JPH10309071A - リニアモータ及びこれを有するステージ装置や露光装置 - Google Patents
リニアモータ及びこれを有するステージ装置や露光装置Info
- Publication number
- JPH10309071A JPH10309071A JP9195600A JP19560097A JPH10309071A JP H10309071 A JPH10309071 A JP H10309071A JP 9195600 A JP9195600 A JP 9195600A JP 19560097 A JP19560097 A JP 19560097A JP H10309071 A JPH10309071 A JP H10309071A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- jacket
- coil
- linear motor
- reinforcing member
- sheets
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Linear Motors (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
ータを小型化および高出力化し且つ冷却能力を向上させ
る。 【解決手段】 リニアモータのコイル1を冷却する冷媒
の圧力によりジャケットの肉薄部分4、4′が外方向へ
変形しないよう、ジャケット内部に補強部材8を設け
る。
Description
光装置や高精度加工機など精密な位置決めを行うための
装置などに好適に使用されるリニアモータに関するもの
である。
用されるナノメートルオーダーの位置決め装置では、駆
動源であるリニアモータからの発熱が位置決めに悪影響
を及ぼす。発熱による構造体の熱変形あるいは空気温度
の上昇による位置計測のレーザ干渉計の計測誤差などの
要因によって、リニアモータの搭載された装置の位置決
め精度が悪化する。例えば、1℃の温度変化であっても
100mmの低熱膨張材(熱膨張係数1×10-6)は1
00nmだけ変形するし、また、光干渉式測長計の光路
における空気温度の変化が1℃以下であっても測定値に
100nmの誤差が生じ得る。従って、これらの温度変
化の防止策としてリニアモータの冷却、特にリニアモー
タから発生する熱の回収が必要となっている。
タの高出力化が要求されており、そのためにコイルに流
れる電流を増やすと発熱量も大きく増大する。よってさ
らなる冷却能力の増強が必要とされる。また、コイル温
度の上昇によるコイル抵抗の増加やコイル線の破損を防
ぐためにも、コイルの冷却能力を高めることは重要であ
る。
例は、例えば特開平7−302124号、特開平7−3
02747号、特開平8−167554号に記載されて
いる。
ータの構成を示す図である。同図において、コイル1と
その両側のヨーク2に固定された永久磁石3により構成
され、コイル1は肉薄のシート4、4′およびフレーム
5で構成されたジャケット8で覆われている。コイル1
は固定具7によってフレーム5に固定されている。ここ
でジャケット8の内部空間6に冷媒を流すことにより、
コイルからの発生熱を回収している。
例では、冷却能力を上げるために冷媒の流量を増加させ
ると冷媒の圧力上昇によってジャケットの肉薄部分が外
方向へ変形して、永久磁石に接触したりジャケットが破
損する恐れがあるため、これを防ぐためにはジャケット
の肉薄部の強度の確保が必要である。一方で、リニアモ
ータの高出力化のためには、永久磁石の間の距離を小さ
くして磁束密度を上げることが必要となり、このために
肉薄部分をできるだけ薄くしてジャケットを小型化した
いという背反する要求もある。
ので、冷媒の圧力を増大させてもあるいはジャケットを
小型化してもジャケットの変形や破損を抑えて、従来以
上に高出力化を果たしたリニアモータを提供することを
目的とする。さらにはこのリニアモータを使用した優れ
たステージ装置や露光装置、デバイス製造方法などを提
供することを目的とする。
明の好ましい形態の一つは、コイルと、該コイルを覆い
内部空間に冷媒が供給されるジャケットとを有するリニ
アモータにおいて、該冷媒の圧力に対して該ジャケット
を補強する補強部材をジャケット内部に設けたことを特
徴とするリニアモータである。
アモータを駆動機構として有することを特徴とするもの
であり、本発明の露光装置は上記ステージ装置で基板を
搭載して、該基板に露光を行う手段を有することを特徴
とするものである。また本発明のデバイス製造方法は上
記露光装置を用いてデバイスを製造することを特徴とす
るものである。
アモータを表す図である。図2は内部構造を説明する分
解図、図3はリニアモータの斜視図である。
コイル、2は磁気回路を構成する2つのヨーク、3は各
ヨーク2に固定され異なる磁極同士が互いに対向して配
置された永久磁石である。4、4′はコイル1を挟んで
配されたシート、5は2枚のシート4、4′同士を支持
するフレームであり、該シート4、4′とフレーム5に
よって、コイル1を内包するジャケットを構成してい
る。シート4、4′とフレーム5との接合は接着剤やボ
ルトなどで固定されている。6は該ジャケットの内部空
間であり、7はコイル1をジャケットに固定している固
定具である。8は本実施形態の特徴的部材である補強部
材であり、シート4および4′の両方に接着あるいはボ
ルト固定され両者の間の広がりを防止する耐圧具として
機能する。補強部材8は巻線されたコイル1の空芯部分
に位置している。シート4、4′、フレーム5及び補強
部材8の材質は非磁性体材料、例えば高分子樹脂材料
(PEEK)又はセラミックス材料が好ましい。
リード線(2本)、11はリード線10をジャケット内
部から外部へ引き出すための小孔である。この小孔11
から冷媒が漏れ出さないように、リード線を引き出した
後に接着材等で小孔が気密に封止されている。12、1
3はジャケットに接続された冷媒の供給管及び回収管で
ある。冷媒は供給管12から供給されてジャケット内を
流れコイルの発生熱を受け取り、回収管13から排出さ
れて回収される。なおコイル1の導線自体が直接冷媒に
触れないようにコイル表面には表面処理がなされてい
る。冷媒は液体又は気体であって、特に不活性なものが
好ましい。
る永久磁石3の間の空間に位置するコイル1に電流を流
すとローレンツ力が働き、コイル1と永久磁石3は上下
方向に相対的に運動する。例えば、同図の上側半分にお
いては、磁界は紙面の左から右方向へ、電流が紙面の奥
から手前方向に流れると、電流の大きさに応じた力がコ
イル1には紙面の上方向へ永久磁石3には下方向へ働
き、それぞれが相対的に移動する。このようにコイルに
所定の電流を流すことにより、ヨークおよびコイルがそ
れぞれ固定されている構造物を駆動するものである。な
お、本実施例ではコイル側が固定子、永久磁石が保持さ
れたヨーク側が可動子となったいわゆるムービングマグ
ネット型のリニアモータとなっているが、固定子と可動
子が逆であっても良い。
冷媒を供給して流すことにより、コイルに通電したとき
に発生する熱を回収し、コイル自体の温度上昇やリニア
モータの搭載されている装置やその雰囲気の温度上昇を
抑えている。この際、補強部材8があるために、冷媒の
圧力でシート4、4′が外側に膨らんで変形するのを抑
えている。
てフレーム5に固定しているが、シート4、4′に固定
するようにしてもよい。また、補強部材8はコイル1に
直接固定されてはいないが、補強部材8にコイル1を固
定して固定具7を省略するようにしてもよい。また固定
具7および補強部材8の数は1つに限らず複数に分割し
て設けてもよい。
げるあるいはジャケットのシートを薄くしてもジャケッ
トの変形や破損が抑えられるので、冷媒の流量を上げ冷
却効率を向上させることができると共にジャケットの小
型化が図れ、ひいてはリニアモータの推力を向上させる
ことができる。
の別の実施形態のジャケット部分の構成を表した図であ
り、ジャケットの外側の可動子(ヨークや永久磁石)の
配置は先の図1と同一である。
によってジャケットを構成したが、本実施例では、2つ
のジャケットカバー14、14′それぞれがフレーム部
とシート部が一体になったものを使用して、これらジャ
ケットカバー同士を接合している。ジャケット内部でコ
イル1の空芯部に設けた補強部材8は、ジャケットカバ
ー14、14′のそれぞれの肉薄部分に接着剤もしくは
ボルトを使用して固定している。コイル1は固定具7を
介して補強部材8の周囲に固定されている。
が減り組立が容易になるほかに、結合箇所がジャケット
カバー14、14′同士の間だけなので、結合部から冷
媒が漏れ出す可能性が小さいという利点がある。
のジャケット部分の構成を表した図であり、ジャケット
の外側の可動子(ヨークや永久磁石)の配置は先の図1
と同一である。
芯部は貫通せず、2つの補強部材がコイル側面とジャケ
ットカバー14、14′の肉薄部との間をそれぞれ固定
したことを特徴としている。なお補強部材8をジャケッ
トカバー14、14′と一体化して同一部材としてもよ
い。また、補強部材8によってコイル1とジャケットカ
バー14、14′を固定しているので固定具7を省略す
ることもできる。
芯部分に存在しないのでコイルの形状や位置にかかわら
ず補強部材を設置できるという利点がある。
のジャケット部分の構成を示した図であり、ジャケット
の外側の可動子(ヨークや永久磁石)の配置は先の図1
と同一である。
自体に補強部材を設けたことを特徴とする。14、1
4′はコイル1のジャケットを構成し、コイル形状のリ
ング状に彫り込まれたジャケットカバーである。ジャケ
ットカバー14、14′はコイル1の空芯部分でも互い
に結合されている。該空芯部分での結合は接着剤やボル
トを使用して行い、冷媒圧力でジャケットカバーの肉薄
部が外側に広がろうとするのを抑えている。つまりジャ
ケットカバー14、14′内面の対向する突起部が、ジ
ャケットを補強して変形を防止する補強部材となってい
る。コイル1は固定具7を介して補強部材の周囲に固定
されている。
がさらに減るため信頼性がより向上する。特に肉薄部の
シートに比べてコイル空芯部での結合部分の肉厚がある
ため、ここを接合するボルトおよびネジ部のスペースを
確保しやすくボルト締結の設計が容易である。
のジャケット部分の構成を表した図であり、ジャケット
の外側の可動子(ヨークや永久磁石)の配置は先の図1
と同一である。
もジャケットカバー14と一体化し同一部材としたもの
である。コイル1はジャケットカバー14に形成された
型に嵌められて固定され、ジャケットカバー14、1
4′同士が接着剤やボルト等で結合される。コイル1の
空芯部分でも互いに接着剤やボルト等で結合されて補強
部材が形成される。
むため高い信頼性が得られると共に、ジャケットカバー
の加工でコイルの位置決めができるので組立が非常に容
易である。
である多相リニアモータにおけるジャケット部分の内部
構造を説明する図である。
が流れるコイル、4、4′は各コイルを挟んで配された
シート、5は2枚のシート4、4′同士を支持するフレ
ームであり、該シート4、4′とフレーム5によって、
コイル1a〜1cを内包するジャケット42を構成して
いる。シート4、4′とフレーム5との接合は接着剤や
ボルトなどで固定されている。7はコイル1a〜cを固
定している固定具である。8a〜8cおよび8a′、8
b′は本実施形態の特徴的部材である補強部材であり、
シート4および4′の両方に接着あるいはボルト固定さ
れ両者の間の広がりを防止する耐圧具として機能する。
補強部材8a〜cは巻線されたコイル1の空芯部分に、
補強部材8a′、8b′は配列されたコイルとコイルの
間に位置している。シート4、4′、フレーム5及び補
強部材8の材質は非磁性体材料、例えば高分子樹脂材料
(PEEK)又はセラミックス材料が好ましい。ジャケ
ット内部から外部へ引き出されるコイル1a〜cのリー
ド線(各2本)は図示されていない。また、冷媒は図示
されていない供給管から供給されてジャケット内を流れ
コイルの発生熱を受け取り、図示されていない回収管か
ら排出されて回収される。なおコイル1の導線自体が直
接冷媒に触れないようにコイル表面には表面処理がなさ
れている。冷媒は液体又は気体であって、特に不活性な
ものが好ましい。
斜視図である。同図において、1は複数のコイル列、4
2はジャケット、43はジャケットを固定する固定部
材、2、2′は磁気回路を構成するヨーク、3はヨーク
2、2′に固定され異なる磁極同士が互いに対向して配
置された永久磁石である。23はヨークを固定する固定
部材である。
る永久磁石3の間の空間に位置するコイル1に所定の電
流を流すとローレンツ力が働き、コイル1を含むジャケ
ット42と永久磁石3が相対的に運動する。また、複数
のコイルが駆動方向に配列されているため、コイル個数
に応じてリニアモータのストロークを変えることができ
る。本実施例ではコイル側が固定子、永久磁石が保持さ
れたヨーク側が可動子となったいわゆるムービングマグ
ネット型のリニアモータとなっているが、固定子と可動
子が逆であっても良い。
媒を供給して流すことにより、コイルに通電したときに
発生する熱を回収し、コイル自体の温度上昇やリニアモ
ータの搭載されている装置やその雰囲気の温度上昇を抑
えている。この際、補強部材8a〜8cおよび8a′、
8b′があるために、冷媒の圧力でシート4、4′が外
側に膨らんで変形するのを抑えている。
て補強部材8a〜8cに固定しているが、シート4、
4′もしくは補強部材8a′、8b′に固定するように
してもよい。また、補強部材8a〜8cはコイル1a〜
1cに直接固定されてはいないが、補強部材8a〜8c
にコイル1a〜1cを固定して固定具7を省略するよう
にしてもよい。また固定具7、補強部材8a〜8cおよ
び8a′、8b′の数は1つに限らず複数に分割して設
けてもよい。
げるあるいはジャケットのシートを薄くしてもジャケッ
トの変形や破損が抑えられるので、冷媒の流量を上げ冷
却効率を向上させることができると共にジャケットの小
型化が図れ、ひいてはリニアモータの推力を向上させる
ことができる。
タの別の実施形態のジャケット部分の構成を表した図で
あり、ジャケットの外側の可動子(ヨークや永久磁石)
の配置は先の図9と同一である。
シート、固定具および補強部材の一部もしくは全部を一
体化するもので、本実施例では、2つのジャケットカバ
ー14、14′がコイルを固定し覆い、これらジャケッ
トカバー同士を接合している。ジャケットカバーはコイ
ル形状に彫り込まれ、コイル1a〜1cはそれぞれの空
芯部でジャケットカバー14′に固定されている。ジャ
ケットカバー14、14′はコイル1の空芯部分および
コイルとコイルの間でも互いに結合されている。該空芯
部分および該コイル間部分での結合は接着剤やボルトを
使用して行い、冷媒圧力でジャケットカバーの肉薄部が
外側に広がろうとするのを抑えている。つまりジャケッ
トカバー14、14′内面の対向する突起部がジャケッ
トを補強して変形を防止する補強部材となっている。
が減り組立が容易になるほかに、結合箇所がジャケット
カバー14、14′同士の間だけなので、結合部から冷
媒が漏れ出す可能性が小さいという利点がある。特に肉
薄部のシートに比べてコイル空芯部での結合部分の肉厚
があるため、ここを接合するボルトおよびネジ部のスペ
ースを確保しやすくボルト締結の設計が容易である。
態のジャケット部分の構成を表した図であり、ジャケッ
トの外側の可動子(ヨークや永久磁石)の配置は先の図
9と同一である。
5が冷却ジャケットを構成し、積層されたコイル1a〜
1cを補強部材8a〜dによって、またコイル1d〜1
fを補強部材8e〜8hよってそれぞれシート4および
4′に接着剤などで固定したことを特徴としている。シ
ート4、4′はコイル1の部分でコイル1および補強部
材8を介して結合されているので、コイル1および補強
部材8が耐圧具として機能する。なおシート4、4′と
補強部材8は一体化してもよく、またシート4、4′と
フレーム5と一体化して同一部材としてもよい。コイル
の空芯部やコイル間に補強部材を設けることなく、冷媒
圧力でシートが外側に広がろうとするのを抑えている。
芯部分などに存在しないのでコイルの形状や位置にかか
わらず補強部材を設置できるという利点がある。特にコ
イルをずらして積層させて配列する場合に好適である。
タの別の実施形態のジャケット部分の構成を表した図で
あり、ジャケットの外側の可動子(ヨークや永久磁石)
の配置は先の図9と同一である。
分などに存在しない構成であったが、本実施例ではずら
して積層したコイルの空芯部などにコイル本体を避ける
ように補強部材を設置し、シート4と4′とを補強部材
8a〜eが直接結合している。同図ではコイル列は補強
部材に固定されている。なおシート4、4′とフレーム
5と一体化して同一部材としてもよい。また同図では補
強部材とコイルは接着もしくは一体成形などにより直接
結合されているが、固定具などを介して結合してもよ
い。補強部材が冷媒圧力でシートが外側に広がろうとす
るのを抑えている。
げるあるいはジャケットのシートを薄くしてもジャケッ
トの変形や破損が抑えられるので、冷媒の流量を上げ冷
却効率を向上させることができると共にジャケットの小
型化が図れ、ひいてはリニアモータの推力を向上させる
ことができる。
ータの別の実施形態のジャケット部分の構成を表した図
であり、ジャケットの外側の可動子(ヨークや永久磁
石)の配置は先の図9と同一である。
シート、固定具および補強部材の一部もしくは全部を一
体化するもので、本実施例では、2つのジャケットカバ
ー14、14′がコイルを固定し覆い、これらジャケッ
トカバー同士を接合している。ジャケットカバーはコイ
ル形状に彫り込まれ、コイル1a、1d、1gはそれぞ
れの空芯部でジャケットカバー14に固定され、コイル
1c、1fはそれぞれの空芯部でジャケットカバー1
4′に固定され、コイル1b、1eはそれぞれの空芯部
でジャケットカバー14、14′の両方に固定されてい
る。ジャケットカバー14、14′はコイル1b、1e
などを介して互いに結合され、冷媒圧力でジャケットカ
バーの肉薄部が外側に広がろうとするのを抑えている。
つまりジャケットカバー14、14′内面の突起部が、
ジャケットを補強して変形を防止する補強部材となって
いる。
が減り組立が容易になるほかに、結合箇所がジャケット
カバー14、14′同士の間だけなので、結合部から冷
媒が漏れ出す可能性が小さいという利点がある。また、
ジャケットがコイル形状に彫り込まれているので組立時
にコイルの位置決めが容易である。
れかのリニアモータを用いたウエハステージを有する露
光装置の実施形態を示す。同図において、21はあおり
機構を有するウエハステージであり、上面に半導体ウエ
ハ23を搭載している。ウエハステージ21の上方に
は、光源や照明光学系を有する照明系27、ウエハに転
写すべきパターンを備えたレチクル28、該レチクル2
8のパターンを所定の倍率で縮小投影する縮小投影光学
系29が設けられている。
24はあおりステージを水平方向のみ規制するガイドで
あり、例えば静圧軸受を用いることによって、Z方向、
傾斜方向およびZ軸回転方向の運動を許容している。2
6はベースである。25は上記説明したいずれかの実施
例の構成を備えたリニアモータであり、3個のリニアモ
ータ(残りの1個は図示せず)の駆動によって、ステー
ジ21の重力方向であるZ方向の位置あるいは傾きをベ
ース26に対して調節することができる。また、ステー
ジ21のZ方向の位置および傾きを計測することによ
り、ステージのZ方向の位置および傾きを制御できる。
率が上がりコイルから発生する熱を回収しているので、
リニアモータからの発熱がウエハステージに伝わって温
度上昇させたり、雰囲気温度を上昇させることがないた
め、ウエハステージの位置決め精度を飛躍的に向上させ
ることができ、ひいては従来以上に高精度な露光転写が
可能となる。
用した半導体デバイス(ICやLSI等の半導体チップ、あ
るいは液晶パネルやCCD等)の生産フローを示す。ステ
ップ1(回路設計)では半導体デバイスの回路設計を行
う。ステップ2(マスク製作)では設計した回路パター
ンを形成したマスクを製作する。ステップ3(ウエハ製
造)ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。
ステップ4(ウエハプロセス)は前工程と呼ばれ、上記
用意したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技術に
よってウエハ上に実際の回路を形成する。ステップ5
(組み立て)は後工程と呼ばれ、ステップ4によって作
製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であ
り、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)、
パッケージング工程(チップ封入)等の工程を含む。ス
テップ6(検査)ではステップ5で作製された半導体デ
バイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行
う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これ
が出荷(ステップ7)される。
ーを示す。ステップ11(酸化)ではウエハの表面を酸
化させる。ステップ12(CVD)ではウエハ表面に絶縁
膜を形成する。ステップ13(電極形成)ではウエハに
電極を蒸着によって形成する。ステップ14(イオン打
込み)ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ15
(レジスト処理)ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ16(露光)では上記説明した露光によってマスク
の回路パターンをウエハに焼付露光する。ステップ17
(現像)では露光したウエハを現像する。ステップ18
(エッチング)では現像したレジスト像以外の部分を削
り取る。ステップ19(レジスト剥離)ではエッチング
が済んで不要となったレジストを取り除く。これらのス
テップを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に
回路パターンが形成される。
しくはジャケットの肉薄部分を薄くしも、ジャケットの
変形や破損を抑えられるので、冷媒の流量を上げ冷却効
率を向上させることができると共に、ジャケットの小型
化によりリニアモータの推力を向上させることができ
る。
図
図
図
図
Claims (11)
- 【請求項1】 コイルと、該コイルを覆い内部空間に冷
媒が供給されるジャケットとを有するリニアモータにお
いて、該冷媒の圧力に対して該ジャケットを補強する補
強部材をジャケット内部に設けたことを特徴とするリニ
アモータ。 - 【請求項2】 前記ジャケットを挟んで磁石が取り付け
られたヨークが設けられていることを特徴とする請求項
1記載のリニアモータ。 - 【請求項3】 前記ジャケットはフレームと該フレーム
を挟んで2枚のシートを接合したものである請求項1記
載のリニアモータ。 - 【請求項4】 前記ジャケットは2つのジャケットカバ
ーを接合したものである請求項1記載のリニアモータ。 - 【請求項5】 前記ジャケット及び補強部材は非磁性体
材料からなることを特徴とする請求項1記載のリニアモ
ータ。 - 【請求項6】 前記補強部材は前記コイルの空芯部に位
置することを特徴とする請求項1記載のリニアモータ。 - 【請求項7】 前記補強部材はジャケットの一部として
構成された突起部であることを特徴とする請求項1記載
のリニアモータ。 - 【請求項8】 ジャケットの構成部材がコイルを固定す
ることを特徴とする請求項1記載のリニアモータ。 - 【請求項9】 請求項1〜8のいずれか記載のリニアモ
ータを駆動機構として有することを特徴とするステージ
装置。 - 【請求項10】 請求項9記載のステージ装置で基板を
搭載して、該基板に露光を行う手段を有することを特徴
とする露光装置。 - 【請求項11】 請求項10記載の露光装置を用いてデ
バイスを製造することを特徴とするデバイス製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19560097A JP3278380B2 (ja) | 1997-03-06 | 1997-07-22 | リニアモータ |
| US08/951,107 US6084319A (en) | 1996-10-16 | 1997-10-15 | Linear motor, and stage device and exposure apparatus provided with the same |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5172697 | 1997-03-06 | ||
| JP9-51726 | 1997-03-06 | ||
| JP19560097A JP3278380B2 (ja) | 1997-03-06 | 1997-07-22 | リニアモータ |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001400042A Division JP3592292B2 (ja) | 1997-03-06 | 2001-12-28 | リニアモータを有するステージ装置、露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10309071A true JPH10309071A (ja) | 1998-11-17 |
| JP3278380B2 JP3278380B2 (ja) | 2002-04-30 |
Family
ID=26392286
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19560097A Expired - Fee Related JP3278380B2 (ja) | 1996-10-16 | 1997-07-22 | リニアモータ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3278380B2 (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030025419A (ko) * | 2001-09-20 | 2003-03-29 | 주식회사 져스텍 | 리니어모터 |
| US6639333B1 (en) | 1999-07-19 | 2003-10-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Linear motor stage system for use in exposure apparatus |
| US6791670B2 (en) | 2000-12-26 | 2004-09-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus, device manufacturing method, semiconductor manufacturing factory, and exposure apparatus maintenance method |
| US6806594B2 (en) | 2002-02-20 | 2004-10-19 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | Coil unit for linear motor |
| US6836031B2 (en) * | 2000-12-08 | 2004-12-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Linear motor and exposure apparatus using the same |
| US6847132B2 (en) | 2001-07-10 | 2005-01-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Electromagnetic actuator having an armature coil surrounded by heat-conducting anisotropy material and exposure apparatus |
| US7038759B2 (en) | 2001-07-09 | 2006-05-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus |
| EP1536288A3 (en) * | 2003-11-28 | 2006-06-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Coil support unit, motor and exposure apparatus using the same, and device manufacturing method |
| JP2012143143A (ja) * | 2011-01-04 | 2012-07-26 | Asml Holding Nv | 真空環境用のリニアモータシステムおよびその設計方法 |
| JP2023040769A (ja) * | 2021-09-10 | 2023-03-23 | 株式会社プロテリアル | コイル組立部材及びボイスコイルモータ |
| KR102865183B1 (ko) * | 2024-04-05 | 2025-09-26 | 이노로보틱스 주식회사 | 다이 본딩 스테이지 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006287014A (ja) | 2005-04-01 | 2006-10-19 | Canon Inc | 位置決め装置およびリニアモータ |
| JP2015023768A (ja) | 2013-07-23 | 2015-02-02 | キヤノン株式会社 | ステージ装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法 |
-
1997
- 1997-07-22 JP JP19560097A patent/JP3278380B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6639333B1 (en) | 1999-07-19 | 2003-10-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Linear motor stage system for use in exposure apparatus |
| US6836031B2 (en) * | 2000-12-08 | 2004-12-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Linear motor and exposure apparatus using the same |
| US6791670B2 (en) | 2000-12-26 | 2004-09-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus, device manufacturing method, semiconductor manufacturing factory, and exposure apparatus maintenance method |
| US7391496B2 (en) | 2001-07-09 | 2008-06-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus |
| US7038759B2 (en) | 2001-07-09 | 2006-05-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus |
| US7057703B2 (en) | 2001-07-09 | 2006-06-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus |
| EP2017675A1 (en) | 2001-07-09 | 2009-01-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus |
| US6847132B2 (en) | 2001-07-10 | 2005-01-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Electromagnetic actuator having an armature coil surrounded by heat-conducting anisotropy material and exposure apparatus |
| KR20030025419A (ko) * | 2001-09-20 | 2003-03-29 | 주식회사 져스텍 | 리니어모터 |
| US6806594B2 (en) | 2002-02-20 | 2004-10-19 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | Coil unit for linear motor |
| EP1536288A3 (en) * | 2003-11-28 | 2006-06-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Coil support unit, motor and exposure apparatus using the same, and device manufacturing method |
| US7329972B2 (en) | 2003-11-28 | 2008-02-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Coil support unit, motor and exposure apparatus using the same, and device manufacturing method |
| US7768156B2 (en) | 2003-11-28 | 2010-08-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Coil support unit, motor and exposure apparatus using the same, and device manufacturing method |
| JP2012143143A (ja) * | 2011-01-04 | 2012-07-26 | Asml Holding Nv | 真空環境用のリニアモータシステムおよびその設計方法 |
| JP2023040769A (ja) * | 2021-09-10 | 2023-03-23 | 株式会社プロテリアル | コイル組立部材及びボイスコイルモータ |
| KR102865183B1 (ko) * | 2024-04-05 | 2025-09-26 | 이노로보틱스 주식회사 | 다이 본딩 스테이지 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3278380B2 (ja) | 2002-04-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6084319A (en) | Linear motor, and stage device and exposure apparatus provided with the same | |
| US7547998B2 (en) | Aligning apparatus including an attraction preventing plate provided between permanent magnet and magnetic member | |
| US20030141769A1 (en) | Linear motor, stage apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing apparatus | |
| US6313550B1 (en) | Coil mounting and cooling system for an electric motor | |
| US7282874B2 (en) | Alignment apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
| JP3278380B2 (ja) | リニアモータ | |
| JP3155936B2 (ja) | リニアモータとステージ装置及びこれを用いた走査型露光装置やデバイス製造方法 | |
| TW200807170A (en) | Reflecting apparatus | |
| JP2002247830A (ja) | リニアモータ、ステージ装置および露光装置ならびにデバイス製造方法 | |
| JP2001025227A (ja) | リニアモータ並びにこれを有するステージ装置および露光装置 | |
| US7768156B2 (en) | Coil support unit, motor and exposure apparatus using the same, and device manufacturing method | |
| JP2009136065A (ja) | 平面モータおよびそれを用いたステージ | |
| US20040245861A1 (en) | Linear motor, stage device having this linear motor, exposure device, and device manufacturing method | |
| JP2001037201A (ja) | モータ装置、ステージ装置及び露光装置 | |
| US6639333B1 (en) | Linear motor stage system for use in exposure apparatus | |
| TW200532770A (en) | Stage device and exposure apparatus | |
| JP3592292B2 (ja) | リニアモータを有するステージ装置、露光装置 | |
| US20160336101A1 (en) | Armature coil for electromagnetic actuator, electromagnetic actuator, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
| JP2003116260A (ja) | リニアモータ、ステージ装置及び露光装置 | |
| JPH10127035A (ja) | リニアモータおよびこれを用いたステージ装置ならびに露光装置 | |
| JP2005295762A (ja) | ステージ装置および露光装置 | |
| JP2001145328A (ja) | リニアモータ並びにこれを用いたステージ装置及び露光装置 | |
| JPH11122900A (ja) | 位置決めテーブル装置およびデバイス製造方法 | |
| JP2005243809A (ja) | 露光装置、および該露光装置に好適に用いられる駆動手段 | |
| TW202437020A (zh) | 用於線性致動器之冷卻系統 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20010731 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20020129 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080215 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090215 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100215 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100215 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110215 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120215 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130215 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140215 Year of fee payment: 12 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |