系統のみであり、上向きのノイズ
パルスに対しても、下向きのノイズパルスに対しても、
この1系統の遅延回路を用いてノイズの除去を行うのが
一般的であった。
In a conventional noise elimination circuit, there is only one circuit for delaying an input signal.
It has been common practice to remove noise using this one-system delay circuit.

【0005】ただし、上向きのノイズを除去するための
遅延回路と下向きのノイズを除去するための遅延回路が
それぞれ別個に設けられる場合もある。特開平6−21
6723号公報にはこのような例が示されている。
However, a delay circuit for removing upward noise and a delay circuit for removing downward noise may be separately provided. JP-A-6-21
No. 6723 discloses such an example.

【0006】以下、図3を用いて、このような従来のノ
イズ除去回路を用いた半導体集積回路について説明す
る。図中、Aは外部入力端子、11はノイズ除去回路、
12はラッチ回路、13は内部回路である。ここでe、
f、g、h、i、jはノイズ除去回路11の内部ノー
ド、IV5は入力端子からの信号のレベルを反転して伝
達するCMOSインバータ回路、P3は内部ノードeが
入力されているpチャンネルMOS型トランジスタ、C
2はコンデンサであり、電源と内部ノードeの間に直列
接続され挿入されている。N3は内部ノードeが入力さ
れているnチャンネルMOS型トランジスタ、C3はコ
ンデンサであり、接地電源と内部ノードeの間に直列接
続され挿入されている。P4、P5は電源と内部ノード
iの間に直列接続され挿入されているpチャンネルMO
S型トランジスタであり、P4には内部ノードgが、P
5には内部ノードhが入力している。N4,N5は接地
電源と内部ノードiの間に直列接続され挿入されている
nチャンネルMOS型トランジスタであり、N4には内
部ノードfが、N5には内部ノードhが入力している。
ここでpチャンネルMOS型トランジスタP4、P5及
び、nチャンネルMOS型トランジスタN4、N5は波
形整形回路を構成している。IV6、IV7はCOMS
インバータであり、IV7はCMOSインバータIV6
の出力ノードjと入力ノードiの間に帰還接続されてい
る。
Hereinafter, a semiconductor integrated circuit using such a conventional noise removing circuit will be described with reference to FIG. In the figure, A is an external input terminal, 11 is a noise removal circuit,
12 is a latch circuit, and 13 is an internal circuit. Where e,
f, g, h, i, j are internal nodes of the noise elimination circuit 11, IV5 is a CMOS inverter circuit for inverting and transmitting the level of the signal from the input terminal, and P3 is a p-channel MOS to which the internal node e is input. Type transistor, C
Reference numeral 2 denotes a capacitor which is connected in series between the power supply and the internal node e. N3 is an n-channel MOS transistor to which the internal node e is input, and C3 is a capacitor, which is connected in series between the ground power supply and the internal node e and inserted. P4 and P5 are p-channel MOs connected and inserted in series between the power supply and the internal node i.
An S-type transistor, P4 has an internal node g
5, an internal node h is input. N4 and N5 are n-channel MOS transistors connected in series and inserted between the ground power supply and the internal node i. The internal node f is input to N4 and the internal node h is input to N5.
Here, the p-channel MOS transistors P4 and P5 and the n-channel MOS transistors N4 and N5 constitute a waveform shaping circuit. IV6 and IV7 are COMS
An inverter IV7 is a CMOS inverter IV6
Is connected between the output node j and the input node i.

【0007】以上のように構成された半導体集積回路に
ついて、図3及び、図4を参照しながら説明する。
The semiconductor integrated circuit configured as described above will be described with reference to FIGS. 3 and 4.

【0008】図4は図3の回路における主要信号の動作
波形を示す。T1の期間において、内部ノードeは”
H”レベルである場合を示している。この場合、pチャ
ンネルMOS型トランジスタP3は非導通状態、nチャ
ンネルMOS型トランジスタN3は導通状態となり、内
部ノードgは”L”レベルとなる。また、コンデンサC
2の電荷保存により、内部ノードfは”H”レベルとな
る。一方、前記内部ノードfが入力するnチャンネルM
OS型トランジスタN4は導通状態、前記内部ノードg
が入力するpチャンネルMOS型トランジスタP4は導
通状態、また、CMOSインバータIV5の出力端子で
ある内部ノードhは”L”レベルであるので、前記内部
ノードhが入力するpチャンネルMOS型トランジスタ
P5は導通状態、nチャンネルMOS型トランジスタN
5は非導通状態となるので、内部ノードiは”H”レベ
ルとなり、内部回路13に伝達される。
FIG. 4 shows operation waveforms of main signals in the circuit of FIG. In the period of T1, the internal node e becomes "
In this case, the p-channel MOS transistor P3 is in a non-conductive state, the n-channel MOS transistor N3 is in a conductive state, and the internal node g is at an "L" level. C
2, the internal node f becomes “H” level. On the other hand, the n-channel M input by the internal node f
The OS-type transistor N4 is turned on, and the internal node g
Is input, and the internal node h, which is the output terminal of the CMOS inverter IV5, is at "L" level. Therefore, the p-channel MOS transistor P5 input to the internal node h is conductive. State, n-channel MOS transistor N
5 is in a non-conductive state, the internal node i attains an “H” level and is transmitted to the internal circuit 13.

【0009】T2の期間は、内部ノードeが”H”レベ
ルから”L”レベルへ遷移した場合を示している。この
場合には、コンデンサC2及び、C3の容量結合効果に
よって、内部ノードfは”L”レベルに引き下げられ
る。また、内部ノードgは接地電位より低い電位まで、
一瞬過昇圧されるが、nチャンネルMOS型トランジス
タN3を通してGNDから電流が流入するため、GND
−Vtn(VtnはnチャンネルMOS型トランジスタ
N3のしきい値電圧)となる。この時、内部ノードfが
入力するnチャンネルMOS型トランジスタN4は非導
通状態、内部ノードgが入力するpチャンネルMOS型
トランジスタP4は導通状態となる。また、CMOSイ
ンバータIV5の出力ノードhの電位が”H”レベルに
遷移するので、内部ノードhが入力するpチャンネルM
OS型トランジスタP4は非導通状態になり、nチャン
ネルMOS型トランジスタN4は導通状態になるので、
出力ノードiは高インピーダンス状態になるが、次段の
ラッチ回路12によって、それまでの状態(”H”)が
保持されることになる。
The period T2 shows the case where the internal node e has transitioned from the "H" level to the "L" level. In this case, the internal node f is lowered to the “L” level due to the capacitive coupling effect of the capacitors C2 and C3. Further, the internal node g is driven to a potential lower than the ground potential.
Although the voltage is excessively boosted for a moment, a current flows from GND through the n-channel MOS transistor N3.
−Vtn (Vtn is the threshold voltage of the n-channel MOS transistor N3). At this time, the n-channel MOS transistor N4 input to the internal node f is turned off, and the p-channel MOS transistor P4 input to the internal node g is turned on. Further, since the potential of the output node h of the CMOS inverter IV5 transits to the “H” level, the p-channel M
Since the OS transistor P4 is turned off and the n-channel MOS transistor N4 is turned on,
Although the output node i enters the high impedance state, the state (“H”) up to that time is held by the latch circuit 12 in the next stage.

【0010】内部ノードeの”L”状態がしばらく続く
と、T3の期間が示す様に、pチャンネルMOS型トラ
ンジスタP3を介してコンデンサC2が充電されるた
め、内部ノードfの電位は”H”レベルに近づいて行
き、次段のnチャンネルMOS型トランジスタN4のし
きい値電圧を超えた時点で、nチャンネルMOS型トラ
ンジスタN4が導通状態となり、内部ノードiの電位
は”L”レベルとなる。つまり内部ノードeの変化より
も遅れて、”H”から”L”に変化する信号が内部回路
13に伝達される。この時、コンデンサC2の端子間電
圧はVdd−GNDであり、内部ノードfは”H”レベ
ルを保持し、コンデンサC3の電荷保存により、内部ノ
ードgは”L”レベルを保持する。
If the "L" state of the internal node e continues for a while, the capacitor C2 is charged via the p-channel MOS transistor P3 as indicated by the period T3, so that the potential of the internal node f becomes "H". When the voltage approaches the level and exceeds the threshold voltage of the next-stage n-channel MOS transistor N4, the n-channel MOS transistor N4 is turned on, and the potential of the internal node i becomes "L" level. That is, a signal that changes from “H” to “L” is transmitted to the internal circuit 13 later than the change of the internal node e. At this time, the voltage between the terminals of the capacitor C2 is Vdd-GND, the internal node f keeps the "H" level, and the charge of the capacitor C3 keeps the internal node g at the "L" level.

【0011】T4は内部ノードeに”L”→”H”→”
L”のレベル変化(即ち上向きノイズ)が発生した場合
を示している。まず”L”から”H”へと変化した場
合、コンデンサC2及び、C3の容量結合効果により、
内部ノードgは”H”レベルに引き上げられる。また内
部ノードfはVddより高い電位レベルまで、一瞬昇圧
されるが、pチャンネルMOS型トランジスタP3を介
してVddに電流が流出するため、Vdd+Vtp(p
チャンネルMOS型トランジスタP3のしきい値電圧)
となる。この時、pチャンネルMOS型トランジスタP
4は非導通状態、nチャンネルMOS型トランジスタN
4は導通状態となる。また内部ノードhが”L”となる
ため、pチャンネルMOS型トランジスタP5は導通状
態、nチャンネルMOS型トランジスタN5は非導通状
態となり、内部ノードiは高インピーダンス状態になる
が、ラッチ回路12によって、それまでの電位状態(”
L”)を保持する。
T4 is "L" → "H" → "internal node e.
A case where a level change of L ”(ie, upward noise) occurs is shown. First, when the level changes from“ L ”to“ H ”, the capacitance coupling effect of the capacitors C2 and C3 causes
Internal node g is raised to "H" level. The internal node f is momentarily boosted to a potential level higher than Vdd, but a current flows out to Vdd via the p-channel MOS transistor P3, so that Vdd + Vtp (p
(Threshold voltage of channel MOS transistor P3)
Becomes At this time, the p-channel MOS transistor P
4 is a non-conductive state, an n-channel MOS transistor N
4 is conductive. Also, since the internal node h becomes “L”, the p-channel MOS transistor P5 becomes conductive, the n-channel MOS transistor N5 becomes non-conductive, and the internal node i becomes high impedance. The previous potential state ("
L ").

【0012】この時、nチャンネルMOS型トランジス
タN3のオン抵抗とコンデンサC3の時定数により、内
部ノードgは”L”レベルに近づいていき、pチャンネ
ルMOS型トランジスタP4のしきい値電圧を超えると
導通状態になり、内部ノードiは”L”から”H”へと
変化してしまう。しかし、nチャンネルMOS型トラン
ジスタN3とコンデンサC3の時定数を、上向きノイズ
の電位変化幅より長く設定しておけば、内部ノードgの
電位がpチャンネルMOS型トランジスタP4を導通状
態にする以前に、上向きノイズが”H”から”L”へと
再び変化し、内部ノードiが変化することはない。
At this time, the internal node g approaches the "L" level due to the ON resistance of the n-channel MOS transistor N3 and the time constant of the capacitor C3, and exceeds the threshold voltage of the p-channel MOS transistor P4. The conduction state is established, and the internal node i changes from “L” to “H”. However, if the time constant of the n-channel MOS transistor N3 and the capacitor C3 is set to be longer than the potential change width of the upward noise, the potential of the internal node g causes the p-channel MOS transistor P4 to become conductive before the potential of the internal node g turns on. The upward noise changes from “H” to “L” again, and the internal node i does not change.

【0013】上向きノイズが”H”から”L”へと変化
すると、内部ノードhが”L”から”H”へと変化す
る。この時、コンデンサC2の端子間電圧はVtp程度
であり、内部ノードfは”L”レベルに近づく。その結
果、内部ノードiは再び高インピーダンス状態になり、
ラッチ回路12により内部ノードiの電位は”L”レベ
ルで保持することができる。
When the upward noise changes from "H" to "L", the internal node h changes from "L" to "H". At this time, the voltage between the terminals of the capacitor C2 is about Vtp, and the internal node f approaches the “L” level. As a result, the internal node i becomes a high impedance state again,
The potential of the internal node i can be held at the “L” level by the latch circuit 12.

【0014】T5は内部ノードeの”L”期間が十分長
い場合であり、内部ノードfはpチャンネルMOSトラ
ンジスタP3を介して充電され、”H”レベル(Vd
d)となり、内部ノードfが入力しているnチャンネル
MOS型トランジスタN4は導通状態となり、内部ノー
ドgは”L”レベルを保持しているため、内部ノードg
が入力しているpチャンネルMOS型トランジスタP4
は導通状態となる。また、内部ノードhは”H”レベル
であるのでnチャンネルMOS型トランジスタN5は導
通状態であり、内部ノードiは”L”レベルである。
T5 is a case where the "L" period of the internal node e is sufficiently long. The internal node f is charged via the p-channel MOS transistor P3, and is set at the "H" level (Vd
d), the n-channel MOS transistor N4 to which the internal node f is input becomes conductive, and the internal node g holds the "L" level.
Is input to the p-channel MOS transistor P4
Becomes conductive. Since internal node h is at "H" level, n-channel MOS transistor N5 is conductive, and internal node i is at "L" level.

【0015】T6は内部ノードeが”L”から”H”に
遷移した場合である。この時、コンデンサC2及び、C
3の容量結合効果により、内部ノードfは”H”レベル
(Vdd+Vtp)まで昇圧され、nチャンネルMOS
型トランジスタN4は導通状態、内部ノードgは”H”
レベルに引き上げられ、pチャンネルMOS型トランジ
スタP4は非導通状態となる。また内部ノードhは”
H”から”L”と変化するので、nチャンネルMOS型
トランジスタN5は非導通状態、pチャンネルMOS型
トランジスタP5は導通状態となる。その結果、内部ノ
ードiは高インピーダンス状態になるが、ラッチ回路1
2によってそれまでの電位状態(”L”)を保持する。
T6 is a case where the internal node e transitions from "L" to "H". At this time, the capacitors C2 and C
3, the internal node f is boosted to the "H" level (Vdd + Vtp), and the n-channel MOS
Type transistor N4 is conductive, and internal node g is "H".
Level, and the p-channel MOS transistor P4 is turned off. The internal node h is "
Since the signal changes from H "to" L ", the n-channel MOS transistor N5 is turned off, and the p-channel MOS transistor P5 is turned on. 1
2 holds the previous potential state (“L”).

【0016】内部ノードeの”H”期間が十分長い(T
7期間)場合、nチャンネルMOS型トランジスタN3
が導通状態になっているので、時定数によって内部ノー
ドgの電位は”L”レベルに近づいていき、pチャンネ
ルMOS型トランジスタP4のしきい値電圧を超えた時
点で、pチャンネルMOS型トランジスタP4は導通状
態となり、内部ノードiは”H”レベルに遷移する。即
ち、内部ノードeの”L”から”H”への遷移より遅れ
て”L”から”H”に変化する信号が内部回路に伝達さ
れる。
The "H" period of the internal node e is sufficiently long (T
7 period), the n-channel MOS transistor N3
Is in a conducting state, the potential of the internal node g approaches the "L" level due to the time constant, and when the threshold voltage of the p-channel MOS transistor P4 is exceeded, the p-channel MOS transistor P4 Is turned on, and internal node i transitions to "H" level. That is, a signal that changes from “L” to “H” after the transition of the internal node e from “L” to “H” is transmitted to the internal circuit.

【0017】T8は内部ノードeに”H”→”L”→”
H”なる電位変化(下向きノイズ)が発生した場合を示
している。まず”H”から”L”へと変化した場合、コ
ンデンサC2及び、C3の容量結合効果により、内部ノ
ードfは”L”レベルに引き下げられ、nチャンネルM
OS型トランジスタN4は非導通状態になり、内部ノー
ドgは”L”レベル(GND−Vtn)となるため、p
チャンネルMOS型トランジスタP4は導通状態にな
る。また、内部ノードhは”L”から”H”へと変化す
るため、nチャンネルMOSトランジスタN5が導通状
態、pチャンネルMOSトランジスタP5が非導通状態
になる。その結果、内部ノードiは高インピーダンス状
態になり、ラッチ回路にて”H”レベルを保持すること
になる。
T8 changes the internal node e from "H" → "L" → "
This shows a case where a potential change (downward noise) of H occurs. First, when the potential changes from "H" to "L", the internal node f is set to "L" due to the capacitive coupling effect of the capacitors C2 and C3. Reduced to level, n channel M
OS-type transistor N4 is turned off, and internal node g attains an "L" level (GND-Vtn).
The channel MOS transistor P4 is turned on. Further, since the internal node h changes from “L” to “H”, the n-channel MOS transistor N5 is turned on and the p-channel MOS transistor P5 is turned off. As a result, the internal node i enters a high impedance state, and the latch circuit holds the “H” level.

【0018】この時、pチャンネルMOS型トランジス
タP3のオン抵抗とコンデンサC2の時定数により、内
部ノードfは”H”レベルに近づいて行き、nチャンネ
ルMOS型トランジスタN4のしきい値を超えると、導
通状態になり、内部ノードiは”H”から”L”へと変
化してしまう。しかし、pチャンネルMOS型トランジ
スタP3とコンデンサC2の時定数を、下向きノイズの
電位変化幅より長く設定しておけば、内部ノードfの電
位がnチャンネルMOS型トランジスタN4を導通状態
にする以前に、下向きノイズが”L”から”H”へと再
び変化し、内部ノードiが変化することはない。
At this time, due to the on-resistance of the p-channel MOS transistor P3 and the time constant of the capacitor C2, the internal node f approaches the "H" level and exceeds the threshold value of the n-channel MOS transistor N4. The conduction state is established, and the internal node i changes from “H” to “L”. However, if the time constants of the p-channel MOS transistor P3 and the capacitor C2 are set to be longer than the potential change width of the downward noise, the potential of the internal node f causes the n-channel MOS transistor N4 to become conductive before the potential changes. The downward noise changes from “L” to “H” again, and the internal node i does not change.

【0019】下向きノイズが”L”から”H”へと変化
すると、内部ノードhが”H”から”L”へと、内部ノ
ードgが”L”から”H”へと変化するため、内部ノー
ドiは再び高インピーダンス状態になり、ラッチ回路1
2により内部ノードiの電位は”H”レベルで保持する
ことができる。
When the downward noise changes from "L" to "H", the internal node h changes from "H" to "L" and the internal node g changes from "L" to "H". Node i again enters the high impedance state, and latch circuit 1
2, the potential of the internal node i can be held at the “H” level.

【0020】[0020]

【発明が解決しようとする課題】以上説明した、図3の
例の場合、上向きノイズを除去するための遅延回路の遅
延量と下向きノイズを除去するための遅延回路の遅延量
とは、例えばコンデンサC2、C3の容量を調整するこ
とによって、それぞれ独立に調整することは可能である
が、内部ノードf及び、内部ノードgがそれぞれ、一
瞬、過昇圧される場合があり、信頼性上の問題を引き起
こす可能性がある。また、トランジスタのオン抵抗とコ
ンデンサの時定数によって遅延した信号により、波形整
形回路内部のトランジスタを導通状態にすることで、ノ
イズを除去しているが、半導体拡散プロセスのバラツキ
により、前記波形整形回路内部のトランジスタのしきい
値電圧が変動した場合、安定したノイズ除去特性を得る
ことができない。
In the case of the example of FIG. 3 described above, the delay amount of the delay circuit for removing upward noise and the delay amount of the delay circuit for removing downward noise are, for example, capacitors. The capacitances of C2 and C3 can be adjusted independently of each other, but the internal node f and the internal node g may each be momentarily over-boosted. Can cause. Further, noise is removed by turning on the transistor inside the waveform shaping circuit by a signal delayed by the ON resistance of the transistor and the time constant of the capacitor, but the waveform shaping circuit is reduced due to the variation in the semiconductor diffusion process. If the threshold voltage of the internal transistor fluctuates, stable noise removal characteristics cannot be obtained.

【0021】また、従来の一般的な半導体集積回路のノ
イズ除去回路では、上向きノイズを除去するための遅延
回路と下向きノイズを除去するための遅延回路が共通に
なっているため、それぞれの遅延量を独立して最適値に
調整することができない。
In a conventional general noise elimination circuit of a semiconductor integrated circuit, a delay circuit for removing upward noise and a delay circuit for removing downward noise are commonly used. Cannot be independently adjusted to the optimum value.

【0022】[0022]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明の
半導体集積回路は、第1の信号を入力して第1の出力を
出力し、第1の遅延素子により前記第1の信号に乗った
短時間の上向きノイズパルスを吸収する第1のノイズ吸
収手段と、前記第1の信号を入力して第2の出力を出力
し、第2の遅延素子により前記第2の信号に乗った短時
間の下向きノイズパルスを吸収する第2のノイズ吸収手
段と、前記第1の出力と前記第2の出力とを入力して第
3の出力を出力し、前記第1の出力と前記第2の出力と
が論理的に一致した場合に、前記第3の出力として前記
一致した論理に応じたハイレベルまたはローレベルの出
力を出力し、前記第1の出力と前記第2の出力が論理的
に不一致の場合に、前記第3の出力を高インピーダンス
とする波形整形手段と、前記第3の出力が高インピーダ
ンスのとき、前記第3の出力のレベルを保持する保持手
段とを備えたことを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, a semiconductor integrated circuit receives a first signal, outputs a first output, and outputs the first signal to the first signal by a first delay element. A first noise absorbing means for absorbing a short-time upward noise pulse riding thereon, and a second output which is input with the first signal and is output on the second signal by a second delay element A second noise absorbing means for absorbing a short-time downward noise pulse; inputting the first output and the second output to output a third output; and outputting the first output and the second output. When the output logically coincides with the output of the second logic, a high-level output or a low-level output according to the logic of the coincidence is output as the third output, and the first output and the second output are logically identical. , The waveform shaping means for setting the third output to high impedance When the third output of the time of high impedance, characterized in that a holding means for holding the third level of the output of.

【0023】また、請求項2に記載の発明は、請求項1
に記載の半導体集積回路において、第1のノイズ吸収手
段は、第1の信号を遅延する第1の論理遅延素子と、前
記第1の信号が第1の入力端子に接続され、前記第1の
論理遅延素子の出力が第2の入力端子に接続される第1
のNAND回路とを備え、第2のノイズ吸収手段は、前
記第1の信号から第2の信号を生成するインバータと、
前記第2の信号を遅延する第2の論理遅延素子と、前記
第2の信号が第3の入力端子に接続され、前記第2の論
理遅延素子の出力が第4の入力端子に接続される第2の
NAND回路とを備えることを特徴とする。
The invention described in claim 2 is the same as that in claim 1.
Wherein the first noise absorbing means is connected to a first logical delay element for delaying a first signal, and the first signal is connected to a first input terminal; A first output terminal connected to an output of the logic delay element connected to the second input terminal;
, A second noise absorbing means comprising: an inverter for generating a second signal from the first signal;
A second logic delay element for delaying the second signal, the second signal connected to a third input terminal, and an output of the second logic delay element connected to a fourth input terminal A second NAND circuit.

【0024】また、請求項3に記載の発明は、請求項1
に記載の半導体集積回路において、波形整形手段は、電
源と第3の出力との間に直列接続された第1のpチャン
ネルMOSトランジスタおよび第2のpチャンネルMO
Sトランジスタと、第3の出力と基準電位との間に接続
された第1のnチャンネルMOSトランジスタおよび第
2のnチャンネルMOSトランジスタとを備え、前記第
1のpチャンネルMOSトランジスタおよび前記第1の
nチャンネルMOSトランジスタのゲートに第1の出力
が入力され、前記第2のpチャンネルMOSトランジス
タおよび前記第2のnチャンネルMOSトランジスタの
ゲートに第2の出力が入力されることを特徴とする。
[0024] The invention described in claim 3 is the first invention.
Wherein the waveform shaping means includes a first p-channel MOS transistor and a second p-channel MOS transistor connected in series between a power supply and a third output.
An S transistor, a first n-channel MOS transistor and a second n-channel MOS transistor connected between a third output and a reference potential, wherein the first p-channel MOS transistor and the first A first output is input to a gate of the n-channel MOS transistor, and a second output is input to gates of the second p-channel MOS transistor and the second n-channel MOS transistor.

【0025】また、請求項4に記載の発明は、請求項1
に記載の半導体集積回路において、第1の遅延素子の遅
延量を上向きノイズ除去のため最適の遅延量に調整し、
第2の遅延素子の遅延量を上向きノイズ除去のため最適
の遅延量に調整したことを特徴とする。
The invention described in claim 4 is the first invention.
Wherein the delay amount of the first delay element is adjusted to an optimal delay amount for removing upward noise,
The delay amount of the second delay element is adjusted to an optimal delay amount for removing upward noise.

【0026】また、請求項5に記載の発明は、請求項1
に記載の半導体集積回路において、第1の信号が外部入
力端子より、バッファを介して与えられることを特徴と
する。
The invention described in claim 5 is the first invention.
Wherein the first signal is supplied from an external input terminal via a buffer.

【0027】以上の構成により、請求項1ないし請求項
5に記載の発明では、下向きノイズ吸収回路と上向きノ
イズ吸収回路とを独立に設け、両者を波形整形回路に接
続することで、上向きノイズに対しても、下向きノイズ
に対しても、それぞれ独立して、ノイズ除去のための最
適の遅延量を設定することができる。
With the above arrangement, according to the first to fifth aspects of the present invention, the downward noise absorbing circuit and the upward noise absorbing circuit are independently provided, and both are connected to the waveform shaping circuit to reduce upward noise. On the other hand, the optimum delay amount for removing the noise can be set independently for the downward noise.

【0028】特に、請求項2に記載の発明では、第1の
信号あるいは第2の信号とそれを遅延した信号とは、信
号が変化する時間が異なるだけで良いので、ノイズ吸収
手段中の遅延素子として、通常の論理遅延が利用でき
る。したがって、過昇圧ノードが存在せず、信頼性が高
く、また、半導体拡散プロセスがバラついた場合でも、
安定したノイズ除去特性を得ることができる。更に、通
常の論理遅延素子を利用することにより、ノイズ除去回
路の入力に直接遅延用のコンデンサを接続する必要がな
いのでノイズ除去回路の入力容量が小さくなる。
In particular, according to the second aspect of the present invention, the first signal or the second signal and the delayed signal need only differ in the time during which the signal changes, so that the delay in the noise absorbing means is reduced. A normal logic delay can be used as an element. Therefore, there is no over-boost node, high reliability, and even if the semiconductor diffusion process varies,
Stable noise removal characteristics can be obtained. Furthermore, by using a normal logic delay element, it is not necessary to connect a delay capacitor directly to the input of the noise elimination circuit, so that the input capacitance of the noise elimination circuit is reduced.

【0029】[0029]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0030】図1は、本実施の形態におけるノイズ除去
回路の概略図である。図中、1は下向きノイズ吸収回
路、2は上向きノイズ吸収回路、10は内部回路であ
る。3、4、5、6、7、11、12、及び13は内部
ノードである。図示していないが、内部ノード7には外
部入力端子から入力された信号が入力バッファを介して
結合される。1a、1b、1d、2a、2b、及び2d
はCMOSインバータ回路、1c及び2cはコンデン
サ、1e及び2eはNAND回路である。CMOSイン
バータ1b、1d及びコンデンサ1cと、CMOSイン
バータ2b、2d及びコンデンサ2cとは、それぞれ、
通常の論理遅延を利用した論理遅延素子を構成してい
る。Q1、Q2は、電源と内部ノード5の間に直列接続
にて挿入されているpチャンネルMOS型トランジス
タ、Q3、Q4は接地電源と内部ノード5の間に直列接
続にて挿入されているnチャンネルMOS型トランジス
タであり、波形整形回路を構成している。8、9はCM
OSインバータであり、ラッチ回路を構成している。ま
た、下向きノイズ除去回路1の出力端子である内部ノー
ド3は、pチャンネルMOS型トランジスタQ1及びn
チャンネルMOS型トランジスタQ3のゲートに入力さ
れ、上向きノイズ除去回路2の出力端子である内部ノー
ド4は、pチャンネルMOS型トランジスタQ2及びn
チャンネルMOS型トランジスタQ4のゲートに入力さ
れている。
FIG. 1 is a schematic diagram of a noise removing circuit according to the present embodiment. In the figure, 1 is a downward noise absorbing circuit, 2 is an upward noise absorbing circuit, and 10 is an internal circuit. 3, 4, 5, 6, 7, 11, 12, and 13 are internal nodes. Although not shown, a signal input from an external input terminal is coupled to internal node 7 via an input buffer. 1a, 1b, 1d, 2a, 2b, and 2d
Is a CMOS inverter circuit, 1c and 2c are capacitors, and 1e and 2e are NAND circuits. The CMOS inverters 1b and 1d and the capacitor 1c and the CMOS inverters 2b and 2d and the capacitor 2c are respectively
A logic delay element using a normal logic delay is configured. Q1 and Q2 are p-channel MOS transistors inserted in series between the power supply and the internal node 5, and Q3 and Q4 are n-channel transistors inserted in series between the ground power supply and the internal node 5. It is a MOS transistor and constitutes a waveform shaping circuit. 8 and 9 are CM
It is an OS inverter and constitutes a latch circuit. The internal node 3, which is the output terminal of the downward noise elimination circuit 1, has p-channel MOS transistors Q1 and n
The internal node 4 which is input to the gate of the channel MOS transistor Q3 and is the output terminal of the upward noise elimination circuit 2 is connected to the p-channel MOS transistors Q2 and n
The signal is input to the gate of the channel MOS transistor Q4.

【0031】以上の様に構成された半導体装置につい
て、図2を参照しながら動作を説明する。図2は本発明
の実施の形態おける主要信号の動作波形図である。
The operation of the semiconductor device configured as described above will be described with reference to FIG. FIG. 2 is an operation waveform diagram of a main signal in the embodiment of the present invention.

【0032】T1の期間は、内部ノード7が”H”レベ
ルである場合を示す。内部ノード11は、CMOSイン
バータ回路1aの出力であるため”L”レベルである。
同様に内部ノード12は、内部ノード11との間にCM
OSインバータ回路1b及び1dが直列に接続されてい
るため”L”レベルであり、NAND回路1eの出力で
ある内部ノード3は”H”レベルとなる。また、内部ノ
ード13は、内部ノード7との間にCMOSインバータ
回路2b及び2dが直列に接続されているため”H”レ
ベルとなり、NAND回路2e及びCMOSインバータ
回路2aによって、内部ノード4は”H”レベルとなっ
ている。この時、pチャンネルMOS型トランジスタQ
1及び、Q2は非導通状態、nチャンネルMOS型トラ
ンジスタQ3及び、Q4は導通状態であるので、内部ノ
ード5は”L”レベルであり、CMOSインバータ回路
8によって、内部ノード6は”H”レベルとなる。
The period T1 shows a case where the internal node 7 is at "H" level. Internal node 11 is at the "L" level because it is the output of CMOS inverter circuit 1a.
Similarly, the internal node 12 has a CM
Since the OS inverter circuits 1b and 1d are connected in series, the level is "L" level, and the internal node 3 which is the output of the NAND circuit 1e becomes "H" level. The internal node 13 is at “H” level because the CMOS inverter circuits 2 b and 2 d are connected in series with the internal node 7, and the internal node 4 is set to “H” by the NAND circuit 2 e and the CMOS inverter circuit 2 a. "Level. At this time, the p-channel MOS transistor Q
1 and Q2 are non-conductive and n-channel MOS transistors Q3 and Q4 are conductive, so that internal node 5 is at "L" level and CMOS inverter circuit 8 causes internal node 6 to be at "H" level. Becomes

【0033】T2は内部ノード7が”H”から”L”に
遷移した場合を示している。この時、内部ノード11は
CMOSインバータ1aによって”L”から”H”に変
化する。ここで内部ノード12は、CMOSインバータ
回路1b、1d及びコンデンサ1cによる論理遅延によ
り、内部ノード11より遅れて”L”から”H”へと変
化し、内部ノード3は、内部ノード11及び12の”
H”レベルが重なった時点で、”H”から”L”へと変
化する。また内部ノード13は、CMOSインバータ回
路2b、2d及びコンデンサ2cによって論理遅延する
ため、内部ノード7より遅れて”H”から”L”へと変
化するが、内部ノード4は、内部ノード7と内部ノード
13が”H”レベル同士で重ならなくなった時点で変化
するので、内部ノード7とほぼ同時に”H”から”L”
へとすでに変化している。その結果、内部ノード3が”
L”レベルになった時点で、pチャンネルMOS型トラ
ンジスタQ1及びQ2がそれぞれ導通状態になるので、
内部ノード5は”L”から”H”へと変化し、それをC
MOSインバータ8によって反転した内部ノード6の”
H”から”L”への変化が内部回路10に信号伝達され
る。
T2 indicates a case where the internal node 7 has transitioned from "H" to "L". At this time, the internal node 11 changes from "L" to "H" by the CMOS inverter 1a. Here, the internal node 12 changes from "L" to "H" later than the internal node 11 due to a logical delay caused by the CMOS inverter circuits 1b and 1d and the capacitor 1c. "
When the H level overlaps, the level changes from "H" to "L." Also, since the internal node 13 is logically delayed by the CMOS inverter circuits 2b and 2d and the capacitor 2c, it is delayed from the internal node 7 by "H". However, the internal node 4 changes from “H” almost simultaneously with the internal node 7 because the internal node 4 changes when the internal nodes 7 and 13 no longer overlap at the “H” level. "L"
Has already changed to As a result, the internal node 3
At the time of the L level, the p-channel MOS transistors Q1 and Q2 are turned on.
The internal node 5 changes from "L" to "H",
Of the internal node 6 inverted by the MOS inverter 8
The change from H ”to“ L ”is signaled to the internal circuit 10.

【0034】T3は、外部入力端子から上向きノイズパ
ルスが入力され、内部ノード7の信号に短時間の上向き
ノイズパルスが重なり、その電圧レベルが”L”→”
H”→”L”と短時間に変化した場合を示している。内
部ノード11には、CMOSインバータ1aにて論理反
転した”H”、”L”、”H”なる電圧変化が転送さ
れ、内部ノード12には内部ノード11と同じ極性で、
論理遅延した電圧変化が発生する。ここで内部ノード3
は、内部ノード11及び12が”H”レベルで重なった
期間のみ”L”レベルになる。即ち内部ノード11が”
H”から”L”へと電圧変化してから内部ノード12
が”L”から”H”へと変化するまでの間において、内
部ノード3は”H”レベルになり得る。
At T3, an upward noise pulse is input from an external input terminal, and a short-time upward noise pulse overlaps the signal of the internal node 7, and its voltage level changes from "L" to "L".
This shows a case where the voltage changes from H ”to“ L ”in a short time, and the voltage changes“ H ”,“ L ”, and“ H ”that are logically inverted by the CMOS inverter 1a are transferred to the internal node 11. The internal node 12 has the same polarity as the internal node 11,
A logically delayed voltage change occurs. Where internal node 3
Becomes "L" level only when the internal nodes 11 and 12 overlap at "H" level. That is, the internal node 11
After the voltage changes from “H” to “L”, the internal node 12
The internal node 3 can be at the “H” level until the signal changes from “L” to “H”.

【0035】次に、この時の、上向きノイズ吸収回路2
の動作を説明する。内部ノード13には、内部ノード7
よりも遅れて”L”→”H”→”L”なる電圧変化が伝
達される。この遅延時間が十分であれば、内部ノード7
と13は”H”レベルが重なる期間が存在しないので、
内部ノード4は”L”レベルを保持する。このように、
インバータ2a、2b及び容量2cからなる論理遅延素
子の遅延量を、除去すべき上向きノイズパルスのパルス
幅に合わせて調整し、最適値を選ぶことができる。
Next, at this time, the upward noise absorbing circuit 2
Will be described. The internal node 13 has an internal node 7
A voltage change of “L” → “H” → “L” is transmitted later than that. If this delay time is sufficient, the internal node 7
And 13 have no period in which the “H” level overlaps,
Internal node 4 holds "L" level. in this way,
The delay amount of the logic delay element including the inverters 2a and 2b and the capacitor 2c can be adjusted according to the pulse width of the upward noise pulse to be removed, and an optimum value can be selected.

【0036】内部ノード3および内部ノード4はpチャ
ンネルMOSトランジスタQ1、Q2およびnチャンネ
ルMOSトランジスタQ3、Q4からなる波形整形回路
に入力される。波形整形回路は、内部ノード3、4が”
H”レベルで一致した場合に”L”を出力し、内部ノー
ド3、4が”L”レベルで一致した場合に”H”を出力
し、内部ノード3、4のレベルが異なる場合には出力が
高インピーダンス状態になるように構成されている。
The internal nodes 3 and 4 are input to a waveform shaping circuit including p-channel MOS transistors Q1, Q2 and n-channel MOS transistors Q3, Q4. In the waveform shaping circuit, the internal nodes 3 and 4
"L" is output when they match at the "H" level, "H" is output when the internal nodes 3 and 4 match at the "L" level, and output when the levels of the internal nodes 3 and 4 are different. Are configured to be in a high impedance state.

【0037】外部入力端子から上向きノイズパルスが入
力され、内部ノード7が”L”→”H”→”L”と短時
間に変化する場合、内部ノード7が”L”から”H”へ
と電圧変化し、ほぼ同時に内部ノード3が”L”から”
H”へと電圧変化しても、内部ノード4は、上向きノイ
ズ吸収回路の働きにより”L”レベルを維持する。この
時、pチャンネルMOS型トランジスタQ1は非導通状
態、pチャンネルMOS型トランジスタQ2は導通状
態、nチャンネルMOS型トランジスタQ3は導通状
態、nチャンネルMOS型トランジスタQ4は非導通状
態となり、内部ノード5は高インピーダンス状態とな
り、ラッチ回路によってそれまでの電圧状態(”H”)
が保持される。内部回路10に入力される内部ノード6
の電圧も保持され、変化しないので、内部ノード7に発
生した上向きノイズが除去されたことになる。
When an upward noise pulse is input from the external input terminal and the internal node 7 changes from "L" to "H" to "L" in a short time, the internal node 7 changes from "L" to "H". The voltage changes, and at about the same time the internal node 3 changes from "L" to "L".
Even when the voltage changes to "H", the internal node 4 maintains the "L" level by the function of the upward noise absorbing circuit, at this time, the p-channel MOS transistor Q1 is turned off, and the p-channel MOS transistor Q2 Is conducting, n-channel MOS transistor Q3 is conducting, n-channel MOS transistor Q4 is non-conducting, internal node 5 is in a high impedance state, and the voltage state ("H") up to that time by the latch circuit.
Is held. Internal node 6 input to internal circuit 10
Is also maintained and does not change, which means that the upward noise generated at the internal node 7 has been removed.

【0038】T4は、内部ノード7が”L”から”H”
へと電圧変化する場合を示している。この時、内部ノー
ド11は”H”から”L”へと電圧変化する。内部ノー
ド12は、遅延して”H”から”L”へと電圧変化する
が、内部ノード3は内部ノード7の電圧変化とほぼ同時
に”L”から”H”へと電圧変化し、nチャンネルMO
S型トランジスタQ3が導通状態となる。また内部ノー
ド13は、内部ノード7に対して遅延して”L”から”
H”へと電圧変化し、内部ノード4は内部ノード13の
遅延した電圧変化とほぼ同時に”L”から”H”へと変
化し、nチャンネルMOS型トランジスタQ4が導通状
態になる。この時点で、内部ノード5は”L”レベルと
なる。
At T4, the internal node 7 changes from "L" to "H".
The case where the voltage changes to is shown. At this time, the voltage of the internal node 11 changes from “H” to “L”. The voltage of the internal node 12 changes from "H" to "L" with a delay, but the voltage of the internal node 3 changes from "L" to "H" almost simultaneously with the voltage change of the internal node 7. MO
S-type transistor Q3 is rendered conductive. Further, the internal node 13 is delayed from “L” with respect to the internal node 7 by “L”.
The voltage changes to "H", the internal node 4 changes from "L" to "H" almost simultaneously with the delayed voltage change of the internal node 13, and the n-channel MOS transistor Q4 becomes conductive. , Internal node 5 attains an "L" level.

【0039】次に、外部入力端子から下向きノイズパル
スが入力され、内部ノード7の信号に短時間の下向きノ
イズパルスが重なり、その電圧レベルが”H”→”L”
→”H”と短時間に変化した場合をT5に示す。まず下
向きノイズ吸収回路1の動作を説明する。内部ノード1
1には”L”→”H”→”L”なる電圧変化が伝達さ
れ、内部ノード12には同じ極性で、遅延した電圧変化
が伝達されることになる。この時、その遅延量が適正で
あれば、内部ノード11及び、12は”H”レベルが重
なる期間が存在しないので、内部ノード3は”H”レベ
ルを保持する。このように、インバータ1a、1b及び
容量1cからなる論理遅延素子の遅延量を、除去すべき
下向きノイズパルスのパルス幅に合わせて調整し、最適
値を選ぶことができる。
Next, a downward noise pulse is inputted from the external input terminal, and a short-time downward noise pulse overlaps with the signal of the internal node 7, and its voltage level changes from "H" to "L".
T5 indicates a case where the state changes to "H" in a short time. First, the operation of the downward noise absorbing circuit 1 will be described. Internal node 1
1, a voltage change of “L” → “H” → “L” is transmitted, and a delayed voltage change having the same polarity is transmitted to the internal node 12. At this time, if the delay amount is appropriate, there is no period in which the internal nodes 11 and 12 overlap the “H” level, and the internal node 3 holds the “H” level. As described above, the delay amount of the logic delay element including the inverters 1a and 1b and the capacitor 1c can be adjusted according to the pulse width of the downward noise pulse to be removed, and an optimum value can be selected.

【0040】この時、内部ノード13には内部ノード7
よりも遅れて、”H”→”L”→”H”なる電圧変化が
伝達されるため、内部ノード4は、内部ノード7が”
H”から”L”へと変化してから内部ノード13が”
L”から”H”へと変化するまでの間、”L”レベルと
なり得る。内部ノード4が”L”レベルになると、波形
整形回路にて、pチャンネルMOS型トランジスタQ1
が非導通状態、pチャンネルMOS型トランジスタQ2
が導通状態、nチャンネルMOS型トランジスタQ3が
導通状態、nチャンネルMOS型トランジスタQ4が非
導通状態となり、内部ノード5が高インピーダンス状態
になる。この時ラッチ回路にてそれまでの状態(”L”
レベル)が保持される。内部回路10に入力される内部
ノード6の電圧も保持され、変化しないので、内部ノー
ド7の下向きノイズは除去されたことになる。
At this time, the internal node 13 is
Since the voltage change from “H” → “L” → “H” is transmitted later than the internal node 4, the internal node 7
After the internal node 13 changes from “H” to “L”,
The internal node 4 may be at the "L" level until it changes from "L" to "H." When the internal node 4 goes to the "L" level, the p-channel MOS transistor Q1 is output by the waveform shaping circuit.
Is non-conductive, p-channel MOS transistor Q2
Is conductive, n-channel MOS transistor Q3 is conductive, n-channel MOS transistor Q4 is non-conductive, and internal node 5 is in a high impedance state. At this time, the state (“L”)
Level) is retained. Since the voltage of the internal node 6 input to the internal circuit 10 is also maintained and does not change, the downward noise of the internal node 7 has been removed.

【0041】以上の説明から分かるように、本実施の形
態によれば、外部入力端子から内部ノード7に入力され
る上向きノイズに対しては、上向きノイズ吸収回路中の
論理遅延素子の遅延量を調整することによって、除去す
べきノイズパルスのパルス幅との関連で最適の遅延量を
設定することができる。また外部入力端子から内部ノー
ド7に入力される下向きノイズに対しては、下向きノイ
ズ吸収回路中の論理遅延素子の遅延量を調整することに
よって、上向きノイズに対するものとは独立に、最適の
遅延量を設定することができる。
As can be seen from the above description, according to the present embodiment, the delay amount of the logic delay element in the upward noise absorbing circuit is reduced for the upward noise input from the external input terminal to the internal node 7. By adjusting, an optimum delay amount can be set in relation to the pulse width of the noise pulse to be removed. For the downward noise input from the external input terminal to the internal node 7, by adjusting the delay amount of the logic delay element in the downward noise absorption circuit, the optimum delay amount can be set independently of the upward noise. Can be set.

【0042】[0042]

【発明の効果】以上説明したように、本発明では、下向
きノイズ吸収回路と上向きノイズ吸収回路とを独立に設
け、両者を波形整形回路に接続することで、上向きノイ
ズに対しても、下向きノイズに対しても、それぞれ独立
して、ノイズ除去のための最適の遅延量を設定すること
ができる。
As described above, according to the present invention, the downward noise absorbing circuit and the upward noise absorbing circuit are independently provided, and both are connected to the waveform shaping circuit. , An optimum delay amount for noise removal can be set independently of each other.

【0043】また、ノイズ吸収手段中の遅延素子とし
て、通常の論理遅延が利用でき、したがって、過昇圧ノ
ードが存在せず、信頼性が高く、また、半導体拡散プロ
セスがバラついた場合でも、安定したノイズ除去特性を
得ることができる。更に、通常の論理遅延素子を利用す
ることにより、ノイズ除去回路の入力に直接遅延用のコ
ンデンサを接続する必要がないのでノイズ除去回路の入
力容量が小さくなる。
Further, a normal logic delay can be used as a delay element in the noise absorbing means. Therefore, there is no over-boost node, high reliability, and stable even if the semiconductor diffusion process varies. Noise reduction characteristics can be obtained. Furthermore, by using a normal logic delay element, it is not necessary to connect a delay capacitor directly to the input of the noise elimination circuit, so that the input capacitance of the noise elimination circuit is reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態を示す回路図FIG. 1 is a circuit diagram showing a first embodiment of the present invention.

【図2】図1における主要信号の動作波形を示す波形図FIG. 2 is a waveform chart showing operation waveforms of main signals in FIG.

【図3】従来のノイズ除去回路の一例を示す回路図FIG. 3 is a circuit diagram showing an example of a conventional noise removal circuit.

【図4】図3における主要信号の動作波形を示す波形図FIG. 4 is a waveform chart showing operation waveforms of main signals in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 下向きノイズ吸収回路 1a、1b、1d インバータ 1c コンデンサ 1e NAND回路 2 上向きノイズ吸収回路 2a、2b、2d インバータ 2c コンデンサ 2e NAND回路 3、4、5、6、7 内部ノード Q1、Q2 pチャンネルMOSトランジスタ Q3、Q4 nチャンネルMOSトランジスタ 8、9 インバータ 10 内部回路 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Downward noise absorption circuit 1a, 1b, 1d Inverter 1c Capacitor 1e NAND circuit 2 Upward noise absorption circuit 2a, 2b, 2d Inverter 2c Capacitor 2e NAND circuit 3, 4, 5, 6, 7 Internal node Q1, Q2 P channel MOS transistor Q3, Q4 n-channel MOS transistor 8, 9 inverter 10 internal circuit

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1の信号を入力して第1の出力を出力
し、第1の遅延素子により前記第1の信号に乗った短時
間の上向きノイズパルスを吸収する第1のノイズ吸収手
段と、前記第1の信号を入力して第2の出力を出力し、
第2の遅延素子により前記第2の信号に乗った短時間の
下向きノイズパルスを吸収する第2のノイズ吸収手段
と、前記第1の出力と前記第2の出力とを入力して第3
の出力を出力し、前記第1の出力と前記第2の出力とが
論理的に一致した場合に、前記第3の出力として前記一
致した論理に応じたハイレベルまたはローレベルの出力
を出力し、前記第1の出力と前記第2の出力が論理的に
不一致の場合に、前記第3の出力を高インピーダンスと
する波形整形手段と、前記第3の出力が高インピーダン
スのとき、前記第3の出力のレベルを保持する保持手段
とを備えた半導体集積回路。
1. A first noise absorbing means for receiving a first signal, outputting a first output, and absorbing a short upward noise pulse on the first signal by a first delay element. And inputting the first signal to output a second output;
A second noise absorbing means for absorbing a short-time downward noise pulse riding on the second signal by a second delay element, and inputting the first output and the second output to generate a third noise;
And when the first output and the second output logically match, outputs a high-level or low-level output according to the matched logic as the third output. A waveform shaping unit that sets the third output to a high impedance when the first output and the second output do not logically match each other; Holding means for holding the output level of the semiconductor integrated circuit.
【請求項2】 第1のノイズ吸収手段は、第1の信号を
遅延する第1の論理遅延素子と、前記第1の信号が第1
の入力端子に接続され、前記第1の論理遅延素子の出力
が第2の入力端子に接続される第1のNAND回路とを
備え、第2のノイズ吸収手段は、前記第1の信号から第
2の信号を生成するインバータと、前記第2の信号を遅
延する第2の論理遅延素子と、前記第2の信号が第3の
入力端子に接続され、前記第2の論理遅延素子の出力が
第4の入力端子に接続される第2のNAND回路とを備
えることを特徴とする請求項1記載の半導体集積回路。
2. A first noise absorbing means comprising: a first logic delay element for delaying a first signal; and a first logic delay element for delaying the first signal.
And a first NAND circuit connected to an input terminal of the first logic delay element and an output of the first logic delay element connected to a second input terminal. 2, an inverter for generating the second signal, a second logical delay element for delaying the second signal, and the second signal connected to a third input terminal, and an output of the second logical delay element 2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, further comprising: a second NAND circuit connected to the fourth input terminal.
【請求項3】 波形整形手段は、電源と第3の出力との
間に直列接続された第1のpチャンネルMOSトランジ
スタおよび第2のpチャンネルMOSトランジスタと、
第3の出力と基準電位との間に接続された第1のnチャ
ンネルMOSトランジスタおよび第2のnチャンネルM
OSトランジスタとを備え、前記第1のpチャンネルM
OSトランジスタおよび前記第1のnチャンネルMOS
トランジスタのゲートに第1の出力が入力され、前記第
2のpチャンネルMOSトランジスタおよび前記第2の
nチャンネルMOSトランジスタのゲートに第2の出力
が入力されることを特徴とする請求項1記載の半導体集
積回路。
3. The waveform shaping means includes: a first p-channel MOS transistor and a second p-channel MOS transistor connected in series between a power supply and a third output;
A first n-channel MOS transistor and a second n-channel M connected between a third output and a reference potential;
An OS transistor, wherein the first p-channel M
OS transistor and the first n-channel MOS
2. The device according to claim 1, wherein a first output is input to a gate of the transistor, and a second output is input to gates of the second p-channel MOS transistor and the second n-channel MOS transistor. Semiconductor integrated circuit.
【請求項4】 第1の遅延素子の遅延量を上向きノイズ
除去のため最適の遅延量に調整し、第2の遅延素子の遅
延量を上向きノイズ除去のため最適の遅延量に調整した
ことを特徴とする請求項1記載の半導体集積回路。
4. The method according to claim 1, wherein the delay amount of the first delay element is adjusted to an optimal delay amount for removing upward noise, and the delay amount of the second delay element is adjusted to an optimal delay amount for removing upward noise. 2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein:
【請求項5】 第1の信号が外部入力端子より、バッフ
ァを介して与えられることを特徴とする請求項1記載の
半導体集積回路。
5. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the first signal is supplied from an external input terminal via a buffer.
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