JPH10314503A - 流体の脱気装置 - Google Patents
流体の脱気装置Info
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- JPH10314503A JPH10314503A JP9125393A JP12539397A JPH10314503A JP H10314503 A JPH10314503 A JP H10314503A JP 9125393 A JP9125393 A JP 9125393A JP 12539397 A JP12539397 A JP 12539397A JP H10314503 A JPH10314503 A JP H10314503A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 小型に構成されると共に、流体の脱気が十分
に行われるようにした、流体の脱気装置を提供するこ
と。 【解決手段】 貯蔵源から加圧されて流体が圧送される
供給ライン１１中に順次に設けられた第一のタンク１２
及び第二のタンク２０と、第一のタンク１２に設けた脱
気促進手段１３を備える。
に行われるようにした、流体の脱気装置を提供するこ
と。 【解決手段】 貯蔵源から加圧されて流体が圧送される
供給ライン１１中に順次に設けられた第一のタンク１２
及び第二のタンク２０と、第一のタンク１２に設けた脱
気促進手段１３を備える。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、気体により加圧し
て供給される流体中に含まれる気体を除去するための脱
気装置に関するものである。
て供給される流体中に含まれる気体を除去するための脱
気装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、例えば半導体製造においては、半
導体基板の表面にパターン形成を行なう場合、半導体基
板の表面に、レジストを塗布して、パターンマスクを利
用してレジストを露光させた後、現像液によってレジス
トを現像することにより、所望のパターンのレジストが
半導体基板の表面に形成されるようになっている。この
ようなレジストの現像を行なう場合、従来は、現像液を
貯蔵する現像液タンクから、現像液タンク内を窒素等の
気体によって加圧したり、ポンプ等を使用することによ
り、現像液を供給ラインを介して現像装置内に圧送する
ようになっている。
導体基板の表面にパターン形成を行なう場合、半導体基
板の表面に、レジストを塗布して、パターンマスクを利
用してレジストを露光させた後、現像液によってレジス
トを現像することにより、所望のパターンのレジストが
半導体基板の表面に形成されるようになっている。この
ようなレジストの現像を行なう場合、従来は、現像液を
貯蔵する現像液タンクから、現像液タンク内を窒素等の
気体によって加圧したり、ポンプ等を使用することによ
り、現像液を供給ラインを介して現像装置内に圧送する
ようになっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
現像液の圧送は、加圧によって現像液中に気体が溶解し
やすくなる。これにより、現像液が現像装置内に供給さ
れ、圧力が解放された後に、現像液中の溶存気体が、現
像液内で微小気泡を発生させることになる。この微小気
泡が、現像の際に、半導体基板の表面に付着すると、微
小気泡の部分にて現像が進行せず、現像不良が発生し
て、半導体製造の歩留まりが低下してしまうことにな
る。このため、現像液中の溶存気体を除去するために、
従来は、現像液の供給ラインの現像装置手前にて、バッ
ファータンクを備えることにより、現像液が一旦バッフ
ァータンク内に貯留され、バッファータンク内にて撹拌
されることにより、現像液中の溶存気体の脱気を促進す
るようにしている。
現像液の圧送は、加圧によって現像液中に気体が溶解し
やすくなる。これにより、現像液が現像装置内に供給さ
れ、圧力が解放された後に、現像液中の溶存気体が、現
像液内で微小気泡を発生させることになる。この微小気
泡が、現像の際に、半導体基板の表面に付着すると、微
小気泡の部分にて現像が進行せず、現像不良が発生し
て、半導体製造の歩留まりが低下してしまうことにな
る。このため、現像液中の溶存気体を除去するために、
従来は、現像液の供給ラインの現像装置手前にて、バッ
ファータンクを備えることにより、現像液が一旦バッフ
ァータンク内に貯留され、バッファータンク内にて撹拌
されることにより、現像液中の溶存気体の脱気を促進す
るようにしている。
【０００４】しかしながら、このようなバッファータン
クを使用しても、現像液自体が粘性を有していることか
ら、脱気が不十分であり、現像不良の発生が不可避であ
るという問題があった。また、このようなバッファータ
ンクは比較的大型であり、設置スペースの点で問題があ
った。
クを使用しても、現像液自体が粘性を有していることか
ら、脱気が不十分であり、現像不良の発生が不可避であ
るという問題があった。また、このようなバッファータ
ンクは比較的大型であり、設置スペースの点で問題があ
った。
【０００５】本発明は、以上の点に鑑み、小型に構成さ
れると共に、流体の脱気が十分に行われるようにした、
流体の脱気装置を提供することを目的としている。
れると共に、流体の脱気が十分に行われるようにした、
流体の脱気装置を提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的は、本発明によ
れば、貯蔵源から加圧されて流体が圧送される供給ライ
ン中に順次に設けられた第一のタンク及び第二のタンク
と、前記第一のタンクに設けられる脱気促進手段とを備
えている、流体の脱気装置により、達成される。
れば、貯蔵源から加圧されて流体が圧送される供給ライ
ン中に順次に設けられた第一のタンク及び第二のタンク
と、前記第一のタンクに設けられる脱気促進手段とを備
えている、流体の脱気装置により、達成される。
【０００７】本発明による流体の脱気装置は、好ましく
は、前記第一のタンクが、脱気促進手段として、タンク
中段にて上下方向に延びる微細ガラス管を敷き詰めたキ
ャピラリーを有しており、このキャピラリーの下方にて
貯蔵源からの供給ラインが開口していると共に、第二の
タンクへの供給管が、キャピラリーの上方にて第一のタ
ンク内に開口している。
は、前記第一のタンクが、脱気促進手段として、タンク
中段にて上下方向に延びる微細ガラス管を敷き詰めたキ
ャピラリーを有しており、このキャピラリーの下方にて
貯蔵源からの供給ラインが開口していると共に、第二の
タンクへの供給管が、キャピラリーの上方にて第一のタ
ンク内に開口している。
【０００８】本発明による流体の脱気装置は、好ましく
は、前記第二のタンクが、減圧されている。
は、前記第二のタンクが、減圧されている。
【０００９】本発明による流体の脱気装置は、好ましく
は、前記第二のタンクが、その底部に撹拌手段を備えて
いる。
は、前記第二のタンクが、その底部に撹拌手段を備えて
いる。
【００１０】本発明による流体の脱気装置は、好ましく
は、上記第一のタンクが、上下に延びる回転軸の周りに
回転駆動されると共に、底面が中心から外側に向かって
下向きに傾斜して形成されており、第二のタンクへの供
給管が、第一のタンクの底面付近にて第一のタンク内に
開口している。
は、上記第一のタンクが、上下に延びる回転軸の周りに
回転駆動されると共に、底面が中心から外側に向かって
下向きに傾斜して形成されており、第二のタンクへの供
給管が、第一のタンクの底面付近にて第一のタンク内に
開口している。
【００１１】上記構成によれば、第一のタンク内に供給
された流体は、脱気促進手段、例えばキャピラリー及び
／又は第一のタンク自体の回転駆動によって、微小気泡
が纒められて、第二のタンクに供給される。そして、第
二のタンク内で、流体が一時的に貯蔵されることによっ
て、微小気泡よりやや大きくなった気泡が流体中から浮
上することにより、脱気が行なわれる。
された流体は、脱気促進手段、例えばキャピラリー及び
／又は第一のタンク自体の回転駆動によって、微小気泡
が纒められて、第二のタンクに供給される。そして、第
二のタンク内で、流体が一時的に貯蔵されることによっ
て、微小気泡よりやや大きくなった気泡が流体中から浮
上することにより、脱気が行なわれる。
【００１２】上記第一のタンクが、脱気促進手段とし
て、タンク中段にて上下方向に延びる微細ガラス管を敷
き詰めたキャピラリーを有しており、このキャピラリー
の下方にて貯蔵源からの供給ラインが開口していると共
に、第二のタンクへの供給管が、キャピラリーの上方に
て第一のタンク内に開口している場合には、キャピラリ
ーの下方にて導入された流体は、上方に向かって流れる
ことにより、キャピラリーを構成する微細ガラス管中を
通過して、キャピラリー上方から供給管を通って、第二
のタンクに供給される。ここで、流体がキャピラリーを
構成する各微細ガラス管内を通過する際に、流体内の微
小気泡が、微細ガラス管の内壁に付着し、互いに隣接す
る微小気泡同士が接触して、大きな気泡を形成する。こ
の大きな気泡は、微小気泡に比較して脱気しやすいとい
う性質がある。そして、大きな気泡は、流体の流れによ
ってキャピラリー上方に達し、流体と共に、第二のタン
クに供給される。
て、タンク中段にて上下方向に延びる微細ガラス管を敷
き詰めたキャピラリーを有しており、このキャピラリー
の下方にて貯蔵源からの供給ラインが開口していると共
に、第二のタンクへの供給管が、キャピラリーの上方に
て第一のタンク内に開口している場合には、キャピラリ
ーの下方にて導入された流体は、上方に向かって流れる
ことにより、キャピラリーを構成する微細ガラス管中を
通過して、キャピラリー上方から供給管を通って、第二
のタンクに供給される。ここで、流体がキャピラリーを
構成する各微細ガラス管内を通過する際に、流体内の微
小気泡が、微細ガラス管の内壁に付着し、互いに隣接す
る微小気泡同士が接触して、大きな気泡を形成する。こ
の大きな気泡は、微小気泡に比較して脱気しやすいとい
う性質がある。そして、大きな気泡は、流体の流れによ
ってキャピラリー上方に達し、流体と共に、第二のタン
クに供給される。
【００１３】ここで、上記第二のタンクが、減圧されて
いる場合には、流体中の溶存気体が、気泡として浮上し
やすく、容易に脱気されることになる。
いる場合には、流体中の溶存気体が、気泡として浮上し
やすく、容易に脱気されることになる。
【００１４】さらに、上記第二のタンクが、その底部に
撹拌手段を備えている場合には、撹拌手段の撹拌によっ
て、流体中の溶存気体が、より一層気泡として浮上しや
すくなり、容易に脱気されることになる。この場合、撹
拌手段は、第二のタンクの底部の領域の流体のみを撹拌
すればよいことから、撹拌手段が小型に構成されること
になり、第二のタンク自体も小型に構成されることにな
る。
撹拌手段を備えている場合には、撹拌手段の撹拌によっ
て、流体中の溶存気体が、より一層気泡として浮上しや
すくなり、容易に脱気されることになる。この場合、撹
拌手段は、第二のタンクの底部の領域の流体のみを撹拌
すればよいことから、撹拌手段が小型に構成されること
になり、第二のタンク自体も小型に構成されることにな
る。
【００１５】また、上記第一のタンクが、上下に延びる
回転軸の周りに回転駆動されると共に、底面が中心から
外側に向かって下向きに傾斜して形成されており、第二
のタンクへの供給管が、底面付近にて第一のタンク内に
開口している場合には、第一のタンクの回動によって、
流体中の気泡は、軽いことから、遠心分離によって、タ
ンクの回転軸付近に集まり、また流体は、遠心力を受け
て、外側に集まることになる。そして、第一のタンクの
底面が外側に向かって傾斜していることから、気泡がタ
ンクの外側付近に流れるようなことはなく、流体のみが
供給管を通って、第二のタンクに供給される。
回転軸の周りに回転駆動されると共に、底面が中心から
外側に向かって下向きに傾斜して形成されており、第二
のタンクへの供給管が、底面付近にて第一のタンク内に
開口している場合には、第一のタンクの回動によって、
流体中の気泡は、軽いことから、遠心分離によって、タ
ンクの回転軸付近に集まり、また流体は、遠心力を受け
て、外側に集まることになる。そして、第一のタンクの
底面が外側に向かって傾斜していることから、気泡がタ
ンクの外側付近に流れるようなことはなく、流体のみが
供給管を通って、第二のタンクに供給される。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、この発明の好適な実施形態
を図１乃至図４を参照しながら、詳細に説明する。尚、
以下に述べる実施形態は、本発明の好適な具体例である
から、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、
本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定
する旨の記載がない限り、これらの態様に限られるもの
ではない。
を図１乃至図４を参照しながら、詳細に説明する。尚、
以下に述べる実施形態は、本発明の好適な具体例である
から、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、
本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定
する旨の記載がない限り、これらの態様に限られるもの
ではない。
【００１７】図１は、本発明による流体の脱気装置の第
一の実施形態を示している。図１において、脱気装置１
０は、例えば半導体製造の際にレジストの現像に使用さ
れる現像液の脱気のために、その現像液タンクから現像
装置（共に図示せず）への供給ライン１１中に配設され
ている。脱気装置１０は、供給ライン１１中に順次に設
けられた二つのタンク、即ち第一のタンク１２及び第二
のタンク２０を含んでいる。
一の実施形態を示している。図１において、脱気装置１
０は、例えば半導体製造の際にレジストの現像に使用さ
れる現像液の脱気のために、その現像液タンクから現像
装置（共に図示せず）への供給ライン１１中に配設され
ている。脱気装置１０は、供給ライン１１中に順次に設
けられた二つのタンク、即ち第一のタンク１２及び第二
のタンク２０を含んでいる。
【００１８】第一のタンク１２は、図示の場合、全体が
円筒状に形成されており、上端が開放している。そし
て、第一のタンク１２は、その上下方向の中段位置に
て、第一のタンク１２内を上下に仕切るように配設され
たキャピラリー１３を備えている。
円筒状に形成されており、上端が開放している。そし
て、第一のタンク１２は、その上下方向の中段位置に
て、第一のタンク１２内を上下に仕切るように配設され
たキャピラリー１３を備えている。
【００１９】さらに、第一のタンク１２は、キャピラリ
ー１３の下方にて、現像液タンクからの供給ライン１１
が開口していると共に、キャピラリー１３の上方にて、
第二のタンク２０への供給管１４が開口している。
ー１３の下方にて、現像液タンクからの供給ライン１１
が開口していると共に、キャピラリー１３の上方にて、
第二のタンク２０への供給管１４が開口している。
【００２０】上記キャピラリー１３は、図２に示すよう
に、第二のタンク１２の内壁を水平方向に埋め尽くすよ
うに、上下方向に延びる短い微細ガラス管１３ａを隙間
なく並べることにより、構成されている。この微細ガラ
ス管１３ａは、脱気すべき流体（この場合、現像液）に
対して反応しない組成のガラスから構成されており、そ
の寸法が、例えばその外径１．０ｍｍ，内径０．７ｍｍ
で、長さ３０．０ｍｍ程度に選定されている。
に、第二のタンク１２の内壁を水平方向に埋め尽くすよ
うに、上下方向に延びる短い微細ガラス管１３ａを隙間
なく並べることにより、構成されている。この微細ガラ
ス管１３ａは、脱気すべき流体（この場合、現像液）に
対して反応しない組成のガラスから構成されており、そ
の寸法が、例えばその外径１．０ｍｍ，内径０．７ｍｍ
で、長さ３０．０ｍｍ程度に選定されている。
【００２１】上記第二のタンク２０は、図示の場合、全
体がほぼ円筒状に形成されていると共に、その上端が絞
られてキャップ２１により密閉されている。そして、第
二のタンク２０は、キャップ２１を貫通する真空排気管
２２に接続された真空排気装置（図示せず）によって、
内部が減圧されるようになっている。また、上記第二の
タンク２０は、その底部に、撹拌装置２３を備えてい
る。この撹拌装置２３は、図示の場合、スターラーであ
るが、同様の作用を発揮する小型の撹拌装置なら、その
態様を問わず採用できる。これにより、第二のタンク２
０も小型に構成されることになる。
体がほぼ円筒状に形成されていると共に、その上端が絞
られてキャップ２１により密閉されている。そして、第
二のタンク２０は、キャップ２１を貫通する真空排気管
２２に接続された真空排気装置（図示せず）によって、
内部が減圧されるようになっている。また、上記第二の
タンク２０は、その底部に、撹拌装置２３を備えてい
る。この撹拌装置２３は、図示の場合、スターラーであ
るが、同様の作用を発揮する小型の撹拌装置なら、その
態様を問わず採用できる。これにより、第二のタンク２
０も小型に構成されることになる。
【００２２】さらに、第二のタンク２０は、底部付近に
て、第一のタンク１２からの供給管１４と、現像装置
（図示せず）への供給ライン１１が開口している。
て、第一のタンク１２からの供給管１４と、現像装置
（図示せず）への供給ライン１１が開口している。
【００２３】本実施形態による流体の脱気装置１０は、
以上のように構成されており、供給ライン１１を介して
現像液タンク（図示せず）から現像液が、第一のタンク
１２内に供給されると、現像液は、第一のタンク１２内
にて、キャピラリー１３の下方から、キャピラリー１３
を構成する各微細ガラス管１３ａ内を通過して、キャピ
ラリー１３の上方に進む。このとき、現像液中の溶存気
体は、キャピラリー１３の各微細ガラス管１３ａの内壁
に微小気泡として付着することになる。そして、微細ガ
ラス管１３ａの内壁に付着した微小気泡が徐々に増えて
くると、互いに隣接する微小気泡が接触して、大きな気
泡となり、流体の流れによって、キャピラリー１３の上
方に進むことになる。これにより、現像液中の微小気泡
は、キャピラリー１３の作用によって、より大きな気泡
となり、脱気が容易に行われるようになる。そして、キ
ャピラリー１３の上方に進んだ現像液は、供給管１４を
通って、第二のタンク２０の底部付近に供給されること
になる。
以上のように構成されており、供給ライン１１を介して
現像液タンク（図示せず）から現像液が、第一のタンク
１２内に供給されると、現像液は、第一のタンク１２内
にて、キャピラリー１３の下方から、キャピラリー１３
を構成する各微細ガラス管１３ａ内を通過して、キャピ
ラリー１３の上方に進む。このとき、現像液中の溶存気
体は、キャピラリー１３の各微細ガラス管１３ａの内壁
に微小気泡として付着することになる。そして、微細ガ
ラス管１３ａの内壁に付着した微小気泡が徐々に増えて
くると、互いに隣接する微小気泡が接触して、大きな気
泡となり、流体の流れによって、キャピラリー１３の上
方に進むことになる。これにより、現像液中の微小気泡
は、キャピラリー１３の作用によって、より大きな気泡
となり、脱気が容易に行われるようになる。そして、キ
ャピラリー１３の上方に進んだ現像液は、供給管１４を
通って、第二のタンク２０の底部付近に供給されること
になる。
【００２４】第二のタンク２０内に収容された現像液
は、第二のタンク２０の底部に設けられた撹拌装置２３
によって撹拌されることにより、現像液の液面に浮上す
ることになる。その際、第二のタンク２０内が減圧され
ていることにより、現像液中の気泡は、より一層容易に
浮上できることになる。そして、第二のタンク２０内の
現像液は、一定時間だけ、上述した撹拌装置２３による
撹拌と真空排気管２２からの真空排気による減圧によっ
て脱気された後、供給ライン１１を通って、現像装置に
送出される。
は、第二のタンク２０の底部に設けられた撹拌装置２３
によって撹拌されることにより、現像液の液面に浮上す
ることになる。その際、第二のタンク２０内が減圧され
ていることにより、現像液中の気泡は、より一層容易に
浮上できることになる。そして、第二のタンク２０内の
現像液は、一定時間だけ、上述した撹拌装置２３による
撹拌と真空排気管２２からの真空排気による減圧によっ
て脱気された後、供給ライン１１を通って、現像装置に
送出される。
【００２５】図３は、本発明による流体の脱気装置の第
二の実施形態を示している。図３において、脱気装置３
０は、例えば半導体製造の際にレジストの現像に使用さ
れる現像液の脱気のために、その現像液タンクから現像
装置への供給ライン１１中に配設されている。脱気装置
３０は、供給ライン１１中に順次に設けられた二つのタ
ンク、即ち第一のタンク３１及び第二のタンク４０を含
んでいる。
二の実施形態を示している。図３において、脱気装置３
０は、例えば半導体製造の際にレジストの現像に使用さ
れる現像液の脱気のために、その現像液タンクから現像
装置への供給ライン１１中に配設されている。脱気装置
３０は、供給ライン１１中に順次に設けられた二つのタ
ンク、即ち第一のタンク３１及び第二のタンク４０を含
んでいる。
【００２６】第一のタンク３１は、図示の場合、全体が
円筒状に形成されており、上端が開放している。そし
て、第一のタンク３１は、その全体が中心軸の周りに、
駆動手段４１によって、矢印で示すように、回転駆動さ
れるようになっている。
円筒状に形成されており、上端が開放している。そし
て、第一のタンク３１は、その全体が中心軸の周りに、
駆動手段４１によって、矢印で示すように、回転駆動さ
れるようになっている。
【００２７】さらに、第一のタンク３１は、現像液タン
クからの供給ライン１１が、開放端から底部付近にまで
延びていると共に、底面３１ａが、中間から外側に向か
って下方に傾斜して形成されており、最外縁付近の底面
に、第二のタンク４０への供給管３２が開口している。
クからの供給ライン１１が、開放端から底部付近にまで
延びていると共に、底面３１ａが、中間から外側に向か
って下方に傾斜して形成されており、最外縁付近の底面
に、第二のタンク４０への供給管３２が開口している。
【００２８】上記底面３１ａは、好ましくは、図４に示
すように、等角度間隔で半径方向に延びる突条部もしく
はフィン３１ｂを備えている。
すように、等角度間隔で半径方向に延びる突条部もしく
はフィン３１ｂを備えている。
【００２９】上記第二のタンク４０は、図示の場合、全
体がほぼ円筒状に形成されていると共に、その上端が開
放している。そして、第二のタンク４０は、第一のタン
ク３１からの供給管３２が、開放端から底部付近にまで
延びていると共に、底面に、現像装置への供給ライン１
１が開口している。
体がほぼ円筒状に形成されていると共に、その上端が開
放している。そして、第二のタンク４０は、第一のタン
ク３１からの供給管３２が、開放端から底部付近にまで
延びていると共に、底面に、現像装置への供給ライン１
１が開口している。
【００３０】このような構成の流体の脱気装置３０によ
れば、供給ライン１１を介して現像液タンク（図示せ
ず）から現像液が、第一のタンク３１内に供給される
と、現像液は、第一のタンク３１の回転駆動によって、
底面に設けられた突条部３１ｂにより撹拌されることに
なり、遠心力を受けることになる。このとき、現像液中
の溶存気体は、現像液に比較して軽いことから、微小気
泡として、遠心分離され、回転軸付近に集まって、大き
な気泡を形成することになる。
れば、供給ライン１１を介して現像液タンク（図示せ
ず）から現像液が、第一のタンク３１内に供給される
と、現像液は、第一のタンク３１の回転駆動によって、
底面に設けられた突条部３１ｂにより撹拌されることに
なり、遠心力を受けることになる。このとき、現像液中
の溶存気体は、現像液に比較して軽いことから、微小気
泡として、遠心分離され、回転軸付近に集まって、大き
な気泡を形成することになる。
【００３１】これに対して、遠心力を受けた現像液は、
遠心力によって、第一のタンク３１の外側に向かって移
動する。ここで、第一のタンク３１の底面３１ａが外側
に向かって低くなるように傾斜していることから、回転
軸付近に集まった微小気泡が、この底面３１ａに沿って
外側に移動するようなことはない。従って、第一のタン
ク３１内に導入された現像液は、第一のタンク３１の回
転駆動によって、ある程度微小気泡が除去された状態
で、第一のタンク３１の底面外側に開口する供給管３２
を通って、第二のタンク４０内に供給されることにな
る。第二のタンク４０内に進入した現像液は、一定時間
だけ貯蔵されることにより、現像液内の溶存気体が現像
液の表面に浮上して脱気された後、供給ライン１１を通
って、現像装置に送出される。かくして、現像液の脱気
が行われることになる。
遠心力によって、第一のタンク３１の外側に向かって移
動する。ここで、第一のタンク３１の底面３１ａが外側
に向かって低くなるように傾斜していることから、回転
軸付近に集まった微小気泡が、この底面３１ａに沿って
外側に移動するようなことはない。従って、第一のタン
ク３１内に導入された現像液は、第一のタンク３１の回
転駆動によって、ある程度微小気泡が除去された状態
で、第一のタンク３１の底面外側に開口する供給管３２
を通って、第二のタンク４０内に供給されることにな
る。第二のタンク４０内に進入した現像液は、一定時間
だけ貯蔵されることにより、現像液内の溶存気体が現像
液の表面に浮上して脱気された後、供給ライン１１を通
って、現像装置に送出される。かくして、現像液の脱気
が行われることになる。
【００３２】このように、上述の実施形態によれば、第
一のタンク内に供給された流体は、脱気促進手段、例え
ばキャピラリーあるいは第一のタンク自体の回転駆動に
よって、微小気泡が纒められて、第二のタンクに供給さ
れる。そして、第二のタンク内で、流体が一時的に貯蔵
されることによって、微小気泡よりやや大きくなった気
泡が流体中から浮上することにより、脱気が行なわれ
る。これにより、流体中の溶存気体が、十分に且つ確実
に脱気されることになる。従って、例えば半導体製造に
おける半導体基板に塗布されたレジストの現像のための
現像液の脱気を行なう場合、脱気が十分に且つ確実に行
われることにより、現像不良の発生が抑制されることに
なり、半導体製造の歩留まりが向上することになる。
一のタンク内に供給された流体は、脱気促進手段、例え
ばキャピラリーあるいは第一のタンク自体の回転駆動に
よって、微小気泡が纒められて、第二のタンクに供給さ
れる。そして、第二のタンク内で、流体が一時的に貯蔵
されることによって、微小気泡よりやや大きくなった気
泡が流体中から浮上することにより、脱気が行なわれ
る。これにより、流体中の溶存気体が、十分に且つ確実
に脱気されることになる。従って、例えば半導体製造に
おける半導体基板に塗布されたレジストの現像のための
現像液の脱気を行なう場合、脱気が十分に且つ確実に行
われることにより、現像不良の発生が抑制されることに
なり、半導体製造の歩留まりが向上することになる。
【００３３】尚、上述した実施形態においては、半導体
製造におけるレジストの現像液を脱気するための脱気装
置１０，３０について説明したが、これに限らず、気体
の加圧によって給送される種々の流体の脱気のために、
本発明が適用されることは明らかである。
製造におけるレジストの現像液を脱気するための脱気装
置１０，３０について説明したが、これに限らず、気体
の加圧によって給送される種々の流体の脱気のために、
本発明が適用されることは明らかである。
【００３４】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、小
型に構成されると共に、流体の脱気が十分に行われるよ
うにした、脱気装置を提供することができる。
型に構成されると共に、流体の脱気が十分に行われるよ
うにした、脱気装置を提供することができる。
【図１】本発明による流体の脱気装置の第一の実施形態
を示す概略斜視図である。
を示す概略斜視図である。
【図２】図１の流体の脱気装置における第一のタンク内
のキャピラリーの構成を示す部分拡大斜視図である。
のキャピラリーの構成を示す部分拡大斜視図である。
【図３】本発明による流体の脱気装置の第二の実施形態
を示す概略斜視図である。
を示す概略斜視図である。
【図４】図１の流体の脱気装置における第一のタンクの
底部を示す部分拡大斜視図である。
底部を示す部分拡大斜視図である。
１０・・・流体の脱気装置、１１・・・流体の供給ライ
ン、１２・・・第一のタンク、１３・・・キャピラリ
ー、１３ａ・・・微細ガラス管、１４・・・供給管、２
０・・・第二のタンク、２１・・・キャップ、２２・・
・真空排気管、２３・・・撹拌装置、３０・・・流体の
脱気装置、３１・・・第一のタンク、３１ａ・・・底
面、３１ｂ・・・突条部、３２・・・供給管、４０・・
・第二のタンク。
ン、１２・・・第一のタンク、１３・・・キャピラリ
ー、１３ａ・・・微細ガラス管、１４・・・供給管、２
０・・・第二のタンク、２１・・・キャップ、２２・・
・真空排気管、２３・・・撹拌装置、３０・・・流体の
脱気装置、３１・・・第一のタンク、３１ａ・・・底
面、３１ｂ・・・突条部、３２・・・供給管、４０・・
・第二のタンク。
Claims (5)
- 【請求項１】 貯蔵源から加圧されて流体が圧送される
供給ライン中に順次に設けられた第一のタンク及び第二
のタンクと、 前記第一のタンクに設けられる脱気促進手段とを備えて
いることを特徴とする流体の脱気装置。 - 【請求項２】 前記第一のタンクが、脱気促進手段とし
て、タンク中段にて上下方向に延びる微細ガラス管を敷
き詰めたキャピラリーを有しており、 このキャピラリーの下方にて貯蔵源からの供給ラインが
開口していると共に、第二のタンクへの供給管が、キャ
ピラリーの上方にて第一のタンク内に開口していること
を特徴とする請求項１に記載の流体の脱気装置。 - 【請求項３】 前記第二のタンクが、減圧されているこ
とを特徴とする請求項２に記載の流体の脱気装置。 - 【請求項４】 前記第二のタンクが、その底部に撹拌手
段を備えていることを特徴とする請求項２に記載の流体
の脱気装置。 - 【請求項５】 前記第一のタンクが、上下に延びる回転
軸の周りに回転駆動されると共に、底面が中心から外側
に向かって下向きに傾斜して形成されており、 第二のタンクへの供給管が、第一のタンクの底面付近に
て第一のタンク内に開口していることを特徴とする請求
項１に記載の流体の脱気装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9125393A JPH10314503A (ja) | 1997-05-15 | 1997-05-15 | 流体の脱気装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9125393A JPH10314503A (ja) | 1997-05-15 | 1997-05-15 | 流体の脱気装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10314503A true JPH10314503A (ja) | 1998-12-02 |
Family
ID=14909037
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9125393A Withdrawn JPH10314503A (ja) | 1997-05-15 | 1997-05-15 | 流体の脱気装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10314503A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007002429A3 (en) * | 2005-06-21 | 2007-06-28 | Intel Corp | Capillary tube bubble containment in liquid cooling systems |
| JP2008053689A (ja) * | 2006-07-26 | 2008-03-06 | Shibaura Mechatronics Corp | 基板の処理装置 |
| CN102452310A (zh) * | 2010-10-19 | 2012-05-16 | 通用汽车环球科技运作有限责任公司 | 具有脱气容器的冷却系统 |
| JP2014090189A (ja) * | 2003-07-09 | 2014-05-15 | Nikon Corp | 露光装置、及びデバイス製造方法 |
| JP2017023990A (ja) * | 2015-07-28 | 2017-02-02 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 塗布装置および塗布方法 |
| JP2019214011A (ja) * | 2018-06-12 | 2019-12-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 脱泡装置および脱泡方法 |
-
1997
- 1997-05-15 JP JP9125393A patent/JPH10314503A/ja not_active Withdrawn
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US9977352B2 (en) | 2003-07-09 | 2018-05-22 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and device manufacturing method |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20040803 |
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| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20040817 |
|
| A072 | Dismissal of procedure [no reply to invitation to correct request for examination] |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A072 Effective date: 20041124 |