JPH10318982A - 電気泳動装置 - Google Patents
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- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 123
- 239000000872 buffer Substances 0.000 claims abstract description 48
- 238000001962 electrophoresis Methods 0.000 claims description 186
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 126
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 126
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 125
- 239000007853 buffer solution Substances 0.000 claims description 75
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 38
- 238000013508 migration Methods 0.000 claims description 32
- 230000005012 migration Effects 0.000 claims description 32
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 15
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 14
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 14
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 4
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 abstract description 17
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 3
- 235000014121 butter Nutrition 0.000 abstract 2
- GOEMGAFJFRBGGG-UHFFFAOYSA-N acebutolol Chemical compound CCCC(=O)NC1=CC=C(OCC(O)CNC(C)C)C(C(C)=O)=C1 GOEMGAFJFRBGGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 abstract 1
- 229940082552 sectral Drugs 0.000 abstract 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 77
- 238000000034 method Methods 0.000 description 30
- 239000010408 film Substances 0.000 description 25
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 14
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 13
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 12
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 10
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 10
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 10
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 7
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000012488 sample solution Substances 0.000 description 6
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 5
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 238000005251 capillar electrophoresis Methods 0.000 description 3
- 238000001997 free-flow electrophoresis Methods 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 2
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000347 anisotropic wet etching Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005370 electroosmosis Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 238000005194 fractionation Methods 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000004518 low pressure chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000005459 micromachining Methods 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 150000003376 silicon Chemical class 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 1
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 1
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Micromachines (AREA)
Abstract
とともに試料の自然拡散を抑え、安定して試料中の特定
成分を分取することができる電気泳動装置を提供する。 【解決手段】泳動室内に緩衝液を流動させ試料中の特定
の成分を電気泳動により分離する電気泳動装置におい
て、第1のガラス板と第2のガラス板とこの第1および
第2のガラス板によって挟持されたシリコン板とによっ
て形成された扁平な空隙に緩衝液を流し泳動室とし、泳
動室内の第1のガラス板上に、緩衝液の流れる方向に沿
って第2のガラス板との間の空隙を有する細長い棒状の
案内部材を設ける。
Description
て液体試料の分析、及び液体試料中の特定の成分の分
離、分取等に用いることができる電気泳動装置、特に小
型電気泳動装置に関するものである。
料中の特定の成分の分離に用いられるが、近年キャピラ
リ電気泳動がその分離能力の高さから注目を集めてい
る。キャピラリ電気泳動装置は、キャピラリと高電圧装
置と光学的検出系等の検出器とから構成することができ
る。キャピラリは本電気泳動装置の心臓部であり、一般
に溶融石英ガラスを中空円筒状に細長く引き延ばし、更
に、その周囲をポリイミド樹脂でコーティングすること
によって補強したものが用いられる。この方法の特徴は
直径が150μ以下の細管の中で分析が行われるため、
体積に比較して界面の影響の強い場での分析である。こ
れにより、キャピラリ電気泳動は界面での電気浸透流を
有効に利用した分析と言われている。
り、シリコン基板やガラス基板にリソグラフィー技術を
用いて溝を形成して構成したキャピラリを用い、そこで
電気泳動を行うことも試みられるようになっている。こ
の技術を用いることにより自由な形状のキャピラリを形
成することができ、その応用範囲が拡大することが期待
されている。
ステムにも、マイクロマシン技術の応用が試みられるよ
うになってきた。特開平5−80032号公報にはフリ
ーフロー電気泳動を応用した試料の前処理システムが開
示されている。
シリコン板にエッチングあるいは機械加工によって泳動
室となる凹部を設け、この泳動室に緩衝液を連続的に一
定方向に流し流路とする。この泳動室内には緩衝液の流
れる方向と直角に電界を印加する1対の電極が配置され
ている。緩衝液が流れている流路中に試料溶液を滴下す
ると試料溶液は緩衝液によって運ばれて行くが、電極に
電圧を印加することによって緩衝液の流れと直角方向に
電界が形成され、試料中の電荷を帯びた成分がその電荷
量および分子の大きさに応じて移動することによって電
気泳動が行われ、試料溶液中の特定の成分が分離され
る。
端を細分化することによって、試料溶液中の分離された
成分の中から特定の成分を取り出すことができ、試料溶
液の前処理を行うことができる。
装置では扁平な空隙を泳動室として、緩衝液導入口から
緩衝液を導入し、泳動室内に緩衝液を層流として流す。
試料溶液は泳動室内の緩衝液が層流となった部分に微量
かつ連続的に導入される。泳動室内の緩衝液の層流は安
定しているとともに泳動室内に試料を導入した時の自然
拡散は少なく、電界を印加したときに電気泳動によって
試料が分離されるような状態が最も望ましい。
泳動室内の緩衝液の流れを層流に保つとともに試料の自
然拡散を抑えることができ、安定して試料中の特定成分
を分取することのできる電気泳動装置を提供することを
目的としたものである。
きたとはいえ、小型のフリーフロー電気泳動装置に用い
られる泳動室の形成に必要な微細加工技術は主にシリコ
ンに対してのもので、石英やパイレックスなどのガラス
板については十分な微細加工技術が確立されているとは
いえない。ガラス板は絶縁性に優れており、泳動室内に
電界を印加した場合に泳動室を形成するガラス板を通し
て電流がリークしない利点があるが、ガラス板を加工し
て小型のフリーフロー電気泳動装置の泳動室に必要な微
細な形状を形成するのは困難である。また泳動室を形成
する各部材間の接合についても、シリコンとパイレック
スガラス間では陽極接合を用いることによって、強固に
且つ精密に接合を行うことができるが、ガラス同士を精
密に接合するのは非常に困難である。従って、シリコン
に微細加工を行い、このシリコンにパイレックスガラス
を陽極接合することによって微細な構造をもつ泳動室を
形成することが考えられる。
した場合、電気泳動を行う際に問題があることが明らか
になってきた。すなわち、電気泳動をおこなう際には泳
動室内の電極間に数十〜数百V/cmの電圧を印加する
が、シリコン板の絶縁性が十分でない為に、泳動室内の
緩衝液を通してではなくシリコン板内を電流が流れてし
まい、電気泳動が十分に行えないという問題があった。
シリコン板に形成した泳動室内の絶縁性を高めるため
に、シリコン板の表面をシリコン酸化膜で覆うことが行
われていたが、シリコン酸化膜では十分な絶縁性が得ら
れなかった。
ン板を用いて泳動室を形成してもシリコン板内を電流が
流れにくく、泳動室内に電気泳動に必要な泳動電流を流
すことができる電気泳動装置を提供することを目的とし
たものである。
動室を形成する場合には、陽極接合が用いられる。陽極
接合はパイレックスガラスの上面を陰極とし、対向する
シリコン板の面を陽極として加熱しながら接合する方法
である。印加する電圧は800〜1000V、加熱温度
は400〜500度である。陽極接合を用いるとガラス
板とシリコン板を極めて高い精度で強固に接合すること
ができる。しかし、シリコン板が相互に絶縁された複数
のブロックに分割されている場合には、それぞれのブロ
ックごとに電極を用意して陽極接合を行うか、あるいは
ブロック一つづつについて接合を行う必要があり、ガラ
ス板とシリコン板の接合が非常に煩雑な工程となる。
コン板とガラス板を陽極接合する際に、シリコン板が互
いに絶縁された複数のブロック部に分かれている場合に
もブロックごとに陽極接合用の配線を設ける必要がな
く、簡易な工程でシリコンブロックをガラス板に接合す
ることができる電気泳動装置の製造方法を提供すること
を目的としたものである。
に、請求項1に記載の発明は、緩衝液を一定の方向に流
すための扁平な空隙を流路とする泳動室と、この泳動室
の流路上流に設けられた緩衝液導入口と、前記泳動室に
試料を注入するための試料導入口と、前記泳動室の流路
下流に設けられた緩衝液排出口と、この緩衝液排出口の
一部に設けられた試料の特定成分を取り出すための試料
分取口と、前記泳動室内に互いに離間して設けられ、前
記泳動室内の緩衝液に電界を印加するための第1の電極
と第2の電極とを有し、前記泳動室内に緩衝液を流動さ
せ試料中の特定の成分を電気泳動により分離する電気泳
動装置において、前記泳動室は、その上下を第1および
第2のガラス板、その周囲を前記第1および第2のガラ
ス板に挟持されたシリコン板により隔てられた空隙とし
て形成され、前記泳動室内の前記第1のガラス板上に、
緩衝液の流れる方向に沿って前記第2のガラス板との間
に空隙を有する細長い棒状の案内部材を設けたことを特
徴とする。
とによって、泳動室内の緩衝液の流れは案内部材に沿っ
た方向に規制され、緩衝液の層流が安定すると共に試料
の自然拡散が抑えられる。また、案内部材と対向してい
るガラス板間には空隙があるので、この部分を通じて、
試料中の電荷を帯びた成分が移動することができる。こ
のような案内部材に沿った緩衝液の流れに試料を導入し
電気泳動をおこなえば、試料の拡散が抑えられ精密な分
離をおこなうことが可能となる。さらに案内部材を複数
並列に設けるようにすれば、泳動室内の緩衝液の流れを
より乱れの少ない層流とすることができるので、より効
率の高い分離を行うことができる。
求項1に記載の電気泳動装置において、前記案内部材
は、前記第2のガラス板と対向する部分に前記第2のガ
ラス板に当接する突起を有することを特徴とする。
ラス板に当接することによって、泳動室を形成する第1
と第2のガラス板の間隔を一定に保持することができ
る。ガラス板やシリコン板の平坦性や加工精度の影響を
受けることなく泳動室の厚みが一定に保たれるため、緩
衝液の層流が安定しより精密な分離を行うことができ
る。また、突起を設けることで案内部材と対向する第2
のガラス板の間隔を極めて小さく保持することが可能と
なり、案内部材と直交する方向の試料の自然拡散を抑え
ることができるので、効率の高い分離が可能となる。
1または2に記載の電気泳動装置において、前記案内部
材は前記シリコン板と同じ材質からなることを特徴とす
る。シリコン板は微細加工が容易であり、また泳動室の
外枠を形作るシリコン板のパターンブロックと同時に形
状を加工することが出来るので、案内部材の形成を容易
に行うことができる。
1、2または3に記載の電気泳動装置において、前記試
料導入口は、前記泳動室内の前記案内部材が設けられた
流路領域の上流側領域に、前記第1または第2のガラス
板を貫通して設けられていることを特徴とする。
で、泳動室内の案内部材の設けられた領域では案内部材
のない部分と比較して緩衝液の流れがより安定した層流
となっているので、泳動室内での試料の拡散を抑えるこ
とができ、より正確な分離ができる。
1、2、3または4に記載の電気泳動装置において、前
記試料分取口は、その上面および下面がそれぞれ前記第
1および第2のガラス板と当接して前記緩衝液排出口を
複数に分割する、前記案内部材と一体に成形された隔壁
により形成されていることを特徴とする。
隔壁を一体に形成することで、案内部材間を流れてきた
緩衝液は隔壁間の試料分取口に流れ込む。したがって、
試料分取口の隔壁によっておこる緩衝液の流れの乱れを
抑えることができ、電気泳動によって分離された試料を
精密に分取することができる。
2、3または4に記載の電気泳動装置において、前記試
料分取口は、その上面および下面がそれぞれ前記第1お
よび第2のガラス板と当接して前記緩衝液排出口を複数
に分割する、前記案内部材の下流側の端部に対向して流
路方向延長線上に配置された隔壁により形成されている
ことを特徴とする。
案内部材の下流側端部と隔壁の上流側端部とが対向して
いるので、案内部材間を流れてきた緩衝液は流れの方向
が変化することなく試料分取口に流れ込む。したがっ
て、電気泳動によって分離された試料が混合してしまう
ことなく、精密に分取することができる。
一定の方向に流すための扁平な空隙を流路とする泳動室
と、この泳動室の流路上流に設けられた緩衝液導入口
と、前記泳動室に試料を注入するための試料導入口と、
前記泳動室の流路下流に設けられた緩衝液排出口と、こ
の緩衝液排出口の一部に設けられた試料の特定成分を取
り出すための試料分取口と、前記泳動室内に互いに離間
して設けられ、前記泳動室内の緩衝液に電界を印加する
ための第1の電極と第2の電極とを有し、前記泳動室内
に緩衝液を流動させ試料中の特定の成分を電気泳動によ
り分離する電気泳動装置において、前記泳動室は、凹部
を上面に有する板状の本体と、少なくとも前記本体上面
の前記凹部を覆う蓋とから形成され、前記泳動室内の緩
衝液の流れる方向に沿って、厚さが前記凹部の流床の深
さよりも小さい細長い棒状の案内部材を、前記蓋または
前記流床に設けたことを特徴とする。
とによって、泳動室内の緩衝液の流れは案内部材に沿っ
た方向に規制され、緩衝液の層流が安定すると共に試料
の自然拡散が抑えられる。また、案内部材と対向してい
る蓋間には空隙があるので、この部分を通じて、試料中
の電荷を帯びた成分が移動することができる。このよう
な案内部材に沿った緩衝液の流れに試料を導入し電気泳
動をおこなえば、試料の拡散が抑えられ精密な分離をお
こなうことが可能となる。さらに案内部材を複数並列に
設けるようにすれば、泳動室内の緩衝液の流れをより乱
れの少ない層流とすることができるので、より効率の高
い分離を行うことができる。
に記載の電気泳動装置において、前記案内部材の前記蓋
または前記流床の底部と対向する部分に設けた突起によ
って前記蓋または前記流床を支持することを特徴とす
る。
持することによって、泳動室を形成する蓋と流床の底部
の間隔を一定に保持することができる。蓋や流床を設け
た板の平坦性や加工精度の影響を受けることなく泳動室
の厚みが一定に保たれているため、緩衝液の層流が安定
し、より精密な分離を行うことができる。また、突起を
設けることで案内部材と対向する蓋との間隔を極めて小
さく保持することが可能となり、案内部材と直交する方
向の試料の拡散を抑えることができるので、効率の高い
分離が可能となる。
または8に記載の電気泳動装置において、前記本体はシ
リコン板であり、前記流床と前記案内部材は前記シリコ
ン板を加工して形成されており、前記蓋はガラス板であ
ることを特徴とする。
工をおこなう必要があるが、シリコン板は微細加工が容
易であり、またシリコン板に流床となる凹部を形成する
のと同時に形状を加工することが出来るので、案内部材
の加工を容易に行うことができる。また、蓋がガラス板
であると、陽極接合を用いることで精密且つ強固にシリ
コン板と蓋を接合することができる。
7、8または9に記載の電気泳動装置において、前記試
料導入口は、前記泳動室内の前記案内部材が存在してい
る流路領域の上流側領域に、前記蓋または前記本体を貫
通して設けられていることを特徴とする。
は、案内部材によって緩衝液の流れが規制され案内部材
のない部分と比較して緩衝液の流れがより安定した層流
となっている。安定した層流となった部分に試料を導入
することで、泳動室内での試料の自然拡散を抑えること
ができ、より正確な分離ができる。
7、8、9または10に記載の電気泳動装置において、
前記試料分取口は、その上面および下面がそれぞれ前記
蓋および前記流床と当接して前記緩衝液排出口を複数に
分割する、前記案内部材と一体に成形された隔壁により
形成されていることを特徴とする。
隔壁を一体に形成することで、案内部材間を流れてきた
緩衝液が隔壁間の試料分取口に流れが変わること無く流
れ込む。したがって、試料分取口の隔壁によっておこる
緩衝液の流れの乱れを抑えることができ、電気泳動によ
って分離された試料を精密に分取することができる。
7、8、9または10に記載の電気泳動装置において、
前記試料分取口は、その上面および下面がそれぞれ前記
蓋および前記流床と当接して前記緩衝液排出口を複数に
分割する、前記案内部材の下流側端部に対向して流路方
向延長線上に配置された隔壁により形成されていること
を特徴とする。
と対向しているので、案内部材間を流れてきた緩衝液は
流れの方向が変化することなく試料分取口に流れ込む。
したがって、電気泳動によって分離された試料が混合し
てしまうことなく、精密に分取することができる。
一定の方向に流すための偏平な空隙を流路とする泳動室
と、この泳動室内に互いに離間して設けられ、前記泳動
室内の緩衝液に電界を印加するための第1の電極と第2
の電極とを有し、前記泳動室内に緩衝液を流動させ電気
泳動により試料中の特定の成分を分取する電気泳動装置
において、前記泳動室は、その上下を前記第1および第
2のガラス板、その周囲を前記第1および第2のガラス
板に挟持された複数のパターンブロックからなるシリコ
ン板により隔てられた空隙として形成され、前記シリコ
ン板のパターンブロックは、第1の電極に近接している
パターンブロックと第2の電極に近接しているパターン
ブロック同士が、電気的に導通しないように互いに離間
して配置されてていることを特徴とする。
コン板はパターンブロックに分割されており、かつシリ
コン板は絶縁性のガラス板によって上下を挟まれている
ためにブロック間での電流のリークが起こりにくい。ま
た第1の電極に近接したパターンブロックと第2の電極
に近接したパターンブロックとが電気的に導通しないよ
うに配置されているので、電極間に高電圧を印加しても
シリコン板のパターンブロックを通って電流が流れにく
く、ほとんどの電流が泳動室内の緩衝液を通って流れる
ために効率よく電気泳動が行われる。
動装置の製造方法において、扁平な空間を緩衝液を一定
の方向に流す流路とした泳動室と、この泳動室内に離間
して設けられた泳動室内の緩衝液に電界を印加するため
の第1の電極と第2の電極を有し、前記泳動室内に緩衝
液を流動させ、試料中の特定の成分を電気泳動により分
取する電気泳動装置の製造方法において、第1のガラス
板上にシリコン板を形成する第1の工程と、前記シリコ
ン板を、泳動室を形成する複数のブロック部とその複数
のブロック部の外側に配置され前記複数のブロック間を
連結する連結部とからなるパターン状に加工する第2の
工程と、前記パターン状に加工された前記複数のブロッ
ク部の上面に第2のガラス板を陽極接合する第3の工程
と、前記複数のブロック間を連結する前記連結部の前記
シリコン板を前記複数のブロック部から切断する第4の
工程とからなることを特徴とする。
まず第1のガラス板上にシリコンウエハー、ポリシリコ
ン、アモルファスシリコン等を積層するか、あるいは陽
極接合などの方法によって接合しシリコン板を形成す
る。次に、このシリコン板をエッチングなどの方法によ
って加工し泳動室を形成するブロック部を形成する。こ
のとき各ブロック部間を連結するようにシリコン板のパ
ターンを残しておく。シリコン板のパターン間は連結部
があるために、電気的に接続されている。
コン板の上面に第2のガラス板を陽極接合する際には、
陽極接合用の電極をブロック部のいずれか一カ所に接触
させればシリコン板と第2のガラス板との間に陽極接合
に必要な電圧を印加することができる。陽極接合が終了
したら、各ブロック部間を連結する連結部を切断し、各
ブロック部が分離した状態にする。この時連結部を形成
するシリコン板のみを切断しても良いが、連結部が形成
されている第1あるいは第2のガラス板ごと切断しても
良い。
成することによって、複数のブロック部とガラス板を陽
極接合によって形成する時に、各ブロックごとに陽極接
合用の電極を設ける必要がなくなり、接合の工程が容易
となる。
施の形態につき詳細に説明する。図1、図2、図3及び
図4は本発明の電気泳動装置の第1の実施の形態を示し
たものである。図1は本実施の形態の電気泳動装置の上
面図である。図2は図1のA−A線断面図、図3は図1
のB−B線断面図、図4は図1のC−C線断面図をそれ
ぞれ示している。
1を下ガラス板2と上ガラス板3で挟んだ構造となって
おり、このシリコン板1を後述する方法により加工して
シリコン板1内部に形成される空隙が泳動室4となって
いる。泳動室4の両端部には泳動室の内部に緩衝液を導
入するための緩衝液導入口5と、泳動室4外に緩衝液を
排出する緩衝液排出口6がそれぞれ設けられている。緩
衝液の流れは図1の矢印に示すように図1の上部の緩衝
液導入口5から下部の緩衝液排出口6の方向に流れる。
形態を説明する。本実施の形態の電気泳動装置では緩衝
液導入口5から緩衝液の流路が始まり、流路の幅は扇状
に次第に広くなり等幅の流路となる。この等幅となった
流路の部分の緩衝液に電圧を印加し電気泳動を行う泳動
室とする。泳動室の両側部には緩衝液の流れる方向に沿
って一対の電極7a、7bが設けられている。電極7
a、7bは緩衝液の流れる方向と平行に設けるのが好ま
しい。図3に示すように電極7a、7bは上ガラス板3
を貫通した電極端子8a、8bによって泳動室の外部に
設けられた電源9に接続され、電極7a、7bに電圧が
印加される。
b、・・・10jが下ガラス板2上に設けられている。
この案内部材10a、10b、・・・10jは緩衝液の
流れる方向と平行に設けられた細長い棒状のシリコンか
らなっており、シリコン板1a、1bと同じ材質で後述
する方法により形成される。案内部材10a、10b、
・・・10jと上ガラス板3との間には空隙があり、緩
衝液が流れるようになっている。
・・10jの設けられた領域の緩衝液の流路上流側に上
ガラス板3を貫通した試料導入口11が設けられてい
る。案内部材10a、10b、・・・10jの流路下流
側端部はそれぞれ緩衝液排出口6に設けられた隔壁12
a、12b、・・・12jに接続されている。図4に示
すように隔壁12a、12b・・・12jは下ガラス板
2と上ガラス板2にそれぞれ下端と上端が接しており、
緩衝液排出口6を複数の流路に分割し、この隔壁12
a、12b、同様に12jの間が試料分取口13a、1
3b、・・・となっている。この隔壁12a、も案内部
材10と同様に細長い棒状のシリコンからなっており、
シリコン板1と同じ材質で後述する方法により形成され
る。 次に本実施の形態の電気泳動装置の作用について
説明する。本装置においては緩衝液が緩衝液導入口5か
ら連続して導入される。緩衝液の流路の幅が一定となっ
た泳動室4の部分には案内部材10a、10b、・・・
10jが設けられており、この領域上の上ガラス基板3
に設けた試料導入口11から試料を泳動室4内に連続的
に導入する。電極7a、7bに電圧を印加することによ
り泳動室4内に電界が形成される。試料導入口11から
導入された試料は緩衝液の流れに従って緩衝液排出口6
に向かって流れて行くが、流れの方向とほぼ直角に電界
が形成されているため、試料中の成分はその電荷量と粒
子の大きさによって異なる速度で泳動され、成分が分離
される。分離された各成分は試料分取口13a、13
b、・・・13kに流れ込むため、試料中の特定の成分
を分取することができる。
10b、・・・10jは泳動室4内の緩衝液の流れの乱
れを押さえ、層流を保つ働きを持っている。従って電気
泳動によって分離された試料成分が、緩衝液の乱流によ
って乱されることが無く、精密な分離を行うことが出来
る。また、泳動室4内に導入された試料は試料導入口1
1から試料分取口13a、13b、・・・13kにまで
流れて行く間に自然拡散するが、電気泳動によって精密
に分取を行うには自然拡散を出来るだけ抑える必要があ
る。案内部材10a、10b、・・・10jは緩衝液の
流れる方向に沿って設けられており、案内部材10a、
10b、・・・10jの上部と上ガラス板3との間は泳
動室の厚みより小さく1μm〜数十μm程度である。電気
泳動によって電荷を帯びた粒子は、案内部材10a、1
0b、・・・10jと上ガラス板3の間の空隙を通って
移動するが、案内部材10a、10b、・・・10jの
上部と上ガラス板3との間隔は泳動室4の厚さよりも小
さいため、試料の緩衝液の流れと直角方向の自然拡散が
抑えられる。従って、試料の自然拡散を抑えた状態で、
より精密に試料の分離をおこなうことができる。また、
案内部材10a、10b、・・・10jと隔壁12a、
12b、・・・12jは接続して形成されているので、
試料分取口13a、13b、・・・13kで起こる隔壁
14による緩衝液の流れの乱れを抑えることができ、よ
り精密な分取が可能となる。
・・12jと案内部材10a、10b・・・10jを同
数としているが、必ずしも同数である必要はなく、隔壁
12a、12b・・・12jと案内部材10a、10b
・・・10jのどちらかを間引いても同様な効果が得ら
れる。また本実施の形態では隔壁12a、12b・・・
12jと案内部材10a、10b・・・10jが一体に
形成されているが、案内部材の流路下流端と隔壁の流路
上流端が微小な間隔で対向するように配置しても良い。
コン板1の形成方法は種々考えられる。たとえばパイレ
ックスガラス板にシリコンウエハーを陽極接合し、シリ
コンウエハーを研磨することによって所定の厚さのシリ
コン板1を得ることができる。またパイレックスガラス
板にLPCVDやプラズマCVDなどの装置を用いてポ
リシリコンやアモルファスシリコンを積層してシリコン
板1とすることもできる。近年ではCVD装置の改良が
進み比較的高速に成膜することができるようになってお
り、シリコン層を10〜数十μmの厚さに成膜すること
も可能となってきている。このようにして下ガラス板2
上に形成されたシリコン板1に泳動室4となる空隙や案
内部材10a、10b・・・10jを形成するためにエ
ッチングをおこなう。シリコン板1のエッチングの方法
としては等方性、異方性のウエットエッチングやICP
型RIEを用いたドライエッチングなどの加工方法が適
用可能である。案内部材10a、10b・・・10jは
シリコン以外の材料から形成してもよいが、シリコンは
微細加工に適しており、またこのように泳動室4の形成
と同時に案内部材10a、10b・・・10jの形成を
行うことで製造工程を簡略化することでできる。
後、エッチングに使用したマスクパターンを除去してシ
リコン表面に絶縁層として酸化膜を形成し、その後、シ
リコン板1上に上ガラス板3を陽極接合によって接合す
る。一般に陽極接合は、接合するシリコン板とガラス板
を400〜500℃に加熱して、800〜1000Vの
電圧を印加して接合を行うので、下ガラス板2と上ガラ
ス板3にはほぼ同じ熱膨張率をもつガラス板を選ぶ必要
がある。従って、下ガラス板2にパイレックスガラスを
用いる場合には、上ガラス板3にもパイレックガラスを
用いると良い。ガラス板にはアルカリ金属を含有するガ
ラスであれば、パイレックスガラス以外でも陽極接合は
可能である。またアルカリ金属を含まないガラス板を使
用する場合には、シリコン板にガラス板を直接陽極接合
することが出来ないので、パイレックスガラス等のアル
カリ金属を含む薄膜をシリコン板と対向する接合表面に
形成してから陽極接合する必要がある。
物の種類や濃度等で限定されることはなく、あらゆる種
類のウエハーを用いることができる。ポリシリコンやア
モルファスシリコンは不純物をドープして抵抗を下げて
用いても良いが、ドープせずに高抵抗のまま用いても陽
極接合が可能である。さらに、シリコン表面の絶縁膜と
して酸化膜を用いているが、この限りでなく窒化シリコ
ン、アルミナ、五酸化タンタル等の絶縁膜も利用できる
が、絶縁膜の膜厚を厚くすると陽極接合が困難になる。
また、ポリシリコンやアモルファスシリコンは絶縁性が
高いので絶縁膜を用いずにそのまま流路を形成すること
も可能である。
触れてきた事項を含めて各種の変形、変更が可能であ
る。次に第1の実施の形態の第1の変形例について図5
および図6を用いて説明する。この変形例の電気泳動装
置の基本的な構造は第1の実施の形態と同じである。図
5は図1のC−C断面図であり、図6は図5のA部分を
拡大したものである。本変形例においては案内部材11
の上ガラス板3と対向する部分に高さが1μm〜数十μm
程度の微小突起14a、14b、・・・14fが設けら
れている。
めには泳動室4の厚みを一定に保持する必要がある。し
かし、一般に最も平坦性の良いガラス板でも数μm程度
のそりを残しており、完全に平坦なガラス板を下ガラス
板2または上ガラス板3として用いるのは困難である。
従ってガラス板のそりによって、泳動室の厚さが部分的
に変動してしまい緩衝液の層流が乱されるという問題が
ある。しかし、このように案内部材10a、10b、・
・・10jの上ガラス板3と対向する部分に微小突起1
4a、14b、・・・14fを設け、この上端部のみを
上ガラス板3と接合することによって、下ガラス板2と
上ガラス板3の間隔を一定に保つことができ、泳動室内
の緩衝液の流れが安定した層流となり、精密な分離が可
能となる。
ス板3との間隔が微小突起14a、14b、・・・14
fによって正確に保持されるために、緩衝液の流れと直
角方向の試料の自然拡散が抑えられ、より精密な分取が
可能となる。
いて図7を用いて説明する。この変形例の電気泳動装置
の基本的な構造は第1の実施の形態と同じであり、上面
から見た構造は図1に示した構造とほぼ同様である。図
7は図1のA−A断面を示したもので、第1の実施の形
態の下ガラス板2とシリコン板1が、シリコン基板15
に置き換えられている。第1の実施の形態では下ガラス
板2上にシリコン板1を形成して、このシリコン板1を
微細加工して泳動室4や案内部材10a〜jを形成して
いた。この変形例ではシリコン基板15に直接エッチン
グなどの加工を行い、シリコン基板17の上面に凹部を
設けると同時に案内部材10a、10b、・・・10j
を成形する。エッチング等の加工を行ったのちシリコン
基板15の上面に蓋となる上ガラス板3を接合して泳動
室4を形成する。
形態について図8および図9を用いて説明する。本実施
の形態において、第1の実施の形態と共通する構成には
同じ番号を付し、説明を省略する。
子8a、8bの近傍を拡大して上方から見た図、図9は
図8のA−A線断面図である。上ガラス板3には貫通孔
16があけられている。貫通孔16の加工方法としては
超音波による加工やエキシマレーザ等のレーザによる加
工が利用できる。この加工した上ガラス板3を平坦な他
の基板の上に置き導電性接着剤17を貫通孔16の中に
充填する。平坦な他の基板としてはテフロンやポリエチ
レン等、導電性接着剤に対して接着性のないものを用い
る。導電性接着剤17としてはエポキシ樹脂に銀やカー
ボンの微粉末を混入して導電性を持たせものが市販され
ているのでそれを利用することができる。接着剤を硬化
させた後、導電性接着剤17の平坦な端面18に電気泳
動用の電極7a、7b を形成する。電極の材料として
は白金が一般的であるが、白金は基板に対する密着性が
乏しいため白金と上ガラス板3の間にクロムやチタンの
薄膜を形成した後に白金薄膜を形成する。クロムやチタ
ンは蒸着またはスパッタで形成できるが、白金は融点が
高いのでスパッタで形成する。また、電極のパターニン
グ方法はリフトオフ法やイオンミリングによるエッチン
グなどの方法が適用できる。
は薄膜であるが、平面的に形成されているためマイグレ
ーションも生じにくく断線の可能性を格段に減少させる
ことができる。また、導電性接着剤17を覆うように電
極が形成されるため電圧印加時に導電性接着剤に含まれ
る不純物が流出することもなく、安定した泳動が期待で
きる。
17の端面からは直接リード線を接着して電源に導いて
も良いが、上で述べた方法と同様に接着剤の硬化時に、
平坦なテフロン基板を乗せて端面を平坦にしてから、蒸
着等により電極からの引出線を形成して電気泳動装置の
端部まで引き出し、そこから電源に導いても良い。この
引出線は導電性を持つものであれば良く、材質を限定す
るものではない。また、電気泳動用の電極として白金を
示したが、化学的に安定な材料例えば金等も同様に用い
ることができる。導電性接着剤はガラス基板に接着性の
あるものが望ましいが、樹脂の材質をエポキシに限定す
るものではなく、また導電性の微粉末も銀やカーボンに
限定するものでもない。電気泳動用の電極も2層構造で
述べたが、1層または多層構造でも可能である。同様に
蒸着等で形成された電極からの引出線も1層でも多層で
も良い。
形態について、図10を用いて説明する。本実施の形態
の電気泳動装置の構造は第1の実施の形態と基本的に同
じであるが、シリコン板1が複数のパターンブロック1
a、1b、・・・1fに分割されている点が異なってい
る。よって、本実施の形態において、第1の実施の形態
と共通する構成には同じ番号を付し、説明を省略する。
グによって加工するときに、マスクパターンをパターン
ブロック状に分割しておく。このパターンを下ガラス板
2が露出するまでエッチングすることによって、シリコ
ン板1a、1b、・・・1fの各パターンブロック間が
電気的に絶縁される。電極7a、7bにそれぞれ近接し
ているシリコン板1b、1eは互いに電気的に絶縁され
ており、上下を絶縁性の高いガラス板によって挟まれて
いるので、シリコン板1a、1b、・・・1fを通って
の電極7a,7b間の電流のリークが生じにくくなる。
すなわち電極7a、7b間に電圧を印加すると、泳動室
4内を流れる緩衝液を通ってのみ電流が流れる為に良好
な電気泳動が行えるようになる。
けられた分割流路19a、19b、19c、19d、1
9eの内で、泳動室4への緩衝液の出入りに利用されな
いものは接着剤等でふさぐ必要があるが、19cは緩衝
液の導入口として、また分割流路19a、19b、19
d、19eは電極7a、7bで発生する気泡を取り除く
のに使用することができる。
形態を図11、図12及び図13を用いて説明する。本
実施の形態において、第1の実施の形態と共通する構成
には同じ番号を付し、説明を省略する。
成されている様子を上面から見た図である。本図におい
ては泳動室4を形成するパターンブロック状のシリコン
板1a、1b、1c、1d、1e、1fおよび隔壁12
a、12b、・・・12jの外側に周囲を囲うようにシ
リコン板1gが形成されている。このシリコン板1gと
各々のパターンブロック状のシリコン板1a、1b、1
c、1d、1e、1fおよび隔壁12a、12b、・・
・12jを結ぶように連結部20a、20b、20c、
20d、20e、20f、20g、20h ・ ・が形成
され、このことにより全てのパターンブロック状のシリ
コン板1a、1b、1c、1d、1e、1fおよび隔壁
12a、12b、・・・12jが連結されている。これ
らのパターンブロック状のシリコン板1a、1b、1
c、1d、1e、1f、隔壁12a12b、・・・12
j、シリコン板1gおよび連結部20a、20b、20
c、20d、20e、20f、20g、20h 、・・
・の形成方法は、第1の実施の形態で述べた方法がその
まま適用でき、単にエッチングのためのマスクを変更す
ればよい。
もので、シリコン板1をパターンブロック状にエッチン
グ加工後、シリコン板1の一端と上ガラス板3の上部と
の間に電圧を印加し、陽極接合を行ったものである。こ
の後、図13に示すように連結部20a、20b、20
c、20d、20e、20f、20g、20h 、・・
・をダイシングソー等で切断することにより、電気的に
絶縁されたパターンブロック状のシリコン板1a、1
b,1c,1d,1fおよび隔壁12a,12b、・・
・12jが形成される。
電気泳動装置の製造工程を順を追って説明する。図14
は本実施の形態の電気泳動装置のA−A線断面図を示し
たものである。
板2にシリコン板1を積層し、シリコン板1の表面にシ
リコン酸化膜21を形成する。このシリコン酸化膜21
はシリコン板1を酸化してもよいしCVD装置を用いて
積層しても良い。次に図14(b)に示すように酸化膜
21上にさらにフォトレジスト膜22を形成し、通常の
リソグラフィ技術でフォトレジスト膜22をパターニン
グする。ついで図14(c)に示すようにフォトレジス
ト膜22をマスクにシリコン酸化膜をエッチングする。
図14(d)はフォトレジスト膜22を除去後、ICP
型RIEエッチング装置でシリコン1板をエッチングす
る工程である。このエッチング方法を用いた場合シリコ
ン酸化膜21とシリコン板1のエッチング比は100:
1なので1μmのシリコン酸化膜21を用いれば100
μmのシリコン板をエッチングすることができる。
1を除去し、次に図14(f)では陽極接合によりシリ
コン板1上に上ガラス板3を接合した図を示している。
最後に図14(g)では切断によりシリコンの連結部2
0を切り離す工程を示している。
されるものではなく、様々な方法を用いることができ
る。例えば、図14(d)に示したシリコン板1のエッ
チング時にフォトレジスト膜22を残しておき、エッチ
ング後にフォトレジスト膜22を除去しても良い。ま
た、シリコン板1の除去方法もICP型RIEエッチン
グ装置に限定することはなく、フッ酸と硝酸の混合液を
用いたウエットエッチングも可能である。さらにシリコ
ン酸化膜21を除去しないで陽極接合することも可能で
ある。
極接合操作でパターンブロック状のシリコン板との接合
ができるので、製作プロセスを簡略化することができ
る。また、隔壁12a、12b、・・・・12jのよう
に微細に加工された部分に陽極接合用電極を接触させて
陽極接合を行うには、接合用の電極を精密に制御して接
触させる必要があるが、本方法を採用することにより容
易に接合を行うことができる。
状シリコン板1a、1b、1c,1d、1e、1fおよ
び隔壁14a,14b・・・14jの外側に周囲を囲う
ようにシリコン板1gが形成されているが、その形状は
限定されるものではない。パターンブロック状のシリコ
ン板1a、1b、1c、1d、1e、1fおよび隔壁1
2a、12b・・・12jが連結され、上で述べたよう
に陽極接合後の切断によりパターンブロック状のシリコ
ン板1a、1b、1c、1d、1e、1fおよび隔壁1
2a、12b、・・・12jが分離できれば、いかよう
な形状でも良い。
20b、20c、20d、20e、20f、20g、2
0h、 ・ ・を下ガラス板2および上ガラス板3ごと切
断した例を示したが、接合後に上ガラス板3からはみ出
したシリコン板1および連結部20a、20b、20
c、20d、20e、20f、20g、20h、 ・・
・の一部または全部をエッチングにより除去をしてもよ
い。
発明によれば、第1のガラス板と第2のガラス板と、第
1および第2のガラス板によって挟持されたシリコン板
によって枠づけられた泳動室の、第1のガラス板上に緩
衝液の流れる方向に沿って細長い棒状の案内部材を設
け、この案内部材と第2のガラス基板との間に空隙を有
するように配置することによって、泳動室内の緩衝液の
流れを層流に保つとともに試料の自然拡散を抑えことが
でき、安定して試料中の特定成分を分取することができ
る。
部からなる流床を上面に有する板状の本体と、この本体
上面の少なくとも流床とその周囲を覆う蓋とを有し、本
体に形成された流床と前記蓋とによって形成された泳動
室を設け、この泳動室内に緩衝液の流れる方向に沿って
細長い棒状の案内部材を設け、この案内部材の厚さが前
記流床の深さよりも小さくするように配置することによ
って、泳動室内の緩衝液の流れを層流に保つとともに試
料の自然拡散を抑えことができ、安定して試料中の特定
成分を分取することができる。
第1のガラス板と第2のガラス板とこの第1および第2
のガラス板によって挟持された複数のパターンブロック
からなるシリコン板とによって泳動室を形成し、前記シ
リコン板のパターンブロックは、第1の電極に近接して
いるパターンブロックと第2の電極に近接しているパタ
ーンブロック同士が、電気的に導通しないように互いに
離間して配置することによって、シリコン板を用いて泳
動室を形成してもシリコン板内を電流が流れにくく、泳
動室内に電気泳動に必要な泳動電流を流すことができ
る。
ば、第1のガラス板上にシリコン板を形成する第1の工
程と、前記シリコン板を、泳動室を形成する複数のブロ
ック部とその複数のブロック部の外側に配置され前記複
数のブロック間を連結する連結部とからなるパターン状
に加工する第2の工程と、前記パターン状に加工された
前記複数のブロック部の上面に第2のガラス板を陽極接
合する第3の工程と、前記複数のブロック間を連結する
前記連結部の前記シリコン板を前記複数のブロック部か
ら切断する第4の工程からなる電気泳動装置の製造方法
を、上記第1、第2、第3、第4の工程を順におこなう
ことで、シリコン板とガラス板を陽極接合する際に、シ
リコン板が互いに絶縁された複数のブロック部に分かれ
ている場合にもブロックごとに陽極接合用の配線を設け
る必要がなく、簡易な工程でシリコンブロックをガラス
板に接合することができる。
の上面図である。
断面図である。
断面図である。
断面図である。
図である。
拡大図である。
拡大図である。
る。
る。
図である。
図である。
面図である。
面図である。
を示す工程図である。
0g、10h、10i、10j 案内部材 11 試料導入口 12a、12b、12c、12d、12e、12f、1
2g、12h、12i、12j 隔壁 13a、13b、13c、13d、13e、13f、1
3g、13h、13i、13j、13k 試料分取口 14a、14b、14c、14d、14e、14f 微
小突起 15 シリコン基板 16 貫通口 17 導電性接着剤 18 端面 19a、19b、19c、19d、19e 分割流路 20a、21b、21c、21d、21e、21f、2
1g、21h 連結部 21 シリコン酸化膜 22 フォトレジスト膜
Claims (14)
- 【請求項1】緩衝液を一定の方向に流すための扁平な空
隙を流路とする泳動室と、この泳動室の流路上流に設け
られた緩衝液導入口と、前記泳動室に試料を注入するた
めの試料導入口と、前記泳動室の流路下流に設けられた
緩衝液排出口と、この緩衝液排出口の一部に設けられた
試料の特定成分を取り出すための試料分取口と、前記泳
動室内に互いに離間して設けられ、前記泳動室内の緩衝
液に電界を印加するための第1の電極と第2の電極とを
有し、前記泳動室内に緩衝液を流動させ試料中の特定の
成分を電気泳動により分離する電気泳動装置において、 前記泳動室は、その上下を第1および第2のガラス板、
その周囲を前記第1および第2のガラス板に挟持された
シリコン板により隔てられた空隙として形成され、 前記泳動室内の前記第1のガラス板上に、緩衝液の流れ
る方向に沿って前記第2のガラス板との間に空隙を有す
る細長い棒状の案内部材を設けたことを特徴とする電気
泳動装置。 - 【請求項2】前記案内部材は、前記第2のガラス板と対
向する部分に前記第2のガラス板に当接する突起を有す
ることを特徴とする請求項1に記載の電気泳動装置。 - 【請求項3】前記案内部材は前記シリコン板と同じ材質
からなることを特徴とする請求項1または2に記載の電
気泳動装置。 - 【請求項4】前記試料導入口は、前記泳動室内の前記案
内部材が設けられた流路領域の上流側領域に、前記第1
または第2のガラス板を貫通して設けられていることを
特徴とする請求項1、2または3に記載の電気泳動装
置。 - 【請求項5】前記試料分取口は、その上面および下面が
それぞれ前記第1および第2のガラス板と当接して前記
緩衝液排出口を複数に分割する、前記案内部材と一体に
成形された隔壁により形成されていることを特徴とする
請求項1、2、3または4記載の電気泳動装置。 - 【請求項6】前記試料分取口は、その上面および下面が
それぞれ前記第1および第2のガラス板と当接して前記
緩衝液排出口を複数に分割する、前記案内部材の下流側
の端部に対向して流路方向延長線上に配置された隔壁に
より形成されていることを特徴とする請求項1、2、3
または4記載の電気泳動装置。 - 【請求項7】緩衝液を一定の方向に流すための扁平な空
隙を流路とする泳動室と、この泳動室の流路上流に設け
られた緩衝液導入口と、前記泳動室に試料を注入するた
めの試料導入口と、前記泳動室の流路下流に設けられた
緩衝液排出口と、この緩衝液排出口の一部に設けられた
試料の特定成分を取り出すための試料分取口と、前記泳
動室内に互いに離間して設けられ、前記泳動室内の緩衝
液に電界を印加するための第1の電極と第2の電極とを
有し、前記泳動室内に緩衝液を流動させ試料中の特定の
成分を電気泳動により分離する電気泳動装置において、 前記泳動室は、凹部を上面に有する板状の本体と、少な
くとも前記本体上面の前記凹部を覆う蓋とから形成さ
れ、 前記泳動室内の緩衝液の流れる方向に沿って、厚さが前
記凹部の流床の深さよりも小さい細長い棒状の案内部材
を、前記蓋または前記流床に設けたことを特徴とする電
気泳動装置。 - 【請求項8】前記案内部材は、前記流床または前記蓋と
対向する部分に、前記蓋または前記流床と当接する突起
を有することを特徴とする請求項7に記載の電気泳動装
置。 - 【請求項9】前記本体はシリコン板であり、前記流床と
前記案内部材は前記シリコン板を加工して形成されてお
り、前記蓋はガラス板であることを特徴とする請求項7
または8に記載の電気泳動装置。 - 【請求項10】前記試料導入口は、前記泳動室内の前記
案内部材が存在している流路領域の上流側領域に、前記
蓋または前記本体を貫通して設けられていることを特徴
とする請求項7、8または9に記載の電気泳動装置。 - 【請求項11】前記試料分取口は、その上面および下面
がそれぞれ前記蓋および前記流床と当接して前記緩衝液
排出口を複数に分割する、前記案内部材と一体に成形さ
れた隔壁により形成されていることを特徴とする請求項
7、8、9または10に記載の電気泳動装置。 - 【請求項12】前記試料分取口は、その上面および下面
がそれぞれ前記蓋および前記流床と当接して前記緩衝液
排出口を複数に分割する、前記案内部材の下流側端部に
対向して流路方向延長線上に配置された隔壁により形成
されていることを特徴とする請求項7、8、9または1
0に記載の電気泳動装置。 - 【請求項13】緩衝液を一定の方向に流すための偏平な
空隙を流路とする泳動室と、この泳動室内に互いに離間
して設けられ、前記泳動室内の緩衝液に電界を印加する
ための第1の電極と第2の電極とを有し、前記泳動室内
に緩衝液を流動させ電気泳動により試料中の特定の成分
を分取する電気泳動装置において、 前記泳動室は、その上下を前記第1および第2のガラス
板、その周囲を前記第1および第2のガラス板に挟持さ
れた複数のパターンブロックからなるシリコン板により
隔てられた空隙として形成され、 前記シリコン板のパターンブロックは、第1の電極に近
接しているパターンブロックと第2の電極に近接してい
るパターンブロック同士が、電気的に導通しないように
互いに離間して配置されていることを特徴とする電気泳
動装置。 - 【請求項14】緩衝液を一定の方向に流すための扁平な
空間を流路とする泳動室と、この泳動室内に離間して設
けられた泳動室内の緩衝液に電界を印加するための第1
の電極と第2の電極を有し、前記泳動室内に緩衝液を流
動させ、試料中の特定の成分を電気泳動により分取する
電気泳動装置の製造方法において、 第1のガラス板上にシリコン板を形成する第1の工程
と、 前記シリコン板を、泳動室を形成する複数のブロック部
とその複数のブロック部の外側に配置され前記複数のブ
ロック間を連結する連結部とからなるパターン状に加工
する第2の工程と、 前記パターン状に加工された前記複数のブロック部の上
面に第2のガラス板を陽極接合する第3の工程と、 前記複数のブロック間を連結する前記連結部の前記シリ
コン板を前記複数のブロック部から切断する第4の工程
とからなることを特徴とする電気泳動装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13237397A JP3847414B2 (ja) | 1997-05-22 | 1997-05-22 | 電気泳動装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13237397A JP3847414B2 (ja) | 1997-05-22 | 1997-05-22 | 電気泳動装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10318982A true JPH10318982A (ja) | 1998-12-04 |
| JP3847414B2 JP3847414B2 (ja) | 2006-11-22 |
Family
ID=15079864
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13237397A Expired - Fee Related JP3847414B2 (ja) | 1997-05-22 | 1997-05-22 | 電気泳動装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
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Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000297157A (ja) * | 1999-04-15 | 2000-10-24 | Kawamura Inst Of Chem Res | 微小ケミカルデバイス |
| WO2003008958A1 (en) * | 2001-07-11 | 2003-01-30 | Olympus Corporation | Free flow electrophoresis element and free flow electrophoresis method |
| WO2003035233A1 (en) * | 2001-10-26 | 2003-05-01 | Nec Corporation | Separating device, analysis system, separation method and method for manufacture of separating device |
| JP2007070176A (ja) * | 2005-09-08 | 2007-03-22 | Casio Comput Co Ltd | 接合基板、接合方法及びマイクロリアクタの製造方法 |
| JP2007520692A (ja) * | 2003-06-27 | 2007-07-26 | バイエル・ヘルスケア・エルエルシー | 反応試薬区域に流体を均一に塗布する方法 |
| JP2007247510A (ja) * | 2006-03-15 | 2007-09-27 | Casio Comput Co Ltd | 電気浸透流ポンプシステム |
| JP2008134126A (ja) * | 2006-11-28 | 2008-06-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | マイクロチップ及びそれを用いた分析デバイス |
| WO2008078403A1 (ja) * | 2006-12-26 | 2008-07-03 | Nec Corporation | 電気泳動チップ及びその使用方法 |
| JP2010025685A (ja) * | 2008-07-17 | 2010-02-04 | Dainippon Printing Co Ltd | マイクロチップの製造方法 |
| JP2010025688A (ja) * | 2008-07-17 | 2010-02-04 | Dainippon Printing Co Ltd | マイクロチップの製造方法 |
| JP2010029790A (ja) * | 2008-07-29 | 2010-02-12 | Dainippon Printing Co Ltd | エマルジョン形成用マイクロチップおよびその製造方法 |
| WO2012147249A1 (ja) * | 2011-04-28 | 2012-11-01 | パナソニック株式会社 | バイオセンサデバイス |
-
1997
- 1997-05-22 JP JP13237397A patent/JP3847414B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000297157A (ja) * | 1999-04-15 | 2000-10-24 | Kawamura Inst Of Chem Res | 微小ケミカルデバイス |
| WO2003008958A1 (en) * | 2001-07-11 | 2003-01-30 | Olympus Corporation | Free flow electrophoresis element and free flow electrophoresis method |
| WO2003035233A1 (en) * | 2001-10-26 | 2003-05-01 | Nec Corporation | Separating device, analysis system, separation method and method for manufacture of separating device |
| JP2007520692A (ja) * | 2003-06-27 | 2007-07-26 | バイエル・ヘルスケア・エルエルシー | 反応試薬区域に流体を均一に塗布する方法 |
| JP2007070176A (ja) * | 2005-09-08 | 2007-03-22 | Casio Comput Co Ltd | 接合基板、接合方法及びマイクロリアクタの製造方法 |
| JP2007247510A (ja) * | 2006-03-15 | 2007-09-27 | Casio Comput Co Ltd | 電気浸透流ポンプシステム |
| JP2008134126A (ja) * | 2006-11-28 | 2008-06-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | マイクロチップ及びそれを用いた分析デバイス |
| WO2008078403A1 (ja) * | 2006-12-26 | 2008-07-03 | Nec Corporation | 電気泳動チップ及びその使用方法 |
| JP2010025685A (ja) * | 2008-07-17 | 2010-02-04 | Dainippon Printing Co Ltd | マイクロチップの製造方法 |
| JP2010025688A (ja) * | 2008-07-17 | 2010-02-04 | Dainippon Printing Co Ltd | マイクロチップの製造方法 |
| JP2010029790A (ja) * | 2008-07-29 | 2010-02-12 | Dainippon Printing Co Ltd | エマルジョン形成用マイクロチップおよびその製造方法 |
| US8231265B2 (en) | 2008-07-29 | 2012-07-31 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Microchip for forming emulsion |
| US8398866B2 (en) | 2008-07-29 | 2013-03-19 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Microchip for forming emulsion and method for manufacturing the same |
| WO2012147249A1 (ja) * | 2011-04-28 | 2012-11-01 | パナソニック株式会社 | バイオセンサデバイス |
| CN103502805A (zh) * | 2011-04-28 | 2014-01-08 | 松下电器产业株式会社 | 生物传感器设备 |
| JPWO2012147249A1 (ja) * | 2011-04-28 | 2014-07-28 | パナソニック株式会社 | バイオセンサデバイス |
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| JP3847414B2 (ja) | 2006-11-22 |
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