JPH103045A - レーザ分岐装置及びレーザ光強度調整装置 - Google Patents

レーザ分岐装置及びレーザ光強度調整装置

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Publication number
JPH103045A
JPH103045A JP8175772A JP17577296A JPH103045A JP H103045 A JPH103045 A JP H103045A JP 8175772 A JP8175772 A JP 8175772A JP 17577296 A JP17577296 A JP 17577296A JP H103045 A JPH103045 A JP H103045A
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JP
Japan
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laser
plate
change
attenuating
transmittance
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JP8175772A
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English (en)
Inventor
Hiroyuki Okuyama
寛之 奥山
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Miyachi Technos Corp
Original Assignee
Miyachi Technos Corp
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 レーザモードを崩さずにレーザ光の強度を連
続的に可変調整できるレーザ光強度調整装置を提供す
る。 【解決手段】 第1の減衰板18は、ガラスまたは石英
等からなる基板18aの表面または背面に、YAGレー
ザ光に対する反射率Rおよび透過率Tが基板の長手方向
Xにおいて第1の変化率αで連続的に変化するように多
層膜の部分反射透過膜18bをコーティングしている。
第2の減衰板20は、第1の減衰板と同一の構成を有し
ており、第1の減衰板に対して180゜回転した姿勢で
配置されている。これにより、第2の減衰板の基板20
a上にコーティングされている部分反射透過膜20bの
透過率および反射率はX方向において第1の変化率αと
は極性が逆で絶対値が等しい第2の変化率−αで連続的
に変化する。レーザ光LBの光路が通る両減衰板の位置
は、減衰板位置調整機構によりそれぞれ任意に調整でき
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0010】
【発明の属する技術分野】本発明は、1本の原レーザ光
を複数のレーザ光に同時に分岐するレーザ分岐装置およ
びレーザ光の光強度を調整するレーザ光強度調整装置に
関する。
【0020】
【従来の技術】レーザ分岐装置は、レーザ発振器より出
力されたレーザ光を複数のレーザ光に分岐して異なるポ
ジションへ向けるもので、たとえばレーザ溶接のマルチ
・ポジション加工等で利用されている。
【0030】図6に、レーザ溶接のマルチ・ポジション
加工システムを示す。1台のレーザ装置本体100に複
数個たとえば4個の出射ユニット102A,102B,
102C,102Dがそれぞれ光ファイバ104A,1
04B,104C,104Dを介して接続される。レー
ザ装置本体100内では、レーザ発振器で発生したレー
ザ光がレーザ分岐装置によって4本のレーザ光に分岐さ
れ、それら4本の分岐レーザ光がそれぞれ入射ユニット
によって光ファイバ104A〜104Dの一端面に入射
される。各光ファイバ104A〜104Dを通って各出
射ユニット102A〜102Dまで伝送された各分岐レ
ーザ光は、そこで各被加工物Wへ向けて集光照射される
ようになっている。このようなマルチ・ポジション加工
方式によれば、1台のレーザ装置本体100で複数個
(この例では4個)の被加工物Wを同時に溶接加工でき
るため、生産効率を高めることができる。
【0040】図7に、上記したようなマルチ・ポジショ
ン加工システムにおいて同時4分岐を行うための従来の
レーザ分岐装置の要部の構成を示す。このレーザ分岐装
置はレーザ発振部(図示せず)より出力される原レーザ
光LB0 の光路上に4枚の分光ミラー106A,106
B,106C,106Dを一定角度たとえば45゜傾け
てこの順に配置してなるものである。
【0050】原レーザ光LB0 が最初に入射する第1の
分光ミラー106Aには、反射率が約25%、透過率が
約75%の部分反射透過ミラーが用いられる。次の第2
の分光ミラー106Bには、反射率が約33%、透過率
が約67%の部分反射透過ミラーが用いられる。第3の
分光ミラー106Bには、反射率が約50%、透過率が
約50%の部分反射透過ミラーが用いられる。最後の第
4の分光ミラー106Dには、反射率が約100%、透
過率が約0%の全反射ミラーが用いられる。
【0060】原レーザ光LB0 が第1の分光ミラー10
6Aに入射すると、そこで約25%分(約0.25LB
0 )が反射して、残りの約75%分(約0.75LB0
)は透過する。
【0070】第1の分光ミラー106Aからの透過光
(約0.75LB0 )が第2の分光ミラー106Bに入
射すると、そこで約33%分(約0.25LB0 )が反
射し、残りの約67%分(約0.50LB0 )は透過す
る。
【0080】第2の分光ミラー106Bからの透過光
(約0.50LB0 )が第3の分光ミラー106Cに入
射すると、そこで約50%分(約0.25LB0 )が反
射し、残りの約50%分(約0.25LB0 )は透過す
る。
【0090】第3の分光ミラー106Cからの透過光
(約0.25LB0 )は第4の分光ミラー106Dに入
射し、そこで全部反射する。
【0100】こうして、4枚の分光ミラー106A〜1
06Dより原レーザ光LB0 のレーザ出力をほぼ4等分
した4つの分岐レーザ光LBA 〜LBD が取り出され
る。
【0110】しかしながら、実際には部分反射透過ミラ
ーの反射率および透過率にばらつきがあること、および
斜め(45゜)入射ミラーの反射率/透過率特性は大き
な偏光依存性を示すこと等から、分光ミラー106A〜
106Dによって原レーザ光LB0 の強度を正確に等分
割することは難しく、どうしても分岐レーザ光LBA〜
LBD の出力にばらつきが生じる。上記したような同時
分岐によるマルチ・ポジション加工では、分岐レーザ光
LBA 〜LBD の強度が不揃いであると、被加工物Wの
加工品質にばらつきが出るという問題を生ずる。
【0120】そこで、図7において点線で示すように、
分光ミラー106A〜106Dからの分岐レーザ光LB
A 〜LBD の光路上に光エネルギー減衰手段110A〜
110Dを配置し、分岐レーザ光LBA 〜LBD の強度
をそれぞれ減衰手段110A〜110Dで減衰させて同
じ値に揃えるようにしている。
【0130】
【発明が解決しようとする課題】上記したような従来の
レーザ分岐装置における減衰手段110は、分岐レーザ
光LBA 〜LBD の強度を揃えるため、一定の減衰率
(ε)を有する単位減衰素子を1個または複数個重ねて
光路上に配置するか、あるいは異なる減衰率(ε1,ε2,
…εM )を有する複数個の減衰素子を選択的に組み合わ
せて光路上に配置するようなものであった。
【0140】しかしながら、これら従来方式のいずれも
減衰率を段階的にしか調整することができず、分岐レー
ザ光LBA 〜LBD の強度を正確に同じ値に揃えたり、
精細に調整するのが難しかった。また、あえて減衰率の
調整ピッチを細かくしようとすると、多数あるいは多種
の減衰素子を用意したり装置に組み込まなくてはなら
ず、装置の大型化や複雑化を招き、取り扱いが面倒であ
った。
【0150】本発明は、かかる問題点に鑑みてなされた
もので、小型かつ簡易な装置構成によりレーザモードを
崩さずに分岐レーザ光の強度を正確に同一値に揃えた
り、レーザモードを崩さずに個々の分岐レーザ光の強度
を正確に所望の値に調整することができるレーザ分岐装
置を提供することを目的とする。
【0160】さらに、本発明は、レーザモードを崩さず
にレーザ光の強度を連続的に可変調整できるレーザ光強
度調整装置を提供することを目的とする。
【0170】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明のレーザ分岐装置は、1つの原レーザ光か
ら複数の分岐レーザ光を生成するレーザ分岐装置におい
て、前記原レーザ光の光路上に配置され、入射したレー
ザ光を所定の反射率で所定の方向に反射せしめると同時
に所定の透過率で透過せしめる1個または複数個の分光
ミラーと、前記分光ミラーからの反射光または透過光の
光路上に配置され、前記原レーザ光の波長に対する透過
率が所定の方向において第1の変化率でほぼ連続的に変
化する第1の減衰板と、前記分光ミラーからの反射光ま
たは透過光の光路上に配置され、前記レーザ光の波長に
対する透過率が前記所定の方向において前記第1の変化
率と極性が逆で絶対値がほぼ等しい第2の変化率でほぼ
連続的に変化する第2の減衰板と、前記第1および第2
の減衰板に入射するレーザ光がそれぞれ所望の透過率で
透過するように前記第1および/または第2の減衰板の
位置を調整するための減衰板位置調整手段とを具備する
構成とした。
【0180】また、本発明のレーザ光強度調整装置は、
強度調整の対象となるレーザ光の光路上に配置され、前
記レーザ光の波長に対する透過率が所定の方向において
第1の変化率でほぼ連続的に変化する第1の減衰板と、
前記レーザ光の光路上に配置され、前記レーザ光の波長
に対する透過率が前記所定の方向において前記第1の変
化率と極性が逆で絶対値がほぼ等しい第2の変化率でほ
ぼ連続的に変化する第2の減衰板と、前記第1および第
2の減衰板に入射するレーザ光がそれぞれ所望の透過率
で透過するように前記第1および/または第2の減衰板
の位置を調整するための減衰板位置調整手段とを具備す
る構成とした。
【0190】
【発明の実施の形態】以下、図1〜図5を参照して本発
明の実施例を説明する。
【0200】図1は、本発明の一実施例によるレーザ分
岐装置の要部の構成を示す。このレーザ分岐装置は、た
とえば図6のマルチ・ポジション加工システムに適用可
能なものである。
【0210】図1において、YAGレーザ発振器10よ
り出力された原レーザ光LB0 は、一対の共振器ミラー
12(一方のみ図示)の間で反射を繰り返して共振増幅
されたのち共振器ミラー12より出射されるようになっ
ている。
【0220】本実施例によるレーザ分岐装置では、この
原YAGレーザ光LB0 の光路上に4枚の分光ミラー1
4A,14B,14C,14Dが同一の傾き角度(たと
えば45゜)で一定の間隔を置いてそれぞれ定位置に配
置されている。
【0230】これらの分光ミラー14A〜14Dは、従
来装置における分光ミラー106A〜106D(図7)
にそれぞれ相当するものでよい。したがって、原レーザ
光LB0 が最初に入射する第1の分光ミラー14Aに
は、反射率が約25%、透過率が約75%の部分反射透
過ミラーが用いられる。次の第2の分光ミラー14Bに
は、反射率が約33%、透過率が約67%の部分反射透
過ミラーが用いられる。第3の分光ミラー14Cには、
反射率が約50%、透過率が約50%の部分反射透過ミ
ラーが用いられる。最後の第4の分光ミラー14Dに
は、反射率が約100%、透過率が約0%の全反射ミラ
ーが用いられる。
【0240】このように、分光ミラー14A〜14D
は、各ミラー毎に一定の反射率および透過率を有してお
り、各々がミラー保持機構16に固定して取付されてい
る。
【0250】原レーザ光LB0 が第1の分光ミラー14
Aに入射すると、そこで約25%分(約0.25LB0
)が反射して、残りの約75%分(約0.75LB0
)は透過する。第1の分光ミラー14Aからの透過光
(約0.75LB0 )が第2の分光ミラー14Bに入射
すると、そこで約33%分(約0.25LB0 )が反射
して、残りの約67%分(約0.50LB0 )は透過す
る。第2の分光ミラー14Bからの透過光(約0.50
LB0 )が第3の分光ミラー14Cに入射すると、そこ
で約50%分(約0.25LB0 )が反射して、残りの
約50%分(約0.25LB0 )は透過する。第3の分
光ミラー14Cからの透過光(約0.25LB0 )は第
4の分光ミラー14Dに入射し、そこで全部反射する。
【0260】こうして原レーザ光LB0 の強度をほぼ4
等分した4つの分岐レーザ光LBA〜LBD が4枚の分
光ミラー14A〜14Dより取り出される。しかしなが
ら、従来装置における分光ミラー106A〜106D
(図7)と同様に、部分反射透過ミラーの反射率および
透過率のばらつきや斜め入射における反射率/透過率特
性の偏光依存性等により、分光ミラー14A〜14Dだ
けで原レーザ光LB0 の強度を正確に等分割することは
難しく、分岐レーザ光LBA 〜LBD の強度にはある程
度のばらつきがある。
【0270】本実施例のレーザ分岐装置では、後述する
ように、分岐レーザ光LBA,LBB,LBC,LBD の光路
上に、透過率を所定の方向において連続的に可変調整で
きる減衰板(18A,20A)、(18B,20B)、
(18C,20C)、(18D,20D)をそれぞれ配
置することにより、各々のレーザモードを崩さずに分岐
レーザ光LBA 〜LBD の強度を正確に一定値に揃える
ようにしている。
【0280】分光ミラー14A〜14Dからの分岐レー
ザ光LBA 〜LBD の光路上には、それぞれ第1の減衰
板18A〜18D、第2の減衰板20A〜20D、シャ
ッタ24A〜24Dおよび入射ユニット26A〜26D
が一列に配置されている。第1および第2の減衰板18
A〜18D、20A〜20Dの位置つまり透過率は、そ
れぞれ減衰板位置調整機構22A〜22Dで調整され
る。入射ユニット26A〜26Dの後端部には光ファイ
バ104A〜104Dが接続されている。
【0290】図2に、1組の第1および第2の減衰板
(18,20)の構成例を示す。各々の減衰板18,2
0は、原レーザ光(YAGレーザ光)LB0 に対する反
射率および透過率がX方向でほぼ連続的に変化する部分
反射透過板[18],[20]から構成されている。
【0300】第1の減衰板18を構成する部分反射透過
板[18]は、YAGレーザ光をほぼ100%透過する
材質たとえばガラスまたは石英等からなる基板[18
a]を有し、この基板[18a]の表面または背面にY
AGレーザ光に対する反射率および透過率(R,T)が
基板[18a]の長手方向と平行なX方向において第1
の変化率αでほぼ連続的に変化するように多層膜の部分
反射透過膜[18b]をコーティングしてなる。したが
って、部分反射透過膜[18b]の一端(左端)側で反
射率が最小値RMIN 、透過率が最大値TMAX となり、他
端(右端)側で反射率が最大値RMAX 、透過率が最小値
TMIN となる。
【0310】一方、第2の減衰板20における部分反射
透過板[20]は、上記部分反射透過板[18]と同一
の構成を有しており、部分反射透過板[18]に対して
180゜回転した姿勢で配置されている。これにより、
基板[20a]上にコーティングされている部分反射透
過膜[20b]の透過率および反射率はX方向において
上記第1の変化率αとは極性が逆で絶対値がほぼ等しい
第2の変化率−αでほぼ連続的に変化することになる。
したがって、部分反射透過膜[20b]の一端(左端)
側で反射率が最大値RMAX 、透過率が最小値TMIN とな
り、他端(右端)側で反射率が最小値RMIN 、透過率が
最大値TMAX となる。
【0320】本実施例のレーザ分岐装置では、たとえ
ば、(RMAX,TMIN)を約(30%,70%)に選び、
(RMIN,TMAX)を約(10%,90%)に選ぶ。これに
より、各組の第1および第2の減衰板(18,20)に
おいては、YAGレーザ光LBの光路が通る各減衰板の
位置(部分)をX方向で調節することで、透過光LBT
の強度の割合を約49%〜81%の範囲内でほぼ連続的
に可変調整できる。なお、各減衰板18,20における
光吸収率は非常に低いので、無視する。
【0330】また、本実施例のレーザ分岐装置では、X
方向において第1および第2の減衰板18,20の透過
率Tが連続的に変化する変化率α,−αが互いに逆極性
で絶対値がほぼ等しいため、YAGレーザ光LBが両減
衰板18,20を通過する前後でレーザビームのモード
が維持される。図3につき、この仕組みを説明する。
【0340】図3において、曲線[18]TはX方向に
おける第1の減衰板18の透過率Tの分布を示し、曲線
[20]TはX方向における第2の減衰板20の透過率
Tの分布を示す。両曲線[18]T,[20]Tの傾き
α,−αは第1および第2の減衰板18,20の透過率
Tの変化率α,−αに対応している。この例では、変化
率α,−αが線形的な値であり、両曲線[18]T,
[20]Tは直線で表される。なお、変化率α,−αが
曲線的な値でも可能である。
【0350】第1の減衰板18に入射する前のレーザ光
LBは、所定のビーム径Dとモードを有している。第1
の減衰板18における透過率TはX方向において変化率
αで連続的に変化しているため、レーザ光LBが第1の
減衰板18を通ると、透過レーザ光LBT1のモード、特
に横モードがX方向においていったん崩れる。
【0360】しかし、第2の減衰板20における透過率
TがX方向において連続的に変化率−αで変化している
ため、第1の減衰板18からのレーザ光LBT1が第2の
減衰板20を通ると、ここでX方向における透過レーザ
光LBT1の崩れが補償され、結果的に原レーザ光LBと
ほぼ等しいモードを有する透過レーザ光LBT2が第2の
減衰板20より得られる。
【0370】図4に、各組の第1および第2の減衰板
(たとえば18A,20A)の透過率(T)を可変調整
するための減衰板位置調整機構22の構成例を示す。こ
の調整機構22では、第1および第2の減衰板18A,
20Aをそれぞれ垂直に保持する一対の垂直支持板3
0,31が、互いに背中合わせの姿勢で、共通の水平支
持板32上で、各々独立的にX方向に摺動できるように
構成されている。垂直支持板30,31の下端部に一体
形成された水平フランジ部34,35にはX方向に延在
する長穴36,37が形成され、この長穴36,67を
通してボルト38,39が水平支持板32のねじ穴(図
示せず)にねじ込まれる。ボルト38,39を緩めるこ
とで、垂直保持板32および減衰板18A,20Aを手
動でX方向に精細に移動または変位させることができ
る。
【0380】各組の減衰板(18A,20A)〜(18
D〜20D)に入射する個々の分岐レーザ光LBA 〜L
BD の強度は、原レーザ光LB0 の強度の1/4(LB
0 /4)付近でばらついている。したがって、各減衰板
位置調整機構22において、上記のように減衰板(18
A,20A)〜(18D〜20D)の位置をX方向に変
位させて各々の透過率(T)を可変調整することで、各
々のモードを崩さずに4つの分岐レーザ光LBA 〜LB
D の強度を同一値に揃わせることができる。
【0390】なお、各分岐レーザ光LBA 〜LBD が各
減衰板(18A,20A)〜(18D〜20D)に垂直
に入射すると、各減衰板(18A,20A)〜(18D
〜20D)で反射したレーザ光LBR が入射レーザ光L
BA 〜LBD と同じ光路を逆方向に進行して原レーザ光
LBO に干渉するおそれがある。したがって、反射レー
ザ光LBR が入射レーザ光LBと重ならないように、各
減衰板位置調整機構22において各減衰板(18,2
0)を各分岐レーザ光LBA 〜LBD の光軸に対して少
し斜め(安全上好ましくは少し下向き)に傾ければよ
い。
【0400】このようにして、分岐レーザ光LBA 〜L
BD は、第1および第2の減衰板(18A,20A)〜
(18D〜20D)を通った段階でそれぞれの強度が正
確に等しくなり、それからシャッタ20A〜20Dを通
って入射ユニット22A〜22Dへ入射し、入射ユニッ
ト内で集光レンズにより集光されて光ファイバ104A
〜104Dの一端面に同時に入射する。
【0410】光ファイバ104A〜104Dの一端面に
同時に入射した分岐レーザ光LBA〜LBD は、光ファ
イバ104A〜104Dの中を通って出射ユニット10
2A〜102Dまで伝送され、出射ユニット102A〜
102Dよりそれぞれの被加工物Wへ向けて同時に集光
照射される。
【0420】なお、シャッタ20A〜20Dは必要に応
じて各分岐レーザ光LBA 〜LBDの伝送を選択的また
は独立的に制御し、時間差多分岐を可能とするものであ
る。各シャッタ20A〜20Dが開いている限りは、分
岐レーザ光LBA 〜LBD はそのまま素通りするように
なっており、ここで減衰することはない。
【0430】上記したように、本実施例のレーザ分岐装
置によれば、原レーザ光LBO を分光ミラー14A〜1
4Dで粗く4等分し、分光ミラー14A〜14Dからの
分岐レーザ光LBA 〜LBD を第1および第2の減衰板
(18A,20A)〜(18D〜20D)に通し、そこ
で分岐レーザ光LBA 〜LBD の強度を正確に同じ値に
揃えるようにしたので、図6のようなマルチ・ポジショ
ン加工において被加工物Wの加工品質を一定とし、レー
ザ加工の信頼性を向上させることができる。
【0440】また、本実施例のレーザ分岐装置では、各
減衰板(18A,20A)〜(18D〜20D)が反射
率および透過率(R,T)を連続的に可変調整可能な1
枚の部分反射透過板[18],[20]から構成され、
各減衰板位置調整機構22において各減衰板(18A,
20A)〜(18D〜20D)の位置を一定方向(X方
向)で変えるだけで各分岐レーザ光LBA 〜LBD の強
度を連続的に可変調整できるため、小型かつ簡易な装置
構成でレーザ光強度の可変調整を精細に行うことができ
る。
【0450】また、本実施例のレーザ分岐装置では、全
ての減衰板(18A,20A)〜(18D〜20D)に
同じ型番の部分反射透過板[18],[20]を用いる
ことができるため、在庫管理やメンテナンスコストの点
でも有利である。もっとも、第1および第2の部分反射
透過板[18],[20]における反射率および透過率
の範囲(RMAX,TMIN)〜(RMIN,TMAX)を異なる値とす
ることも可能である。
【0460】なお、第4の入射ユニット22Dを第3の
分光ミラー14Cの後方(透過側)に配置し、第3の分
光ミラー14Cからの透過光を第4の分岐レーザ光LB
D とすることで、第4の分光ミラー14Dを省くことも
可能である。
【0470】また、上記した実施例では同時4分岐を行
う場合について説明したが、同時3分岐等の他の同時多
分岐も可能である。また、上記した実施例では分岐レー
ザ光LBA 〜LBD の強度が等しくなるようにしたが、
任意の比率で異ならせることも可能であり、第1および
第2の減衰板(18A,20A)〜(18D〜20D)
において個々の分岐レーザ光LBA 〜LBD 毎に異なる
強度値に調整することも可能である。
【0480】本実施例における各組の第1および第2の
減衰板(18,20)の形状・構造は、図2に示すよう
なものに限定されるわけではない。たとえば、図5に示
すように、第1の減衰板18では円盤状の基板[18
a’]の表面または裏面にコーティングされた多層膜の
部分反射透過膜[18b’]の透過率(T)が基板[1
8a’]の円周方向(θ方向)において第1の変化率α
でほぼ連続的に変化し、第2の減衰板20では円盤状の
基板[20a’]の表面または裏面にコーティングされ
た多層膜の部分反射透過膜[20b’]の透過率(T)
が基板[20a’]の円周方向(θ方向)において第1
の変化率αと極性が逆で絶対値がほぼ等しい第2の変化
率−αでほぼ連続的に変化する構成としてもよい。この
場合は、適当な基板回転位置調整手段(図示せず)によ
って基板[18a’],[20a’]がθ方向に回転変
位できるように構成される。
【0490】また、上記した実施例では、第1および第
2の減衰板(18A,20A)〜(18D〜20D)を
レーザ光LBの光路上で入射ユニット26A〜26Dの
前に配置したが、出射ユニット102A〜102Dの出
射口付近(普通は集光レンズと保護ガラスとの間)に取
り付けることも可能である。その場合は、分岐レーザ光
LBA 〜LBD について、分光ミラー14A〜14Dに
おける分光で生じた光強度のばらつきだけでなく、光フ
ァィバ104A〜104Dにおける伝送で生じた光強度
のばらつきをも最終段で一括して補正することができ、
光強度が正確に揃った分岐レーザ光LBA 〜LBD をそ
れぞれの被加工物Wに同時照射することができる。
【0500】また、上記した実施例において第1および
第2の減衰板(18,20)は、入射したレーザ光を反
射することによって強度を減衰するような部分反射透過
板であった。しかし、入射レーザ光を吸収することによ
って強度を減衰するような部分吸収透過板であってもよ
い。すなわち、レーザ光の波長に対する透過率が所定の
方向で所定の変化率で変化するようなものであればよ
い。
【0510】また、本発明による第1および第2の減衰
板(18,20)は、上記したようなレーザ分岐装置に
限定されず、モードを崩すことなくレーザ光の強度を連
続的に可変調整できるレーザ光強度調整装置として任意
のレーザ装置に適用可能なものである。
【0520】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のレーザ分
岐装置によれば、原レーザ光を分光ミラーにより複数の
分岐レーザ光に分光し、各分岐レーザ光を原レーザ光の
波長に対する透過率が所定の方向において互いに極性が
逆で絶対値がほぼ等しい第1および第2の変化率でほぼ
連続的に変化する第1および第2の減衰板に順次通し、
第1および第2の減衰板に入射するレーザ光が所望の透
過率で透過するように第1および/または第2の減衰板
の位置を減衰板位置調整機構により調整するようにした
ので、各々のレーザモードを崩さずに全ての分岐レーザ
光の強度を正確に一致させ、あるいは個々の分岐レーザ
光毎にレーザモードを崩さずに強度を所望の値に調整す
ることが可能である。したがって、調整作業の改善およ
び加工品質の向上をはかることができる。
【0530】また、本発明のレーザ光強度調整装置によ
れば、強度調整の対象となるレーザ光をこのレーザ光の
波長に対する透過率が所定の方向において互いに極性が
逆で絶対値がほぼ等しい第1および第2の変化率でほぼ
連続的に変化する第1および第2の減衰板に順次通し、
第1および第2の減衰板に入射するレーザ光が所望の透
過率で透過するように第1および/または第2の減衰板
の位置を減衰板位置調整機構により調整するようにした
ので、レーザモードを崩さずに該レーザ光の強度を連続
的に可変調整することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例によるレーザ分岐装置の構成
を示す略平面図である。
【図2】実施例における各組の第1および第2の減衰板
の構成を示す斜視図である。
【図3】実施例における各組の第1および第2の減衰板
による作用を説明するための図である。
【図4】実施例において各組の第1および第2の減衰板
の反射率を可変調整するための減衰板位置調整機構の一
構成例を示す斜視図である。
【図5】実施例における各組の第1および第2の減衰板
の構成の一変形例を示す斜視図である。
【図6】レーザ溶接のマルチ・ポイント加工システムを
示す略斜視図である。
【図7】従来のレーザ分岐装置の一構成例を示す図であ
る。
【符号の説明】
10 レーザ発振器 14A〜14D 分光ミラー 18A〜18D 第1の減衰板 20A〜20D 第2の減衰板 [18],[18’],[20],[20’] 部分
反射透過板 [18a],[18a’],[20],[20’]
基板 [18b],[18b’],[20b],[20b’]
部分反射透過膜 22A〜22D 減衰板位置調整機構
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01S 3/00 H01S 3/00 B

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 1つの原レーザ光から複数の分岐レーザ
    光を生成するレーザ分岐装置において、 前記原レーザ光の光路上に配置され、入射したレーザ光
    を所定の反射率で所定の方向に反射せしめると同時に所
    定の透過率で透過せしめる1個または複数個の分光ミラ
    ーと、 前記分光ミラーからの反射光または透過光の光路上に配
    置され、前記原レーザ光の波長に対する透過率が所定の
    方向において第1の変化率でほぼ連続的に変化する第1
    の減衰板と、 前記分光ミラーからの反射光または透過光の光路上に配
    置され、前記レーザ光の波長に対する透過率が前記所定
    の方向において前記第1の変化率と極性が逆で絶対値が
    ほぼ等しい第2の変化率でほぼ連続的に変化する第2の
    減衰板と、 前記第1および第2の減衰板に入射するレーザ光がそれ
    ぞれ所望の透過率で透過するように前記第1および/ま
    たは第2の減衰板の位置を調整するための減衰板位置調
    整手段とを具備することを特徴とするレーザ分岐装置。
  2. 【請求項2】 光強度調整の対象となるレーザ光の光路
    上に配置され、前記レーザ光の波長に対する透過率が所
    定の方向において第1の変化率でほぼ連続的に変化する
    第1の減衰板と、 前記レーザ光の光路上に配置され、前記レーザ光の波長
    に対する透過率が前記所定の方向において前記第1の変
    化率と極性が逆で絶対値がほぼ等しい第2の変化率でほ
    ぼ連続的に変化する第2の減衰板と、 前記第1および第2の減衰板に入射するレーザ光がそれ
    ぞれ所望の透過率で透過するように前記第1および/ま
    たは第2の減衰板の位置を調整するための減衰板位置調
    整手段とを具備することを特徴とするレーザ光強度調整
    装置。
JP8175772A 1996-06-14 1996-06-14 レーザ分岐装置及びレーザ光強度調整装置 Pending JPH103045A (ja)

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007061825A (ja) * 2005-08-29 2007-03-15 Seiko Epson Corp レーザ照射装置、レーザスクライブ方法
US7230964B2 (en) * 2001-04-09 2007-06-12 Cymer, Inc. Lithography laser with beam delivery and beam pointing control
JP2007190560A (ja) * 2006-01-17 2007-08-02 Miyachi Technos Corp レーザ加工装置
JP2009131885A (ja) * 2007-11-30 2009-06-18 Sunx Ltd レーザ加工システム
JP2016175813A (ja) * 2015-03-20 2016-10-06 アウレアワークス株式会社 レーザ光分割装置を有する単結晶育成装置
CN113853447A (zh) * 2019-06-20 2021-12-28 Lg电子株式会社 沉积装置系统

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