JPH10319450A - Light control element, organic thin film element and method of manufacturing the same - Google Patents

Light control element, organic thin film element and method of manufacturing the same

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JPH10319450A
JPH10319450A JP9246921A JP24692197A JPH10319450A JP H10319450 A JPH10319450 A JP H10319450A JP 9246921 A JP9246921 A JP 9246921A JP 24692197 A JP24692197 A JP 24692197A JP H10319450 A JPH10319450 A JP H10319450A
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Katsuyuki Naito
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  • Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain both of high third-order nonlinear susceptibility and fast response rate by producing an electric field of an intensity lower than the intensity required to cause the phase transition of a light-controlling layer in an light- controlling element. SOLUTION: A first electrode layer 2, first insulating layer 3, light-controlling layer 4, second insulating layer 5, second electrode layer 6 are successively formed on one principal face of a substrate 1. The electrode layers 2, 6, insulating layers 3, 5 and light-controlling layer 4 are formed in such a manner that the principal plane of each layer is parallel to each other. The element is equipped with a means to apply an external electric field of an intensity lower than the intensity necessary to cause the phase transition of the light-controlling layer 4. Relating to this light-controlling element, charge transfer excitons are induced by applying an external electric field of an intensity lower than the intensity necessary to cause the phase transition of the light-controlling layer 4. By introducing the signal light into the light-controlling layer 4 held between the insulating layer pair and by irradiating the light-controlling layer 4 with controlling light, the output light can be controlled.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光制御素子に係
り、特に、光信号の出力を光を用いて制御することが可
能な全光型光制御素子に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical control device, and more particularly to an all-optical control device capable of controlling the output of an optical signal using light.

【0002】また、本発明は、電気または光による信号
の制御、情報の記憶、伝達などの機能を有する有機薄膜
素子に関する。
[0002] The present invention also relates to an organic thin-film element having functions of controlling electric or optical signals, storing and transmitting information, and the like.

【0003】[0003]

【従来の技術】近未来の高度情報化社会においては、例
えば、毎秒テラビットを超える超大容量の情報を、高
速、高精度、及び高効率で伝送・処理することが要求さ
れる。このような超大容量の情報は、現在のところ、基
幹幹線系において伝送・処理されるものと考えられてい
るが、21世紀には、ますます情報量が巨大化し、加入
者系においても、このような超大容量の情報の伝送・処
理が行われることが十分予想される。
2. Description of the Related Art In the near-term advanced information society, for example, it is required to transmit and process ultra-large capacity information exceeding terabits per second at high speed, high accuracy, and high efficiency. At present, it is considered that such a very large amount of information is transmitted and processed in the trunk backbone system. However, in the 21st century, the amount of information has been further increased, and even in the subscriber system. It is fully expected that transmission and processing of such a very large amount of information will be performed.

【0004】しかしながら、現在、広く用いられている
電子システムの処理スピードは、毎秒50ギガビットが
限界とされているために、上述の超大容量の情報の伝送
・処理に対応することができない。したがって、今後、
情報の伝送・処理能力において、電子システムを遥かに
凌駕する光システムの重要性が増大することが予想され
る。
[0004] However, the processing speed of currently widely used electronic systems is limited to 50 gigabits per second, so that it is not possible to cope with the above-mentioned transmission and processing of very large amounts of information. Therefore, in the future,
It is anticipated that the importance of optical systems far exceeding electronic systems will increase in information transmission and processing capabilities.

【0005】光システムにおいては、超高速の変調・復
調を実現する光制御素子、すなわち、光を用いて光信号
の制御を行なう、全光(オールオプティカル)型の光−
光制御素子が重要である。この光−光制御素子は、電子
回路のような回路のCR積による帯域制限がなく、変調
・復調の超高速制御が可能である。また、光−光制御素
子は、出力光をそのまま次ステップの制御光あるいは信
号光として利用できるという利点を有している。
In an optical system, an optical control element for realizing ultra-high-speed modulation / demodulation, that is, an all-optical (all-optical) optical device for controlling an optical signal using light.
Light control elements are important. This light-light control element has no band limitation due to the CR product of a circuit such as an electronic circuit, and is capable of ultra-high speed modulation / demodulation control. Further, the light-light control element has an advantage that output light can be used as it is as control light or signal light in the next step.

【0006】したがって、光−光制御素子を、光ゲート
素子、光論理素子、光双安定素子、及び光パルス制御素
子等として用いて光システムを構築した場合、電子回路
を用いることによる信号処理速度の低下から解放され、
超高速で情報の伝送・処理を行なうことが可能となり、
さらには光コンピュータの実現が可能となる。
Therefore, when an optical system is constructed using an optical-optical control element as an optical gate element, an optical logic element, an optical bistable element, an optical pulse control element, etc., the signal processing speed due to the use of an electronic circuit. From the decline of
It is possible to transmit and process information at ultra-high speed,
Further, an optical computer can be realized.

【0007】このような光を用いた光信号の制御におい
ては、非線形光学効果が重要な役割を果たしており、3
次非線形光学効果と呼ばれる光強度に依存する屈折率変
化や吸収係数変化が、光−光制御を行なうための基本原
理として注目を集めている。
[0007] In controlling an optical signal using such light, the nonlinear optical effect plays an important role.
A change in a refractive index or a change in an absorption coefficient depending on light intensity, which is called a next-order nonlinear optical effect, has attracted attention as a basic principle for performing light-light control.

【0008】この3次非線形光学効果における、光強度
Iと屈折率nとの関係及び光強度Iと吸収係数αとの関
係は、線形屈折率、非線形屈折率、線形吸収係数、及び
非線形吸収係数を、それぞれ、n0 、n2 、α0 、及び
α2 とした場合、次式で示される。
In the third-order nonlinear optical effect, the relationship between the light intensity I and the refractive index n and the relationship between the light intensity I and the absorption coefficient α are represented by a linear refractive index, a nonlinear refractive index, a linear absorption coefficient, and a nonlinear absorption coefficient. Are n 0 , n 2 , α 0 , and α 2 , respectively, as shown in the following equations.

【0009】n=n0 +n2 ・I α=α0 +α2 ・I これらの式から明らかなように、低い強度の光で、光学
的特性の大きな変化を得るためには、n2 あるいはα2
に高い非線形性が必要となる。これらを支配するのが3
次非線形感受率χ(3) である。
N = n 0 + n 2 · I α = α 0 + α 2 · I As is clear from these equations, in order to obtain a large change in the optical characteristics with low intensity light, it is necessary to use n 2 or α 2 Two
Requires high nonlinearity. It is 3 that controls these
The second-order nonlinear susceptibility χ (3) .

【0010】このような3次非線形光学効果を示す材料
についての研究は、以下に示す、半導体超微粒子系、半
導体超格子系、及び有機π電子材料系の3材料系につい
て進められている。
Research on materials exhibiting such a third-order nonlinear optical effect has been conducted on the following three material systems: a semiconductor ultrafine particle system, a semiconductor superlattice system, and an organic π-electron material system.

【0011】半導体超格子系の材料として、例えば、直
接遷移型半導体を用いた場合、バンドフィリング効果に
より、大きな非線形光学応答が得られることが期待され
る。直接遷移型半導体として、GaAs/AlAsを用
いた場合は、MQWで、5×10-2esuもの高い3次
非線形感受率χ(3) を得ることができる。
When a direct transition type semiconductor is used as a material of the semiconductor superlattice system, it is expected that a large nonlinear optical response can be obtained due to a band filling effect. When GaAs / AlAs is used as the direct transition semiconductor, a third-order nonlinear susceptibility χ (3) as high as 5 × 10 −2 esu can be obtained with MQW.

【0012】しかしながら、半導体超格子系の材料にお
いては、このように極めて大きな3次非線形感受率χ
(3) を得ることができるが、応答速度が光励起キャリア
の再結合寿命に支配されるために、本質的な応答速度は
遅い(励起キャリアの寿命はnsecオーダー)。そこ
で、応答速度を高めるために、表面再結合速度を高める
ことが検討されているが、psecレベル以下の超高速
な応答、とりわけ、繰り返し応答速度を高めることがで
きないという問題を有している。
However, in a semiconductor superlattice-based material, such an extremely large third-order nonlinear susceptibility χ
(3) can be obtained, but the response speed is dominated by the recombination lifetime of the photoexcited carriers, so that the essential response speed is low (the lifetime of the excited carriers is on the order of nsec). Therefore, in order to increase the response speed, it has been studied to increase the surface recombination speed. However, there is a problem that an ultra-high-speed response equal to or lower than the psec level, in particular, the repetition response speed cannot be increased.

【0013】半導体微粒子系の材料においては、粒径を
10nm以下にすることにより、表面再結合速度を高
め、数10psもの高速の応答速度を得ることができ
る。しかしながら、CdSx Se1-x ドープガラス等に
ついて調べられているように、3次非線形感受率χ(3)
は10-9〜10-8esu程度であり、高い3次非線形感
受率χ(3) は得られていない。
In the case of a semiconductor fine particle material, by setting the particle diameter to 10 nm or less, the surface recombination speed can be increased, and a high response speed of several tens ps can be obtained. However, as investigated for CdS x Se 1-x doped glass and the like, the third-order nonlinear susceptibility χ (3)
Is about 10 −9 to 10 −8 esu, and a high third-order nonlinear susceptibility χ (3) has not been obtained.

【0014】また、有機π電子材料系の材料において
は、非線形応答がπ電子の純粋な電子分極に起因するた
め、fsecオーダーもの高速の応答速度が得られる。
しかしながら、3次非線形感受率χ(3) に関しては、最
も高いとされるポリジアセチレン系のパラトルエンスル
ホン酸エステル誘導体でさえ、χ(3) =8×10-10
suと、極めて小さい。
Further, in the organic π-electron material, since the nonlinear response is caused by pure electron polarization of π-electrons, a response speed as high as fsec is obtained.
However, regarding the third-order nonlinear susceptibility χ (3) , even the highest polydiacetylene-based paratoluenesulfonic acid ester derivative χ (3) = 8 × 10 -10 e
su and extremely small.

【0015】この有機π電子材料系の材料を用いた光制
御素子に関しては、非線形性の起源がπ電子の純粋な電
子分極にあることから、3次非線形感受率χ(3) を高め
るために、ポリジアセチレン、trans −ポリアセチレ
ン、及びポリアリーレンビニレン等の、1次元π共役系
高分子や、フタロシアニン等の環状π共役化合物等を用
いることにより、π電子の共役長を伸ばす試みがなされ
てきた。しかしながら、この方法では、非線形性を飛躍
的に高めることは困難である。
Regarding the light control element using this organic π-electron material, since the origin of the nonlinearity is pure electron polarization of π electrons, it is necessary to increase the third-order nonlinear susceptibility χ (3). Attempts have been made to extend the conjugation length of π electrons by using one-dimensional π-conjugated polymers such as polydiacetylene, trans-polyacetylene, and polyarylenevinylene, and cyclic π-conjugated compounds such as phthalocyanine. However, with this method, it is difficult to dramatically increase nonlinearity.

【0016】また、有機π電子材料系の材料は、上述の
ように3次非線形感受率が非常に低い。そのため、有機
π電子材料系の材料を用いた光制御素子では、所望の光
学的変化を誘起するために、極めて高い強度の光を照射
する必要がある。しかしながら、このような高強度の光
を照射すると、材料が光損傷・熱損傷してしまうと共
に、新たに熱的な効果を生じるという問題を有してい
る。
Further, the organic π-electron material has a very low third-order nonlinear susceptibility as described above. Therefore, in a light control element using an organic π-electron material, it is necessary to irradiate extremely high intensity light to induce a desired optical change. However, irradiation with such high-intensity light causes a problem that the material is damaged by light and heat, and a new thermal effect is generated.

【0017】したがって、高い3次非線形感受率と高速
な応答速度とを同時に実現する光制御素子が望まれてい
る。
Therefore, there is a demand for a light control element which simultaneously realizes a high third-order nonlinear susceptibility and a high response speed.

【0018】また、近年、有機分子あるいは有機結晶に
固有の物性を利用して、従来のデバイスにはない新規な
機能を有するデバイスを実現しようとする分子エレクト
ロニクスへの関心が高まっている。これまでに、有機分
子を用いた2次非線形光学素子、電気的スイッチング素
子、注入型発光素子、太陽電池、光情報記録媒体等へ応
用しようとする研究が活発に行われている。
Further, in recent years, there has been an increasing interest in molecular electronics for realizing a device having a new function not available in conventional devices by utilizing physical properties inherent in organic molecules or organic crystals. Up to now, researches for applying to a second-order nonlinear optical element using an organic molecule, an electric switching element, an injection type light emitting element, a solar cell, an optical information recording medium and the like have been actively conducted.

【0019】これらはいずれも無機材料系においても見
出だされている物性を、有機材料を用いることによっ
て、さらに特性や製造コスト等を改善しようとするもの
である。一方、有機分子系だけに見出される物性現象の
1例として、ある種の有機錯体結晶に起こる電荷移動現
象もまた注目されている。
All of these are intended to further improve the properties and manufacturing costs by using an organic material, the properties found in inorganic materials. On the other hand, as an example of a physical property phenomenon found only in an organic molecular system, a charge transfer phenomenon occurring in a certain kind of organic complex crystal has also attracted attention.

【0020】有機材料のうちには、イオン化ポテンシャ
ルが小さく、他の分子に電子を供給し、自らは正のイオ
ンになりやすいドナー分子と、電子親和力が大きく、他
の分子から電子を受け取って自らは負のイオンになりや
すいアクセプター分子とがある。これら2種の分子間に
は、電荷移動錯体と称される化合物が形成されることは
よく知られている。例えば、ペリレンとテトラシアノキ
ノジメタン(TCNQ)との化合物は、中性分子からな
る化合物である。一方、テトラメチルフェニレンジアミ
ン(TMPD)とTCNQとの化合物は、それぞれの分
子が正、負となったイオン性の化合物である。また、テ
トラチアフルバレン(TTF)とクロラニル(CA)と
の化合物は、温度や圧力の変化によって中性−イオン性
転移が観測されることも知られている(J.B.Tor
rance et al.:Phys.Rev.Let
t.,46,253(1981))。
Among the organic materials, the ionization potential is small, electrons are supplied to other molecules, and the donor molecules themselves tend to be positive ions, and the electron affinity is large. There is an acceptor molecule that easily becomes a negative ion. It is well known that a compound called a charge transfer complex is formed between these two molecules. For example, a compound of perylene and tetracyanoquinodimethane (TCNQ) is a compound composed of neutral molecules. On the other hand, the compound of tetramethylphenylenediamine (TMPD) and TCNQ is an ionic compound in which the respective molecules are positive and negative. It is also known that a compound of tetrathiafulvalene (TTF) and chloranil (CA) exhibits a neutral-ionic transition due to a change in temperature or pressure (JB Tor).
lance et al. : Phys. Rev .. Let
t. , 46, 253 (1981)).

【0021】このような有機分子における電荷移動現象
を、電気素子、光学素子の動作原理として応用する場合
に重要な点は、電界や光により、いかに効率よく、しか
も制御性よく電荷移動を起こさせるかということであ
る。最近、電荷移動錯体の電気的特性に関して、興味あ
る結果が報告されている(十倉好紀ら:1988年秋、
物理学会予稿集、3a−S4−1,3a−S4−2,3
a−S4−3他、Y.Tokura et al.:P
hysica 143B,527(1986))。ここ
では、ドナー分子とアクセプター分子とが、互いに分子
面を向かい合わせて積層されている交互積層型錯体結晶
では、比誘電率の異方性が高く、積層方向の比誘電率が
100〜1000と極めて高いこと、103 〜104
/cmオーダーの電界下で非線形な電気伝導やスイッチ
ング特性が観察されることが報告されている。その原因
として、中性結晶内に熱的又は電気的に生成されたイオ
ン性ドレイン又はイオン性結晶内の中性ドメインが、電
界により動力学的に動くことが考えられている。
An important point in applying such a charge transfer phenomenon in an organic molecule as an operating principle of an electric element or an optical element is that charge transfer can be caused efficiently and efficiently by an electric field or light. That is. Recently, interesting results have been reported on the electrical properties of charge transfer complexes (Yoshinori Tokura et al .: Autumn 1988,
Proceedings of the Physical Society of Japan, 3a-S4-1, 3a-S4-2, 3
a-S4-3 and others; Tokura et al. : P
hysica 143B, 527 (1986)). Here, in an alternately stacked complex crystal in which a donor molecule and an acceptor molecule are stacked with their molecular surfaces facing each other, the anisotropy of the relative dielectric constant is high, and the relative dielectric constant in the stacking direction is 100 to 1000. Extremely high, 10 3 to 10 4 V
It has been reported that non-linear electric conduction and switching characteristics are observed under an electric field on the order of / cm. As a cause, it is considered that an ionic drain thermally or electrically generated in the neutral crystal or a neutral domain in the ionic crystal dynamically moves due to an electric field.

【0022】この現象は、中性−イオン性転移と関連性
があるものの、極めて局所的な変化であって、結晶全体
が巨視的に変化しているわけではない。現状では、電界
や光による巨視的な中性−イオン性転移は実現していな
い。
Although this phenomenon is related to the neutral-ionic transition, it is a very local change, and the entire crystal is not macroscopically changed. At present, a macroscopic neutral-ionic transition by an electric field or light has not been realized.

【0023】電荷移動錯体において、電界により巨視的
な中性−イオン性転移を起こすためには、素子内の電界
の方向とドナー分子及びアクセプター分子の積層軸の方
向とが一致していることが極めて重要である。このよう
に有機分子の特性を活かしたデバイスを実現するために
は、膜厚などのサイズや膜内の構造的均一性はもちろん
のこと、膜内の1分子オーダーでの分子配列、隣接する
分子間の相互配置及び分子配向を制御することが非常に
重要となる。
In order to cause a macroscopic neutral-ionic transition by an electric field in the charge transfer complex, the direction of the electric field in the device and the direction of the stacking axis of the donor molecule and the acceptor molecule must coincide. Very important. In order to realize a device utilizing the characteristics of organic molecules, not only the size such as the film thickness and the structural uniformity in the film, but also the molecular arrangement in the order of one molecule in the film and the neighboring molecules are required. It is very important to control the mutual arrangement and molecular orientation between them.

【0024】近年、分子配向、配列が制御された超薄膜
を作製する方法の一つとして、Langmuir−Bl
odgett(LB)法が注目を集めている。これは、
水面上に形成された単分子膜を一層ずつ基板上に累積し
て、同種又は異種の超格子膜を作製する方法である。し
かし、実際には、水面上に展開された膜中の分子のパッ
キング状態や均一性が悪く、基板に累積する際に単分子
膜構造が乱れるという問題がある。このため、膜全体又
は累積層間の分子配向が制御された超格子薄膜を形成で
きるレベルには至っていない。LB法による成膜技術を
向上させるためには、LB法に適した分子の設計と、そ
の合成技術の確立が必要となっている。
In recent years, Langmuir-Bl has been used as one method for producing an ultrathin film in which the molecular orientation and arrangement are controlled.
The oddt (LB) method is receiving attention. this is,
This is a method in which monomolecular films formed on the water surface are accumulated one by one on a substrate to produce the same or different superlattice films. However, in reality, there is a problem that the packing state and uniformity of the molecules in the film developed on the water surface are poor, and the monomolecular film structure is disturbed when the molecules are accumulated on the substrate. For this reason, it has not yet reached a level at which a superlattice thin film in which the molecular orientation between the entire film or the accumulated layers is controlled can be formed. In order to improve the film forming technique by the LB method, it is necessary to design a molecule suitable for the LB method and to establish a synthesis technique thereof.

【0025】一方、特別な分子設計を必要とせず、ほと
んどの有機分子に容易に適用できる技術として、真空蒸
着法に関する研究も盛んに行われている。しかし、真空
蒸着法では、分子蒸着源をいったんガス化して再び凝集
させるため、ガス化分子の供給速度、基板表面に付着し
た分子の表面拡散や結晶化などの速度のバランス、吸着
分子と基板表面との相互作用に依存して、膜構造や分子
配向が種々変化することが予想される。
On the other hand, as a technique which does not require a special molecular design and can be easily applied to most organic molecules, studies on a vacuum deposition method have been actively conducted. However, in the vacuum deposition method, since the molecular deposition source is once gasified and reagglomerated, the supply speed of gasified molecules, the balance of the speed of diffusion and crystallization of molecules attached to the substrate surface, the balance between the adsorbed molecules and the substrate surface. It is expected that the film structure and molecular orientation will be variously changed depending on the interaction with.

【0026】従来の有機蒸着膜に関する研究では、主と
して長鎖炭化水素系直線状分子やフタロシアニンなどの
平板状分子について、種々の基板上での薄膜成長過程と
分子配向に関する検討がなされてきた。基板としては、
電子顕微鏡、電子線回折による評価を目的とする場合に
は単結晶アルカリハライド、単結晶金属;光学的評価を
目的とする場合には石英;電気的評価を目的とする場合
にはSi単結晶;などが主に用いられている。蒸着条件
については、基板温度及び蒸着速度の影響を調べた例が
多い。アメリカのVincettらは、蒸着材料、基板
の種類によらず、絶対温度で基板温度を蒸着材料の沸点
の1/3に設定することにより、均一な連続膜が形成で
きると報告している。しかし、蒸着条件を適性化しただ
けでは、任意の基板上に蒸着される有機薄膜の配向を制
御することは極めて困難である。
In the studies on conventional organic vapor deposition films, studies have been made on the growth process and molecular orientation of thin films on various substrates, mainly for long-chain hydrocarbon-based linear molecules and flat molecules such as phthalocyanine. As a substrate,
Single crystal alkali halide and single crystal metal for evaluation by electron microscope and electron beam diffraction; Quartz for optical evaluation; Si single crystal for electrical evaluation; Are mainly used. Regarding the deposition conditions, there are many examples in which the effects of the substrate temperature and the deposition rate were examined. Vincett et al. In the United States report that a uniform continuous film can be formed by setting the substrate temperature to 1/3 of the boiling point of the vapor deposition material in absolute temperature regardless of the type of the vapor deposition material and the substrate. However, it is extremely difficult to control the orientation of an organic thin film to be deposited on an arbitrary substrate only by appropriately adjusting the deposition conditions.

【0027】基板がその上に蒸着される有機薄膜の分子
配向に及ぼす影響については、以下のような研究が知ら
れている。(1)西ドイツのKarlらは、清浄なSi
単結晶表面に形成された数分子層のペリレンテトラカル
ボン酸二無水物の蒸着膜では、分子面が基板表面に平行
に配向していることを報告している。(2)原は、分子
線蒸着法を用いたフタロシアニン蒸着膜の研究におい
て、通常の高真空蒸着では不連続膜しか形成できない条
件でも、超高真空下で蒸着速度を0.1nm/分程度の
非常に遅い条件にすることにより、均一な連続膜で、し
かも分子面が基板表面に平行配向した膜を形成できると
報告している。この研究では、基板と蒸着された有機結
晶との格子不整合を回避する目的で、ファンデアワール
ス・エピタキシーの考え方に基づき、基板として層状化
合物であるMoS2 が用いられている。(3)原田ら
は、グラファイト基板上に形成された数分子層のペンタ
セン蒸着膜では、分子面が基板表面に平行配向している
ことを報告している。
The following studies are known on the effect of a substrate on the molecular orientation of an organic thin film deposited thereon. (1) Karl of West Germany and others
It is reported that molecular planes of a few molecular layers of perylenetetracarboxylic dianhydride deposited on a single crystal surface are oriented parallel to the substrate surface. (2) Originally, in the study of phthalocyanine vapor-deposited films using molecular beam deposition, even under conditions where only a discontinuous film could be formed by ordinary high-vacuum vapor deposition, the deposition rate was about 0.1 nm / min under ultra-high vacuum. It is reported that by setting the conditions very slow, it is possible to form a uniform continuous film and a film whose molecular plane is oriented parallel to the substrate surface. In this study, a layered compound MoS 2 is used as a substrate based on the concept of Van der Waals epitaxy in order to avoid lattice mismatch between the substrate and the deposited organic crystal. (3) Harada et al. Report that molecular planes of a few molecular layer pentacene vapor-deposited film formed on a graphite substrate are oriented parallel to the substrate surface.

【0028】このように真空蒸着法による薄膜形成に関
して多種多様な研究がなされているにもかかわらず、膜
構造、分子配向の制御因子が統一的に理解されている状
況ではない。
As described above, although various studies have been made on the formation of a thin film by the vacuum evaporation method, it is not the situation that the controlling factors of the film structure and the molecular orientation are unified.

【0029】これに対し、本発明者らは、基板と蒸着分
子との間に生じる相互作用に着目して鋭意検討した。そ
の結果、高配向グラファイト基板を用い蒸着条件を適正
化すれば、均一な連続膜が容易に形成できることを見出
した。また、高配向グラファイト基板上で得られる配向
効果は、基板とπ電子化合物分子との間の分散力に基づ
くものであると推定した。
On the other hand, the present inventors have made intensive studies by focusing on the interaction between the substrate and the vapor deposition molecules. As a result, they have found that a uniform continuous film can be easily formed if the deposition conditions are optimized using a highly oriented graphite substrate. In addition, it was presumed that the orientation effect obtained on the highly oriented graphite substrate was based on the dispersion force between the substrate and the π-electron compound molecule.

【0030】これに基づき、基板上にグラファイト類似
骨格を有する薄膜によって分子配向制御層を形成する方
法、さらには、分散力が基板表面原子の電子分極率に依
存する点に着目して基板表面原子の分極率を規定する方
法などの改良を試みた。
Based on this, a method of forming a molecular orientation control layer by a thin film having a graphite-like skeleton on a substrate, and further focusing on the fact that the dispersion force depends on the electron polarizability of the substrate surface atoms, We tried to improve the method of specifying the polarizability of

【0031】しかし、実際には任意の基板上でこのよう
な分子配向制御層を制御して形成することは難しく、配
向性結晶薄膜を用いる有機薄膜素子の開発に大きな壁と
なっていた。
However, it is actually difficult to control and form such a molecular orientation control layer on an arbitrary substrate, and this has been a major obstacle to the development of an organic thin film element using an oriented crystal thin film.

【0032】上述のように、有機薄膜の有する特徴的な
機能を最適化するためには、基板表面に対する分子配向
を制御した薄膜構造、或いは薄膜内での結晶軸配向を制
御した薄膜構造を形成する必要がある。
As described above, in order to optimize the characteristic function of the organic thin film, a thin film structure in which the molecular orientation with respect to the substrate surface is controlled or a thin film structure in which the crystal axis orientation in the thin film is controlled is formed. There is a need to.

【0033】しかし、このような分子配向制御を可能と
するためには、基板本体の表面凹凸にかかわらず分子サ
イズレベルで平坦な最表面を用意すると共に、分子配向
制御性の高い最表面を用意する技術を確立することが求
められている。
However, in order to enable such molecular orientation control, a flat outermost surface at the molecular size level is prepared irrespective of the surface irregularities of the substrate body, and an outermost surface having high molecular orientation controllability is prepared. It is required to establish the technology to do it.

【0034】[0034]

【発明が解決しようとする課題】本発明の第1の目的
は、高い3次非線形感受率と高速な応答速度とを同時に
実現する光制御素子を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is a first object of the present invention to provide a light control element which simultaneously realizes a high third-order nonlinear susceptibility and a high response speed.

【0035】本発明の第2の目的は、基板本体の材質・
形状にかかわらず、有機薄膜の構造ならびに分子配向性
を制御可能であり、光学素子、電子素子などとして実用
的に使用し得る有機薄膜素子を提供することにある。
A second object of the present invention is to provide a material and a material for a substrate main body.
It is an object of the present invention to provide an organic thin film element that can control the structure and molecular orientation of an organic thin film regardless of its shape and can be practically used as an optical element, an electronic element, and the like.

【0036】また、本発明の第3の目的は、基板本体の
材質・形状にかかわらず、有機薄膜の構造ならびに分子
配向性を制御可能であり、光学素子、電子素子などとし
て実用的に使用し得る有機薄膜素子を製造する方法を提
供することにある。
A third object of the present invention is to control the structure and molecular orientation of an organic thin film irrespective of the material and shape of a substrate main body, and to be used practically as an optical element or an electronic element. It is an object of the present invention to provide a method for producing an obtained organic thin film element.

【0037】[0037]

【課題を解決するための手段】本発明は、第1に、基板
と、前記基板上に形成された第1の電極層と、前記第1
の電極層上に形成された第1の絶縁体層と、前記第1の
絶縁体層上に形成された電子供与性有機化合物と電子受
容性有機化合物とを含む光制御層と、前記光制御層上に
形成された第2の絶縁体層と、前記第2の絶縁体層上に
形成された第2の電極層と、前記光制御層に、前記光制
御層が相転移を起こすのに必要な強度未満の外部電場を
印加する手段とを具備し、前記強度未満の外部電場の印
加により電荷移動励起子を誘起する光制御素子を提供す
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention comprises, first, a substrate; a first electrode layer formed on the substrate;
A first insulator layer formed on the first electrode layer; a light control layer including an electron donating organic compound and an electron accepting organic compound formed on the first insulator layer; A second insulator layer formed on the first layer, a second electrode layer formed on the second insulator layer, and the light control layer, wherein the light control layer undergoes a phase transition. Means for applying an external electric field of less than the required intensity, and providing a light control element that induces charge transfer excitons by application of an external electric field of less than the required intensity.

【0038】本発明は、第2に、支持層と、該支持層上
に設けられたアモルファス有機膜からなる分子配向制御
層と、該分子配向制御層上に設けられたπ電子系分子か
らなる結晶性有機薄膜とを含む積層構造を有し、前記結
晶性有機薄膜は、真空蒸着法により100オングストロ
ーム/分以下の成長速度で形成され、且つその膜厚が1
分子層以上2000オングストローム以下であることを
特徴とする有機薄膜素子を提供する。
The present invention secondly comprises a support layer, a molecular orientation control layer composed of an amorphous organic film provided on the support layer, and a π-electron molecule provided on the molecular orientation control layer. A crystalline organic thin film formed by a vacuum deposition method at a growth rate of 100 Å / min or less and having a thickness of 1
Provided is an organic thin film element having a molecular layer of not less than 2000 Å.

【0039】本発明は、第3に、半導体基板のソース、
ドレイン領域間のチャネル領域に、絶縁膜、アモルファ
ス有機薄膜からなる分子配向制御膜、ゲート電極及びπ
電子系分子からなる結晶性有機薄膜を含む積層構造を有
し、前記結晶性有機薄膜は、真空蒸着法により100オ
ングストローム/分以下の成長速度で形成され、且つそ
の膜厚が1分子層以上2000オングストローム以下で
あることを特徴とする有機薄膜素子を提供する。
Thirdly, the present invention provides a semiconductor substrate having a source,
An insulating film, a molecular orientation control film made of an amorphous organic thin film, a gate electrode and a π
It has a laminated structure including a crystalline organic thin film composed of electronic molecules. The crystalline organic thin film is formed at a growth rate of 100 Å / min or less by a vacuum deposition method, and has a thickness of at least one molecular layer and 2,000. Provided is an organic thin-film element having a thickness of Å or less.

【0040】本発明は、第4に、支持層表面に形成され
たアモルファス有機膜からなる分子配向制御層を用意
し、該アモルファス有機膜上に、真空蒸着法により10
0オングストローム/分以下の成長速度で、1分子層以
上2000オングストローム以下の膜厚の結晶性有機薄
膜を形成することを特徴とする有機薄膜素子の製造方法
を提供する。
Fourth, the present invention provides a molecular orientation control layer composed of an amorphous organic film formed on the surface of a support layer.
Provided is a method for manufacturing an organic thin film element, which comprises forming a crystalline organic thin film having a thickness of at least one molecular layer and not more than 2000 Å at a growth rate of 0 Å / min or less.

【0041】[0041]

【発明の実施の形態】まず、本発明の光制御素子につい
て説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS First, a light control element of the present invention will be described.

【0042】本発明の光制御素子は、基本的に、基板
と、基板上に形成された第1の電極層と、第1の電極層
上に形成された第1の絶縁体層と、第1の絶縁体層上に
形成された電子供与性有機化合物と電子受容性有機化合
物とを含む光制御層と、光制御層上に形成された第2の
絶縁体層と、第2の絶縁体層上に形成された第2の電極
層と、光制御層に、光制御層が相転移を起こすのに必要
な強度未満の外部電場を印加する手段とを具備する。こ
の光制御素子では、光制御層が相転移を起こすのに必要
な強度未満の外部電場を印加することにより、電荷移動
励起子が誘起される。
The light control element of the present invention basically includes a substrate, a first electrode layer formed on the substrate, a first insulator layer formed on the first electrode layer, A light controlling layer including an electron donating organic compound and an electron accepting organic compound formed on the first insulating layer, a second insulating layer formed on the light controlling layer, and a second insulating layer A second electrode layer formed on the layer; and a means for applying, to the light control layer, an external electric field less than the intensity required for the light control layer to undergo phase transition. In this light control element, a charge transfer exciton is induced by applying an external electric field less than the intensity required for the light control layer to undergo a phase transition.

【0043】外部電場の強度は、好ましくは、光制御層
が相転移を起こすのに必要な強度未満であり、かつその
強度の1/104 以上の範囲内である。
The intensity of the external electric field is preferably less than the intensity required for the light control layer to undergo a phase transition and is in the range of 1/10 4 or more of the intensity.

【0044】光制御層には、信号光が入射され得る。Signal light can be incident on the light control layer.

【0045】この信号光は、光制御層が相転移を起こす
のに必要な強度未満の外部電場の印加により制御可能で
あるが、好ましくは、制御光照射手段により、信号光の
出力強度を制御するための制御光が前記光制御層に照射
される。
The signal light can be controlled by applying an external electric field less than the intensity required for the light control layer to undergo phase transition. Preferably, the output intensity of the signal light is controlled by control light irradiation means. Control light is applied to the light control layer.

【0046】光制御層は、電子供与性有機化合物と電子
受容性有機化合物とを含み、好ましくは、電子供与性有
機化合物と電子受容性有機化合物とが交互に積層された
交互積層型電荷移動錯体結晶から実質的になる。交互積
層型電荷移動錯体結晶を用いると、所定の電場の印加に
より中性−イオン性相転移が生じる。
The light control layer contains an electron-donating organic compound and an electron-accepting organic compound, and is preferably an alternately laminated charge transfer complex in which an electron-donating organic compound and an electron-accepting organic compound are alternately laminated. Consists essentially of crystals. When the layered charge-transfer complex crystal is used, a neutral-ionic phase transition occurs when a predetermined electric field is applied.

【0047】また、第1及び第2の絶縁体層の少なくと
も一方が光透過性を有することが好ましい。絶縁体層の
いずれかが、光透過性を有すると、信号光を、絶縁体層
を透過して前記光制御層に入射させることができる。
It is preferable that at least one of the first and second insulator layers has optical transparency. When any one of the insulator layers has a light-transmitting property, signal light can be transmitted through the insulator layer and incident on the light control layer.

【0048】信号光はまた、基板の主面と平行な方向か
ら、前記光制御層に入射させることができる。
The signal light can be incident on the light control layer from a direction parallel to the main surface of the substrate.

【0049】本発明の光制御素子には、第1の絶縁体層
と光制御素子との間、及び第2の絶縁体層と前記光制御
素子との間のうち少なくとも一方に、分子配向制御層を
設けることができる。分子配向制御層を用いることによ
り、結晶性の高い有機薄膜の特徴を生かしたり、結晶軸
方向による物性の異方性を利用した有機薄膜素子を得る
ことができる。
In the light control element of the present invention, at least one of between the first insulator layer and the light control element and between the second insulator layer and the light control element has a molecular orientation control. Layers can be provided. By using the molecular orientation control layer, it is possible to take advantage of the characteristics of an organic thin film having high crystallinity, and to obtain an organic thin film element utilizing anisotropy of physical properties in a crystal axis direction.

【0050】分子配向制御層は、アモルファス有機膜か
らなることが好ましく、さらに好ましくはステロイド系
骨格を有する分子をもつ有機膜である。
The molecular orientation control layer is preferably composed of an amorphous organic film, more preferably an organic film having molecules having a steroid skeleton.

【0051】さらにまた、分子配向制御層は、異種のア
モルファス有機膜を積層した構造を有し、ステロイド系
骨格を有する分子をもつアモルファス有機膜を少なくと
も1つ含むことが好ましい。
Further, the molecular orientation control layer has a structure in which different kinds of amorphous organic films are laminated, and preferably contains at least one amorphous organic film having molecules having a steroid skeleton.

【0052】以下、本発明の光制御素子について、図面
を用いて説明する。
Hereinafter, the light control element of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0053】図1に、本発明の一態様に係る光制御素子
の一断面図を示す。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a light control element according to one embodiment of the present invention.

【0054】この図で、参照符号1は基板を示してお
り、基板1の一方の主面上には、第1の電極層2、第1
の絶縁体層3、光制御層4、第2の絶縁体層5、及び第
2の電極層6が、順次積層されている。また、これら電
極層2、6、絶縁体層3、5及び光制御層4の、それぞ
れの主面は、平行になるように配置されている。
In this figure, reference numeral 1 denotes a substrate, and a first electrode layer 2 and a first electrode layer 2 are formed on one main surface of the substrate 1.
The insulator layer 3, the light control layer 4, the second insulator layer 5, and the second electrode layer 6 are sequentially laminated. The main surfaces of the electrode layers 2 and 6, the insulator layers 3 and 5, and the light control layer 4 are arranged so as to be parallel.

【0055】本発明の光制御素子で用いられる基板とし
ては、ガラス、石英、及び酸化物等の透明性を有する誘
電体等からなる透明基板を挙げることができる。また、
Si等の半導体やAl等の金属等の光透過性を有してい
ない基板も用いることができる。これら基板は、光制御
素子の駆動方法に応じて選択される。
Examples of the substrate used in the light control element of the present invention include a transparent substrate made of a transparent dielectric such as glass, quartz, and oxide. Also,
A substrate having no light transmittance, such as a semiconductor such as Si or a metal such as Al, can also be used. These substrates are selected according to the driving method of the light control element.

【0056】本発明の光制御素子で用いられる第1及び
第2の電極層は、ITO、ZnO、及びSnO2 等の透
明電極や、Al、Au、Ag、及びPt等の金属からな
る電極である。また、ポリピロール、ポリアニリン、ポ
リチオフェン等の導電性高分子膜を用いることもでき
る。これらの電極は、光制御素子の駆動方法に応じて選
択され、第1及び第2の電極層の両方を透明電極または
金属からなる電極で構成することができ、一方を透明電
極、他方を金属からなる電極で構成することも可能であ
る。金属からなる電極板を上述の基板として用いること
もできるが、通常は、絶縁性の基板上に、20オングス
トローム〜2000オングストロームの厚さの薄膜とし
て形成される。
The first and second electrode layers used in the light control element of the present invention are transparent electrodes such as ITO, ZnO and SnO 2 and electrodes made of metals such as Al, Au, Ag and Pt. is there. Alternatively, a conductive polymer film such as polypyrrole, polyaniline, or polythiophene can be used. These electrodes are selected according to the driving method of the light control element, and both the first and second electrode layers can be formed of a transparent electrode or an electrode made of a metal, one of which is a transparent electrode and the other of which is a metal. It is also possible to use an electrode composed of Although an electrode plate made of metal can be used as the above-mentioned substrate, it is usually formed on an insulating substrate as a thin film having a thickness of 20 Å to 2000 Å.

【0057】本発明の光制御素子で用いられる第1及び
第2の電極層は、それぞれの対向面が光反射性を有して
もよい。これらの電極層は、ファブリ・ペロー共振器の
ミラーとなるように、それぞれの主面が平行に配置され
ている。
The first and second electrode layers used in the light control element of the present invention may have their respective opposing surfaces having light reflectivity. These electrode layers have their main surfaces arranged in parallel so as to be mirrors of a Fabry-Perot resonator.

【0058】本発明の光制御素子で用いられる第1及び
第2の絶縁体層は、スクシノニトリル、ポリメタクリル
酸メチル(PMMA)、ポリイミド、ポリスチレン、及
びポリシラン等の絶縁性の有機化合物や、SrTi
3 、及びSiO2 等の金属酸化物、ステロイド系骨格
を有する有機膜等の絶縁体で構成されることが好まし
い。
The first and second insulator layers used in the light control element of the present invention are made of insulating organic compounds such as succinonitrile, polymethyl methacrylate (PMMA), polyimide, polystyrene, and polysilane; SrTi
It is preferable to be formed of an insulator such as a metal oxide such as O 3 and SiO 2 and an organic film having a steroid skeleton.

【0059】絶縁体層は、分子配向制御層としての機能
を有することが好ましい。この分子配向制御層は、光制
御層の分子配向を制御するために用いられる。
The insulator layer preferably has a function as a molecular orientation control layer. This molecular orientation control layer is used for controlling the molecular orientation of the light control layer.

【0060】絶縁体層は、光制御層に有効に電圧が印加
されるように、誘電率の高い材料で構成することが好ま
しい。このような絶縁体としては、強誘電体を挙げるこ
とができるが、SrTiO3 やPbTiO3 のような比
誘電率が10以上の材料を用いることが好ましい。
The insulator layer is preferably made of a material having a high dielectric constant so that a voltage can be effectively applied to the light control layer. Examples of such an insulator include a ferroelectric substance, and it is preferable to use a material having a relative dielectric constant of 10 or more, such as SrTiO 3 or PbTiO 3 .

【0061】本発明の光制御素子では、信号光を、この
一対の絶縁体層間に挟持される光制御層に導入して、こ
の光制御層に制御光を照射することにより、出力光の制
御が行なわれる。ここで、信号光とは、本発明の素子に
より出力が制御される光であり、通常は、波長が300
nm〜2000nm、強度が0.01MW/cm2 〜1
00MW/cm2 である。また、制御光とは、光制御層
の光学的性質を制御する光であり、通常は、波長が30
0nm〜2000nm、強度が0.01MW/cm2
1GW/cm2 である。これら、信号光及び制御光を、
光制御層に、別々に照射してもよく、信号光を制御光と
して用いてもよい。
In the light control element of the present invention, the signal light is introduced into the light control layer sandwiched between the pair of insulator layers, and the light control layer is irradiated with the control light to control the output light. Is performed. Here, the signal light is light whose output is controlled by the element of the present invention.
nm to 2000 nm, intensity 0.01 MW / cm 2 -1
00 MW / cm 2 . Further, the control light is light for controlling the optical properties of the light control layer.
0 nm to 2000 nm, intensity 0.01 MW / cm 2 to
It is 1 GW / cm 2 . These signal light and control light are
The light control layer may be separately irradiated, or signal light may be used as control light.

【0062】信号光を、絶縁体層を透過させることな
く、基板の主面に平行な方向で、光制御層に導入及び出
力する場合、絶縁体層は、光透過性を有する必要はな
い。しかしながら、信号光を絶縁体層を透過させて光制
御層に導入する場合、または出力光を絶縁体層を透過さ
せて光制御層から出力する場合は、絶縁体層は、光透過
性を有する必要がある。このような絶縁体層は、通常
は、反射率が50%以下になるように、光透過性を制御
される。
When signal light is introduced and outputted to the light control layer in a direction parallel to the main surface of the substrate without passing through the insulator layer, the insulator layer does not need to have optical transparency. However, when signal light is transmitted through the insulator layer and introduced into the light control layer, or when output light is transmitted through the insulator layer and output from the light control layer, the insulator layer has light transmittance. There is a need. The light transmittance of such an insulator layer is usually controlled so that the reflectance is 50% or less.

【0063】本発明の光制御素子の光制御層としては、
ドナー分子である電子供与性の有機化合物と、アクセプ
タ分子である電子受容性の有機化合物とが、交互に積層
された交互積層型電荷移動錯体結晶を用いることができ
る。
As the light control layer of the light control element of the present invention,
An alternately stacked charge transfer complex crystal in which an electron donating organic compound as a donor molecule and an electron accepting organic compound as an acceptor molecule are alternately stacked can be used.

【0064】以下に、本発明にかかる光制御素層に用い
られる、ドナー分子及びアクセプタ分子の略称、化合物
名及び化学式を示す。
The abbreviations, compound names and chemical formulas of donor molecules and acceptor molecules used in the light control element layer according to the present invention are shown below.

【0065】ドナー分子 アニリン[D−1] N−メチルアニリン[D−2] N,N−ジメチルアニリン[D−3] PD:p−フェニレンジアミン[D−4] ClPD:2−クロロ−p−フェニレンジアミン[D−
5] ClMePD:2−クロロ−5−メチル−p−フェニレ
ンジアミン[D−6] DClPD:2,5−ジクロロ−p−フェニレンジアミ
ン[D−7] DMePD:2,5−ジメチル−p−フェニレンジアミ
ン[D−8] DAD:ジアミノジュレン[D−9] TMPD:N,N,N’,N’−テトラメチル−PD
[D−10] N,N−DMePD:N,N−ジメチル−PD[D−1
1] 1、5−ジメチルナフタレン[D−12] 1、8−ジメチルナフタレン[D−13] ベンジジン[D−14] TMB:3,3’,5,5’−テトラメチルベンジジン
[D−15] NNN’N’−TMB:N,N,N’,N’−テトラメ
チル−ベンジジン[D−16] DAP:1,6−ジアミノピレン[D−17] TMDAP:N,N,N’,N’−テトラメチル−DA
P[D−18] フェナジン[D−19] M2 P:5,10−ジメチル−5,10−ジヒドロフェ
ナジン[D−20] E2 P:5,10−ジエチル−5,10−ジヒドロフェ
ナジン[D−21] Pr2 P:5,10−ジプロピル−5,10−ジヒドロ
フェナジン[D−22] HMP:5−メチル−5,10−ジヒドロフェナジン
[D−23] M6 P:5,10−ジヒドロ−2,3,5,7,8,1
0−ヘキサメチルフェナジン[D−24] PTZ:フェノチアジン[D−25] N−MePTZ:N−メチルフェノチアジン[D−2
6] ClPTZ:2−クロロフェノチアジン[D−27] TDAE:テトラキス(ジメチルアミノ)エチレン フェロセン[D−28] ジメチルフェロセン[D−29] デカメチルフェロセン[D−30] ニッケロセン デカメチルニッケロセン コバルトセン TTF:テトラチアフルバレン[D−31] DMTTF:2,6−ジメチルテトラチアフルバレン
[D−32] TMTTF:テトラメチルテトラチアフルバレン[D−
33] DPhTTF:2,6−ジフェニルテトラチアフルバレ
ン[D−34] DPhDMTTF:2,6−ジフェニル−3,7−ジメ
チルテトラチアフルバレン[D−35] DBTTF:ジベンゾテトラチアフルバレン[D−3
6] OMTTF:オクタメチレンテトラチアフルバレン[D
−37] HMTTF:ヘキサメチレンテトラチアフルバレン[D
−38] TTC1 TTF[D−39] TTeC1 TTF[D−40] TSF:テトラセレナフルバレン[D−41] TMTSF:テトラメチルテトラセレナフルバレン[D
−42] HMTSF;ヘキサメチレンテトラセレナフルバレン
[D−43] HMTTeF:ヘキサメチレンテトラテルラフルバレン
[D−44] TTT:テトラチアテトラセン[D−45] TST:テトラセレナテトラセン[D−46] BTP:テトラフェニルビチオピラリデン[D−47] ナフタレン アントラセン フェナントレン ペンタセン ピレン ペニレン アズレン アセナフテン カルバゾール アクリジン (アクセプタ分子) BQ:p−ベンゾキノン[A−1] R1 2 3 4 BQ(R1 〜R4 =H,Me,Cl,
Br,I,F,CN)[A−2] R1 BQ:(R1 =Me,Cl,Br)[A−3] MeBQ ClBQ BrBQ R1 2 BQ:2−R1 −5−R2 −BQ(R1 ,R2
=Me,Cl,Br)[A−4] Me2 BQ Cl2 BQ ClMeBQ Br2 BQ BrMeBQ 2−R1 −6−R2 −BQ(R1 ,R2 =Me,Cl,
Br)[A−5] 2,6−Cl2 BQ 2,6−Br2 BQ 2,6−Me2 BQ Cl3 BQ:2,3,5−トリクロロ−p−ベンゾキノ
ン[A−6] CA:クロラニル[A−7] BA:ブロマニル[A−8] IA:ヨーダニル[A−9] FA:フルオラニル[A−10] DDQ:2,3−ジシアノ−5,6−ジクロロ−p−ベ
ンゾキノン[A−11] Me4 BQ:テトラメチル−p−ベンゾキノン[A−1
2] o−BQ:o−ベンゾキノン[A−13] o−CA:o−クロラニル[A−14] o−BA:o−ブロマニル[A−15] NQ:ナフトキノン[A−16] R1 2 3 4 5 6 NQ[A−17] R1 2 NQ:2−R1 −3−R2 −NQ(R1 ,R2
=Cl,CN)[A−18] Cl2 NQ:2,3−ジクロロナフトキノン (CN)2 NQ:2,3−ジシアノナフトキノン AQ:9,10−アントラキノン[A−19] R1 2 3 4 5 6 AQ[A−20] TCNQ:テトラシアノキノジメタン[A−21] R1 2 3 4 TCNQ[A−22] R1 TCNQ:2−R1 −TCNQ(R1 =Me,OM
e,F,Cl,Br)[A−23] MeTCNQ (OMe)TCNQ FTCNQ ClTCNQ BrTCNQ R1 2 TCNQ:2−R1 −5−R2 −TCNQ(R
1 、R2 =Me,Et,Pr,OMe,F,Cl,B
r,I)[A−24] Me2 TCNQ Et2 TCNQ Pr2 TCNQ (OMe)2 TCNQ F2 TCNQ Cl2 TCNQ Br2 TCNQ I2 TCNQ ClMeTCNQ BrMeTCNQ IMeTCNQ F4 TCNQ[A−25] TCNNQ:テトラシアノ−1,4−ナフトキノジメタ
ン[A−26] R1 2 3 4 5 6 TCNNQ[A−27] TCNAQ:テトラシアノ−9,10−アントラキノジ
メタン[A−28] R1 2 3 4 5 TCNAQ[A−29] TNAP:テトラシアノ−2,6−ナフトキノジメタン
[A−30] F6 TNAP[A−31] TCNDQ[A−32] F8 TCNDQ[A−33] DCNQI:ジシアノキノンジイミン[A−34] R1 2 3 4 DCNQI[A−35] R1 DCNQI:2−R1 −ジシアノキノンジイミン
(R1 =Me,Cl,Br)[A−36]MeDCNQ
I:2−メチルジシアノキノンジイミン ClDCNQI:2−クロロジシアノキノンジイミン BrDCNQI:2−ブロモジシアノキノンジイミン R1 2 DCNQI:2−R1 −5−R2 −DCNQI
(R1 ,R2 =Me,Cl,Br)[A−37] DMeDCNQI:2,5−ジメチルジシアノキノンジ
イミン ClMeDCNQI:2−クロロ−5−メチルジシアノ
キノンジイミン DClDCNQI:2,5−ジクロロジシアノキノンジ
イミン BrMeDCNQI:2−ブロモ−5−メチルジシアノ
キノンジイミン Br2 DCNQI:2−ジブロモジシアノキノンジイミ
ン Cl4 DCNQI:2,3,5,6−テトラクロロジシ
アノキノンジイミン F4 DCNQI:2,3,5,6−テトラフルオロジシ
アノキノンジイミン DCNNQI:ジシアノ−1,4−ナフトキノンジイミ
ン[A−38] R1 2 3 4 5 6 DCNNQI[A−39] DCNAQI:ジシアノ−1,4−ナフトキノンジイミ
ン[A−40] R1 2 3 4 5 DCNAQI[A−41] TNB:1,3,5−トリニトロベンゼン[A−42] TNF:2,4,7−トリニトロ−9−フルオレノン
[A−43] DTF:2,4,7−トリニトロ−9−フルオレニリデ
ンマロノニトリル[A−44] TENF:2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオ
レノン[A−45] DTENF:2,4,5,7−テトラニトロ−9−フル
オレニリデンマロノニトリル[A−46] TCNE:テトラシアノエチレン[A−47] HCBD:ヘキサシアノブタジエン[A−48] HCNB:ヘキサシアノベンゼン[A−49] TCNB:テトラシアノベンゼン[A−50] DCNB:ジシアノベンゼン[A−51] PMDA:ピロメリト酸二無水物[A−52]
Donor molecule aniline [D-1] N-methylaniline [D-2] N, N-dimethylaniline [D-3] PD: p-phenylenediamine [D-4] ClPD: 2-chloro-p- Phenylenediamine [D-
5] ClMePD: 2-chloro-5-methyl-p-phenylenediamine [D-6] DCLPD: 2,5-dichloro-p-phenylenediamine [D-7] DMePD: 2,5-dimethyl-p-phenylenediamine [D-8] DAD: diaminodulene [D-9] TMPD: N, N, N ′, N′-tetramethyl-PD
[D-10] N, N-DMePD: N, N-dimethyl-PD [D-1
1] 1,5-dimethylnaphthalene [D-12] 1,8-dimethylnaphthalene [D-13] benzidine [D-14] TMB: 3,3 ′, 5,5′-tetramethylbenzidine [D-15] NNN'N'-TMB: N, N, N ', N'-tetramethyl-benzidine [D-16] DAP: 1,6-diaminopyrene [D-17] TMDAP: N, N, N', N ' -Tetramethyl-DA
P [D-18] phenazine [D-19] M 2 P: 5,10-dimethyl-5,10-dihydrophenazine [D-20] E 2 P: 5,10-diethyl-5,10-dihydrophenazine [ D-21] Pr 2 P: 5,10- dipropyl-5,10-dihydro-phenazine [D-22] HMP: 5- methyl-5,10-dihydrophenazine [D-23] M 6 P : 5,10- Dihydro-2,3,5,7,8,1
0-hexamethylphenazine [D-24] PTZ: phenothiazine [D-25] N-MePTZ: N-methylphenothiazine [D-2]
6] ClPTZ: 2-chlorophenothiazine [D-27] TDAE: tetrakis (dimethylamino) ethylene ferrocene [D-28] dimethylferrocene [D-29] decamethylferrocene [D-30] nickelocene decamethylnickelocene cobaltene TTF : Tetrathiafulvalene [D-31] DMTTF: 2,6-dimethyltetrathiafulvalene [D-32] TMTTF: tetramethyltetrathiafulvalene [D-31]
33] DPhTTF: 2,6-diphenyltetrathiafulvalene [D-34] DPhDMTTF: 2,6-diphenyl-3,7-dimethyltetrathiafulvalene [D-35] DBTTF: dibenzotetrathiafulvalene [D-3]
6] OMTTF: octamethylenetetrathiafulvalene [D
-37] HMTTF: hexamethylenetetrathiafulvalene [D
-38] TTC 1 TTF [D-39] TTeC 1 TTF [D-40] TSF: Tetraselenafulvalene [D-41] TMTSF: Tetramethyltetraselenafulvalene [D
-42] HMTSF; hexamethylenetetraselenafulvalene [D-43] HMTTeF: hexamethylenetetratellurafulvalene [D-44] TTT: tetrathiatetracene [D-45] TST: tetraselenatetracene [D-46] BTP : Tetraphenylbithiopyralidene [D-47] naphthalene anthracene phenanthrene pentacene pyrene penylene azulene acenaphthene carbazole acridine (acceptor molecule) BQ: p-benzoquinone [A-1] R 1 R 2 R 3 R 4 BQ (R 1 to R 4 = H, Me, Cl,
Br, I, F, CN) [A-2] R 1 BQ: (R 1 = Me, Cl, Br) [A-3] MeBQ ClBQ BrBQ R 1 R 2 BQ: 2-R 1 -5-R 2 −BQ (R 1 , R 2
= Me, Cl, Br) [A-4] Me 2 BQ Cl 2 BQ ClMeBQ Br 2 BQ BrMeBQ 2-R 1 -6 -R 2 -BQ (R 1 , R 2 = Me, Cl,
Br) [A-5] 2,6-Cl 2 BQ 2,6-Br 2 BQ 2,6-Me 2 BQ Cl 3 BQ: 2,3,5-trichloro-p-benzoquinone [A-6] CA: Chloranyl [A-7] BA: Blomanyl [A-8] IA: Iodanyl [A-9] FA: Fluoranyl [A-10] DDQ: 2,3-dicyano-5,6-dichloro-p-benzoquinone [A- 11] Me 4 BQ: tetramethyl-p-benzoquinone [A-1
2] o-BQ: o-benzoquinone [A-13] o-CA: o-chloranyl [A-14] o-BA: o-bromanyl [A-15] NQ: naphthoquinone [A-16] R 1 R 2 R 3 R 4 R 5 R 6 NQ [A-17] R 1 R 2 NQ: 2-R 1 -3-R 2 -NQ (R 1 , R 2
= Cl, CN) [A- 18] Cl 2 NQ: 2,3- dichloro naphthoquinone (CN) 2 NQ: 2,3- dicyano naphthoquinone-AQ: 9,10-anthraquinone [A-19] R 1 R 2 R 3 R 4 R 5 R 6 AQ [A-20] TCNQ: Tetracyanoquinodimethane [A-21] R 1 R 2 R 3 R 4 TCNQ [A-22] R 1 TCNQ: 2-R 1 -TCNQ (R 1 = Me, OM
e, F, Cl, Br) [A-23] MeTCNQ (OMe) TCNQ FTCNQ ClTCNQ BrTCNQ R 1 R 2 TCNQ: 2-R 1 -5-R 2 -TCNQ (R
1 , R 2 = Me, Et, Pr, OMe, F, Cl, B
r, I) [A-24 ] Me 2 TCNQ Et 2 TCNQ Pr 2 TCNQ (OMe) 2 TCNQ F 2 TCNQ Cl 2 TCNQ Br 2 TCNQ I 2 TCNQ ClMeTCNQ BrMeTCNQ IMeTCNQ F 4 TCNQ [A-25] TCNNQ: tetracyano - 1,4-naphthoquinodimethane [A-26] R 1 R 2 R 3 R 4 R 5 R 6 TCNNQ [A-27] TCNAQ: tetracyano-9,10-anthraquinodimethane [A-28] R 1 R 2 R 3 R 4 R 5 TCNAQ [A-29] TNAP: tetracyano-2,6-naphthoquinodimethane [A-30] F 6 TNAP [A-31] TCNDQ [A-32] F 8 TCNDQ [A -33] DCNQI: dicyanoquinone diimine [A-34] R 1 R 2 R 3 R 4 DCNQI [A-35] R 1 DC QI: 2-R 1 - dicyanoquinone diimine (R 1 = Me, Cl, Br) [A-36] MeDCNQ
I: 2-methyldicyanoquinonediimine ClDCNQI: 2-chlorodicyanoquinonediimine BrDCNQI: 2-bromodicyanoquinonediimine R 1 R 2 DCNQI: 2-R 1 -5-R 2 -DCNQI
(R 1 , R 2 = Me, Cl, Br) [A-37] DMeDCNQI: 2,5-dimethyldicyanoquinonediimine ClMeDCNQI: 2-chloro-5-methyldicyanoquinonediimine DCDDCNQI: 2,5-dichlorodicyano Quinone diimine BrMeDCNQI: 2-bromo-5-methyldicyanoquinone diimine Br 2 DCNQI: 2-dibromodicyanoquinone diimine Cl 4 DCNQI: 2,3,5,6-tetrachlorodicyanoquinone diimine F 4 DCNQI: 2 , 3,5,6-tetrafluorodicyanoquinonediimine DCNNQI: dicyano-1,4-naphthoquinonediimine [A-38] R 1 R 2 R 3 R 4 R 5 R 6 DCNNQI [A-39] DCNAQI: dicyano -1,4-Naphthoquinone diimine [A-40] R 1 R 2 R 3 R 4 R 5 DCNAQI [A-41] TNB: 1,3,5-trinitrobenzene [A-42] TNF: 2,4,7-trinitro-9-fluorenone [A-43] DTF: 2,4,7 -Trinitro-9-fluorenylidenemalononitrile [A-44] TENF: 2,4,5,7-tetranitro-9-fluorenone [A-45] DTENF: 2,4,5,7-tetranitro-9-fur Olenylidenemalononitrile [A-46] TCNE: Tetracyanoethylene [A-47] HCBD: Hexacyanobutadiene [A-48] HCNB: Hexacyanobenzene [A-49] TCNB: Tetracyanobenzene [A-50] DCNB: Dicyano Benzene [A-51] PMDA: pyromellitic dianhydride [A-52]

【化1】 Embedded image

【0066】[0066]

【化2】 Embedded image

【0067】[0067]

【化3】 Embedded image

【0068】[0068]

【化4】 Embedded image

【0069】[0069]

【化5】 Embedded image

【0070】[0070]

【化6】 Embedded image

【0071】[0071]

【化7】 Embedded image

【0072】[0072]

【化8】 Embedded image

【0073】[0073]

【化9】 Embedded image

【0074】[0074]

【化10】 Embedded image

【0075】[0075]

【化11】 Embedded image

【0076】[0076]

【化12】 Embedded image

【0077】[0077]

【化13】 Embedded image

【0078】以下の表に、これらドナー分子及びアクセ
プタ分子の組み合せの例を示す。
The following table shows examples of combinations of these donor molecules and acceptor molecules.

【0079】[0079]

【表1】 [Table 1]

【0080】[0080]

【表2】 [Table 2]

【0081】[0081]

【表3】 [Table 3]

【0082】[0082]

【表4】 [Table 4]

【0083】[0083]

【表5】 [Table 5]

【0084】[0084]

【表6】 [Table 6]

【0085】[0085]

【表7】 [Table 7]

【0086】[0086]

【表8】 [Table 8]

【0087】[0087]

【表9】 [Table 9]

【0088】[0088]

【表10】 [Table 10]

【0089】[0089]

【表11】 [Table 11]

【0090】上記表に例示したドナー分子とアクセプタ
分子の組み合せからなる結晶は、外部場の非印加時にお
いて、電荷移動量の少ない中性状態の電荷移動錯体、並
びに電荷移動量の多いイオン性の電荷移動錯体を含んで
いる。一般に、交互積層型電荷移動錯体の電荷移動状態
は、構成分子のイオン化エネルギーと、イオン性結晶に
おけるマーデルングエネルギーとにより決定される。
Crystals composed of a combination of the donor molecule and the acceptor molecule exemplified in the above table can be used in a neutral charge transfer complex having a small charge transfer amount and an ionic charge having a large charge transfer amount when no external field is applied. Contains charge transfer complexes. In general, the charge transfer state of the layered charge transfer complex is determined by the ionization energy of the constituent molecules and the Madelung energy of the ionic crystal.

【0091】本発明者らは、電荷移動状態の異なる結晶
を混合して混晶を形成することによりイオン化エネルギ
ーを制御できることを見出し、さらに、特開平4−13
7666号公報で、結晶を超薄膜化して、マーデルング
エネルギーに寄与する分子数を変化させることにより、
マーデルングエネルギーを制御することができることを
開示している。
The present inventors have found that the ionization energy can be controlled by mixing crystals having different charge transfer states to form a mixed crystal.
No. 7666, by making the crystal ultra-thin and changing the number of molecules that contribute to Madelung energy,
It discloses that Madelung energy can be controlled.

【0092】したがって、上記表に例示したドナー分子
とアクセプタ分子の組みからなる結晶は、例え外部場の
非印加時にイオン性の電荷移動錯体を形成するものであ
っても、本発明の光制御素子に用いることができるので
ある。
Therefore, even if the crystal composed of a combination of the donor molecule and the acceptor molecule exemplified in the above table forms an ionic charge transfer complex when no external field is applied, the light control element of the present invention can be used. It can be used for

【0093】上述のようにして構成される光制御層の厚
さは、素子を構成する材料によって異なるが、一般に、
10オングストローム〜1μmである。また、ドナー分
子とアクセプタ分子との組みは、通常、光制御層の厚さ
方向に、数個〜数千個程度積層される。
The thickness of the light control layer formed as described above varies depending on the material forming the device.
10 angstrom to 1 μm. In addition, a set of donor molecules and acceptor molecules is usually stacked in the thickness direction of the light control layer in the order of several to several thousand.

【0094】以上説明した本発明の光制御素子は、通
常、基板上に、第1の電極層、第1の絶縁体層、光制御
層、第2の絶縁体層、第2の電極層の順に、順次積層す
ることにより形成される。電極層及び絶縁体層は、真空
蒸着法、スパッタ法、プラズマ重合法、CVD法、及び
スピンコート法等の方法を用いて形成することができ、
光制御層は、真空蒸着法、溶液析出法、及びLB法等の
方法を用いて形成することができる。
The light control element of the present invention described above usually has a first electrode layer, a first insulator layer, a light control layer, a second insulator layer, and a second electrode layer formed on a substrate. It is formed by sequentially laminating in order. The electrode layer and the insulator layer can be formed by a method such as a vacuum evaporation method, a sputtering method, a plasma polymerization method, a CVD method, and a spin coating method.
The light control layer can be formed by a method such as a vacuum evaporation method, a solution deposition method, and an LB method.

【0095】以下、本発明の光制御素子の駆動原理につ
いて説明する。
Hereinafter, the driving principle of the light control element of the present invention will be described.

【0096】有機化合物の中には、イオン化ポテンシャ
ルが小さく、他の分子に電子を供給して自らは正のイオ
ンになるドナー分子(D)や、電子親和力が大きく、他
の分子から電子を受け取り自らは負のイオンになるアク
セプタ分子(A)がある。これらの分子が適当に選択・
混合・積層された結晶では、ドナー分子からアクセプタ
分子へ電子が移動して結合が生じた状態(電荷移動状
態)と非結合状態との共鳴により安定化された電荷移動
錯体と呼ばれる化合物が形成されることは、良く知られ
ている。
Among organic compounds, a donor molecule (D) which has a small ionization potential, supplies electrons to other molecules and becomes a positive ion by itself, and has a high electron affinity and accepts electrons from other molecules There is an acceptor molecule (A) that becomes a negative ion by itself. These molecules are selected appropriately
In the mixed and stacked crystals, a compound called a charge transfer complex is formed that is stabilized by resonance between a state in which electrons move from the donor molecule to the acceptor molecule to form a bond (charge transfer state) and a non-bonded state. It is well known.

【0097】例えば、ペリレンとテトラシアノキノジメ
タン(TCNQ)とが積層された結晶では、それぞれの
分子は非結合状態の割合が高い状態、すなわち中性状態
の電荷移動錯体である。しかしながら、テトラメチルフ
ェニレンジアミン(TMPD)とTCNQとが積層され
た結晶では、TMPDからTCNQへの電子の移動が生
じ、それぞれの分子は電荷移動状態の割合が高い共鳴状
態、すなわちイオン性状態になるため、イオン性の電荷
移動錯体が形成されるのである。
For example, in a crystal in which perylene and tetracyanoquinodimethane (TCNQ) are stacked, each molecule is in a state in which the ratio of non-bonded states is high, that is, a neutral state charge transfer complex. However, in a crystal in which tetramethylphenylenediamine (TMPD) and TCNQ are stacked, electrons are transferred from TMPD to TCNQ, and each molecule enters a resonance state in which the ratio of charge transfer states is high, that is, an ionic state. Therefore, an ionic charge transfer complex is formed.

【0098】また、ある結晶においては、上述の電荷移
動状態が、外部場の印加量に応じて変化することが知ら
れている。J. B. Torranceらは、Phys. Rev. Lett., 4
6, 253 (1981)で、テトラチアフルバレン(TTF)と
クロラニル(CA)とを積層した結晶は、温度や圧力の
変化により、中性状態とイオン性状態との間の相転移
(NI転移)を生じることを報告している。
It is known that, in a certain crystal, the above-described charge transfer state changes according to the applied amount of an external field. JB Torrance et al., Phys. Rev. Lett., 4
6, 253 (1981), a crystal in which tetrathiafulvalene (TTF) and chloranil (CA) are laminated is a phase transition between a neutral state and an ionic state (NI transition) due to changes in temperature and pressure. Is reported to occur.

【0099】このようなNI転移は、温度や圧力以外の
外部場によっても生じる可能性があることが報告されて
いる。例えば、Y. Tokura らは、Physica. 143B, 527
(1986) で、中性錯体に103 〜104 V/cm程度の
電場を印加することにより、電気伝導率が非線形的に変
化することを報告している。また、S. Koshiharaらは、
Phys. Rev. B 42, 6853 (1990)で、中性あるいはイオン
性錯体を光照射して強励起することにより、イオン性あ
るいは中性のドメインを注入することができることを報
告している。
It has been reported that such NI transition may be caused by an external field other than temperature and pressure. For example, Y. Tokura et al., Physica. 143B, 527
(1986) reports that the electric conductivity changes nonlinearly by applying an electric field of about 10 3 to 10 4 V / cm to the neutral complex. Also, S. Koshihara et al.
Phys. Rev. B 42, 6853 (1990) reports that ionic or neutral domains can be injected by intensely irradiating a neutral or ionic complex with light.

【0100】しかしながら、上述の電場の印加や光照射
による状態変化は、微視的なものであって、結晶全体が
巨視的に変化しているわけではない。すなわち、これら
の状態変化は、DADADADADA…のように1次元
的に配列しているDA鎖中に、例えば、DADAD+
- DADA…のように、局所的にD+ - のような励起
子が形成されているに過ぎない。
However, the above-mentioned state change due to application of an electric field or light irradiation is microscopic, and does not mean that the entire crystal is macroscopically changed. That is, these state changes are generated in a one-dimensionally arranged DA chain such as DADADADADA .
- DADA ... as in, locally D + A - only exciton like are formed.

【0101】結晶全体にわたる巨視的な又はそれに近い
変化を光照射して強励起することにより生じさせる場
合、すなわち、光誘起転移を生じさせる場合、非常に高
強度の光を照射する必要がある。したがって、光制御素
子として、単純に、光照射/非照射により入射光の出力
を制御する場合、非常に強い光を照射することにより、
結晶の劣化や別の熱的効果が生ずるという問題を生じて
しまう。
In the case where a macroscopic change or a similar change over the entire crystal is caused by irradiating light and intensely exciting, that is, when causing photoinduced transition, it is necessary to irradiate very high intensity light. Therefore, when the output of incident light is simply controlled by light irradiation / non-irradiation as a light control element, by irradiating very strong light,
The problem of crystal degradation and other thermal effects occurs.

【0102】ごく最近、上述の光照射による微視的な状
態変化において、複数(n)個のD+ - 等の電荷移動
励起子が凝集した、束縛状態が存在することが実験的に
確認された。例えば、アントラセン−ピロメリト酸二無
水物(PMDA)結晶においては、ドナー分子とアクセ
プタ分子との積層鎖中で2つあるいは3つの電荷移動励
起子が接近すると、電気双極子を有するそれぞれの電荷
移動励起子の静電的な相互作用により、束縛状態が可能
になる。
[0102] More recently, in microscopic state change by light irradiation described above, a plurality (n) pieces of D + A - charge transfer excitons like are aggregated, verified experimentally that the bound state is present Was done. For example, in an anthracene-pyromellitic acid dianhydride (PMDA) crystal, when two or three charge transfer excitons approach in a stacked chain of a donor molecule and an acceptor molecule, each charge transfer excitation having an electric dipole is caused. The bound state is enabled by the electrostatic interaction of the child.

【0103】このような励起子の凝集状態は、「励起子
n−ストリング状態」と呼ばれ、光に対する応答におい
て、巨大振動子効果により光学非線形性を著しく増大さ
せるものである。また、このような巨大振動子効果が現
れる状況下では、励起子の寿命が極めて短くなるため、
非常に高速な応答速度を得ることができる可能性があ
る。
Such an agglomerated state of excitons is called an “exciton n-string state” and significantly increases optical nonlinearity in response to light due to a giant oscillator effect. In addition, under the situation where such a giant oscillator effect appears, the life of excitons becomes extremely short,
There is a possibility that a very fast response speed can be obtained.

【0104】上述の電場の印加による結晶の状態変化
は、この電荷移動励起子が多数凝集した状態であると考
えられ、NI転移は、以下に図を用いて示すように、電
荷移動励起子の凝集密度が増加して、中性状態とイオン
性状態との間で、基底状態が逆転することにより生じる
と考えられる。
The state change of the crystal due to the application of the electric field described above is considered to be a state in which a large number of charge transfer excitons are aggregated, and the NI transition is caused by the charge transfer excitons, as shown in FIG. It is considered that the agglomeration density increases and the ground state is reversed between the neutral state and the ionic state.

【0105】図2を用いて、電場の印加による結晶のN
I転移を説明する。
Referring to FIG. 2, the N
The I transition will be described.

【0106】この図に示すように、電界強度Eが0の場
合は、ドナー分子Dと、アクセプタ分子Aとは、ともに
中性の状態である。しかしながら、電界強度Eを上昇さ
せると、励起子D+ - が生成・凝集が生じ、局所的に
イオン性状態が形成される。さらに電界強度Eの上昇を
続けると、中性状態DAに対して、イオン性状態D+
- がより安定化されたとき、すなわち、電界強度Eが相
転移に必要な値Ec に達したときに、全てのDAがD+
- へと変化して、NI転移が生じるのである。
As shown in this figure, when the electric field strength E is 0, both the donor molecule D and the acceptor molecule A are in a neutral state. However, when the electric field strength E is increased, excitons D + A - are generated and aggregated, and an ionic state is locally formed. When the electric field strength E further increases, the ionic state D + A
When − is more stabilized, that is, when the electric field strength E reaches the value E c required for the phase transition, all the DAs become D +
A - was changed to, it is the NI transition occurs.

【0107】図3に、このNI転移における、電界強度
Eと、3次非線形感受率χ(3) との関係をグラフにして
示す。このグラフに示すように、電界強度EがEc に達
する直前に、3次非線形感受率χ(3) の最大値が得られ
る。
FIG. 3 is a graph showing the relationship between the electric field intensity E and the third-order nonlinear susceptibility χ (3) in the NI transition. As shown in this graph, immediately before the electric field strength E reaches E c, the maximum value of the third-order nonlinear susceptibility chi (3) is obtained.

【0108】したがって、光制御層を、ドナー分子とア
クセプタ分子とからなる結晶で構成し、光制御層がEc
に達するのに必要な強度未満の電場を定常的に印加し
て、光照射により光制御層の光学的性質を制御すること
により、強力な光を照射することによる結晶の劣化を生
じることなく、高い3次非線形感受率と高速な応答速度
とを得ることができるのである。
Therefore, the light control layer is made of a crystal composed of donor molecules and acceptor molecules, and the light control layer is made of E c
By constantly applying an electric field less than the intensity required to reach and controlling the optical properties of the light control layer by light irradiation, without causing deterioration of the crystal by irradiating strong light, It is possible to obtain a high third-order nonlinear susceptibility and a high response speed.

【0109】この場合、電界強度Eを高くするほど、3
次非線形感受率が高くなるため、制御光の強度を低下さ
せることができる。電界強度Eは、Ec ×10-4≦E<
cであることが好ましく、より好ましくは、0.1E
c ≦E<Ec である。しかしながら、電界強度EがEc
を超える場合、中性−イオン性転移が起こり、イオン性
基底状態となるため、電荷移動励起子効果を利用するこ
とができない。
In this case, as the electric field strength E increases, 3
Since the non-linear susceptibility increases, the intensity of the control light can be reduced. The electric field strength E is expressed as E c × 10 −4 ≦ E <
It is preferably E c, more preferably, 0.1E
c ≦ E <E c However, when the electric field strength E is E c
When the value exceeds 3, a neutral-ionic transition occurs and the ionic ground state is established, so that the charge transfer exciton effect cannot be used.

【0110】図4に、本発明の一態様に係る光双安定型
の光制御素子において所定の電圧を印加した場合の、入
力光強度と出力光強度との関係をグラフにして示す。
FIG. 4 is a graph showing the relationship between the input light intensity and the output light intensity when a predetermined voltage is applied to the optical bistable light control element according to one embodiment of the present invention.

【0111】このグラフに示すように、ある強度の入力
光に対して、光制御層の屈折率や吸収係数が2つの安定
状態をとる光制御素子は、光双安定性素子と呼ばれ、記
憶素子、光パルス波形整形/リミッタ素子、微分増幅素
子、光トランジスタ、論路素子等のあらゆる光変調素子
として用いられる。
As shown in this graph, a light control element in which the refractive index and the absorption coefficient of the light control layer are in two stable states with respect to an input light of a certain intensity is called an optical bistable element. It is used as any optical modulation element such as an element, an optical pulse waveform shaping / limiter element, a differential amplifier element, an optical transistor, and a logic element.

【0112】本発明の光制御素子における信号光の出力
の制御は、上述のように、光制御層への電圧の印加と光
照射により行われる。本発明者及びS. Tanaka らは、Ph
ys.Rev. B52, 1549 (1995) で、相転移点に極めて近い
状態の結晶について、NI転移が生じる直前の状態にす
るためには、106 V/cm以上の強電場を印加する必
要があることを、シュミレーションにより明らかにして
いる。
The control of the signal light output in the light control element of the present invention is performed by applying a voltage to the light control layer and irradiating light as described above. The present inventors and S. Tanaka et al.
In ys. Rev. B52, 1549 (1995), it is necessary to apply a strong electric field of 10 6 V / cm or more in order to bring a crystal in a state very close to the phase transition point to a state immediately before the NI transition occurs. Some things are revealed by simulation.

【0113】そのため、電場の方向と、結晶中における
ドナー分子及びアクセプタ分子の積層方向とが一致する
ように、これら分子の積層方向を制御して、これら分子
に対し、効率的に電圧を印加することが好ましい。これ
は、例えば、基板側に設けられた絶縁体層と、光制御層
との間に、光制御層中の分子配向を制御するための分子
配向制御層を設けることにより可能となる。
Therefore, the stacking direction of these molecules is controlled so that the direction of the electric field matches the stacking direction of the donor molecules and the acceptor molecules in the crystal, and a voltage is efficiently applied to these molecules. Is preferred. This can be achieved, for example, by providing a molecular orientation control layer for controlling the molecular orientation in the light control layer between the insulator layer provided on the substrate side and the light control layer.

【0114】以上説明したように、本発明の光制御素子
は、所定の電圧を印加した状態で制御光を照射すること
により、光制御層の光学的特性が制御されるが、電圧の
変化のみにより光制御層の光学的特性を制御することも
できる。この場合、僅かな電圧の変化で光制御層の光学
的特性を制御することが可能となる。
As described above, the light control element of the present invention controls the optical characteristics of the light control layer by irradiating the control light with a predetermined voltage applied. Thereby, the optical characteristics of the light control layer can be controlled. In this case, it is possible to control the optical characteristics of the light control layer with a slight change in voltage.

【0115】図5に、本発明の他の態様に係る光制御素
子の一断面図を示す。
FIG. 5 is a cross-sectional view of a light control element according to another embodiment of the present invention.

【0116】図5に示す光制御素子は、図1に示す光制
御素子とほぼ同様の構成であるが、絶縁体層3と光制御
層4との間に分子配向制御層7が設けられている点で異
なっている。この分子配向制御層は、光制御層中のドナ
ー分子及びアクセプタ分子の積層方向を均一化するため
に、表面が分子レベルで平坦であることが好ましい。ま
た、上記分子の積層方向を制御するために、上記分子と
の間に強い分子間相互作用が生じる材料を用いて分子配
向制御層を形成することが好ましい。このような分子配
向制御層としては有機アモルファス膜やグラファイト類
似構造の層状化合物等を挙げることができる。
The light control element shown in FIG. 5 has substantially the same structure as the light control element shown in FIG. 1, except that a molecular orientation control layer 7 is provided between the insulator layer 3 and the light control layer 4. Is different. The molecular orientation control layer preferably has a flat surface at the molecular level in order to make the stacking direction of the donor molecules and the acceptor molecules in the light control layer uniform. In addition, in order to control the stacking direction of the molecules, it is preferable to form the molecular orientation control layer using a material that causes strong intermolecular interaction with the molecules. Examples of such a molecular orientation control layer include an organic amorphous film and a layered compound having a structure similar to graphite.

【0117】このような分子配向制御層を設けると、光
制御層中のドナー分子及びアクセプタ分子の積層方向を
基板の主面に垂直な方向に制御することができるので、
結晶に有効に電場を印加することが可能となる。
When such a molecular orientation control layer is provided, the lamination direction of the donor molecules and the acceptor molecules in the light control layer can be controlled in a direction perpendicular to the main surface of the substrate.
An electric field can be effectively applied to the crystal.

【0118】以下、本発明に用いられる分子配向制御層
がもつ特性についてさらに説明する。
The characteristics of the molecular orientation control layer used in the present invention will be further described below.

【0119】本発明に係る素子機能を担う光制御層は、
結晶構造を有することを特徴としており、さらには1分
子層からの超薄膜をも対象としている。このようなこと
から、まずもっとも基本的に要求される特性は、分子配
向制御層自身が構造を持たず、表面が分子サイズレベル
で平坦であることである。
The light control layer having an element function according to the present invention comprises:
It is characterized by having a crystal structure, and further targets ultrathin films from one molecular layer. Therefore, the most fundamentally required property is that the molecular orientation control layer itself has no structure and the surface is flat at the molecular size level.

【0120】例えば、π電子系分子は平板状の形状を有
しており、基板から強い相互作用を受ける場合には、分
子を構成する原子のできるだけ多くが基板に近づくこと
によって、即ち平行配向することによって、高い安定化
エネルギーを得ようとする。したがって、もっとも単純
には、平行配向分子の1分子層2次元結晶を形成しよう
とすると、光制御層として用いられる有機薄膜を形成す
る下地表面が、分子サイズレベルで平坦であることが必
須であることが分かる。この状況は、この有機薄膜の膜
厚が厚くなった場合も同様である。したがって、任意の
表面構造を有する基板上で分子配向が制御された結晶性
薄膜を形成するためには、有機薄膜と基板との間に分子
レベルの平坦な表面構造を実現する分子配向制御層を具
備させることが有効な手段となる。
For example, a π-electron-based molecule has a plate-like shape, and when a strong interaction is received from the substrate, as many of the atoms constituting the molecule as possible approach the substrate, that is, are oriented in parallel. This seeks to obtain high stabilizing energy. Therefore, most simply, in order to form a one-molecule two-dimensional crystal of parallel alignment molecules, it is essential that the surface of the base on which the organic thin film used as the light control layer is formed is flat at the molecular size level. You can see that. This situation is the same when the thickness of the organic thin film is increased. Therefore, in order to form a crystalline thin film with controlled molecular orientation on a substrate having an arbitrary surface structure, a molecular orientation control layer that realizes a flat surface structure at the molecular level is formed between the organic thin film and the substrate. Being provided is an effective means.

【0121】有機アモルファス膜は、有機EL素子の研
究等から、少なくとも表面構造に関しては、このような
平坦な構造を有することが知られており、かつ任意の基
板上に形成が容易であるという点において、実用化素子
の作製にはたいへん有効である。
The organic amorphous film is known to have such a flat structure at least with respect to the surface structure from studies of organic EL devices and the like, and is easy to form on an arbitrary substrate. Is very effective for producing a practical device.

【0122】しかし、この分子配向制御層には単に表面
構造が平坦であることが要求される訳ではなく、分子配
向制御層表面で分子配向の制御が可能となるような表面
−分子間相互作用特性を有していることが必要となる。
即ち、分子配向制御層はアモルファス構造を有するだけ
ではなく、結晶性有機薄膜と接する最表面に結晶性薄膜
の分子配向を制御可能とする化学的要素を持っていなけ
ればならない。この点が従来の有機アモルファス膜上の
有機薄膜積層技術とは異なる本発明独自の着眼点であ
る。
However, the molecular orientation control layer is not simply required to have a flat surface structure, but a surface-intermolecular interaction such that the molecular orientation can be controlled on the surface of the molecular orientation control layer. It is necessary to have characteristics.
That is, the molecular orientation control layer must have not only an amorphous structure but also a chemical element on the outermost surface in contact with the crystalline organic thin film, which can control the molecular orientation of the crystalline thin film. This is a unique point of view of the present invention, which is different from the conventional organic thin film laminating technique on an organic amorphous film.

【0123】これについては先に述べたように、平板状
のπ電子系分子の平行配向薄膜を形成する場合に、薄膜
を形成する分子との間に強い相互作用を生じるように、
アモルファス分子配向制御層の最表面を制御することが
必要になる。逆に、平板状分子が基板面に対して立った
配向の薄膜を形成する場合には、基板−分子間相互作用
に比較して分子間凝集力が大きくなるようにアモルファ
ス分子配向制御層の最表面を制御することが必要にな
る。
As described above, when a plate-shaped thin film of parallel-aligned π-electron molecules is formed, as described above, a strong interaction occurs between the thin film forming molecules and the molecules forming the thin film.
It is necessary to control the outermost surface of the amorphous molecular orientation control layer. Conversely, when forming a thin film in which the plate-like molecules are oriented with respect to the substrate surface, the amorphous molecular orientation control layer is formed so that the intermolecular cohesion becomes larger than the substrate-molecule interaction. It becomes necessary to control the surface.

【0124】相互作用を強めるための手段としては、分
散力を強めるために誘起双極子が大きくなるように、ア
モルファス有機膜の表面近傍に電子分極率の高い原子
(団)ができるだけ多く並ぶようにする、芳香族環や多
環芳香族基が表面に並ぶようにする、或いは表面に導電
性を持たせる等の方法が有効となる。
Means for strengthening the interaction are to increase the number of atoms (groups) having a high electron polarizability near the surface of the amorphous organic film so as to increase the induced dipole in order to increase the dispersion force. For example, a method in which an aromatic ring or a polycyclic aromatic group is arranged on the surface, or the surface has conductivity is effective.

【0125】逆に相互作用を弱めるための手段として
は、誘起双極子が大きくならないように、アモルファス
有機膜の表面近傍に電子分極率の低い原子(団)ができ
るだけ多く並ぶようにする。多環芳香族基が最表面に出
ないようにメチル基、カルボキシル基、ケトン基、アル
コール基、アミノ基、フッ素含有基など電子分極率の小
さい原子から成る誘導基をアモルファス分子の最外郭に
導入することが有効となる。
Conversely, as a means for weakening the interaction, as many atoms (groups) having a low electron polarizability as possible are arranged near the surface of the amorphous organic film so that the induced dipole does not increase. Derived groups consisting of atoms with low electronic polarizability, such as methyl, carboxyl, ketone, alcohol, amino, and fluorine-containing groups, are introduced at the outermost contour of the amorphous molecule so that the polycyclic aromatic groups do not appear on the outermost surface. It is effective to do.

【0126】本発明に用いるアモルファス有機膜には、
低分子からなるものと高分子からなるものとのいずれで
もよい。低分子アモルファス有機膜に用いられる材料と
しては、Alq3、OXD、OXD−S、Diamin
e、BNIBPC、TDAB、TPTTA、TDP、T
TPAE、TDATA、DPH、PPCP、及びTCT
A等のアモルファス有機分子が挙げられる。
The amorphous organic film used in the present invention includes:
It may be either a low molecular weight or a high molecular weight. Materials used for the low molecular weight amorphous organic film include Alq3, OXD, OXD-S, and Diamin.
e, BNIBPC, TDAB, TPTTA, TDP, T
TPAE, TDATA, DPH, PPCP, and TCT
And amorphous organic molecules such as A.

【0127】上述のアモルファス有機分子の構造式を以
下に示す。
The structural formula of the above-mentioned amorphous organic molecule is shown below.

【0128】[0128]

【化14】 Embedded image

【0129】[0129]

【化15】 Embedded image

【0130】[0130]

【化16】 Embedded image

【0131】[0131]

【化17】 Embedded image

【0132】[0132]

【化18】 Embedded image

【0133】[0133]

【化19】 Embedded image

【0134】[0134]

【化20】 Embedded image

【0135】[0135]

【化21】 Embedded image

【0136】[0136]

【化22】 Embedded image

【0137】[0137]

【化23】 Embedded image

【0138】[0138]

【化24】 Embedded image

【0139】[0139]

【化25】 Embedded image

【0140】[0140]

【化26】 Embedded image

【0141】[0141]

【化27】 Embedded image

【0142】[0142]

【化28】 Embedded image

【0143】[0143]

【化29】 Embedded image

【0144】[0144]

【化30】 Embedded image

【0145】また、高分子アモルファス有機膜に関して
は、不規則に結合した分子鎖よりなる高分子、すなわち
アタクチックポリマーや共重合体ポリマーにアモルファ
ス構造を示すものが多い。具体的には、ポリスチレン、
ポリメタクリル酸メチル、スチレンブタジエン合成ゴム
などが挙げられる。また、分岐構造や架橋構造を有する
高分子もアモルファス構造を示すものが多く、加硫ゴム
やフェノール樹脂などが挙げられる。さらに、構成原子
の分極率の観点からはC系ポリマーよりもSi系ポリマ
ー、即ちポリシラン材料が有効な材料であり、ポリシラ
ンの主鎖が基板表面と平行に配向し、かつ主鎖と最表面
の間ができるだけ近接していることが重要である。ま
た、結晶性薄膜を構成する分子との間に誘起分極を発生
させやすいという観点からは、導電性を有するポリピロ
ール、ポリアニリン、ポリチオフェンといった導電性高
分子を用いることも有効である。
As for the polymer amorphous organic film, there are many polymers having an irregular structure, ie, an atactic polymer or a copolymer polymer having an amorphous structure. Specifically, polystyrene,
Examples include polymethyl methacrylate and styrene butadiene synthetic rubber. Many of polymers having a branched structure or a crosslinked structure also show an amorphous structure, and examples thereof include vulcanized rubber and phenolic resin. Further, from the viewpoint of the polarizability of constituent atoms, Si-based polymers, that is, polysilane materials are more effective materials than C-based polymers, and the main chain of polysilane is oriented parallel to the substrate surface, and the main chain and the outermost surface It is important that the distance be as close as possible. From the viewpoint that induced polarization is easily generated between molecules constituting the crystalline thin film, it is also effective to use conductive polymers such as polypyrrole, polyaniline, and polythiophene having conductivity.

【0146】さらに、電子素子への応用において、機能
性を有する結晶性有機薄膜層の電場を印加する必要があ
る場合には、有機アモルファス膜として表面平坦性と共
に絶縁性を有することが好ましい。できるだけ低い電圧
で機能性膜に強電場をかけるにためは、このような絶縁
膜はできるだけ薄いことが好ましい。このため、蒸着法
などにより、超薄膜の形成が可能な定分子量有機アモル
ファス分子を形成することが好ましい。このような特徴
を有する有機膜を構成する分子としては、例えばステロ
イド系骨格を有する分子があげられる。
Further, when it is necessary to apply an electric field of a functional crystalline organic thin film layer in application to an electronic element, it is preferable that the organic amorphous film has surface flatness and insulating properties. In order to apply a strong electric field to the functional film at a voltage as low as possible, it is preferable that such an insulating film is as thin as possible. For this reason, it is preferable to form organic amorphous molecules having a constant molecular weight capable of forming an ultrathin film by an evaporation method or the like. As a molecule constituting the organic film having such characteristics, for example, a molecule having a steroid skeleton is given.

【0147】これらの分子のアモルファス有機膜は、上
述の低分子及び高分子アモルファス有機膜と組合わせ
て、異種のアモルファス有機膜からなる積層構造を形成
することができる。低分子アモルファス膜のみでは十分
な耐熱性が得られない場合に、このような積層構造を持
つ配向制御膜を用いて、耐熱性の高い高分子アモルファ
ス膜を併用することにより、その耐熱性を向上すること
ができる。耐熱性は、電極形成プロセスを行なう際に重
要である。
The amorphous organic film of these molecules can form a laminated structure composed of different types of amorphous organic films in combination with the above-mentioned low molecular weight and high molecular weight amorphous organic films. When sufficient heat resistance cannot be obtained with low molecular amorphous film alone, the heat resistance is improved by using a polymer amorphous film with high heat resistance in combination with an orientation control film having such a laminated structure. can do. Heat resistance is important when performing the electrode forming process.

【0148】ステロイド系骨格を有する分子として以下
のような分子があげられる。
The molecules having a steroid skeleton include the following molecules.

【0149】[0149]

【化31】 Embedded image

【0150】コレステロールCholesterol

【化32】 Embedded image

【0151】β−エストラジオールベンゾエートΒ-estradiol benzoate

【化33】 Embedded image

【0152】メチルヒオデオキシコレートMethyl hyodeoxycholate

【化34】 Embedded image

【0153】メチルコレートMethylcholate

【化35】 Embedded image

【0154】プレグネノロンPregnenolone

【化36】 Embedded image

【0155】メチルアンドロステンジオールMethylandrostenediol

【化37】 Embedded image

【0156】β−エストラジオールΒ-estradiol

【化38】 Embedded image

【0157】エストリオールEstriol

【化39】 Embedded image

【0158】コール酸Cholic acid

【化40】 Embedded image

【0159】エストロン 以下、本発明の光制御素子の応用例を説明する。Estrone Hereinafter, application examples of the light control element of the present invention will be described.

【0160】本発明の光制御素子は、例えば以下に示
す、光カー・セル、導波路素子、光双安定素子、及びエ
タロン等として用いることができる。
The light control element of the present invention can be used, for example, as an optical Kerr cell, a waveguide element, an optical bistable element, an etalon, and the like described below.

【0161】図6に、本発明の光制御素子を用いた光シ
ャッタの構成を示す。
FIG. 6 shows the configuration of an optical shutter using the light control element of the present invention.

【0162】図6で、参照番号61、62は、偏光子を
示している。これらの偏光子61、62は、それぞれの
主面が平行になるように、及びそれぞれの偏光方向が直
行するように、対向して配置されている。偏光子61と
偏光子62との間には、本発明の光制御素子が光カー・
セル63として配置され、光シャッタ64を形成してい
る。
In FIG. 6, reference numerals 61 and 62 indicate polarizers. These polarizers 61 and 62 are arranged to face each other such that their main surfaces are parallel and their polarization directions are orthogonal. Between the polarizer 61 and the polarizer 62, the light control element of the present invention is an optical card.
It is arranged as a cell 63 and forms an optical shutter 64.

【0163】この光カー・セル63に、所定の電圧を印
加し、制御光66を照射すると、光制御層を構成する結
晶の屈折率に異方性が生じて、偏光子61に入力された
信号光65は、光カー・セル63を通過することによ
り、楕円偏波となる。したがって、制御光66の照射/
非照射を制御することにより、偏光子62から出力され
る出力光67のon/offを制御することができる。
When a predetermined voltage is applied to the optical Kerr cell 63 and the control light 66 is irradiated, an anisotropy occurs in the refractive index of the crystal constituting the light control layer. The signal light 65 becomes elliptically polarized by passing through the optical Kerr cell 63. Therefore, irradiation of control light 66 /
By controlling the non-irradiation, the on / off of the output light 67 output from the polarizer 62 can be controlled.

【0164】導波路を伝播する光波の位相を、導波路内
の屈折率変化を利用して制御し、光変調を行なう素子を
導波路素子と呼び、マッハ・ツェンダー干渉計型導波路
素子、方向性結合器型導波路素子等が知られている。
An element that controls the phase of a light wave propagating through a waveguide by using a change in the refractive index in the waveguide and performs optical modulation is called a waveguide element, and is a Mach-Zehnder interferometer type waveguide element. Sex coupler type waveguide elements and the like are known.

【0165】図7に、本発明の光制御素子を用いたマッ
ハ・ツェンダー干渉計型導波路素子の原理を示す。
FIG. 7 shows the principle of a Mach-Zehnder interferometer type waveguide device using the light control device of the present invention.

【0166】図7に示す導波路素子においては、信号光
71は分岐されて、信号光72、73となり、信号光7
2、73は、それぞれ、ブランチ74、75を通過した
後、再び重ね合わされて、出力光76として出力され
る。また、この導波路素子のブランチ74、75は、本
発明の光制御素子で構成され、それぞれのブランチの間
に屈折率の差を生じさせることができる。
In the waveguide element shown in FIG. 7, the signal light 71 is split into signal lights 72 and 73,
After passing through the branches 74 and 75, the light beams 2 and 73 are superimposed again and output as output light 76. Further, the branches 74 and 75 of the waveguide element are constituted by the light control element of the present invention, and a difference in refractive index can be generated between the respective branches.

【0167】通常は、これらブランチ74、75の一
方、例えばブランチ74には、所定の電圧が印加されて
いる。しかしながら、この時、それぞれのブランチの間
には屈折率の差は生じておらず、信号光72と信号光7
3は、同位相となるように合成される。
Normally, a predetermined voltage is applied to one of the branches 74 and 75, for example, the branch 74. However, at this time, there is no difference in the refractive index between the respective branches, and the signal light 72 and the signal light 7
3 are synthesized so as to have the same phase.

【0168】この導波路素子に所定の強度の制御光を照
射すると、ブランチ74の屈折率が非線形的に変化し
て、ブランチ74とブランチ75の屈折率の間に制御光
強度に応じた差が生じる。その結果、信号光72と信号
光73との間に大きな位相差が生じ、出力光76の強度
が低下するのである。
When control light having a predetermined intensity is irradiated on the waveguide element, the refractive index of the branch 74 changes nonlinearly, and the difference between the refractive indexes of the branches 74 and 75 according to the control light intensity is changed. Occurs. As a result, a large phase difference occurs between the signal light 72 and the signal light 73, and the intensity of the output light 76 decreases.

【0169】図8に、本発明の光制御素子を用いた方向
性結合器型導波路素子の原理を示す。
FIG. 8 shows the principle of a directional coupler type waveguide element using the light control element of the present invention.

【0170】図8に示す導波路素子においては、2本の
アーム81、82が平行に近づけて配置され、アーム8
1に入射した信号光83は、出力光84としてアーム8
2から出力される。
In the waveguide device shown in FIG. 8, two arms 81 and 82 are arranged close to and parallel to each other.
The signal light 83 incident on the arm 8 is output as an output light 84 by the arm 8.
2 output.

【0171】このアーム81、82は、本発明の光制御
素子で構成され、通常は、これらアーム81、82に
は、所定の電圧が印加されており、非線形的な屈折率の
変化は生じていない。すなわち、アーム81とアーム8
2とはモード整合しているので、信号光83はアーム8
1からアーム82へと完全に移行する。
The arms 81 and 82 are constituted by the light control element of the present invention. Usually, a predetermined voltage is applied to these arms 81 and 82, and a non-linear change in the refractive index occurs. Absent. That is, the arm 81 and the arm 8
2 is mode-matched, so that the signal light 83
The transition from 1 to the arm 82 is complete.

【0172】しかしながら、アーム81に制御光を照射
すると、アーム81の屈折率が非線形的に変化し、アー
ム81とアーム82の屈折率の間に大きな差が生じる。
その結果、モード整合が崩れ、光移行が不完全となり、
出力光84の強度が低下するのである。
However, when the control light is applied to the arm 81, the refractive index of the arm 81 changes non-linearly, and a large difference occurs between the refractive indexes of the arm 81 and the arm.
As a result, the mode matching is broken, the light transition is incomplete,
The intensity of the output light 84 decreases.

【0173】図9に、本発明の光制御素子を用いたエタ
ロンの原理を示す。
FIG. 9 shows the principle of an etalon using the light control element of the present invention.

【0174】この図で、本発明の光制御素子は、エタロ
ン91として用いられており、信号光92は、エタロン
91の一方の主面から入射され、エタロン91の他方の
主面から出力される。制御光強度に応じて屈折率が変化
するため、媒質中を伝播する光波の波長が変調する。そ
の結果、出力側から出力される多重反射合成波の強度、
すなわち出力光強度が変化する。このエタロンは、導波
路素子に比べて、素子のサイズを著しく小さくすること
が可能であるため、光集積回路や2次元画像処理素子等
に用いるのに適している。
In this figure, the light control element of the present invention is used as an etalon 91, and a signal light 92 enters from one main surface of the etalon 91 and is output from the other main surface of the etalon 91. . Since the refractive index changes according to the control light intensity, the wavelength of the light wave propagating in the medium is modulated. As a result, the intensity of the multiple reflection composite wave output from the output side,
That is, the output light intensity changes. This etalon is suitable for use in an optical integrated circuit, a two-dimensional image processing element, or the like because the size of the element can be significantly reduced as compared with the waveguide element.

【0175】実施例 以下、本発明の光制御素子の実施例について説明する。EXAMPLES Examples of the light control element of the present invention will be described below.

【0176】実施例1−1 以下に示す方法により、光制御素子を作製した。Example 1-1 A light control element was manufactured by the following method.

【0177】まず、厚さ2mmの石英基板上に、電極層
として、アルミニウム膜を、反射率が0.9になるよう
に、及び厚さが150オングストロームになるように形
成した。このアルミニウム膜上に、絶縁体層として、比
誘電率が200のSrTiO3 膜を500オングストロ
ームの厚さで真空蒸着法により形成し、このSrTiO
3 膜上に、分子配向制御層として、テトラトリフェニル
アミノエチレン(TTPAE)のアモルファス膜を25
0オングストロームの厚さで、真空蒸着法により形成し
た。
First, an aluminum film was formed as an electrode layer on a quartz substrate having a thickness of 2 mm so as to have a reflectance of 0.9 and a thickness of 150 Å. On this aluminum film, an SrTiO 3 film having a relative dielectric constant of 200 was formed as a dielectric layer to a thickness of 500 angstroms by a vacuum evaporation method.
3 An amorphous film of tetratriphenylaminoethylene (TTPAE) is formed on the film as a molecular orientation control layer.
It was formed to a thickness of 0 Å by a vacuum evaporation method.

【0178】次に、ドナー分子としてテトラメチルベン
ジジン(TMB)を、アクセプタ分子としてテトラシア
ノキノジメタン(TCNQ)を用いて、真空蒸着法によ
り、分子配向制御層上に200オングストロームの厚さ
でTMB−TCNQ錯体からなる光制御層を形成した。
この光制御層の上に、絶縁体層としてポリメタクリル酸
メチル(PMMA)を200オングストロームの厚さ
で、電極層として反射率が0.9で厚さが150オング
ストロームのアルミニウム膜を、順次真空蒸着法により
形成して、光制御素子を作製した。なお、この光制御素
子はエタロンとして用いられる。
Next, using tetramethylbenzidine (TMB) as a donor molecule and tetracyanoquinodimethane (TCNQ) as an acceptor molecule, a 200 Å-thick TMB is formed on the molecular orientation control layer by a vacuum deposition method. A light control layer comprising a -TCNQ complex was formed.
On this light control layer, polymethyl methacrylate (PMMA) having a thickness of 200 Å as an insulator layer and an aluminum film having a reflectivity of 0.9 and a thickness of 150 Å as an electrode layer are sequentially vacuum-deposited. The light control element was manufactured by the method. This light control element is used as an etalon.

【0179】この素子について、以下に示す方法によ
り、素子の3次非線形感受率及び応答速度を調べた。
For this device, the third-order nonlinear susceptibility and response speed of the device were examined by the following methods.

【0180】まず、この素子に、10Vの静電圧を印加
して、光制御層に強度が1.0×106 V/cmの電界
を形成した。この素子の光制御層に対して垂直に、波長
が1400nm、1MW/cm2 、500fsのパルス
レーザ光を制御光兼信号光として照射し、出力光の強度
を測定したところ、図10に示す結果を得た。
First, an electrostatic voltage of 10 V was applied to this device to form an electric field having an intensity of 1.0 × 10 6 V / cm in the light control layer. A pulse laser beam having a wavelength of 1400 nm, 1 MW / cm 2 , and 500 fs was irradiated as control light and signal light perpendicularly to the light control layer of the device, and the intensity of output light was measured. I got

【0181】図10に示すように、この素子は、光双安
定性を示している。この素子の、off(低透過状態)
からon(高透過状態)への、すなわち、中性状態から
イオン性状態へのスイッチング時間は700fsであ
り、onからoffへのスイッチング時間は800fs
であった。また、低透過状態では、入力光強度に対する
出力光強度の比は0.1であったのに対し、高透過状態
では、入力光強度に対する出力光強度の比は0.4程度
まで増加した。
As shown in FIG. 10, this device shows optical bistability. Off (low transmission state) of this element
The switching time from on to off (high transmission state), ie from the neutral state to the ionic state, is 700 fs, and the switching time from on to off is 800 fs.
Met. In the low transmission state, the ratio of the output light intensity to the input light intensity was 0.1, whereas in the high transmission state, the ratio of the output light intensity to the input light intensity increased to about 0.4.

【0182】実施例1−2 第1及び第2の電極層の厚さを50オングストロームと
し、反射率を0.3としたこと以外は実施例1−1と同
様にして光制御素子を作製した。この素子に静電圧を印
加して、相転移を生じさせた。その結果、20Vの電
圧、及び2×106 V/cmの強度の電界が形成された
ときに、相転移が生じることが分かった。
Example 1-2 A light control element was manufactured in the same manner as in Example 1-1 except that the thickness of the first and second electrode layers was set to 50 Å and the reflectance was set to 0.3. . An electrostatic voltage was applied to the device to cause a phase transition. As a result, it was found that a phase transition occurs when a voltage of 20 V and an electric field having an intensity of 2 × 10 6 V / cm are formed.

【0183】この素子の光制御層に対して垂直に、波長
が540nm、強度が0.5MW/cm2 のレーザ光を
信号光として入射させ、25Vの電圧の印加/非印加に
より、素子の光制御層の光学的特性を制御した場合の応
答速度を調べた。その結果、offからonへのスイッ
チング時間は50psecであり、電荷移動状態から非
結合状態へのスイッチング時間は65psecであっ
た。
A laser light having a wavelength of 540 nm and an intensity of 0.5 MW / cm 2 was incident as signal light perpendicular to the light control layer of the device, and the light of the device was applied by applying / non-applying a voltage of 25V. The response speed when the optical characteristics of the control layer were controlled was examined. As a result, the switching time from off to on was 50 psec, and the switching time from the charge transfer state to the non-coupling state was 65 psec.

【0184】また、非結合状態では、入力光強度に対す
る出力光強度の比は0.60であったのに対し、電荷移
動状態では、入力光強度に対する出力光強度の比は0.
62程度であった。
In the uncoupled state, the ratio of the output light intensity to the input light intensity was 0.60, whereas in the charge transfer state, the ratio of the output light intensity to the input light intensity was 0.10.
It was about 62.

【0185】比較例1−1 実施例1−1で作製した素子を用い、電圧を印加せず
に、光制御層に対して垂直に、波長が1400nmで、
強度が1MW/cm2 、500fsのパルスレーザ光を
照射した。その結果、光制御層の双安定性は生じなかっ
た。
Comparative Example 1-1 Using the device manufactured in Example 1-1, the wavelength was 1400 nm perpendicular to the light control layer without applying a voltage.
Pulsed laser light having an intensity of 1 MW / cm 2 and 500 fs was irradiated. As a result, no bistability of the light control layer occurred.

【0186】このレーザ光の強度を高めたところ、強度
が1GW/cm2 のときに、わずかに光制御層の双安定
動作が確認された。
When the intensity of the laser light was increased, a bistable operation of the light control layer was slightly confirmed when the intensity was 1 GW / cm 2 .

【0187】実施例1−1のように、光制御層に所定の
電圧をかけ、制御光兼信号光を用いると、優れた3次非
線形感受率及び応答速度スイッチング性が見られた。ま
た、実施例1−2のように、膜厚、反射率を変更しても
同様の効果が得られた。しかしながら、比較例1−1の
ように電圧を印加しない場合には、レーザ光の強度をか
なり高めないと双安定動作が見られない。
As in Example 1-1, when a predetermined voltage was applied to the light control layer and control light and signal light were used, excellent third-order nonlinear susceptibility and response speed switching were observed. Similar effects were obtained even when the film thickness and the reflectance were changed as in Example 1-2. However, when no voltage is applied as in Comparative Example 1-1, the bistable operation is not observed unless the intensity of the laser beam is considerably increased.

【0188】実施例1−3 光制御層の厚さを100オングストロームとしたこと以
外は、実施例1−1と同様にして光制御素子を作製し
た。
Example 1-3 A light control element was manufactured in the same manner as in Example 1-1, except that the thickness of the light control layer was changed to 100 Å.

【0189】この素子は、実施例1−1で作製した素子
に比べて、光制御層の厚さが薄く形成されている。その
ため、イオン性状態におけるマーデルングエネルギ利得
の減少により、光制御層を構成する錯体結晶の状態がよ
り相転移境界に近づき、これに伴って、電荷移動励起子
の励起波長が1400nmから1550nmへと、低エ
ネルギー側にシフトした。
In this device, the thickness of the light control layer is smaller than that of the device manufactured in Example 1-1. For this reason, the state of the complex crystal constituting the light control layer becomes closer to the phase transition boundary due to the decrease of the Madelung energy gain in the ionic state, and accordingly, the excitation wavelength of the charge transfer exciton decreases from 1400 nm to 1550 nm. And shifted to the lower energy side.

【0190】この素子に5Vの静電圧を印加し、光制御
層に対して垂直に、波長が1550nm、強度が1MW
/cm2 、500fsのパルスレーザ光を、制御光兼信
号光として照射し、出力光の強度を測定した。その結
果、光双安定性を示す履歴曲線が得られた。
A static voltage of 5 V was applied to the device, and the wavelength was 1550 nm and the intensity was 1 MW perpendicular to the light control layer.
A pulse laser beam of 500 fs / cm 2 was irradiated as control light and signal light, and the intensity of output light was measured. As a result, a hysteresis curve showing optical bistability was obtained.

【0191】また、この素子の、offからonへのス
イッチング時間は500fsであり、onからoffへ
のスイッチング時間は650fsであった。
The switching time from off to on of this element was 500 fs, and the switching time from on to off was 650 fs.

【0192】実施例1−4 光制御層として、クロルメチルパラフェニレンジアミン
(ClMePD)−ジメチルジシアノキノジイミン(D
MeDCNQI)と、ジメチルパラフェニレンジアミン
(DMePD)−DMeDCNQIとを、それぞれのモ
ル比が3:7となるように調整した錯体混晶を用いて、
100オングストロームの厚さで形成したこと以外は、
実施例1−1と同様にして光制御素子を作製した。
Example 1-4 As a light control layer, chloromethyl paraphenylenediamine (ClMePD) -dimethyldicyanoquinodiimine (D
MeDCNQI) and dimethylparaphenylenediamine (DMePD) -DMeDCNQI using a complex mixed crystal in which the respective molar ratios were adjusted to be 3: 7,
Except that it was formed with a thickness of 100 angstroms,
A light control element was manufactured in the same manner as in Example 1-1.

【0193】この素子に5Vの静電圧を印加し、光制御
層に対して垂直に、波長が1000nm、強度が0.8
MW/cm2 、500fsのパルスレーザ光を、制御光
兼信号光として照射し、入力光強度を変化させて、出力
光の強度を測定した。その結果、光双安定性を示す履歴
曲線が得られた。
A static voltage of 5 V was applied to the device, and a wavelength of 1000 nm and an intensity of 0.8 were measured perpendicularly to the light control layer.
A pulse laser beam of MW / cm 2 and 500 fs was irradiated as control light and signal light, and the intensity of output light was measured while changing the intensity of input light. As a result, a hysteresis curve showing optical bistability was obtained.

【0194】また、この素子の、offからonへのス
イッチング時間は650fsであり、onからoffへ
のスイッチング時間は730fsであった。
The switching time from off to on of this element was 650 fs, and the switching time from on to off was 730 fs.

【0195】実施例1−5 実施例1−1で作製した光制御素子に10Vの静電圧を
印加し、光制御層に対して垂直に、波長が1300n
m、強度が0.1MW/cm2 レーザ光を信号光として
入射させ、光制御層の信号光が照射されている領域に、
光制御層に対して斜方から、波長が1000nm、強度
が0.8MW/cm2 、500fsのパルスレーザ光を
制御光として照射して、出力光の強度を測定した。その
結果、光双安定性を示す履歴曲線が得られた。
Example 1-5 An electrostatic voltage of 10 V was applied to the light control element manufactured in Example 1-1, and the wavelength was set to 1300 n perpendicular to the light control layer.
m, an intensity of 0.1 MW / cm 2 laser light is incident as signal light, and the light control layer is irradiated with the signal light in an area where the signal light is irradiated.
A pulse laser beam having a wavelength of 1000 nm, an intensity of 0.8 MW / cm 2 , and 500 fs was irradiated as control light from an oblique direction to the light control layer, and the intensity of output light was measured. As a result, a hysteresis curve showing optical bistability was obtained.

【0196】また、この素子の、offからonへのス
イッチング時間は700fsであり、onからoffへ
のスイッチング時間は800fsであった。
The switching time from off to on of the device was 700 fs, and the switching time from on to off was 800 fs.

【0197】実施例1−6 電極層として、アルミニウム膜を、反射率が0.4にな
るように、及び厚さが50オングストロームになるよう
に形成し、ドナー分子としてテトラチアフルバレン(T
TF)を、アクセプタ分子としてクロラニル(CA)を
用いて、150オングストロームの厚さで、TTF−C
A錯体からなる光制御層を形成したこと以外は、実施例
1−1と同様にして光制御素子を作製した。この素子
は、電極層の反射率が低いため、エタロンのように内部
多重反射を用いない面形の光制御素子である。
Example 1-6 An aluminum film was formed as an electrode layer so as to have a reflectivity of 0.4 and a thickness of 50 Å, and tetrathiafulvalene (T) was used as a donor molecule.
TF) using chloranil (CA) as the acceptor molecule to a thickness of 150 Å and TTF-C
A light control element was produced in the same manner as in Example 1-1, except that a light control layer made of the A complex was formed. This element is a planar light control element that does not use internal multiple reflection unlike an etalon because the reflectance of the electrode layer is low.

【0198】この素子に10Vの静電圧を印加し、光制
御層に対して垂直に、波長が1550nm、強度が1M
W/cm2 、500fsのパルスレーザ光を制御光兼信
号光として照射して、出力光の強度を測定した。その結
果、光双安定性を示す履歴曲線が得られた。
A static voltage of 10 V was applied to the device, and the wavelength was 1550 nm and the intensity was 1 M perpendicular to the light control layer.
A pulse laser beam of W / cm 2 and 500 fs was irradiated as control light and signal light, and the intensity of output light was measured. As a result, a hysteresis curve showing optical bistability was obtained.

【0199】また、この素子の、offからonへのス
イッチング時間は650fsであり、onからoffへ
のスイッチング時間は800fsであった。
The switching time from off to on of this element was 650 fs, and the switching time from on to off was 800 fs.

【0200】実施例1−7 実施例1−1で作製した光制御素子に、光制御層に対し
て垂直に、波長が540nm、強度が1MW/cm2
パルスレーザ光を照射し、1GHzで変調した矩形電圧
を、0V〜30Vの範囲で変化させて印加した。その結
果、20V以下の電圧域では素子は低透過状態、20V
以上の電圧域では素子は高透過状態にあり、電圧信号の
変調に同期した光パルス変調信号を得ることができた。
Example 1-7 The light control element fabricated in Example 1-1 was irradiated with a pulse laser beam having a wavelength of 540 nm and an intensity of 1 MW / cm 2 perpendicular to the light control layer. The modulated rectangular voltage was applied in a range of 0 V to 30 V. As a result, in a voltage range of 20 V or less, the element is in a low transmission state,
In the above voltage range, the element was in a high transmission state, and an optical pulse modulation signal synchronized with the modulation of the voltage signal could be obtained.

【0201】実施例1−8 図11に示す光制御素子を、以下に示す方法により作製
した。
Example 1-8 The light control device shown in FIG. 11 was manufactured by the following method.

【0202】まず、厚さが2mmで、基板面に平行な方
向の長さがそれぞれ20mm×20mmの石英基板11
1上に、電極層112として、アルミニウム膜を100
0オングストロームの厚さで形成した。
First, a quartz substrate 11 having a thickness of 2 mm and a length in a direction parallel to the substrate surface of 20 mm × 20 mm, respectively.
An aluminum film as an electrode layer 112
It was formed with a thickness of 0 Å.

【0203】この電極層112上に、絶縁体層113と
して、比誘電率が200のSrTiO3 膜を500オン
グストロームの厚さで真空蒸着法により形成し、このS
rTiO3 膜上に、分子配向制御層117として、TT
PAEのアモルファス膜を250オングストロームの厚
さで、真空蒸着法により形成した。
On this electrode layer 112, an SrTiO 3 film having a relative dielectric constant of 200 is formed as a dielectric layer 113 to a thickness of 500 angstroms by a vacuum evaporation method.
TT as a molecular orientation control layer 117 on the rTiO 3 film
An amorphous film of PAE was formed to a thickness of 250 angstroms by a vacuum evaporation method.

【0204】次に、ドナー分子としてTTFを、アクセ
プタ分子としてCAを用いて、真空蒸着法により、分子
配向制御層117上に150オングストロームの厚さ
で、TTF−CA錯体からなる光制御層114を形成し
た。この光制御層114の上に、絶縁体層115として
PMMAを200オングストロームの厚さで、電極層1
16として厚さが500オングストロームのアルミニウ
ム膜を、順次真空蒸着法により形成した。なお、この電
極層116は、基板111の中央に、長さ10mm、幅
5mmで形成した。
Next, by using TTF as a donor molecule and CA as an acceptor molecule, a light control layer 114 made of a TTF-CA complex with a thickness of 150 Å is formed on the molecular orientation control layer 117 by a vacuum evaporation method. Formed. On this light control layer 114, PMMA is formed as an insulator layer 115 to a thickness of 200 angstroms to form an electrode layer 1
An aluminum film having a thickness of 500 angstroms as No. 16 was sequentially formed by a vacuum evaporation method. The electrode layer 116 was formed at the center of the substrate 111 with a length of 10 mm and a width of 5 mm.

【0205】以上のようにして電極層等が積層された基
板111上に、一対のプリズム118、119を、それ
ぞれが電極層116の長方向の両端に位置するように配
置して、プリズム結合型スラブ導波路素子として用いら
れる光制御素子を作製した。
On the substrate 111 on which the electrode layers and the like are stacked as described above, a pair of prisms 118 and 119 are disposed so as to be located at both ends in the longitudinal direction of the electrode layer 116, respectively. A light control element used as a slab waveguide element was manufactured.

【0206】この素子に5Vの静電圧を印加し、プリズ
ム118から、波長が1550nm、強度が0.1MW
/cm2 のパルスレーザ光を信号光として入射させ、プ
リズム119から、波長が1400nm、強度が1MW
/cm2 のパルスレーザ光を制御光として照射して、出
力光の強度を測定した。その結果、制御光の照射時に
は、信号光の出力は完全に遮断された。
A static voltage of 5 V is applied to this element, and a wavelength of 1550 nm and an intensity of 0.1 MW are output from the prism 118.
/ Cm 2 pulsed laser light is incident as signal light, and the wavelength is 1400 nm and the intensity is 1 MW from the prism 119.
/ Cm 2 was irradiated as pulsed control laser light, and the intensity of output light was measured. As a result, at the time of irradiation with the control light, the output of the signal light was completely shut off.

【0207】また、この導波路素子の、onからoff
へのスイッチング時間は700fsであり、offから
onへのスイッチング時間は800fsであった。
The waveguide element is turned from on to off.
The switching time from off to on was 700 fs, and the switching time from off to on was 800 fs.

【0208】実施例1−9 図12に示す、グレーティング結合型スラブ導波路素子
として用いられる光制御素子を作製した。
Example 1-9 An optical control element used as a grating-coupled slab waveguide element shown in FIG. 12 was manufactured.

【0209】図12に示す素子は、図11に示す素子と
ほぼ同様の構成であるが、プリズム118、119の代
わりに、グレーティング128、129が設けられてい
る点で異なっている。
The element shown in FIG. 12 has substantially the same configuration as the element shown in FIG. 11, except that gratings 128 and 129 are provided instead of the prisms 118 and 119.

【0210】この素子に5Vの静電圧を印加し、グレー
ティング128から、波長が1550nm、強度が0.
1MW/cm2 のパルスレーザ光を信号光として入射さ
せ、グレーティング129から、波長が1400nm、
強度が1MW/cm2 のパルスレーザ光を制御光として
照射して、出力光の強度を測定した。その結果、制御光
の照射時には、信号光の出力は完全に遮断された。
A static voltage of 5 V was applied to this element, and a wavelength of 1550 nm and an intensity of 0.
A pulse laser beam of 1 MW / cm 2 is made incident as signal light, and a wavelength of 1400 nm is obtained from the grating 129.
Pulse laser light having an intensity of 1 MW / cm 2 was irradiated as control light, and the intensity of output light was measured. As a result, at the time of irradiation with the control light, the output of the signal light was completely shut off.

【0211】また、この導波路素子の、onからoff
へのスイッチング時間は700fsであり、offから
onへのスイッチング時間は800fsであった。
The waveguide element is turned from on to off.
The switching time from off to on was 700 fs, and the switching time from off to on was 800 fs.

【0212】実施例1−10 実施例1−8で作製した光制御素子に、一方のプリズム
から、波長が540nm、強度が0.1MW/cm2
パルスレーザ光を照射し、1GHzで変調した矩形電圧
を、0V〜30Vの範囲で変化させて印加した。その結
果、20V以下の電圧域では素子は低透過状態、20V
以上の電圧域では素子は高透過状態にあり、電圧信号の
変調に同期した光パルス変調信号を得ることができた。
Example 1-10 The light control element produced in Example 1-8 was irradiated with a pulse laser beam having a wavelength of 540 nm and an intensity of 0.1 MW / cm 2 from one of the prisms, and modulated at 1 GHz. A rectangular voltage was applied in a range of 0 V to 30 V. As a result, in a voltage range of 20 V or less, the element is in a low transmission state,
In the above voltage range, the element was in a high transmission state, and an optical pulse modulation signal synchronized with the modulation of the voltage signal could be obtained.

【0213】実施例1−11 図13に示す方向性結合器型の導波路素子を以下に示す
方法により作製した。
Example 1-11 A directional coupler type waveguide device shown in FIG. 13 was manufactured by the following method.

【0214】まず、石英基板131上に、パターニング
した後、スパッタリングにより、7059ガラスからな
るアーム132、133を形成した。これらアーム13
2、133の幅および高さは、それぞれ、2μmおよび
0.2μmである。また、アーム132とアーム133
には、それぞれ、光制御素子134、135が配置され
るギャップが形成されている。
First, after patterning on the quartz substrate 131, arms 132 and 133 made of 7059 glass were formed by sputtering. These arms 13
The width and height of 2,133 are 2 μm and 0.2 μm, respectively. Also, the arm 132 and the arm 133
Are formed with gaps in which the light control elements 134 and 135 are disposed, respectively.

【0215】次に、アーム132、133のそれぞれの
ギャップ部に、マスクを用いて、電極層として、アルミ
ニウム膜を厚さが500オングストロームになるように
形成した。これらアルミニウム膜上に、絶縁体層とし
て、比誘電率が200のSrTiO3 膜を500オング
ストロームの厚さで真空蒸着法により形成し、これらS
rTiO3 膜上に、分子配向制御層として、TTPAE
のアモルファス膜を250オングストロームの厚さで、
真空蒸着法により形成した。
Next, an aluminum film was formed as an electrode layer so as to have a thickness of 500 angstroms, using a mask, in each of the gap portions of the arms 132 and 133. On this aluminum film, an SrTiO 3 film having a relative dielectric constant of 200 was formed as an insulator layer to a thickness of 500 Å by a vacuum evaporation method.
TTPAE on the rTiO 3 film as a molecular orientation control layer
Of the amorphous film of 250 angstrom thickness,
It was formed by a vacuum evaporation method.

【0216】以上のようにして形成した分子配向制御膜
上に、ドナー分子としてTMBを、アクセプタ分子とし
てTCNQを用いて、真空蒸着法により、分子配向制御
層上に500オングストロームの厚さでTMB−TCN
Q錯体からなる光制御層を形成した。これら光制御層の
上に、絶縁体層としてPMMAを200オングストロー
ムの厚さで、電極層として厚さが500オングストロー
ムのアルミニウム膜を、順次真空蒸着法により積層し
て、光制御素子部134、135を形成し、方向性結合
器型導波路素子136を作製した。
Using TMB as a donor molecule and TCNQ as an acceptor molecule on the molecular orientation control film formed as described above, a 500 Å-thick TMB-type film was formed on the molecular orientation control layer by vacuum evaporation. TCN
A light control layer made of a Q complex was formed. On these light control layers, an aluminum layer having a thickness of 200 angstroms of PMMA as an insulator layer and a thickness of 500 angstroms as an electrode layer is sequentially laminated by a vacuum evaporation method, and the light control element portions 134 and 135 are formed. Was formed, and a directional coupler type waveguide element 136 was manufactured.

【0217】以上のようにして作製した方向性結合器型
導波路素子136の光制御素子部134のみに30Vの
電圧を印加して、アーム132の入力部137から波長
が1550nmで500fsのパルス光を、強度を変え
ながら照射した。その結果、強度が1MW/cm2 未満
の場合は、アーム133の出力部138から出力光が出
力されたが、強度が1MW/cm2 以上の場合は、アー
ム133の出力部138からは出力されず、アーム13
2の出力部139のみから出力された。
A voltage of 30 V is applied only to the light control element section 134 of the directional coupler type waveguide element 136 manufactured as described above, and pulse light having a wavelength of 1550 nm and 500 fs is input from the input section 137 of the arm 132. Was irradiated with varying intensity. As a result, when the intensity is less than 1 MW / cm 2, the output light is output from the output unit 138 of the arm 133, but when the intensity is 1 MW / cm 2 or more, the output light is output from the output unit 138 of the arm 133. Arm 13
2 was output only from the output unit 139.

【0218】また、この導波路素子の、非結合状態から
電荷移動状態へのスイッチング時間は1.4psであ
り、電荷移動状態から非結合状態へのスイッチング時間
は2.1psであった。
The switching time from the non-coupling state to the charge transfer state of this waveguide element was 1.4 ps, and the switching time from the charge transfer state to the non-coupling state was 2.1 ps.

【0219】実施例1−12 図14に示すマッハ・ツェンダー型の導波路素子を以下
に示す方法により作製した。
Example 1-12 A Mach-Zehnder waveguide device shown in FIG. 14 was manufactured by the following method.

【0220】まず、石英基板141上に、パターニング
・スパッタリングにより、7059ガラスからなる導波
路142、145及びブランチ143、144を、幅お
よび高さが、それぞれ、2μmおよび0.2μmとなる
ように形成した。また、ブランチ143、144には、
それぞれ、光制御素子146、147が配置されるギャ
ップが形成されている。
First, waveguides 142 and 145 and branches 143 and 144 made of 7059 glass are formed on a quartz substrate 141 by patterning and sputtering so that the width and height are 2 μm and 0.2 μm, respectively. did. Also, branches 143 and 144 include
A gap in which the light control elements 146 and 147 are arranged is formed.

【0221】次に、ブランチ143、144のそれぞれ
のギャップ部に、マスクを用いて、電極層として、アル
ミニウム膜を厚さが500オングストロームになるよう
に形成した。これらアルミニウム膜上に、絶縁体層とし
て、比誘電率が200のSrTiO3 膜を500オング
ストロームの厚さで真空蒸着法により形成し、これらS
rTiO3 膜上に、分子配向制御層として、TTPAE
のアモルファス膜を250オングストロームの厚さで、
真空蒸着法により形成した。
Next, an aluminum film was formed as an electrode layer in a gap portion of each of the branches 143 and 144 by using a mask so as to have a thickness of 500 angstroms. On this aluminum film, an SrTiO 3 film having a relative dielectric constant of 200 was formed as an insulator layer to a thickness of 500 Å by a vacuum evaporation method.
TTPAE on the rTiO 3 film as a molecular orientation control layer
Of the amorphous film of 250 angstrom thickness,
It was formed by a vacuum evaporation method.

【0222】これら分子配向制御膜上に、ドナー分子と
してTMBを、アクセプタ分子としてTCNQを用い
て、真空蒸着法により、分子配向制御層上に500オン
グストロームの厚さで光制御層を形成した。光制御層の
上に、絶縁体層としてPMMAを200オングストロー
ムの厚さで、電極層として厚さが500オングストロー
ムのアルミニウム膜を、順次真空蒸着法により積層し
て、光制御素子部146、147を形成し、方向性結合
器型導波路素子148を作製した。
A light control layer having a thickness of 500 angstroms was formed on the molecular orientation control layer by vacuum evaporation using TMB as a donor molecule and TCNQ as an acceptor molecule. On the light control layer, an aluminum layer having a thickness of 200 angstroms of PMMA as an insulator layer and a thickness of 500 angstroms as an electrode layer is sequentially laminated by a vacuum deposition method, and the light control element portions 146 and 147 are formed. The directional coupler type waveguide element 148 was formed.

【0223】以上のようにして作製した方向性結合器型
導波路素子148の光制御素子部146のみに、30V
の電圧を印加して、導波路142から波長が1550n
mで500fsのパルス光を、強度を変えながら照射し
た。その結果、強度が1MW/cm2 未満の場合は、導
波路145から出力光が出力されたが、強度が1MW/
cm2 以上の場合は、導波路145からは出力光は出力
されなかった。
Only the light control element section 146 of the directional coupler type waveguide element 148 manufactured as described above has a voltage of 30V.
And a wavelength of 1550 n from the waveguide 142 is applied.
Irradiated with pulse light of 500 fs while changing the intensity. As a result, when the intensity was less than 1 MW / cm 2, output light was output from the waveguide 145, but the intensity was 1 MW / cm 2.
In the case of cm 2 or more, no output light was output from the waveguide 145.

【0224】また、この導波路素子の、非結合状態から
電荷移動状態へのスイッチング時間は1.6psであ
り、電荷移動状態から非結合状態へのスイッチング時間
は2.5psであった。
The switching time from the non-coupling state to the charge transfer state of the waveguide element was 1.6 ps, and the switching time from the charge transfer state to the non-coupling state was 2.5 ps.

【0225】次に、本発明の有機薄膜素子について説明
する。
Next, the organic thin film device of the present invention will be described.

【0226】なお、本発明の有機薄膜素子には、上述の
光制御素子に好ましく使用されるアモルファス有機膜及
びさらに好ましく使用されるステロイド系骨格を有する
分子を分子配向制御層として適用し得る。
In the organic thin film element of the present invention, an amorphous organic film preferably used in the above-mentioned light control element and a molecule having a steroid skeleton more preferably used as a light control element can be used as a molecular orientation control layer.

【0227】本発明の有機薄膜素子は、基本的に、支持
層上に、アモルファス有機膜からなる分子配向制御層
と、π電子系分子からなる結晶性有機薄膜とを含む積層
構造を有し、その結晶性有機薄膜は、真空蒸着法により
100オングストローム/分以下の成長速度で形成さ
れ、且つその膜厚が1分子層以上2000オングストロ
ーム以下である。
The organic thin film element of the present invention basically has a laminated structure including a molecular orientation control layer made of an amorphous organic film and a crystalline organic thin film made of π-electron molecules on a support layer. The crystalline organic thin film is formed by a vacuum deposition method at a growth rate of 100 Å / min or less, and has a film thickness of not less than one molecular layer and not more than 2000 Å.

【0228】また、本発明の方法は、このような有機薄
膜素子を製造するために用いられ、表面にアモルファス
有機膜からなる分子配向制御層が形成された支持層を用
意し、アモルファス有機膜上に、真空蒸着法により10
0オングストローム/分以下の成長速度で、1分子層以
上2000オングストローム以下の膜厚の結晶性有機薄
膜を形成することを特徴とするここで、支持層とは、分
子配向制御層を支持する層のことをいう。支持層は、有
機薄膜素子の用途、所望の構成に応じて、分子配向制御
層に隣接して設けられ得る。典型的な例は、基板である
が、これに限定するものではなく、絶縁層、結晶性有機
薄膜等、有機薄膜素子に好適に使用される層が選択され
る。基板以外の層が支持層として設けられる場合には、
更に下層に基板を設けることができる。このとき、支持
層と基板との間に、他のどのような層を設けることも可
能である。
Further, the method of the present invention is used for manufacturing such an organic thin film element, and prepares a support layer having a molecular orientation control layer formed of an amorphous organic film on the surface thereof. And 10 by vacuum evaporation
A crystalline organic thin film having a film thickness of not less than 1 molecular layer and not more than 2000 angstrom is formed at a growth rate of 0 angstrom / min or less, wherein the support layer is a layer supporting the molecular orientation control layer. That means. The support layer can be provided adjacent to the molecular orientation control layer depending on the use of the organic thin film element and the desired configuration. A typical example is a substrate, but the substrate is not limited to this, and a layer suitably used for an organic thin film element, such as an insulating layer and a crystalline organic thin film, is selected. When a layer other than the substrate is provided as a support layer,
Further, a substrate can be provided as a lower layer. At this time, any other layer can be provided between the support layer and the substrate.

【0229】本発明の有機薄膜素子の第1の好ましい態
様によればアモルファス有機薄膜からなる分子配向制御
層に、その分子構造の最外殻に芳香環を有する低分子系
色素分子を使用することができる。これにより、芳香環
に非極在化しているπ電子の高い分極率により分子配向
制御層上に形成される結晶性有機薄膜を構成するπ電子
系分子との間に高い分散力を生じることが可能となり、
結晶性の高い有機薄膜の特徴を生かしたり、結晶軸方向
による物性の異方性を利用した有機薄膜素子を得ること
ができる。
According to a first preferred embodiment of the organic thin film element of the present invention, a low molecular weight dye molecule having an aromatic ring in the outermost shell of its molecular structure is used for a molecular orientation control layer comprising an amorphous organic thin film. Can be. As a result, a high dispersive force can be generated between the π-electron molecules forming the crystalline organic thin film formed on the molecular orientation control layer due to the high polarizability of the π-electrons nonpolarized in the aromatic ring. Becomes possible,
An organic thin film element utilizing characteristics of an organic thin film having high crystallinity and utilizing anisotropy of physical properties in a crystal axis direction can be obtained.

【0230】また、本発明の有機薄膜素子の第2の好ま
しい態様によれば、アモルファス有機薄膜からなる分子
配向制御層に、ポリシランの主鎖が基板面と平行に配向
した構造を有するポリシラン誘導体を使用することがで
きる。これにより、炭素より高い電子分極率を有するシ
リコンポリマー鎖を配向制御層とすることによって、炭
素系ポリマーを使う場合よりも、配向制御層と結晶性と
有機薄膜を構成するπ電子分子との間に高い分散力を生
じることが可能となり、結晶性の高い有機薄膜の特徴を
生かしたり、結晶軸方向による物性の異方性を利用した
有機薄膜素子を得ることができる。
Further, according to the second preferred embodiment of the organic thin film element of the present invention, a polysilane derivative having a structure in which the main chain of polysilane is oriented parallel to the substrate surface is added to the molecular orientation control layer composed of an amorphous organic thin film. Can be used. By using a silicon polymer chain having an electron polarizability higher than that of carbon as the orientation control layer, the orientation control layer and the crystalline and π-electron molecules constituting the organic thin film can be formed more efficiently than when a carbon-based polymer is used. As a result, it is possible to produce an organic thin film element utilizing the characteristics of an organic thin film having high crystallinity and utilizing anisotropy of physical properties in the crystal axis direction.

【0231】本発明の有機薄膜素子の第3の好ましい態
様によればアモルファス有機薄膜からなる分子配向制御
層として、ステロイド骨格を有する分子から実質的にな
る有機薄膜を使用することができる。これにより、表面
平坦性と共に、絶縁性を有する有機アモルファスが得ら
れる。このような絶縁膜は、薄く形成することが可能で
ある。このため、できるだけ低い印加電圧で強電場をか
けることが可能となる。
According to the third preferred embodiment of the organic thin film device of the present invention, an organic thin film substantially composed of a molecule having a steroid skeleton can be used as a molecular orientation control layer formed of an amorphous organic thin film. As a result, an organic amorphous having insulating properties as well as surface flatness can be obtained. Such an insulating film can be formed thin. Therefore, it is possible to apply a strong electric field with an applied voltage as low as possible.

【0232】また、本発明の有機薄膜素子の第4の好ま
しい態様によれば、アモルファス有機薄膜からなる分子
配向制御層として、異種のアモルファス有機膜を積層し
た構造を有し、ステロイド骨格を有する分子から実質的
になる有機薄膜を少なくとも1つ含む積層を用いること
ができる。低分子アモルファス膜のみでは十分な耐熱性
が得られない場合に、このような積層構造を持つ配向制
御膜を用いて、耐熱性の高い高分子アモルファス膜を併
用することにより、その耐熱性を向上することができ
る。耐熱性は、電極形成プロセスを行なう際に重要であ
る。
According to a fourth preferred embodiment of the organic thin film element of the present invention, as a molecular orientation control layer composed of an amorphous organic thin film, a molecule having a structure in which different kinds of amorphous organic films are laminated, and having a steroid skeleton. Can be used. A laminate including at least one organic thin film substantially consisting of When sufficient heat resistance cannot be obtained with low molecular amorphous film alone, the heat resistance is improved by using a polymer amorphous film with high heat resistance in combination with an orientation control film having such a laminated structure. can do. Heat resistance is important when performing the electrode forming process.

【0233】さらに、本発明の有機薄膜素子の第5の好
ましい態様によれば、π電子系分子からなる結晶性有機
薄膜として、異種有機分子の薄膜を積層した構造を適用
することができる。これにより、異種有機分子間のヘテ
ロ界面に生じる電荷移動効果、接触電位分布の発生、ま
たそのポテンシャル障壁の生成によるキャリアや励起子
の閉じ込め効果を生じることが可能となり、新規な機能
を有する有機薄膜素子を得ることができる。
Further, according to the fifth preferred embodiment of the organic thin film element of the present invention, a structure in which thin films of different kinds of organic molecules are stacked can be applied as the crystalline organic thin film composed of π-electron molecules. As a result, it is possible to generate a charge transfer effect at a hetero interface between different kinds of organic molecules, a generation of a contact potential distribution, and a confinement effect of carriers and excitons due to generation of the potential barrier, and an organic thin film having a novel function. An element can be obtained.

【0234】また、本発明の有機薄膜素子の第6の好ま
しい態様によれば、π電子系分子からなる結晶性有機薄
膜として、有機電荷移動錯体結晶を適用することができ
る。これにより、電荷移動錯体に特徴的な相転移現象や
異方的な電気伝導性、高い非線形光学特性を有する素子
機能として利用することが可能となり、新規な機能を有
する有機薄膜素子を得ることができる。
According to the sixth preferred embodiment of the organic thin film element of the present invention, an organic charge transfer complex crystal can be applied as a crystalline organic thin film composed of π-electron molecules. As a result, it is possible to use the device as a device function having a phase transition phenomenon, anisotropic electric conductivity, and high nonlinear optical characteristics characteristic of the charge transfer complex, and to obtain an organic thin film device having a novel function. it can.

【0235】本発明の有機薄膜素子の第7の好ましい態
様によれば、非線形光学効果に基づく光変調機能あるい
は光情報記録機能を有する結晶性有機薄膜を使用するこ
とができる。これにより、有機π電子系分子の有する高
い非線形光学感受率及び超高速な光応答性、あるい分子
電子状態、分子凝集構造に敏感な光吸収(反射)特性或
いは分子間の高速な電子移動による応答性の高いフォト
リソグラフ効果、あるいはホールバーニング現象を利用
することが可能となり、光変調、光情報記録媒体用の有
機薄膜素子に使用し得る。
According to the seventh preferred embodiment of the organic thin film element of the present invention, a crystalline organic thin film having a light modulation function or an optical information recording function based on a nonlinear optical effect can be used. Due to the high nonlinear optical susceptibility and ultra-high-speed photoresponsiveness of organic π-electron molecules, light absorption (reflection) characteristics sensitive to molecular electronic structure and molecular aggregation structure, or high-speed electron transfer between molecules. This makes it possible to utilize the photolithographic effect or the hole burning phenomenon with high responsiveness, and can be used for an organic thin film element for optical modulation and an optical information recording medium.

【0236】本発明の有機薄膜素子の第8の好ましい態
様によれば、アモルファス有機膜からなる分子配向制御
層及びπ電子系分子からなる結晶性有機薄膜の積層体の
両面に、一対の絶縁体層と一対の電極を設けることがで
きる。この一対の絶縁体層を設けることにより、有機薄
膜に実効的に強電界を印加することが可能となり、電界
により有機薄膜の電子状態を制御することを利用した有
機薄膜素子を得ることができる。
According to an eighth preferred embodiment of the organic thin film device of the present invention, a pair of insulators is provided on both sides of a laminate of a molecular orientation control layer composed of an amorphous organic film and a crystalline organic thin film composed of π-electron molecules. A layer and a pair of electrodes can be provided. By providing the pair of insulator layers, a strong electric field can be effectively applied to the organic thin film, and an organic thin film element utilizing control of the electronic state of the organic thin film by the electric field can be obtained.

【0237】本発明の有機薄膜素子の第9の好ましい態
様によれば、光照射により、光起電力あるいは光電流を
発生する機能を有する結晶性有機薄膜を使用することが
できる。これにより、光検出器、光電池に使用し得る有
機薄膜素子を得ることができる。
According to the ninth preferred embodiment of the organic thin film element of the present invention, a crystalline organic thin film having a function of generating photovoltaic power or photocurrent by light irradiation can be used. Thereby, an organic thin film element that can be used for a photodetector and a photovoltaic cell can be obtained.

【0238】本発明の有機薄膜素子の第10の好ましい
態様によれば、半導体基板のソース、ドレイン領域間の
チャネル領域に、絶縁膜、アモルファス有機薄膜からな
る分子配向制御膜、ゲート電極及びπ電子系分子からな
る結晶性有機薄膜を含む積層構造を有し、前記結晶性有
機薄膜は、真空蒸着法により100オングストローム/
分以下の成長速度で形成され、且つその膜厚が1分子層
以上2000オングストローム以下であることを特徴と
する有機薄膜素子が提供される。このような有機薄膜素
子は、電界効果型トランジスタとして使用し得る。
According to the tenth preferred embodiment of the organic thin film element of the present invention, an insulating film, a molecular orientation control film made of an amorphous organic thin film, a gate electrode, and a π-electron are formed in a channel region between a source and a drain region of a semiconductor substrate. It has a laminated structure including a crystalline organic thin film composed of system-based molecules, and the crystalline organic thin film is 100 Å /
The organic thin film element is formed at a growth rate of not more than 1 minute and has a film thickness of not less than 1 molecular layer and not more than 2000 angstroms. Such an organic thin film element can be used as a field effect transistor.

【0239】本発明を用いると、基板本体の材質・形状
にかかわらず、有機薄膜の構造ならびに分子配向性を制
御可能であり、光学素子、電子素子などとして実用的に
使用し得る有機薄膜素子が得られる。
According to the present invention, the structure and molecular orientation of the organic thin film can be controlled regardless of the material and shape of the substrate body, and an organic thin film element that can be practically used as an optical element, an electronic element, or the like can be obtained. can get.

【0240】次に、本発明に係る有機薄膜素子の具体的
な構造の例について説明する。
Next, a specific example of the structure of the organic thin film element according to the present invention will be described.

【0241】本発明の有機薄膜素子は、基本的には例え
ば基板等の支持層上に少なくとも1層の素子機能を担う
有機薄膜を有する。図15〜図17に、本発明の有機薄
膜素子の構造の一例を示す。
The organic thin film device of the present invention basically has at least one layer of an organic thin film having a device function on a support layer such as a substrate. 15 to 17 show an example of the structure of the organic thin film element of the present invention.

【0242】図15の有機薄膜素子は、基板151上に
アモルファス有機膜152および素子機能を担う有機薄
膜3を順次形成したものである。
The organic thin-film device shown in FIG. 15 is obtained by sequentially forming an amorphous organic film 152 and an organic thin film 3 having an element function on a substrate 151.

【0243】図16の有機薄膜素子は、基板151上に
アモルファス有機膜152および素子機能を担う第1の
有機薄膜153、さらにアモルファス有機膜152およ
び素子機能を担う第2の有機薄膜154を順次形成した
積層型有機薄膜素子である。
In the organic thin film element shown in FIG. 16, an amorphous organic film 152, a first organic thin film 153 having an element function, and an amorphous organic film 152 and a second organic thin film 154 having an element function are sequentially formed on a substrate 151. It is a laminated type organic thin film element.

【0244】図17の有機薄膜素子は、基板151上に
第1の電極155、第1の絶縁層156、アモルファス
有機膜152を形成したものの上に、素子機能を担う有
機薄膜153を順次形成し、さらに第2の絶縁層15
7、第2の電極として背面電極158を設けた有機薄膜
素子を示す。
In the organic thin film device shown in FIG. 17, an organic thin film 153 having an element function is sequentially formed on a substrate 151 on which a first electrode 155, a first insulating layer 156, and an amorphous organic film 152 are formed. And the second insulating layer 15
7 shows an organic thin-film element provided with a back electrode 158 as a second electrode.

【0245】本発明においては、図15〜図17に示す
ように、任意の下地表面にアモルファス有機膜からなる
分子配向制御層が形成される。このような配向制御層
は、真空蒸着法、スピンコート法、塗布法、スパッタ
法、LB法などにより形成することが可能である。
In the present invention, as shown in FIGS. 15 to 17, a molecular orientation control layer composed of an amorphous organic film is formed on an arbitrary base surface. Such an orientation control layer can be formed by a vacuum evaporation method, a spin coating method, a coating method, a sputtering method, an LB method, or the like.

【0246】ここで、有機薄膜の下地として形成される
配向制御層の厚さは、1分子層以上1000オングスト
ローム以下程度とすることが好ましい。即ち、配向制御
層と薄膜分子との間に働く相互作用の到達距離程度の厚
さがあればいいのであって、必要以上に厚くすると、素
子としての印加電圧や光学的透過特性の損失につなが
る。相互作用の種類によって到達距離は一様ではない
が、分子配向制御層の厚さは、分散力が主ならば数分子
層で十分であり、静電力などの遠距離力を利用する場合
には100〜1000オングストローム程度となる。
Here, it is preferable that the thickness of the orientation control layer formed as a base of the organic thin film is not less than one molecular layer and not more than 1000 angstroms. In other words, it is sufficient that the thickness is about the reach of the interaction acting between the orientation control layer and the thin film molecules. If the thickness is more than necessary, the applied voltage and the optical transmission characteristics of the device will be lost. . The reaching distance is not uniform depending on the type of interaction, but the thickness of the molecular orientation control layer is sufficient if a few molecular layers are sufficient if the dispersive force is main, and if a long-range force such as electrostatic force is used, It is about 100 to 1000 angstroms.

【0247】本発明において、有機薄膜は、π電子系分
子の結晶性薄膜を指す。π電子系分子とは、不飽和炭化
水素、芳香族化合物など分子中にいくつかのπ結合をも
っている分子のことをいう。ポリジアセチレン、縮合多
環芳香族分子などがその代表である。
In the present invention, the organic thin film refers to a crystalline thin film of π-electron molecules. The π-electron molecule refers to a molecule having some π bonds in a molecule such as an unsaturated hydrocarbon and an aromatic compound. Polydiacetylene and condensed polycyclic aromatic molecules are representative thereof.

【0248】このπ電子系分子からなる結晶性薄膜を分
子配向制御層上に形成するためには、薄膜成長条件の制
御がきわめて重要である。従来報告されているような通
常真空度(10-6〜10-7Torr)下での蒸着法で
は、背圧に抗して膜分子を基板上に付着させるために、
例えば1000オングストローム/分といったかなり速
い蒸着速度が必要とされていた。しかし、このような状
況下での薄膜成長は、正に分子間の自己凝集を促進する
ための成長条件であって多くの場合成長した膜は多結晶
粒の凝集構造となってしまう。このような膜成長を回避
するためには、超高真空条件を利用してきわめて遅い速
度で膜成長が進行する条件を用意し、基板−分子間相互
作用あるいは分子間相互作用にしたがって結晶構造を組
みながら膜成長が進行するようにしなければならない。
In order to form a crystalline thin film composed of the π-electron molecules on the molecular orientation control layer, it is very important to control the growth conditions of the thin film. In a deposition method under a normal vacuum degree (10 −6 to 10 −7 Torr) as reported previously, in order to attach film molecules to a substrate against a back pressure,
A fairly fast deposition rate, for example, 1000 Angstroms / min, was required. However, the growth of a thin film under such a condition is a growth condition for promoting self-aggregation between molecules, and in many cases, the grown film has an aggregate structure of polycrystalline grains. In order to avoid such a film growth, the conditions under which the film growth proceeds at an extremely low speed using ultra-high vacuum conditions are prepared, and the crystal structure is formed in accordance with the substrate-molecule interaction or the intermolecular interaction. It is necessary to allow the film growth to progress while assembling.

【0249】このような膜成長条件として、膜成長速度
が100オングストローム/分以下であることが望まし
いと考えられる。このとき真空度は、10-9Torrよ
り高い真空度が好ましく、10-8Torrより低くなる
と、上記背圧の効果が現れて、有機分子の蒸着速度を遅
くすることができなくなる傾向がある。
As such a film growth condition, it is considered that the film growth rate is desirably 100 Å / min or less. At this time, the degree of vacuum is preferably higher than 10 -9 Torr, and if it is lower than 10 -8 Torr, the above-described effect of the back pressure appears, and it tends to be difficult to reduce the deposition rate of the organic molecules.

【0250】また、このπ電子系分子からなる結晶性薄
膜の最適な膜厚は素子機能によって種々変化するが、素
子機能の発現に十分であり、かつ電子素子の場合には不
必要な電圧や電流の損失を起こさないように、また光学
素子の場合には吸収等の損失を引き起こさないようにす
るために、ある上限となる膜厚が存在するのが一般的で
あり、膜厚が1分子層以上1000オングストローム以
下、さらに好ましくは1分子層以上2000オングスト
ローム以下であることが望ましい。
Although the optimum thickness of the crystalline thin film composed of the π-electron molecules varies depending on the device function, it is sufficient for the device function to be exhibited, and in the case of an electronic device, unnecessary voltage and In order to prevent loss of current and, in the case of an optical element, loss such as absorption, there is generally a certain upper limit of the film thickness. It is desirable that the thickness be not less than 1 layer and not more than 1000 angstroms, more preferably not less than 1 molecular layer and not more than 2000 angstroms.

【0251】基板本体の材質は特に限定されず、金属、
半導体(回路や接合などを形成したものを含む)、誘電
体、石英などが挙げられる。
The material of the substrate body is not particularly limited.
Examples thereof include a semiconductor (including a circuit and a junction formed), a dielectric, and quartz.

【0252】また、図17に示す有機薄膜素子のよう
に、基板上に電極を形成する場合、その材質として金
属、ITO、及び有機導電性材料などが挙げられる。ま
た、電圧を印加する素子の場合には、図17に示すよう
に電極上に絶縁層を設けると、有機薄膜に実効的に強電
界を印加できる。すなわち、一般には、有機薄膜に印加
される電界が強くなると、有機薄膜を流れる電流が大幅
に増加して有機薄膜の構造に悪影響を及ぼすため、ある
程度以上の電界を実現することができない。これに対し
て、電極と有機薄膜との間に絶縁層を設けておけば、強
電界を印加しても有機薄膜を流れる電流が増加すること
がなく、有機薄膜に実効的に強電界を印加できる。この
ような絶縁層としては、SiO2 等の酸化物、SrTi
3 等の酸化物、強誘電体材料、有機高分子などが用い
られる。特に有機薄膜により電界を印加するためには、
比誘電率が10以上の絶縁材料、例えばSrTiO3
どの強誘電体を用いることが好ましい。
In the case where an electrode is formed on a substrate as in the organic thin film element shown in FIG. 17, examples of the material include metal, ITO, and organic conductive materials. In the case of an element to which a voltage is applied, if an insulating layer is provided on the electrode as shown in FIG. 17, a strong electric field can be effectively applied to the organic thin film. That is, in general, when the electric field applied to the organic thin film is increased, the current flowing through the organic thin film is greatly increased, which adversely affects the structure of the organic thin film. In contrast, if an insulating layer is provided between the electrode and the organic thin film, the current flowing through the organic thin film does not increase even if a strong electric field is applied, and the strong electric field is effectively applied to the organic thin film. it can. An oxide such as SiO 2 , SrTi
An oxide such as O 3 , a ferroelectric material, an organic polymer, or the like is used. In particular, in order to apply an electric field with an organic thin film,
It is preferable to use an insulating material having a relative dielectric constant of 10 or more, for example, a ferroelectric substance such as SrTiO 3 .

【0253】また、本発明において、有機薄膜を、ドナ
ー分子とアクセプター分子とが互いに分子面を対向させ
て積層された交互積層型電荷移動錯体で構成することも
できる。このような交互積層型電荷移動錯体の具体例を
例示すると、フェノチアジン−TCNQ、テトラジアミ
ノピレン−TCNQ、TTF−クロラニル、TTF−フ
ルオラニル、ジベンゼンTTF−TCNQ、ジエチルジ
メチルテトラセレナフルバレン−ジエチルTCNQ、テ
トラジアミノピレン−フルオラニル、TTF−ジクロロ
ジシアノベンゾキノン、ペリレン−テトラシアノエチレ
ン、ペリレン−TCNQ、TTF−ジニトロベンゼン、
ペリレン−クロラニル、ピレン−テトラシアノエチレ
ン、ピレン−クロラニル、アントラセン−クロラニル、
ヘキサメチルベンゼン−クロラニル、ナフタレン−テト
ラシアノエチレン、アントラセン−ピロメリット酸二無
水物、アントラセン−テトラシアノベンゼン、フェナン
トレン−ピロメリット酸二無水物などをはじめとする数
多くの錯体が挙げられる。
Further, in the present invention, the organic thin film may be composed of an alternately laminated charge transfer complex in which donor molecules and acceptor molecules are laminated with their molecular surfaces facing each other. Specific examples of such a layered charge transfer complex include phenothiazine-TCNQ, tetradiaminopyrene-TCNQ, TTF-chloranil, TTF-fluoranyl, dibenzene TTF-TCNQ, diethyldimethyltetraselenafulvalene-diethyl TCNQ, Diaminopyrene-fluoranyl, TTF-dichlorodicyanobenzoquinone, perylene-tetracyanoethylene, perylene-TCNQ, TTF-dinitrobenzene,
Perylene-chloranil, pyrene-tetracyanoethylene, pyrene-chloranil, anthracene-chloranil,
Numerous complexes including hexamethylbenzene-chloranil, naphthalene-tetracyanoethylene, anthracene-pyromellitic dianhydride, anthracene-tetracyanobenzene, phenanthrene-pyromellitic dianhydride and the like can be mentioned.

【0254】なお、このようにドナー分子及びアクセプ
ター分子の両者を含む有機薄膜の厚さが厚いと、膜内で
発生したキャリアが作る電界によって、膜に印加される
実効電界が減少する。しかし、膜厚がそのデバイ長(約
30nm)以下であれば、キャリアによって作られる電
界をスクリーニングすることができるようになる。しか
も、錯体がイオン性である場合には、膜厚を薄くするこ
とによって、錯体安定化エネルギーのうち、マーデルン
グエネルギー項の寄与が低減されて中性に転移する。こ
のため、錯体の電荷移動状態を転移の境界条件に近い中
性状態に設定することができる。したがって、低電界で
効率よく中性−イオン性転移を実現することができる。
When the thickness of the organic thin film containing both the donor molecule and the acceptor molecule is large, the effective electric field applied to the film is reduced by the electric field generated by the carriers generated in the film. However, if the film thickness is less than the Debye length (about 30 nm), it becomes possible to screen the electric field generated by the carriers. In addition, when the complex is ionic, the contribution of the Madelung energy term in the complex stabilization energy is reduced by making the film thickness thin, and the complex is transferred to neutral. For this reason, the charge transfer state of the complex can be set to a neutral state close to the transition boundary condition. Therefore, the neutral-ionic transition can be efficiently realized in a low electric field.

【0255】以下、本発明に係る有機薄膜素子の一例に
ついてその動作原理をより具体的に説明する。
Hereinafter, the operation principle of one example of the organic thin film device according to the present invention will be described more specifically.

【0256】(a)表示素子 表示素子は、基本的に、図17に示すような、透明基板
151上に、透明電極155、絶縁層156、配向制御
層152、有機薄膜153、絶縁層157及び背面電極
158が順次形成された構造を有する。この表示素子で
は、電極から有機薄膜に電界を印加することにより、有
機薄膜を構成する交互積層型電荷移動錯体が中性からイ
オン性へと転移し、光の吸収波長が変化するので、表示
機能を得ることができる。本発明では、配向制御層を設
けることにより、その上に形成される有機薄膜を構成す
る有機分子の配向性が良好となり、発光効率を向上でき
る。
(A) Display Element The display element basically includes a transparent electrode 155, an insulating layer 156, an orientation control layer 152, an organic thin film 153, an insulating layer 157, and a transparent substrate 151 as shown in FIG. It has a structure in which the back electrode 158 is sequentially formed. In this display element, an electric field is applied to the organic thin film from the electrodes, whereby the alternately layered charge-transfer complex constituting the organic thin film transitions from neutral to ionic, and the light absorption wavelength changes. Can be obtained. In the present invention, by providing the orientation control layer, the orientation of the organic molecules constituting the organic thin film formed thereon becomes good, and the luminous efficiency can be improved.

【0257】(b)電界効果トランジスタ(FET) 半導体基板表面に形成されたソース、ドレイン領域間の
チャネル領域上に、ゲート絶縁膜、配向制御層、有機薄
膜、ゲート電極を順次形成した基本構造を有する。この
FETでは、ゲート電圧を徐々に増加させると、ある電
圧値で有機薄膜を構成する交互積層型電荷移動錯体が中
性からイオン性へと転移してドレイン電流が急激に増加
するので、スイッチング機能を示す。本発明では、配向
制御層を設けることにより、その上に形成される有機薄
膜を構成する有機分子の配向性が良好となり、大きな出
力を得ることができる。
(B) Field Effect Transistor (FET) A basic structure in which a gate insulating film, an orientation control layer, an organic thin film, and a gate electrode are sequentially formed on a channel region between source and drain regions formed on the surface of a semiconductor substrate. Have. In this FET, when the gate voltage is gradually increased, the alternating stack type charge transfer complex that forms the organic thin film at a certain voltage transitions from neutral to ionic, and the drain current increases rapidly. Is shown. In the present invention, by providing the orientation control layer, the orientation of the organic molecules constituting the organic thin film formed thereon becomes good, and a large output can be obtained.

【0258】さらに、いずれの素子でも、図16に示す
構造を適用し複数の有機薄膜を積層して超格子構造にす
れば、多値の表示機能又はスイッチング機能を得ること
ができる。
Further, in any of the elements, if the structure shown in FIG. 16 is applied and a plurality of organic thin films are laminated to form a superlattice structure, a multi-value display function or a switching function can be obtained.

【0259】以下、本発明に係る有機薄膜素子を実施例
により具体的に説明する。
Hereinafter, the organic thin film device according to the present invention will be described in detail with reference to examples.

【0260】実施例2−1 Si基板151上に、真空蒸着法により、膜厚約50n
mのOXD−S4分子のアモルファス構造を有する分子
配向制御層152を形成した。その後、アントラセン分
子からなる有機薄膜153を、アントラセン結晶粉末を
10℃で、約1×10-9Torrの雰囲気で、10オン
グストローム/分の成長速度で、200オングストロー
ムの膜厚に形成し、図15に示すような構造を有する有
機薄膜素子を得た。
Example 2-1 On a Si substrate 151, a film thickness of about 50 n was formed by a vacuum evaporation method.
A molecular orientation control layer 152 having an amorphous structure of m OXD-S4 molecules was formed. Thereafter, an organic thin film 153 made of anthracene molecules is formed from an anthracene crystal powder at 10 ° C. in an atmosphere of about 1 × 10 −9 Torr at a growth rate of 10 Å / min to a thickness of 200 Å. An organic thin film element having the structure shown in FIG.

【0261】赤外分光法により、アントラセン薄膜の分
子配向を、その場評価した結果、アントラレンはその平
板状分子面を表面と平行に配向させて薄膜を形成してい
ることが分かった。
The molecular orientation of the anthracene thin film was evaluated in situ by infrared spectroscopy. As a result, it was found that anthralene formed a thin film by orienting its planar molecular plane parallel to the surface.

【0262】比較例2−1 Si基板151上に、真空蒸着法により、膜厚約50n
mのOXD−S4分子のアモルファス構造を有する分子
配向制御層152を形成した。その後、アントラセン分
子からなる有機薄膜153を、アントラセン結晶粉末を
50℃の温度に加熱しながら、約1×10-7Torrの
雰囲気で、1000オングストローム/分の成長速度
で、1000オングストロームの膜厚に形成し、図15
に示すような構造を有する有機薄膜素子を得た。
Comparative Example 2-1 A film thickness of about 50 n was formed on a Si substrate 151 by a vacuum evaporation method.
A molecular orientation control layer 152 having an amorphous structure of m OXD-S4 molecules was formed. Thereafter, the organic thin film 153 comprising anthracene molecules is grown to a thickness of 1000 Å at a growth rate of 1000 Å / min in an atmosphere of about 1 × 10 −7 Torr while heating the anthracene crystal powder to a temperature of 50 ° C. Forming, FIG.
An organic thin film element having the structure shown in FIG.

【0263】赤外分光法により、アントラセン薄膜の分
子配向をその場評価した結果、アントラセンは複数の結
晶配向で薄膜を形成していることが分かった。このよう
な結果から、この例では結晶構造制御がなされていない
ことが分かった。また、走査電子顕微鏡による表面構造
観察の結果、アントラセン薄膜は、多結晶粒構造を有す
ることが分かった。
In situ evaluation of the molecular orientation of the anthracene thin film by infrared spectroscopy revealed that anthracene formed a thin film with a plurality of crystal orientations. From these results, it was found that the crystal structure was not controlled in this example. Further, as a result of observing the surface structure with a scanning electron microscope, it was found that the anthracene thin film had a polycrystalline structure.

【0264】実施例2−2 Si基板151上に、真空蒸着法により膜厚約50nm
のOXD−S4分子のアモルファス構造を有する分子配
向制御層152を、約50nmの膜厚で形成した。その
後、TCNQ分子からなる有機薄膜153を、TCNQ
結晶粉末を60℃の温度に加熱しながら、約1×10-9
Torrの雰囲気で、10オングストローム/分の成長
速度で形成し、100オングストロームの膜厚に形成
し、図15に示すような構造を有する有機薄膜素子を得
た。
Example 2-2 A film thickness of about 50 nm was formed on a Si substrate 151 by a vacuum evaporation method.
The molecular orientation control layer 152 having an amorphous structure of OXD-S4 was formed to a thickness of about 50 nm. Thereafter, the organic thin film 153 made of TCNQ molecules is
While heating the crystal powder to a temperature of 60 ° C., about 1 × 10 −9
An organic thin film element having a structure as shown in FIG. 15 was formed in a Torr atmosphere at a growth rate of 10 angstroms / min to a thickness of 100 angstroms.

【0265】赤外分光法により、TCNQ薄膜の分子配
向をその場評価した結果、TCNQはその平板状分子面
を表面と平行に配向させて薄膜を形成していることが分
かった。
In-situ evaluation of the molecular orientation of the TCNQ thin film by infrared spectroscopy revealed that the TCNQ formed a thin film with its planar molecular plane oriented parallel to the surface.

【0266】実施例2−3 Si基板151上に、真空蒸着法により、膜厚約50n
mのOXD−S4分子のアモルファス構造を有する分子
配向制御層152を形成した。その後、電荷移動錯体T
TF−クロラニルからなる有機薄膜153を、TTF−
クロラニル結晶粉末を50℃の温度に加熱しながら、約
1×10-9Torrの雰囲気で、20オングストローム
/分の成長速度で、約100オングストロームの膜厚に
形成し、図15に示すような構造を有する有機薄膜素子
を得た。
Example 2-3 A film thickness of about 50 n was formed on a Si substrate 151 by a vacuum evaporation method.
A molecular orientation control layer 152 having an amorphous structure of m OXD-S4 molecules was formed. Then, the charge transfer complex T
The organic thin film 153 made of TF-chloranil was
While heating the chloranil crystal powder to a temperature of 50 ° C., it is formed at a growth rate of 20 Å / min in an atmosphere of about 1 × 10 −9 Torr to a film thickness of about 100 Å, and a structure as shown in FIG. Was obtained.

【0267】赤外分光法により、錯体薄膜の分子配向を
評価した結果、TTF、クロラニル共に、その平板状分
子面を表面と平行に配向させて結晶性錯体薄膜を形成し
ていることが分かった。
The molecular orientation of the complex thin film was evaluated by infrared spectroscopy. As a result, it was found that both TTF and chloranil formed a crystalline complex thin film with their planar molecular faces oriented parallel to the surface. .

【0268】実施例2−4 ガラス基板151上に、真空蒸着法により、膜厚約50
nmのOXD−S8分子のアモルファス構造を有する分
子配向制御層152を形成した。その後、TCNQ分子
からなる有機薄膜153を、10オングストローム/分
の成長速度で、TCNQ結晶粉末を60℃の温度に加熱
しながら、約1×10-9Torrの雰囲気で、100オ
ングストロームの膜厚に形成した。
Example 2-4 A film having a thickness of about 50 was formed on a glass substrate 151 by vacuum evaporation.
A molecular orientation control layer 152 having an amorphous structure of OXD-S8 molecules of nm was formed. Thereafter, the organic thin film 153 made of TCNQ molecules is heated to a temperature of 60 ° C. at a growth rate of 10 Å / min to a thickness of 100 Å in an atmosphere of about 1 × 10 −9 Torr. Formed.

【0269】赤外分光法によりTCNQ薄膜の分子配向
を評価した結果、TCNQはその平板状分子面を表面と
平行に配向させて薄膜を形成していることが分かった。
As a result of evaluating the molecular orientation of the TCNQ thin film by infrared spectroscopy, it was found that the TCNQ formed a thin film with its planar molecular plane oriented parallel to the surface.

【0270】実施例2−5 Si基板151上に、真空蒸着法により、膜厚約50n
mのTCTA分子のアモルファス構造を有する分子配向
制御層152を形成した。その後、電荷移動錯体TTF
−クロラニルからなる有機薄膜153を、TTF−クロ
ラニル結晶粉末を50℃の温度に加熱しながら、約1×
10-9Torrの雰囲気で、20オングストローム/分
の成長速度で約100オングストローム形成した。
Example 2-5 A film having a thickness of about 50 n was formed on a Si substrate 151 by a vacuum evaporation method.
A molecular orientation control layer 152 having an amorphous structure of m TCTA molecules was formed. Then, the charge transfer complex TTF
The organic thin film 153 made of chloranil is heated to about 1 × while heating the TTF-chloranil crystal powder to a temperature of 50 ° C.
Approximately 100 Å was formed at a growth rate of 20 Å / min in an atmosphere of 10 −9 Torr.

【0271】赤外分光法により、錯体薄膜の分子配向を
評価した結果、TTF、クロラニル共にその平板状分子
面を表面と平行に配向させて薄膜を形成していることが
分かった。
The molecular orientation of the complex thin film was evaluated by infrared spectroscopy. As a result, it was found that both TTF and chloranil formed thin films with their flat molecular surfaces oriented parallel to the surface.

【0272】実施例2−6 Si基板1上に、真空蒸着法により、膜厚約50nmの
ポリスチレンのアモルファス構造を有する分子配向制御
層152を形成した。その後、TCNQ分子からなる有
機薄膜153を、10オングストローム/分の成長速度
で、TCNQ結晶粉末を60℃の温度に加熱しながら、
約1×10-9Torrの雰囲気で、100オングストロ
ーム形成した。赤外分光法によりTCNQ薄膜の分子配
向を評価した結果、TCNQはその平板状分子面を表面
と平行に配向させて薄膜を形成していることが分かっ
た。
Example 2-6 A molecular orientation control layer 152 having a polystyrene amorphous structure with a thickness of about 50 nm was formed on a Si substrate 1 by vacuum evaporation. Thereafter, the TCNQ crystal powder is heated to a temperature of 60 ° C. at a growth rate of 10 Å / min.
In an atmosphere of about 1 × 10 −9 Torr, 100 Å was formed. The molecular orientation of the TCNQ thin film was evaluated by infrared spectroscopy. As a result, it was found that the TCNQ formed a thin film with its planar molecular plane oriented parallel to the surface.

【0273】実施例2−7 Si基板151上に、真空蒸着法により、膜厚約50n
mのポリメチルフェニルシランのアモルファス構造を有
する分子配向制御層152を形成した。その後、TCN
Q分子からなる有機薄膜153を、TCNQ結晶粉末を
60℃の温度に加熱しながら、約1×10-9Torrの
雰囲気で、10オングストローム/分の成長速度で10
0オングストロームの膜厚に形成し、図15に示すよう
な構造を有する有機薄膜素子を得た。
Example 2-7 A film thickness of about 50 n was formed on a Si substrate 151 by a vacuum evaporation method.
A molecular orientation control layer 152 having an amorphous structure of polymethylphenylsilane of m was formed. Then, TCN
The organic thin film 153 composed of Q molecules is heated at a growth rate of 10 Å / min in an atmosphere of about 1 × 10 −9 Torr while heating the TCNQ crystal powder to a temperature of 60 ° C.
An organic thin film element formed to a thickness of 0 Å and having a structure as shown in FIG. 15 was obtained.

【0274】赤外分光法によりTCNQ薄膜の分子配向
を評価した結果、TCNQはその平板状分子面を表面と
平行に配向させて薄膜を形成していることが分かった。
As a result of evaluating the molecular orientation of the TCNQ thin film by infrared spectroscopy, it was found that the TCNQ formed a thin film with its planar molecular plane oriented parallel to the surface.

【0275】実施例2−8 Si基板151上に、LB法により、両親媒性のフェノ
ール基置換ポリシラン(メチル(m−ヒドロキシフェニ
ル)ポリシラン)からなる分子配向制御層152(ポリ
シラン主鎖は基板に平行配向)を形成した。その後、T
CNQ分子からなる有機薄膜153を、TCNQ結晶粉
末を60℃の温度に加熱しながら、約1×10-9Tor
rの雰囲気で、10オングストローム/分の成長速度
で、100オングストロームの膜厚に形成し、図15に
示すような構造を有する有機薄膜素子を得た。
Example 2-8 On a Si substrate 151, a molecular orientation control layer 152 made of amphiphilic phenol-substituted polysilane (methyl (m-hydroxyphenyl) polysilane) (the main chain of the polysilane was (Parallel orientation). Then, T
The organic thin film 153 made of CNQ molecules is heated to about 1 × 10 −9 Torr while heating the TCNQ crystal powder to a temperature of 60 ° C.
An organic thin-film element having a thickness of 100 Å was formed at a growth rate of 10 Å / min in an atmosphere of r to obtain an organic thin-film element having a structure as shown in FIG.

【0276】赤外分光法によりTCNQ薄膜の分子配向
を評価した結果、TCNQはその平板状分子面を表面と
平行に配向させて薄膜を形成していることが分かった。
As a result of evaluating the molecular orientation of the TCNQ thin film by infrared spectroscopy, it was found that the TCNQ formed a thin film with its planar molecular plane oriented parallel to the surface.

【0277】実施例2−9 ITO基板151上に、電解重合法により、ClO4 -
をドーパントイオンとする膜厚約50nmのポリピロー
ルのアモルファス構造を有する分子配向制御層152を
形成した。その後、TCNQ分子からなる有機薄膜15
3を、TCNQ結晶粉末を60℃の温度に加熱しなが
ら、約1×10-9Torrの雰囲気で、10オングスト
ローム/分の成長速度で、100オングストロームの膜
厚に形成した。
Example 2-9 ClO 4 was formed on an ITO substrate 151 by electrolytic polymerization.
A molecular orientation control layer 152 having an amorphous structure of polypyrrole and having a film thickness of about 50 nm using as a dopant ion was formed. Thereafter, an organic thin film 15 made of TCNQ molecules is used.
3 was formed in a thickness of 100 Å at a growth rate of 10 Å / min in an atmosphere of about 1 × 10 −9 Torr while heating the TCNQ crystal powder to a temperature of 60 ° C.

【0278】赤外分光法により、TCNQ薄膜の分子配
向を評価した結果、TCNQはその平板状分子面を表面
と平行に配向させて薄膜を形成していることが分かっ
た。
The molecular orientation of the TCNQ thin film was evaluated by infrared spectroscopy. As a result, it was found that the TCNQ formed a thin film with its planar molecular plane oriented parallel to the surface.

【0279】実施例2−10 ガラス基板上に、真空蒸着法により、膜厚約50nmの
OXD−S8分子のアモルファス構造を有する分子配向
制御層152を形成した。その後、TCNQ分子からな
る有機薄膜153を、TCNQ結晶粉末を60℃の温度
に加熱しながら、約1×10-9Torrの雰囲気で、1
0オングストローム/分の成長速度で100オングスト
ローム形成した。
Example 2-10 A molecular orientation control layer 152 having an amorphous structure of OXD-S8 molecules having a thickness of about 50 nm was formed on a glass substrate by a vacuum evaporation method. Then, while heating the TCNQ crystal powder to a temperature of 60 ° C. in an atmosphere of about 1 × 10 −9 Torr, the organic thin film 153 made of TCNQ molecules is heated to 1 × 10 −9 Torr.
100 Å was formed at a growth rate of 0 Å / min.

【0280】さらに、再度、真空蒸着法により、膜厚約
50nmのOXD−S8分子のアモルファス構造を有す
る分子配向制御層152を同様にして形成した。その
後、ペリレン分子からなる有機薄膜154を、ペリレン
結晶粉末を100℃の温度に加熱しながら、約1×10
-9Torrの雰囲気で、5オングストローム/分の成長
速度で50オングストローム形成し、図16に示すよう
な構造を有する有機薄膜素子を得た。
Further, a molecular orientation control layer 152 having an amorphous structure of OXD-S8 molecules having a film thickness of about 50 nm was formed in the same manner again by the vacuum evaporation method. Thereafter, the organic thin film 154 made of perylene molecules is heated to about 1 × 10
In an atmosphere of -9 Torr, 50 Å was formed at a growth rate of 5 Å / min to obtain an organic thin film device having a structure as shown in FIG.

【0281】赤外分光法によりTCNQ薄膜ならびにペ
リレン薄膜の分子配向を評価した結果、夫々の分子はそ
の平板状分子面を表面と平行に配向させて薄膜を形成し
ていることが分かった。
The molecular orientation of the TCNQ thin film and the perylene thin film was evaluated by infrared spectroscopy. As a result, it was found that each molecule formed a thin film by orienting its planar molecular plane parallel to the surface.

【0282】実施例2−11 石英基板151上に、膜厚400nmのITO透明電極
155および膜厚150nmのSrTiO3 からなる絶
縁層156を形成した。
Example 2-11 On a quartz substrate 151, an ITO transparent electrode 155 having a thickness of 400 nm and an insulating layer 156 made of SrTiO 3 having a thickness of 150 nm were formed.

【0283】この上に、真空蒸着法により、膜厚約50
nmのTCTA分子のアモルファス構造を有する分子配
向制御層152を形成した。
On top of this, a film thickness of about 50 was formed by vacuum evaporation.
A molecular orientation control layer 152 having an amorphous structure of TCTA molecules of nm was formed.

【0284】その後、電荷移動錯体TTF−クロラニル
からなる有機薄膜153を、TTF−クロラニル結晶粉
末を50℃の温度に加熱しながら、約1×10-9Tor
rの雰囲気で、20オングストローム/分の成長速度
で、約100オングストローム形成した。
Thereafter, the organic thin film 153 comprising the charge transfer complex TTF-chloranil was heated to about 1 × 10 −9 Torr while heating the TTF-chloranil crystal powder to a temperature of 50 ° C.
In an atmosphere of r, about 100 angstroms were formed at a growth rate of 20 angstroms / min.

【0285】赤外分光法により、TTF−クロラニル薄
膜の分子配向をその場評価した結果、TTF−クロラニ
ルはその平板状分子面を表面と平行に配向させて薄膜を
形成していることが分かった。
In situ evaluation of the molecular orientation of the TTF-chloranil thin film by infrared spectroscopy revealed that TTF-chloranil formed a thin film with its tabular molecular plane oriented parallel to the surface. .

【0286】さらに、膜厚20nmのポリイソブチルメ
タクリレートからなる絶縁層157、および膜厚20n
mのAu半透明電極158を形成して、図17に示すよ
うな表示機能を有する有機薄膜素子を作成した。
Further, an insulating layer 157 made of polyisobutyl methacrylate having a thickness of 20 nm,
An m thin Au translucent electrode 158 was formed, and an organic thin film element having a display function as shown in FIG. 17 was produced.

【0287】この表示素子は、電圧を印加しない状態で
はうすい黄色を呈するが、電圧を印加すると約50Vで
赤色に変化した。
This display element exhibited a pale yellow color when no voltage was applied, but turned red at about 50 V when a voltage was applied.

【0288】実施例2−12 実施例2−1と同様にして、石英基板151上に、真空
蒸着法により膜厚約50nmのOXD−S4分子のアモ
ルファス構造を有する分子配向制御層152を形成した
後、アントラセン分子からなる有機薄膜153を、2オ
ングストローム/分の成長速度で、10オングストロー
ムの膜厚に形成し、図15に示す構造を有する有機薄膜
素子を得た。
Example 2-12 In the same manner as in Example 2-1, a molecular orientation control layer 152 having an amorphous structure of OXD-S4 molecules having a thickness of about 50 nm was formed on a quartz substrate 151 by a vacuum evaporation method. Thereafter, an organic thin film 153 made of anthracene molecules was formed at a growth rate of 2 angstroms / min to a thickness of 10 angstroms to obtain an organic thin film element having a structure shown in FIG.

【0289】赤外分光法により、アントラセン薄膜の分
子配向をその場評価した結果、アントラセンは、その平
板状分子面を表面と平行に配向させて薄膜を形成してい
ることが分かった。
The molecular orientation of the anthracene thin film was evaluated in situ by infrared spectroscopy. As a result, it was found that the anthracene thin film was formed by orienting its planar molecular plane parallel to the surface.

【0290】また、低速電子回折法により結晶性を評価
した結果、2次元の結晶格子を組んでいることが分かっ
た。この薄膜を液体He温度にまで冷却して、非線形分
光法により3次非線形感受率χ(3) を評価したところ1
-5esuと大きな値を得た。この値により、この薄膜
は制御光と信号光の2本のレーザー光を当てて光双安定
性を調べたところ、光入力−光出力曲線にヒステリシス
が認められ、スイッチオン/オフ時間は1ピコ秒のオー
ダーであることが分かった。
Further, as a result of evaluating the crystallinity by the low-speed electron diffraction method, it was found that a two-dimensional crystal lattice was formed. This thin film was cooled to the liquid He temperature, and the third-order nonlinear susceptibility χ (3) was evaluated by nonlinear spectroscopy.
A large value of 0 -5 esu was obtained. According to this value, the thin film was examined for optical bistability by applying two laser beams of control light and signal light. As a result, hysteresis was observed in the optical input-optical output curve, and the switch on / off time was 1 picosecond. It turned out to be on the order of seconds.

【0291】実施例2−13 図18に、本発明にかかるn−チャネル型の電界効果型
トランジスタ(FET)の構成の一例を表わす概略図を
示す。
Embodiment 2-13 FIG. 18 is a schematic diagram showing an example of a configuration of an n-channel type field effect transistor (FET) according to the present invention.

【0292】Si基板上のソース、ドレイン領域間のチ
ャネル領域にSiO2 絶縁膜が形成され、SiO2 絶縁
膜上にソース・ドレイン電極52及び53が形成され、
Si基板上に、ゲート電極51が設けられた基板41を
用意した。真空蒸着法により、SiO2 絶縁膜上に膜厚
約50nmのOXD−S4分子のアモルファス構造を有
する分子配向制御層152を形成した。その後、C60
らなる有機薄膜153を、C60を300℃の温度に加熱
しながら、約1×10-9Torrの雰囲気で、20オン
グストローム/分の成長速度で、200オングストロー
ムの膜厚に形成し、図18に示すような、n−チャネル
型の電界効果型トランジスタ(FET)を形成した。
An SiO 2 insulating film is formed in the channel region between the source and drain regions on the Si substrate, and source / drain electrodes 52 and 53 are formed on the SiO 2 insulating film.
A substrate 41 provided with a gate electrode 51 on a Si substrate was prepared. A molecular orientation control layer 152 having an amorphous structure of OXD-S4 molecules having a thickness of about 50 nm was formed on the SiO 2 insulating film by a vacuum evaporation method. Thereafter, an organic thin film 153 consisting of C 60, while heating the C 60 to a temperature of 300 ° C., in an atmosphere of about 1 × 10 -9 Torr, to of 20 Å / min growth rate, film thickness of 200 Angstroms Then, an n-channel type field effect transistor (FET) as shown in FIG. 18 was formed.

【0293】このFETの電界効果移動度を評価した結
果、0.15cm2 /V・秒という値を得た。
As a result of evaluating the field-effect mobility of this FET, a value of 0.15 cm 2 / V · sec was obtained.

【0294】実施例2−14 図19に、本発明にかかる光ダイオードの構成の一例を
表わす図を示す。
Embodiment 2-14 FIG. 19 is a diagram showing an example of the structure of a photodiode according to the present invention.

【0295】ITO基板151上に、真空蒸着法によ
り、膜厚約50nmのOXD−S4分子のアモルファス
構造を有する分子配向制御層152を形成した。その
後、銅フタロシアニン分子からなる有機薄膜153を、
同フタロシアニン粉末を330℃の温度に加熱しなが
ら、約1×10-9Torrの雰囲気で、50オングスト
ローム/分の成長速度で200オングストロームの膜厚
に形成した。
A molecular orientation control layer 152 having an amorphous structure of OXD-S4 molecules having a thickness of about 50 nm was formed on the ITO substrate 151 by a vacuum evaporation method. Then, an organic thin film 153 composed of copper phthalocyanine molecules is
The phthalocyanine powder was formed at a growth rate of 50 angstroms / min in an atmosphere of about 1 × 10 −9 Torr to a thickness of 200 angstroms while being heated to a temperature of 330 ° C.

【0296】赤外分光法により、薄膜の分子配向を、そ
の場評価した結果、TCNQはその平板状分子面を表面
と平行に配向させて薄膜を形成していることが分かっ
た。
As a result of in-situ evaluation of the molecular orientation of the thin film by infrared spectroscopy, it was found that TCNQ formed a thin film with its planar molecular plane oriented parallel to the surface.

【0297】この薄膜上に、上部電極を形成することに
より、図19に示す様な光ダイオード素子を形成した。
この素子に500nmの光を照射したところ、外部量子
効率30%で光電流を得た。
By forming an upper electrode on this thin film, a photodiode element as shown in FIG. 19 was formed.
When this device was irradiated with light of 500 nm, a photocurrent was obtained with an external quantum efficiency of 30%.

【0298】以上、実施例2−1ないし2−14から明
らかなように、本発明の有機薄膜素子では、有機薄膜中
の有機分子の配向制御性が格段に良好となる。例えば電
荷移動錯体有機薄膜の中性−イオン性転移を電圧で制御
する素子を、表示素子に適したガラス/ITO基板上に
形成することができ、相転移を効率よく起こすことが可
能となる。このように、最適な分子配向あるいは結晶配
向を制御しつつ任意の基板上に有機薄膜を形成すること
が可能となり、電子素子、表示素子、光情報記録媒体、
非線形光学素子などの実用化が期待できる。従って、本
発明の有機薄膜素子は、その工業的な価値がきわめて大
きい。
As is clear from Examples 2-1 to 2-14, in the organic thin film device of the present invention, the controllability of the orientation of the organic molecules in the organic thin film is remarkably improved. For example, an element for controlling the neutral-ionic transition of the charge transfer complex organic thin film by voltage can be formed on a glass / ITO substrate suitable for a display element, and the phase transition can be efficiently caused. As described above, it is possible to form an organic thin film on an arbitrary substrate while controlling the optimal molecular orientation or crystal orientation, so that an electronic element, a display element, an optical information recording medium,
Practical application of nonlinear optical elements can be expected. Therefore, the organic thin film element of the present invention has an extremely large industrial value.

【0299】次に、ステロイド系骨格を有する分子から
なるアモルファス有機薄膜を用いた例を示す。
Next, an example using an amorphous organic thin film made of a molecule having a steroid skeleton will be described.

【0300】実施例2−15 OXD−S4分子のアモルファス構造を有する分子配向
制御層の代わりに、コール酸のアモルファス構造を有す
る分子配向制御層を形成する以外は、実施例2−2と同
様にして有機薄膜素子を得たところ、さらによい評価が
得られた。
Example 2-15 Except that a molecular orientation control layer having an amorphous structure of cholic acid was formed instead of the molecular orientation control layer having an amorphous structure of OXD-S4 molecules, the same procedure as in Example 2-2 was carried out. When an organic thin film element was obtained by the above method, a better evaluation was obtained.

【0301】実施例2−16 OXD−S4分子のアモルファス構造を有する分子配向
制御層の代わりに、コール酸のアモルファス構造を有す
る分子配向制御層を用いる以外は、実施例2−3と同様
にして有機薄膜素子を得たところ、さらによい評価が得
られた。
Example 2-16 The procedure of Example 2-3 was repeated, except that a molecular orientation control layer having an amorphous structure of cholic acid was used instead of the molecular orientation control layer having an amorphous structure of OXD-S4 molecules. When an organic thin film element was obtained, a better evaluation was obtained.

【0302】実施例2−17 OXD−S8分子のアモルファス構造を有する分子配向
制御層の代わりに、コール酸メチルのアモルファス構造
を有する分子配向制御層を形成する以外は、実施例2−
3と同様にして有機薄膜素子を得たところ、さらによい
評価が得られた。
Example 2-17 Example 2-17 was repeated except that a molecular orientation control layer having an amorphous structure of methyl cholate was formed instead of the molecular orientation control layer having an amorphous structure of OXD-S8 molecule.
When an organic thin-film element was obtained in the same manner as in No. 3, a better evaluation was obtained.

【0303】実施例2−18 電解重合法により、ClO4 - をドーパントイオンとす
る膜厚約50nmのポリピロールのアモルファス構造を
有する分子配向制御層を形成する代わりに、蒸着法によ
り、コール酸のアモルファス構造を有する分子配向制御
層を形成する以外は、実施例2−9と同様にして有機薄
膜素子を得たところ、さらによい評価が得られた。
Example 2-18 Instead of forming a molecular orientation control layer having a polypyrrole amorphous structure with a film thickness of about 50 nm using ClO 4 as a dopant ion by electrolytic polymerization, amorphous cholic acid was formed by vapor deposition. An organic thin film device was obtained in the same manner as in Example 2-9, except that a molecular orientation control layer having a structure was formed. As a result, even better evaluation was obtained.

【0304】実施例2−19 OXD−S8分子のアモルファス構造を有する分子配向
制御層の代わりに、コール酸のアモルファス構造を有す
る分子配向制御層を形成する以外は、実施例2−10と
同様にして有機薄膜素子を得たところ、さらによい評価
が得られた。
Example 2-19 The procedure of Example 2-10 was repeated, except that a molecular orientation control layer having an amorphous structure of cholic acid was formed instead of the molecular orientation control layer having an amorphous structure of OXD-S8 molecule. When an organic thin film element was obtained by the above method, a better evaluation was obtained.

【0305】実施例2−20 TCTA分子のアモルファス構造を有する分子配向制御
層の代わりに、コール酸のアモルファス構造を有する分
子配向制御層を形成して有機薄膜素子を得、さらに、膜
厚20nmのポリイソブチルメタクリレートからなる絶
縁層の代わりに、膜厚50nmのコール酸からなる層と
膜厚20nmのポリイソブチルメタクリレートからなる
絶縁層とを形成する以外は、実施例2−11と同様にし
て表示機能を有する有機薄膜素子を得たところ、さらに
よい評価が得られた。
Example 2-20 Instead of the molecular orientation control layer having an amorphous structure of TCTA molecules, a molecular orientation control layer having an amorphous structure of cholic acid was formed to obtain an organic thin film element. In the same manner as in Example 2-11, except that an insulating layer made of cholic acid having a thickness of 50 nm and an insulating layer made of polyisobutyl methacrylate having a thickness of 20 nm were formed instead of the insulating layer made of polyisobutyl methacrylate, An organic thin-film element having the following was obtained, and a better evaluation was obtained.

【0306】実施例2−21 OXD−S4分子のアモルファス構造を有する分子配向
制御層の代わりに、コール酸のアモルファス構造を有す
る分子配向制御層を形成する以外は、実施例2−12と
同様にして有機薄膜素子を得たところ、さらによい評価
が得られた。
Example 2-21 The procedure of Example 2-12 was repeated, except that a molecular orientation control layer having an amorphous structure of cholic acid was formed instead of the molecular orientation control layer having an amorphous structure of OXD-S4 molecules. When an organic thin film element was obtained by the above method, a better evaluation was obtained.

【0307】実施例2−22 OXD−S4分子のアモルファス構造を有する分子配向
制御層の代わりに、コール酸のアモルファス構造を有す
る分子配向制御層を形成する以外は、実施例2−13と
同様にしてn−チャネル型の電界効果型トランジスタを
得たところ、さらによい評価が得られた。
Example 2-22 The procedure of Example 2-13 was repeated, except that a molecular orientation control layer having an amorphous structure of cholic acid was formed instead of the molecular orientation control layer having an amorphous structure of OXD-S4 molecules. When an n-channel field-effect transistor was obtained, better evaluation was obtained.

【0308】実施例2−23 OXD−S4分子のアモルファス構造を有する分子配向
制御層の代わりに、コール酸のアモルファス構造を有す
る分子配向制御層を形成する以外は、実施例2−14と
同様にして光ダイオードを得たところ、さらによい評価
が得られた。
Example 2-23 The procedure of Example 2-14 was repeated, except that a molecular orientation control layer having an amorphous structure of cholic acid was formed instead of the molecular orientation control layer having an amorphous structure of OXD-S4 molecules. As a result, a better evaluation was obtained.

【0309】[0309]

【発明の効果】本発明によれば、光制御素子に、光制御
層が相転移を生じるのに必要な強度未満の電界を形成す
ることにより、高い3次非線形感受率と高速な応答速度
とを同時に実現することが可能となる。また、これによ
り、超高速光スイッチング素子等の光変調、光論理素子
等の実現が可能になるとともに、素子の微細化が可能と
なり、さらには、2次元並列処理機能を有する光論理素
子や、光コンピュータ等の構築が可能となる。
According to the present invention, a high third-order non-linear susceptibility, a high response speed, and a high-order nonlinear susceptibility can be obtained by forming an electric field in the light control element having an intensity smaller than that required for the light control layer to undergo phase transition. Can be realized at the same time. In addition, this makes it possible to realize an optical modulation element such as an ultra-high-speed optical switching element, an optical logic element, and the like, and also allows the element to be miniaturized. Further, an optical logic element having a two-dimensional parallel processing function, An optical computer or the like can be constructed.

【0310】また、本発明によれば、基板本体の材質・
形状にかかわらず、有機薄膜の構造ならびに分子配向性
を制御可能であり、光学素子、電子素子などとして実用
的に使用し得る有機薄膜素子が得られる。
Further, according to the present invention, the material and
Regardless of the shape, the structure and molecular orientation of the organic thin film can be controlled, and an organic thin film element that can be practically used as an optical element, an electronic element, or the like can be obtained.

【0311】[0311]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【0312】[0312]

【図1】 本発明の光制御素子の一例を表す断面図FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an example of a light control element of the present invention.

【0313】[0313]

【図2】 電場の印加による結晶のNI転移を示す図FIG. 2 is a diagram showing NI transition of a crystal due to application of an electric field.

【0314】[0314]

【図3】 NI転移における電界強度と3次非線形感受
率χ(3) との関係を表すグラフ図
FIG. 3 is a graph showing the relationship between the electric field strength and the third-order nonlinear susceptibility χ (3) in the NI transition.

【0315】[0315]

【図4】 本発明に係る光双安定性素子における入力光
強度と出力光強度との関係を表すグラフ図
FIG. 4 is a graph showing a relationship between input light intensity and output light intensity in the optical bistable element according to the present invention.

【0316】[0316]

【図5】 本発明の光制御素子の他の一例を表す一断面
FIG. 5 is a sectional view showing another example of the light control element of the present invention.

【0317】[0317]

【図6】 本発明の光制御素子を用いた光シャッタの構
成を表す図
FIG. 6 is a diagram illustrating a configuration of an optical shutter using the light control element of the present invention.

【0318】[0318]

【図7】 本発明の光制御素子を用いたマッハ・ツェン
ダー干渉計型導波路素子の原理を説明するための図
FIG. 7 is a diagram for explaining the principle of a Mach-Zehnder interferometer type waveguide device using the light control device of the present invention.

【0319】[0319]

【図8】 本発明の光制御素子を用いた方向性結合器型
導波路素子の原理を説明するための図
FIG. 8 is a view for explaining the principle of a directional coupler type waveguide element using the light control element of the present invention.

【0320】[0320]

【図9】 本発明の光制御素子を用いたエタロンの原理
を説明するための図
FIG. 9 is a view for explaining the principle of an etalon using the light control element of the present invention.

【0321】[0321]

【図10】 本発明の実施例1に係る光制御素子におけ
る入射光強度と出力光強度との関係を表すグラフ図
FIG. 10 is a graph showing a relationship between an incident light intensity and an output light intensity in the light control element according to the first embodiment of the present invention.

【0322】[0322]

【図11】 実施例6の光制御素子を示す概略断面図FIG. 11 is a schematic sectional view showing a light control element according to a sixth embodiment.

【0323】[0323]

【図12】 実施例7の光制御素子を示す概略断面図FIG. 12 is a schematic cross-sectional view illustrating a light control element according to a seventh embodiment.

【0324】[0324]

【図13】 実施例8の方向性結合型導波路素子を表す
概略図
FIG. 13 is a schematic view illustrating a directional coupling type waveguide element according to an eighth embodiment.

【0325】[0325]

【図14】 実施例9のマッハ・ツェンダー型導波路素
子を表す概略図
FIG. 14 is a schematic diagram illustrating a Mach-Zehnder waveguide device according to a ninth embodiment.

【0326】[0326]

【図15】 本発明の有機薄膜素子の構造の一例を表わ
す該略図
FIG. 15 is a schematic view showing an example of the structure of the organic thin film element of the present invention.

【0327】[0327]

【図16】 本発明の有機薄膜素子の構造の他の一例を
表わす該略図
FIG. 16 is a schematic view showing another example of the structure of the organic thin film element of the present invention.

【0328】[0328]

【図17】 本発明の有機薄膜素子の構造のさらに他の
一例を表わす該略図
FIG. 17 is a schematic view showing still another example of the structure of the organic thin film element of the present invention.

【0329】[0329]

【図18】 本発明の有機薄膜素子の構造のさらにまた
他の一例を表わす該略図
FIG. 18 is a schematic view showing still another example of the structure of the organic thin film element of the present invention.

【0330】[0330]

【図19】 本発明の有機薄膜素子の構造の別の一例を
表わす該略図
FIG. 19 is a schematic view showing another example of the structure of the organic thin film element of the present invention.

【0331】[0331]

【符合の説明】[Description of sign]

2…電極層 3…第1の絶縁体層 4,114,134,135…光制御層 5…第2の絶縁体層 6…第2の電極層 7,117,152…分子配向制御層 41…基板 51…ゲート電極 52…ソース電極 53…ドレイン電極 61,62…偏光子 63…光カー・セル 64…光シャッタ 66…制御光 67,76,84…出力光 71,72,73,83,92…信号光 74,75,143,144…ブランチ 81,82,132,133…アーム 91…エタロン 111,131,141,151…石英基板 112,116…電極層 113,115,156,157…絶縁体層 118,119…プリズム 128,129…グレーティング 134,135…光制御素子 136,148…方向性結合器型導波路素子 137…入力部 138…出力部 142,145…導波路 146,147…光制御素子 154…有機薄膜 155…透明電極 158…半透明電極 2 ... electrode layer 3 ... first insulator layer 4, 114, 134, 135 ... light control layer 5 ... second insulator layer 6 ... second electrode layer 7, 117, 152 ... molecular orientation control layer 41 ... Substrate 51 ... Gate electrode 52 ... Source electrode 53 ... Drain electrode 61,62 ... Polarizer 63 ... Optical Kerr cell 64 ... Optical shutter 66 ... Control light 67,76,84 ... Output light 71,72,73,83,92 ... Signal light 74, 75, 143, 144 ... Branch 81, 82, 132, 133 ... Arm 91 ... Etalon 111, 131, 141, 151 ... Quartz substrate 112, 116 ... Electrode layer 113, 115, 156, 157 ... Insulator Layers 118, 119 Prisms 128, 129 Gratings 134, 135 Optical control elements 136, 148 Directional coupler type waveguide element 137 Input section 138 Output 142 and 145 ... guide 146, 147 ... optical control device 154 ... organic thin film 155 ... transparent electrode 158 ... semi-transparent electrode

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板と、前記基板上に形成された第1の
電極層と、前記第1の電極層上に形成された第1の絶縁
体層と、前記第1の絶縁体層上に形成された電子供与性
有機化合物と電子受容性有機化合物とを含む光制御層
と、前記光制御層上に形成された第2の絶縁体層と、前
記第2の絶縁体層上に形成された第2の電極層と、前記
光制御層に、前記光制御層が相転移を起こすのに必要な
強度未満の外部電場を印加する手段とを具備し、前記強
度未満の外部電場の印加により電荷移動励起子を誘起す
ることを特徴とする光制御素子。
A first electrode layer formed on the substrate; a first insulator layer formed on the first electrode layer; and a first electrode layer formed on the first electrode layer. A light control layer including the formed electron donating organic compound and the electron accepting organic compound, a second insulator layer formed on the light control layer, and a light control layer formed on the second insulator layer. A second electrode layer, and means for applying, to the light control layer, an external electric field having a strength less than that required for the light control layer to undergo a phase transition. An optical control element for inducing charge transfer excitons.
【請求項2】 前記光制御層に、信号光が入射されるこ
とを特徴とする請求項1に記載の光制御素子。
2. The light control device according to claim 1, wherein a signal light is incident on the light control layer.
【請求項3】 前記信号光の出力強度を制御するための
制御光を前記光制御層に照射する制御光照射手段をさら
に具備することを特徴とする請求項2に記載の光制御素
子。
3. The light control element according to claim 2, further comprising control light irradiation means for irradiating the light control layer with control light for controlling the output intensity of the signal light.
【請求項4】 前記光制御層は、前記電子供与性有機化
合物と電子受容性有機化合物とが交互に積層された交互
積層型電荷移動錯体結晶から実質的になり、所定の電場
の印加により中性−イオン性相転移が生じることを特徴
とする請求項1に記載の光制御素子。
4. The light control layer is substantially composed of an alternately stacked charge transfer complex crystal in which the electron donating organic compound and the electron accepting organic compound are alternately stacked, and is formed by applying a predetermined electric field. The light control element according to claim 1, wherein a ionic-ionic phase transition occurs.
【請求項5】 前記第1及び第2の絶縁体層の少なくと
も一方が光透過性を有することを特徴とする請求項1に
記載の光制御素子。
5. The light control device according to claim 1, wherein at least one of the first and second insulator layers has light transmittance.
【請求項6】 前記基板の主面と平行な方向から、前記
光制御層に信号光を入射させる手段を具備することを特
徴とする請求項2に記載の光制御素子。
6. The light control element according to claim 2, further comprising: means for causing signal light to enter the light control layer from a direction parallel to the main surface of the substrate.
【請求項7】 前記第1の絶縁体層と前記光制御層との
間、及び第2の絶縁体層と前記光制御層との間のうち少
なくとも一方に、配向制御膜をさらに具備することを特
徴とする請求項1に記載の光制御素子。
7. An alignment control film is further provided between at least one of the first insulator layer and the light control layer and between at least one of the second insulator layer and the light control layer. The light control element according to claim 1, wherein:
【請求項8】 前記配向制御膜は、アモルファス有機膜
からなることを特徴とする請求項7に記載の光制御素
子。
8. The light control device according to claim 7, wherein the alignment control film is formed of an amorphous organic film.
【請求項9】 前記アモルファス有機薄膜からなる分子
配向制御層は、ステロイド系骨格を有する分子を含むこ
とを特徴とする請求項8に記載の有機薄膜素子。
9. The organic thin film element according to claim 8, wherein the molecular orientation control layer made of the amorphous organic thin film contains a molecule having a steroid skeleton.
【請求項10】 前記アモルファス有機薄膜からなる分
子配向制御層は、その分子構造の最外殻に芳香環を有す
る低分子系色素分子を含むことを特徴とする請求項8に
記載の有機薄膜素子。
10. The organic thin film element according to claim 8, wherein the molecular orientation control layer made of the amorphous organic thin film contains a low molecular dye molecule having an aromatic ring in the outermost shell of the molecular structure. .
【請求項11】 前記アモルファス有機薄膜からなる分
子配向制御層は、ポリシランの主鎖が基板面と平行に配
向した構造を有するポリシラン誘導体を含むことを特徴
とする請求項8に記載の有機薄膜素子。
11. The organic thin film element according to claim 8, wherein the molecular orientation control layer formed of the amorphous organic thin film includes a polysilane derivative having a structure in which a main chain of polysilane is oriented parallel to a substrate surface. .
【請求項12】 前記アモルファス有機薄膜からなる分
子配向制御層は、異種のアモルファス有機膜を積層した
構造を有することを特徴とする請求項8に記載の有機薄
膜素子。
12. The organic thin film element according to claim 8, wherein the molecular orientation control layer made of the amorphous organic thin film has a structure in which different kinds of amorphous organic films are stacked.
【請求項13】 支持層と、該支持層上に設けられたア
モルファス有機膜からなる分子配向制御層と、該分子配
向制御層上に設けられたπ電子系分子からなる結晶性有
機薄膜とを含む積層構造を有し、前記結晶性有機薄膜
は、真空蒸着法により100オングストローム/分以下
の成長速度で形成され、且つその膜厚が1分子層以上2
000オングストローム以下であることを特徴とする有
機薄膜素子。
13. A support layer, a molecular orientation control layer composed of an amorphous organic film provided on the support layer, and a crystalline organic thin film composed of π-electron molecules provided on the molecular orientation control layer. The crystalline organic thin film is formed by a vacuum deposition method at a growth rate of 100 Å / min or less, and has a thickness of at least one molecular layer and no more than 2 molecular layers.
An organic thin-film device having a thickness of not more than 000 angstroms.
【請求項14】 前記π電子系分子からなる結晶性有機
薄膜は、異種有機分子の薄膜を積層した構造を有するこ
とを特徴とする請求項13に記載の有機薄膜素子。
14. The organic thin film element according to claim 13, wherein the crystalline organic thin film made of the π-electron-based molecule has a structure in which thin films of different kinds of organic molecules are stacked.
【請求項15】 前記π電子系分子からなる結晶性有機
薄膜は、有機電荷移動錯体結晶からなることを特徴とす
る請求項13に記載の有機薄膜素子。
15. The organic thin film device according to claim 13, wherein the crystalline organic thin film made of the π-electron-based molecule is made of an organic charge transfer complex crystal.
【請求項16】 前記支持層は、第1の絶縁層であり、
該第1絶縁層上に設けられた第1の電極層と、前記π電
子系分子からなる結晶性有機薄膜上に設けられた第2の
絶縁層と、該第2の絶縁層上に設けられた第2の電極層
とをさらに具備することを特徴とする請求項13に記載
の有機薄膜素子。
16. The support layer is a first insulating layer,
A first electrode layer provided on the first insulating layer, a second insulating layer provided on the crystalline organic thin film made of the π-electron molecule, and a second insulating layer provided on the second insulating layer. The organic thin-film element according to claim 13, further comprising a second electrode layer.
【請求項17】 前記結晶性有機薄膜は、光照射によ
り、光起電力あるいは光電流を発生する機能を有するこ
とを特徴とする請求項13に記載の有機薄膜素子。
17. The organic thin film element according to claim 13, wherein the crystalline organic thin film has a function of generating photovoltaic power or photocurrent by light irradiation.
【請求項18】 半導体基板のソース、ドレイン領域間
のチャネル領域に、絶縁膜、アモルファス有機薄膜から
なる分子配向制御膜、ゲート電極及びπ電子系分子から
なる結晶性有機薄膜を含む積層構造を有し、前記結晶性
有機薄膜は、真空蒸着法により100オングストローム
/分以下の成長速度で形成され、且つその膜厚が1分子
層以上2000オングストローム以下であることを特徴
とする有機薄膜素子。
18. A laminated structure including an insulating film, a molecular orientation control film composed of an amorphous organic thin film, a gate electrode, and a crystalline organic thin film composed of π-electron molecules in a channel region between source and drain regions of a semiconductor substrate. An organic thin film element, wherein the crystalline organic thin film is formed by a vacuum deposition method at a growth rate of 100 Å / min or less, and has a film thickness of 1 molecular layer or more and 2000 Å or less.
【請求項19】 支持層表面に形成されたアモルファス
有機膜からなる分子配向制御層を用意し、該アモルファ
ス有機膜上に、真空蒸着法により100オングストロー
ム/分以下の成長速度で、1分子層以上2000オング
ストローム以下の膜厚の結晶性有機薄膜を形成すること
を特徴とする有機薄膜素子の製造方法。
19. A molecular orientation control layer comprising an amorphous organic film formed on the surface of a support layer is prepared, and one or more molecular layers are formed on the amorphous organic film by a vacuum deposition method at a growth rate of 100 Å / min or less. A method for manufacturing an organic thin film element, comprising forming a crystalline organic thin film having a thickness of 2000 Å or less.
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