JPH10315420A - 酸素ガス高遮断性積層ポリエステルフィルム及びその製造方法ならびに包装材および絶縁材 - Google Patents
酸素ガス高遮断性積層ポリエステルフィルム及びその製造方法ならびに包装材および絶縁材Info
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Abstract
製造でき、光沢が改善された二軸延伸積層ポリエステル
フィルムを提供する。 【解決手段】80重量%以上の熱可塑性ポリエステルか
ら成るベース層と少なくとも一つの被覆層から成る二軸
延伸積層ポリエステルフィルムであって、80重量%以
上の熱可塑性ポリエステルから成るベース層、一つの被
覆層および当該被覆層上に配置される酸素ガス遮断機能
を有する層から成る二軸延伸積層ポリエステルフィルム
であって、当該被覆層は40重量%以上のエチレン−
2,6−ナフタレート単位、40重量%以下のエチレン
テレフタレート単位および60重量%以下の脂環式ジオ
ール及び/又は芳香族ジオールとジカルボン酸から誘導
される単位から成るポリマー又はポリマーの混合物から
成り、積層ポリエステルフィルム、ベース層および被覆
層の第2ガラス転移温度(Tg2)が特定の関係を有す
る。
Description
積層ポリエステルフィルム及びその製造方法ならびに包
装材および絶縁材に関する。
ガス、水蒸気および香りに対し高い遮断効果(低透過率
または低浸透性と同じ意味)が要求される。この種の包
装材を製造する公知の方法としては、使用するプラスチ
ックフィルムに高真空アルミニウムメタル化(金属化)
を施す方法がある。他の公知の方法としては、Si
Ox、AlOxまたはMgOx等のセラミック材料でフィ
ルムを被覆する方法がある。上記物質に対する遮断効果
は、本質的に、フィルム中のポリマーの種類と、施され
る遮断層の品質に依存する。例えば、メタル化した二軸
延伸ポリエステルフィルムは、酸素の様なガスや香りに
対して非常に高い遮断能を有する。また、メタル化した
二軸延伸ポリプロピレンフィルムは、水蒸気に対して非
常に高い遮断能を有する。
テトチップス等)、(パウチ入)二酸化炭素含有飲料の
様な食品や、他の消費物品は、包装材が遮断能を十分有
していない場合、長期保存や長時間輸送により腐敗しま
たは悪臭を放ったり、あるいは風味が失われる恐れがあ
る。上記のメタル化フィルム、またはセラミック被覆フ
ィルムは、良好な遮断特性を有しているため、これらの
食品や消費物品の包装に、特に好適に用いられる。
ムは、技術関連装置の断熱材に適している。例えば、ア
ルミニウムでメタル化されたポリエステルフィルムを冷
蔵庫に使用することにより、冷蔵庫内の断熱を改善する
ことが出来る。このフィルムで達成される断熱は、真空
フラスコの原理に基づいており、この断熱材は、基本的
に2つの積層体(一層以上のアルミニウムでメタル化さ
れたポリエステルフィルム)で構成され、例えば、発泡
材シートが内側に溶着された構成を有する。減圧下で溶
着された発泡シートは、基本的に2つの積層体間でディ
スタンスピースとして働く。必要な減圧を維持するに
は、積層体が非常に高い酸素ガス遮断性を有する必要が
ある。
層を有するポリエステルフィルムを、包装材として使用
する場合、通常その構成は、一層以上から成る複合フィ
ルム(積層体)から成る。このポリエステルフィルムを
使用して製造される袋は、例えば、垂直チューブ状袋形
成機および封止機で、内容物の充填および封止が行われ
る。袋は、その内側(即ち、袋の内容物に面する側)で
封止される。封止層は、通常、ポリエチレンまたはポリ
プロピレンから成る。ここで、複合フィルムは、典型的
には、ポリエステル層/アルミニウム層/接着層/密閉
層、から成る。この積層体の厚さが約50〜150μm
の場合、金属層の厚さは、20〜50nmにすぎない。
従って、この積層体は、アルミニウム層が非常に薄くて
も、十分な光保護性と、非常に良好な遮断特性を有す
る。
の測定は、通常、積層体または包装材自体ではなく、メ
タル化、またはセラミック被覆ポリエステルフィルムに
対して行われる。袋の中に食品やその他の消費物品を比
較的長期間貯蔵しても、内容物が良好な品質を保持する
ためには、メタル化フィルムの酸素ガス透過率(浸透率
と同じ)が、通常、2cm3/m2・bar・day、特
に1cm3/m2・bar・dayを超えないのが好まし
い。包装業界では、1.0cm3/m2・bar・day
を大きく下回る低い透過率の達成を試みており、更に高
度な遮断材が要求されるであろう。
(支持体)の酸素ガス遮断性に関する多くの報告がある
り、例えば、H. Utzの論文、「アルミニウムメタ
ル化したプラスチックフィルムのバリア特性」が挙げら
れる。
細な理論的解析が十分なされていない。しかしながら、
支持体表面と支持体ポリマーの種類およびその形態が遮
断効果に大きく影響を与えることは明らかである。一般
的に、滑らかな表面はより良好な遮断特性をもたらすと
予想される( 前記Utzの論文第38頁を参照)。こ
れに関連して、von Weiss著「Thin So
lids Films」204号、1991年(203
−216頁を参照)報文には、アルミニウムメタル化
後、被覆層中に異なる濃度で二酸化チタン粒子を導入す
ると、二酸化チタンの含有率が上昇するにつれて酸素ガ
ス透過率も高くなると記載されている。また、前記 U
tzの研究結果では、PETフィルムの表面粗さと酸素
ガス遮断性との間に直接的な関係がないと記載されてい
る。
素ガス遮断性が改善されることが知られている( IC
I 5th International Metal
lising Symposium、 カンヌ、198
6年、G.SchrickerのMettalisie
rte Kunststoffolien fur h
oherwertige Verpackungen
「高品質包装メタル化プラスチックフィルム」)。当該
プラスチックフィルムとして、例えば、ポリエステル、
詳しくは、エチレングリコールとテレフタル酸から誘導
される、またはエチレングリコール、テレフタル酸およ
びナフタレン−2,6−ジカルボン酸から誘導される、
ポリエステルが挙げられている。他に、ポリアミド、エ
チレンビニルアルコール共重合体(EVOH)及びポリ
塩化ビニリデンを使用しても好結果が得られると考えら
れる。
は、(a)45〜85モル%のテレフタル酸、(b)1
0〜40モル%のナフタレンジカルボン酸、および
(c)5〜15モル%の炭素数2〜8のジカルボン酸、
および(d)エチレングリコール、(モル%は、ジカル
ボン酸の全体比をベースにする)から誘導される共重合
ポリエステルが記載されている。この共重合ポリエステ
ルは、ガスに対して良好な遮断特性を有することが記載
されているため、ボトル又は容器の製造に、また様々な
厚さのフィルムの製造に使用される。しかしながら、こ
の共重合ポリエステルの不利な点は、ポリエチレンテレ
フタレート(PET)よりも非常に高価であること、ま
たは食料や飲料の包装使用に適さない、および/または
認可されていないことである。
/又はエチレングリコール、テレフタル酸、及びナフタ
レン−2,6−ジカルボン酸から誘導されるポリエステ
ル、及び/又はエチレングリコールとナフタレン−2,
6−ジカルボン酸とから誘導されるポリエステルから成
るベース層と、ポリエチレンテレフタレートとポリエチ
レン−2,6−ナフタレートとから誘導される共重合体
から成る少なくとも一つの被覆層とから成る、共押出し
ポリエステルフィルムも、遮断性フィルム材料として公
知である。被覆層の少なくとも一つは顔料を含む。この
様なフィルムを被覆したり、メタル化することが出来る
ことも知られている。
磁気記録媒体(詳細には磁気テープ)用の、一層以上か
ら成るポリエステルフィルムを記載している。このポリ
エステルフィルムは、主に、エチレングリコールとナフ
タレン−2,6−ジカルボン酸から誘導されるポリエス
テルから成る一つの層と、基本的に、エチレングリコー
ル単位、ジエチレングリコール単位、及びナフタレン−
2,6−ジカルボン酸単位から成る層から成る。このフ
ィルムの片面または両面を被覆することが出来る。
非常に高価であること、適用範囲が制限されること、機
械的性質が劣ること、フィルムの廃棄に問題が生じるこ
と、食料や飲料の包装使用に適さないこと等の問題点が
ある。
ガス高遮断性(1barrの圧力の大気中における、フ
ィルムを通して拡散する酸素ガスが1日当り0.3cm
3/m2・bar・day未満であること)を有する二軸
延伸被覆ポリエステルフィルムを提供することである。
このフィルムの他の特性は、少なくとも、公知のこの種
の包装用フィルムと同等であることが好ましい。更にこ
のフィルムは、低コストで且つ製造が簡単であることが
好ましい。
軸延伸被覆ポリエステルフィルムを提供することであ
る。
発明者らの鋭意検討の結果、80重量%以上の熱可塑性
ポリエステルから成るベース層に特定組成のポリエステ
ル被覆層を積層し、当該被覆層上に酸素ガス遮断機能を
有する層を形成することにより、上記の目的を達成し得
るとの知見を得た。
のであり、その第1の要旨は、80重量%以上の熱可塑
性ポリエステルから成るベース層、一つの被覆層および
当該被覆層上に配置される酸素ガス遮断機能を有する層
から成る二軸延伸積層ポリエステルフィルムであって、
当該被覆層は、40重量%以上のエチレン−2,6−ナ
フタレート単位、40重量%以下のエチレンテレフタレ
ート単位および60重量%以下の脂環式ジオール及び/
又は芳香族ジオールとジカルボン酸から誘導される単位
から成るポリマー又はポリマーの混合物から成り、積層
ポリエステルフィルムの第2ガラス転移温度(Tg2)
がベース層の第2ガラス転移温度(Tg2)より高く、
かつ被覆層の第2ガラス転移温度(Tg2)より低いこ
とを特徴とする酸素ガス高遮断性透明積層ポリエステル
フィルムに存する。
製造方法であって、a)ベース層および被覆層を共押出
してフィルムを作成し、b)当該積層フィルムを二軸延
伸し、c)当該二軸延伸フィルムを熱固定し、d)熱固
定したフィルムに酸素ガス遮断機能を有する層を形成す
ることから成る製造方法に存する。
ら成ることを特徴とする食料品および他の消費物品の包
装材または絶縁材に存する。
本発明の酸素ガス高遮断性透明積層ポリエステルフィル
ム(以下、積層ポリエステルフィルムと略記する)のベ
ース層は、80重量%以上、好ましくは90%以上の熱
可塑性ポリエステルから成る。
により製造される。その出発原料は、ジカルボン酸エス
テルとジオール及び亜鉛塩、カルシウム塩、リチウム
塩、マンガン塩などの公知のエステル交換反応用触媒で
ある。生成した中間体は、更に、三酸化アンチモンやチ
タニウム塩などの重縮合触媒の存在下で重縮合に供され
る。また、ポリエステルの製造は、出発原料のジカルボ
ン酸とジオールに重縮合触媒を存在させて直接または連
続的にエステル化反応を行う方法であってもよい。
ルボン酸、脂環式ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸が
好ましい。
は、ベンゼンジカルボン酸、ナフタレン−1,4−又は
−1,6−ジカルボン酸などのナフタレンジカルボン
酸、ビフェニル−4,4’−ジカルボン酸などのビフェ
ニル−x,x’−ジカルボン酸、ジフェニルアセチレン
−4,4’−ジカルボン酸などのジフェニルアセチレン
−x,x−ジカルボン酸、スチルベン−x,x−ジカル
ボン酸などが挙げられる。
は、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸などのシク
ロヘキサンジカルボン酸が挙げられる。脂肪族ジカルボ
ン酸の好ましい例としては、C3−C19のアルカンジカ
ルボン酸が挙げられ、当該アルカンは直鎖状であっても
分岐状であってもよい。
体的には、エチレングリコールとテレフタル酸から製造
されるポリエチレンテレフタレート(PET)、エチレ
ングリコールとナフタレン−2,6−ジカルボン酸から
製造されるポリエチレン−2,6−ナフタレート(PE
N)、1,4−ビスヒドロキシメチルシクロヘキサンと
テレフタル酸から製造されるポリ(1,4−シクロヘキ
サンジメチレンテレフタレート)(PCDT)、エチレ
ングリコールとナフタレン−2,6−ジカルボン酸とビ
フェニル−4,4’−ジカルボン酸から製造されるポリ
(エチレン2,6−ナフタレートビベンゾエート)(P
ENBB)が好ましい。特にエチレングリコールとテレ
フタル酸から成る単位またはエチレングリコールとナフ
タレン−2,6−ジカルボン酸から成る単位が好ましく
は90%以上、更に好ましくは95%以上から成るポリ
エステルが好ましい。
は、他のジオールおよび/またはジカルボン酸から誘導
されたモノマーである。
コール、トリエチレングリコール、HO−(CH2)n−
OHの式で示される脂肪族グリコール(nは3〜6の整
数を表す、具体的には、1,3−プロパンジオール、
1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、
1,6−ヘキサンジオールが挙げられる)、炭素数6ま
での分岐型脂肪族グリコール、HO−C6H4−X−C6
H4−OHで示される芳香族ジオール(式中Xは−CH2
−、−C(CH3)2−、−C(CF3)2−、−O−、−
S−、−SO2−を表す)、式:HO−C6H4−C6H4
−OHで表されるビスフェノールが好ましい。
カルボン酸、ナフタレンジカルボン酸、ビフェニル−
4,4’−ジカルボン酸などのビフェニル−x,x’−
ジカルボン酸、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸
などのシクロヘキサンジカルボン酸、ジフェニルアセチ
レン−4,4’−ジカルボン酸などのジフェニルアセチ
レン−x,x−ジカルボン酸、スチルベン−x,x−ジ
カルボン酸、C1−C16のアルカンジカルボン酸(当該
アルカンは直鎖状でも分岐状でもよい)が好ましい。
層は、5重量%以上、好ましくは40重量%以上のエチ
レン−2,6−ナフタレート単位、40重量%以下のエ
チレンテレフタレート単位および60重量%以下の脂環
式ジオール及び/又は芳香族ジオールとジカルボン酸か
ら誘導される単位から成るポリマー又はポリマーの混合
物から成る。
チレンテレフタレート単位、ジカルボン酸の具体例は、
前述の通りである。
子を有してもよい一つ以上の環を有する脂環式ジオール
が好ましく、具体的には1,4−シクロヘキサンジオー
ル等のシクロヘキサンジオールが好ましい。
て、HO−C6H4−X−C6H4−OHで示されるジオー
ルが挙げられ(式中Xは−CH2−、−C(CH3)
2−、−C(CF3)2−、−O−、−S−、−SO2−を
表す)、式:HO−C6H4−C6H4−OHで表されるビ
スフェノールも好ましい。
レン−2,6−ナフタレート単位および35重量%以下
のエチレンテレフタレート単位から成り、更に好ましい
被覆層は、70重量%以上のエチレン−2,6−ナフタ
レート単位および30重量%以下のエチレンテレフタレ
ート単位から成る。もちろん、被覆層がエチレン−2,
6−ナフタレート単位のみから成っていてもよい。
造することが好ましい。
ジカルボン酸、エチレングリコールを反応器に供給し、
公知の触媒および安定剤を使用して共重合を行い、共重
合ポリエステルを得る。この場合、テレフタレート単位
およびナフタレート単位はポリエステル分子中にランダ
ムに分布する。
T)、ポリエチレン−2,6−ナフタレート(PEN)
を所望の割合で溶融混合する。溶融混合は、反応器、好
ましくは二軸混合機などの溶融混合機または押出機で行
う。溶融後ただちにポリエステル内でエステル交換反応
が開始する。反応初期はブロック共重合体が製造される
が、反応が進むにつれ−反応温度と撹拌効果によって異
なるが−ブロック共重合体が少なくなり、反応が十分進
むとランダム共重合体となる。しかしながら、所望の物
性はブロック共重合体でも得られるため、必ずしもラン
ダム共重合体に変化するまで反応を続けることが有利で
あるとはいえない。製造した共重合体をダイから押出
し、細粒状化する。
比で混合し、その混合物を被覆層の押出機に供給する。
ここでエステル交換反応をフィルムの製造過程において
直接行う。この方法は、コスト的に有利な方法であり、
ブロック共重合体が製造される。ブロック鎖長は、押出
し温度、押出機の撹拌効果および溶融滞留時間によって
決定される。
0重量%が被覆層を構成するポリマーと同一であること
が好ましい。斯かる好ましい態様は、ベース層の押出し
成型時に添加混合するか、再生工程を別に設けてフィル
ム内に存在させることによって達成される。
上記被覆層を積層し、ベース層の他の面に顔料を含み、
着色したポリエチレンテレフタレート層を積層する。
はアルミニウムから成る。しかしながら、凝集性薄層を
形成可能であれば、他の材料でもよい。例えば、シリコ
ンは、特に好適であり、しかも透明な遮断層が出来ると
いう点でアルミニウムとは異なる性質を有する。セラミ
ック層は、好ましくは周期律表の第II、III又はIV族の
元素の酸化物、詳しくは、マグネシウム、アルミニウム
又はシリコンの酸化物から成る。通常、減圧下または真
空下に金属材料またはセラミック材料をおいて蒸着し、
薄層を形成する。形成される層の厚さは、通常10〜1
00nmである。
反対側のベース層の面(被覆層自体ではない)に施され
る場合、目標とする高い酸素ガス遮断性能は達成できな
い。ベース層と被覆層の組成が本発明で規定している範
囲でない場合も同様に、目標とする高い酸素ガス遮断性
能は達成できない。
よび被覆層を共押出して積層フィルムを得、b)当該積
層フィルムを二軸延伸し、c)当該二軸延伸フィルムを
熱固定し、d)当該熱固定フィルムに酸素ガス遮断機能
を有する層を形成することから成る。
ンテレフタレート及びポリエチレン−2,6−ナフタレ
ートの細粒子を所望の混合比にて押出機に供給する。3
00℃で約5分間滞留することにより、両原料ポリエス
テルを溶融する。この滞留条件下において、エステル交
換反応が起こり、両原料ホモポリエステルから共重合ポ
リエステルが形成される。
って供給される。押出しを行う前に、溶融ポリマーから
不純物などを濾過する。溶融物を共押出しダイを介して
押出し、平坦なフィルムを得た後、ベース層に被覆層が
積層される。共押出しフィルムは、冷却ロールや必要で
あれば他のロールを使用して引き出され、固化させられ
る。
ため、初めに縦方向(長手方向)に延伸し、次いで横方
向に延伸するのが好ましい。これにより分子鎖が配向す
る。縦方向の延伸は、延伸比に対応する異なる回転速度
を有するロールを使用して行われる。横手方向の延伸は
通常テンターフレームを使用して行われる。
性によって決定され、広い範囲で選択できる。通常、縦
方向の延伸は80〜130℃の温度で、横方向の延伸は
90〜150℃温度で行われる。縦方向の延伸比は、通
常2.5:1〜6:1、好ましくは3:1〜5.5:1
である。横方向の延伸比は、通常3.0:1〜5.0:
1、好ましくは3.5:1〜4.5:1である。熱固定
は150〜250℃の温度において0.1〜10秒間行
われる。
より、フィルムの片面または両面にインライン被覆を施
すことが出来る。インライン被覆により、例えば、金属
層または塗布される印刷インキの接着性が改善され、あ
るいはフィルムの帯電防止またはフィルムの加工処理性
の改善に役立つ。
ルムに酸素ガス遮断機能を有する層を形成する前に、片
面または両面にコロナ処理または火炎処理を施すことが
出来る。当該処理は、通常、フィルムの表面張力が45
mN/mを超える様に選択して行われる。
金属層またはセラミック層は、通常の工業用装置で形成
出来る。アルミニウムの金属層は、通常、メタル化によ
り形成される。これに対し、セラミック層は、電子ビー
ムプロセス又はスパッタリングでも形成できる。フィル
ムへの金属層またはセラミック層の形成時における製造
条件は、標準条件を採用出来る。フィルムのメタル化
は、好ましくは、メタル化されたフィルムの光学的濃度
が通常範囲である約2.2〜2.8になる様に行われ
る。セラミック層は、酸化物層が好ましくは30〜10
0nmの範囲になる様にフィルムに施される。被覆され
るフィルムのウェブ速度は、通常、全ての条件において
5〜10 m/秒である。通常、実験室規模でのメタル
化システムを使用して製作したフィルムは遮断性能が非
常に高い。そのため、比較目的に使用できないので、実
験室規模でのメタル化システムの使用は避けられる。
を供給するため、押出機を閉塞させることがないという
大きな技術メリットがある。
層のポリマーの溶融粘度が大きく異ならない様にポリマ
ーを選択することが好ましい。ベース層と被覆層のポリ
マーの溶融粘度が大きく異なると、溶融ポリマーの流動
に乱れが生じ、フィルムに縞が入ることもある。ベース
層と被覆層のポリマーの溶融粘度の値は、溶液粘度を補
正した値(SV)で表される。二軸延伸フィルムの製造
に好適な市販ポリエチレンテレフタレートのSV値は6
00〜1000である。所望の性質を有するフィルムを
得るために、被覆層の共重合体のSV値は500〜12
00であることが好ましい。必要とされるSV値にポリ
マーを調整するために、それぞれのポリマー細粒子に対
して固相重合を行ってもよい。ベース層と被覆層のポリ
マーのSV値の差は通常200以下、好ましくは100
以下である。
性に優れている。1 バールの圧力で、本発明のフィル
ムを通って拡散することが出来る大気中の酸素ガスは、
0.3cm3/m2/day未満、好ましくは、0.25
cm3/m2/day未満、更に好ましくは、0.20c
m3/m2/day未満である。被覆層に使用するポリマ
ーのエチレン−2,6−ナフタレート単位を40重量%
より少なく、エチレンテレフタレート単位を40重量%
より大きくした場合、ポリエチレンテレフタレート10
0重量%から成る標準的なポリエステルフィルムの酸素
透過量に比較して多少低い場合があるが、それでも、本
発明のフィルムよりはるかに酸素透過量が大きい。被覆
層に使用するポリマーがエチレン−2,6−ナフタレー
ト単位30〜40重量%、エチレンテレフタレート単位
60〜70重量%から成る場合の酸素ガス遮断性は、標
準ポリエステルのそれに比べてむしろ劣っている。しか
しながら、エチレン−2,6−ナフタレート単位が5〜
40重量%、エチレンテレフタレート単位が40重量%
より大きいポリマーを被覆層に使用したフィルムを、酸
素ガス遮断性を問題としないフィルムに使用するのであ
れば、上記の様な酸素ガス遮断性であっても有用である
かもしれない。
(共)重合ポリマーまたは(共)重合ポリマーの混合物
のガラス転移温度(Tg)は公知のそれと異なり、ベー
ス層を構成するポリマーのガラス転移温度(Tg)より
も高い。被覆層の(共)重合ポリマーのTgは、好まし
くは80〜100℃である。示差走査熱量計(DSC)
測定において、ベース層と被覆層のガラス転移温度は異
なる。
熱測定した際に観測されるガラス転移は(以下Tg1と
記す)、試料中の非晶部分の分子間応力によるもので、
そのDSCのピークは比較的小さく、温度幅が広く、高
温側にシフトして観測される。これは延伸配向による影
響であり、ポリマーの特性付けには適さない。DSC測
定の解析を行う上で、本発明のフィルムの個々の層のガ
ラス転移温度を最初のDSC測定におけるピーク(Tg
1)とすることは、延伸配向や結晶化の影響によりピー
クが不明確で小さくなるため、不十分な場合がある。
下に急冷したならば、延伸配向の影響はなくなる。再度
加熱すると、より大きなピーク強度でガラス転移温度が
測定され(第2ガラス転移温度以下Tg2と記す)、各
ポリマーを特性付けることが出来る。しかしながら、溶
融中に両層が混合したり、両層のポリエステルがエステ
ル交換を起こすため、この方法においても個々のガラス
転移温度を区別できない。そこで、フィルムのTg2と
ベース層、被覆層に使用したポリマーのTg2を比較す
ることにより、特性付けを行う。従来公知の積層フィル
ムのベース層のTg2は共押出したフィルムのTg2よ
り高い。一方、被覆層のTg2はベース層のTg2より
低く、更に共押出したフィルムのTg2より低い。とこ
ろが、本発明のフィルムのTg2の関係は、従来公知の
積層フィルムのTg2の関係と全く逆である。すなわ
ち、共押出したフィルムのTg2はベース層のTg2よ
り高く、被覆層のTg2よりも低い。
キング剤などの公知の添加剤を含有してもよい。添加剤
はポリマー又はポリマーの混合物が溶融する前に加え
る。安定剤としては、リン系化合物リン酸塩やリン酸エ
ステル等が例示される。耐ブロッキング剤(顔料も含ま
れる)としては、無機および/または有機粒子が好まし
く、具体的には、炭酸カルシウム、非晶シリカ、タル
ク、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウ
ム、硫酸バリウム、リン酸リチウム、リン酸カルシウ
ム、リン酸マグネシウム、アルミナ、LiF、ジカルボ
ン酸のカルシウム、バリウム、亜鉛またはマンガン塩、
カーボンブラック、二酸化チタン、カオリン、架橋ポリ
スチレン粒子、架橋アクリレート粒子などが例示され
る。
キング剤を添加してもよく、また、同じ種類で且つ粒径
が異なる粒子の混合物を添加してもよい。重縮合中のグ
リコール分散系または押出し中マスターバッチを介し
て、個々の層に添加する粒子を通常量添加する。顔料の
含有量は、好ましくは0.0001〜5重量%である。
耐ブロッキング剤に関する詳細は欧州特許EP−A−0
602964号公開公報に記載されている。
め、塗布および/またはコロナまたは火炎処理を施して
もよい。塗布によって形成される層によって、接着力を
強めたり、帯電防止性や滑り性の改良したり、剥離性を
持たせることが出来る。この様な付加的な層は、横延伸
を行う前に水分散剤を使用したインラインコティングに
よって形成される。
ことが好ましい。第2の被覆層の厚さや構成は、既にあ
る第1の被覆層のそれと独立して決定することが出来
る。第2の被覆層は、上述のポリマー又はポリマーブレ
ンドから成っていてもよいが、必ずしも第1の被覆層の
構成ポリマーと一致させる必要はない。また、第2の被
覆層は、他の従来公知に使用されている被覆層用ポリマ
ーから成っていてもよい。
中間層を設けてもよい。中間層は、上述のベース層の説
明に於て記載されているポリマーから成る。好ましい態
様においては、ベース層に使用されているポリマーから
成る。中間層は上述の公知の添加剤を含有してもよい。
中間層の厚さは、通常0.3μmより大きく、好ましく
は0.5〜15μm、更に好ましくは1〜10μmであ
る。
く、好ましくは0.2μm以上、更に好ましくは0.3
μm以上である。被覆層の厚さの上限値は、通常5μ
m、好ましくは4.5μm、更に好ましくは4μmであ
る。被覆層が2つある場合、両者の厚さは同一でも異な
っていてもよい。
は、応用する材料の種類により広い範囲を取り得るが、
好ましくは4〜100μm、更に好ましくは5〜50μ
m、特に好ましくは6〜30μmであり、ベース層の厚
さはフィルムの総厚さの40〜90%であることが好ま
しい。
リエステルからフィルムを製造するのに要するコストよ
りやや高いだけであり、本発明の製造方法は製造コスト
の観点から優れているといえる。本発明のフィルムの加
工や使用における他の物性は、基本的に変化しないか或
いは改良される。更に、通常、フィルムの総量の20〜
50重量%の含有量で、フィルムの物性に悪影響を及ぼ
すことなくフィルム製造中に再生品を使用できる。
物品の包装材として好適に使用することが出来る。この
フィルムは、コーヒー、詳細には、粉末コーヒーの真空
パックの製造に適している。又、このフィルムは、冒頭
で説明した、冷蔵庫などで使用する断熱シートの様な断
熱材料の製造にも好適に使用することが出来る。
するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施
例に限定されるものではない。尚、本発明における各種
の物性の測定方法は下記のとおりである。
orgen Instruments Corp社の一
部)を使用して、光学濃度を測定した。 光学濃度は式
OD= −log (I/I0)より決定した。但し、I
は入射光の強度、I0は透過光の強度、 I/I0は透過
率である。
ontrols社製OX−TRAN 2/20を使用
し、DIN53 380、Part3の準じて測定し
た。
溶液を使用して測定した。この溶液粘度と純溶媒の粘度
をウベローデ型粘度計により測定し、両者の比から1を
減じ、1000倍した値をSV値とした。
準じて測定した。
準じて測定した。
準じて測定した。ヘルツヘーズは、ASTM−D 10
03−52を基にして決定した。しかしながら、もっと
も効果的な測定範囲を使用するために、4枚のフィルム
を重ね、1°の隔壁スリットを4°のピンホールの代り
に使用して測定を行った。
率を、フィルム表面の光学的特性として測定した。AS
TM−D 523−78及びISO 2813を基準と
し、入射角を20°及び60°とした。所定の入射角で
試料の平坦な表面に光線を照射すると、反射および/ま
たは散乱が起こる。光電検知器に当った光が電気的な比
率変数として表示される。得られた無次元値は入射角と
共に表示される。
(DSC)により測定した。DSCとしてはDuPon
t社製「DSC 1090」を使用した。昇温速度は2
0K/分で、試料の重さは12mgであった。最初の昇
温において、ガラス転移温度Tg1を決定した。多くの
試料の測定において、ガラス転移段階的な始まりである
エンタルピー緩和(ピーク)が認められた。ガラス転移
は熱容量における段階的な変化であるため、エンタルピ
ー緩和のピークの形からガラス転移温度は分からない。
そのため、最初の昇温過程においてピークの半値に達し
た時の温度をTg1とした。全ての測定において、最初
の昇温過程では、唯一のガラス転移が熱量曲線上に認め
られた。ピークの形をしたエンタルピー緩和はガラス転
移段階を曖昧にしたり、配向結晶化した試料の”ぼんや
り”としたガラス転移を区別することが測定装置の解像
度では不十分なことがあり得る。この様な熱履歴を解消
するために、試料を300℃で5分間加熱した後、液体
窒素を使用して急冷する。再度昇温し、熱量曲線上に現
れたピークの半値に達した時の温度を第2ガラス転移温
度(Tg2)とした。
および会社名は、最初に限り記すものとし、それ以降は
省略する。
た。ジメチルテレフタレート及び2,6−ジメチルナフ
タレンジカルボキシレートを0.54:1.00のモル
比で混合し(最終的な共重合体の成分比はエチレンテレ
フタレート単位30重量%及びエチレン2,6−ナフタ
レート単位70重量%と成る)、更に、エチレングリコ
ール及び触媒として300ppmの酢酸マンガンを混合
した。撹拌下、温度160〜250℃、常圧下で、生成
したメタノールを除去しながらエステル交換反応行っ
た。安定剤としてリン酸を等モル量、触媒として400
ppmの三酸化アンチモンを加えた。撹拌下、温度28
0℃、1mbarより低い圧力にて重縮合を行った。分
子量は、撹拌におけるトルクを測定することによって決
定した。反応終了後、窒素ガス圧を使用して反応器から
溶融体を取出し、ペレット化した。
チレン−2,6−ナフタレートペレットを使用した。各
ペレットを約160℃で4時間かけて、結晶化させ、乾
燥した。ポリエチレンテレフタレートペレットとポリエ
チレン−2,6−ナフタレートペレットを重量比30:
70でミキサーに供給し、撹拌して均一にした。その混
合物を2軸混合機(「ZSK」:Werner and
Pfleiderer社製(シュトゥットガルト))
に供給し、約300℃、滞留時間約3分の条件で押出
し、チップ化した。押出機内でポリエチレンテレフタレ
ートとポリエチレン−2,6−ナフタレートとが反応す
ることにより、共重合体を製造した。
チップとポリエチレン−2,6−ナフタレートチップを
重量比30:70で直接的に単軸押出機に供給し、30
0℃で押出した以外は実施例2と同様の操作を行い、共
重合体を製造した。溶融体を濾過し、共押出しダイを介
して押出すことにより、被覆層がベース層に積層された
平坦なフィルムを得た。共押出しフィルムをダイリップ
から引き取り、冷却ロール上で固化させた。押出しの際
の両ポリマーの滞留時間は約5分であった。以下、実施
例2に示す条件および方法で共重合体を製造した。
mとなる様に160℃で乾燥し、ベース層用の押出機に
供給した。他方、ポリエチレンテレフタレートチップと
ポリエチレン−2,6−ナフタレートチップを重量比3
0:70で混合し、残留水分50ppmとなる様に16
0℃で乾燥し、被覆層用の2台の押出機に供給した。実
施例3と同様の条件下で被覆層の押出し条件を行った。
総厚さは12μmであり、得られたフィルムを、更に、
縦方向および横方向に延伸した。延伸後の被覆層の厚さ
はそれぞれ2.0μmであった。次に、工業用メタライ
ザでフィルムの一方の面をアルミニウムでメタル化し
た。被覆速度を5m/秒とした。実施例4における積層
フィルムのベース層および被覆層の構成を表1に示す。
に示す。
性(0.3cm3/m2・bar・day未満)を有して
いた。
を実施例4と同様の操作により製造した。フィルムの総
厚さは12μmで、それぞれの被覆層の厚さは2.0μ
mであった。
て、真空中、上記フィルムのアルミニウムによるメタル
化を行った。被覆速度は5m/秒であった。実施例5に
おける積層フィルムのベース層および被覆層の構成を表
3に示す。フィルムの製造条件は実施例4と同じであっ
た。
化させた以外は、実施例5と同様の操作により、ベース
層と2つの被覆層から成る3層共押出しフィルムを製造
した。フィルムの製造条件は実施例4と同じであり、被
覆層のメタル化条件は実施例5と同じであった。
化させた以外は、実施例5と同様の操作により、ベース
層と2つの被覆層から成る3層共押出しフィルムを製造
した。フィルムの製造条件は、長手方向および横方向の
延伸温度を10℃高くした以外は実施例4と同じであっ
た。被覆層のメタル化条件は実施例5と同じであった。
を実施例4と同様の操作により製造した。フィルムの総
厚さは12μmで、それぞれの被覆層の厚さは2.0μ
mであった。実施例8における積層フィルムのベース層
および被覆層の構成を表6に示す。フィルムの製造条件
は実施例4と同じであり、被覆層のメタル化条件は実施
例5と同じであった。
を使用した以外は、実施例4と同様の操作により3層共
押出しフィルムを製造した。フィルムの製造条件は実施
例4と同じであった。
を使用した以外は、実施例4と同様の操作により3層共
押出しフィルムを製造した。フィルムの製造条件は実施
例4と同じであった。
成る2層共押出しフィルムを製造した。フィルムの総厚
さは12μmで、被覆層の厚さは2.5μmであった。
実施例11における積層フィルムのベース層および被覆
層の構成を表7に示す。フィルムの製造条件は実施例4
と同じであり、被覆層のメタル化条件は実施例5と同じ
であった。
は、実施例7と同様の操作によって2層共押出しフィル
ムを製造した。
を実施例5と同様の操作により製造した。フィルムの総
厚さは12μmで、それぞれの被覆層の厚さは2.0μ
mであった。実施例13における積層フィルムのベース
層および被覆層の構成を表8に示す。フィルムの製造条
件は実施例7と同じであり、被覆層のメタル化条件は実
施例5と同じであった。実施例7〜8のフィルムと比較
すると、カールの発生が非常に少なくなった。
ト82重量%及びエチレンイソフタレート18重量%の
共重合体に変更した以外は実施例11と同様の操作によ
って2層共押出しフィルムを製造した。
トフィルムを製造した後、メタル化を施した。メタル化
する前のフィルムは比較的曇っていた。メタル化された
後のフィルムは光沢が減少していた。
ナフタレートフィルムを製造した後、メタル化を施し
た。このフィルムのガス遮断性は非常に良好であった。
ら成る2層共押出しフィルムを製造した。フィルムの総
厚さは12μmで、被覆層の厚さは2.5μmであっ
た。比較例4における積層フィルムのベース層および被
覆層の構成を表11に示す。
を実施例8と同様の操作により製造した。被覆層のメタ
ル化は、表6の被覆層Cではなく被覆層Aに対して行っ
た。
たフィルムの特性を表12及び13に纏めて示す。表
中、ベース層を「B]、被覆層を「A」で表す。被覆層
については、その組成がメタル化した被覆層またはセラ
ミック被覆した被覆層の場合「C」で表し、メタル化し
てない被覆層は「A」で表す。それに相応して、メタル
化またはセラミック被覆した層が配置されるフィルムの
面を「A面」で表し、メタル化またはセラミック被覆し
てない面を、この面に被覆層Cが無くても「C面」で表
す。
ルムは、酸素ガス高遮断性を有し、光沢が改善され、低
コストで且つ簡単に製造できるため、食品や飲料用の包
装材料として好適であり、その工業的価値は高い。
Claims (29)
- 【請求項1】 80重量%以上の熱可塑性ポリエステル
から成るベース層と少なくとも一つの被覆層から成る二
軸延伸積層ポリエステルフィルムであって、80重量%
以上の熱可塑性ポリエステルから成るベース層、一つの
被覆層および当該被覆層上に配置される酸素ガス遮断機
能を有する層から成る二軸延伸積層ポリエステルフィル
ムであって、当該被覆層は40重量%以上のエチレン−
2,6−ナフタレート単位、40重量%以下のエチレン
テレフタレート単位および60重量%以下の脂環式ジオ
ール及び/又は芳香族ジオールとジカルボン酸から誘導
される単位から成るポリマー又はポリマーの混合物から
成り、積層ポリエステルフィルムの第2ガラス転移温度
(Tg2)がベース層の第2ガラス転移温度(Tg2)
より高く、かつ被覆層の第2ガラス転移温度(Tg2)
より低いことを特徴とする酸素ガス高遮断性積層ポリエ
ステルフィルム。 - 【請求項2】 前記被覆層が、65重量%以上のエチレ
ン−2,6−ナフタレート単位および35重量%以下の
エチレンテレフタレート単位から成る請求項1に記載の
フィルム。 - 【請求項3】 前記被覆層が、70重量%以上のエチレ
ン−2,6−ナフタレート単位および30重量%以下の
エチレンテレフタレート単位から成る請求項1に記載の
フィルム。 - 【請求項4】 前記被覆層の厚さが0.1μmより大き
い請求項1〜3の何れかに記載のフィルム。 - 【請求項5】 前記被覆層の厚さが0.2〜5.0μm
である請求項1〜3の何れかに記載のフィルム。 - 【請求項6】 前記被覆層の厚さが0.2〜4.0μm
である請求項1〜3の何れかに記載のフィルム。 - 【請求項7】 前記被覆層が着色している請求項1〜6
の何れかに記載のフィルム。 - 【請求項8】 前記フィルムが、酸素ガス遮断機能を有
する層が配置されている面と反対側の前記ベース層の面
上に、更に被覆層を有する、請求項1〜7の何れかに記
載のフィルム。 - 【請求項9】 請求項8に記載の更なる被覆層が着色し
ている請求項8に記載のフィルム。 - 【請求項10】 前記ベース層と、少なくともひとつの
前記被覆層との間に更に中間層を有する請求項1〜10
の何れかに記載のフィルム。 - 【請求項11】 フィルム総厚さが4〜100μmであ
り、前記ベース層の厚さがフィルム総厚さの40〜90
%である請求項1〜10の何れかに記載のフィルム。 - 【請求項12】 フィルム総厚さが5〜50μmであ
り、前記ベース層の厚さがフィルム総厚さの40〜90
%である請求項1〜10の何れかに記載のフィルム。 - 【請求項13】 フィルム総厚さが6〜30μmであ
り、前記ベース層の厚さがフィルム総厚さの40〜90
%である請求項1〜10の何れかに記載のフィルム。 - 【請求項14】 酸素ガス遮断機能を有する層が金属層
であり、この金属層が2.2〜2.8の光学濃度を有す
る請求項1〜13の何れかに記載のフィルム。 - 【請求項15】 酸素ガス遮断機能を有する層がアルミ
ニウム、シリコン、SiOx、AlOxまたはMgO xか
ら成る請求項1〜14の何れかに記載のフィルム。 - 【請求項16】 酸素透過量が0.3cm3/m2・ba
r・dayより小さい請求項1〜15の何れかに記載の
フィルム。 - 【請求項17】 酸素透過量が0.25cm3/m2・b
ar・dayより小さい請求項1〜15の何れかに記載
のフィルム。 - 【請求項18】 酸素透過量が0.2cm3/m2・ba
r・dayより小さい請求項1〜15の何れかに記載の
フィルム。 - 【請求項19】 80重量%以上の熱可塑性ポリエステ
ルから成るベース層、一つの被覆層および当該被覆層上
に配置される酸素ガス遮断機能を有する層から成る二軸
延伸透明積層ポリエステルフィルムであって、当該被覆
層は、5重量%以上のエチレン−2,6−ナフタレート
単位、40重量%以下のエチレンテレフタレート単位お
よび60重量%以下の脂環式ジオール及び/又は芳香族
ジオールとジカルボン酸から誘導される単位から成るポ
リマー又はポリマーの混合物から成り、ポリエステルフ
ィルムの第2ガラス転移温度(Tg2)がベース層の第
2ガラス転移温度(Tg2)より高く、かつ被覆層の第
2ガラス転移温度(Tg2)より低いことを特徴とする
酸素ガス高遮断性積層ポリエステルフィルム。と少なく
とも一つの被覆層 - 【請求項20】 請求項1〜19に記載のフィルムの製
造方法であって、a)ベース層および被覆層を共押出し
て積層フィルムを得、b)当該積層フィルムを二軸延伸
し、c)当該二軸延伸フィルムを熱固定し、d)熱固定
したフィルムに酸素ガス遮断機能を有する層を形成する
ことから成ることを特徴とする製造方法。 - 【請求項21】 前記二軸延伸を連続的に行う請求項2
0に記載の方法。 - 【請求項22】 前記二軸延伸が長手方向延伸と横方向
延伸から成り、当該長手方向延伸が80〜130℃で行
われ、当該横方向延伸が90〜150℃で行われる請求
項21に記載の方法。 - 【請求項23】 前記縦方向延伸における延伸比が2.
5:1〜6:1、前記横方向延伸における延伸比が3.
0:1〜5.0:1である請求項21または22に記載
の方法。 - 【請求項24】 前記縦方向延伸における延伸比が3:
1〜5.5:1、前記横方向延伸における延伸比が3.
5:1〜4.5:1である請求項21または22に記載
の方法。 - 【請求項25】 前記熱固定を150〜250℃の温度
で、約0.1〜10秒間行う請求項20〜24の何れか
に記載の方法。 - 【請求項26】 酸素ガス遮断機能を有する層を形成す
る前に、前記熱固定フィルムをインライン被覆する請求
項20〜25の何れかに記載の方法。 - 【請求項27】 酸素ガス遮断機能を有する層を形成す
る前に、前記熱固定フィルムの片面または両面をコロナ
処理または火炎処理した請求項20〜26の何れかに記
載の方法。 - 【請求項28】 請求項1〜19に記載のフィルムから
成ることを特徴とする食料品および他の消費物品の包装
材。 - 【請求項29】 請求項1〜19に記載のフィルムから
成ることを特徴とする絶縁材。
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| DE19720505.4 | 1997-05-15 | ||
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