JPH103086A - 透明電極基板とそれを用いた液晶パネル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 低抵抗でかつ高透過率を有した透明電極基板
とそれを用いた液晶パネルを得る。 【解決手段】 ガラス基板１１上に金属薄膜１２を形成
し、その表面に透明薄膜１３を積層する。あるいは、ガ
ラス基板上に第１の透明薄膜を積層し、その表面に金属
薄膜を形成し、さらにその表面に第２の透明薄膜を積層
して透明電極基板を得る。また、ガラス基板１１の代わ
りにカラーフィルター基板を用いることでカラーフィル
ター付き透明電極基板を得る。さらに、透明電極基板な
らびにカラーフィルター付き透明電極基板を液晶層を挟
み込んで重ね合わせて液晶パネルを得る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、透明電極基板と
それを用いた液晶パネルに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来例を図９ないし図１１に示す。図９
は透明電極基板１００の断面図、図１０はカラーフィル
ター付き透明電極基板１１０の断面図、図１１は透明電
極基板１００ならびにカラーフィルター付き透明電極基
板１１０を用いたＳＴＮ液晶パネル１２０の断面図を示
している。

【０００３】図９において、液晶パネル用の透明電極基
板１００は、主として、ＤＣマグネトロンスイパッタリ
ング法を用いてＩＴＯ（インジウムおよび錫の酸化物）
膜１０２をガラス基板１０１上に着膜するという方法で
生産されている。また、図１０において、カラーフィル
ター付き透明電極基板１１０は、主として、ＤＣマグネ
トロンスイパッタリング法を用いてＩＴＯ膜１１２をカ
ラーフィルター基板１１１上に着膜するという方法で生
産されている。カラーフィルター基板１１１は、ガラス
基板１１３上にカラーフィルター（緑）層１１４，カラ
ーフィルター（赤）層１１５，カラーフィルター（青）
層１１６，カラーフィルター（黒）層１１７ならびにオ
ーバーコート層１１８を形成してなる。

【０００４】さらに、図１１において、ＳＴＮ液晶パネ
ル１２０は、透明電極基板１００とカラーフィルター付
き透明電極基板１１０を液晶層１２１を介して重ね合わ
せてなり、１２２はシール樹脂である。現行のＤＣマグ
ネトロンスパッタリング法でＩＴＯ膜１０２，１１２を
形成する場合、シート抵抗値は膜厚３５００Åで７Ω程
度が限界と言われている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】現在の液晶パネルは、
近年のノートパソコンの普及と共に、大型化，高精細
化，高速化等の更なる高表示品位への要求が強まってい
る。特に不均一クロストークや、表示エリア内の輝度勾
配により表示品位が劣化しやすいＳＴＮ液晶パネルで、
これらの高表示品位を実現するためには、透明電極の更
なる低抵抗化が絶対条件である。一般にＳＴＮ液晶パネ
ルに要求されるシート抵抗値としては、１０．４インチ
ＶＧＡパネルで７Ω以下、ＳＶＧＡパネルで５Ω以下と
いわれている。

【０００６】これらの低抵抗化に対応する手段として、
主に図１２に示すようなＩＴＯ膜１３０を厚膜化する方
法と、図１３に示すようなＩＴＯ膜にかわる金属薄膜１
３１を着膜する方法が提案されている。しかし、図１２
に示すように、ＩＴＯ膜１３０の厚膜化を行った場合に
は、液晶パネル組立工程におけるエッチング時のＩＴＯ
パターンニング安定性の問題、ラビング時のラビング筋
の発生やラビング布の劣化の問題、その他ＩＴＯ膜１３
０の信頼性の問題等が有る。これらの問題に対して現在
検討が進められているが、ＩＴＯ膜１３０の膜厚として
は４０００Å程度が限界であろうと言われている。

【０００７】一方、図１３に示すようにＩＴＯ膜に変わ
って金属薄膜１３１を用いた場合には、数１００Åの薄
膜で数オームの低シート抵抗が得られるものの、金属薄
膜１３１は光の反射率が高く、そのために透明電極基板
の透過率が低下するという問題がある。例えば、清浄な
ガラス基板１０１上に、ＤＣマグネトロンスパッタリン
グ装置を用いて銀薄膜１３１を形成する。この時、スパ
ッタリングパワーを変化させて種々の膜厚の銀薄膜１３
１のサンプルＡ，Ｂ，Ｃを作成し、これらの銀薄膜１３
１のサンプルのそれぞれについてシート抵抗値と透過率
を測定した。その結果を表１に示す。

【０００８】

【表１】 サンプルＡは銀薄膜１３１の膜厚が１００Åの場合、サ
ンプルＢは銀薄膜１３１の膜厚が１５０Åの場合、サン
プルＣは銀薄膜１３１の膜厚が２００Åの場合のシート
抵抗ならびに透過率を示している。表１の結果から、各
サンプルＡ，Ｂ，Ｃにおいて、透過率が低いことがわか
る。

【０００９】したがって、この発明の目的は、低抵抗で
かつ高透過率を有した透明電極基板とそれを用いた液晶
パネルを提供することである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の透明電極
基板は、ガラス基板と、このガラス基板上に形成した金
属薄膜と、この金属薄膜上に積層した透明薄膜とを備え
たものである。請求項２記載の透明電極基板は、請求項
１において、透明薄膜が、有機膜または酸化珪素膜であ
ることを特徴とするものである。

【００１１】請求項１または請求項２記載の透明電極基
板によると、ガラス基板上に金属薄膜を形成したので、
低シート抵抗化が図れ、かつ金属薄膜上に透明薄膜を積
層したので、金属薄膜の表面における反射光と、透明薄
膜の表面における反射光が干渉し、金属薄膜の表面から
の反射光が緩和される。請求項３記載の透明電極基板
は、ガラス基板と、このガラス基板上に積層した第１の
透明薄膜と、この第１の透明薄膜上に形成した金属薄膜
と、この金属薄膜上に積層した第２の透明薄膜とを備え
たものである。

【００１２】請求項４記載の透明電極基板は、請求項３
において、第１，第２の透明薄膜が、有機膜または酸化
珪素膜であることを特徴とするものである。請求項３ま
たは請求項４記載の透明電極基板によると、第１の透明
薄膜上に金属薄膜を形成したので、低シート抵抗化が図
れる。また、第１の透明薄膜上に金属薄膜を形成したの
で、金属薄膜の表面における反射光と、第１の透明薄膜
の表面における反射光が干渉し、かつ金属薄膜上に第２
の透明薄膜を積層したので、金属薄膜の表面における反
射光と、第２の透明薄膜の表面における反射光が干渉
し、金属薄膜の表面からの反射光がより一層緩和され
る。

【００１３】請求項５記載の透明電極基板は、請求項１
または請求項２または請求項３または請求項４におい
て、金属薄膜の膜厚が１００Å以上２００Å以下であ
り、透明薄膜の膜厚が７００Å以上１１００Å以下であ
ることを特徴とするものである。請求項５記載の透明電
極基板によると、請求項１または請求項２または請求項
３または請求項４の作用に加え、金属薄膜の膜厚を１０
０Å以上２００Å以下、透明薄膜の膜厚を７００Å以上
１１００Å以下とすることで、低シート抵抗で高透過率
を確保できる。

【００１４】請求項６記載の液晶パネルは、一対の基板
間に液晶層を挟み込んでなる液晶パネルにおいて、少な
くとも一方の基板に請求項１または請求項２または請求
項３または請求項４または請求項５記載の透明電極基板
を用いたことを特徴とするものである。請求項６記載の
液晶パネルによると、低シート抵抗で高い透過率を有し
た透明電極基板を用いることで、低抵抗で高透過率の液
晶パネルを得ることができる。

【００１５】請求項７記載のカラーフィルター付き透明
電極基板は、カラーフィルター基板と、このカラーフィ
ルター基板上に形成した金属薄膜と、この金属薄膜上に
積層した透明薄膜とを備えたものである。請求項８記載
のカラーフィルター付き透明電極基板は、請求項７にお
いて、透明薄膜が、有機膜または酸化珪素膜であること
を特徴とするものである。

【００１６】請求項７または請求項８記載のカラーフィ
ルター付き透明電極基板によると、カラーフィルター基
板上に金属薄膜を形成したので、低シート抵抗化が図
れ、かつ金属薄膜上に透明薄膜を積層したので、金属薄
膜の表面における反射光と、透明薄膜の表面における反
射光が干渉し、金属薄膜の表面からの反射光が緩和され
る。

【００１７】請求項９記載のカラーフィルター付き透明
電極基板は、カラーフィルター基板と、このカラーフィ
ルター基板上に積層した第１の透明薄膜と、この第１の
透明薄膜上に形成した金属薄膜と、この金属薄膜上に積
層した第２の透明薄膜とを備えたものである。請求項１
０記載のカラーフィルター付き透明電極基板は、請求項
９において、第１，第２の透明薄膜が、有機膜または酸
化珪素膜であることを特徴とするものである。

【００１８】請求項９または請求項１０記載のカラーフ
ィルター付き透明電極基板によると、第１の透明薄膜上
に金属薄膜を形成したので、低シート抵抗化が図れる。
また、第１の透明薄膜上に金属薄膜を形成したので、金
属薄膜の表面における反射光と、第１の透明薄膜の表面
における反射光が干渉し、かつ金属薄膜上に第２の透明
薄膜を積層したので、金属薄膜の表面における反射光
と、第２の透明薄膜の表面における反射光が干渉し、金
属薄膜の表面からの反射光がより一層緩和される。

【００１９】請求項１１記載のカラーフィルター付き透
明電極基板は、請求項７または請求項８または請求項９
または請求項１０において、金属薄膜の膜厚が１００Å
以上２００Å以下であり、透明薄膜の膜厚が７００Å以
上１１００Å以下であることを特徴とするものである。
請求項１１記載のカラーフィルター付き透明電極基板に
よると、請求項７または請求項８または請求項９または
請求項１０の作用に加え、金属薄膜の膜厚を１００Å以
上２００Å以下、透明薄膜の膜厚を７００Å以上１１０
０Å以下とすることで、低シート抵抗で高透過率を確保
できる。

【００２０】請求項１２記載の液晶パネルは、一対の基
板間に液晶層を挟み込んでなる液晶パネルにおいて、少
なくとも一方の基板に請求項７または請求項８または請
求項９または請求項１０または請求項１１記載のカラー
フィルター付き透明電極基板を用いたことを特徴とする
ものである。請求項１２記載の液晶パネルによると、低
シート抵抗で高い透過率を有したカラーフィルター付き
透明電極基板を用いることで、低抵抗で高透過率の液晶
パネルを得ることができる。

【００２１】

【発明の実施の形態】 第１の実施の形態 この発明の第１の実施の形態の透明電極基板１０の断面
図を図１に示す。図１において、１１はガラス基板、１
２はガラス基板１１上にＤＣマグネトロンスパッタリン
グ装置を用いて形成した金属薄膜となる銀薄膜、１３は
銀薄膜１２上にスピンコータを用いて塗布した透明薄膜
となるアクリル系有機膜であり、紫外線照射と熱硬化を
行って銀薄膜１２とアクリル系有機膜１３の積層構造と
した。

【００２２】アクリル系有機膜１３について、スピンコ
ーター条件を変化させることによって数種類の膜厚のも
のを作成した。これらの銀薄膜１２とアクリル系有機膜
１３を積層したサンプルＤ，Ｅ，Ｆ，Ｇ，Ｈ，Ｉ，Ｊ，
について、シート抵抗値と透過率を測定した。その結果
を表２ならびに表３に示す。

【００２３】

【表２】

【００２４】

【表３】 表２は、１００Å厚の銀薄膜１２を形成したサンプル
Ｄ，Ｅ，Ｆに関するものであって、サンプルＤは膜厚６
００Åのアクリル系有機膜１３を積層した場合、サンプ
ルＥは同膜厚を８５０Åとした場合、サンプルＦは同膜
厚を１１００Åとした場合のシート抵抗ならびに透過率
を示している。

【００２５】また、表３は、１５０Å厚の銀薄膜１２を
形成したサンプルＧ，Ｈ，Ｉならびに２００Å厚の銀薄
膜１２を形成したサンプルＪに関するものであって、サ
ンプルＧは膜厚６００Åのアクリル系有機膜１３を積層
した場合、サンプルＨは同膜厚を８５０Åとした場合、
サンプルＩは同膜厚を１１００Åとした場合、サンプル
Ｊは同膜厚を８５０Åとした場合のシート抵抗ならびに
透過率を示している。

【００２６】表２ならびに表３に示す結果より、銀薄膜
１２の膜厚にかかわらずアクリル系有機膜１３の膜厚は
８５０Å程度の場合が最も透過率が高くなることがわか
った。これは今回用いたアクリル系有機膜１３の屈折率
が１．６であり、アクリル系有機膜１３の表面における
反射光１４が、干渉効果によって銀薄膜１２の表面から
の反射光１５を緩和したためと考えられる。

【００２７】このように構成された透明電極基板１０に
よると、銀薄膜１２上にアクリル系有機膜１３を積層す
ることで、光の干渉効果により、銀薄膜１２による光の
反射を低減させることができ、高い透過率を維持するこ
とができる。したがって、金属薄膜である銀薄膜１２を
用いて低シート抵抗を得ながら、高透過率を達成でき
る。

【００２８】なお、透明薄膜はアクリル系有機膜１３に
限るものではなく、エポキシ等の有機膜や酸化珪素膜等
の無機膜でもよく、それぞれの屈折率に応じた膜厚で形
成すれば同様の効果が得られる。また、金属薄膜につい
ても、銀薄膜１２に限るものではなく、金，銅，アルミ
ニウム等の金属薄膜でもよい。 第２の実施の形態 この発明の第２の実施の形態の透明電極基板２０の断面
図を図２に示す。

【００２９】図２において、２１はガラス基板、２２は
ガラス基板２１上にスピンコータを用いて塗布した第１
の透明薄膜となる第１のアクリル系有機膜、２３は第１
のアクリル系有機膜２２上にＤＣマグネトロンスパッタ
リング装置を用いて形成した金属薄膜となる銀薄膜、２
４は銀薄膜２３上にスピンコータを用いて塗布した第２
の透明薄膜となる第２のアクリル系有機膜であり、紫外
線照射と熱硬化を行って、第１のアクリル系有機膜２２
と銀薄膜２３と第２のアクリル系有機膜２４の積層構造
とした。

【００３０】第１，第２のアクリル系有機膜２２，２４
について、スピンコーター条件を変化させることによっ
て数種類の膜厚のものを作成した。これらの第１のアク
リル系有機膜２２と銀薄膜２３と第２のアクリル系有機
膜２４を積層したサンプルＫ，Ｌ，Ｍについて、シート
抵抗値と透過率を測定した。その結果を表４に示す。

【００３１】

【表４】 表４は、１５０Å厚の銀薄膜２３を形成したサンプル
Ｋ，Ｌ，Ｍに関するものであって、サンプルＫは膜厚６
００Åの第１，第２のアクリル系有機膜２２，２４を積
層した場合、サンプルＬは同膜厚を８５０Åとした場
合、サンプルＭは同膜厚を１１００Åとした場合のシー
ト抵抗ならびに透過率を示している。

【００３２】表４の結果より、第２のアクリル系有機膜
２４の表面における反射光２５が、銀薄膜２３の表面か
らの反射光２６と干渉し、かつ第１のアクリル系有機膜
２２とガラス基板２１の界面における反射光２７が、銀
薄膜２３の表面からの反射光２６と干渉して高い透過率
を維持できる。このように構成された透明電極基板２０
によると、第１のアクリル系有機膜２２上に銀薄膜２３
を形成し、かつ銀薄膜２３上に第２のアクリル系有機膜
２４を積層することで、光の干渉効果により、銀薄膜２
３による光の反射を低減させることができ、高い透過率
を維持することができる。したがって、金属薄膜である
銀薄膜２３を用いて低シート抵抗を得ながら、高透過率
を達成できる。

【００３３】なお、透明薄膜はアクリル系有機膜２２，
２４に限るものではなく、エポキシ等の有機膜や酸化珪
素膜等の無機膜でもよく、それぞれの屈折率に応じた膜
厚で形成すれば同様の効果が得られる。例えば、第１，
第２の透明薄膜が共に酸化珪素膜からなるものや、第１
の透明薄膜が酸化珪素膜で第２の透明薄膜がアクリル系
有機膜からなるものや、あるいは第１の透明薄膜がアク
リル系有機膜で第２の透明薄膜が酸化珪素膜からなるも
のでもよい。また、金属薄膜についても、銀薄膜２３に
限るものではなく、金，銅，アルミニウム等の金属薄膜
でもよい。

【００３４】第３の実施の形態 この発明の第３の実施の形態の液晶パネルについて、図
３ないし図５を用いて説明する。図３は、ガラス基板２
１上に第１のアクリル系有機膜２２，銀薄膜２３，第２
のアクリル系有機膜２４を順次積層してなる透明電極基
板４１を示しており、セグメント電極基板となるように
銀薄膜２３をエッチングしてある。また、図４は、ガラ
ス基板２１上に第１のアクリル系有機膜２２，銀薄膜２
３，第２のアクリル系有機膜２４を順次積層してなる透
明電極基板４２を示しており、コモン電極基板となる。

【００３５】図５は、図３および図４に示した透明電極
基板４１，４２を用いて形成した液晶パネルの断面図を
示している。なお、各透明電極基板４１，４２の第１の
アクリル系有機膜２２，銀薄膜２３，第２のアクリル系
有機膜２４の膜厚は、表４に示したサンプルＬと同じ構
成とする。そして、両透明電極基板４１，４２間に液晶
層４３を挟み込み、周囲にシール樹脂４４を接着して液
晶パネル４０が構成されている。

【００３６】このように構成された液晶パネル４０によ
ると、低シート抵抗で高い透過率を有した透明電極基板
４１，４２を用いるので、低抵抗で高透過率を維持でき
る。よって、不均一クロストークと輝度勾配の少ない、
良好な表示のＳＴＮ液晶パネルが得られる。 第４の実施の形態 この発明の第４の実施の形態のカラーフィルター付き透
明電極基板５０の断面図を図６に示す。

【００３７】図６において、５１はガラス基板であり、
ガラス基板５１上にカラーフィルター（緑）層５２，カ
ラーフィルター（赤）層５３，カラーフィルター（青）
層５４，カラーフィルター（黒）層５５が形成されてい
る。また、５６はガラス基板５１上にＤＣマグネトロン
スパッタリング装置を用いて形成した金属薄膜となる銀
薄膜、５７は銀薄膜５６上にスピンコータを用いて塗布
した透明薄膜となるアクリル系有機膜であり、紫外線照
射と熱硬化を行って銀薄膜５６とアクリル系有機膜５７
の積層構造とした。

【００３８】このように構成されたカラーフィルター付
き透明電極基板５０によると、銀薄膜５６上にアクリル
系有機膜５７を積層することで、光の干渉効果により、
銀薄膜５６による光の反射を低減させることができ、高
い透過率を維持することができる。したがって、金属薄
膜である銀薄膜５６を用いて低シート抵抗を得ながら、
高透過率を達成できる。

【００３９】第５の実施の形態 この発明の第５の実施の形態のカラーフィルター付き透
明電極基板６０の断面図を図７に示す。図７において、
６１はガラス基板であり、ガラス基板６１上にカラーフ
ィルター（緑）層６２，カラーフィルター（赤）層６
３，カラーフィルター（青）層６４，カラーフィルター
（黒）層６５が形成されている。また、６６はガラス基
板６１上にスピンコータを用いて塗布した第１の透明薄
膜となる第１のアクリル系有機膜、６７は第１のアクリ
ル系有機膜６６上にＤＣマグネトロンスパッタリング装
置を用いて形成した金属薄膜となる銀薄膜、６８は銀薄
膜６７上にスピンコータを用いて塗布した第２の透明薄
膜となる第２のアクリル系有機膜であり、紫外線照射と
熱硬化を行って、第１のアクリル系有機膜６６と銀薄膜
６７と第２のアクリル系有機膜６８の積層構造とした。

【００４０】このように構成されたカラーフィルター付
き透明電極基板６０によると、第１のアクリル系有機膜
６６上に銀薄膜６７を形成し、かつ銀薄膜６７上に第２
のアクリル系有機膜６８を積層することで、光の干渉効
果により、銀薄膜６７による光の反射を低減させること
ができ、高い透過率を維持することができる。したがっ
て、金属薄膜である銀薄膜６７を用いて低シート抵抗を
得ながら、高透過率を達成できる。

【００４１】第６の実施の形態 この発明の第６の実施の形態のカラー液晶パネル７０の
断面図を図８に示す。図８において、７１はセグメント
電極基板となるように銀薄膜６７をエッチングしたカラ
ーフィルター付き透明電極基板であり、７２はコモン電
極基板となる透明電極基板である。なお、カラーフィル
ター付き透明電極基板７１ならびに透明電極基板７２の
第１のアクリル系有機膜６６，２２、銀薄膜６７，２
３、第２のアクリル系有機膜６８，２４の各膜厚は、表
４に示したサンプルＬと同じ構成とする。そして、カラ
ーフィルター付き透明電極基板７１と透明電極基板７２
間に液晶層７３を挟み込み、周囲にシール樹脂７４を接
着してカラー液晶パネル７０が構成されている。

【００４２】このように構成さたカラー液晶パネル７０
によると、低シート抵抗で高い透過率を有したカラーフ
ィルター付き透明電極基板７１ならびに透明電極基板７
２を用いるので、低抵抗で高透過率を維持できる。よっ
て、不均一クロストークと輝度勾配の少ない、良好な表
示のＳＴＮ液晶パネルが得られる。

【００４３】

【発明の効果】請求項１または請求項２記載の透明電極
基板によると、ガラス基板上に金属薄膜を形成したの
で、低シート抵抗化が図れ、かつ金属薄膜上に透明薄膜
を積層したので、金属薄膜の表面における反射光と、透
明薄膜の表面における反射光が干渉し、金属薄膜の表面
からの反射光が緩和され、高透過率を維持できる。

【００４４】請求項３または請求項４記載の透明電極基
板によると、第１の透明薄膜上に金属薄膜を形成したの
で、低シート抵抗化が図れる。また、第１の透明薄膜上
に金属薄膜を形成したので、金属薄膜の表面における反
射光と、第１の透明薄膜の表面における反射光が干渉
し、かつ金属薄膜上に第２の透明薄膜を積層したので、
金属薄膜の表面における反射光と、第２の透明薄膜の表
面における反射光が干渉し、金属薄膜の表面からの反射
光がより一層緩和され、高透過率を維持できる。

【００４５】請求項５記載の透明電極基板によると、請
求項１または請求項２または請求項３または請求項４の
作用に加え、金属薄膜の膜厚を１００Å以上２００Å以
下、透明薄膜の膜厚を７００Å以上１１００Å以下とす
ることで、低シート抵抗で高透過率を確保できる。請求
項６記載の液晶パネルによると、低シート抵抗で高い透
過率を有した透明電極基板を用いることで、低抵抗で高
透過率の液晶パネルを得ることができる。

【００４６】請求項７または請求項８記載のカラーフィ
ルター付き透明電極基板によると、カラーフィルター基
板上に金属薄膜を形成したので、低シート抵抗化が図
れ、かつ金属薄膜上に透明薄膜を積層したので、金属薄
膜の表面における反射光と、透明薄膜の表面における反
射光が干渉し、金属薄膜の表面からの反射光が緩和さ
れ、高透過率を維持できる。

【００４７】請求項９または請求項１０記載のカラーフ
ィルター付き透明電極基板によると、第１の透明薄膜上
に金属薄膜を形成したので、低シート抵抗化が図れる。
また、第１の透明薄膜上に金属薄膜を形成したので、金
属薄膜の表面における反射光と、第１の透明薄膜の表面
における反射光が干渉し、かつ金属薄膜上に第２の透明
薄膜を積層したので、金属薄膜の表面における反射光
と、第２の透明薄膜の表面における反射光が干渉し、金
属薄膜の表面からの反射光がより一層緩和され、高透過
率を維持できる。

【００４８】請求項１１記載のカラーフィルター付き透
明電極基板によると、請求項７または請求項８または請
求項９または請求項１０の作用に加え、金属薄膜の膜厚
を１００Å以上２００Å以下、透明薄膜の膜厚を７００
Å以上１１００Å以下とすることで、低シート抵抗で高
透過率を確保できる。請求項１２記載の液晶パネルによ
ると、低シート抵抗で高い透過率を有したカラーフィル
ター付き透明電極基板を用いることで、低抵抗で高透過
率の液晶パネルを得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の第１の実施の形態における透明電極
基板の断面図である。

【図２】この発明の第２の実施の形態における透明電極
基板の断面図である。

【図３】この発明の第３の実施の形態における透明電極
基板の断面図である。

【図４】この発明の第３の実施の形態における透明電極
基板の断面図である。

【図５】この発明の第３の実施の形態における液晶パネ
ルの断面図である。

【図６】この発明の第４の実施の形態におけるカラーフ
ィルター付き透明電極基板の断面図である。

【図７】この発明の第５の実施の形態におけるカラーフ
ィルター付き透明電極基板の断面図である。

【図８】この発明の第６の実施の形態における液晶パネ
ルの断面図である。

【図９】従来例の透明電極基板の断面図である。

【図１０】従来例のカラーフィルター付き透明電極基板
の断面図である。

【図１１】従来例の液晶パネルの断面図である。

【図１２】厚膜のＩＯＴ膜を形成した透明電極基板の断
面図である。

【図１３】金属薄膜を形成した透明電極基板の断面図で
ある。

【符号の説明】

１０，２０，４１，４２，７２ 透明電極基板 １１，２１，５１，６１ ガラス基板 １２，２３，５６，６７ 銀薄膜（金属薄膜） １３，５７ アクリル系有機膜（透明薄膜） ２２，６６ 第１のアクリル系有機膜（第１の透明薄
膜） ２４，６８ 第２のアクリル系有機膜（第２の透明薄
膜） ４０，７０ 液晶パネル ５０，６０，７１ カラーフィルター付き透明電極基板 ５２，６２ カラーフィルター（緑）層 ５３，６３ カラーフィルター（赤）層 ５４，６４ カラーフィルター（青）層 ５５，６５ カラーフィルター（黒）層

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ガラス基板と、このガラス基板上に形成
   した金属薄膜と、この金属薄膜上に積層した透明薄膜と
   を備えた透明電極基板。
2. 【請求項２】 透明薄膜が、有機膜または酸化珪素膜で
   あることを特徴とする請求項１記載の透明電極基板。
3. 【請求項３】 ガラス基板と、このガラス基板上に積層
   した第１の透明薄膜と、この第１の透明薄膜上に形成し
   た金属薄膜と、この金属薄膜上に積層した第２の透明薄
   膜とを備えた透明電極基板。
4. 【請求項４】 第１，第２の透明薄膜が、有機膜または
   酸化珪素膜であることを特徴とする請求項３記載の透明
   電極基板。
5. 【請求項５】 金属薄膜の膜厚が１００Å以上２００Å
   以下であり、透明薄膜の膜厚が７００Å以上１１００Å
   以下であることを特徴とする請求項１または請求項２ま
   たは請求項３または請求項４記載の透明電極基板。
6. 【請求項６】 一対の基板間に液晶層を挟み込んでなる
   液晶パネルであって、少なくとも一方の基板に請求項１
   または請求項２または請求項３または請求項４または請
   求項５記載の透明電極基板を用いたことを特徴とする液
   晶パネル。
7. 【請求項７】 カラーフィルター基板と、このカラーフ
   ィルター基板上に形成した金属薄膜と、この金属薄膜上
   に積層した透明薄膜とを備えたカラーフィルター付き透
   明電極基板。
8. 【請求項８】 透明薄膜が、有機膜または酸化珪素膜で
   あることを特徴とする請求項７記載のカラーフィルター
   付き透明電極基板。
9. 【請求項９】 カラーフィルター基板と、このカラーフ
   ィルター基板上に積層した第１の透明薄膜と、この第１
   の透明薄膜上に形成した金属薄膜と、この金属薄膜上に
   積層した第２の透明薄膜とを備えたカラーフィルター付
   き透明電極基板。
10. 【請求項１０】 第１，第２の透明薄膜が、有機膜また
    は酸化珪素膜であることを特徴とする請求項９記載のカ
    ラーフィルター付き透明電極基板。
11. 【請求項１１】 金属薄膜の膜厚が１００Å以上２００
    Å以下であり、透明薄膜の膜厚が７００Å以上１１００
    Å以下であることを特徴とする請求項７または請求項８
    または請求項９または請求項１０記載のカラーフィルタ
    ー付き透明電極基板。
12. 【請求項１２】 一対の基板間に液晶層を挟み込んでな
    る液晶パネルであって、少なくとも一方の基板に請求項
    ７または請求項８または請求項９または請求項１０また
    は請求項１１記載のカラーフィルター付き透明電極基板
    を用いたことを特徴とする液晶パネル。